JPH07130011A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 アルミニウムを主成分とする金属反射膜の耐
食性の向上を図ることにより、耐久性に優れた光ディス
クを製造する方法を提供すること 【構成】 透明樹脂からなるディスク基板とこの基板表
面に形成された金属反射膜からなり、記録された情報を
光学式に読取られる光ディスクの製造方法であって、こ
のディスク基板表面上に、アルミニウムを主成分とする
金属反射膜を、真空度０．８×１０^-5〜３×１０^-5Ｔｏ
ｒｒ、蒸着速度８オングストローム／秒以上１７オング
ストローム／秒以下で蒸着して、このディスク基板と金
属反射膜との界面から生じる金属反射膜の腐食を抑えて
耐食性・耐久性及び光学特性に優れた光ディスクを製造
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオディスク、コン
パクトディスク等の光学式により情報を読み取る方式の
情報記録媒体、光ディスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、コンパクトディスク、ビ
デオディスクをはじめ非常に普及している情報記録媒体
である。これは、透明基板上に金属反射膜が形成された
構成になっている。透明基板の材質としては、ガラス、
透明熱可塑性樹脂が用いられるが、量産性の点から後者
が有利であり、低複屈折率が必要な用途にはアクリル樹
脂が使われている。一方、金属反射膜としてはアルミニ
ウム及びアルミ合金などが広く用いられており、それは
優れた光学特性を有し、かつ安価であることによる。

【０００３】従来、光ディスクの製造方法としては、ア
クリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などのディスク基板
の表面に、スタンパ等により情報信号ビットを形成し、
この表面に高真空度の下に、所定の蒸着速度で、アルミ
ニウムなどの金属反射膜を形成して得る方法がある。通
常、更に、この金属反射膜上に保護膜をコートする。レ
ーザーディスクでは、この面に接着剤を塗布して基板を
２枚重ねて接着して使用される。従来の光ディスクの製
造方法における蒸着条件としては、１０^-5Ｔｏｒｒの高
真空かつ２０オングストローム／秒以上の蒸着速度が知
られている。これに対して、上記蒸着条件では、経時変
化によって金属反射膜が基板から剥離してフクレが生じ
てカラーフラッシュや読取り不良を起こすとして、蒸着
速度を１５オングスローム／秒以下に設定し、真空度は
１０^-4Ｔｏｒｒ台が望ましいとする蒸着条件が提案され
ている（特公平３−７９７７５号公報）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
２０オングストローム／秒以上の早い蒸着速度、また、
１０^-5Ｔｏｒｒ台の高真空度で蒸着した場合、そのアル
ミニウム薄膜は、活性が高く腐食し易いという性質を有
していることから、アルミニウムを主成分とする反射膜
を有する光ディスクでは、経時変化により、樹脂基板と
の界面からアルミニウム薄膜の腐食が発生しやすいとい
う不都合がある。この腐食は、スポット状に生じること
が多く、これは一般に孔食と呼ばれている。孔食の発生
した光ディスクを再生すると、読み取りエラーが多発
し、特にビデオディスクのようなアナログ信号で影響が
大きく、その場合再生画像にノイズが現れる。

【０００５】この発明は、上述の背景に基づいてなされ
たものであり、その目的とするところは、アルミニウム
を主成分とする金属反射膜の耐食性の向上を図ることに
より、耐久性に優れた光ディスクを製造する方法を提供
することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に鋭意検討した結果、金属反射膜の性能は、主に蒸着速
度及び真空度の蒸着条件と相関性のあることを見い出
し、これら蒸着条件を特定の範囲とすることにより、耐
久性及び光学特性に優れた光ディスクが得られることが
判明した。

【０００７】本発明による光ディスクの製造方法は、透
明樹脂からなるディスク基板とこの基板表面に形成され
た金属反射膜からなり、記録された情報を光学式に読取
られる光ディスクの製造方法であって、このディスク基
板表面上に、アルミニウムを主成分とする金属反射膜
を、真空度０．８×１０^-5〜３×１０^-5Ｔｏｒｒ、蒸着
速度８オングストローム／秒以上１７オングストローム
／秒以下で蒸着して、このディスク基板と金属反射膜と
の界面から生じる金属反射膜の腐食を抑えて耐食性・耐
久性及び光学特性に優れた光ディスクを製造することを
特徴とするものである。

【０００８】この発明の光ディスクの製造方法に使用さ
れるディスク基板は、透明樹脂からなり、例えば、アク
リル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの熱可塑性樹脂、
必要に応じて、他のモノマーとの共重合体、その他のポ
リマーとの組成物などから成形することもできる。な
お、必要に応じて、離型剤、可塑剤など添加剤を含有さ
せることができ、また、樹脂基板表面に種々の表面処理
を施してもよい。

【０００９】この発明の光ディスクの製造方法における
金属反射膜は、アルミニウムを主成分とするものであ
り、アルミニウムのほか、アルミニウム合金などからな
る。アルミニウムを主成分とする金属反射膜の膜厚は、
光ディスクの性能、用途などに応じて適宜変更・選択す
ることができ、例えば、１００〜数千オングストローム
である。

【００１０】この発明の光ディスクの製造方法における
蒸着条件の真空度は、０．８×１０^-5〜３×１０^-5Ｔｏ
ｒｒ、好ましくは、１．０×１０^-5〜２．５×１０^-5Ｔ
ｏｒｒである。これは、上記上限値を超えて低真空下で
蒸着した場合には、金属反射膜が黒ずんで外観上不良な
光ディスクとなり、他方、上述の下限値未満の高真空下
で蒸着した場合には、経時変化によりディスク基板との
界面から、アルミニウム薄膜の腐食、孔食が発生しやす
くなり、その結果、読み取りエラーが多発し、再生画像
にノイズが現れるようになるからである。

【００１１】この発明の光ディスクの製造方法における
蒸着条件の蒸着速度は、８オングストローム／秒以上１
７オングストローム／秒以下、好ましくは、１０オング
ストローム／秒以上１５オングストローム／秒以下であ
る。これは、上記上限値を超えると、経時変化によりデ
ィスク基板との界面から金属反射膜の腐食が発生しやす
くなって読み取りエラーが多発し、再生画像にノイズが
現れ、他方、上述の下限値未満では、金属反射膜が黒ず
んで外観上不良な光ディスクとなるからである。

【００１２】この発明において、上記方法により反射膜
を形成した後、必要に応じて耐湿性の保護膜や、ＵＶ硬
化膜を積層させることが可能である。

【００１３】

【作用】上記構成からなるこの発明の光ディスクの製造
方法では、樹脂光ディスク基板表面に、アルミニウムを
主成分とする金属が、蒸着する。この発明における蒸着
条件においては、理論的に必ずしも明らかではないが、
経時変化によりディスク基板との界面から金属反射膜を
腐食させる因子が抑制若しくは解消されると考えられ
る。

【００１４】

【実施例】この発明を、以下の実施例により、更に詳し
く具体的に説明する。 実施例１ 射出成形法により、成形機（名機製作所製：ダイナメル
ター）を使用し、メタクリル酸メチル９２部、アクリル
酸メチル８部よりなるアクリル樹脂を成形材料として用
いて、直径３０ｃｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板
を得た。反射膜形成は、抵抗加熱による真空蒸着法で射
出成形により得られたディスク基板に、真空度２×１０
^-5Ｔｏｒｒ、蒸着速度１０オングストローム／秒でアル
ミ反射膜を８００オングストローム成膜した。

【００１５】成形基板上に反射膜を形成した後、耐久性
評価を行った。反射膜にロールコーターにより耐湿性の
保護膜を塗布し、これを７０℃６０％ＲＨの恒温恒湿槽
に入れ、エージングテストを行い、アルミ膜に孔食が生
ずるかどうかを見た。孔食かどうかの確認は、暗視野顕
微鏡で基板側から２００倍の倍率で観察することにより
行った。孔食が生じた部分は輝点として観察される。７
０℃６０％ＲＨで３００時間経過しても孔食が観察され
なかった場合に耐久性合格とする。この耐久試験を行っ
た結果、３００時間経過しても孔食が観察されず、６０
０時間経過に孔食が発生した。この結果から、この実施
例による光ディスクは、耐久性に合格するものであっ
た。

【００１６】実施例２ 射出成形により得られたディスク基板に、真空度１×１
０^-5Ｔｏｒｒ、蒸着速度１５オングストローム／秒でア
ルミ反射膜を８００オングストローム成膜したこと以
外、基板成形、反射膜形成及び、耐久性評価を、実施例
１と同様に行った。このサンプルを上記耐久試験を行っ
た結果、合格基準の３００時間経過しても孔食が観察さ
れず、３２０時間経過に孔食が発生した。この結果か
ら、この実施例による光ディスクは、耐久性に合格する
ものであった。

【００１７】比較例１ 射出成形により得られたディスク基板に、真空度５×１
０^-6Ｔｏｒｒ、蒸着速度１５オングストローム／秒でア
ルミ反射膜を８００オングストローム成膜したこと以
外、基板成形、反射膜形成及び、耐久性評価を、実施例
１と同様に行った。このサンプルを、上記耐久試験を行
った結果、２００時間で孔食が発生した。この結果か
ら、この比較例による光ディスクは、耐久性に合格する
ものではなかった。

【００１８】比較例２ 射出成形により得られたディスク基板に、真空度２×１
０^-5Ｔｏｒｒ、蒸着速度５オングストローム／秒でアル
ミ反射膜を８００オングストローム成膜したこと以外、
基板成形、反射膜形成及び、耐久性評価を、実施例１と
同様に行った。得られたサンプルは、反射膜が黒ずんで
しまい、外観上不良なディスクとなった。

【００１９】

【発明の効果】以上で説明したように、本発明によっ
て、金属反射膜の耐食性の向上を図ることにより、耐久
性に優れ、良好な光学特性を示す光ディスクを安定に製
造することができ、広く用いられることが期待される。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明樹脂からなるディスク基板と該基板
   表面に形成された金属反射膜からなり、記録された情報
   を光学式に読取られる光ディスクの製造方法であって、 該ディスク基板表面上に、アルミニウムを主成分とする
   金属反射膜を、真空度０．８×１０^-5〜３×１０^-5Ｔｏ
   ｒｒ、蒸着速度８オングストローム／秒以上１７オング
   ストローム／秒以下で蒸着して、該ディスク基板と金属
   反射膜との界面から生じる金属反射膜の腐食を抑えるこ
   とを特徴とする光ディスクの製造方法。