JPH0652541A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高出力・高密度記録と走行耐久性のきわめて
優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。特に
本発明はヘッド摩耗特性やヘッド汚れ等の走行耐久性に
きわめて優れる磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。 【構成】 非磁性支持体上に強磁性微粉末とバインダー
およびモース硬度８以上の研磨材を含む磁性層を設けた
磁気記録媒体記録において、該磁性層の磁性層表面粗さ
の中心線より上に存在し且つ磁性層表層に存在する研磨
材の上端部までの平均突起高さが１５ｎｍ以下である磁
気記録媒体と対向金属ロ−ルでス−パ−カレンダ−処理
し、次いでバ−ニッシュ処理する該磁気記録媒体の製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁性層と非磁性支持体
からなる磁気記録媒体に関するものであり、更に詳しく
は、ＶＴＲのヘッド摩耗とヘッド当りを改良し、高出力
を保ち、ＶＴＲのヘッド汚れを抑制し、走行安定性に優
れた磁性層を有する磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般にオーディオ用、ビデオ用、コンピ
ューター用（ディスク、メモリーテープ）等の磁気記録
媒体として、強磁性微粉末をバインダー（結合剤）中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に設けた磁気記録媒
体が用いられている。従来これらの磁気記録媒体は、磁
性層として強磁性微粉末、バインダー、モース硬度８以
上の研磨材を含むものが使用されてきた。このうち特に
研磨材はＶＴＲでのヘッド汚れを抑制し、常に最良の画
像と音声、データ記録を提供してきた。この目的のため
様々な研磨材が提案され、特公昭４９−３９４０２号、
特開昭５７−１８３６２８号、米国特許３６３０９１０
号、特開昭５７−１７９９４５号等に開示されている。
近年、これらの磁気記録媒体は高密度記録が要求され、
磁気記録媒体表面の超平滑化などにより再生出力／雑音
の高出力化や低雑音化、強磁性微粉末の微粒子化、金属
粉末化、高充填化、磁気記録媒体の薄手化が要求されて
いる。また記録密度の向上や高画質化のためにはＶＴＲ
での磁気記録媒体への書き込み速度や呼び込み速度の短
縮化や記録方式（アナログ方式からデジタル方式）の変
更、記録幅の減少（５〜２０ｎｍ）や記録最短波長の減
少（０．１〜０．９μｍ）が必要で、ヘリカルスキャン
ＶＴＲにおいてはヘッドシリンダー速度が５４００ＲＰ
Ｍ以上、またテープとヘッドとの相対速度も２０ｍ／ｓ
ｅｃをはるかに越えるようになってきている。このよう
な高出力や高速摺動適性を磁気記録媒体に持たせるため
には、磁気記録媒体がＶＴＲの走行系やヘッド、シリン
ダー系で走行安定性の確保が必要不可欠であり、この目
的の為に、さきに述べた研磨材以外にカーボンブラック
や有機化合物の各種潤滑剤が用いられている。これらの
磁気記録媒体の大きな問題点は、ＶＴＲヘッドとの相性
である。高密度記録化のために薄手化、超平滑化を達成
しようとしたとき、ＶＴＲのヘッドに対し摩擦係数を下
げることがきわめて困難である。摩擦係数が上昇する磁
性層の表層が削れヘッドが汚れる。このため先に述べた
ような研磨材を磁性層中に添加するが、ヘッド汚れに対
し充分効果があるような量を添加するとヘッド摩耗が著
しく増加する。ヘッド摩耗が増加するとヘッド材質はよ
り硬い方向にすることが提案され、このため再び磁性層
の研磨材量を増やさなくてはならなくなる。

【０００３】即ち従来の技術では磁気記録媒体とＶＴＲ
ヘッドとの摩擦係数の上昇に対する有効な手段は、研磨
材の添加と潤滑剤の添加であった。磁気記録媒体記録の
ヘッドに対する汚れは研磨材を磁性層中に添加する事
が、ヘッド汚れに対し効果がある。このような量を添加
すると磁気記録媒体のＶＴＲヘッドに対する摩耗が著し
く増加する。ヘッド摩耗が増加するとヘッド材質はより
硬い方向にすることが提案され、このため再び磁性層の
研磨材量を増やさなくてはならなくなる。このように従
来ヘッド摩耗とヘッド汚れのバランスはいずれかの特性
を犠牲にするものであった。 またＶＴＲヘッドとの相
性、即ち高密度記録化のために薄手化、超平滑化を達成
しようとしたとき損なわれる出力に対し、ＶＴＲのヘッ
ドに対する摩擦係数を低下させる為研磨材以外に潤滑剤
の添加が行なわれる。摩擦係数低下のための潤滑剤の添
加は出力低下やヘッド汚れを引き起こす磁性層の可塑化
をもたらす。 摩擦係数の低下と出力低下のバランスを
取ることもきわめて困難であった。

【０００４】また磁性層の表面に於ける研磨材の存在量
を規定して耐久性を改良しようとする提案がされてい
る。例えば特開昭６１−５７０３６号公報には、モ−ス
硬度６以上の研磨材粒子を磁性粉に対して３〜１５ｗｔ
％の割合で含有させ、且つ磁性層表面における単位面積
当りの粒子の平均個数を０．２５個／μｍ²以上に定め
た磁気記録媒体が開示されている。また特開昭６０−９
３６３１号公報には、モ−ス硬度７以上の非磁性研磨材
粒子を磁性層表面１００μｍ²当り２０個以上に定めた
磁気記録媒体が開示されている。しかしながら初期ヘッ
ド摩耗、 VTR互換出力差、低湿出力の全ての項目にわた
って満足するものは得られなかった。

【０００５】また特開昭６３−１８３６１９号公報に
は、磁性層を塗布、乾燥し、カレンダ−処理を施して硬
化した後に、サフアイアまたはダイアモンドで作られた
エッジを持つブレ−ド走行する磁性層表面に押し当て、
更に０．５〜４μｍの粒径を有する円筒形ダイアモンド
砥石で磁性層表面を研磨加工する磁気記録媒体の製造方
法が開示されている。 また特開平３−１６２７１７号
公報には、磁性層を塗布、乾燥し、カレンダ−処理を
し、得られた磁性層表面に超硬刃でバ−ニッシュする磁
気記録媒体の製造方法が開示されている。しかしながら
初期ヘッド摩耗、 VTR互換出力差、低湿出力の全ての項
目にわたって満足するものは得られなかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】すなはち、本発明は、
高出力・高密度記録と走行耐久性のきわめて優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。特に本発明はヘ
ッド摩耗特性やヘッド汚れ等の走行耐久性にきわめて優
れる磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは磁性
層表層に存在する研磨材の特性、形状等に着目して鋭意
検討した結果、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により磁性層
表層に存在する研磨材の上端部までの平均突起高さが初
期ヘッド摩耗、 VTR互換出力差、低湿出力等の項目に大
きく影響することを見いだし本発明に至った。すなはち
本発明の上記目的は、非磁性支持体上に強磁性微粉末と
バインダーおよびモース硬度８以上の研磨材を含む磁性
層を設けた磁気記録媒体記録において、該磁性層の磁性
層表面粗さの中心線より上に存在し且つ磁性層表層に存
在する研磨材の上端部までの平均突起高さが１５ｎｍ以
下であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成で
きる。また好ましくは前記磁性層に含まれる研磨材がア
ルミナ、酸化クロム、ダイアモンドより選ばれた少なく
とも１種であることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成できる。すなはち本発明の磁気記録媒体は、非磁性
支持体上に強磁性微粉末とバインダー、モース硬度８以
上の研磨材を含む磁性層を設け、該磁性層の磁性層表面
粗さの中心線より上に存在し且つ磁性層表層に存在する
研磨材の上端部までの平均突起高さを１５ｎｍ以下とす
ることにより、ＶＴＲのヘッド摩耗が少なく走行耐久性
に優れる磁気記録媒体を得たものである。好ましくは磁
性層に含まれる研磨材の少なくとも１種類がアルミナ、
酸化クロム、ダイアモンドで、磁性層の表面粗さが０．
１ｎｍから６ｎｍである時、ＶＴＲヘッドと磁気記録媒
体の耐久性に優れる磁気記録媒体が得られる。また磁性
層の表層に存在する研磨材が１００μｍ ²あたり１００
〜１０００個であり、磁性層に含まれる研磨材は強磁性
微粉末１００部あたり５〜２０重量部で、かつ磁性層の
強磁性微粉末の比表面積が４７ｍ ²／ｇ以上の金属粉末
であることにより、高出力と適切な研磨能が得られる。
また磁性層を塗設してなる非磁性支持体の裏面に表面粗
さが２ｎｍ〜１５ｎｍのバック層を有することによりき
わめてすぐれた走行耐久性が得られる。

【０００８】本発明の、磁性層の磁性層表面粗さの中心
線より上に存在し且つ磁性層表層に存在する研磨材の上
端部までの平均突起高さは以下の通り測定できる。ＡＦ
Ｍ（原子間力顕微鏡）により磁性層表層に存在する研磨
材を観測しながら磁性層表面粗さの曲線とその中心線を
求め、磁性層の磁性層表面粗さの中心線より上に存在し
且つ磁性層表層に存在する研磨材の上端部までの平均突
起高さを測定し、顕微鏡写真により表層に存在する研磨
材の位置を同定したあと磁性層の磁性層表面粗さの中心
線より上に存在し且つ磁性層表層に存在する研磨材の上
端部までの平均突起高さをｎ＝２０で測定することによ
り確認できる。この場合、磁性層が多層構成の場合は最
上層の磁性層中に存在する研磨材の平均粒子サイズは
０．１〜１μが適当で、この時の最上層の厚みは研磨材
の平均粒子サイズ以下であっても構わない。磁性層が単
層構成の場合は磁性層中に存在する研磨材の平均粒子サ
イズは０．１〜１μｍが適当で、この時の単層の厚みは
研磨材の平均粒子サイズ以上であることが好ましい。本
発明では磁性層中に添加する研磨材量が強磁性微粉末１
００重量部あたり５〜２０重量部であることが好まし
い。磁性層中に添加する研磨材量が強磁性微粉末１００
重量部あたり５重量部未満では、磁性層の磁性層表面粗
さの中心線より上に存在する研磨材の平均突起高さが１
５ｎｍ以下を達成できる場合があるが、添加量が少ない
ため充分なクリーニング効果が得にくい。また磁性層中
に添加する研磨材量が強磁性微粉末１００重量部あたり
２０重量部以上では、磁性層の磁性層表面粗さの中心線
より上に存在する研磨材の平均突起高さが１５ｎｍを越
え、クリーニング効果は充分得ることは出来るが、ヘッ
ド摩耗が異常に増加し磁気記録媒体として適当でない。

【０００９】すなわち本発明は、非磁性支持体上に強磁
性微粉末とバインダーおよびモース硬度８以上の研磨材
を含む磁性層を設けてなる磁気記録媒体において、該磁
性層の磁性層表面粗さの中心線より上に存在し且つ磁性
層表層に存在する研磨材の上端部までの平均突起高さを
１５ｎｍ以下とすることのより、ＶＴＲのヘッド摩耗が
少なく走行耐久性に優れる磁気記録媒体を得たものであ
る。研磨材を磁気記録媒体に使用することは古くから知
られているが、従来知られている研磨材の粒子サイズや
添加量では研磨材高さをコントロールする事は出来な
い。研磨材の粒子サイズは従来０．０１〜２μｍ程度の
物が使用され、また添加量としては強磁性微粉末１００
ｇあたり０．１〜２０重量部使用される。これらの形状
は球形状、球形に近似した形状、角を有する形状などが
使用されてきた。従来技術により作成された磁性層の磁
性層表面粗さの中心線より上に存在し且つ磁性層表層に
存在する研磨材の上端部までの平均突起高さは磁性層表
面粗さの中心線から１５ｎｍを越えてしまい、ＶＴＲヘ
ッド摩耗が多くなり走行耐久性に劣る磁気記録媒体しか
得られなかった。このように研磨材の突起高さが高いと
ＶＴＲヘッド摩耗が多くなり、ＶＴＲのヘッドライフが
短寿命となる。ＶＴＲのヘッド摩耗を減少させるため研
磨材の添加量を少なくすることは有効な手段であるが、
磁気記録媒体のＶＴＲヘッドに対するクリーニング効果
が低減され、ヘッド目詰まりを生じた結果出力の低下が
起こり商品価値のないものとなる。

【００１０】研磨材の突起高さは先ずカレンダーに金属
ロールを用い、極力磁性層表層を平滑（６ｎｍ以下）に
したあと、研磨材の高さを後処理により制御することに
より達成できる。すなはち非磁性支持体上に強磁性微粉
末とバインダーおよびモース硬度８以上の研磨材を含む
磁性層を塗布した後、搬送速度１０ｍ／分〜９００ｍ／
分、成形温度５０℃〜１３０℃で２回以上、多段の対向
金属ロ−ルによりス−パ−カレンダ−処理し次いでバ−
ニッシュ処理をして、磁性層表層に存在する研磨材の上
端部までの平均突起高さを１５ｎｍ以下とすることがで
きる。ス−パ−カレンダ−処理及びバ−ニッシュ処理の
詳細は後述する。かつ、この時磁性層に含まれる研磨材
の少なくとも１種類がアルミナ、酸化クロム、ダイアモ
ンドを用いることが好ましい。磁性層の表面粗さはカレ
ンダーで０．１ｎｍから６ｎｍとし、ＶＴＲヘッドと磁
気記録媒体の耐久に優れる磁気記録媒体を得たものであ
る。またこの時磁性層の表層に存在する研磨材を１００
μｍ²あたり１００〜１０００個存在させ、磁性層に含
まれる研磨材を強磁性微粉末１００重量部あたり５〜２
０重量部とし、磁性層の強磁性微粉末の比表面積が４７
ｍ²／ｇ以上の金属粉末を用いることにより、磁性体と
磁性層、バック層の超平滑性により高出力を達成でき、
かつ研磨材の突起高さと研磨材の個数を制御することに
より適切な研磨能を得たものである。また磁性層を塗設
してなる非磁性支持体の裏面のバック層の表面粗さは２
ｎｍ〜１５ｎｍとすることによりきわめてすぐれる走行
耐久性と高ＣＮを得たものである。また理由は明かでな
いが研磨材高さを本発明のように制御すると異なるヘッ
ドに対する出力の確保が容易となる。また出力の落込み
の原因となる１μｓｅｃ、−２ｄｂ程度のドロップアウ
トも大幅に改善されることが分かった。

【００１１】本発明の磁気記録媒体は少なくとも、強磁
性微粉末、バインダー、研磨剤を含む磁性層を非磁性支
持体上に塗設してなる基本構造を有するものである。本
発明の磁気記録媒体においては、磁性層中に固体、液体
の各種潤滑剤を含んでもよく、また磁性層を設けた非磁
性支持体上の反対側の面には非磁性粉体（カーボンブラ
ック、無機粉体、研磨剤、固体潤滑剤等）とバインダー
を含むバック層を設ける。さらに本発明の磁気記録媒体
においては、磁性層中の潤滑剤以外に防錆剤、防黴剤、
帯電防止剤、非磁性粉体、色素、有機磁性化合物、分散
剤等を含んでもよく、また強磁性微粉末の異なるもしく
は同一の磁性層からなる混合層、多層構成としても良
い。

【００１２】本発明の強磁性微粉末としては，γ−Ｆｅ
2 Ｏ3 ，Ｃｏ含有（被着，変成，ド−プ）のγ−Ｆｅ2
Ｏ3，， Ｆｅ3 Ｏ4 ，Ｃｏ含有（被着，変成，ド−プ）
のＦｅ3 Ｏ4，γ−ＦｅＯX ，Ｃｏ含有（被着，変成，
ド−プ）の γ− ＦｅＯX（Ｘ＝１．３３〜 １．５
０），ＣｒＯ2 等も使用できるが，特にα−Ｆｅ，Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ合金，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ合金，
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金，Ｎｉ−Ｃｏ合金，Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｆｅ合金などの強磁性金属微粉末が好ましい。これら強
磁性金属微粉末の粒子サイズは約０．００５〜１ミクロ
ンの長さで，軸長／軸幅の比は，１／２〜１５／１程度
である。叉，これらの強磁性金属微粉末の比表面積は４
７〜８０ｍ2 ／ｇより好ましくは５３〜７０ｍ2 ／ｇ、
抗磁力（Ｈｃ）は１２５０〜２５００Ｏｅ、含水率は
０．１〜２．０重量％、ＰＨは３〜１１（５ｇ磁性体／
１００ｇ水）が好ましい。これらの強磁性微粉末の表面
に，防錆剤、表面処理剤、分散剤，潤滑剤，帯電防止剤
等をそれぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸
させて，吸着させてもよい。本発明の磁気記録媒体はこ
れら強磁性微粉末が結合剤中に分散された磁性層を非磁
性支持体上に設けたものである。また強磁性合金粉末中
の金属分は６０重量％以上であり，そして金属分の７０
重量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属あるいは合
金（例，Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ）で
あり，該金属分の４０重量％以下、より好ましくは２０
重量％以下の範囲内で他の成分（例，Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、
Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、
Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ
ｒ、Ｎｄ、Ｂ、Ｐ）を含むことのある合金や，窒化鉄や
炭化鉄等を挙げることができる。特にこの中で金属鉄の
強度を補う為にＡｌ、Ｓｉ、Ｃｒを単独ないしは混合し
て表層に設けることが好ましい。 また，上記強磁性金
属が少量の水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素
（Ｎａ、Ｋ、等）、アルカリ土類金属元素（Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ）を含むものなどであっってもよい。これらの
強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり，本発明で
用いる強磁性粉末の代表例である強磁性合金粉末につい
てもこれら公知の方法に従って製造することができる。

【００１３】すなわち，強磁性合金微粉末の製造方法の
例としては，下記の方法を挙げることができる。 （ａ）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素など
の還元性気体で還元する方法、（ｂ）酸化鉄を水素など
の還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子な
どを得る方法、（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解す
る方法、（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム，次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、（ｅ）水銀陰極を用い強磁性
金属粉末を電解祈出させたのち水銀と分離する方法、
（ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法、強磁性金属微粉末を使用する場合に，その形
状にとくに制限はないが通常は針状，粒状，サイコロ
状，米粒状および板状のものなどが使用され特にさきに
述べた針状比のものが好ましい。またこれら強磁性体の
σｓは１００〜２１０ｅｍｕ／ｇが好ましい。 結晶子
サイス゛は１００〜３００Ａが好ましい。 さいころ状のも
のとしては立方体かもしくは６面体、８面体の形状のも
のが好ましい。板状のものとしては板状／厚みの比が、
３／１〜３０／１であるものが好ましい。 これらの強
磁性合金微粉末の例示は特開昭５３−７０３９７号、特
開昭５８−１１９６０９号、特開昭５８−１３０４３５
号、特開昭５９−８０９０１号、特開昭５９−１６９０
３号、特開昭５９−４１４５３号、特公昭６１−３７７
６１号、米国特許４４４７２６４号、米国特許４７９１
０２１号、米国特許４９３１１９８号の公報等に記載さ
れている。

【００１４】本発明の磁性層やバック層に使用されるバ
インダ−としては従来公知の熱可塑性樹脂，熱硬化性樹
脂，反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹
脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用され
る。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下，
平均分子量が１００００〜３０００００，重合度が約５
０〜２０００程度のものでより好ましくは２００〜６０
０程度であり，例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体，
塩化ビニル共重合体，塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コール共重合体，塩化ビニルビニルアルコール共重合
体，塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体，塩化ビニルア
クリロニトリル共重合体，アクリル酸エステルアクリロ
ニトリル共重合体，アクリル酸エステル塩化ビニリデン
共重合体，アクリル酸エステルスチレン共重合体，メタ
クリル酸エステルアクリロニトリル共重合体，メタクリ
ル酸エステル塩化ビニリデン共重合体，メタクリル酸エ
ステルスチレン共重合体，ウレタンエラストマ−，ナイ
ロン−シリコン系樹脂，ニトロセルロ−ス−ポリアミド
樹脂，ポリフッカビニル，塩化ビニリデンアクリロニト
リル共重合体，ブタジエンアクリロニトリル共重合体，
ポリアミド樹脂，ポリビニルブチラ−ル，セルロ−ス誘
導体（セルロ−スアセテ−トブチレ−ト，セルロ−スダ
イアセテ−ト，セルロ−ストリアセテ−ト，セルロ−ス
プロピオネ−ト，ニトロセルロ−ス，エチルセルロ−
ス，メチルセルロ−ス，プロピルセルロ−ス，メチルエ
チルセルロ−ス，カルボキシメチルセルロ−ス，アセチ
ルセルロ−ス等），スチレンブタジエン共重合体，ポリ
エステル樹脂，ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエ
−テルアクリル酸エステル共重合体，アミノ樹脂，各種
の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使
用される。これらの樹脂の例示は特公昭３７−６８７７
号，特公昭３９−１２５２８号，特公昭３９−１９２８
２号，特公昭４０−５３４９号 特公昭４０−２０９０
７号，特公昭４１−９４６３号，特公昭４１−１４０５
９号，特公昭４１−１６９８５号 特公昭４２−６４２
８号，特公昭４２−１１６２１号，特公昭４３−４６２
３号，特公昭４３−１５２０６号 特公昭４４−２８８
９号，特公昭４４−１７９４７号，特公昭４４−１８２
３２号，特公昭４５−１４０２０号，特公昭４５−１４
５００号，特公昭４７−１８５７３号，特公昭４７−２
２０６３号，特公昭４７−２２０６４号 特公昭４７−
２２０６８号，特公昭４７−２２０６９号，特公昭４７
−２２０７０号，特公昭４７−２７８８６号，特開昭
５７−１３３５２１，特開昭５８−１３７１３３，特開
昭５８−１６６５３３，特開昭５８−２２２４３３，特
開昭５９−５８６４２等、米国特許４５７１３６４号、
米国特許４７５２５３０号の公報等に記載されている。

【００１５】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布
液の状態では２００、０００以下の分子量であり，塗
布，乾燥後に加熱加湿することにより，縮合，付加等の
反応により分子量は無限大のものとなる。叉，これらの
樹脂のなかで，樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶
融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノ−ル
樹脂，フェノキシ樹脂，エポキシ樹脂，ポリウレタン樹
脂，ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート
樹脂，尿素樹脂，メラミン樹脂，アルキッド樹脂，シリ
コン樹脂，アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂），エ
ポキシ−ポリアミド樹脂，ニトロセルロ−スメラミン樹
脂，高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポ
リマ−の混合物，メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネ−トプレポリマ−の混合物，ポリエステルポリオ−ル
とポリイソシアネ−トとの混合物，尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂，低分子量グリコ−ル／高分子量ジオ−ル／トリ
フェニルメタントリイソシアネ−トの混合物，ポリアミ
ン樹脂，ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。
これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０３号，特公昭
４０−９７７９号，特公昭４１−７１９２号，特公昭４
１−８０１６号 特公昭４１−１４２７５号，特公昭４
２−１８１７９号，特公昭４３−１２０８１号，特公昭
４４−２８０２３号 特公昭４５−１４５０１号，特公
昭４５−２４９０２号，特公昭４６−１３１０３号，特
公昭４７−２２０６５号 特公昭４７−２２０６６号，
特公昭４７−２２０６７号，特公昭４７−２２０７２
号，特公昭４７−２２０７３号 特公昭４７−２８０４
５号，特公昭４７−２８０４８号，特公昭４７−２８９
２２号等の公報に記載されている。これらの熱可塑，熱
硬化性樹脂，反応型樹脂は，樹脂としてもつ主たる官能
基以外の官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ），スルフ
ィン酸，スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ₃Ｍ），燐酸
（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ）），ホスホン酸、硫酸（ＯＳＯ
₃Ｍ），及びこれらのエステル基等の酸性基（ＭはＨ、
アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水素基）、アミ
ノ酸類；アミノスルホン酸類，アミノアルコ−ルの硫酸
または燐酸エステル類，アルキルベタイン型等の両性類
基，アミノ基，イミノ基，イミド基，アミド基等また，
水酸基，アルコキシル基，チオ−ル基，アルキルチオ
基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ），シリル基，シ
ロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、
ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン基を
通常１種以上６種以内含み，各々の官能基は樹脂１ｇあ
たり１×１０-6ｅｑ〜１×１０-2ｅｑ含む事が好まし
い。該樹脂のなかで特にスルホン酸、燐酸、フォスホン
酸、エポキシ基、水酸基の少なくとも１つ以上の官能基
を有する樹脂が好ましい。

【００１６】本発明の磁性層やバック層に用いるポリイ
ソシアネ−トとしては，トリレンジイソシアネ−ト，
４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト，ヘキサ
メチレンジイソシアネ−ト，キシリレンジイソシアネ−
ト，ナフチレン−１、５−ジイソシアネ−ト，ｏ−トル
イジンジイソシアネ−ト，イソホロンジイソシアネ−
ト，トリフェニルメタントリイソシアネ−ト，イソホロ
ンジイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類，叉当該イソ
シアネ−ト類とポリアルコ−ルとの生成物，叉イソシア
ネ−ト類の縮合に依って生成した２〜１０量体のポリイ
ソシアネ−ト、又ポリイソシアネートとポリウレタンと
の生成物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を
使用することができる。これらポリイソシアネ−ト類の
平均分子量は１００〜２００００のものが好適である。
これらポリイソシアネ−トの市販されている商品名とし
ては，コロネ−トＬ，コロネ−トＨＬ，コロネ−ト２０
３０，コロネ−ト２０３１，ミリオネ−トＭＲ，ミリオ
ネ−トＭＴＬ（日本ポリウレタン株製），タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ，，タケネ−トＤ−
２００，タケネ−トＤ−２０２，タケネ−ト３００Ｓ，
タケネ−ト５００（武田薬品株製），スミジュ−ルＴ−
８０，スミジュ−ル４４Ｓ，スミジュ−ルＰＦ，スミジ
ュ−ルＬ，スミジュ−ルＮデスモジュ−ルＬ，デスモジ
ュ−ルＩＬ，デスモジュ−ルＮ，デスモジュ−ルＨＬ，
デスモジュ−ルＴ６５，デスモジュ−ル１５，デスモジ
ュ−ルＲ，デスモジュ−ルＲＦ，デスモジュ−ルＳＬ，
デスモジュ−ルＺ４２７３（住友バイエル社製）等があ
り，これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二
つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用すること
ができる。叉，硬化反応を促進する目的で，水酸基（ブ
タンジオ−ル，ヘキサンジオ−ル、分子量が１０００〜
１００００のポリウレタン、水等），アミノ基（モノメ
チルアミン，ジメチルアミン，トリメチルアミン等）を
有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネ
ート等の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基や
アミノ基を有する化合物は多官能である事が望ましい。
これらポリイソシアネ−トは磁性層、バック層とも結合
剤樹脂とポリイソシアネ−トの総量１００重量部あたり
２〜７０重量部で使用することが好ましく、よりこのま
しくは５〜５０重量部である。これらの例示は特開昭６
０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１３８号等の公
報において示されている。これらの結合剤の単独又は組
合わされたものが使われ，ほかに添加剤が加えられる。
磁性層の強磁性微粉末と結合剤との混合割合は重量比で
強磁性微粉末１００重量部に対して結合剤３〜１００重
量部の範囲で使用される。バック層の微粉末と結合剤の
混合割合は重量比で微粉末１００重量部に対して結合剤
８〜１５０重量部の範囲で使用される。添加剤として
は分散剤，潤滑剤，研磨剤，帯電防止剤，酸化防止剤，
溶剤等が加えられる。

【００１７】本発明の磁性層およびもしくはバック層に
使用されるカーボンブラックはゴム用ファ−ネス，ゴム
用サ−マル，カラ−用ブラック，アセチレンブラック等
を用いる事ができる。これらカーボンブラックはテープ
の帯電防止剤、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を
目的として使用される。 これらカ−ボンブラックの米
国における略称の具体例をしめすとＳＡＦ，ＩＳＡＦ，
ＩＩＳＡＦ，Ｔ，ＨＡＦ，ＳＰＦ，ＦＦ，ＦＥＦ，ＨＭ
Ｆ，ＧＰＦ，ＡＰＦ，ＳＲＦ，ＭＰＦ，ＥＣＦ，ＳＣ
Ｆ，ＣＦ，ＦＴ，ＭＴ，ＨＣＣ，ＨＣＦ，ＭＣＦ，ＬＦ
Ｆ，ＲＣＦ等があり，米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６
５−８２ａに分類されているものを使用することができ
る。本発明に使用されるこれらカ−ボンブラックの平均
粒子サイズは ５〜１０００ミリミクロン（電子顕微
鏡），窒素吸着法比表面積は１〜８００ｍ2 ／ｇ，ＰＨ
は４〜１１（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法），
ジブチルフタレ−ト（ＤＢＰ）吸油量は１０〜８００ｍ
ｌ／１００ｇ（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）
である。本発明に使用されるカ−ボンブラックのサイズ
は，塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で ５〜１００
ミリミクロンのカ−ボンブラックを，また塗布膜の強度
を制御するときに５０〜１０００ミリミクロンのカ−ボ
ンブラックをもちいる。また塗布膜の表面粗さを制御す
る目的で表面の平滑化のためにより微粒子のカ−ボンブ
ラック（１００ミリミクロン未満）を，粗面化して摩擦
係数を下げる目的で粗粒子のカ−ボンブラック（１００
ミリミクロン以上）をもちいる。このようにカ−ボンブ
ラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的
に応じて使い分けらる。また，これらのカ−ボンブラッ
クを，後述の分散剤などで表面処理したり，樹脂でグラ
フト化して使用してもよい。また，カ−ボンブラックを
製造するときの炉の温度を２０００℃以上で処理して表
面の一部をグラファイト化したものも使用できる。ま
た，特殊なカ−ボンブラックとして中空カ−ボンブラッ
クを使用することもできる。磁性層の場合強磁性微粉末
１００部に対して０．１〜２０重量部で用いることが望
ましい。バック層の場合結合剤１００重量部に対して２
０〜４００重量部で用いることが望ましい。バック層に
使用出来るカ−ボンブラックは例えば『カ−ボンブラッ
ク便覧』，カ−ボンブラック協会編，（昭和４６年発
行）を参考にすることが出来る。これらカ−ボンブラッ
クの例示は米国特許４５３９２５７号、米国特許４６１
４６８５号、特開昭６１−９２４２４号、特開昭６１−
９９９２７号の公報等に記載されている。

【００１８】本発明の磁性層もしくはバック層で用いら
れる研磨剤は磁気テープの耐久性を向上させるために用
いられ、一般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料
でα−アルミナ，γ−アルミナ，α、γ−アルミナ 熔
融アルミナ，酸化クロム、ダイアモンドのうち少なくと
も一種以上を用いることが好ましい。これ以外の研磨材
として炭化珪素，酸化セリウム，コランダム，α−酸化
鉄，ザクロ石，エメリ−（主成分：コランダムと磁鉄
鉱），ガ−ネット，珪石，窒化珪素，窒化硼素，炭化モ
リブデン，炭化硼素，炭化タングステン，チタンカ−バ
イド，トリポリ，ケイソウ土，ドロマイト等で，主とし
てモ−ス硬度６以上の材料を１内至４種迄の組合わせで
使用することが好ましい。これらの研磨剤は平均粒子サ
イズが０．００５〜５ミクロンの大きさのものが使用さ
れ，特に好ましくは０．０１〜２ミクロンである。これ
らの研磨剤は磁性層の強磁性微粉末１００重量部に対し
て０．１〜２０重量部で用いることが望ましい。またこ
れらの研磨剤はバック層の非磁性粉体１００重量部に対
して０．０１〜５重量部で用いることが望ましい。これ
らの具体例としては住友化学〓製のＡＫＰ１、ＡＫＰ１
５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＡＫＰ８
０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００等が挙げられる。これら
については特公昭５２−２８６４２号，特公昭４９−３
９４０２号，特開昭６３−９８８２８号，米国特許３６
８７７２５号，米国特許３００７８０７号，米国特許３
０４１１９６号，米国特許３２９３０６６号，米国特許
３６３０９１０号，米国特許３８３３４１２号，米国特
許４１１７１９０号，英国特許１１４５３４９号，西独
特許８５３２１１号等に記載されている。

【００１９】本発明の磁性層およびもしくはバック層に
使用される粉末状潤滑剤としては，グラファイト、二硫
化モリブデン，窒化硼素，弗化黒鉛，炭酸カルシウム，
硫酸バリウム，酸化珪素，酸化チタン，酸化亜鉛，酸化
錫，二硫化タングステン等の無機微粉末，アクリルスチ
レン系樹脂微粉末，ベンゾグアナミン系樹脂微粉末，メ
ラミン系樹脂微粉末，ポリオレフイン系樹脂微粉末，ポ
リエステル系樹脂微粉末，ポリアミド系樹脂微粉末，ポ
リイミド系樹脂微粉末，ポリフッカエチレン系樹脂微粉
末等の樹脂微粉末等がある。また有機化合物系潤滑剤と
してはシリコンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジ
アルコキシポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、
フルオロアルキルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９
６、ＫＦ６９等）），脂肪酸変性シリコンオイル，フッ
素アルコ−ル，アルカン（流動パラフィン）、ポリオレ
フィン（ポリエチレンワックス、ポリプロピレン等），
ポリグリコ−ル（エチレングリコール、ポリエチレンオ
キシドワックス等），テトラフルオロエチレンオキシド
ワックス，ポリテトラフルオログリコ−ル，パーフルオ
ロアルキルエーテル，パ−フルオロ脂肪酸，パ−フルオ
ロ脂肪酸エステル，パ−フルオロアルキル硫酸エステ
ル，パ−フルオロアルキルスルホン酸エステル，パ−フ
ルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステル，パ−フル
オロアルキル燐酸エステル等（例えばクライトックス
等）の弗素や珪素を導入した化合物、 アルキル硫酸エ
ステル、アルキルスルホン酸エステル、アルキルホスホ
ン酸トリエステル、アルキルホスホン酸モノエステル、
アルキルホスホン酸ジエステル、アルキル燐酸エステ
ル，琥珀酸エステル等の有機酸および有機酸エステル化
合物、トリアザインドリジン、テトラアザインデン、ベ
ンゾトリアゾール、ベンゾトリアジン、ベンゾジアゾー
ル、ＥＤＴＡ等の窒素・硫黄を含む複素（ヘテロ）環化
合物、炭素数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜
４０個の一価のアルコ−ルもしくは二価のアルコ−ル，
三価のアルコ−ル，四価のアルコ−ル，六価のアルコ−
ルのいずれか１つもしくは２つ以上とから成る脂肪酸エ
ステル類，炭素数１０個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪
酸の炭素数と合計して炭素数が１１〜７０個と成る一価
〜六価のアルコ−ルから成る脂肪酸エステル類、炭素数
８〜４０の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類，脂肪酸アルキ
ルアミド類、脂肪族アルコ−ル類も使用できる。これら
の炭素は任意の場所で分岐していても良い。分岐の場所
としては、イソや２、３位分岐が好ましい。 カプリル
酸オクチル，ラウリン酸エチル，ラウリン酸ブチル，ラ
ウリン酸オクチル，ミリスチン酸エチル，ミリスチン酸
ブチル，ミリスチ酸オクチル，ミリスチン酸２エチルヘ
キシル、パルミチン酸エチル，パルミチン酸ブチル，パ
ルミチン酸オクチル，パルミチン酸２エチルヘキシル、
ステアリン酸エチル，ステアリン酸ブチル，ステアリン
酸イソブチル、ステアリン酸オクチル，ステアリン酸２
エチルヘキシル、ステアリン酸アミル，ステアリン酸イ
ソアミル、ステアリン酸２エチルペンチル、ステアリン
酸２ヘキシルデシル、ステアリン酸イソトリデシル、ス
テアリン酸アミド、ステアリン酸アルキルアミド、ステ
アリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノス
テアレ−ト，アンヒドロソルビタンジステアレ−ト，ア
ンヒドロソルビタントリステアレ−ト，アンヒドロソル
ビタンテトラステアレ−ト，オレイルオレ−ト，オレイ
ルアルコ−ル，ラウリルアルコ−ル、モンタンワック
ス、カルナウバワックス、等が有り単独若しくはくみあ
わせ使用出来る。また本発明に使用される潤滑剤として
は所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせで使用出
来，防錆剤としてしられている酸化防止剤（アルキルフ
ェノ−ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、ス
ルファミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒ
ドロキノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤 ），錆どめ
剤（ナフテン酸，アルケニルコハク酸，燐酸、ジラウリ
ルフォスフェ−ト等），油性剤（ナタネ油，ラウリルア
ルコ−ル等），極圧剤（ジベンジルスルフィド，トリク
レジルフォスフェ−ト，トリブチルホスファイト等），
清浄分散剤，粘度指数向上剤，流動点降下剤，泡どめ剤
等がある。これらの潤滑剤は複合化させて使用してもよ
く１分子中にこれらの特性基を２つ以上導入したもので
もよい。 例えば弗素基導入脂肪酸、弗素基導入脂肪酸
エステル、シロキサン導入脂肪酸、シロキサン導入脂肪
酸エステル等があげられる。これらの潤滑剤は磁性層お
よびもしくはバック層の結合剤１００重量部に対して
０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては，特公昭４３−２３８８９号，特公昭４８−２４
０４１号，特公昭４８−１８４８２号，特公昭４４−１
８２２１，特公昭４７−２８０４３号，特公昭５７−５
６１３２，特開昭５９−８１３６号，特開昭５９−８１
３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４２３
２３３号，米国特許３４７００２１号，米国特許３４９
２２３５号，米国特許３４９７４１１号，米国特許３５
２３０８６号，米国特許３６２５７６０号，米国特許３
６３０７７２号，米国特許３６３４２５３号，米国特許
３６４２５３９号，米国特許３６８７７２５号，米国特
許４１３５０３１号，米国特許４４９７８６４号，米国
特許４５５２７９４号，アイビ−エムテクニカル デイ
スクロジャ−ブリテン（ＩＢＭ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ
Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏｌ．
９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレクト
ロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１２，
ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６７，１９
８０年丸善株発行等に記載されている。

【００２０】本発明に使用する分散剤、分散助剤として
は，カプリル酸，カプリン酸，ラウリン酸，ミリスチン
酸，パルミチン酸，ステアリン酸，オレイン酸，エライ
ジン酸，リノ−ル酸，リノレン酸，ステアロ−ル酸、ベ
ヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の
脂肪酸（Ｒ1 ＣＯＯＨ，Ｒ1 は炭素数１〜３９個のアル
キル基、フェニル基、アラルキル基），前記の脂肪酸の
アルカリ金属（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＮＨ4 + 等）またはア
ルカリ土類金属（Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等），Ｃｕ，Ｐｂ等
から成る金属石鹸（オレイン酸銅），脂肪酸アミド；レ
シチン（大豆油レシチン）等が使用される。この他に炭
素数４〜４０の高級アルコ−ル，（ブタノ−ル，オクチ
ルアルコ−ル，ミリスチルアルコ−ル，ステアリルアル
コ−ル、セチルアルコール、イソセチルアルコール）及
びこれらの硫酸エステル，スルホン酸、フェニルスルホ
ン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸
モノエステル，燐酸ジエステル、燐酸トリエステル、ア
ルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物
等も使用可能である。また，ポリエチレングリコール、
ポリエチレンオキサイド，スルホ琥珀酸，スルホ琥珀酸
金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。こ
れらの分散剤は通常一種類以上で用いられ，一種類の分
散剤は結合剤１００重量部に対して０．００５〜２０重
量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用方法は，
強磁性微粉末や非磁性微粉末の表面に予め被着させても
良く，また分散途中で添加してもよい。このようなもの
は，例えば特公昭３９−２８３６９号，特公昭４４−１
７９４５号，特公昭４４−１８２２１号，特公昭４８−
７４４１号、特公昭４８−１５００１号、特公昭４８−
１５００２号，特公昭４８−１６３６３号，特公昭４９
−３９４０２号，米国特許３３８７９９３号，同３４７
００２１号等に於いて示されている。

【００２１】本発明に用いる防黴剤としては２−（４−
チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジ
クロロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０’−オ
キシビスフェノキサルシン、２，４，５，６テトラクロ
ロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルスル
ホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。 このようなもの
は，例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等に於い
て示されている。これらの防黴剤は結合剤１００重量部
に対して０．００５〜２０重量部の範囲で使用される。

【００２２】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としてはグラファイト，変性グラファイト，カ
−ボンブラックグラフトポリマ−，酸化錫−酸化アンチ
モン，酸化錫，酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン，
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系，グリセリン系，グリシド−ル系，多
価アルコ−ル，多価アルコ−ルエステル，アルキルフェ
ノ−ルＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類，環状アミン，ヒダントイン誘導体，アミド
アミン，エステルアミド，第四級アンモニウム塩類，ピ
リジンそのほかの複素環類，ホスホニウムまたはスルホ
ニウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸，スルホ
ン酸，ホスホン酸、燐酸，硫酸エステル基，ホスホン酸
エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン
界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類，アミノ
アルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類，アルキルベタ
イン型等の両性界面活性剤等が使用される。 これら帯
電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物例の一部は
特開昭６０−２８０２５号、米国特許２２７１６２３
号，同２２４０４７２号，同２２８８２２６号，同２６
７６１２２号，同２６７６９２４号，同２６７６９７５
号，同２６９１５６６号，同２７２７８６０号，同２７
３０４９８号，同２７４２３７９号，同２７３９８９１
号，同３０６８１０１号，同３１５８４８４号，同３２
０１２５３号，同３２１０１９１号，同３２９４５４０
号，同３４１５６４９号，同３４４１４１３号，同３４
４２６５４号，同３４７５１７４号，同３５４５９７４
号，西独特許公開（ＯＬＳ）１９４２６６５号，英国特
許１０７７３１７号，同１１９８４５０号等をはじめ，
小田良平他著『界面活性剤の合成とその応用』（槙書店
１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ著『サ−フエス アク
テイブ エ−ジエンツ』（インタ−サイエンス パブリ
ケ−ション コ−ポレイテッド１９８５年版）；Ｔ．
Ｐ．シスリ−著『エンサイクロペディア オブ サ−フ
エスアクティブ エ−ジェンツ，第２巻』（ケミカルパ
ブリシュカンパニ−１９６４年版）；『界面活性剤便
覧』第六刷（産業図書株式会社，昭和４１年１２月２０
日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房（１９６８）等
の成書に記載されている。 これらの界面活性剤は単独
または混合して添加しても良い。磁気記録媒体におけ
る，これらの界面活性剤の使用量は，強磁性微粉末１０
０重量部当たり０．０１〜１０重量部である。またバッ
ク層での使用量は結合剤１００重量部当たり０．０１〜
３０重量部である。これらは帯電防止剤として用いられ
るものであるが，時としてそのほかの目的，例えば分
散，磁気特性の改良，潤滑性の改良，塗布助剤、湿潤
剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される場合もあ
る。

【００２３】本発明の分散，混練，塗布の際に使用する
有機溶媒としては，任意の比率でアセトン，メチルエチ
ルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノ
ン，イソホロン，テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノ−ル，エタノ−ル，プロパノ−ル，ブタノ−ル，イ
ソブチルアルコ−ル，イソプロピルアルコ−ル，メチル
シクロヘキサノ−ルなどのアルコ−ル系；酢酸メチル，
酢酸エチル，酢酸ブチル，酢酸イソブチル，酢酸イソプ
ロピル，乳酸エチル，酢酸グリコ−ルモノエチルエ−テ
ル等のエステル系；ジエチルエ−テル，テトラヒドロフ
ラン，グリコ−ルジメチルエ−テル，グリコ−ルモノエ
チルエ−テル，ジオキサンなどのエ−テル系；ベンゼ
ン，トルエン，キシレン，クレゾ−ル，クロルベンゼ
ン，スチレンなどのタ−ル系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド，エチレンクロライド，四塩化炭素，ク
ロロホルム，エチレンクロルヒドリン，ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド，ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以
下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等）を含んでもよい。 これらの溶剤は磁性液
もしくはバック液、下塗液の合計固形分１００重量部に
対して１００〜２０００００重量部で用いられる。 好
ましい磁性液の固形分率は５〜４０重量％である。 ま
たバック液の好ましい固形分率は５〜３０重量％であ
る。 有機溶媒の代わりに水系溶媒（水、アルコー
ル、アセトン等）を使用することもできる。

【００２４】磁気記録層やバック層の形成は上記の組成
などを任意に組合せて有機溶媒に単独もしくは複合して
含浸、溶解、混合、分散、混練、希釈を任意の順序で組
み合わせて塗布溶液を作成して支持体上に塗布・乾燥・
配向する。テ−プもしくはディスクとして使用する場合
には支持体の厚み２．５〜５００ミクロン程度，好まし
くは３〜１００ミクロン程度が良い。素材としてはポリ
エチレンナフタレ−ト、ポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックが好ましい。
これら支持体に関しては例えば 西独特許３３３８８５
４Ａ，特開昭５９−１１６９２６号，特開昭６１−１２
９７３１号，米国特許４３８８３６８号；三石幸夫著，
『繊維と工業』３１巻 ｐ５０〜５５，１９７５年など
に記載されている。ビデオテープ等の場合これら支持体
の中心線平均表面粗さは０．１〜３０ナノメーター（ｎ
ｍ）（カットオフ値０．２５ｍｍ）が好ましい。またこ
れら支持体のヤング率（Ｆ５値）は目的に応じて、巾方
向、長手方向とも２〜１００Ｋｇ／ｍｍ2 を選択するこ
とが出来る。

【００２５】分散、混練の方法には特に制限はなく，ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、同一原料の分割添加、分散温
度（０〜８０℃）、湿度などは適宜設定することができ
る。磁性塗料およびバック層塗料の調製には通常の混練
機，例えば，二本ロ−ルミル，三本ロ−ルミル，ボ−ル
ミル，ペブルミル，トロンミル，サンドグラインダ−，
ツエ グバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトライタ−，高速イ
ンペラ−，分散機，高速スト−ンミル，高速度衝撃ミ
ル，ディスパ−，ニ−ダ−，高速ミキサ−，リボンブレ
ンダ−，コニ−ダ−，インテンシブミキサ−，タンブラ
−，ブレンダ−，ディスパ−ザ−，ホモジナイザ−，単
軸スクリュ−押し出し機，二軸スクリュ−押し出し機，
及び超音波分散機などを用いることができる。通常分散
・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、連続的に
処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は，Ｔ．Ｃ．
ＰＡＴＴＯＮ著（テ−．シ−．パットン）“Ｐａｉｎｔ
Ｆｌｏｗ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐｅｒｓ
ｉｏｎ”（ペイント フロ− アンド ピグメントデ
イ スパ−ジョン）１９６４年Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆
Ｓｏｎｓ社発行（ジョン ウイリ− アンド サン
ズ））や田中信一著『工業材料』２５巻３７（１９７
７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。これ
ら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく進
めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径
のスチールボール、スチールビーズ、セラミツクビー
ズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることが
出来る。またこれら材料は球形に限らない。また，米国
特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５６号など
の明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍
や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混
練分散を行い磁性塗料およびバック層塗料を調製するこ
とができる。硬化剤や一部添加剤（磁性体と反応性の高
い脂肪酸、燐酸、ホスホン酸、スルホン酸、及びこれら
のエステル類）は、塗布直前にミキシングバルブ等の添
加機を用いて、塗布液に添加してもよい。

【００２６】支持体上へ前記の磁気記録層用塗布液なら
びにバック層用塗布液、下塗液を塗布する方法としては
塗布液の粘度を１〜２００００センチストークス（２５
°Ｃ）に調整し、エア−ドクタ−コ−ト，ブレ−ドコ−
ト，エアナイフコ−ト，スクイズコ−ト，含浸コ−ト，
リバ−スロ−ルコ−ト，トランスファ−ロ−ルコ−ト，
グラビアコ−ト，キスコ−ト，キヤストコ−ト，スプレ
イコ−ト、ロッドコ−ト、正回転ロ−ルコ−ト、カ−テ
ンコ−ト、押出コ−ト、バ−コ−ト、エクストルージョ
ンコート等が利用出来，その他の方法も可能であり，こ
れらの具体的説明は朝倉書店発行の『コ−テイング工
学』２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発行）
等に詳細に記載されている。これら塗布液の塗布の順番
は任意に選択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層
塗布を連続して行っても良い。また磁性層もしくはバッ
ク層を多層で構成したいときは、同時多層塗布、逐次多
層塗布等を行ってもよい。これらは，例えば，特開昭５
７−１２３５３２号公報，特公昭６２−３７４５１号公
報，特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１
６５２３９号公報の明細書等にしめされている。

【００２７】このような方法により，支持体上に約１〜
１００μｍ（固形分で０．１〜５０ｇ／ｍ²）厚みほど
で塗布された磁性液は必要により層中の磁性粉末を直ち
に２０〜１３０°Ｃで多段階で乾燥しながら５００〜５
０００Ｇ程で所望の方向（垂直、長手、幅、ランダム、
斜め等）へ配向させる処理を施したのち，形成した磁性
層を０．１〜１０μｍ厚みに乾燥する。このときの支持
体の搬送速度は，通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分でおこ
なわれ，複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０
℃で制御し塗布膜の残留溶剤量を０．０１〜４０ｍｇ／
ｍ2 とする。本発明ではこのあとスーパーカレンダー処
理を磁気記録媒体に施し表面平滑化加工を施し、磁性層
とバック層の中心線平均表面粗さを所望の値に調整し，
さらに所望の形状に裁断して，本発明の磁気記録体を製
造する。このときスーパーカレンダー処理は、対向の金
属ロールを用いることが好ましい。このとき磁気記録媒
体の処理する搬送速度は通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分
でおこなわれ，通常２回以上の多段の金属ロールで処理
し、その成形温度は５０℃〜１３０℃で行なうことが好
ましい。その余の処理は金属ロールと超硬度プラスチッ
ク、超硬度プラスチック同志の組合せを用いてもよい。

【００２８】これらの製造方法は粉体の予備処理・表面
処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、平滑処理、熱処
理、ＥＢ処理、表面研磨処理、裁断、巻き取りの工程を
連続して行うことが望ましい。これらは，例えば，特公
昭４０−２３６２５号公報，特公昭３９−２８３６８号
公報，特公昭４７−３８８０２号公報、英国特許１１９
１４２４号、特公昭４８−１１３３６号公報、特開昭４
９−５３６３１号、特開昭５０−１１２００５号、特開
昭５１−７７３０３号、特公昭５２−１７４０４号、特
開昭６０−７０５３２号公報、特開平２−２６５６７２
号、米国特許第３４７３９６０号、米国特許第４７２８
５６９号、米国特許４７４６５４２号明細書等にしめさ
れている。叉，特公昭４１−１３１８１号公報にしめさ
れる方法はこの分野における基本的，且つ重要な技術と
考えられている。

【００２９】このように作成した磁気記録媒体を裁断し
たあと所望のプラスチックや金属のリールに巻き取る。
巻き取る直前ないしはそれ以前の工程において磁気記録
媒体（磁性層、バック層、エッジ端面、ベース面）をバ
ーニシュおよびまたはクリーニングを行うことが望まし
い。バーニツシュは磁気記録媒体を具体的にサファイア
刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、セラミック
ス刃のような硬い材料により磁気記録媒体表面の突起部
分をそぎおとし平滑にする。これら材料のモース硬度は
８以上が好ましいが特に制限はなく突起を除去できるも
のであれば良い。これら材料の形状は特に刃である必要
はなく、角型、丸型、ホイール（回転する円筒形状の周
囲にこれらの材質を付与しても良い）のような形状でも
使用できる。また磁気記録媒体のクリーニングは、磁気
記録媒体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で磁
気記録媒体表層を不織布などで磁性層面、バック層面、
エッジ端面、バック側のベース面をワイピングすること
により行う。このようなワイピングの材料としては例え
ば日本バイリーン製の各種バイリーンや東レ製のトレシ
ー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィルム
製各種研磨テープ、また不織布はナイロン製不織布、ポ
リエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリロニト
リル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペーパー等
が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９３０９
号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９０４２
９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−２５９
８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載されて
いる。特に本発明においては、モース硬度９以上の材質
からなる回転刃もしくは研磨テープで処理することが必
要で、回転刃の場合は、巻き付け角度１８０度以上、回
転刃９００回転以上で処理する事が好ましい。研磨テー
プで処理する場合は接触面が０．１ｍｍ以上あることが
必要である。このときの磁気記録媒体にかかるテンショ
ンは１／２吋幅あたり２００ｇ以上であることが必要
で、この処理装置の前後でのテンション変化が２００ｇ
以上であることが必要である。

【００３０】

【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明する。ここに示す成分，割合，操作順序等は本発明の
精神から逸脱しない範囲において変更しうるものである
ことは本業界に携わるものにとつては容易に理解される
ことである。従って，本発明は下記の実施例に制限され
るべきではない。猶を，実施例中の部は重量部をしめ
す。

【００３１】実施例１ 下記に示す組成の磁性塗料（１）をオープンニーダーで
混練し、組成（２）を加えた後サンドミルで分散し、塗
布前に（３）を加えて、調整して乾燥後の磁性層の厚さ
が２．０μｍになるように予め下塗層を施した厚さ７．
０μｍの非磁性支持体ポリエチレンナフタレート（ＭＤ
方向のヤング率９００Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向のヤング
率７００Ｋｇ／ｍｍ²）上に塗布した。

【００３２】 磁性塗料組成 （１）強磁性合金粉末 １００部 （Ｆｅ金属粉末，Ｓｉ５重量％、比表面積 〔Ｓ−BET〕：６０ｍ2 ／ｇ） 燐酸エステル（フェニルスルフォン酸） ２部 オレイン酸鉄 ０．１部 塩化ビニル共重合体樹脂 ９部 （日本ゼオン株製：ＭＲ１１０） ウレタン樹脂 ３部 （東洋紡：ＵＲ８６００） パルミチン酸２エチルヘキシル ０．５部 シクロヘキサノン ３０部 メチルエチルケトン ２０部

【００３３】 （２）カ−ボンブラック（コンダクテックスＳＣ） ０．４部 ウレタン樹脂 １部 （東洋紡：ＵＲ８６００） メチルエチルケトン １０部 以上分散物 研磨剤（住友化学：Ｈｉｔ５５） １０部 塩化ビニル樹脂 １部 （日本ゼオン：ＭＲ１１０） メチルエチルケトン ４０部 以上分散物 シクロヘキサノン ６０部

【００３４】 （３）ポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン ：コロネ−ト３０４０） ３部 メチルエチルケトン ５０部 トルエン ３０部 ステアリン酸ジブチルアミド ０．５部 ミリスチン酸 ０．３部 ステアリン酸ブトキシエチル ０．５部

【００３５】磁性塗料を塗布した非磁性支持体を，磁性
塗料が未乾燥の状態で磁場配向処理、乾燥を行い，引続
き下記のバック塗料（１）に塗布直前に（２）を加え乾
燥後厚み０．６μｍで塗布した。さらに乾燥後金属カレ
ンダ−処理を１００℃、線圧３５０Ｋｇ／ｃｍ、速度２
００ｍ／ｍｉｎで５回行い，その後１／２インチ幅にス
リットした。引続きテ−プを２％ダイアモンド（１μ
ｍ）−９８％アルミナ（０．５μｍ）のラッピングテー
プで磁性層を接触距離１００ｍｍ、テンション４００ｇ
／幅で処理し、Ｈｃ１７００Ｏｅ、ＳＱ０．９１、Ｒａ
３ｎｍ、光沢２６０（４５度反射）、バック層Ｒａ７ｎ
ｍのビデオテープを作成した。その結果の一覧を表１に
示した。

【００３６】 バック塗料組成 （１）カーボンブラック（キャボットＢＰ８００） ９０部 カーボンブラック（カンカルブＭＴＣＩ） １０部 α−アルミナ（住友化学ＨＩＴ１００） ０．２部 硫酸バリウム（堺化学ＢＦ１） ０．２部 ステアリン酸２エチルヘキシル ０．５部 オレイン酸銅 ０．１部 塩化ビニル共重合体樹脂 ４０部 （日本ゼオン株製：ＭＲ１１０） ウレタン樹脂 ３０部 （東洋紡：ＵＲ８３００） シクロヘキサノン ２００部 メチルエチルケトン ３００部 （２）ポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン株製 ：コロネ−ト３０４０） ２０部 メチルエチルケトン ３５００部 トルエン ２００部 シリコーン（信越化学ＫＦ６９） ０．１部

【００３７】 表１ ラッヒ゜ンク゛ 研磨材 研磨材 初期ヘッド VTR互換 低湿 処理 高さ 個数 摩耗 出力差 出力 (テンション) (ｎｍ） (ケ/100μm²) (μ/100H) (dB) 低下(dB) 実施例１ 有り(400g) ２ ２００ １０ ０ −２ ２ 〃(350g) ４ ２００ １５ ２ −２ ３ 〃(300g) ６ ２００ ２３ ３ −１ ４ 〃(250g) ８ ２００ ３０ ４ −１ ５ 〃(200g) １２ ２００ ３５ ６ −１ ６ 〃(300g) ８ ４００ ３０ ３ −１ ７ 〃(300g) ７ ２５０ ２５ ４ −２ 比較例１ 有り(50g) １４ ２００ ８０ １２ −４ ２ 無し ２０ ２００ １００ １４ −２ ３ 〃 １６ ８０ ８０ １２ −６＞

【００３８】 注１） 実施例６は実施例１において研磨材（Ｈｉｔ
５５）量を１５ｇとした。 注２） 実施例７は実施例１において研磨材を０．５
μｍの酸化クロムとした。 注３） 比較例３は実施例１において研磨材（Ｈｉｔ
５５）量を４．５ｇとした。 注４） 初期ヘッド摩耗は、Ｍ２ＶＴＲで新品９０分
長２巻走行させ、１００時 間換算した。 注５） ＶＴＲ互換差は、Ｍ２ＶＴＲヘッドの取り付
け角度の異なる３台のＶＴＲを準備し、１台で記録再生
し、その時の出力と、そのテープを別のＶＴＲで再生し
たときの最大出力差を求めた。 注６） 低湿環境での出力低下は、２３℃１０％ＲＨ
の条件で９０分長走行させ低湿下での出力低下を観測し
た。

【００３９】実施例から、研磨材高さを制御すると初期
ヘッド摩耗、ＶＴＲ互換出力差、低湿出力低下において
非常に優れることが分かる。またこの時磁性層に含まれ
る強磁性微粉末１００重量部あたり研磨材は５部以上あ
ることが必要で且つ研磨材高さを１５ｎｍ以下にするこ
とが非常に効果がある。

【００４０】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体
上に強磁性微粉末とバインダー、モース硬度８以上の研
磨材を含む磁性層を設け、該磁性層の磁性層表面粗さの
中心線より上に存在し且つ磁性層表層に存在する研磨材
の上端部までの平均突起高さを１５ｎｍ以下とすること
により、ＶＴＲのヘッド摩耗が少なく走行耐久性に優れ
る磁気記録媒体が得られた。特に磁性層に含まれる研磨
材がアルミナ、酸化クロム、ダイアモンドの少なくとも
１種類であり、磁性層の表面粗さが０．１ｎｍから６ｎ
ｍである時、ＶＴＲヘッドと磁気記録媒体の耐久性に優
れる磁気記録媒体を得られた。また磁性層の表層に存在
する研磨材が１００μｍ²あたり１００〜１０００個で
あり、磁性層に含まれる研磨材は強磁性微粉末１００部
あたり５〜２０重量部で、かつ磁性層の強磁性微粉末の
比表面積が４７ｍ²／ｇ以上の金属粉末であることによ
り、高出力と適切な研磨能が得られた。また磁性層を塗
設してなる非磁性支持体の裏面に表面粗さが２ｎｍ〜１
５ｎｍのバック層を有することによりきわめてすぐれる
走行耐久性が得られた。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に強磁性微粉末とバイン
   ダーおよびモース硬度８以上の研磨材を含む磁性層を設
   けた磁気記録媒体記録において、該磁性層の磁性層表面
   粗さの中心線より上に存在し且つ磁性層表層に存在する
   研磨材の上端部までの平均突起高さが１５ｎｍ以下であ
   ることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁性層に含まれる研磨材がアルミ
   ナ、酸化クロム、ダイアモンドより選ばれた少なくとも
   １種であることを特徴とする請求項第１項記載の磁気記
   録媒体。
3. 【請求項３】 前記磁性層の表面粗さが０．１ｎｍから
   ６ｎｍであり、且つ前記磁性層を塗設してなる非磁性支
   持体の裏面に表面粗さが２ｎｍ〜１５ｎｍのバック層を
   有することを特徴とする請求項第１項記載の磁気記録媒
   体。
4. 【請求項４】 前記磁性層の表面層に存在する研磨材が
   １００μｍ²あたり１００〜１０００個であり、且つ前
   記磁性層に含まれる研磨材は強磁性微粉末１００重量部
   あたり５〜２０重量部であることを特徴とする請求項第
   １項記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記強磁性微粉末が比表面積４７ｍ²／
   ｇ以上の金属粉末であることを特徴とする請求項第１項
   記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 非磁性支持体上に強磁性微粉末とバイン
   ダーおよびモース硬度８以上の研磨材を含む磁性層を塗
   布した後、搬送速度１０ｍ／分〜９００ｍ／分、成形温
   度５０℃〜１３０℃で２回以上、多段の対向金属ロ−ル
   によりス−パ−カレンダ−処理し次いでバ−ニッシュ処
   理をして、磁性層表層に存在する研磨材の上端部までの
   平均突起高さを１５ｎｍ以下とすることを特徴とする磁
   気記録媒体の製造方法。