JPH07168006A

JPH07168006A - 反射防止膜、反射防止フィルムおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH07168006A
Application number: JP6251653A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Yamada; 泰山田; Natsuko Yamashita; 夏子山下; Hiroko Suzuki; 裕子鈴木; Norinaga Nakamura; 典永中村; Motohiro Oka; 素裕岡
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1993-09-24
Filing date: 1994-09-21
Publication date: 1995-07-04

Abstract

(57)【要約】【目的】最表面から透明基板に向けて、屈折率が段階
的に増加するよう変化した反射防止膜および反射防止フ
ィルムを提供する。【構成】透明基材フィルム上に、直接又は中間層を介
して、超微粒子層を形成する。この超微粒子層の形成に
は、バインダー樹脂を含まない超微粒子の分散液を塗布
してもよいし、また、超微粒子の表面を露出させるよう
な表面張力の弱いバインダー樹脂を有する超微粒子の分
散液を塗布してもよい。得られた塗膜は、その表面にバ
インダー樹脂の被膜の無い超微粒子が完全に露出し、空
気と超微粒子が混在している凹凸の最表層を形成する。
反射防止膜の層構成は、バインダー樹脂を用いた例で
は、この膜と接している空気層１、この膜の最表層であ
る超微粒子・空気混在層２、続いて超微粒子層３、続い
て最下層の超微粒子・バインダー混在層４からなり、屈
折率が表面から基板に向けて段階的に傾斜して増加して
いる。したがって、効果的に光の反射を防止することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カーブミラー、バック
ミラー、ゴーグル、窓ガラス、及びパソコン・ワープロ
等のディスプレイ、その他商業用ディスプレイ等の各種
表面における光の反射防止技術に関し、反射防止が必要
とされる基材に添着される反射防止膜自体、その反射防
止膜が透明基材フィルムに添着されることにより形成さ
れた反射防止フィルム、及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光の反射は屈折率が急変するような界面
で生じるため、逆に、界面において屈折率が除々に変化
すればその反射は生じなくなる。したがって、ガラス基
板に近い屈折率から徐々に空気に近い屈折率へ変化する
膜ができれば、有効な反射防止効果が得られることが従
来知られている。このような原理を基にした反射防止膜
には、例えば、特開平２−２４５７０２号公報に記載さ
れるものがあった。該公報には、このような反射防止膜
を得るために、ガラス基板とＭｇＦ₂との中間の屈折率
を持つ物質、例えばＳｉＯ₂（屈折率１．４６）の超微
粒子とＭｇＦ₂超微粒子を混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜表面に向かって除々にＳｉ
Ｏ₂超微粒子の混合比を減らし、且つＭｇＦ₂超微粒子
の混合比を増やすことにより、塗布面とガラス基板との
界面における屈折率変化がよりゆるやかとなり、反射防
止効果を得ることが示されている。

【０００３】また、特開平５−１３０２１号公報には、
ＭｇＦ₂又はＳｉＯ₂等の低屈折率を有する超微粒子を
用いた反射防止膜においては、この超微粒子が透明基板
上に高密度に規則正しく配列されたときに最も小さな反
射率が現れること、そして、透明基板上に形成される反
射防止膜の一層中の屈折率の異なる分布は、その最表面
から透明基板に向かって、空気側の超微粒子の屈折率、
超微粒子側の屈折率、超微粒子とバインダーで形成され
る層の屈折率の種類があることが示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開平２−２４５７０２号公報に記載されている反射防止
膜は、混合比の異なる塗布膜を積み重ねることによって
形成しており、その膜の形成が煩雑となり、またその屈
折率の異なる膜を調製する際に、屈折率のコントロール
も困難であった。

【０００５】また、前記特開平５−１３０２１号公報の
反射防止膜の最表層の超微粒子は、バインダー樹脂で覆
われているために、この反射防止膜の最表面から透明基
板に向けて、屈折率をゆるやかに増加させることは困難
であり、そのため有効な反射効果が得られないという問
題があった。さらにこの公報に記載の反射防止膜は、反
射防止層が焼き付けにより形成されており、適用する基
材が耐熱性のあるものに限定されるという問題があっ
た。

【０００６】そこで本発明は、１コートの反射防止膜に
おいて、適用する基材が耐熱性のある基材に限定され
ず、その最表面から透明基板に向けて、屈折率が段階的
に明確にゆるやかに増加するように変化した反射防止
膜、その反射防止膜を有する反射防止フィルムおよびそ
の製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために本発明は、超微粒子が完全に露出して凹凸状表
面となっている空気と超微粒子が混在した最表層の部
分、及び該最表層に続く超微粒子からなる部分から構成
された反射防止膜であり、且つ前記超微粒子の屈折率
は、その反射防止膜が適用される基材フィルムの屈折率
と同等若しくはそれよりも小さい屈折率を持ち、その反
射防止膜は、最表層から下部に向かって次第にその屈折
率が明確に増大していることを特徴とする反射防止膜と
するものである。

【０００８】また本発明は、超微粒子の表面が完全に露
出して実質的にバインダーの皮膜のない凹凸状表面とな
っている空気と超微粒子が混在した最表層の部分、該最
表層に続く主として超微粒子からなる部分、及び該主と
して超微粒子からなる部分に続く超微粒子とバインダー
からなる部分から構成された反射防止膜であり、且つ、
前記バインダーは、前記超微粒子の屈折率よりも大きい
屈折率を持ち、且つその反射防止膜が適用される基材フ
ィルムの屈折率よりも小さい屈折率を持ち、その反射防
止膜は、最表層から下部に向かって次第にその屈折率が
明確に増大していることを特徴とする反射防止膜とする
ものである。

【０００９】本発明の反射防止フィルムの製造方法は、
超微粒子の分散液を透明基材フィルム上に塗布すること
により、超微粒子による凹凸が最表層に形成された空気
と超微粒子が混在している部分と、該部分の下部には超
微粒子からなる部分を有する反射防止膜を形成すること
を特徴とする反射防止フィルムの製造方法とするもので
ある。

【００１０】また本発明の反射防止フィルムの製造方法
は、超微粒子が分散されたバインダーであって、該超微
粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つ該超微粒
子の表面を露出させるような表面張力の弱いバインダー
を、透明基材フィルム上に塗布することにより、超微粒
子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微
粒子が混在している最表層を形成することを特徴とする
反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法と
するものである。

【００１１】また本発明の反射防止フィルムの製造方法
は、透明基材フィルム上に樹脂を主成分とする中間層を
形成し、次いで前記中間層上に、超微粒子が分散された
バインダーであって該超微粒子の屈折率よりも大きい屈
折率を持ち且つ該超微粒子の表面を露出させるような表
面張力の弱いバインダーを塗布することにより、超微粒
子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微
粒子が混在している最表層を形成することを特徴とする
反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法と
するものである。基材フィルムと反射防止膜との間に中
間層を設けることによって、密着性及び強度を高めるこ
とができる。

【００１２】前記反射防止フィルムの製造方法におい
て、透明基材フィルムに中間層を半硬化状態に設け、次
いでこの半硬化状態の中間層上に、超微粒子が分散され
たバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大き
い屈折率を持ち、且つそのバインダーは超微粒子の表面
を露出させるような表面張力の弱いバインダーを塗布す
ることにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が
形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成
し、前記半硬化状態の中間層を完全硬化させることを特
徴とする反射防止膜の製造方法とするものである。この
ように中間層を半硬化させ、次いで完全硬化させること
により、反射防止膜を透明基材フィルムに充分に密着さ
せることができる。

【００１３】本発明の反射防止膜に含まれる超微粒子
は、塗膜中に１層で細密充填された状態となっており、
各超微粒子間は、最小限のバインダー量でピンポイント
で接することが好ましい。

【００１４】本発明において「完全に露出」とは、反射
防止膜の表面において超微粒子がバインダーに覆われて
いない状態をいう。

【００１５】図１は本発明の反射防止膜の断面を示して
いる。図１中、１は本発明の反射防止膜が接している空
気層、２は表面が空気中に露出している超微粒子と空気
が混在している超微粒子・空気混在層、３は実質的に超
微粒子のみからなる超微粒子層、４は超微粒子とバイン
ダーが混在している超微粒子・バインダー混在層であ
る。そしてこの反射防止膜は、反射を防止すべき基材に
添着されている。

【００１６】空気層１の屈折率は１であり、実質的に超
微粒子のみからなる超微粒子層３の屈折率はこの空気層
１の屈折率よりも高く、例えば、ＭｇＦ₂では１．３
８、ＳｉＯ₂では１．４６であるので、空気層１と超微
粒子層３の中間に位置する超微粒子・空気混在層２の屈
折率は、空気層１の屈折率と超微粒子層３の屈折率の間
に位置することになる。また、バインダーの屈折率は超
微粒子の屈折率よりも高く設定されているので、超微粒
子層３に続く超微粒子・バインダー混在層４の屈折率
は、超微粒子層３の屈折率よりも高くなる。この超微粒
子・バインダー混在層４が反射防止すべき基材と接合さ
れる側となる。

【００１７】したがって、本発明の反射防止膜の屈折率
は、空気層１、超微粒子・空気混在層２、超微粒子層
３、超微粒子・バインダー混在層４と段階的に増大して
おり、効果的に光の反射を防止することができる。

【００１８】本発明の反射防止膜においては、超微粒子
が露出している反射防止膜の最表層に、超微粒子の屈折
率よりも低い屈折率を有する膜をさらに形成してもよ
い。このような膜は、例えば、蒸着、プラズマＣＶＤ等
の気相法により形成することができる。

【００１９】本発明の反射防止膜に使用されるバインダ
ーは、超微粒子の表面を覆わずに露出させることのでき
るような表面張力の低い樹脂を使用しなければならな
い。具体的には、表面張力が１０〜３０ｄｙｎ／ｃｍ、
特に好ましくは１０〜２０ｄｙｎ／ｃｍのものが使用さ
れる。その理由は、この範囲を外れているとバインダー
が超微粒子の表面を覆ってしまい、前記したような反射
防止膜における屈折率の段階的にゆるやかな増加ができ
ず、有効な反射防止効果が得られないからである。

【００２０】このようなバインダーには、電離放射線硬
化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂が用いられ、例
えば、次のようなものが挙げられる。フッ素系樹脂、ア
クリル樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド
樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコン樹脂等の熱可塑性樹脂
または熱硬化性樹脂が用いられる。前記フッ素系樹脂に
は、例えば、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレ
ート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリ
レート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルア
クリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフル
オロデシルアクリレート、２、２、２−トリフルオロエ
チルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロ
プロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフ
ルオロペンチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２
Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、ポリ
（パーフルオロイソブチルアクリレート）、ポリ（ペン
タデカフルオロオクチルアクリレート）、ポリ（１−ク
ロロジフルオロメチル−テトラフルオロエチルアクリレ
ート）、ポリ（ヘプタフルオロブチルアクリレート）、
ポリ（１−トリフルオロメチル−テトラフルオロエチル
アクリレート）、ポリ〔２−（２−トリフルオロメチル
−テトラフルオロエトキシ）エチルアクリレート〕、ポ
リ〔５−（１−トリフルオロメチル−テトラフルオロエ
トキシ）ペンチルアクリレート〕、ポリ〔１１−（１−
トリフルオロメチル−テトラフルオロエトキシ）ウンデ
シルアクリレート〕、ポリ〔（１−トリフルオロメチ
ル）２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート〕、
ポリ（パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレー
ト）、ポリ（１−クロロジフルオロメチル−テトラフル
オロエチルメタクリレート）、ポリ（ペンタデカフルオ
ロオクチルメタクリレート）、ポリ（テトラフルオロプ
ロピルメタクリレート）、ポリ（１−トリフルオロメチ
ル−テトラフルオロエチルメタクリレート）、ポリ（１
−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチ
ルメタクリレート）、ポリ（ビニリデンクロライド）、
ポリ（ビニリデンフルオライド）、ポリ（スチレン−ｃ
ｏ−テトラフルオロプロピルメタクリレート）、ポリ
（オキシ−１−ペンタフルオロフェニル−１−トリフル
オロメチルトリフルオロエトキシメチルエチレン）、ポ
リ（オキシ−１−フェニル−１−トリフルオロメチルト
リフルオロエトキシメチルエチレン）、ポリ（オキシ−
３−トリフルオロメチルフェノキシメチルエチレン）、
ポリ〔オキシ−１−（３−トリフルオロメチル）フェニ
ル−１−トリフルオロメチルトリフルオロエトキシメチ
ルエチレン〕、ポリ〔（１−トリフルオロメチルテトラ
フルオロエトキシメチル）エチレン−ｃｏ−マレイック
アンヒドライド〕、ポリ〔１−（１−トリフルオロメチ
ルテトラフルオロエトキシメチル）−１−メチルエチレ
ン−ｃｏ−マレイックアンヒドライド〕が挙げられる。

【００２１】超微粒子の表面を覆わずに露出させるに適
量な、超微粒子とバインダーとの量比は、超微粒子／バ
インダー＝１０／０〜１／１（特に好ましくは４／１〜
２／１）とする。また、このようにバインダーと超微粒
子を混合することにより、超微粒子のバインダー中の分
散性が向上するので、超微粒子が均一分布した塗膜の形
成が可能となる。

【００２２】また、バインダーが全く無く超微粒子だけ
で塗布する場合は、超微粒子の分散液を塗布することに
より塗膜を形成する。この場合には、バインダーが存在
しないので、超微粒子相互がピンポイントで接した状態
の膜となり、その表面も超微粒子の並んだ凹凸となる。

【００２３】本発明において使用される低屈折率の超微
粒子には、ＭｇＦ₂（屈折率１．３８）、ＳｉＯ₂（屈
折率１．４６）、ＡｌＦ₃（屈折率１．３３〜１．３
９）、ＣａＦ₂（屈折率１．４４）、ＬｉＦ（屈折率
１．３６〜１．３７）、ＮａＦ（屈折率１．３２〜１．
３４）、ＴｈＦ₄（屈折率１．４５〜１．５）などの超
微粒子が挙げられる。これらの超微粒子の粒径は、１〜
１００ｎｍが好ましく、特に、ＭｇＦ₂では粒径１０ｎ
ｍ前後のものが好ましい。ＳｉＯ₂では粒径１０〜１０
０ｎｍが好ましい。

【００２４】このような粒径とする理由は、ＭｇＦ₂で
は、1 ｎｍ未満だと製造が困難でコストが高くつき、１
００ｎｍ以上だと濁度が増し、透明度が低下するからで
ある。また、ＳｉＯ₂では１０ｎｍ未満だと製造が困難
でコストが高くなり、密着性や分散安定性が低下し、１
００ｎｍ以上だと濁度が増し、透明度が低下するからで
ある。

【００２５】本発明の反射防止フィルムにおいて使用さ
れる高屈折率超微粒子には、例えば、ＺｎＯ（屈折率
１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．３〜２．７）、Ｃｅ
Ｏ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（屈折率１．７
１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ₂Ｏ₃
（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率１．９５）、
ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率１．
６３）等が挙げられる。これらの高屈折率超微粒子のう
ち、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂等を用いることによ
り、本発明の反射防止フィルムにＵＶ遮蔽効果がさらに
付与されるので好ましい。また、アンチモンがドープさ
れたＳｎＯ₂或いはＩＴＯを用いることにより、電子伝
導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防止、
或いは本発明の反射防止フィルムをＣＲＴに用いた場合
の電磁波シールド効果が得られるので好ましい。高屈折
率超微粒子の粒径は、ハードコート層を透明とするため
には４００ｎｍ以下であることが好ましい。

【００２６】前記の高屈折率超微粒子が反射防止膜に使
用される場合には、その高屈折率超微粒子の含有層のさ
らにその上に、その高屈折率超微粒子を含有する層の屈
折率よりも低い屈折率の層を形成することによって、反
射防止効果を上げることが必要である。

【００２７】低屈折率層の形成に使用される低屈折率材
料は上記条件を満足するものであればどのような材料で
もよく、無機材料、有機材料が使用できる。

【００２８】低屈折率無機材料としては、例えば、Ｌｉ
Ｆ（屈折率１．４）、ＭｇＦ₂（屈折率１．４）、３Ｎ
ａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率
１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（氷晶石、屈折率１．３
８）、ＳｉＯ_x（ｘ：１．５０≦ｘ≦２．００）（屈折
率１．３５〜１．４８）等の無機材料が使用される。

【００２９】低屈折率無機材料で形成される膜は、硬度
が高く、特にプラズマＣＶＤ法で、ＳｉＯ_x（ｘは１．
５０≦ｘ≦４．００、望ましくは１．７０≦ｘ≦２．２
０）の膜を形成したものは硬度が良好であり、且つハー
ドコート層との密着性に優れ、透明基材フィルムの熱ダ
メージを他の気相法に比べて低減できるので好ましい。

【００３０】低屈折率有機材料には、フッ素原子の導入
されたポリマー等の有機物がその屈折率が１．４５以下
と低い点から好ましい。溶剤が使用できる樹脂としてそ
の取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン
（屈折率１．４０）が挙げられる。低屈折率有機材料と
してこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合には、低屈
折率層の屈折率はほぼ１．４０程度となるが、さらに低
屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフルオロエチ
ルアクリレート（屈折率１．３２）のような低屈折率ア
クリレートを１０重量部から３００重量部、好ましくは
１００重量部から２００重量部添加してもよい。

【００３１】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十
分ではないので、さらに多官能アクリレート、例えば、
電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加
することが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加
量が多いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観
点からはその添加量は少ない方がよく、１〜５０重量
部、好ましくは５〜２０重量部添加することが推奨され
る。

【００３２】低屈折率層の形成方法は、高屈折率微粒子
の含有層上に、さらに低屈折率の無機質材料で蒸着、ス
パッタリング、イオンプレーティング、プラズマＣＶＤ
等の気相法により皮膜を単層又は多層形成するか、或い
は、低屈折率の無機質材料を含有させた低屈折率樹脂組
成物又は低屈折率の無機質材料を塗布し、単層又は多層
の塗膜を形成して行うことができる。

【００３３】本発明の反射防止膜は、前記の超微粒子と
バインダーの混合物に分散媒として有機溶剤を混合する
ことにより反射防止膜形成用塗布液を調製し、この塗布
液を塗布することにより形成する。このような有機溶剤
には、例えば、アルコール、ケトン、エステル、ハロゲ
ン化炭化水素、エーテルなどがあり、特にメチルアルコ
ール、エチルアルコール、ブチルアルコール、ｎ−プロ
ピルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコ
ールが好適に用いられる。

【００３４】本発明において使用される超微粒子はその
表面が改質処理されていてもよい。この改質処理によ
り、各種溶剤、バインダーへの分散性の向上をはかり、
また層間での密着性を改善する。このような目的のため
の表面改質方法には、カップリング剤による処理、Ｓｉ
Ｏ₂でのコーティング、樹脂でのコーティング、ポリマ
ー鎖又はオリゴマー鎖のグラフト処理、ＳｉＯ₂でのコ
ーティングとポリマー鎖のグラフト処理の組合せ、微粒
子分散液中でのモノマー重合によるハイブリッド化、ハ
イブリダーゼによる表面改質（固相反応）等が挙げられ
る。

【００３５】本発明におるけ超微粒子とバインダーとの
混合物にさらに、超微粒子の粒径よりも小さい粒径を有
する機能性超微粒子を添加してもよい。この機能性超微
粒子には、導電性超微粒子等が挙げられる。反射防止の
ための超微粒子とこの機能性超微粒子との混合比は１／
９〜９／１とすることが好ましく、特に好ましくは３／
７〜７／３とする。

【００３６】本発明の反射防止膜が適用される基材は、
材質として樹脂、ガラス、金属、セラミックス等が適用
でき、フィルム、シート、板又は３次元構造体に適用で
きる。樹脂基材として、トリアセチルセルロース、ジア
セチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、
ポリエーテルサルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリス
ルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエー
テルケトン、（メタ）アクリロニトリル等が挙げられ
る。超微粒子が低屈折率を有するＭｇＦ₂である場合に
は、基材は、特に、偏光素子の保護フィルムであるトリ
アセチルセルロースフィルムが屈折率が１．５以下であ
るので好適に適用できる。また超微粒子が比較的低屈折
率を有するＳｉＯ₂である場合には、基材は、その屈折
率が１．６近辺のポリエチレンテレフタレート、アクリ
ル等に適用できる。

【００３７】本発明における反射防止膜を形成するため
の塗布液は、カーテンフローコート、浸漬塗装、スピン
コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティ
ング等の塗装法によって、各種基板に塗装されることに
よって反射防止膜の塗膜が形成される。

【００３８】本発明の反射防止膜は、中間層を介して透
明基材フィルムに添着されて反射防止フィルムを構成し
てもよい。この中間層には各種機能性、例えば、ハード
コート層、帯電防止層、防湿層等を付与したものとする
ことができる。

【００３９】前記中間層をハードコート層とする場合に
は、そのハードコート層を形成する樹脂には、主として
紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放
射線硬化型樹脂の単独、電離放射線硬化型樹脂に粘着
性を有する樹脂を混合したもの、電離放射線硬化型樹
脂に熱硬化型樹脂を混合したもの、固相反応型電離放
射線硬化型樹脂が使用される。

【００４０】電離放射線硬化型樹脂：前記ハードコー
ト層を形成する樹脂〜に使用される電離放射線硬化
型樹脂には、好ましくは、アクリレート系の官能基を有
するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹
脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹
脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、
多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレー
ト等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈
剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ
−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モ
ノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６
−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペン
チルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量
に含有するものが使用できる。

【００４１】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫
外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤とし
て、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン
類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いる
ことができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレ
タンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。

【００４２】粘着性を有する樹脂：前記の電離放射
線硬化型樹脂に混合される粘着性を有する樹脂には、電
離放射線硬化型樹脂に粘性を付与するものであり、粘着
剤と電離放射線硬化型樹脂との混合物から形成するのが
好ましいが、電離放射線硬化型樹脂が未架橋状態で液状
ではなく且つ粘着性を有していればそのまま使用するこ
とができる。特に、塗膜の硬度を高く保つためにはポリ
メチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等の
熱可塑性樹脂が好適に使用できる。

【００４３】その他の樹脂には、従来公知の粘着テープ
や粘着シールに使用されているものでもよく、例えば、
ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレン
ブタジエンゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム等の
ゴム系樹脂、（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリ
ビニルエーテル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩
化ビニル／酢酸ビニル共重合系樹脂、ポリスチレン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩素化オレフィン系樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂等に適当な粘着付与剤、例え
ば、ロジン、ダンマル、重合ロジン、部分水添ロジン、
エステルロジン、ポリテルプン系樹脂、テルペン変性
体、石油系樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、フェノー
ル系樹脂、クマロン−インデン系樹脂を適宜添加し、さ
らに必要に応じて軟化剤、充填剤、老化防止剤等を添加
したものである。

【００４４】電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹
脂を混合する目的は、塗膜を半硬化させ、且つ粘着性を
付与するためである。電離放射線硬化型樹脂に対する粘
着性を有する樹脂の混合割合は、電離放射線硬化型樹脂
が１００重量部に対して、５０重量部以下とすること
が、塗膜の半硬化の目的のためには好ましい。

【００４５】熱硬化型樹脂：前記の電離放射線硬化
型樹脂に混合される熱硬化型樹脂には、フェノール樹
脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹
脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹
脂、メラミン／尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキ
サン樹脂等があり、必要に応じて、添加剤として、架橋
剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調
整剤、体質顔料等を添加する。前記硬化剤として通常、
イソシアネートは不飽和ポリエステル系樹脂又はポリウ
レタン系樹脂に、メチルエチルケトンパーオキサイド等
の過酸化物及びアゾビスイソブチロニトリル等のラジカ
ル開始剤が不飽和ポリエステル系樹脂によく使用され
る。さらに、硬化剤としてのイソシアネートは、２価以
上の脂肪族又は芳香族イソシアネートが使用できる。

【００４６】固相反応型電離放射線硬化型樹脂：前記
の固相反応型電離放射線硬化型樹脂は、未架橋の状態
では常温で固体であり、かつ熱可塑性、溶剤溶解性を有
していながら、塗装、及び乾燥によって見かけ上、又は
手で触ったときにも非流動性（指触乾燥性）であり、か
つ非粘着性である塗膜を与える電離放射線硬化型樹脂を
主成分とするものである。具体的には、例えば、下記の
（イ）、（ロ）の２種類の樹脂が例示される。また、特
開平１−２０２４９２号公報にも同様な樹脂が開示され
ている。さらに、下記の（イ）及び（ロ）に示す樹脂を
混合して用いることもでき、また、それに対してラジカ
ル重合性不飽和単量体を加えて使用することもできる。
これらの樹脂には通常の電離放射線硬化型樹脂に用いら
れる反応性希釈剤、増感剤等が添加される。また、樹脂
硬化物に可撓性を付与するために非架橋性の熱可塑性樹
脂を添加してもよい。

【００４７】（イ）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポ
リマー中にラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。

【００４８】具体的には次に列挙した単量体を重合又は
共重合させたものに対し、後述するａ）〜ｄ）の方法に
よりラジカル共重合性不飽和基を導入した樹脂である。

【００４９】水酸基を有する単量体：例えば、Ｎ−メ
チロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト等がある。

【００５０】カルボキシル基を有する単量体：例え
ば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシ
エチルモノサクシネート等がある。

【００５１】エポキシ基を有する単量体：例えば、グ
リシジル（メタ）アクリレート等がある。

【００５２】アジリジニル基を有する単量体：２−ア
ジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジリジ
ニルプロピオン酸アリル等がある。

【００５３】アミノ基を有する単量体：（メタ）アク
リルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート等がある。

【００５４】スルフォン基を有する単量体：２−（メ
タ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸
等がある。

【００５５】イソシアネート基を有する単量体：２，
４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレートの１モル対１モルの付加物などの
ジイソシアネートと活性水素を有するラジカル共重合体
の付加物等がある。

【００５６】さらに，共重合体のガラス転移温度を調節
したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記に
列挙した各単量体と次に示す化合物を共重合させること
ができる。このような共重合可能な単量体としては、例
えば、メチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）
アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチ
ル（メタ）アクリレート、ｇｔ−ブチル（メタ）アクリ
レート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキ
シル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。

【００５７】上記の各単量体を重合、もしくは共重合さ
せたものに対して、次のａ）〜ｄ）の方法により、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線硬
化型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹
脂が得られる。

【００５８】ａ）水酸基を有する単量体の重合体または
共重合体の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。

【００５９】ｂ）カルボキシル基、スルフォン基を有す
る単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸
基を有する単量体を縮合反応させる。

【００６０】ｃ）エポキシ基、イソシアネート基又はア
ジリジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場
合には、前述の水酸基を有する単量体又はカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。

【００６１】ｄ）水酸基又はカルボキシル基を有する単
量体の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有
する単量体又はアジリジニル基を有する単量体又はジイ
ソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単
量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させる。

【００６２】上記反応を行なうには、微量のハイドロキ
ノンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行
なうことが望ましい。

【００６３】（ロ）融点が常温（２０℃）〜２５０℃で
あり、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。

【００６４】具体的には、ステアリルアクリレート、ス
テアリル（メタ）アクリレート、トリアクリルイソシア
ネート、シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト、スピログリコールジアクリレート、スピログリコー
ル（メタ）アクリレート等がある。

【００６５】本発明におけるハードコート層に使用され
る電離放射線硬化型樹脂の屈折率は、一般に約１．５程
度で、ガラスと同程度であるが、超微粒子の屈折率より
も高く、かつ透明基材フィルムの屈折率よりも高くする
ことにより、反射防止効果を高め、ハードコート層と他
の層との界面の反射を防ぐことができる。ハードコート
層の屈折率を高める方法には、高屈折率を持つバインダ
ー樹脂をハードコート層に使用するか、ハードコート層
の屈折率よりも高い屈折率を持つ、例えば前記したよう
な、高屈折率超微粒子をハードコート層に添加するか、
或いはこれらの方法を併用する。

【００６６】前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、
芳香環を含む樹脂、Ｆ以外のハロゲン化元素、例え
ば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原
子を含む樹脂等が挙げられ、これらの少なくとも一つの
条件を満足する樹脂が高屈折率となるために望ましい。

【００６７】前記の樹脂の例には、ポリスチレン等の
スチロール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ビニルカルバゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネ
ート等が挙げられる。

【００６８】前記の樹脂の例には、ポリ塩化ビニル、
ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル
等が挙げられる。

【００６９】前記の樹脂の例には、ポリビスフェノー
ルＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が挙げ
られる。

【００７０】前記したような高屈折率の超微粒子をハー
ドコート層に添加する場合、その超微粒子の添加量は、
用いる樹脂の屈折率及び用いる超微粒子の屈折率によっ
て大幅に異なる。例えば、樹脂１００重量部に対して通
常３０〜５００重量部程度である。この場合、あまり多
く超微粒子を添加すると、塗膜の透明性及び強度が低下
するので、これらの点を考慮する必要がある。

【００７１】中間層塗膜の硬化方法：本発明は、基材
上に塗布された中間層を指触乾燥又はハーフキュア等の
半硬化状態とすることにより半硬化層を形成し、その上
に反射防止膜を形成する。本発明において中間層を半硬
化させる理由は、完全に硬化させた中間層上に反射防止
膜を形成しても、その層間の密着性が悪く、剥離等の欠
陥が生じてしまうのに対して、中間層が指触乾燥又はハ
ーフキュアの半硬化状態において、反射防止膜を形成
し、その後、中間層を完全硬化させると、両塗膜の密着
性が良くなるからである。

【００７２】本発明で半硬化状態とは用いる樹脂の種類
によって次のように分類される。

【００７３】（１）溶剤乾燥型半硬化ａ．溶剤乾燥型半硬化通常の電離放射線硬化型樹脂に、溶剤を加えたものを塗
布し、溶剤を乾燥させることによって形成される塗膜の
半硬化の状態で、且つ電離放射線硬化型樹脂が硬化反応
を完了していない状態をいう。

【００７４】前記組成のみでは十分な粘度が保てないの
で、溶剤乾燥型熱可塑性樹脂を加えて塗布に適した粘度
に調整する。この樹脂組成物を用いて塗膜を形成した場
合には、溶剤が乾燥時に離脱放散され、塗膜は半硬化状
態となる。

【００７５】電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥
型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用され
るが、特に、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメ
タクリレートを使用する場合、塗膜の硬度を高く保つこ
とができる。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化
型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、
透明性において有利である。また、溶剤乾燥型熱可塑性
樹脂の別の例としてセルロース系ポリマーを電離放射線
硬化型樹脂に加えると、透明樹脂基材としてトリアセチ
ルセルロースを使用した場合、トリアセチルセルロース
の非溶解の溶剤であるトルエンを用いて透明樹脂基材に
塗布を行なっても、透明樹脂基材と塗膜樹脂との密着性
を良好にすることができる。しかもトルエンは透明樹脂
基材としてのトリアセチルセルロースを溶解しない性質
であるので、透明樹脂基材を白化させない。

【００７６】この樹脂組成物の配合割合は、電離放射線
硬化型樹脂１００重量部に対して熱可塑性樹脂の添加量
が５０重量部以下である。熱可塑性樹脂の添加量がこれ
以上になると上層塗膜の硬度を高く保つことはできず、
耐擦傷性が劣ってくる。

【００７７】ｂ．固相反応型電離放射線硬化型半硬化この半硬化とは、前記固相反応型電離放射線硬化型樹脂
による半硬化の状態であり、未架橋状態において常温で
固体であり、且つ、熱可塑性及び溶剤溶解性を有し、塗
装及び乾燥によって見かけ上、あるいは、手で触ったと
きにも非流動性及び非粘着性であり、電離放射線硬化型
樹脂が硬化反応を完了していない状態をいう。

【００７８】（２）ハーフキュア型半硬化ａ．電離放射線硬化型樹脂半架橋型半硬化前記ハードコート層の項ので示した通常の電離放射線
硬化型樹脂を用いて塗布し、塗膜に紫外線又は電子線等
の電離放射線の照射条件を調整して半架橋を行なうこと
により形成される半硬化の状態をいう。

【００７９】ｂ．電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂
ブレンド型半硬化前記ハードコート層の項ので示した電離放射線硬化型
樹脂に熱硬化型樹脂を混合して樹脂組成物を塗布し、塗
膜に熱を加えることにより形成される半硬化の状態をい
う。

【００８０】この樹脂組成物の配合割合は、電離放射線
硬化型樹脂１００重量部に対して熱硬化型樹脂の添加量
が５０重量部以下である。その理由は熱硬化型樹脂の添
加量がこれ以上になると、塗膜の硬度が低下するからで
ある。

【００８１】ｃ．溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合半硬
化前記（１）の溶剤乾燥型半硬化の状態にさらに電離放射
線を照射して半硬化状態とする状態をいう。この半硬化
の状態は、特開平１−２０２４９号公報に説明されてい
る半硬化状態と同じである。

【００８２】完全硬化工程：本発明における中間層を形
成する塗膜の完全硬化は、電離放射線の照射によって行
なう。反射防止膜が中間層上に形成される段階では、中
間層の塗膜中の電離放射線硬化型樹脂は未架橋成分を含
んでいるので、電離放射線を照射することによって、塗
膜を完全硬化させる。

【００８３】照射装置：本発明で使用される電離放射線
硬化型樹脂の硬化方法は通常の電離放射線硬化型樹脂の
硬化方法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬
化することができる。例えば、電子線硬化の場合にはコ
ックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、
絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波
型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００
ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギー
を有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超
高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアー
ク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線か
ら発する紫外線等が利用できる。

【００８４】他の層：本発明の反射防止フィルムには、
上記に説明した各層の他に、各種機能性を付与するため
の層をさらに付加して設けることができる。例えば、透
明基材フィルムとの接着性を向上させる等の理由で、透
明基材フィルム上にプライマー層や或いは接着剤層を設
けたり、また、ハード性能向上のためにハードコート層
を複数層設けてもよい。上記のように透明基材フィルム
とハードコート層の中間に設けられるその他の層の屈折
率は、透明基材フィルムの屈折率とハードコート層の屈
折率との中間の値とすることが好ましい。

【００８５】他の層の形成方法は、上記のように透明基
材フィルム上に直接又は間接的に塗布して形成してもよ
く、また透明基材フィルム上にハードコート層を転写に
より形成する場合には、予め転写フィルム上に形成した
ハードコート層上に、他の層を塗布して形成し、その
後、透明基材フィルムに転写してもよい。

【００８６】本発明の反射防止フィルムの下面には、粘
着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは
反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用
いることができる。

【００８７】偏光板及び液晶表示装置：偏光素子に本発
明の反射防止フィルムをラミネートすることによって、
反射防止性の改善された偏光板とすることができる。こ
の偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸し
てなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホル
マールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等の透明基
材フィルムを用いることができる。この透明基材フィル
ムと偏光素子のラミネート処理にあたって、接着性を増
すため及び静電防止のために、透明基材フィルムが例え
ば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、
トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行う。
このケン化処理はトリアセチルセルロースフィルムにハ
ードコートを施す前または後のどちらでもよい。

【００８８】図２に本発明の反射防止フィルムが使用さ
れた偏光板の一例を示す。図２中、１０は本発明の反射
防止フィルムであり、反射防止膜５、ハードコート層等
の中間層６、透明基材フィルム（例えば、トリアセチル
セルロースフィルム）７から構成される。該反射防止フ
ィルム１０が偏光素子８上にラミネートされており、一
方、偏光素子８の他面には透明基材フィルム７がラミネ
ートされている。また、偏光素子８の両面に本発明の反
射防止フィルム１０がラミネートされてもよい。

【００８９】図３に本発明の反射防止フィルム１０が使
用された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子９上
に、図２に示した偏光板、即ち、透明基材フィルム７／
偏光素子８／反射防止フィルム１０（透明基材フィルム
７／中間層６／反射防止膜５）からなる層構成の偏光板
がラミネートされており、また液晶表示素子９の他方の
面には、透明基材フィルム７／偏光素子８／透明基材フ
ィルム７からなる層構成の偏光板がラミネートされてい
る。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子
９と偏光板との間に、位相差板が挿入される。

【００９０】

【実施例】

〔実施例１〕ポリエステルアクリレートとポリウレタン
アクリレートの混合物からなる電離放射線硬化型樹脂
（ＥＸＧ：商品名：大日精化製）１００重量部に対し
て、熱可塑性樹脂としてポリメタクリル酸メタクリレー
トを５０重量部添加して塗料組成物を調製した。この下
層塗膜用塗料を厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース
フィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商品名：富士写真フイル
ム（株）製）の表面に膜厚７μｍ（乾燥時）となるよう
にバーコーターを用いて塗布した。その上にテトラフル
オロアクリレート（ビスコート４Ｆ：商品名：大阪有機
化学製）１００重量部に対してフッ化マグネシウムゾル
（ＭＦＳ−１０Ｐ：商品名：日産化学工業製）を５０重
量部添加して調製した塗料組成物をイソプロパノールで
希釈した後、膜厚０．１２μｍ（乾燥時）となるように
バーコーターを用いて塗工した。塗膜を乾燥して溶剤を
離脱させ、さらに１７５ＫｅＶで加速した電子線を５Ｍ
ｒａｄのエネルギーで照射することにより、上層塗膜と
下層塗膜を同時に完全に硬化させた。

【００９１】本実施例１で得られた反射防止膜は波長３
５０〜７００ｎｍの光線で、約４％透過率が向上し、反
射が減少した。

【００９２】〔実施例２〕ポリエステルアクリレートと
ポリウレタンアクリレートの混合物からなる電離放射線
硬化型樹脂（ＥＸＧ：商品名：大日精化製）１００重量
部に対して、熱可塑性樹脂としてポリメタクリル酸メタ
クリレートを５０重量部添加して塗料組成物を調製し
た。この下層塗膜用塗料を厚さ１００μｍのポリエステ
ルフィルム（ＨＰ−７：商品名：帝人製）の表面に膜厚
１０μｍ（乾燥時）となるようにバーコーターを用いて
塗布した。その上にテトラフルオロアクリレート（ビス
コート４Ｆ：商品名：大阪有機化学製）２０重量部に対
してコロイダルシリカ（スノーテックス：商品名：日産
化学工業製）を１００重量部添加して調製した塗料組成
物をメチルエチルケトンで希釈した後、膜厚０．１２μ
ｍ（乾燥時）となるようにバーコーターを用いて塗工し
た。塗膜を乾燥して溶剤を離脱させ、さらに１７５Ｋｅ
Ｖで加速した電子線を５Ｍｒａｄのエネルギーで照射す
ることにより、上層塗膜と下層塗膜を同時に完全に硬化
させた。

【００９３】本実施例２で得られた反射防止膜は波長３
５０〜７００ｎｍの光線で、約６％透過率が向上し、反
射が減少した。

【００９４】

【発明の効果】本発明の反射防止膜は、その最表面から
その反射防止膜が貼着される基材へ向かって、その屈折
率が段階的に傾斜的にゆるやかに増加しているので、外
部からの光の反射を効果的に防止することができる。

【００９５】本発明の反射防止膜を形成する反射防止フ
ィルムの製造方法は、１コートの処理でその最表面から
その反射防止膜が貼着される基材へ向かって反射防止膜
の屈折率を段階的に傾斜的にゆるやかに増加させること
ができるので、簡単な製造方法で効果的な反射防止膜お
よび反射防止フィルムを製造することができる。

【００９６】本発明の反射防止膜は、半硬化状態の中間
層上に形成され、さらにこの中間層が完全硬化されるの
で、基材と密着性が充分である。また、中間層をハード
コート層とすることができるので、耐久性のある反射防
止膜が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止膜の断面図である。

【図２】本発明の反射防止フィルムが使用された偏光板
の一例を示す。

【図３】本発明の反射防止フィルムが使用された液晶表
示装置の一例を示す。

【符号の説明】

１空気層２超微粒子・空気混在層３超微粒子層４超微粒子・バインダー混在層５反射防止膜６中間層７透明基材フィルム８偏光素子９液晶表示素子１０反射防止フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ３２Ｂ 27/00 Ｎ 8413−4Ｆ (72)発明者中村典永東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者岡素裕東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）超微粒子が完全に露出して凹凸状
表面となっている空気と超微粒子が混在した最表層の部
分、及び該最表層に続く超微粒子からなる部分から構成
された反射防止膜であり、且つ、（２）前記超微粒子の屈折率は、その反射防止膜が適用
される基材フィルムの屈折率と同等若しくはそれよりも
小さい屈折率を持ち、（３）その反射防止膜は、最表層から下部に向かって次
第にその屈折率が明確に増大していることを特徴とする
反射防止膜。
【請求項２】（１）超微粒子の表面が完全に露出して
実質的にバインダーの皮膜のない凹凸状表面となってい
る空気と超微粒子が混在した最表層の部分、該最表層に
続く主として超微粒子からなる部分、及び該主として超
微粒子からなる部分に続く超微粒子とバインダーからな
る部分から構成された反射防止膜であり、且つ、（２）前記バインダーは、前記超微粒子の屈折率よりも
大きい屈折率を持ち、且つその反射防止膜が適用される
基材フィルムの屈折率よりも小さい屈折率を持ち、（３）その反射防止膜は、最表層から下部に向かって次
第にその屈折率が明確に増大していることを特徴とする
反射防止膜。
【請求項３】請求項１又は２記載の反射防止膜の最表
層上に、超微粒子の屈折率よりも低い屈折率を持つ膜を
形成することを特徴とする反射防止膜。
【請求項４】前記超微粒子の屈折率よりも低い屈折率
を持つ膜は、気相法により形成されたものである請求項
３記載の反射防止膜。
【請求項５】前記バインダーは超微粒子の表面を完全
に露出させる程度の表面張力の低いバインダーである請
求項２、３又は４記載の反射防止膜。
【請求項６】前記バインダーがフッ素系樹脂である請
求項５記載の反射防止膜。
【請求項７】前記超微粒子は、無機材料である請求項
１、２、３、４、５又は６記載の反射防止膜。
【請求項８】前記超微粒子は、ＭｇＦ₂である請求項
７記載の反射防止膜。
【請求項９】前記超微粒子は、ＳｉＯ₂である請求項
７記載の反射防止膜。
【請求項１０】前記超微粒子は、表面が改質処理され
たものである請求項１、２、３、４、５、６、７、８又
は９記載の反射防止膜。
【請求項１１】請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９又は１０記載の反射防止膜が透明基材フィルムに
積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１２】請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９又は１０記載の反射防止膜が、中間層を介して透
明基材フィルムに積層されていることを特徴とする反射
防止フィルム。
【請求項１３】前記中間層がハードコート層である請
求項１２記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】請求項１１、１２又は１３記載の反射
防止フィルムにおいて、透明基材フィルムの、反射防止
膜が形成されている側に、接着剤層、プライマー層及び
／又はハードコート層からなる他の層が形成されている
ことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１５】請求項１１、１２、１３又は１４記載
の反射防止フィルムの裏面に粘着剤層が形成されている
ことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１６】超微粒子の分散液を透明基材フィルム
上に塗布することにより、超微粒子による凹凸が最表層
に形成された空気と超微粒子が混在している部分と、該
部分の下部には超微粒子からなる部分を有する反射防止
膜を形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。
【請求項１７】超微粒子が分散されたバインダーであ
って、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、
且つ該超微粒子の表面を完全に露出させるような表面張
力の弱いバインダーを、透明基材フィルム上に塗布する
ことにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形
成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成す
ることを特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フ
ィルムの製造方法。
【請求項１８】（１）透明基材フィルム上に樹脂を主
成分とする中間層を形成し、（２）前記中間層上に、超微粒子が分散されたバインダ
ーであって、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を
持ち、且つ該超微粒子の表面を露出させるような表面張
力の弱いバインダーを塗布することにより、超微粒子の
表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子
が混在している最表層を形成することを特徴とする反射
防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１９】（１）透明基材フィルム上に樹脂を主
成分とする中間層を半硬化状態に設け、（２）前記半硬化状態の中間層上に、超微粒子が分散さ
れたバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大
きい屈折率を持ち、且つ該超微粒子の表面を露出させる
ような表面張力の弱いバインダーを塗布することによ
り、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された
空気と超微粒子が混在している最表層を形成し、（３）前記半硬化状態の中間層を完全硬化させることを
特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フィルムの
製造方法。
【請求項２０】中間層が、ハードコート層である請求
項１８又は１９記載の反射防止膜が形成された反射防止
フィルムの製造方法。