JPH07233240A - 硬化剤およびカチオン電着塗料組成物 - Google Patents
硬化剤およびカチオン電着塗料組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電着浴温変化が電着塗装に係る塗膜の膜厚に
与える影響を小さくする。 【構成】 電着塗料組成物は、基体樹脂と硬化剤とを含
んでいる。硬化剤は、ブロックイソシアネート化合物A
とブロックイソシアネート化合物Bとを含有している。
ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシアネ
ート化合物Bとは、ガラス転移温度の差が少なくとも2
5℃であり、かつ、ブロックイソシアネート化合物Aの
ガラス転移温度はブロックイソシアネート化合物Bのガ
ラス転移温度に比べて高い。
与える影響を小さくする。 【構成】 電着塗料組成物は、基体樹脂と硬化剤とを含
んでいる。硬化剤は、ブロックイソシアネート化合物A
とブロックイソシアネート化合物Bとを含有している。
ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシアネ
ート化合物Bとは、ガラス転移温度の差が少なくとも2
5℃であり、かつ、ブロックイソシアネート化合物Aの
ガラス転移温度はブロックイソシアネート化合物Bのガ
ラス転移温度に比べて高い。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、硬化剤および塗料組成
物、特に、ブロックイソシアネート化合物を含む硬化剤
およびそれを含むカチオン電着塗料組成物に関する。
物、特に、ブロックイソシアネート化合物を含む硬化剤
およびそれを含むカチオン電着塗料組成物に関する。
【0002】
【従来技術とその課題】一般的なカチオン電着塗料組成
物は、基体樹脂と硬化剤とを含んでいる。このような塗
料組成物で用いられる硬化剤は、一般にブロックイソシ
アネート化合物である。ところで、カチオン電着塗装時
における定電圧下での電着浴温と膜厚とは、図1に示さ
れる関係にある。すなわち、浴温の上昇に従って、膜厚
は一旦低下した後上昇する。ここで、膜厚が極少値とな
る電着浴温は、連続皮膜形成最低温度(MFT)と呼ば
れており、このMFT近辺で電着塗装が行われている。
上述の硬化剤を含む従来のカチオン電着塗料では、MF
T近辺の電着浴温変化が膜厚に与える影響が大きく、一
定の膜厚を得るためには、電着浴温を一定に保つ必要が
ある。本発明の目的は、電着浴温変化が膜厚に与える影
響を小さくすることにある。
物は、基体樹脂と硬化剤とを含んでいる。このような塗
料組成物で用いられる硬化剤は、一般にブロックイソシ
アネート化合物である。ところで、カチオン電着塗装時
における定電圧下での電着浴温と膜厚とは、図1に示さ
れる関係にある。すなわち、浴温の上昇に従って、膜厚
は一旦低下した後上昇する。ここで、膜厚が極少値とな
る電着浴温は、連続皮膜形成最低温度(MFT)と呼ば
れており、このMFT近辺で電着塗装が行われている。
上述の硬化剤を含む従来のカチオン電着塗料では、MF
T近辺の電着浴温変化が膜厚に与える影響が大きく、一
定の膜厚を得るためには、電着浴温を一定に保つ必要が
ある。本発明の目的は、電着浴温変化が膜厚に与える影
響を小さくすることにある。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明に係る硬化剤は、
ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシアネ
ート化合物Bとを含んでいる。ここで、ブロックイソシ
アネート化合物Aとブロックイソシアネート化合物Bと
のガラス転移温度の差は、少なくとも25℃である。ま
た、ブロックイソシアネート化合物Aのガラス転移温度
は、ブロックイソシアネート化合物Bのガラス転移温度
に比べて高い。
ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシアネ
ート化合物Bとを含んでいる。ここで、ブロックイソシ
アネート化合物Aとブロックイソシアネート化合物Bと
のガラス転移温度の差は、少なくとも25℃である。ま
た、ブロックイソシアネート化合物Aのガラス転移温度
は、ブロックイソシアネート化合物Bのガラス転移温度
に比べて高い。
【0004】本発明に係る他の硬化剤は、ガラス転移温
度が10〜45℃のブロックイソシアネート化合物A
と、ガラス転移温度が−20〜0℃のブロックイソシア
ネート化合物Bとを含んでいる。ここで、ブロックイソ
シアネート化合物Aとブロックイソシアネート化合物B
とのガラス転移温度の差は、少なくとも25℃である。
度が10〜45℃のブロックイソシアネート化合物A
と、ガラス転移温度が−20〜0℃のブロックイソシア
ネート化合物Bとを含んでいる。ここで、ブロックイソ
シアネート化合物Aとブロックイソシアネート化合物B
とのガラス転移温度の差は、少なくとも25℃である。
【0005】本発明に係るカチオン電着塗料組成物は、
基体樹脂と硬化剤とを含んでいる。硬化剤は、ブロック
イソシアネート化合物Aとブロックイソシアネート化合
物Bとを含んでいる。ここで、ブロックイソシアネート
化合物Aとブロックイソシアネート化合物Bとのガラス
転移温度の差は、少なくとも25℃である。また、ブロ
ックイソシアネート化合物Aのガラス転移温度は、ブロ
ックイソシアネート化合物Bのガラス転移温度に比べて
高い。
基体樹脂と硬化剤とを含んでいる。硬化剤は、ブロック
イソシアネート化合物Aとブロックイソシアネート化合
物Bとを含んでいる。ここで、ブロックイソシアネート
化合物Aとブロックイソシアネート化合物Bとのガラス
転移温度の差は、少なくとも25℃である。また、ブロ
ックイソシアネート化合物Aのガラス転移温度は、ブロ
ックイソシアネート化合物Bのガラス転移温度に比べて
高い。
【0006】硬化剤 本発明の硬化剤は、ブロックイソシアネート化合物Aと
ブロックイソシアネート化合物Bとを含んでいる。本発
明で用いられるブロックイソシアネート化合物Aおよび
Bは、以下の関係を満たすものであれば特に限定されな
い。一般に、ブロックイソシアネート化合物は、イソシ
アネート化合物由来の部分と活性水素化合物由来の部分
からなり、種々のイソシアネート化合物と活性水素化合
物を組み合わせることによって、多種類のブロックイソ
シアネート化合物が存在する。
ブロックイソシアネート化合物Bとを含んでいる。本発
明で用いられるブロックイソシアネート化合物Aおよび
Bは、以下の関係を満たすものであれば特に限定されな
い。一般に、ブロックイソシアネート化合物は、イソシ
アネート化合物由来の部分と活性水素化合物由来の部分
からなり、種々のイソシアネート化合物と活性水素化合
物を組み合わせることによって、多種類のブロックイソ
シアネート化合物が存在する。
【0007】本発明では、ガラス転移温度の異なる2種
類のブロックイソシアネート化合物AおよびBを組み合
せる必要がある。ここで、ブロックイソシアネート化合
物Aとしては、ブロックイソシアネート化合物Bに比べ
てガラス転移温度が高いものを用いる必要がある。ここ
で、ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシ
アネート化合物Bとのガラス転移温度の差は、少なくと
も25℃、好ましくは25〜60℃である。ガラス転移
温度の差が25℃未満の場合には、従来と同様に膜厚が
電着浴温変化の影響を受けやすい。なお、ガラス転移温
度の差が60℃を越える場合には、硬化剤としての機能
が十分に発揮されないおそれがある。
類のブロックイソシアネート化合物AおよびBを組み合
せる必要がある。ここで、ブロックイソシアネート化合
物Aとしては、ブロックイソシアネート化合物Bに比べ
てガラス転移温度が高いものを用いる必要がある。ここ
で、ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシ
アネート化合物Bとのガラス転移温度の差は、少なくと
も25℃、好ましくは25〜60℃である。ガラス転移
温度の差が25℃未満の場合には、従来と同様に膜厚が
電着浴温変化の影響を受けやすい。なお、ガラス転移温
度の差が60℃を越える場合には、硬化剤としての機能
が十分に発揮されないおそれがある。
【0008】なお、本発明でのガラス転移温度は、示差
熱分析装置により実測した値である。各ブロックイソシ
アネート化合物のガラス転移温度は、ブロックイソシア
ネート化合物Aについては10〜45℃、ブロックイソ
シアネート化合物Bについては−20〜0℃が好まし
い。これらの範囲外では、塗料に用いた場合に塗膜の一
般的物性に悪影響を及ぼすおそれがある。
熱分析装置により実測した値である。各ブロックイソシ
アネート化合物のガラス転移温度は、ブロックイソシア
ネート化合物Aについては10〜45℃、ブロックイソ
シアネート化合物Bについては−20〜0℃が好まし
い。これらの範囲外では、塗料に用いた場合に塗膜の一
般的物性に悪影響を及ぼすおそれがある。
【0009】また、ブロックイソシアネート化合物Aと
ブロックイソシアネート化合物Bとの溶解性パラメータ
ーの差は0.1〜3.0が好ましく、さらに好ましくは
0.6〜1.5である。この範囲外の場合には、本発明
の効果が発現されにくくなる場合がある。なお、両ブロ
ックイソシアネート化合物間では溶解性パラメーターの
大小は問わない。すなわち、ブロックイソシアネート化
合物Aの溶解性パラメーターはブロックイソシアネート
化合物Bの溶解性パラメーターに比べて、大きくてもよ
いし、小さくてもよい。
ブロックイソシアネート化合物Bとの溶解性パラメータ
ーの差は0.1〜3.0が好ましく、さらに好ましくは
0.6〜1.5である。この範囲外の場合には、本発明
の効果が発現されにくくなる場合がある。なお、両ブロ
ックイソシアネート化合物間では溶解性パラメーターの
大小は問わない。すなわち、ブロックイソシアネート化
合物Aの溶解性パラメーターはブロックイソシアネート
化合物Bの溶解性パラメーターに比べて、大きくてもよ
いし、小さくてもよい。
【0010】各ブロックイソシアネート化合物の溶解性
パラメーターは、特に限定されない。ただし、ブロック
イソシアネート化合物Aについては9.5〜11.5が
好ましく、ブロックイソシアネート化合物Bについては
11.6〜13.5が好ましい。なお、溶解性パラメー
ター(SP)は、Journal of Applie
d Polymer Science,12,2359
(1968)に示された、K.W.SUHおよびJ.
M.CORBETTによる下記の式(1)により決定さ
れる。
パラメーターは、特に限定されない。ただし、ブロック
イソシアネート化合物Aについては9.5〜11.5が
好ましく、ブロックイソシアネート化合物Bについては
11.6〜13.5が好ましい。なお、溶解性パラメー
ター(SP)は、Journal of Applie
d Polymer Science,12,2359
(1968)に示された、K.W.SUHおよびJ.
M.CORBETTによる下記の式(1)により決定さ
れる。
【0011】
【数1】
【0012】式中、Vmlは低SP溶剤の濁点での容積、
Vmhは高SP溶剤の濁点での容積、δmlは低SP溶剤の
溶解度パラメーター、δmhは高SP溶剤の溶解性パラメ
ーターである。
Vmhは高SP溶剤の濁点での容積、δmlは低SP溶剤の
溶解度パラメーター、δmhは高SP溶剤の溶解性パラメ
ーターである。
【0013】上述のブロックイソシアネート化合物Aお
よびBとしては、ポリイソシアネート化合物を活性水素
化合物でブロックしたものであれば種々のものが利用で
きる。ポリイソシアネート化合物としては、芳香族ポリ
イソシアネート化合物と脂肪族ポリイソシアネート化合
物のいずれもが用いられ得る。よって、ブロックイソシ
アネート化合物AおよびBの組合せとしては、例えば以
下の4通りが考えられる。
よびBとしては、ポリイソシアネート化合物を活性水素
化合物でブロックしたものであれば種々のものが利用で
きる。ポリイソシアネート化合物としては、芳香族ポリ
イソシアネート化合物と脂肪族ポリイソシアネート化合
物のいずれもが用いられ得る。よって、ブロックイソシ
アネート化合物AおよびBの組合せとしては、例えば以
下の4通りが考えられる。
【0014】1.A:芳香族ブロックイソシアネート化
合物 B:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 2.A:芳香族ブロックイソシアネート化合物 B:芳香族ブロックイソシアネート化合物 3.A:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 B:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 4.A:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 B:芳香族ブロックイソシアネート化合物 上述の組合せの中では、設計の自由度の観点から1.の
組合せが好ましい。
合物 B:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 2.A:芳香族ブロックイソシアネート化合物 B:芳香族ブロックイソシアネート化合物 3.A:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 B:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 4.A:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 B:芳香族ブロックイソシアネート化合物 上述の組合せの中では、設計の自由度の観点から1.の
組合せが好ましい。
【0015】さらに加熱減量の少なさを考慮すると、こ
れらのポリイソシアネート化合物は、イソシアヌレート
環を含んでいることが好ましい。イソシアヌレート環を
含んだポリイソシアネート化合物は、一般にジイソシア
ネート化合物の3量化反応によって形成される。例え
ば、芳香族ポリイソシアネート化合物の場合には、トリ
レンジイソシアネートおよびジフェニルメタンジイソシ
アネートのうちの少なくとも1つに由来するイソシアヌ
レート環を含むものが好ましく、一方、脂肪族ポリイソ
シアネート化合物の場合には、ヘキサメチレンジイソシ
アネートに由来するイソシアヌレート環を含むものが好
ましい。なお、このようなイソシアヌレート環を含むポ
リイソシアネート化合物を用いる場合、芳香族ポリイソ
シアネート化合物はラクタム類、グリコールエーテル類
またはオキシム類でブロックされているのが好ましく、
脂肪族ポリイソシアネート化合物は、オキシム類、ラク
タム類または活性メチレン化合物でブロックされている
のが好ましい。
れらのポリイソシアネート化合物は、イソシアヌレート
環を含んでいることが好ましい。イソシアヌレート環を
含んだポリイソシアネート化合物は、一般にジイソシア
ネート化合物の3量化反応によって形成される。例え
ば、芳香族ポリイソシアネート化合物の場合には、トリ
レンジイソシアネートおよびジフェニルメタンジイソシ
アネートのうちの少なくとも1つに由来するイソシアヌ
レート環を含むものが好ましく、一方、脂肪族ポリイソ
シアネート化合物の場合には、ヘキサメチレンジイソシ
アネートに由来するイソシアヌレート環を含むものが好
ましい。なお、このようなイソシアヌレート環を含むポ
リイソシアネート化合物を用いる場合、芳香族ポリイソ
シアネート化合物はラクタム類、グリコールエーテル類
またはオキシム類でブロックされているのが好ましく、
脂肪族ポリイソシアネート化合物は、オキシム類、ラク
タム類または活性メチレン化合物でブロックされている
のが好ましい。
【0016】上述のブロックイソシアネート化合物Aと
ブロックイソシアネート化合物Bとの混合比は、重量比
(A/B)で10/90〜50/50が好ましく、15
/85〜40/60がより好ましい。この範囲を外れる
場合には、本発明の硬化剤を含む電着塗料組成物による
塗膜の膜厚が電着浴温変化の影響を受けやすくなる。本
発明の硬化剤は、上述のブロックイソシアネート化合物
AおよびBを、任意の方法で混合すると得られる。
ブロックイソシアネート化合物Bとの混合比は、重量比
(A/B)で10/90〜50/50が好ましく、15
/85〜40/60がより好ましい。この範囲を外れる
場合には、本発明の硬化剤を含む電着塗料組成物による
塗膜の膜厚が電着浴温変化の影響を受けやすくなる。本
発明の硬化剤は、上述のブロックイソシアネート化合物
AおよびBを、任意の方法で混合すると得られる。
【0017】カチオン電着塗料 上述の硬化剤は、カチオン電着塗料に用いることができ
る。本発明のカチオン電着塗料は、一般に、基体樹脂、
硬化剤、顔料、顔料分散用樹脂および溶剤を含んでい
る。
る。本発明のカチオン電着塗料は、一般に、基体樹脂、
硬化剤、顔料、顔料分散用樹脂および溶剤を含んでい
る。
【0018】基体樹脂としては、ビスフェノール型エポ
キシ樹脂から誘導される、数平均分子量が400〜1
0,000、好ましくは1,000〜3,000のもの
が利用できる。基体樹脂の塩基当量は、通常の範囲でよ
く、具体的には40〜150(ミリ当量/100g)、
好ましくは60〜100(ミリ当量/100g)であ
る。また、基体樹脂のガラス転移温度は、40℃が以下
が好ましく、35℃以下であればより好ましい。ガラス
転移温度が40℃を越えるものは、加熱時のフロー性が
不十分なため、塗膜の平滑性を損なうおそれがある。
キシ樹脂から誘導される、数平均分子量が400〜1
0,000、好ましくは1,000〜3,000のもの
が利用できる。基体樹脂の塩基当量は、通常の範囲でよ
く、具体的には40〜150(ミリ当量/100g)、
好ましくは60〜100(ミリ当量/100g)であ
る。また、基体樹脂のガラス転移温度は、40℃が以下
が好ましく、35℃以下であればより好ましい。ガラス
転移温度が40℃を越えるものは、加熱時のフロー性が
不十分なため、塗膜の平滑性を損なうおそれがある。
【0019】基体樹脂の具体例としては、ポリフェノー
ルのグリシジルエーテルにハーフブロック化ジイソシア
ネートを反応させ、そのエポキシ樹脂をアミン化合物で
開環したものなど、当業者に広く知られたものが挙げら
れる。なお、基体樹脂として最も好ましいものは、分子
内にオキサゾリドン環を含む変性エポキシ樹脂である。
この変性エポキシ樹脂は、ジイソシアネート化合物を反
応させたビスウレタン化合物あるいは他の活性水素化合
物を反応させたヘテロウレタン化合物と、エポキシ樹脂
とを脱アルコール反応させることにより得ることができ
る。
ルのグリシジルエーテルにハーフブロック化ジイソシア
ネートを反応させ、そのエポキシ樹脂をアミン化合物で
開環したものなど、当業者に広く知られたものが挙げら
れる。なお、基体樹脂として最も好ましいものは、分子
内にオキサゾリドン環を含む変性エポキシ樹脂である。
この変性エポキシ樹脂は、ジイソシアネート化合物を反
応させたビスウレタン化合物あるいは他の活性水素化合
物を反応させたヘテロウレタン化合物と、エポキシ樹脂
とを脱アルコール反応させることにより得ることができ
る。
【0020】硬化剤としては、本発明に係る上述のもの
が利用される。この硬化剤の添加量は、基体樹脂との比
率で決定するのが好ましい。通常は、基体樹脂(R)と
硬化剤(C)との比率(R/C)は、90/10〜50
/50に設定される。硬化剤の比率が10未満の場合
は、十分な硬化性が得られず、逆に50を越えると加熱
減量が増加するおそれがある。なお、顔料、顔料分散用
樹脂及び溶剤としては、カチオン電着塗料用の一般的な
ものが用いられる。本発明のカチオン電着塗料組成物
は、上述の硬化剤を含んでいるので、電着浴温変化によ
る塗膜の膜厚変化を起こしにくい。
が利用される。この硬化剤の添加量は、基体樹脂との比
率で決定するのが好ましい。通常は、基体樹脂(R)と
硬化剤(C)との比率(R/C)は、90/10〜50
/50に設定される。硬化剤の比率が10未満の場合
は、十分な硬化性が得られず、逆に50を越えると加熱
減量が増加するおそれがある。なお、顔料、顔料分散用
樹脂及び溶剤としては、カチオン電着塗料用の一般的な
ものが用いられる。本発明のカチオン電着塗料組成物
は、上述の硬化剤を含んでいるので、電着浴温変化によ
る塗膜の膜厚変化を起こしにくい。
【0021】
【実施例】合成例1(基体樹脂Iの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコにビス
フェノールAとエピクロルヒドリンとから誘導したエポ
キシ樹脂(エポキシ当量=475)285.0g、エポ
キシ当量950のポキシ樹脂380.0g、p−ノニル
フェノール77.0gおよびメチルイソブチルケトン8
2.4gを加え、昇温して均一化した。これにベンジル
ジメチルアミン3.0gをさらに加え、130℃でエポ
キシ当量1140になるまで反応させた。その後、冷却
し、ジエタノールアミン19.2g、N−メチルエタノ
ールアミン27.0g、およびアミノエチルエタノール
アミンのケチミン化物(79重量%メチルイソブチルケ
トン溶液)30.6gを加え、110℃で2時間反応さ
せた。その後、メチルイソブチルケトンで不揮発分90
%になるまで希釈し、ガラス転移温度35℃(セイコー
電子工業社製熱分析装置”DSC−5200型”により
昇温速度10℃/分で測定)の基体樹脂Iを得た。
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコにビス
フェノールAとエピクロルヒドリンとから誘導したエポ
キシ樹脂(エポキシ当量=475)285.0g、エポ
キシ当量950のポキシ樹脂380.0g、p−ノニル
フェノール77.0gおよびメチルイソブチルケトン8
2.4gを加え、昇温して均一化した。これにベンジル
ジメチルアミン3.0gをさらに加え、130℃でエポ
キシ当量1140になるまで反応させた。その後、冷却
し、ジエタノールアミン19.2g、N−メチルエタノ
ールアミン27.0g、およびアミノエチルエタノール
アミンのケチミン化物(79重量%メチルイソブチルケ
トン溶液)30.6gを加え、110℃で2時間反応さ
せた。その後、メチルイソブチルケトンで不揮発分90
%になるまで希釈し、ガラス転移温度35℃(セイコー
電子工業社製熱分析装置”DSC−5200型”により
昇温速度10℃/分で測定)の基体樹脂Iを得た。
【0022】合成例2(基体樹脂IIの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコに2,
4−/2,6−トリレンジイソシアネート(重量比=8
/2)92g、メチルイソブチルケトン95gおよびジ
ブチルチンジラウレート0.5gを加え、これらを撹拌
しながらメタノール21gをさらに滴下した。反応は室
温から始め、発熱により60℃まで昇温した。その後、
30分間反応を継続した後に、エチレングリコールモノ
−2−エチルヘキシルエーテル57gを滴下ロートより
滴下し、さらにビスフェノールA−プロピレンオキシド
5モル付加体42gを加えた。反応は、主に60〜65
℃の範囲で行い、IRスペクトルを測定しながらイソシ
アネート基が消失するまで継続した。
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコに2,
4−/2,6−トリレンジイソシアネート(重量比=8
/2)92g、メチルイソブチルケトン95gおよびジ
ブチルチンジラウレート0.5gを加え、これらを撹拌
しながらメタノール21gをさらに滴下した。反応は室
温から始め、発熱により60℃まで昇温した。その後、
30分間反応を継続した後に、エチレングリコールモノ
−2−エチルヘキシルエーテル57gを滴下ロートより
滴下し、さらにビスフェノールA−プロピレンオキシド
5モル付加体42gを加えた。反応は、主に60〜65
℃の範囲で行い、IRスペクトルを測定しながらイソシ
アネート基が消失するまで継続した。
【0023】次に、ビスフェノールAとエピクロルヒド
リンとから合成したエポキシ当量188のエポキシ樹脂
365gを加え、125℃まで昇温した。その後、ベン
ジルジメチルアミン1.0gを加え、エポキシ当量41
0になるまで130℃で反応させた。続いてビスフェノ
ールA87gを反応容器に加えて120℃で反応させた
ところ、エポキシ当量は1190となった。その後冷却
し、ジエタノールアミン11g、N−メチルエタノール
アミン24g、およびアミノエチルエタノールアミンの
ケチミン化物(79重量%メチルイソブチルケトン溶
液)25gを加え、110℃で2時間反応させた。その
後、メチルイソブチルケトンで不揮発分80%になるま
で希釈し、ガラス転移温度が22℃の基体樹脂IIを得
た。
リンとから合成したエポキシ当量188のエポキシ樹脂
365gを加え、125℃まで昇温した。その後、ベン
ジルジメチルアミン1.0gを加え、エポキシ当量41
0になるまで130℃で反応させた。続いてビスフェノ
ールA87gを反応容器に加えて120℃で反応させた
ところ、エポキシ当量は1190となった。その後冷却
し、ジエタノールアミン11g、N−メチルエタノール
アミン24g、およびアミノエチルエタノールアミンの
ケチミン化物(79重量%メチルイソブチルケトン溶
液)25gを加え、110℃で2時間反応させた。その
後、メチルイソブチルケトンで不揮発分80%になるま
で希釈し、ガラス転移温度が22℃の基体樹脂IIを得
た。
【0024】合成例3(基体樹脂IIIの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコに2,
4−/2,6−トリレンジイソシアネート(重量比=8
/2)70g、メチルイソブチルケトン109gおよび
ジブチルチンジラウレート0.35gを加え、これらを
撹拌しながらメタノール21gをさらに滴下した。反応
は室温から始め、発熱により60℃まで昇温した。その
後、30分間反応を継続した後に、エチレングリコール
モノ−2−エチルヘキシルエーテル47gを滴下ロート
より滴下し、さらにビスフェノールA−プロピレンオキ
シド5モル付加体42gを加えた。反応は、主に60〜
65℃の範囲で行い、IRスペクトルを測定しながらイ
ソシアネート基が消失するまで継続した。
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコに2,
4−/2,6−トリレンジイソシアネート(重量比=8
/2)70g、メチルイソブチルケトン109gおよび
ジブチルチンジラウレート0.35gを加え、これらを
撹拌しながらメタノール21gをさらに滴下した。反応
は室温から始め、発熱により60℃まで昇温した。その
後、30分間反応を継続した後に、エチレングリコール
モノ−2−エチルヘキシルエーテル47gを滴下ロート
より滴下し、さらにビスフェノールA−プロピレンオキ
シド5モル付加体42gを加えた。反応は、主に60〜
65℃の範囲で行い、IRスペクトルを測定しながらイ
ソシアネート基が消失するまで継続した。
【0025】次に、ビスフェノールFとエピクロロヒド
リンとから誘導したエポキシ樹脂(エポキシ当量=47
5)475gを加え、昇温して均一化した後、ベンジル
ジメチルアミン1.5gを加え、エポキシ当量1140
になるまで130℃で反応させた。その後、冷却し、ジ
エタノールアミン11.0g、N−メチルエタノールア
ミン25g、およびアミノエチルエタノールアミンのケ
チミン化物(79重量%メチルイソブチルケトン溶液)
24gを加え、110℃で2時間反応させた。その後メ
チルイソブチルケトンで不揮発分90%になるまで希釈
し、ガラス転移温度が25℃の基体樹脂IIIを得た。
リンとから誘導したエポキシ樹脂(エポキシ当量=47
5)475gを加え、昇温して均一化した後、ベンジル
ジメチルアミン1.5gを加え、エポキシ当量1140
になるまで130℃で反応させた。その後、冷却し、ジ
エタノールアミン11.0g、N−メチルエタノールア
ミン25g、およびアミノエチルエタノールアミンのケ
チミン化物(79重量%メチルイソブチルケトン溶液)
24gを加え、110℃で2時間反応させた。その後メ
チルイソブチルケトンで不揮発分90%になるまで希釈
し、ガラス転移温度が25℃の基体樹脂IIIを得た。
【0026】合成例4(顔料分散ペーストの調製) エポキシ当量450のビスフェノールA型エポキシ樹脂
に2−エチルヘキサノールハーフブロック化イソホロン
ジイソシアネートを反応させ、1−(2−ヒドロキシエ
チルチオ)−2−プロパノールおよびジメチロールプロ
ピオン酸で3級スルホニウム化した顔料分散用樹脂ワニ
ス125.0g(3級スルホニウム化率70.6%、樹
脂固形分60%)、イオン交換水400.0g、カーボ
ンブラック8.5g、カオリン72.0gをサンドグラ
インドミルで分散し、これをさらに粒度が10μm以下
になるまで粉砕して顔料ペーストを得た。
に2−エチルヘキサノールハーフブロック化イソホロン
ジイソシアネートを反応させ、1−(2−ヒドロキシエ
チルチオ)−2−プロパノールおよびジメチロールプロ
ピオン酸で3級スルホニウム化した顔料分散用樹脂ワニ
ス125.0g(3級スルホニウム化率70.6%、樹
脂固形分60%)、イオン交換水400.0g、カーボ
ンブラック8.5g、カオリン72.0gをサンドグラ
インドミルで分散し、これをさらに粒度が10μm以下
になるまで粉砕して顔料ペーストを得た。
【0027】合成例5(ブロックイソシアネート化合物
aの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコにジフ
ェニルメタンジイソシアネートの3量体のメチルイソブ
チルケトン溶液(商品名”MC−708S”:日本ポリ
ウレタン株式会社製、NCO当量=230、固形分=6
0%、残留モノマー成分=20%)を固形分換算で23
0gとε−カプロラクタム22.8gとを加えた。そし
て、フラスコ内の内容物を80℃まで昇温し、均一に溶
解させた。ここに、ジブチルスズジラウレート0.18
3gおよび1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7
−ウンデセン0.183gを均一に溶解させたものを加
えた後、エチレングリコールモノヘキシルエーテル14
gを発熱に注意しながらさらに滴下した。滴下終了後、
フラスコを80℃に保ち、NCO当量が380になるま
で反応を続けた。その後、エチレングリコールモノヘキ
シルエーテル100gを滴下ロートよりさらに1時間か
けて滴下した。IRスペクトルでNCO基の吸収が消失
するまで反応させ、ブロックイソシアネート化合物aを
得た。このブロックイソシアネート化合物aの不揮発分
は70.2%であり、ガラス転移温度は31℃であっ
た。
aの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコにジフ
ェニルメタンジイソシアネートの3量体のメチルイソブ
チルケトン溶液(商品名”MC−708S”:日本ポリ
ウレタン株式会社製、NCO当量=230、固形分=6
0%、残留モノマー成分=20%)を固形分換算で23
0gとε−カプロラクタム22.8gとを加えた。そし
て、フラスコ内の内容物を80℃まで昇温し、均一に溶
解させた。ここに、ジブチルスズジラウレート0.18
3gおよび1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7
−ウンデセン0.183gを均一に溶解させたものを加
えた後、エチレングリコールモノヘキシルエーテル14
gを発熱に注意しながらさらに滴下した。滴下終了後、
フラスコを80℃に保ち、NCO当量が380になるま
で反応を続けた。その後、エチレングリコールモノヘキ
シルエーテル100gを滴下ロートよりさらに1時間か
けて滴下した。IRスペクトルでNCO基の吸収が消失
するまで反応させ、ブロックイソシアネート化合物aを
得た。このブロックイソシアネート化合物aの不揮発分
は70.2%であり、ガラス転移温度は31℃であっ
た。
【0028】合成例6〜10(ブロックイソシアネート
化合物b〜fの合成) 原料となるポリイソシアネート化合物および活性水素化
合物を表1に示す通りに変更し、合成例5と同様の操作
を経由してブロックイソシアネート化合物b〜gを得
た。表1に、ブロックイソシアネート化合物a〜fの特
数を示した。
化合物b〜fの合成) 原料となるポリイソシアネート化合物および活性水素化
合物を表1に示す通りに変更し、合成例5と同様の操作
を経由してブロックイソシアネート化合物b〜gを得
た。表1に、ブロックイソシアネート化合物a〜fの特
数を示した。
【0029】
【表1】
【0030】表中、 *1:ジフェニルメタンジイソシアネートの3量体(日
本ポリウレタン株式会社製、NCO当量=230、固形
分=60%、残留モノマー成分=20%) *2:トリレンジイソシアネートの3量体(日本ポリウ
レタン株式会社製、NCO当量=247、固形分=60
%、残留モノマー成分=0.6%) *3:ヘキサメチレンジイソシアネートの3量体(日本
ポリウレタン株式会社製、NCO当量=199、固形分
=100%) なお、括弧内はポリイソシアネート化合物のイソシアネ
ート当量を1としたときの当量比である。
本ポリウレタン株式会社製、NCO当量=230、固形
分=60%、残留モノマー成分=20%) *2:トリレンジイソシアネートの3量体(日本ポリウ
レタン株式会社製、NCO当量=247、固形分=60
%、残留モノマー成分=0.6%) *3:ヘキサメチレンジイソシアネートの3量体(日本
ポリウレタン株式会社製、NCO当量=199、固形分
=100%) なお、括弧内はポリイソシアネート化合物のイソシアネ
ート当量を1としたときの当量比である。
【0031】合成例11(ブロックイソシアネート化合
物gの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコにトリ
レンジイソシアネート(商品名”コロネートT−8
0”:日本ポリウレタン株式会社製、NCO当量:8
7)174g、ε−カプロラクタム45gおよびメチル
イソブチルケトン112gを加えた。ここに、ジブチル
スズジラウレート0.35gと1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)−7−ウンデセン0.35gとを均一に
溶解させたものを加えた後、エチレングリコールモノヘ
キシルエーテル28gを発熱に注意しながらさらに滴下
した。滴下終了後、フラスコを60℃に保ち、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル170gを滴下ロート
よりさらに1時間かけて滴下し、その後トリメチロール
プロパン70gを加えた。IRスペクトルでNCO基の
吸収が消失するまで反応させた後、メチルイソブチルケ
トンを不揮発分70%になるように加え、ブロックイソ
シアネート化合物gを得た。このブロックイソシアネー
ト化合物gの不揮発分は70.4%であり、ガラス転移
温度は8℃であった。
物gの合成) 撹拌機、冷却器、窒素注入管、温度計および滴下ロート
を取り付けたフラスコを用意した。このフラスコにトリ
レンジイソシアネート(商品名”コロネートT−8
0”:日本ポリウレタン株式会社製、NCO当量:8
7)174g、ε−カプロラクタム45gおよびメチル
イソブチルケトン112gを加えた。ここに、ジブチル
スズジラウレート0.35gと1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)−7−ウンデセン0.35gとを均一に
溶解させたものを加えた後、エチレングリコールモノヘ
キシルエーテル28gを発熱に注意しながらさらに滴下
した。滴下終了後、フラスコを60℃に保ち、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル170gを滴下ロート
よりさらに1時間かけて滴下し、その後トリメチロール
プロパン70gを加えた。IRスペクトルでNCO基の
吸収が消失するまで反応させた後、メチルイソブチルケ
トンを不揮発分70%になるように加え、ブロックイソ
シアネート化合物gを得た。このブロックイソシアネー
ト化合物gの不揮発分は70.4%であり、ガラス転移
温度は8℃であった。
【0032】実施例1〜9、比較例1〜4(硬化剤およ
びカチオン電着塗料の調製) 合成例1〜3で得た基体樹脂I〜III、合成例5〜1
1で得たブロックイソシアネート化合物a〜gを表2に
示す割合で混合し、エチレングリコールモノ−2−エチ
ルヘキシルエーテルを固形分に対して3%になるよう添
加した。これに、氷酢酸を加えて中和率が40.5%に
なるよう中和し、さらに、イオン交換水を加えてゆっく
り希釈した。そして、固形分が36.0%になるよう減
圧下でメチルイソブチルケトンを除去した。このように
して得られたメインエマルション2000.0g、合成
例3で得られた顔料ペースト460.0g、イオン交換
水2252.0g、および表面制御剤/硬化触媒(ジブ
チルスズオキシド、固形分の1重量%)を混合し、固形
分が20.0%のカチオン電着塗料を調製した。
びカチオン電着塗料の調製) 合成例1〜3で得た基体樹脂I〜III、合成例5〜1
1で得たブロックイソシアネート化合物a〜gを表2に
示す割合で混合し、エチレングリコールモノ−2−エチ
ルヘキシルエーテルを固形分に対して3%になるよう添
加した。これに、氷酢酸を加えて中和率が40.5%に
なるよう中和し、さらに、イオン交換水を加えてゆっく
り希釈した。そして、固形分が36.0%になるよう減
圧下でメチルイソブチルケトンを除去した。このように
して得られたメインエマルション2000.0g、合成
例3で得られた顔料ペースト460.0g、イオン交換
水2252.0g、および表面制御剤/硬化触媒(ジブ
チルスズオキシド、固形分の1重量%)を混合し、固形
分が20.0%のカチオン電着塗料を調製した。
【0033】得られたカチオン電着塗料をリン酸亜鉛処
理した冷延鋼板に、電着浴温を変化させて電着塗装を行
い、電着浴温と膜厚の関係を調べた。また、乾燥膜厚が
20μmとなるよう電着し、165℃で20分焼き付け
て硬化膜を得た。電着浴温に対する膜厚変化の評価およ
び得られた膜の評価を表2に示す。なお、電着浴温に対
する膜厚変化の評価方法および硬化膜の評価方法は、次
の通りである。
理した冷延鋼板に、電着浴温を変化させて電着塗装を行
い、電着浴温と膜厚の関係を調べた。また、乾燥膜厚が
20μmとなるよう電着し、165℃で20分焼き付け
て硬化膜を得た。電着浴温に対する膜厚変化の評価およ
び得られた膜の評価を表2に示す。なお、電着浴温に対
する膜厚変化の評価方法および硬化膜の評価方法は、次
の通りである。
【0034】(電着塗装温度幅)MFTを基準として、
電着浴温を変化させたときの膜厚変化が±3μm以内と
なる温度幅で評価した。10℃以上が良好である。 (加熱減量)105℃×3時間加熱乾燥した後、220
℃×20分焼き付けを行った後の塗膜の重量減少率
(%)で評価した。15%未満の重量減少率が許容範囲
である。
電着浴温を変化させたときの膜厚変化が±3μm以内と
なる温度幅で評価した。10℃以上が良好である。 (加熱減量)105℃×3時間加熱乾燥した後、220
℃×20分焼き付けを行った後の塗膜の重量減少率
(%)で評価した。15%未満の重量減少率が許容範囲
である。
【0035】(塩水噴霧試験)JIS−Z2371に準
じて評価した。具体的には、未処理冷延鋼板に電着した
塗板にカッターナイフでクロスカットを入れ、35℃で
480時間の塩水噴霧を行った後の、エッジ部剥離幅、
テープ剥離による剥離幅、エッジからの錆幅、ブリスタ
ー発生数を評価した。 ○:良好 △:やや良好 ×:不良
じて評価した。具体的には、未処理冷延鋼板に電着した
塗板にカッターナイフでクロスカットを入れ、35℃で
480時間の塩水噴霧を行った後の、エッジ部剥離幅、
テープ剥離による剥離幅、エッジからの錆幅、ブリスタ
ー発生数を評価した。 ○:良好 △:やや良好 ×:不良
【0036】
【表2】
【0037】
【発明の効果】本発明の硬化剤およびカチオン電着塗料
組成物によれば、電着浴温変化が膜厚に与える影響が小
さくなる。
組成物によれば、電着浴温変化が膜厚に与える影響が小
さくなる。
【図1】カチオン電着塗装時における電着浴温と膜厚と
の関係を示すグラフ。
の関係を示すグラフ。
Claims (12)
- 【請求項1】ブロックイソシアネート化合物Aとブロッ
クイソシアネート化合物Bとを含み、 前記ブロックイソシアネート化合物Aと前記ブロックイ
ソシアネート化合物Bとのガラス転移温度の差が、少な
くとも25℃であり、かつ、前記ブロックイソシアネー
ト化合物Aのガラス転移温度が、前記ブロックイソシア
ネート化合物Bのガラス転移温度に比べて高い、硬化
剤。 - 【請求項2】前記ガラス転移温度の差が、25〜60℃
である、請求項1に記載の硬化剤。 - 【請求項3】ガラス転移温度が10〜45℃のブロック
イソシアネート化合物Aと、ガラス転移温度が−20〜
0℃のブロックイソシアネート化合物Bとを含み、 前記ブロックイソシアネート化合物Aと前記ブロックイ
ソシアネート化合物Bとのガラス転移温度の差が、少な
くとも25℃である、硬化剤。 - 【請求項4】前記ブロックイソシアネート化合物Aと前
記ブロックイソシアネート化合物Bとの溶解性パラメー
ターの差が0.1〜3.0である、請求項1、2または
3に記載の硬化剤。 - 【請求項5】前記ブロックイソシアネート化合物Aの溶
解性パラメーターが9.5〜11.5であり、前記ブロ
ックイソシアネート化合物Bの溶解性パラメーターが1
1.6〜13.5である、請求項4に記載の硬化剤。 - 【請求項6】前記溶解性パラメーターの差が0.6〜
1.5である、請求項4または5に記載の硬化剤。 - 【請求項7】前記ブロックイソシアネート化合物Aが芳
香族ポリイソシアネート化合物由来のブロックイソシア
ネート化合物であり、前記ブロックイソシアネート化合
物Bが脂肪族ポリイソシアネート化合物由来のブロック
イソシアネート化合物である、請求項1ないし6に記載
の硬化剤。 - 【請求項8】前記芳香族ポリイソシアネート化合物およ
び前記脂肪族ポリイソシアネート化合物は、それぞれイ
ソシアヌレート環を含んでいる請求項7に記載の硬化
剤。 - 【請求項9】前記芳香族ポリイソシアネート化合物は、
トリレンジイソシアネートおよびジフェニルメタンジイ
ソシアネートのうちの少なくとも1つに由来するイソシ
アヌレート環を含み、 前記脂肪族ポリイソシアネート化合物は、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートに由来するイソシアヌレート環を含
む、請求項8に記載の硬化剤。 - 【請求項10】前記ブロックイソシアネート化合物Aと
前記ブロックイソシアネート化合物Bとの重量比(A/
B)が、10/90〜50/50である、請求項1ない
し9に記載の硬化剤。 - 【請求項11】基体樹脂と、 ブロックイソシアネート化合物Aとブロックイソシアネ
ート化合物Bとを含有する硬化剤とを含み、 前記ブロックイソシアネート化合物Aと前記ブロックイ
ソシアネート化合物Bとのガラス転移温度の差が、少な
くとも25℃であり、かつ、前記ブロックイソシアネー
ト化合物Aのガラス転移温度が、前記ブロックイソシア
ネート化合物Bのガラス転移温度に比べて高い、カチオ
ン電着塗料組成物。 - 【請求項12】基体樹脂と、 ガラス転移温度が10〜45℃のブロックイソシアネー
ト化合物Aと、ガラス転移温度が−20〜0℃のブロッ
クイソシアネート化合物Bとを含有する硬化剤とを含
み、 前記ブロックイソシアネート化合物Aと前記ブロックイ
ソシアネート化合物Bとのガラス転移温度の差が、少な
くとも25℃である、カチオン電着塗料組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6049808A JPH07233240A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | 硬化剤およびカチオン電着塗料組成物 |
KR1019950002698A KR950032523A (ko) | 1994-02-22 | 1995-02-14 | 경화제 및 양이온 전착도료 조성물 |
CN95102199A CN1111271A (zh) | 1994-02-22 | 1995-02-22 | 固化剂及阳离子电沉积涂料组合物 |
US08/392,171 US5569704A (en) | 1994-02-22 | 1995-02-22 | Curing agent and a cationic electrodeposition coating composition |
EP95102523A EP0668308A1 (en) | 1994-02-22 | 1995-02-22 | A curing agent and a cationic electrodeposition coating composition containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6049808A JPH07233240A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | 硬化剤およびカチオン電着塗料組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07233240A true JPH07233240A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12841439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6049808A Pending JPH07233240A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | 硬化剤およびカチオン電着塗料組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5569704A (ja) |
EP (1) | EP0668308A1 (ja) |
JP (1) | JPH07233240A (ja) |
KR (1) | KR950032523A (ja) |
CN (1) | CN1111271A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001019878A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-01-23 | Nippon Paint Co Ltd | 電着塗膜形成方法、カチオン電着塗料組成物および電着塗装物 |
JP2016160428A (ja) * | 2014-03-04 | 2016-09-05 | 三井化学株式会社 | ポリイソシアネート組成物、ポリウレタン樹脂および二液硬化型ポリウレタン組成物。 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7019102B2 (en) | 2004-06-18 | 2006-03-28 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Blocked polyurethane prepolymers useful in coating compositions |
WO2017117169A1 (en) | 2015-12-31 | 2017-07-06 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Low bake autodeposition coatings |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4605690A (en) * | 1985-04-15 | 1986-08-12 | Inmont Corporation | Low volatile organic content cathodic electrodeposition baths |
US4748200A (en) * | 1986-03-18 | 1988-05-31 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Thermosetting resins and electrodeposition coating compositions containing the same |
US5214086A (en) * | 1991-09-04 | 1993-05-25 | Basf Corporation | Coating compositions which may be ambient cured |
DE4130336A1 (de) * | 1991-09-12 | 1993-03-18 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von pulverlacken und ihre verwendung |
-
1994
- 1994-02-22 JP JP6049808A patent/JPH07233240A/ja active Pending
-
1995
- 1995-02-14 KR KR1019950002698A patent/KR950032523A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-02-22 US US08/392,171 patent/US5569704A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-02-22 CN CN95102199A patent/CN1111271A/zh active Pending
- 1995-02-22 EP EP95102523A patent/EP0668308A1/en not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001019878A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-01-23 | Nippon Paint Co Ltd | 電着塗膜形成方法、カチオン電着塗料組成物および電着塗装物 |
JP2016160428A (ja) * | 2014-03-04 | 2016-09-05 | 三井化学株式会社 | ポリイソシアネート組成物、ポリウレタン樹脂および二液硬化型ポリウレタン組成物。 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR950032523A (ko) | 1995-12-22 |
US5569704A (en) | 1996-10-29 |
CN1111271A (zh) | 1995-11-08 |
EP0668308A1 (en) | 1995-08-23 |
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