JPH0762483A - 軟磁性合金の溶製方法 - Google Patents
軟磁性合金の溶製方法Info
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- JPH0762483A JPH0762483A JP5214272A JP21427293A JPH0762483A JP H0762483 A JPH0762483 A JP H0762483A JP 5214272 A JP5214272 A JP 5214272A JP 21427293 A JP21427293 A JP 21427293A JP H0762483 A JPH0762483 A JP H0762483A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｔｉ及びＳ含有量が低い脱酸剤や造滓材を使
用し、量産性に適した溶製方法で磁気特性に優れた軟磁
性合金を得る。 【構成】 Ｎｉ：３５〜５０％，Ｃｒ：１５％以下及び
Ａｌ：１．２％以下を含む軟磁性合金を溶製する際、Ｔ
ｉ：０．０５％以下及びＳ：０．０５％以下に低下した
脱酸剤や造滓材を使用し、Ｓ＋Ｏ＋Ｂ：０．００８％以
下の条件でＳ：０．００３％以下，Ｏ：０．００５％以
下，Ｂ：０．００５％以下，Ｔｉ：０．００５％以下に
低減する。脱酸時としてはＡｌ、造滓剤としてはＣａ
Ｏ，ＣａＦ2，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等が適宜組み合わ
せて使用される。 【効果】 微細なＴｉ系介在物がほとんどないことから
磁気焼鈍時に結晶粒の成長が阻害されず、透磁率の大き
な軟磁性合金が得られる。
用し、量産性に適した溶製方法で磁気特性に優れた軟磁
性合金を得る。 【構成】 Ｎｉ：３５〜５０％，Ｃｒ：１５％以下及び
Ａｌ：１．２％以下を含む軟磁性合金を溶製する際、Ｔ
ｉ：０．０５％以下及びＳ：０．０５％以下に低下した
脱酸剤や造滓材を使用し、Ｓ＋Ｏ＋Ｂ：０．００８％以
下の条件でＳ：０．００３％以下，Ｏ：０．００５％以
下，Ｂ：０．００５％以下，Ｔｉ：０．００５％以下に
低減する。脱酸時としてはＡｌ、造滓剤としてはＣａ
Ｏ，ＣａＦ2，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等が適宜組み合わ
せて使用される。 【効果】 微細なＴｉ系介在物がほとんどないことから
磁気焼鈍時に結晶粒の成長が阻害されず、透磁率の大き
な軟磁性合金が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッド，時計用鉄
心，磁気シールド部材等として使用され、安定して高い
透磁率を示す軟磁性合金の溶製方法に関する。
心，磁気シールド部材等として使用され、安定して高い
透磁率を示す軟磁性合金の溶製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｆｅ−Ｎｉ系軟磁性合金、いわゆるパー
マロイは、その優れた磁気特性を活用して磁気シールド
材を始めとする各種の軟磁性用途に広く用いられてい
る。この系統に属する代表的な材料として、Ｍｏ，Ｃ
ｒ，Ｃｕ等を含む高Ｎｉパーマロイ（ＪＩＳ−ＰＣ）が
ある。高Ｎｉパーマロイは、高透磁率及び高耐食性を呈
するものの、７０重量％を超えるＮｉ及びＭｏを含有し
ていることから、高価な材料である。そのため、高Ｎｉ
パーマロイの使用には、経済的な面からの制約が加わ
る。経済性を考慮し、高価な高Ｎｉパーマロイに代え
て、Ｎｉ含有量を４５重量％程度に比較的低下させた低
Ｎｉパーマロイ（ＪＩＳ−ＰＢ）が使用されている。低
Ｎｉパーマロイは、飽和磁束密度Ｂ10が１５，０００Ｇ
と高いものの、実効透磁率μe が高Ｎｉパーマロイに比
較し極めて劣っている。そのため、高い軟磁気特性が要
求される用途には、依然として高Ｎｉパーマロイを使用
せざるをえない。このようなことから、高Ｎｉパーマロ
イに匹敵する磁気特性をもち、しかも低Ｎｉパーマロイ
或いはそれ以下の安価な軟磁性合金の開発が望まれてい
る。本発明者等は、この要望に応えるため、特定された
割合でＮｉ及びＣｒを含有させることにより飽和磁束密
度及び実効透磁率を改善した軟磁性合金を開発し、特願
平１−２２７４４５号，特願平２−７８２１５号等とし
て出願した。
マロイは、その優れた磁気特性を活用して磁気シールド
材を始めとする各種の軟磁性用途に広く用いられてい
る。この系統に属する代表的な材料として、Ｍｏ，Ｃ
ｒ，Ｃｕ等を含む高Ｎｉパーマロイ（ＪＩＳ−ＰＣ）が
ある。高Ｎｉパーマロイは、高透磁率及び高耐食性を呈
するものの、７０重量％を超えるＮｉ及びＭｏを含有し
ていることから、高価な材料である。そのため、高Ｎｉ
パーマロイの使用には、経済的な面からの制約が加わ
る。経済性を考慮し、高価な高Ｎｉパーマロイに代え
て、Ｎｉ含有量を４５重量％程度に比較的低下させた低
Ｎｉパーマロイ（ＪＩＳ−ＰＢ）が使用されている。低
Ｎｉパーマロイは、飽和磁束密度Ｂ10が１５，０００Ｇ
と高いものの、実効透磁率μe が高Ｎｉパーマロイに比
較し極めて劣っている。そのため、高い軟磁気特性が要
求される用途には、依然として高Ｎｉパーマロイを使用
せざるをえない。このようなことから、高Ｎｉパーマロ
イに匹敵する磁気特性をもち、しかも低Ｎｉパーマロイ
或いはそれ以下の安価な軟磁性合金の開発が望まれてい
る。本発明者等は、この要望に応えるため、特定された
割合でＮｉ及びＣｒを含有させることにより飽和磁束密
度及び実効透磁率を改善した軟磁性合金を開発し、特願
平１−２２７４４５号，特願平２−７８２１５号等とし
て出願した。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】高Ｎｉパーマロイ（Ｊ
ＩＳ−ＰＣ），低Ｎｉパーマロイ（ＪＩＳ−ＰＢ），Ｎ
ｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金等の軟磁性合金は、Ｓ，Ｏ，Ｂ等
の不純物に磁気特性が大きく影響される。なかでも、Ｎ
ｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金は、不純物によって磁気特性が大
きく劣化する。不純物としては、Ｓ，Ｏ，Ｂに限らず、
脱酸剤，造滓剤等から混入する非金属介在物により、磁
気特性が劣化することもある。そのため、パーマロイ
は、通常、高純度原料を使用して真空誘導溶解炉で溶製
することにより製造されている。この溶製方法は、原料
費が高く量産にも適さないことから、製品コストを上昇
させる。
ＩＳ−ＰＣ），低Ｎｉパーマロイ（ＪＩＳ−ＰＢ），Ｎ
ｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金等の軟磁性合金は、Ｓ，Ｏ，Ｂ等
の不純物に磁気特性が大きく影響される。なかでも、Ｎ
ｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金は、不純物によって磁気特性が大
きく劣化する。不純物としては、Ｓ，Ｏ，Ｂに限らず、
脱酸剤，造滓剤等から混入する非金属介在物により、磁
気特性が劣化することもある。そのため、パーマロイ
は、通常、高純度原料を使用して真空誘導溶解炉で溶製
することにより製造されている。この溶製方法は、原料
費が高く量産にも適さないことから、製品コストを上昇
させる。
【０００４】ところで、ＬＤ−ＶＯＤプロセスは、量産
性に適した方法であり、ステンレス鋼等の生産に工業的
規模で採用されている。原材料としてスクラップ等を使
用することができ、精錬によって高純度化を図っている
ため、真空誘導溶解法に比較して製造コストが低減され
る。しかし、単にＬＤ−ＶＯＤプロセスを軟磁性合金の
溶製に適用しても、得られる軟磁性合金は、高純度原料
を用いた真空誘導溶解法によるパーマロイに比較して著
しく軟磁気特性が劣っている。本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、脱酸剤，造滓剤
等に含まれるＴｉ及びＳの含有量を規制することによ
り、軟磁性合金の溶製にＬＤ−ＶＯＤプロセスの採用を
可能とし、磁気特性に優れた軟磁性合金を高い量産性で
製造することを目的とする。
性に適した方法であり、ステンレス鋼等の生産に工業的
規模で採用されている。原材料としてスクラップ等を使
用することができ、精錬によって高純度化を図っている
ため、真空誘導溶解法に比較して製造コストが低減され
る。しかし、単にＬＤ−ＶＯＤプロセスを軟磁性合金の
溶製に適用しても、得られる軟磁性合金は、高純度原料
を用いた真空誘導溶解法によるパーマロイに比較して著
しく軟磁気特性が劣っている。本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、脱酸剤，造滓剤
等に含まれるＴｉ及びＳの含有量を規制することによ
り、軟磁性合金の溶製にＬＤ−ＶＯＤプロセスの採用を
可能とし、磁気特性に優れた軟磁性合金を高い量産性で
製造することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の溶製方法は、そ
の目的を達成するため、Ｎｉ：３５〜５０重量％，Ｃ
ｒ：１５重量％以下及びＡｌ：１．２重量％以下を含む
軟磁性合金を溶製する際、Ｔｉ：０．０５重量％以下及
びＳ：０．０５重量％以下に低下したＣａＯ，ＣａＦ
2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等の造滓剤を、Ｔｉ：０．０
５重量％以下及びＳ：０．０５重量％以下のＡｌ系脱酸
剤と複合添加し、Ｓ＋Ｏ＋Ｂ：０．００８重量％以下の
条件でＳ：０．００３重量％以下及びＯ：０．００５重
量％以下に脱酸・脱硫すると共に、Ｂ：０．００５重量
％以下及びＴｉ：０．００５重量％以下に低減すること
を特徴とする。
の目的を達成するため、Ｎｉ：３５〜５０重量％，Ｃ
ｒ：１５重量％以下及びＡｌ：１．２重量％以下を含む
軟磁性合金を溶製する際、Ｔｉ：０．０５重量％以下及
びＳ：０．０５重量％以下に低下したＣａＯ，ＣａＦ
2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等の造滓剤を、Ｔｉ：０．０
５重量％以下及びＳ：０．０５重量％以下のＡｌ系脱酸
剤と複合添加し、Ｓ＋Ｏ＋Ｂ：０．００８重量％以下の
条件でＳ：０．００３重量％以下及びＯ：０．００５重
量％以下に脱酸・脱硫すると共に、Ｂ：０．００５重量
％以下及びＴｉ：０．００５重量％以下に低減すること
を特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明者等は、軟磁性合金の軟質磁気特性の劣
化に関する研究を重ねた結果、次の知見を得た。ＬＤ−
ＶＯＤプロセスで溶製された軟磁性合金には、粒径０．
１μｍ以下の微細なＴｉ系介在物、特にＴｉの硫化物が
多数分散している。微細な介在物は、磁気焼鈍時に結晶
粒の成長を阻害するインヒビターとして働き、得られた
軟磁性合金の軟質磁気特性を低下させる。軟磁性合金に
混入されるＴｉは、合金の溶製時に脱酸剤として添加す
るＡｌや脱硫剤，造滓剤等の助剤として添加するＣａ
Ｏ，ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等に由来する。こ
のことは、Ｔｉ及びＳを規制したＡｌ系脱酸剤や造滓剤
を用いて精錬したとき、ＬＤ−ＶＯＤプロセスによって
も高い軟質磁気特性をもつ軟磁性合金が製造されたこと
からも確認された。
化に関する研究を重ねた結果、次の知見を得た。ＬＤ−
ＶＯＤプロセスで溶製された軟磁性合金には、粒径０．
１μｍ以下の微細なＴｉ系介在物、特にＴｉの硫化物が
多数分散している。微細な介在物は、磁気焼鈍時に結晶
粒の成長を阻害するインヒビターとして働き、得られた
軟磁性合金の軟質磁気特性を低下させる。軟磁性合金に
混入されるＴｉは、合金の溶製時に脱酸剤として添加す
るＡｌや脱硫剤，造滓剤等の助剤として添加するＣａ
Ｏ，ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等に由来する。こ
のことは、Ｔｉ及びＳを規制したＡｌ系脱酸剤や造滓剤
を用いて精錬したとき、ＬＤ−ＶＯＤプロセスによって
も高い軟質磁気特性をもつ軟磁性合金が製造されたこと
からも確認された。
【０００７】Ｔｉの影響に関して調査・研究を重ねた結
果、Ｎｉ：３５〜５０重量％，Ｃｒ：１５重量％以下及
びＡｌ：１．２重量％以下を含む合金系において、Ｔ
ｉ：０．００５重量％以下，Ｓ：０．００３重量％以
下，Ｏ：０．００５重量％以下及びＳ＋Ｏ＋Ｂ：０．０
０８重量％以下の条件を満足させるとき、優れた軟質磁
気特性を呈する軟磁性合金が得られることを見い出し
た。この合金は、ＣａＯ，．ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 及び
ＳｉＯ2 から選ばれたＴｉ：０．０５重量％以下及び
Ｓ：０．０５重量％以下の造滓剤を、Ｔｉ：０．０５重
量％以下及びＳ：０．０５重量％以下の脱酸剤と複合添
加することにより製造される。
果、Ｎｉ：３５〜５０重量％，Ｃｒ：１５重量％以下及
びＡｌ：１．２重量％以下を含む合金系において、Ｔ
ｉ：０．００５重量％以下，Ｓ：０．００３重量％以
下，Ｏ：０．００５重量％以下及びＳ＋Ｏ＋Ｂ：０．０
０８重量％以下の条件を満足させるとき、優れた軟質磁
気特性を呈する軟磁性合金が得られることを見い出し
た。この合金は、ＣａＯ，．ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 及び
ＳｉＯ2 から選ばれたＴｉ：０．０５重量％以下及び
Ｓ：０．０５重量％以下の造滓剤を、Ｔｉ：０．０５重
量％以下及びＳ：０．０５重量％以下の脱酸剤と複合添
加することにより製造される。
【０００８】以下、本発明で規定した合金成分，含有量
等について具体的に説明する。 Ｎｉ：３５〜５０重量％ Ｎｉ含有量が３５重量％未満では透磁率が低く、軟質磁
気特性の良好な軟磁性合金が得られない。しかし、５０
重量％を超える多量のＮｉが含まれると、合金コストが
高くなる。 Ｃｒ：１５重量％以下 透磁率改善のために重要な合金元素である。しかし、１
５重量％を超えるＣｒ含有量では、逆に透磁率を低下さ
せる傾向がみられる。 Ａｌ：１．２重量％以下 脱酸剤として不可避的に混入する合金元素である。Ａｌ
を多量に含有するほど大きな脱酸効果が得られるが、
１．２重量％を超えるＡｌ含有量では透磁率を低下させ
る。 Ｔｉ：０．００５重量％ 軟質磁気特性に極めて有害な元素であり、少量のＴｉ含
有によっても透磁率が著しく低下する。そこで、本発明
においては、Ｔｉ含有量を０．００５重量％以下と厳し
く制限した。
等について具体的に説明する。 Ｎｉ：３５〜５０重量％ Ｎｉ含有量が３５重量％未満では透磁率が低く、軟質磁
気特性の良好な軟磁性合金が得られない。しかし、５０
重量％を超える多量のＮｉが含まれると、合金コストが
高くなる。 Ｃｒ：１５重量％以下 透磁率改善のために重要な合金元素である。しかし、１
５重量％を超えるＣｒ含有量では、逆に透磁率を低下さ
せる傾向がみられる。 Ａｌ：１．２重量％以下 脱酸剤として不可避的に混入する合金元素である。Ａｌ
を多量に含有するほど大きな脱酸効果が得られるが、
１．２重量％を超えるＡｌ含有量では透磁率を低下させ
る。 Ｔｉ：０．００５重量％ 軟質磁気特性に極めて有害な元素であり、少量のＴｉ含
有によっても透磁率が著しく低下する。そこで、本発明
においては、Ｔｉ含有量を０．００５重量％以下と厳し
く制限した。
【０００９】Ｓ，Ｏ，Ｂ：これらの不純物は、透磁率を
大きく低下させる。高い透磁率を得るためには、Ｓ≦
０．００３重量％，Ｏ≦０．００５重量％，Ｂ≦０．０
０５重量％及びＳ＋Ｏ＋Ｂ≦０．００８重量％の条件を
満足させることが必要である。 脱酸剤及び造滓剤：Ｔｉを含めて不純物含有量が厳しく
規制された軟磁性合金をＬＤ−ＶＯＤプロセスで溶製す
るとき、脱酸剤や造滓剤から混入するＴｉ，Ｓ等の不純
物元素を厳格にコントロールすることが要求される。こ
の点で、脱酸剤及び造滓剤に含まれるＴｉ含有量を０．
０５重量％以下，Ｓ含有量を０．０５重量％以下に規制
した。脱酸剤としては、Ａｌ又はＡｌ合金が使用され
る。造滓剤としては、ＣａＯ，ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，
ＳｉＯ2 等が使用される。
大きく低下させる。高い透磁率を得るためには、Ｓ≦
０．００３重量％，Ｏ≦０．００５重量％，Ｂ≦０．０
０５重量％及びＳ＋Ｏ＋Ｂ≦０．００８重量％の条件を
満足させることが必要である。 脱酸剤及び造滓剤：Ｔｉを含めて不純物含有量が厳しく
規制された軟磁性合金をＬＤ−ＶＯＤプロセスで溶製す
るとき、脱酸剤や造滓剤から混入するＴｉ，Ｓ等の不純
物元素を厳格にコントロールすることが要求される。こ
の点で、脱酸剤及び造滓剤に含まれるＴｉ含有量を０．
０５重量％以下，Ｓ含有量を０．０５重量％以下に規制
した。脱酸剤としては、Ａｌ又はＡｌ合金が使用され
る。造滓剤としては、ＣａＯ，ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，
ＳｉＯ2 等が使用される。
【００１０】
【実施例】表１の脱酸剤及び表２の造滓剤を使用し、種
々の組成をもつ合金をＬＤ−ＶＯＤプロセスで溶製し
た。なお、本実施例では、ＬＤ−ＶＯＤプロセスを採用
しているが、真空誘導溶解法を含む他の溶製法に対して
も本発明が同様に適用されることは勿論である。表３
は、本発明で規定した要件を満足する組成をもつＡグル
ープの合金を、使用した脱酸剤及び造滓剤の組合せと共
に示す。他方、表４は、本発明で規定した範囲を組成が
外れるＢグループの合金を、使用した脱酸剤及び造滓剤
の組合せと共に示す。Ａグループ及びＢグループ共に、
ステンレス鋼の溶製に使用されているＴｉ含有量０．０
１重量％以下，Ｓ含有量０．０１重量％以下の原料スク
ラップをアーク溶解炉を用いて溶解し、ＬＤ−ＶＯＤプ
ロセスで精錬及び成分調整した。また、表４に掲げたＣ
１は、高純度原料を真空誘導溶解して得た合金である。
々の組成をもつ合金をＬＤ−ＶＯＤプロセスで溶製し
た。なお、本実施例では、ＬＤ−ＶＯＤプロセスを採用
しているが、真空誘導溶解法を含む他の溶製法に対して
も本発明が同様に適用されることは勿論である。表３
は、本発明で規定した要件を満足する組成をもつＡグル
ープの合金を、使用した脱酸剤及び造滓剤の組合せと共
に示す。他方、表４は、本発明で規定した範囲を組成が
外れるＢグループの合金を、使用した脱酸剤及び造滓剤
の組合せと共に示す。Ａグループ及びＢグループ共に、
ステンレス鋼の溶製に使用されているＴｉ含有量０．０
１重量％以下，Ｓ含有量０．０１重量％以下の原料スク
ラップをアーク溶解炉を用いて溶解し、ＬＤ−ＶＯＤプ
ロセスで精錬及び成分調整した。また、表４に掲げたＣ
１は、高純度原料を真空誘導溶解して得た合金である。
【００１１】
【表１】
【００１２】
【表２】
【００１３】
【表３】
【００１４】
【表４】
【００１５】溶製された各合金を常法に従って熱間圧延
及び冷間圧延し、板厚０．５ｍｍの冷延板を製造した。
この冷延板から磁気測定用のリング状試験片を切り出
し、水素雰囲気中で１１００℃に１時間加熱する磁気焼
鈍を施した。焼鈍後の試験片について、ＪＩＳ Ｃ２５
３１で規定されている磁気測定を行った。
及び冷間圧延し、板厚０．５ｍｍの冷延板を製造した。
この冷延板から磁気測定用のリング状試験片を切り出
し、水素雰囲気中で１１００℃に１時間加熱する磁気焼
鈍を施した。焼鈍後の試験片について、ＪＩＳ Ｃ２５
３１で規定されている磁気測定を行った。
【００１６】
【表５】
【００１７】
【表６】
【００１８】測定結果を示す表５と表６との対比から明
らかなように、本発明例であるＡグループの合金は、ス
クラップ等を使用したＬＤ−ＶＯＤプロセスによって
も、高純度原料を使用した真空誘導溶解材（Ｃ１）に匹
敵する優れた軟磁気特性を示していることが判る。これ
に対し、比較的多量のＴｉを含む助剤を使用して得られ
たＢ７−Ｂ１１の合金では、Ｓ，Ｏ，Ｂ，Ｔｉ等の不純
物含有量が本発明の要件を満足せず、表６に示すように
透磁率が大幅に低下していた。
らかなように、本発明例であるＡグループの合金は、ス
クラップ等を使用したＬＤ−ＶＯＤプロセスによって
も、高純度原料を使用した真空誘導溶解材（Ｃ１）に匹
敵する優れた軟磁気特性を示していることが判る。これ
に対し、比較的多量のＴｉを含む助剤を使用して得られ
たＢ７−Ｂ１１の合金では、Ｓ，Ｏ，Ｂ，Ｔｉ等の不純
物含有量が本発明の要件を満足せず、表６に示すように
透磁率が大幅に低下していた。
【００１９】また、各試験片の組織を観察したところ、
Ａグループの合金では、Ｔｉ系介在物の析出がほとんど
みられず、磁気焼鈍によって結晶粒が２００μｍ以上に
まで大きく成長していた。これに対し、Ｂグループの合
金では、粒径０．１μｍ以下の微細なＴｉＳ等のＴｉ系
介在物が多量に析出し、磁気焼鈍後の結晶粒も５０μｍ
程度に過ぎなかった。このＴｉ系介在物の析出状態及び
結晶組織を表５及び表６の試験結果に照らし合わせると
き、Ｔｉ系介在物の悪影響が抑制された結果として本発
明例の合金例で優れた軟質磁気特性が得られたことが確
認される。
Ａグループの合金では、Ｔｉ系介在物の析出がほとんど
みられず、磁気焼鈍によって結晶粒が２００μｍ以上に
まで大きく成長していた。これに対し、Ｂグループの合
金では、粒径０．１μｍ以下の微細なＴｉＳ等のＴｉ系
介在物が多量に析出し、磁気焼鈍後の結晶粒も５０μｍ
程度に過ぎなかった。このＴｉ系介在物の析出状態及び
結晶組織を表５及び表６の試験結果に照らし合わせると
き、Ｔｉ系介在物の悪影響が抑制された結果として本発
明例の合金例で優れた軟質磁気特性が得られたことが確
認される。
【００２０】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、脱酸剤や造滓剤に含まれるＴｉ及びＳの含有量を低
下することにより、高純度原材料を用いた真空誘導溶解
材に匹敵する優れた磁気特性をもつ軟磁性合金を、スク
ラップを溶解原料とした溶製によっても得られる。その
ため、ＬＤ−ＶＯＤプロセス等の量産性に適した溶製方
法で軟磁性合金を溶製するとき、製造コストを低減する
ことが可能となる。また、本発明に従った溶製方法は、
真空誘導溶解法にも適用でき、本発明で規定した脱酸剤
や造滓剤に使用により、高純度原料以外のスクラップも
溶解原料として使用可能になる。
は、脱酸剤や造滓剤に含まれるＴｉ及びＳの含有量を低
下することにより、高純度原材料を用いた真空誘導溶解
材に匹敵する優れた磁気特性をもつ軟磁性合金を、スク
ラップを溶解原料とした溶製によっても得られる。その
ため、ＬＤ−ＶＯＤプロセス等の量産性に適した溶製方
法で軟磁性合金を溶製するとき、製造コストを低減する
ことが可能となる。また、本発明に従った溶製方法は、
真空誘導溶解法にも適用でき、本発明で規定した脱酸剤
や造滓剤に使用により、高純度原料以外のスクラップも
溶解原料として使用可能になる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３ Ｓ Ｈ０１Ｆ 1/147 (72)発明者 長谷川 守弘 山口県新南陽市野村南町4976番地 日新製 鋼株式会社鉄鋼研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎｉ：３５〜５０重量％，Ｃｒ：１５重
量％以下及びＡｌ：１．２重量％以下を含む軟磁性合金
を溶製する際、Ｔｉ：０．０５重量％以下及びＳ：０．
０５重量％以下に低下したＣａＯ，ＣａＦ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 ，ＳｉＯ2等の造滓剤を、Ｔｉ：０．０５重量％以下
及びＳ：０．０５重量％以下のＡｌ系脱酸剤と複合添加
し、Ｓ＋Ｏ＋Ｂ：０．００８重量％以下の条件でＳ：
０．００３重量％以下及びＯ：０．００５重量％以下に
脱酸・脱硫すると共に、Ｂ：０．００５重量％以下及び
Ｔｉ：０．００５重量％以下に低減することを特徴とす
る軟磁性合金の溶製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5214272A JPH0762483A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 軟磁性合金の溶製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5214272A JPH0762483A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 軟磁性合金の溶製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0762483A true JPH0762483A (ja) | 1995-03-07 |
Family
ID=16652989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5214272A Withdrawn JPH0762483A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 軟磁性合金の溶製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762483A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2007314885A (ja) * | 1998-01-30 | 2007-12-06 | Thyssenkrupp Vdm Gmbh | 小さな抗磁力、高い透過性および改善された耐蝕性を有する軟磁性材料 |
| JP2010106368A (ja) * | 2010-01-08 | 2010-05-13 | Nippon Yakin Kogyo Co Ltd | 磁気特性に優れたＦｅ−Ｎｉ系パーマロイ合金の製造方法 |
-
1993
- 1993-08-30 JP JP5214272A patent/JPH0762483A/ja not_active Withdrawn
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