KR100976749B1 - 글리시딜 에테르의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (11)
- 하기 화학식(1)ArOH (1)(식 중, Ar은 비치환 페닐 또는 포화 또는 불포화 알킬기로 치환된 페닐기, 에테르 결합을 갖는 알킬기로 치환된 페닐기, 할로겐 원자로 치환된 페닐기, 할로겐화알킬기로 치환된 페닐기, 알콕시기로 치환된 페닐기, 아미도기로 치환된 페닐기, 카르바모일기로 치환된 페닐기, 알데히드기로 치환된 페닐기, 아실기로 치환된 페닐기, 니트로기로 치환된 페닐기, 테트라메틸렌기나 메틸렌디옥시기와 같이 브릿지를 형성하고 있는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기를 나타낸다.)로 표시되는 알콜류를 1몰 또는 1몰 이상의 염기 존재하에, 비수성 유기 용매 및 수용매의 이층계에서 하기 화학식(2)(식 중, X는 할로겐 원자이다)로 표시되는 에피할로히드린 1 내지 3몰과 반응시키는 것을 포함하는 하기 화학식(3)(식 중, Ar은 상기에서 정의한 바와 같다)으로 표시되는 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 반응계에 하기 화학식(4)로 표시되는 4가 암모늄염을 첨가하는 것을 포함하는 글리시딜 에테르의 제조 방법.R1R2R3R4N+X- (4)(식 중, R1, R2, R3 및 R4 은 동일하거나 다르며, 알킬기, 알케닐기, 아랄킬기 또는 아릴기를 나타내고, X- 는 클로라이드 이온, 브로마이드 이온, 요오다이드 이온, 황산수소이온 또는 수산이온을 나타낸다)
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 염기가 수산화 알칼리인 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 알콜류가 페놀, 4-플루오로페놀, 4-메틸페놀, 4-메톡시페놀 또는 2-알릴옥시페놀인 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비수성 유기 용매가 톨루엔, tert-부틸메틸 에테르 또는 1,2-디클로로에탄인 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 에피할로히드린이 광학활성 화합물인 광학활성 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 알콜류가 하기 화학식(1)ArOH (1)(식 중, Ar은 비치환 페닐 또는 포화 또는 불포화 알킬기로 치환된 페닐기, 에테르 결합을 갖는 알킬기로 치환된 페닐기, 할로겐 원자로 치환된 페닐기, 할로겐화알킬기로 치환된 페닐기, 알콕시기로 치환된 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기를 나타낸다.)로 표시되는, 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 알콜류가 하기 화학식(1)ArOH (1)(식 중, Ar은 비치환 페닐 또는 포화 또는 불포화 알킬기로 치환된 페닐기, 할로겐 원자로 치환된 페닐기, 알콕시기로 치환된 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기를 나타낸다.)로 표시되는, 글리시딜 에테르의 제조 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 에피할로히드린의 할로겐 원자가 염소 또는 브롬인 글리시딜 에테르의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2002-00157148 | 2002-05-30 | ||
JP2002157148 | 2002-05-30 | ||
PCT/JP2003/006731 WO2004002974A1 (ja) | 2002-05-30 | 2003-05-29 | グリシジルエーテル類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050019095A KR20050019095A (ko) | 2005-02-28 |
KR100976749B1 true KR100976749B1 (ko) | 2010-08-18 |
Family
ID=41783908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020047019502A Expired - Fee Related KR100976749B1 (ko) | 2002-05-30 | 2003-05-29 | 글리시딜 에테르의 제조 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100976749B1 (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5130314A (en) * | 1989-06-19 | 1992-07-14 | Teikoku Hormone Mfg. Co., Ltd. | Carbostyril substituted pyridazinones |
-
2003
- 2003-05-29 KR KR1020047019502A patent/KR100976749B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5130314A (en) * | 1989-06-19 | 1992-07-14 | Teikoku Hormone Mfg. Co., Ltd. | Carbostyril substituted pyridazinones |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050019095A (ko) | 2005-02-28 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20041130 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20080502 Comment text: Request for Examination of Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20100531 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20100812 Patent event code: PR07011E01D |
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