JPH0796514B2 - ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 - Google Patents
ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法Info
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- JPH0796514B2 JPH0796514B2 JP63249592A JP24959288A JPH0796514B2 JP H0796514 B2 JPH0796514 B2 JP H0796514B2 JP 63249592 A JP63249592 A JP 63249592A JP 24959288 A JP24959288 A JP 24959288A JP H0796514 B2 JPH0796514 B2 JP H0796514B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒド
ロキシエチル）エーテルの製造法に関する。詳しくは、
ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネートとを、脱
炭酸触媒の存在下に、反応させることを特徴とするモノ
およびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法で
ある。
ロキシエチル）エーテルの製造法に関する。詳しくは、
ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネートとを、脱
炭酸触媒の存在下に、反応させることを特徴とするモノ
およびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法で
ある。
（ロ）従来の技術 ジヒドロキシベンゼンのモノヒドロキシエチルエーテル
の製法としては１モルのｐ−イソプロペニルフェノール
に対して、エチレンカーボネートを1.1モル、フッ化カ
リウムの二水和物0.02モル、およびN,N−ジメチルホル
ムアミドの混合物を150℃で加熱して２−（４−（１−
メチルエテニル）フェノキシ）エタノールを合成し、こ
の化合物をメタノール中硫酸の存在下に50％H2O2水溶液
を用いて４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェノールを
得る方法（特開昭60−51142）、エタノール中でレゾル
シンのモノナトリウム塩に、還流下にてエチレンクロル
ヒドリンを滴下する方法（Reedら、J.Am.Chem.Soc.54
（1932）1195,1196）、レゾルシンとエチレンクロルヒ
ドリンとを苛性ソーダで加熱する方法（米国特許201511
5号（1930））などが提案されている。
の製法としては１モルのｐ−イソプロペニルフェノール
に対して、エチレンカーボネートを1.1モル、フッ化カ
リウムの二水和物0.02モル、およびN,N−ジメチルホル
ムアミドの混合物を150℃で加熱して２−（４−（１−
メチルエテニル）フェノキシ）エタノールを合成し、こ
の化合物をメタノール中硫酸の存在下に50％H2O2水溶液
を用いて４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェノールを
得る方法（特開昭60−51142）、エタノール中でレゾル
シンのモノナトリウム塩に、還流下にてエチレンクロル
ヒドリンを滴下する方法（Reedら、J.Am.Chem.Soc.54
（1932）1195,1196）、レゾルシンとエチレンクロルヒ
ドリンとを苛性ソーダで加熱する方法（米国特許201511
5号（1930））などが提案されている。
一方ジヒドロキシベンゼンのビス（ヒドロキシエチル）
エーテルについては、レゾルシンに対して、２倍モルの
エチレンクロルヒドリンおよび40％苛性カリとを加熱す
る方法（Motwaniら、J.Univ.Bombay４Tl.2〔1935〕10
4）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシドを
触媒として、精製ジオキサンまたはジエチレングリコー
ルジメチルエーテル中にてジヒドロキシベンゼンとエチ
レンカーボネートとを炭酸ガスの発生が停止するまで
（通常２日）加熱還流する方法（E.Dyerら、J.Am.Chem.
Soc.79672−675（1957））、エチレンオキシドを使用す
る方法（ドイツ特許1096366号（1961））などが提案さ
れている。
エーテルについては、レゾルシンに対して、２倍モルの
エチレンクロルヒドリンおよび40％苛性カリとを加熱す
る方法（Motwaniら、J.Univ.Bombay４Tl.2〔1935〕10
4）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシドを
触媒として、精製ジオキサンまたはジエチレングリコー
ルジメチルエーテル中にてジヒドロキシベンゼンとエチ
レンカーボネートとを炭酸ガスの発生が停止するまで
（通常２日）加熱還流する方法（E.Dyerら、J.Am.Chem.
Soc.79672−675（1957））、エチレンオキシドを使用す
る方法（ドイツ特許1096366号（1961））などが提案さ
れている。
（ハ）発明が解決しようとする課題 しかし、ｐ−イソプロペニルフェノールを出発原料とす
るものは、中間体として２−（４−（１−メチルエテニ
ル）フェノキシ）エタノールを経由する方法であり、目
的物を得るための工程数が多く、煩雑で、長時間を要す
る欠点がある。
るものは、中間体として２−（４−（１−メチルエテニ
ル）フェノキシ）エタノールを経由する方法であり、目
的物を得るための工程数が多く、煩雑で、長時間を要す
る欠点がある。
エチレンクロルヒドリンを用いる方法は、エチレンクロ
ルヒドリンが毒性の強いアルコールであり、取扱いに注
意しなければならないこと、また溶媒を使用するため、
溶媒との分離、精製工程が必要であること、などの問題
がある。
ルヒドリンが毒性の強いアルコールであり、取扱いに注
意しなければならないこと、また溶媒を使用するため、
溶媒との分離、精製工程が必要であること、などの問題
がある。
溶媒中トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシドを
触媒として、ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネ
ートとを反応する方法は反応に長時間（通常２日）を要
することにより、経済的に不利な方法である。
触媒として、ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネ
ートとを反応する方法は反応に長時間（通常２日）を要
することにより、経済的に不利な方法である。
エチレンオキシドを使用する方法については、エチレン
オキシドが引火点−17.8℃、爆発範囲3.6〜100％の引火
および爆発しやすい沸点10.4℃の液体であって、製造設
備における安全対策、取扱い時の注意など工業的規模で
実施する際の難点がある。
オキシドが引火点−17.8℃、爆発範囲3.6〜100％の引火
および爆発しやすい沸点10.4℃の液体であって、製造設
備における安全対策、取扱い時の注意など工業的規模で
実施する際の難点がある。
本発明の目的はヒドロオキシエチル化剤に対して特殊な
安全対策を施した設備を必要とせずに、反応を短時間で
行わせ、高い選択率で目的とするエーテル化合物を製造
することにある。また本発明の他の目的はジヒドロキシ
ベンゼンのエーテル化合物のモノ体又はビス体を効率よ
く製造することにある。
安全対策を施した設備を必要とせずに、反応を短時間で
行わせ、高い選択率で目的とするエーテル化合物を製造
することにある。また本発明の他の目的はジヒドロキシ
ベンゼンのエーテル化合物のモノ体又はビス体を効率よ
く製造することにある。
（ニ）課題を解決するための手段 本発明者らは、ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス
（ヒドロキシエチル）エーテルの安全で簡素化された経
済的な製法を探索すべく鋭意検討した結果、ジヒドロキ
シベンゼンとエチレンカーボネートとを脱炭酸触媒の共
存下に反応させることにより、高い選択率で容易にジヒ
ドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルが得られることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。
（ヒドロキシエチル）エーテルの安全で簡素化された経
済的な製法を探索すべく鋭意検討した結果、ジヒドロキ
シベンゼンとエチレンカーボネートとを脱炭酸触媒の共
存下に反応させることにより、高い選択率で容易にジヒ
ドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルが得られることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。
すなわち、本発明はジヒドロキシベンゼンとエチレンカ
ーボネートとを、脱炭酸触媒として炭酸アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属、または水酸化アルカリ土類金属の
存在下に100〜250℃の範囲で反応させることを特徴とす
るジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシ
エチル）エーテルの製造方法である。
ーボネートとを、脱炭酸触媒として炭酸アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属、または水酸化アルカリ土類金属の
存在下に100〜250℃の範囲で反応させることを特徴とす
るジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシ
エチル）エーテルの製造方法である。
本発明において、エチレンカーボネートの使用量は、モ
ノヒドロキシエチルエーテルを主成分とする反応生成分
を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼンに対し
て0.2〜1.5モル、好ましくは0.4〜1.0モルの範囲が適し
ている。
ノヒドロキシエチルエーテルを主成分とする反応生成分
を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼンに対し
て0.2〜1.5モル、好ましくは0.4〜1.0モルの範囲が適し
ている。
ビス（ヒドロキシエチル）エーテルを主成分とする反応
組成物を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼン
に対して、1.5〜4.0モル、好ましくは、1.8〜3.0モルの
範囲が適している。この場合4.0モル以上でも差支えな
いが、収率および品質面でエチレンカーボネートを増量
してもその利益がない。
組成物を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼン
に対して、1.5〜4.0モル、好ましくは、1.8〜3.0モルの
範囲が適している。この場合4.0モル以上でも差支えな
いが、収率および品質面でエチレンカーボネートを増量
してもその利益がない。
本発明で用い得る炭酸アルカリ金属、水酸化アルカリ金
属、または水酸化アルカリ土類金属の金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネッシ
ウム等があげられ、その使用量はジヒドロキシベンゼン
に対して0.01〜10重量％、好ましくは0.1〜５重量％の
範囲が適している。
属、または水酸化アルカリ土類金属の金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネッシ
ウム等があげられ、その使用量はジヒドロキシベンゼン
に対して0.01〜10重量％、好ましくは0.1〜５重量％の
範囲が適している。
本発明における反応温度は100〜250℃の範囲内に保つこ
とが好ましく、さらに好ましくは140〜200℃の範囲が適
している。
とが好ましく、さらに好ましくは140〜200℃の範囲が適
している。
反応系に溶媒を用いても差支えないが、その場合にも反
応温度はこの範囲内に保つ必要があり、低沸点溶媒の場
合には耐圧反応器が必要である。また製品と溶媒との分
離が必要となり製造上の欠点となるので溶媒を用いる利
点はない。
応温度はこの範囲内に保つ必要があり、低沸点溶媒の場
合には耐圧反応器が必要である。また製品と溶媒との分
離が必要となり製造上の欠点となるので溶媒を用いる利
点はない。
本発明方法によれば、他の方法のようにヒドロキシエチ
ル化剤に対して特殊な設備を必要とせず、反応混合物中
に原料、モノヒドロキシエチルエーテル、およびビス
（ヒドロキシエチル）エーテル以外のものが殆ど副生し
ないため、高純度、且つ高選択率にて目的物が得られ、
工業規模での製造に極めて有利になる。
ル化剤に対して特殊な設備を必要とせず、反応混合物中
に原料、モノヒドロキシエチルエーテル、およびビス
（ヒドロキシエチル）エーテル以外のものが殆ど副生し
ないため、高純度、且つ高選択率にて目的物が得られ、
工業規模での製造に極めて有利になる。
本発明方法のように溶媒を用いず、従って高濃度で、従
来の反応温度より高温にて反応を実施することは、原料
の分解、副反応の惹起などによって、不純物の混入およ
び収率の低下が予想されるところである。しかるに溶媒
を用いずに、脱炭酸触媒とエチレンカーボネートを用い
て意外にも高い選択率、且つ副生物の混入もほとんどな
く、目的物が得られる新規な製法を確立できた。
来の反応温度より高温にて反応を実施することは、原料
の分解、副反応の惹起などによって、不純物の混入およ
び収率の低下が予想されるところである。しかるに溶媒
を用いずに、脱炭酸触媒とエチレンカーボネートを用い
て意外にも高い選択率、且つ副生物の混入もほとんどな
く、目的物が得られる新規な製法を確立できた。
（ホ）実施例 次に本発明方法を実施例でさらに詳しく説明するが、本
発明がこれらに限定されるものではない。
発明がこれらに限定されるものではない。
実施例−１ レゾルシン55g（0.5mol）、エチレンカーボネート44g
（0.50mol）および炭酸カリウム0.15gをガラス製200ml4
ツ口フラスコに仕込み、窒素雰囲気下で160〜170℃にて
３時間加熱する。反応マスはガスクロマトグラフィーの
分析値より、レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテ
ル51.4％、レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エー
テル17.7％およびレゾルシン30.9％の組成物であった。
ヘリパック（東洋特殊製鋼社製）を充填したカラムを用
いて分溜したところ、125℃/2〜3mmHgの溜分としてレゾ
ルシン20.0g（0.18mol）を回収し、160〜162℃/2〜3mmH
gの溜分としてレゾルシンのモノヒドロキシエチルエー
テルを30.0g（0.19mol）得た。また180〜185℃/2〜3mmH
gの留分としてビス（ヒドロキシエチル）エーテルを22.
6g（0.114mol）得た。製品の収率、融点、純度（ガスク
ロマトグラフィーによる）は次のようになった。
（0.50mol）および炭酸カリウム0.15gをガラス製200ml4
ツ口フラスコに仕込み、窒素雰囲気下で160〜170℃にて
３時間加熱する。反応マスはガスクロマトグラフィーの
分析値より、レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテ
ル51.4％、レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エー
テル17.7％およびレゾルシン30.9％の組成物であった。
ヘリパック（東洋特殊製鋼社製）を充填したカラムを用
いて分溜したところ、125℃/2〜3mmHgの溜分としてレゾ
ルシン20.0g（0.18mol）を回収し、160〜162℃/2〜3mmH
gの溜分としてレゾルシンのモノヒドロキシエチルエー
テルを30.0g（0.19mol）得た。また180〜185℃/2〜3mmH
gの留分としてビス（ヒドロキシエチル）エーテルを22.
6g（0.114mol）得た。製品の収率、融点、純度（ガスク
ロマトグラフィーによる）は次のようになった。
レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル 収率 61％（対消費レゾルシン） 融点 82〜84℃ 純度 99.1％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル 収率 32％（対消費レゾルシン） 融点 93〜94℃ 純度 98.9％ モノヒドロキシエチルエーテルビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルとの合計収率は93％であった。
ル）エーテルとの合計収率は93％であった。
実施例−２ レゾルシン55g（0.5mol）、エチレンカーボネート26.4g
（0.30mol）および水酸化カルシウム2.0gを用い、170〜
180℃にて反応させた他は実施例−１と同様にして、次
のヒドロキシエチルエーテルが得られる。
（0.30mol）および水酸化カルシウム2.0gを用い、170〜
180℃にて反応させた他は実施例−１と同様にして、次
のヒドロキシエチルエーテルが得られる。
レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル 収率 85.5％（対消費レゾルシン） 融点 83〜85℃ 純度 99.7％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル 収率 8.6％（対消費レゾルシン） 融点 92〜94℃ 純度 98.6％ 実施例−３ レゾルシン55g（0.5mol）、エチレンカーボネート96.9g
（1.10mol）および苛性カリ0.1gを用い、150〜160℃に
て反応させた他は実施例−１と同様にして、次のヒドロ
キシエチルエーテルが得られる。
（1.10mol）および苛性カリ0.1gを用い、150〜160℃に
て反応させた他は実施例−１と同様にして、次のヒドロ
キシエチルエーテルが得られる。
レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル 収率 7.0％（対消費レゾルシン） 融点 82〜84℃ 純度 98.0％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル 収率 87.5％（対消費レゾルシン） 融点 92〜94℃ 純度 98.9％
Claims (3)
- 【請求項１】ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネ
ートとを、脱炭酸触媒として炭酸アルカリ金属、水酸化
アルカリ金属、または水酸化アルカリ土類金属の存在下
に、100〜250℃の範囲で反応させることを特徴とするジ
ヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルの製造方法。 - 【請求項２】１モルのジヒドロキシベンゼンに対して0.
2〜1.5モルのエチレンカーボネートを反応させる請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】１モルのジヒドロキシベンゼンに対して1.
5〜4.0モルのエチレンカーボネートを反応させる請求項
１に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63249592A JPH0796514B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63249592A JPH0796514B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0296545A JPH0296545A (ja) | 1990-04-09 |
| JPH0796514B2 true JPH0796514B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=17195310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63249592A Expired - Lifetime JPH0796514B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796514B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2789693B2 (ja) * | 1989-07-20 | 1998-08-20 | 三井化学株式会社 | β―ヒドロキシアルキルアリールエーテル類の製造方法 |
| ATE109761T1 (de) * | 1990-04-16 | 1994-08-15 | Eastman Chem Co | Prozess zur darstellung von resorcinol bis(hydroxy-ethyl) ether. |
| US5210322A (en) * | 1990-09-20 | 1993-05-11 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Processes for the preparation of ethers |
| US5679871A (en) * | 1996-09-26 | 1997-10-21 | Reichhold Chemicals, Inc. | Hydroxyalklylation of phenols |
| JP6570064B2 (ja) * | 2015-09-25 | 2019-09-04 | 田岡化学工業株式会社 | １，１−ビス−（４−ヒドロキシエトキシ−３−メチルフェニル）シクロドデカンの製造方法 |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP63249592A patent/JPH0796514B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0296545A (ja) | 1990-04-09 |
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