JPH06199964A - 高光屈折する合成樹脂 - Google Patents
高光屈折する合成樹脂Info
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- JPH06199964A JPH06199964A JP5251739A JP25173993A JPH06199964A JP H06199964 A JPH06199964 A JP H06199964A JP 5251739 A JP5251739 A JP 5251739A JP 25173993 A JP25173993 A JP 25173993A JP H06199964 A JPH06199964 A JP H06199964A
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- carbon atoms
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
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- C08F20/38—Esters containing sulfur
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 無色、透明で高い屈折率および同時に高いア
ッベ数を有する合成樹脂を提供する。 【構成】 分子中に少なくとも2個のチオール基を含有
する、少なくとも2〜20個の炭素原子を有するアルキ
ルチオール(A)と、分子中に(メタ)アクリル酸でエ
ステル化した少なくとも2個のチオール基を有し、アル
キル基で少なくとも2〜14個の炭素原子を有するアル
キルポリチオールエステル(B)とをラジカル重合の条
件のもとで反応させることにより得られる。
ッベ数を有する合成樹脂を提供する。 【構成】 分子中に少なくとも2個のチオール基を含有
する、少なくとも2〜20個の炭素原子を有するアルキ
ルチオール(A)と、分子中に(メタ)アクリル酸でエ
ステル化した少なくとも2個のチオール基を有し、アル
キル基で少なくとも2〜14個の炭素原子を有するアル
キルポリチオールエステル(B)とをラジカル重合の条
件のもとで反応させることにより得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルキルポリチオールと
(メタ)アクリル酸のアルキルポリチオールエステルと
のラジカル重合の条件のもとでの反応により製造される
高光屈折する合成樹脂に関する。
(メタ)アクリル酸のアルキルポリチオールエステルと
のラジカル重合の条件のもとでの反応により製造される
高光屈折する合成樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】高光屈折能は、光学的部材で使用すべき
樹脂にとって特に有利である。
樹脂にとって特に有利である。
【0003】この物質特性は、例えば合成樹脂に硫黄原
子を組込むことによって達成することができる。ポリマ
ー連鎖に硫黄を組込む1つの手段は有機性イソシアネー
トのチオール付加から出発する。こうしてヨーロッパ特
許出願公開第0 235 743号、同第0 330
363号および同第0 351 073号明細書には、
ポリチオールおよびポリイソシアネートから、ないしは
硫黄含有のポリイソシアネートないしはポリイソチオシ
アネートから製造された、高光屈折する合成樹脂として
のポリマーが開示されている。
子を組込むことによって達成することができる。ポリマ
ー連鎖に硫黄を組込む1つの手段は有機性イソシアネー
トのチオール付加から出発する。こうしてヨーロッパ特
許出願公開第0 235 743号、同第0 330
363号および同第0 351 073号明細書には、
ポリチオールおよびポリイソシアネートから、ないしは
硫黄含有のポリイソシアネートないしはポリイソチオシ
アネートから製造された、高光屈折する合成樹脂として
のポリマーが開示されている。
【0004】しかしこの種のポリウレタン誘導体は、ハ
ロゲン含有の、芳香族のジチオールでのポリマーを除い
ては、ふつう光のあまりに高い分散を有する、しかもこ
の場合ハロゲン含有は加工においてしかして毒性に関し
どうしても不利をまぬがれない。チオール−エン−付加
も同様に光学材料の製造に、例えばポリチオールの、多
重不飽和化合物への付加生成物の形で援用することがで
きる。この意味で、例えば二官能性のアルコールのジメ
タクリレートが使用される(例えば、ヨーロッパ特許公
開第437 374号、同第284 374号明細書参
照)。しかしこの種の材料はあまりに低い屈折率を有す
る。ヨーロッパ特許公開第394 495号明細書での
請求のポリマーは極めて高い屈折率(>1.65)を有
するが、それでも芳香族ジエン(4,4′−ビス(メ
タ)アクリロイルチオ)ジフェニルスルフィド)が光の
高分散を引き起している。
ロゲン含有の、芳香族のジチオールでのポリマーを除い
ては、ふつう光のあまりに高い分散を有する、しかもこ
の場合ハロゲン含有は加工においてしかして毒性に関し
どうしても不利をまぬがれない。チオール−エン−付加
も同様に光学材料の製造に、例えばポリチオールの、多
重不飽和化合物への付加生成物の形で援用することがで
きる。この意味で、例えば二官能性のアルコールのジメ
タクリレートが使用される(例えば、ヨーロッパ特許公
開第437 374号、同第284 374号明細書参
照)。しかしこの種の材料はあまりに低い屈折率を有す
る。ヨーロッパ特許公開第394 495号明細書での
請求のポリマーは極めて高い屈折率(>1.65)を有
するが、それでも芳香族ジエン(4,4′−ビス(メ
タ)アクリロイルチオ)ジフェニルスルフィド)が光の
高分散を引き起している。
【0005】従来技術の硫黄含有のポリマーは光学的部
材としての適性の見地のもとでまたは機械的見地で、必
ずしも完全には満足できない。
材としての適性の見地のもとでまたは機械的見地で、必
ずしも完全には満足できない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、透明、無色で高い屈折率および同時に高いアッベ数
を有する合成樹脂を提供することであった。ところで、
ポリチオールと多官能のアルキルチオ(メタ)アクリレ
ートとの反応で同時に進行する重合および重付加のもと
で極めて良好な光学的特性を有する透明で無色のポリマ
ーを取得することができることを見出した。
は、透明、無色で高い屈折率および同時に高いアッベ数
を有する合成樹脂を提供することであった。ところで、
ポリチオールと多官能のアルキルチオ(メタ)アクリレ
ートとの反応で同時に進行する重合および重付加のもと
で極めて良好な光学的特性を有する透明で無色のポリマ
ーを取得することができることを見出した。
【0007】
【課題を解決するための手段】こうして前記課題は本発
明により、ポリチオールと多重不飽和モノマーとの反応
により製造される高光屈折する合成樹脂Kによって解決
される、その際分子中に2個以上のチオール基を含有
し、アルキル基で少なくとも2個から20個までの炭素
原子を有するチオール(A)と、分子中に(メタ)アク
リル酸でエステル化した2個以上のチオール基を有し、
アルキル基で少なくとも2個から24個まで、有利には
12個までの炭素原子を有するアルキルポリチオールエ
ステル(B)と、ラジカル重合の条件のもとで反応させ
る、但し存在する二重結合に対するメルカプト基の数比
は≦1とするものとする。有利には該比は<0.5であ
る。
明により、ポリチオールと多重不飽和モノマーとの反応
により製造される高光屈折する合成樹脂Kによって解決
される、その際分子中に2個以上のチオール基を含有
し、アルキル基で少なくとも2個から20個までの炭素
原子を有するチオール(A)と、分子中に(メタ)アク
リル酸でエステル化した2個以上のチオール基を有し、
アルキル基で少なくとも2個から24個まで、有利には
12個までの炭素原子を有するアルキルポリチオールエ
ステル(B)と、ラジカル重合の条件のもとで反応させ
る、但し存在する二重結合に対するメルカプト基の数比
は≦1とするものとする。有利には該比は<0.5であ
る。
【0008】アルキルチオール(A)は有利には、立体
的に見て、高い相対密度の硫黄原子が存在するように構
成されている。このことは、例えば分枝のまたは環式の
骨組を使用すれば達成することができる。その例として
はネオペンチル骨格である。その際チオール基導入のた
めには有利には、例えばチオグリコール酸でエステル化
した現存するヒドロキシ基から出発することができる。
このようにして、例えばペンタエリトリットをチオグリ
コール酸でペンタエリトリットテトラチオグリコラート
(化合物A−I)にエステル化することができる。同様
にしてまた環式ポリオールも例えば糖アルコールもエス
テル化できる。アルキルポリチオールエステル(B)は
一般に式I:
的に見て、高い相対密度の硫黄原子が存在するように構
成されている。このことは、例えば分枝のまたは環式の
骨組を使用すれば達成することができる。その例として
はネオペンチル骨格である。その際チオール基導入のた
めには有利には、例えばチオグリコール酸でエステル化
した現存するヒドロキシ基から出発することができる。
このようにして、例えばペンタエリトリットをチオグリ
コール酸でペンタエリトリットテトラチオグリコラート
(化合物A−I)にエステル化することができる。同様
にしてまた環式ポリオールも例えば糖アルコールもエス
テル化できる。アルキルポリチオールエステル(B)は
一般に式I:
【0009】
【化1】
【0010】[式中、Rは水素原子またはメチル基を表
わしYは場合によりエーテルまたはチオエーテル基を含
有する、場合により分枝の、場合により環式の、2〜2
4、有利には2〜12個の炭素原子を有し、場合により
さらに基:
わしYは場合によりエーテルまたはチオエーテル基を含
有する、場合により分枝の、場合により環式の、2〜2
4、有利には2〜12個の炭素原子を有し、場合により
さらに基:
【0011】
【化2】
【0012】で置換することができるアルキル基を表わ
す]で現わすことができる。
す]で現わすことができる。
【0013】またここでも、分子中の硫黄原子の高い立
体的密度は有利であることがあてはまる。例を挙げれば
エタンジチオールジメタクリレート、プロパンジチオー
ルジメタクリレートである。
体的密度は有利であることがあてはまる。例を挙げれば
エタンジチオールジメタクリレート、プロパンジチオー
ルジメタクリレートである。
【0014】出発化合物(A)および(B)そのものは
公知であり、ないしはそれらは常法でないしは常法に準
拠した方法で製造される。
公知であり、ないしはそれらは常法でないしは常法に準
拠した方法で製造される。
【0015】ラジカル重合の公知の条件下での化合物
(A)および(B)の反応(H.Rauch−Punt
igam、Th.Voelker、Acryl−und
Methacrylverlindungen、Sp
ringer−VerlagBerlin、Heide
lberg、New York 1967参照)におい
ては重合もまた重付加も考慮されなければならない。
(A)および(B)の反応(H.Rauch−Punt
igam、Th.Voelker、Acryl−und
Methacrylverlindungen、Sp
ringer−VerlagBerlin、Heide
lberg、New York 1967参照)におい
ては重合もまた重付加も考慮されなければならない。
【0016】開始剤としてはそれ自身公知のラジカル開
始剤、例えばアゾ開始剤例アゾビス(イソブチロニトリ
ル)(AIBN)が通常の量で、例えばモノマーに対し
0.1〜1重量%の量が該当する。
始剤、例えばアゾ開始剤例アゾビス(イソブチロニトリ
ル)(AIBN)が通常の量で、例えばモノマーに対し
0.1〜1重量%の量が該当する。
【0017】重合は例えば固体重合として行うことがで
きる、この際−PMMAの塊状重合に準拠し−二枚のガ
ラス板の間で重合させる。しかし例えばまた溶液重合も
可能である。成分(A)および(B)から構成された合
成樹脂Kはなおアクリレート化学から公知の添加剤例え
ば安定化剤、離型剤場合によりまた着色剤も含有してい
てよい(R.Gaechter und H.Muel
ler,Taschenbuch der Kunst
sobb−Additive、Hanser−Verl
ag 1979参照)。
きる、この際−PMMAの塊状重合に準拠し−二枚のガ
ラス板の間で重合させる。しかし例えばまた溶液重合も
可能である。成分(A)および(B)から構成された合
成樹脂Kはなおアクリレート化学から公知の添加剤例え
ば安定化剤、離型剤場合によりまた着色剤も含有してい
てよい(R.Gaechter und H.Muel
ler,Taschenbuch der Kunst
sobb−Additive、Hanser−Verl
ag 1979参照)。
【0018】塊状重合では好ましくは成分(A)および
(B)および開始剤からの均一な混合物を作り、これを
ガラス板の間に満すように行う。重合の始動はエネルギ
ー導入、例えばエネルギー豊富な放射、特にUV−光で
または加温で、好ましくは水浴で長い時間にわたって、
例えば24〜30時間にわたって行う。好ましくは重合
を増加する温度で、例えば温度間隔40〜90℃で行
う。こうして完全に透明で、無色で、硬質の板の形で合
成樹脂Kを得る。
(B)および開始剤からの均一な混合物を作り、これを
ガラス板の間に満すように行う。重合の始動はエネルギ
ー導入、例えばエネルギー豊富な放射、特にUV−光で
または加温で、好ましくは水浴で長い時間にわたって、
例えば24〜30時間にわたって行う。好ましくは重合
を増加する温度で、例えば温度間隔40〜90℃で行
う。こうして完全に透明で、無色で、硬質の板の形で合
成樹脂Kを得る。
【0019】本発明による合成樹脂Kは数多くの用途、
特に光学の分野に極めて良く適している。これから例え
ば、プリズム、レンズ、眼鏡ガラスおよびその外の光学
部材を製造することができる。例えば(メタ)アクリル
エステル(B)からのホモポリマーとの比較により本発
明による合成樹脂Kはこのホモポリマーにその機械的特
性で明らかにすぐれていることが判明した。(A)と、
(B)に相応する(硫黄不含の)ポリオールの(メタ)
アクリルエステルとのコポリマーははるかに劣悪な光学
的特性を生じる。
特に光学の分野に極めて良く適している。これから例え
ば、プリズム、レンズ、眼鏡ガラスおよびその外の光学
部材を製造することができる。例えば(メタ)アクリル
エステル(B)からのホモポリマーとの比較により本発
明による合成樹脂Kはこのホモポリマーにその機械的特
性で明らかにすぐれていることが判明した。(A)と、
(B)に相応する(硫黄不含の)ポリオールの(メタ)
アクリルエステルとのコポリマーははるかに劣悪な光学
的特性を生じる。
【0020】
【実施例】次に、本発明を以下の実施例につき詳細に説
明する。
明する。
【0021】屈折率およびアッベ数の測定はアッベ−屈
折計で行った。アッベ数を分散表から読み取ることがで
きる(DIN53 491;Ullmamns Enc
yclopaedie der Tech.Chemi
e、4.Auflage,Bd.15、S.368,V
erlag Chemie 1978参照)。
折計で行った。アッベ数を分散表から読み取ることがで
きる(DIN53 491;Ullmamns Enc
yclopaedie der Tech.Chemi
e、4.Auflage,Bd.15、S.368,V
erlag Chemie 1978参照)。
【0022】例1: エタンジチオールジメタクリレートおよびペンタエリト
リットテトラチオグリコラートモル比1:0.25から
のポリマー。
リットテトラチオグリコラートモル比1:0.25から
のポリマー。
【0023】エタンジチオールジメタクリレート23
g、ペンタエリトリットテトラチオグリコラート10.
8gおよびアゾ−ビス(イソブチロニトリル)135m
gの溶液を2枚のガラス板(約90×120×3mm)
の間に満し28時間内に温度40〜90℃を有する水浴
で重合した。得られた合成樹脂板は硬質、透明で無色で
あった。nD=1.5989;アッベ数38.9。成分
B:Aのモル比が例えば1:0.125の際には屈折率
1.6024を有する生成物を得た。
g、ペンタエリトリットテトラチオグリコラート10.
8gおよびアゾ−ビス(イソブチロニトリル)135m
gの溶液を2枚のガラス板(約90×120×3mm)
の間に満し28時間内に温度40〜90℃を有する水浴
で重合した。得られた合成樹脂板は硬質、透明で無色で
あった。nD=1.5989;アッベ数38.9。成分
B:Aのモル比が例えば1:0.125の際には屈折率
1.6024を有する生成物を得た。
【0024】例2:(比較) エチレングリコールジメタクリレートおよびペンタエリ
トリットテトラチオグリコラートからのポリマー エチレングリコールジメタクリレート23.8g、ペン
タエリトリットテトラチオグリコラート13.0gおよ
びアゾ−ビス(イソブチロニトリル)148mgからな
るモノマー混合物を例1記載のように重合した。同様に
透明で硬質のポリマーは屈折率nD=1.5356およ
びアッベ数51を示した。
トリットテトラチオグリコラートからのポリマー エチレングリコールジメタクリレート23.8g、ペン
タエリトリットテトラチオグリコラート13.0gおよ
びアゾ−ビス(イソブチロニトリル)148mgからな
るモノマー混合物を例1記載のように重合した。同様に
透明で硬質のポリマーは屈折率nD=1.5356およ
びアッベ数51を示した。
【0025】例3:(比較) エタンジチオールジメタクリレートからのホモポリマー ホモポリマーを例1および2に相当して製造した。透明
の、しかし著しい脆弱性物質を得た。屈折率nD=1.
6075、アッベ数35。
の、しかし著しい脆弱性物質を得た。屈折率nD=1.
6075、アッベ数35。
【0026】例4: プロパンジチオールジメタクリレート、1,9−ビス
(メタクリルチオ)−3,7−ジチアノナンおよびペン
タエリトリットテトラチオグリコラートモル比2:1:
0.75からのポリマー プロパンジチオールジメタクリレート16.3g、1,
9−ビス(メタクリルチオ)−3,7−ジチアノナン1
2.1g、ペンタエリトリットテトラチオグリコラート
10.8gおよびアゾビス(イソブチロニトリル)15
7mgの溶液を2枚のガラス板(約90×120×3m
m)の間に満し28時間内に40〜90℃の温度を有す
る水浴で重合した。得られた合成樹脂板は硬質、透明で
無色であった。屈折率およびアッベ数は表を参照、衝撃
強さは16.1kJ/m2であった(ISO179によ
り測定)。
(メタクリルチオ)−3,7−ジチアノナンおよびペン
タエリトリットテトラチオグリコラートモル比2:1:
0.75からのポリマー プロパンジチオールジメタクリレート16.3g、1,
9−ビス(メタクリルチオ)−3,7−ジチアノナン1
2.1g、ペンタエリトリットテトラチオグリコラート
10.8gおよびアゾビス(イソブチロニトリル)15
7mgの溶液を2枚のガラス板(約90×120×3m
m)の間に満し28時間内に40〜90℃の温度を有す
る水浴で重合した。得られた合成樹脂板は硬質、透明で
無色であった。屈折率およびアッベ数は表を参照、衝撃
強さは16.1kJ/m2であった(ISO179によ
り測定)。
【0027】例5: プロパンジチオールジメタクリレートおよびペンタエリ
トリットテトラチオグリコラートモル比1:0.125
からのポリマー。
トリットテトラチオグリコラートモル比1:0.125
からのポリマー。
【0028】例1と同様に実施したが、但しプロパンジ
チオールジメタクリレート30.4g、ペンタエリトリ
ットテトラチオグリコラート6.75gおよびアゾビス
(イソブチロニトリル)148mgを使用した。こうし
て硬質の、透明および無色の板が生じた。屈折率および
アッベ数は表1参照。
チオールジメタクリレート30.4g、ペンタエリトリ
ットテトラチオグリコラート6.75gおよびアゾビス
(イソブチロニトリル)148mgを使用した。こうし
て硬質の、透明および無色の板が生じた。屈折率および
アッベ数は表1参照。
【0029】例6: エタンジチオールジメタクリレート、1,5−ビス(メ
タクリルチオ)−3−チアペンタおよびペンタエリトリ
ットテトラチオグリコラートモル比1:1:0.25か
らのポリマー。
タクリルチオ)−3−チアペンタおよびペンタエリトリ
ットテトラチオグリコラートモル比1:1:0.25か
らのポリマー。
【0030】例4と同様に実施したが、但し2,5−ビ
ス(メタクリルチオ)−3−チアペンタン17.4g、
エタンジチオールメタクリレート13.8g、ペンタエ
リトリットテトラチオグリコラート6.45gおよびア
ゾビス(イソブチロニトリル)150mgを使用した。
こうして硬質の、透明で無色の板が生じた;屈折率およ
びアッベ数は表1参照。
ス(メタクリルチオ)−3−チアペンタン17.4g、
エタンジチオールメタクリレート13.8g、ペンタエ
リトリットテトラチオグリコラート6.45gおよびア
ゾビス(イソブチロニトリル)150mgを使用した。
こうして硬質の、透明で無色の板が生じた;屈折率およ
びアッベ数は表1参照。
【0031】例7: プロパンジチオールジメタクリレートおよびグリセリン
トリチオグリコラートモル比1:0.166からのポリ
マー。
トリチオグリコラートモル比1:0.166からのポリ
マー。
【0032】例4と同様に実施したが、ただ1,3−プ
ロパンジチオールジメタクリレート34.8g、グリセ
リントリチオグリコラート7.4gおよびアゾビス(イ
ソブチロニトリル)169mgを使用した。こうして硬
質、透明および無色の板が生じた;屈折率およびアッベ
数は表1参照。
ロパンジチオールジメタクリレート34.8g、グリセ
リントリチオグリコラート7.4gおよびアゾビス(イ
ソブチロニトリル)169mgを使用した。こうして硬
質、透明および無色の板が生じた;屈折率およびアッベ
数は表1参照。
【0033】例8: プロパンジチオールジメタクリレートおよびペンタエリ
トリットテトラキスメルカプトプロピオナートモル比
1:0.125からのポリマー。
トリットテトラキスメルカプトプロピオナートモル比
1:0.125からのポリマー。
【0034】例4と同様に実施したが、ただ1,3−プ
ロパンジチオールジメタクリレート36.5g、ペンタ
エリトリットテトラキスメルカプトプロピオナート9.
1gおよびアゾビス(イソブチロニトリル)185mg
を使用した。こうして硬質の、透明および無色の板が生
じた;屈折率およびアッベ数は表1参照。
ロパンジチオールジメタクリレート36.5g、ペンタ
エリトリットテトラキスメルカプトプロピオナート9.
1gおよびアゾビス(イソブチロニトリル)185mg
を使用した。こうして硬質の、透明および無色の板が生
じた;屈折率およびアッベ数は表1参照。
【0035】 表1.ポリマーの特性 例 アルキルポリチオール アルキルチオール モル比 屈折率 アッベ数 エステル(B) (A) n20 D 1 エタンジチオールジ ペンタエリトリッ 1:0.25 1.5989 38.6 メタクリレート トテトラチオグリ コラート エタンジチオールジ ペンタエリトリッ 1:0.125 1.6024 -- メタクリレート トテトラチオグリ コラート 4.プロパンジチオールジ ペンタエリトリッ 2:1:0.75 1.5978 39.3 メタクリレート/ビス トテトラチオグリ (メタクリルチオ) コラート ジチアノナン 5.プロパンジチオールジ ペンタエリトリッ 1:0.125 1.5946 41 メタクリレート トテトラチオグリ ラート 6.エタンジチオールジ ペンタエリトリッ 1:1:0.25 1.6084 37.8 メタクリレート/ビス トテトラチオグリ (メタクリルチオ) コラート チアペンタン 7.プロパンジチオールジ グリセリントリチ 1:0.166 1.5953 40 メタクリレート オグリコラート 8.プロパンジチオールジ ペンタエリトリッ 1:0.125 1.5893 40 メタクリレート トテトラキスメル カプトプロピオナ ート 比較例 2.エタンジチオールジ −− −− 1.6057 35脆弱性 メタクリレート 物質 3.エチレングリコールジ ペンタエリトリッ 1:0.25 1.5356 51 メタクリレート トテトラチオグリ コラート
Claims (4)
- 【請求項1】 アルキルポリチオールと多重の不飽和の
モノマーとの反応により製造される高光屈折する合成樹
脂において、分子中に2個以上のチオール基を含有す
る、少なくとも2個から20個までの炭素原子を有する
アルキルチオール(A)と、分子中に(メタ)アクリル
酸でエステル化した2個以上のチオール基を有し、アル
キル基中、少なくとも2個から14個までの炭素原子を
有するアルキルポリチオールエステル(B)とをラジカ
ル重合の条件のもとで反応させることにより得られる、
但し(A)中のメルカプト基の(B)中の二重結合に対
する数比が≦1であることを特徴とする高光屈折する合
成樹脂。 - 【請求項2】 アルキルチオール(A)としてペンタエ
リトリットテトラチオグリコラートを使用する請求項1
記載の高光屈折する合成樹脂。 - 【請求項3】 アルキルポリチオールエステル(B)とし
てエタンジチオールジメタクリレートを使用する請求項
1または2記載の高光屈折する合成樹脂。 - 【請求項4】 アルキルポリチオールエステル(B)と
してプロパンジチオールメタクリレートを使用する請求
項1また2記載の高光屈折する合成樹脂。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4234256.2 | 1992-10-10 | ||
DE4234256A DE4234256A1 (de) | 1992-10-10 | 1992-10-10 | Hochlichtbrechende Kunststoffe |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06199964A true JPH06199964A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=6470199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5251739A Pending JPH06199964A (ja) | 1992-10-10 | 1993-10-07 | 高光屈折する合成樹脂 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5422422A (ja) |
EP (1) | EP0592934A3 (ja) |
JP (1) | JPH06199964A (ja) |
DE (1) | DE4234256A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09152510A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-06-10 | Mitsubishi Chem Corp | 低複屈折光学部材及びその製造方法 |
JP2008528711A (ja) * | 2005-01-24 | 2008-07-31 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | チオ(メタ)アクリレート、透明プラスチックを製造するための混合物、透明プラスチック、製造する方法、および使用法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997002270A1 (de) * | 1995-07-06 | 1997-01-23 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Thiolsilane, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
US6342571B1 (en) | 1999-08-20 | 2002-01-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | High refractive index optical resin composition |
DE60118801T2 (de) * | 2001-07-25 | 2006-11-02 | PPG Industries Ohio, Inc., Cleveland | Polymermischung mit hohem brechungsindex |
US20060241273A1 (en) * | 2001-11-16 | 2006-10-26 | Bojkova Nina V | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
US8003748B2 (en) * | 2004-02-17 | 2011-08-23 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Polythiourethane compositions and processes for making and using same |
WO2005080325A2 (en) * | 2004-02-17 | 2005-09-01 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Sulfur-containing compositions and processes for making same |
DE102004011542A1 (de) * | 2004-03-08 | 2005-09-29 | Röhm GmbH & Co. KG | Mischungen zur Herstellung transparenter Kunststoffe, transparente Kunststoffe sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
AU2006279581A1 (en) * | 2005-08-16 | 2007-02-22 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Mercaptan-hardened epoxy polymer compositions and processes for making and using same |
WO2007021960A2 (en) * | 2005-08-16 | 2007-02-22 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Polymer compositions and processes for making and using same |
US20080214774A1 (en) * | 2007-03-01 | 2008-09-04 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Thiourethane Compositions and Processes for Making and Using Same |
US20090124762A1 (en) * | 2007-11-08 | 2009-05-14 | Brown Chad W | Methods and systems for the selective formation of thiourethane bonds and compounds formed therefrom |
US20090124784A1 (en) * | 2007-11-08 | 2009-05-14 | Brown Chad W | Methods and compounds for curing polythiourethane compositions |
US20110040355A1 (en) * | 2009-08-12 | 2011-02-17 | Stacy Francis | Phototherapy mask |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE3763968D1 (de) * | 1986-12-26 | 1990-08-30 | Nippon Catalytic Chem Ind | Ester von thiolcarboxylsaeuren. |
US5183917A (en) * | 1988-10-20 | 1993-02-02 | Showa Denko K.K. | 4,4'-bis(methacryloylthio)diphenylsulfide |
US5270439A (en) * | 1988-10-20 | 1993-12-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Method of producing a curable composition containing 4,4'-bis(methacryloylthio)diphenylsulfide |
US5247041A (en) * | 1989-02-22 | 1993-09-21 | Toray Industries, Inc. | Thiol methacrylate or acrylate resin obtained by polymerizing a thiol methacrylate or acrylate compound |
JPH03163120A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-15 | Showa Denko Kk | 硬化性組成物 |
JPH04198205A (ja) * | 1990-11-27 | 1992-07-17 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 高屈折率レンズ用樹脂 |
-
1992
- 1992-10-10 DE DE4234256A patent/DE4234256A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-10-06 EP EP93116145A patent/EP0592934A3/de not_active Withdrawn
- 1993-10-07 JP JP5251739A patent/JPH06199964A/ja active Pending
- 1993-10-12 US US08/134,736 patent/US5422422A/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH09152510A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-06-10 | Mitsubishi Chem Corp | 低複屈折光学部材及びその製造方法 |
JP2008528711A (ja) * | 2005-01-24 | 2008-07-31 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | チオ(メタ)アクリレート、透明プラスチックを製造するための混合物、透明プラスチック、製造する方法、および使用法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0592934A3 (de) | 1995-02-22 |
DE4234256A1 (de) | 1994-04-14 |
EP0592934A2 (de) | 1994-04-20 |
US5422422A (en) | 1995-06-06 |
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