JPH06192292A

JPH06192292A - 新規ポリペプチド化合物及びその塩

Info

Publication number: JPH06192292A
Application number: JP5248668A
Authority: JP
Inventors: Hidenori Oki; 秀徳大木; Koji Kawabata; 浩二川端; Kazuo Sakane; 和夫坂根
Original assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1992-09-09
Filing date: 1993-09-09
Publication date: 1994-07-12
Also published as: GB9219068D0

Abstract

(57)【要約】【構成】式：［式中、Ｒ¹はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、
Ｒ²はヒドロキシ基、Ｒ³はアシル基、Ｒ⁴ およびＲ⁵は
それぞれヒドロキシ基、Ｒ⁶はヒドロキシ基、低級アル
カノイルオキシ基、カルボキシ（低級）アルコキシ基ま
たは保護されたカルボキシ（低級）アルコキシ基、Ｒ⁷
はヒドロキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、カ
ルボキシ（低級）アルコキシ基または保護されたカルボ
キシ（低級）アルコキシ基、Ｒ⁸は水素または適当な置
換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。］で表される新規ポリペプチド化合物お
よびその塩。【効果】目的化合物およびその塩は新規であり、強い
抗菌作用を発揮してグラム陽性菌およびグラム陰性菌を
含む広汎な病原菌の成育を防止し、抗菌薬として有用で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は新規ポリペプチド化合
物及びその塩に関する。さらに詳しくはこの発明は抗菌
活性（特に抗真菌活性）を有し、さらに人体や動物のニ
ューモシスティスカリニ感染症（例えばカリニ肺炎）の
治療や予防に有用であると期待されている新規ポリペプ
チド化合物及びその塩、それを製造する方法、それを含
有する医薬組成物及び人体や動物のニューモシスティス
カリニ感染症（例えばカリニ肺炎）を含む感染症の治療
または予防の使用に関するものである。従って、この発
明のひとつの目的はいくらかの病原菌に対して高い活性
を有し、さらに人体や動物のニューモシスティスカリニ
感染症（例えばカリニ肺炎）の治療または予防にとって
有用であると期待される新規ポリペプチド化合物及びそ
の塩を提供する事である。

【０００２】この発明の他の目的のひとつは活性成分と
してポリペプチド化合物及びその塩を含有する医薬組成
物を提供することである。この発明のさらに他の目的の
ひとつは、病原菌が原因となっておこるニューモシステ
ィスカリニ感染症（例えばカリニ肺炎）を含む感染症の
治療または予防の為の人体や動物への薬物投与の為のポ
リペプチド化合物の使用法を提供することである。

【０００３】

【発明の構成】この発明の目的とするポリペプチド化合
物は新規であり，次の一般式［Ｉ］によって表される。［式中、Ｒ¹はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、
Ｒ²はヒドロキシ基、Ｒ³はアシル基、Ｒ⁴ およびＲ⁵は
それぞれヒドロキシ基、Ｒ⁶はヒドロキシ基、低級アル
カノイルオキシ基、カルボキシ（低級）アルコキシ基ま
たは保護されたカルボキシ（低級）アルコキシ基、Ｒ⁷
はヒドロキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、カ
ルボキシ（低級）アルコキシ基または保護されたカルボ
キシ（低級）アルコキシ基、Ｒ⁸は水素または適当な置
換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。

【０００４】ここにおいて、Ｒ¹およびＲ²またはＲ⁴お
よびＲ⁵はそれぞれ結合して、式：（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する）で示される基を形成していてもよ
い。（但し、Ｒ⁶およびＲ⁷が共にヒドロキシ基の場合
は、Ｒ³はパルミトイル基ではない）］

【０００５】この発明のポリペプチド化合物［Ｉ］は下
記反応式に従って製造することができる。製造法１（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _dはヒドロキシスルホニルオ
キシ基を意味する）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味）

【０００６】製造法２（式中、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味であり、Ｒ¹ _aは低級アルコキシ基
を意味する）（式中、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味、Ｒ¹ _aは低級アルコキシ基を意味
する）

【０００７】製造法３（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷ _d、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味である）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷ _d、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味、及びＲ⁶ _dは低級アルカノイルオ
キシ基を意味する）

【０００８】製造法４（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶ _d、Ｒ⁷ _d、およ
びＲ⁸はそれぞれ前と同じ意味である）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶ _d、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味である）

【０００９】製造法５（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷ はそれ
ぞれ前と同じ意味である）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁷ は
それぞれ前と同じ意味、及びＲ⁸ _aは適当な置換基を１個
以上有していてもよい低級アルキル基を意味する）

【００１０】製造法６（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶ 及びＲ⁸ _aはそれ
ぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _aはヒドロキシスルホニルオキシ
基を意味する）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁸ _aはそれ
ぞれ前と同じ意味である）製造法７［式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷ およびＲ⁸はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ¹¹はカルボキシ（低級）アルキ
ル基または保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、
Ｘは脱離基を意味する］［式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＲ⁸ はそれ
ぞれ前と同じ意味、Ｒ⁶ _aはカルボキシ（低級）アルコキ
シ基または保護されたカルボキシ（低級）アルコキシ基
を意味する］

【００１１】製造法８（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁸ 、Ｒ¹¹、
及びＸはそれぞれ前と同じ意味である）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _aはカルボキシ（低級）アルコ
キシ基または保護されたカルボキシ（低級）アルコキシ
基を意味する）

【００１２】製造法９（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁶ _bは保護されたカルボキシ（低
級）アルコキシ基を意味する）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁶ _cはカルボキシ（低級）アルコ
キシ基を意味する）

【００１３】製造法１０（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _bは保護されたカルボキシ（低
級）アルコキシ基を意味する）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _cはカルボキシ（低級）アルコ
キシ基を意味する）

【００１４】製造法１１（式中、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸ はそれぞれ前と同じ意
味である）

【００１５】［式中、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸はそれぞれ前
と同じ意味、Ｒ¹ _aおよびＲ² _aはそれぞれヒドロキシ基ま
たは両者が結合して、式：（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する）で示される基を形成している）を意
味する］。

【００１６】化合物（Ｉ）の好適な塩は慣用の無毒性の
塩であって、金属塩、例えばアルカリ金属塩（例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等）、アルカリ土類金属塩（例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等）、アンモニウム
塩、有機塩基との塩（例えば、トリメチルアミン塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等）等、有機酸付加塩（例えばギ酸塩、酢酸塩、
トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホ
ン酸塩等）無機酸付加塩（例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩等）、アミノ酸
（例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸
等）との塩等が挙げられる。この明細書の以上および以
下の記載において、この発明の範囲内に包含される種々
の定義の好適な例および説明を以下詳細に説明する。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子１ないし
６個を意味するものとする。「高級」とは、特に指示が
なければ、炭素原子７ないし２０個を意味するものとす
る。

【００１７】好適な「アシル基」としては、カルボン
酸、炭酸、カルバミン酸、スルホン酸等から誘導される
脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環式アシル、お
よび芳香族基または複素環式基で置換された脂肪族アシ
ル基等が挙げられる。

【００１８】前記アシルの好適な例を以下に示す：ハロ
ゲン（例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）；ヒドロ
キシ、後述の高級アルコキシ、後述のアリール等のよう
な適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有し
ていてもよいアリ−ル（例えばフェニル、ナフチル、ア
ントリル等）；後述の低級アルコキシ；アミノ；保護さ
れたアミノ、好ましくは低級アルコキシカルボニルアミ
ノ（例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボ
ニルアミノ、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカ
ルボニルアミノ、第三級ブトキシカルボニルアミノ、ペ
ンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボ
ニルアミノ等）等のようなアシルアミノ；ジ（低級）ア
ルキルアミノ（例えば、ジメチルアミノ、Ｎ−メチルエ
チルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−プロピルブチルアミ
ノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ等）；低級ア
ルコキシイミノ（例えば、メトキシイミノ、エトキシイ
ミノ、プロポキシイミノ、ブトキシイミノ、第三級ブト
キシイミノ、ペンチルオキシイミノ、ヘキシルオキシイ
ミノ等）；後述の高級アルコキシ等のような適当な置換
基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していて
もよいフェニル（低級）アルコキシイミノ（例えば、ベ
ンジルオキシイミノ、フェネチルオキシイミノ、ベンズ
ヒドリルオキシイミノ等）のようなアル（低級）アルコ
キシイミノ；高級アルキル（例えば、ヘプチル、オクチ
ル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、３，７−ジ
メチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、
テトラデシル、ペンタデシル、３−メチル−１０−エチ
ルドデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシル、イコシル等）等のような適当な置換基
を１個以上（より好ましくは１〜３個）有していてもよ
い複素環チオ、好ましくはピリジルチオ；アミノ、前述
の保護されたアミノ、前述の高級アルキル等のような適
当な置換基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有
していてもよい複素環基（例えば、チエニル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、フリル、テトラゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリル等）等；等のような適当な置換基を
１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよ
い低級アルカノイル［例えばホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサ
ノイル、ピバロイル等］；

【００１９】高級アルカノイル［例えばヘプタノイル、
オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイ
ル、ラウロイル、トリデカノイル、ミリストイル、ペン
タデカノイル、パルミトイル、１０，１２−ジメチルテ
トラデカノイル、ヘプタデカノイル、ステアノイル、ノ
ナデカノイル、イコサノイル等］；

【００２０】後述の高級アルコキシ等のような置換基を
１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよ
い前述のアリ−ルのような適当な置換基を１個以上（さ
らに好ましくは１〜３個）有していてもよい低級アルケ
ノイル［例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロト
ノイル、３−ペンテノイル、５−ヘキセノイル等］；高
級アルケノイル［例えば、４−ヘプテノイル、３−オク
テノイル、３，６−デカジエノイル、３，７，１１−ト
リメチル−２，６，１０−ドデカトリエノイル、４，１
０−ヘプタデカジエノイル等］；低級アルコキシカルボ
ニル［例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−
ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキ
シルオキシカルボニル等］；高級アルコキシカルボニル
［例えば、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシ
カルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、ノ
ニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、３，
７−ジメチルオクチルオキシカルボニル、ウンデシルオ
キシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシ
ルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、
ペンタデシルオキシカルボニル、３−メチル−１０−エ
チルドデシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカ
ルボニル、ヘプタデシルオキシカルボニル、オクタデシ
ルオキシカルボニル、ノナデシルオキシカルボニル、イ
コシルオキシカルボニル等］；アリ−ルオキシカルボニ
ル［例えば，フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカ
ルボニル等］；

【００２１】アリ−ルグリオキシロイル［例えば，フェ
ニルグリオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル
等］；ニトロまたは低級アルコキシを有していてもよい
フェニル（低級）アルコキシカルボニルのような置換基
を１個以上有していてもよいアル（低級）アルコキシカ
ルボニル［例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル等］；低
級アルキルスルホニル［例えば、メシル、エチルスルホ
ニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、
ペンチルスルホニル、ブチルスルホニル等］；

【００２２】後述の低級アルキルまたは高級アルコキシ
等のような置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有
していてもよいアリールスルホニル［、例えばフェニル
スルホニル、トシル等］；フェニル（低級）アルキルス
ルホニル等のようなアル（低級）アルキルスルホニル
［例えばベンジルスルホニル、フェネチルスルホニル、
ベンジドリルスルホニル等］；

【００２３】前述のハロゲン；低級アルキル（例えば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペン
チル、ヘキシル等）；前述の高級アルキル；前述の低級
アルコキシ、前述のハロゲン、前述のアリール等のよう
な適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜１０個）有
していてもよい低級アルコキシ（例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等）；前述のハロゲンのよう
な適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜１７個）有
していてもよい高級アルコキシ（例えば、ヘプチルオキ
シ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニ
ルオキシ、デシルオキシ、３，７−ジメチルオクチルオ
キシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシル
オキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、３
−メチル−１０−エチルドデシルオキシ、ヘキサデシル
オキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノ
ナデシルオキシ、イコシルオキシ等）；高級アルケニル
オキシ（例えば、３−ヘプテニルオキシ、７−オクテニ
ルオキシ、２，６−オクタジエニルオキシ、５−ノネニ
ルオキシ、１−デセニルオキシ、３，７−ジメチル−６
−オクテニルオキシ、３，７−ジメチル−２，６−オク
タジエニルオキシ、８−ウンデセニルオキシ、３，６，
８−ドデカトリエニルオキシ、５−トリデセニルオキ
シ、７−テトラデセニルオキシ、１，８−ペンタデカジ
エニルオキシ、１５−ヘキサデセニルオキシ、１１−ヘ
プタデセニルオキシ、７−オクタデセニルオキシ、１０
−ノナデセニルオキシ、１８−イコセニルオキシ等）；
カルボキシ；前述の高級アルコキシのような適当な置換
基を１個以上（好ましくは１〜３）有していてもよい前
述のアリ−ル；前述の高級アルコキシのような適当な置
換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有していてもよ
いアリ−ルオキシ（例えば、フェノキシ、ナフチルオキ
シ、アントリルオキシ等）、等のような適当な置換基を
１個以上（好ましくは１〜５個）有していてもよい；
等；等のような置換基を１個以上（好ましくは１〜５
個）有していてもよいアロイル［例えば、ベンゾイル、
ナフトイル、アントリルカルボニル等］等が挙げられ
る。

【００２４】このように定義される「アシル基」の好ま
しい例は１個以上（好ましくは１〜５）の高級アルコキ
シを有していてもよいアロイル基であり、その中でさら
に好ましい例としては１〜３個の（Ｃ₇〜Ｃ₁₆）のアル
コキシを有していてもよいベンゾイル基、１〜３個の
（Ｃ₇〜Ｃ₁₆）のアルコキシを有していてもよいナフト
イル基であり、そして最も好ましい例は４−ｎ−オクチ
ルオキシベンジル、６−ｎ−ヘプチルオキシ−２−ナフ
トイルと６−ｎ−オクチルオキシ−２−ナフトイルであ
る。

【００２５】「適当な置換基を１個以上有していてもよ
い低級アルキル基」の好適な「低級アルキル」部分とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素
数１ないし６のアルカンの残基を意味し、その好ましい
例としてはＣ_１ −Ｃ_４アルキル基が、さらに好まし
い例としてはメチル基が挙げられる。

【００２６】上記「低級アルキル基」は、ヒドロキシ、
アシル（例えばカルボキシ、保護されたカルボキシ｛例
えば低級アルコキシカルボニル（例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等｝
等）、ジ（低級）アルキルアミノ（例えば、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−メチルエチルアミノ、ジプ
ロピルアミノ、ジブチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブチルブチル
アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ等）、環
の部分にほかの異種原子を有していてよい環状のアミノ
（例えば１−ピロリジニル、ピペリジノ、１−ピペラジ
ニル、モルホリノ、１−ピリジル、ジヒドロピリジン−
１−イル等）等のような置換基を１個以上（好ましく
は１〜３個）有していてもよい。

【００２７】「適当な置換基を１個以上有していてもよ
い低級アルキル基」の好適な例としては、ヒドロキシと
カルボキシを有する低級アルキル、ジ（低級）アルキル
アミノを有する低級アルキル；およびそして環状アミノ
を有する低級アルキルが挙げられ、それらの中でさらに
好ましい例としては、ヒドロキシ及びカルボキシを有す
る（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキル；ジ（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキルアミ
ノを有する（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキル；ピペリジノを有する
（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキルが挙げられ、そして最も好ましい
例は１−ヒドロキシ−１−カルボキシメチル、ジメチル
アミノメチルおよびピペリジノメチルである。好適な
「低級アルコキシ」としてはメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ等
のような直鎖状もしくは分岐鎖状のもの等が挙げられ
る。

【００２８】好適な「低級アルカノイルオキシ」として
はアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、
ヘキサノイルオキシ等が挙げられる。好適な「カルボキ
シ（低級）アルコキシ基」としてはカルボキシメトキ
シ、カルボキシエトキシ、カルボキシプロポキシ、カル
ボキシブトキシ、２−カルボキシ−２−メチルエチル、
カルボキシペンチルオキシ、カルボキシヘキシルオキシ
等の基が挙げられる。

【００２９】好適な「保護されたカルボキシ（低級）ア
ルコキシ基」としては、エステル化されたカルボキシ
（低級）アルコキシ基等が挙げられる。前記エステルの
好適な例としては、例えばメチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキ
シルエステル、１−シクロプロピルエチルエステル等の
低級アルキルエステル；例えばビニルエステル、アリル
エステル等の低級アルケニルエステル；例えばエチニル
エステル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエス
テル；例えばメトキシメチルエステル、エトキシメチル
エステル、イソプロポキシメチルエステル、ｔ−ブトキ
シメチルエステル、１−メトキシエチルエステル、１−
エトキシエチルエステル等の低級アルコキシアルキルエ
ステル；例えばメチルチオメチルエステル、エチルチオ
メチルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプロ
ピルチオメチルエステル等の低級アルキルチオ（低級）
アルキルエステル；例えば２−ヨ−ドエチルエステル、
２，２，２−トリクロロエチルエステル等のモノ（また
はジまたはトリ）ハロ（低級）アルキルエステル；例え
ばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチ
ルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリル
オキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステ
ル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、２−アセトキ
シエチルエステル、２−プロピオニルオキシエチルエス
テル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルキルエス
テル；例えばメシルメチルエステル、２−メシルエチル
エステル等の低級アルカンスルホニル（低級）アルキル
エステル；例えば２−イソブトキシカルボニル−２−ペ
ンテニルエステル等の低級アルコキシカルボニル（低
級）アルケニルエステル、例えばベンジルエステル、４
−メトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエス
テル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズ
ヒドリルエステル、ビス（メトキシフェニル）メチルエ
ステル、３，４−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ第三級ブチルベンジルエステル、
ジフェニルメチルエステル等の適当な置換基１個以上を
有していてもよいモノ（またはジまたはトリ）フェニル
（低級）アルキルエステルのようなアル（低級）アルキ
ルエステル；例えばフェニルエステル、トリルエステ
ル、第三級ブチルフェニルエステル、キシリルエステ
ル、メシチルエステル、クメニルエステル、４−クロロ
フェニルエステル、４−メトキシフェニルエステル等の
置換されたまたは非置換フェニルエステルのような適当
な置換基１個以上を有していてもよいアリ−ルエステ
ル；トリ（低級）アルキルシリルエステル；例えばメチ
ルチオエステル、エチルチオエステル等の低級アルキル
チオエステル等のようなものが挙げられる。

【００３０】好適な「脱離基」としては例えば塩素、臭
素、沃素等のハロゲン、例えばベンゼンスルホニルオキ
シ、トシルオキシ、メシルオキシ等のスルホニルオキシ
基、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ等の低
級アルカノイルオキシ基のようなアシルオキシ基等が挙
げられる。この発明の目的化合物［Ｉ］またはその塩の
製造方法を以下詳細に説明する。

【００３１】製造法１目的化合物（Ｉａ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）ま
たはその塩を加水分解反応に付すことにより製造するこ
とができる。加水分解は塩基または酸（ルイス酸も含
む）の存在下で行うことが望ましい。好適な塩基として
は、アルカリ金属（例えばナトリウム、カリウム等）、
アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシウム
等）、それらの金属の水酸化物、炭酸塩、または炭酸水
素塩、トリアルキルアミン（例えばトリメチルアミン、
トリエチルアミン等）、ピコリン、１，５−ジアザビシ
クロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビ
シクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシク
ロ［５．４．０］−ウンデク−７等のような無機塩基ま
たは有機塩基が挙げられる。好適な酸としては、有機酸
（例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸等）および無機酸（例えば塩酸、臭化
水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等）が挙げられる。
トリハロ酢酸（例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等）等のようなルイス酸を用いる脱離はカチオン捕捉
剤（例えばアニソール、フェノール等）の存在下に行う
ことが好ましい。反応は通常、水、アルコ−ル（例えば
メタノ−ル、エタノ−ル等）、塩化メチレン、テトラヒ
ドロフラン、Ｎ，Ｎジメチルホルムアミドのような溶媒
中、またはそれらの混合物中で行なわれるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のあらゆる溶媒中
で行うことができる。液状の塩基あるいは酸も溶媒とし
て用いることができる。反応温度は特に限定されず、通
常冷却下ないし加温下で行われる。

【００３２】製造法２目的化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（ＩＩＩ）
またはその塩を化合物（ＩＶ）と反応させることによっ
て製造することができる。この反応は通常酸（例えばｐ
−トルエンスルホン酸等）の存在下で行われる。化合物
（ＩＶ）は溶媒として使用しても良い。反応温度は特に
限定されず、反応は通常冷却ないし加温下で行われる。
Ｒ⁷中のヒドロキシスルホニルオキシ基が反応中ヒドロ
キシ基に変化する場合もこの発明の範囲内に包含され
る。

【００３３】製造法３目的化合物（Ｉｃ）またはその塩は、化合物（Ｖ）また
はその塩をアシル化反応に付すことによって、製造する
ことができる。このアシル化反応で使用される好適なア
シル化剤としては、式：Ｒ⁶ _b−ＯＨ［ＶＩＩ］［式中Ｒ³ _b は低級アルカノイル］で示される慣用のア
シル化剤またはその反応性誘導体もしくはその塩が挙げ
られる。

【００３４】化合物［ＶＩＩ］の好適な「低級アルカノ
イル」としては、前述の「低級アルカノイルオキシ」の
「低級アルカノイル」部分と同様のものが挙げられる。
化合物［ＶＩＩ］のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミ
ド、活性化エステル等が挙げられる。その好適な例とし
ては、酸塩化物；酸アジド；置換されたリン酸（例えば
ジアルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェニルりん
酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等）、ジアル
キル亜りん酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、スルホン酸
（例えばメタンスルホン酸等）、アルキル炭酸、脂肪族
カルボン酸（例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−
エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等）または芳香族カル
ボン酸（例えば安息香酸等）のような酸との混合酸無水
物；対称酸無水物（例えば無水酢酸等）；イミダゾー
ル、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリ
アゾール、テトラゾールまたは１−ヒドロキシ−１Ｈ−
ベンゾトリアゾールとの活性化アミド；活性化エステル
（例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメチルイミノメチル［（ＣＨ_３）_２Ｎ^＋＝ＣＨ
−］エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステ
ル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフ
ェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタ
クロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フ
ェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、
ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエ
ステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエス
テル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８−キ
ノリルチオエステル等）、もしくはＮ−ヒドロキシ化合
物（例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−
ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシ
スクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒ
ドロキシ−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール等）
とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導体
は、使用すべき化合物［ＶＩＩ］の種類によって、これ
らの中から適宜選択することができる。

【００３５】化合物［ＶＩＩ］およびその反応誘導体の
好適な塩としては、化合物（Ｉ）の塩について例示した
ものと同じものを挙げることができる。

【００３６】反応は、通常、水、アルコール（例えばメ
タノール、エタノール等）、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒または
反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中
で行われる。これらの慣用の溶媒は水と混合して用いて
もよい。

【００３７】化合物［ＶＩＩ］を遊離酸またはその塩の
形でこの反応に使用する場合、反応を、Ｎ，Ｎ′−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−
Ｎ′−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘ
キシル−Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）
カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、
Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル
−Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾ
ール）；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイ
ミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；
エトキシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチ
レン；亜りん酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリ
リン酸イソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリ
ル）；三塩化リン；塩化チオニル；塩化オキサリル；例
えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハ
ロギ酸低級アルキル；トリフェニルホスフィン；２−エ
チル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２
−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼン
スルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって調整
したいわゆるビルスマイヤー試薬のような慣用の縮合剤
の存在下に行うことが望ましい。反応はまた、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ（低級）ア
ルキルアミン（例えばトリエチルアミン等）、ピリジ
ン、ジ（低級）アルキルアミノピリジン（例えば４−ジ
メチルアミノピリジン等）、Ｎ−（低級）アルキルモル
ホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン等
のような無機または有機塩基の存在下に行うことが望ま
しい。反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし
加温下で行われる。

【００３８】製造法４目的化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（Ｉｃ）ま
たはその塩を加水分解反応に付すことによって、製造す
ることができる。この反応は、製造法１で述べたものと
実質的に同じ方法で行うことができるので、反応方法お
よび反応条件（例えば溶媒、反応温度等）は製造法１の
説明を援用できる。

【００３９】製造法５目的化合物（Ｉｅ）またはその塩は、化合物（ＶＩ）ま
たはその塩をアルキル化反応に付すことによって、製造
することができる。この反応で用いられる好適なアルキ
ル化剤としては、１）１個以上（好ましくは１〜３）の「１個以上の適当
な置換基を有していてもよい低級アルキル基」の置換基
として例示したような適当な置換基を有していてもよい
低級アルカナル（例えばホルムアルデヒド、エタナ
ル、プロパナル、ブタナル、ｔ−ブタナル、ペンタナ
ル、ヘキサナル等）、

【００４０】２）式［式中Ｒ¹²とＲ¹³はそれぞれ前記例示の低級アルキル］
で示される化合物、３）式（式中、式：で示される基は環の部分にほかのヘテロ原子を有してい
てもよい環状アミニウム基（例えばピイルロリジニウ
ム、ピペリジニウム、ピペラジニウム、モルホリニウ
等）等が挙げられる。

【００４１】反応は通常、水、アルコ−ル（例えばメタ
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノール等）、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホ
キシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトンのよ
うな慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他
のあらゆる溶媒中で行われる。反応温度は特に限定され
ず、通常冷却下ないし加温下で行われる。

【００４２】製造法６目的化合物（Ｉｇ）またはその塩は、化合物（Ｉｆ）ま
たはその塩を加水分解反応に付すことにより製造するこ
とができる。この反応は、製造法１で述べたものと実質
的に同じ方法で行うことができるので、反応方法および
反応条件（例えば溶媒、反応温度等）は製造法１の説明
を援用できる。

【００４３】製造法７目的化合物（Ｉｉ）またはその塩は、化合物（Ｉｈ）ま
たはその塩を化合物（ＶＩＩＩ）と反応させることによ
って製造することができる。この反応はトリ（低級）ア
ルキルアミン（例えばトリメチルアミン，トリエチルア
ミン等）、ピリジン、ジ（低級）アルキルアミノピリジ
ン（例えば４−ジメチルアミノピリジン等）、Ｎ−（低
級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキル
ベンジルアミン等のような無機または有機塩基の存在下
に行うことが望ましい。反応は通常、アルコ−ル（例え
ばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノール等）、塩化メ
チレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルス
ルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン
のような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないそ
の他のあらゆる溶媒中で行われる。反応温度は特に限定
されず、通常冷却下ないし加温下で行われる。

【００４４】製造法８目的化合物（Ｉｋ）またはその塩は、化合物（Ｉｊ）ま
たはその塩を化合物（ＶＩＩＩ）と反応させることによ
って製造することができる。この反応は製造法７と実質
的に同様に行なうことができるので、反応条件（例え
ば、反応温度、溶媒等）は製造法７について述べたもの
を準用することができる。

【００４５】製造法９目的化合物（Ｉｍ）またはその塩は、化合物（Ｉｌ）ま
たはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造することができる。この反応は加水分解、還
元等の常法により行われる。加水分解は塩基または酸
（ルイス酸も含む）の存在下で行うことが望ましい。好
適な塩基としては、アルカリ金属（例えばナトリウム、
カリウム等）、アルカリ土類金属（例えばマグネシウ
ム、カルシウム等）、これらの水酸化物または炭酸塩ま
たは炭酸水素塩、トリアルキルアミン（例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン等）、ピコリン、１，５−
ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４
−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−ウンデク−７等の無機塩
基または有機塩基を挙げることができる。好適な酸とし
ては、有機酸（例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリ
クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン
酸等）および無機酸（例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、
塩化水素、臭化水素、塩化アンモニウム等）を挙げるこ
とができる。トリハロ酢酸（例えばトリクロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸等）等のルイス酸を用いる脱離反応はカ
チオン捕捉剤（例えばアニソール、フェノール等）の存
在下に行うことが望ましい。反応は通常、水、アルコ−
ル（例えばメタノ−ル、エタノ−ル等）、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、これらの混合物のような溶媒中
または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる溶媒
中で行われる。液状塩基あるいは酸も溶媒として用いる
ことができる。反応温度は特に限定されず、反応は通常
冷却ないし加温下で行われる。

【００４６】脱離反応に用いることのできる還元法とし
ては、化学還元および接触還元を挙げることができる。
化学還元に用いる好適な還元剤としては、金属（例えば
錫、亜鉛、鉄等）または金属化合物（例えば塩化クロ
ム、酢酸クロム等）と有機酸あるいは無機酸（例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等）の組み合わせを
挙げることができる。接触還元に使用される好適な触媒
としては、白金触媒（例えば白金板、白金海綿、白金
黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等）、パラジウム
触媒（例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラ
ジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パラ
ジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等）、ニッケル触媒（例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネ−ニッケル等）、コバルト触媒（例えば還元コ
バルト、ラネ−コバルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄、
ラネ−鉄等）、銅触媒（例えば還元銅、ラネ−銅、ウル
マン銅等）等を挙げることができる。還元は通常、反応
に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば水、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、またはそれらの混合物等の溶媒中で行われ
る。また、化学還元に用いる前記酸が液状の場合、これ
らは溶媒として使用することもできる。還元の反応温度
は特に限定されないが、通常、冷却ないし加温下に反応
が行われる。

【００４７】製造法１０目的化合物（Ｉｏ）またはその塩は、化合物（Ｉｎ）ま
たはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造することができる。この反応は製造法９と実
質的に同様に行なうことができるので、反応条件（例え
ば、反応温度、溶媒等）は製造法９について述べたもの
を準用することができる。

【００４８】製造法１１目的化合物（Ｉｑ）またはその塩は、化合物（Ｉｐ）ま
たはその塩をケタール化反応に付すことによって製造す
ることができる。この反応は、ケタール化に通常用いら
れる方法（例えば、後記の実施例として記載された方
法）により行なうことができる。出発化合物［ＩＩ］は
ヨーロッパ特許ＥＰ０４６２５３１Ａ２号公報で開示さ
れた発酵及び合成法により製造することができる。上記
の発酵方法で使用される菌株コレオフォマｓｐ．Ｆ−
１１８９９は第ＦＥＲＭＢＰ−２６３５号として１９
８９年１０月２６日付で工業技術院微生物工業技術研究
所（日本国茨城県つくば市東１丁目１番３号郵便番号
３０５）に寄託されている。

【００４９】この発明のポリペプチド化合物（Ｉ）の有
用性を示す為に代表的化合物の生物学的デ−タを以下に
示す。試験法：抗菌活性後述する実施例３の化合物（以下化合物Ｉという）の試
験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法により測定し
た。各試験菌株を２％グルコ−スを含むサブロ−・ブロ
ス（Ｓａｂｏｕｒａｕｄｂｒｏｔｈ）中一夜培養してそ
の１白金耳（生菌数１０⁵個／ｍｌ）を、各濃度段階の
化合物（Ｉ）を含むイ−ストニトロゲンベ−スデクスト
ロ−ズ寒天（ＹＮＢＤ寒天）に接種し、３０℃で２４時
間インキュベ−トした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
をμｇ／ｍｌで表した。上記試験結果から明らかなようにこの発明のポリペプチ
ド化合物（Ｉ）は抗菌活性（特に抗真菌活性）を有す
る。

【００５０】この発明の医薬組成物は直腸吸入、肺吸入
（鼻腔または口からの吸入）、鼻への投与、目への投
与、外用投与（局部投与）、経口投与、非経口投与（皮
下、静脈、筋肉注射）に適した有機、無機担体または賦
形剤と混合して、ポリペプチド化合物（Ｉ）とその塩を
有効物質として含有する常用の医薬製剤例えば固体状、
半固体状、液状の形で使用することができる。有効成分
は常用無毒で医薬として許容される担体と混合して適当
な剤形、例えば錠剤、ペレット、トロ−チ、カプセル
剤、坐剤、軟膏、エアゾル剤、吸入用粉末、または溶
液、エマルジョン、懸濁液などのようなの形として使用
すればよい。必要に応じて上記製剤中に補助剤、安定化
剤、濃糊化剤および着色剤並びに香料を使用してもよ
い。

【００５１】この医薬用組成物中に含有されるポリペプ
チド化合物（Ｉ）とその塩の量は疾患の過程と状態に対
して所望の抗菌効果を発揮するのに十分な量であるこの組成物を人に適用する場合、静脈内注射、筋肉注
射、肺への吸入、経口投与の方法でなされることが好ま
しい。このポリペプチド化合物（Ｉ）の投与量は、処置
すべき患者の年齢、疾患の程度等の条件によって変化す
る。一般的には、静脈注射の場合ポリペプチド化合物１
日投与量約０．０１〜２０ｍｇ／ｋｇ、筋肉注射の場合
ポリペプチド化合物１日投与量約０．１〜２０ｍｇ／ｋ
ｇ、経口投与の場合ポリペプチド化合物１日投与量約
０．５〜５０ｍｇ／ｋｇ、を感染症治療、または予防に
使用すればよい。吸入による投与の為には、この発明の
化合物は圧縮された容器からのエアゾルスプレイ、また
はネブライザ−の形で用いられるのが便利である。この
化合物は粉末として形成され用いられてよい。その粉末
組成物は吸入用粉末の吸入器の助けを借りて吸入しても
良い。望ましい吸入方法は、目盛り付きの吸入エアゾ−
ル等によってするもので、化合物のフルオロカ−ボンや
ハイドロカ−ボンのような好適な推進剤中懸濁液、また
は溶液として形成されていても良い。特に耳やそのほか
の体腔にまで感染が広がってしまったような場合に吸入
もまた望ましい方法である。他には非経口投与として点
滴による静脈投与が用いられる。以下、製造例と実施例
に従ってこの発明をさらに詳細に説明する。

【００５２】製造例１メチルトリクロロシラン（０．８２ｍｌ）のアセトニト
リル溶液中に氷冷下に１−エトキシメチルピペリジン
（１ｇ）を加え、同温で５分間攪拌する。ジエチルエ−
テルを加え、生成する沈殿物を濾取し、乾燥して、１−
メチレンピペリジニウムクロリド（０．８８ｇ）を得
る。ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３１００，２７００，
１４２０，１１１０，９２０ｃｍ^-1 ＥＩ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１３３（Ｍ＋）

【００５３】製造例２６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（１．０４ｇ）の１０
％の水酸化ナトリウム水溶液（４．４４ｍｌ）とジメチ
ルスルホキシド（１８ｍｌ）の混合物中溶液を８０℃で
半時間攪拌する。ヘプチルブロミド（０．８７２ｍｌ）
を加え、６０℃で５時間攪拌する。反応混合物を、水
（５０ｍｌ）に入れ、混合物を濃塩酸で、ｐＨ３に調製
する。生成する沈殿物を濾取し、乾燥して６−ヘプチル
オキシ−２−ナフトエ酸（１．３９ｇ）を得る。ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：１６６０，１６２０，１２１
０ｃｍ^-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆，δ）：０．８８（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２−１．６（８Ｈ，
ｍ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），４．１０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．１８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚａｎｄ２．４Ｈ
ｚ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），
７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．
９−８．１（２Ｈ，ｍ），８．４５（１Ｈ，ｓ）

【００５４】製造例３Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド（０．５６ｇ）と６−ヘ
プチルオキシ−２−ナフトエ酸（１．３９ｇ）の塩化メ
チレン（４２ｍｌ）中けん濁液に１−エチル−３−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
（１．２１ｇ）を加え、室温で３時間攪拌する。反応混
合物を、水（１００ｍｌ）に入れる。有機層を分取し、
硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾去
し、濾液の溶媒を減圧下で留去して、６−ヘプチルオキ
シ−２−ナフトエ酸スクシンイミド（１．４８ｇ）を得
る。ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：１７６０，１７４０，１
６２０ｃｍ^-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃， δ）：０．９１（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２−１．６（８Ｈ，
ｍ），１．７−２．０（２Ｈ，
ｍ），２．９３（４Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．
１−７．３（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．６Ｈｚ），８．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚａｎｄ２．４Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，
ｓ）

【００５５】製造例４ブロモ酢酸（１０ｇ）のテトラヒドロフラン（３００ｍ
ｌ）溶液にジフェニルジアゾメタン（２８ｇ）を加え室
温で５時間撹拌する。反応混合物を減圧下で濃縮し、残
留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、ブロ
モ酢酸ベンズヒドリルエステル（５．４ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ：３．９１（ｓ，２Ｈ），
６．９１（ｓ，１Ｈ），７．２−７．５（ｍ，１０Ｈ）ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０２０，１７２０，１２６０，１
１４０ｃｍ^−１

【００５６】以下の製造例と実施例で用いられる出発化
合物と得られる目的化合物は、下記の表に表され、出発
化合物の式が上段に示されており、目的化合物の式が下
段に示される。下記表中、Ｐｈはフェニル基を意味す
る。

【００５７】

【００５８】

【００５９】

【００６０】

【００６１】

【００６２】

【００６３】

【００６４】

【００６５】

【００６６】

【００６７】

【００６８】

【００６９】

【００７０】

【００７１】

【００７２】

【００７３】製造例５出発化合物（２．８ｇ）と、６−ヘプチルオキシ−２−
ナフトエ酸スクシンイミド（１．４６ｇ）のＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（２８ｍｌ）溶液に、４−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ピリジン（０．３９３ｇ）を加え、
室温で１２時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル
（１４０ｍｌ）で粉砕する。沈殿物を濾取し、溶媒を減
圧下で乾燥する。得られた粉末を水（５０ｍｌ）に入
れ、ダウエックス（ＤＯＷＥＸ）５０ＷＸ４（商標：
ダウケミカル社）のイオン交換カラムクロマトグラフィ
−に付し、水で溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商
標：山村化学研究所製）のカラムクロマトグラフィ−に
付し、５０％のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合
物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去す
る。残渣を凍結乾燥して目的化合物（１．９４ｇ）を得
る。

【００７４】ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，
１６２０ｃｍ^-1 ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ，δ）：０．９２（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．０６（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２４（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），１．３−１．７（８Ｈ，
ｍ），１．７−２．３（５Ｈ，ｍ），
２．３−２．７（３Ｈ，ｍ），２．８−２．９（１
Ｈ，ｍ），３．３９（１Ｈ，ｍ），３．７−
４．７（１６Ｈ，ｍ），４．９９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３．７Ｈｚ），５．３６（１ｄ，Ｊ＝２．９Ｈ
ｚ），６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ
ａｎｄ２Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚａｎｄ１．９Ｈｚ），７．
２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），７．３２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），７．７−７．９（３
Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｓ）ＦＲＢ−ＭＳｅ／ｚ＝１２４９（Ｍ＋Ｎａ）

【００７５】実施例１出発化合物（０．２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（２ｍｌ）とアセトン（２ｍｌ）の混合物中溶液に、
モレキュラ−シ−ブ４Åの存在下で室温でグリオキシル
酸（０．１５５ｇ）を加える。混合物を同温で５時間攪
拌する。反応混合物を、酢酸エチル（２０ｍｌ）で粉砕
する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下で乾燥して、目的化
合物（０．１４ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９０
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６，６Ｈｚ），１．０５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．２４（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２−１．６
（ｍ，１０Ｈ），１．７−１．９（ｍ，２Ｈ），
１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．３−２．６
（ｍ，３Ｈ），２．７−２．９（ｍ，１
Ｈ），３．４０（ｍ，１Ｈ），３．７−４．７
（ｍ，１６Ｈ），４．９８（ｓ，１Ｈ），
５．０９（ｂｒｓ，１Ｈ），５．３１（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），５．４０（ｓ，１Ｈ），６．８
−７．２（ｍ，４Ｈ），７．３３（ｓ，１
Ｈ），７．８５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）．ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１２８７（Ｍ＋
Ｎａ）

【００７６】実施例２実施例１と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９０
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６，６Ｈｚ），１．０５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．２４（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），１．２−１．６
（ｍ，１０Ｈ），１．７−１．９（ｍ，２Ｈ），
１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．３−２．６
（ｍ，３Ｈ），２．７−２．９（ｍ，１
Ｈ），３．４２（ｍ，１Ｈ），３．７−４．７
（ｍ，１６Ｈ），４．９８（ｓ，１Ｈ），
５．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），５．
３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），５．４４
（ｓ，１Ｈ），６．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．１，１．９Ｈｚ），６．７２（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．９Ｈｚ），６．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８
Ｈｚ）７．８４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ）．ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，１６１０
ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１８５（Ｍ＋
Ｎａ）元素分析Ｃ₅₂Ｈ₇₃Ｎ₈Ｏ₂₂Ｎａ・７Ｈ₂Ｏとして、計算値：Ｃ４７．６３，Ｈ６．７６，Ｎ
８．５４実測値：Ｃ４７，５６，Ｈ６．６６，Ｎ
８．３５

【００７７】実施例３粗出発化合物（３．１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（３１ｍｌ）溶液をモレキュラ−シ−ブ４Åの存在
下で室温でグリオキシル酸（１．２５ｇ）を加える。混
合物を同温で５時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチ
ル（１５０ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、溶媒を減
圧下で乾燥する。粉末を水（７０ｍｌ）に入れ、ダウエ
ックス５０ＷＸ４（商標：ダウケミカル社製）（１５
ｍｌ）のイオン交換カラムクロマトグラフィ−に付し、
水で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ，ｃ１８
μボンダパック（Ｂｏｎｄａｐａｋ）樹脂（ウオ−タ−
アソシエ−ツ社製、マサチュ−セッツ州、ミルファ−
ド）を使用する分取ＨＰＬＣに付し、ＬＣ−８Ａポンプ
（島津製作所社製）を使って１分間８０ｍｌの流速で、
アセトニトリル−ｐＨ３リン酸塩緩衝液（４４：５６）
からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを２４０ｎｍ
で、ＵＶ探知機で監視する。保持時間１４．８分の目的
化合物（主）を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニト
リルを留去する。残渣をＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ
−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）のカラム
クロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、８０％のメタ
ノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せ、減圧下でメタノ−ルを留去する。残渣を凍結乾燥し
て目的化合物（主）を得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９１
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．２５（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２−１．６
（ｍ，１０Ｈ），１．７−２．０（ｍ，２Ｈ），
２．０−２．３（ｍ，３Ｈ），２．３−２．８
（ｍ，３Ｈ），２．９８（ｍ，１Ｈ），
３．３７（ｍ，１Ｈ），３．７−４．８（ｍ，
１６Ｈ），４．９７（ｍ，１Ｈ），５．１１
（ｍ，１Ｈ，５．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２
Ｈｚ），５．７０（ｓ，１Ｈ），６．６１（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１，１．７Ｈｚ），６．７２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）６．８１
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）７．１５（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．７，１．７Ｈｚ），７．２１
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）７．７５（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）７．８８（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３９（ｓ，１Ｈ）ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１２３５（Ｍ＋
Ｎａ）元素分析Ｃ₅₆Ｈ₇₅Ｎ₈ＮａＯ₂₂・６Ｈ₂Ｏとして、計算値：Ｃ５０．２２，Ｈ６．５４，Ｎ８．
３６実測値：Ｃ５０．２６，Ｈ６．３９，Ｎ８．
３８

【００７８】保持時間９．８７分の目的化合物（少ない
方）を目的化合物（主）と同様にして得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９１
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０６
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．２−１．６
（ｍ，１３Ｈ），１．７−２．３（ｍ，５
Ｈ），２．３−３．０（ｍ，４Ｈ），３．３４
（ｍ，１Ｈ），３．６−４．７（ｍ，１６Ｈ），
４．９８（ｍ，１Ｈ），５．１１（ｍ，１
Ｈ），５．３５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ），
５．５１（ｓ，１Ｈ），６．８６（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝８．３Ｈｚ）７．１−７．２５（ｍ，２Ｈ），
７．３３（ｓ，１Ｈ），７．６−８．０
（ｍ，３Ｈ），８．３５（ｓ，１Ｈ）元素分析Ｃ₅₆Ｈ₇₅Ｎ₈Ｏ₂₅ＳＮａ・７Ｈ₂０として、計算値：Ｃ４６．６６，Ｈ６．２２，Ｎ
７．７７実測値：Ｃ４６．６３，Ｈ６．０１，Ｎ
７．７４

【００７９】実施例４出発化合物（１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（１０ｍｌ）溶液に１−メチレンピペリジニウムクロリ
ド（０．１６９ｇ）をモレキュラ−シ−ブ４Åの存在下
で室温で加える。混合物を同温で５時間攪拌する。反応
混合物を、酢酸エチル（５０ｍｌ）で粉砕する。沈殿を
濾取し、溶媒を減圧下で乾燥する。紛末を水（２０ｍ
ｌ）に入れ、ダウエックス５０ＷＸ４（商標：ダウケ
ミカル社製）（１５ｍｌ）のイオン交換カラムクロマト
グラフィ−に付し、水で溶出する。目的化合物を含む画
分を合わせ，ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ−ＡＭＳ−
５０）（商標：山村化学研究所製）のカラムクロマトグ
ラフィ−に付し、４０％のメタノ−ル水溶液で溶出す
る。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−
ルを留去する。

【００８０】残渣を凍結乾燥して目的化合物（０．９０
ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆， δ）：（目的化合物の硫
酸エステルは、ＮＭＲ測定状態で脱エステル化されてい
る可能性がある。）０．８６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），０．
９６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０
３，（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２−
１．５（ｍ，１０Ｈ），１．５−２．０（ｍ，
１１Ｈ），２．１−２．５（ｍ，４Ｈ），２．
６−３．０（ｍ，４Ｈ），３．１７（ｍ，１
Ｈ），３．６−４．５（ｍ，１８Ｈ），４．７
８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．８−５．
３（ｍ，８Ｈ），５．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
７．０４（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．４５（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．８６（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝８Ｈｚ）８．２４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），８．６４（ｍ，２Ｈ），８．８５
（ｓ，１Ｈ），９．８（ｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０，
１２４０，１０４０ｃｍ^-1

【００８１】実施例５実施例４と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆， δ）：（目的化合物の
硫酸エステルは、ＮＭＲ測定状態で脱エステル化されて
いる可能性がある。）０．８６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），０．
９６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．０
３，（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２−
１．５（ｍ，１０Ｈ），１．６−２．０（ｍ，
５Ｈ），２．１−２．５（ｍ，４Ｈ），２．
６９（ｓ，６Ｈ），３．２４（ｓ，１Ｈ），
３．７３（ｍ，２Ｈ），３．９−４．７
（ｍ，１６Ｈ），４．８（ｍ，２Ｈ），４．９
−５．５（ｍ，９Ｈ），６．７１（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．８１（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．２Ｈｚ）６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ），７．１１（ｓ，１Ｈ），７．２
−７．５（ｍ，２Ｈ），７．８５（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１４（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８Ｈｚ），８．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ），８．６−８．８（ｍ，２Ｈ），
８．８４（ｓ，１Ｈ），９．３８（ｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０，
１５００，１２４０ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１２４８（Ｍ＋
Ｎａ）元素分析Ｃ₅₃Ｈ₇₉Ｎ₉Ｏ₂₂Ｓ・６Ｈ₂Ｏとして、計算値：Ｃ４７．７０，Ｈ６．８７，Ｎ９．
４４実測値：Ｃ４７．４７，Ｈ６．８３，Ｎ９．
３４

【００８２】実施例６出発化合物（０．５ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（１０ｍｌ）溶液にモレキュラ−シ−ブ４Åの存在下
で無水酢酸（０．１１９ｍｌ）を加え，次に氷冷下でト
リエチルアミン（０．１７５ｍｌ）を加える。混合物を
氷冷下で５時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル
（５０ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下
で乾燥する。粉末を水（２０ｍｌ）に入れ、ダウエック
ス５０ＷＸ４（商標：ダウケミカル社製）（１５ｍ
ｌ）のイオン交換カラムクロマトグラフィ−のイオン交
換に付す。そして、水で溶出する。目的化合物を含む
画分を合わせ、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ−ＡＭＳ
−５０）（商標：山村化学研究所製）のカラムクロマト
グラフィ−に付し、４０％のメタノ−ル水溶液で溶出す
る。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−
ルを留去する。

【００８３】残渣を凍結乾燥して目的化合物（１０４ｍ
ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９０
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０７
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），１．３−１．６
（ｍ，１０Ｈ），１．７−１．９（ｍ，２
Ｈ），１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．２９
（ｓ，３Ｈ），２．２−２．６（ｍ，３
Ｈ），２．７−２．９（ｍ，１Ｈ），３．３９
（ｍ，１Ｈ），３．７−４．７（ｍ，１６
Ｈ），４．９８（ｓ，１Ｈ），５．１０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），５．３２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）６．９３（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．３，１．７Ｈｚ），７．６０（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．８０（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１７４０，
１６００，１０４０ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１２５５（Ｍ＋
Ｎａ）元素分析Ｃ₅₂Ｈ₇₃Ｎ₈ＮａＯ₂₃Ｓ・６Ｈ₂０として、計算値：Ｃ４６．５６，Ｈ６．３８，Ｎ８．
３５実測値：Ｃ４６．６２，Ｈ６．３８，Ｎ８．
２３

【００８４】実施例７実施例９と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６， δ）：０．８６
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０６，
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２−２．０
（ｍ，１５Ｈ），２．１−２．７（ｍ，４
Ｈ），３．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），３．７３（ｍ，２Ｈ），３．８−４．５
（ｍ，１４Ｈ），４．７−５．２（ｍ，１０
Ｈ），５．４９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈ
ｚ），６．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ），６．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．８５（ｓ，
１Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ），７．２−７．５（ｍ，３Ｈ），７．８
６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．０４
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３２（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５４（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．７９（ｓ，２Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０
ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１１２（Ｍ＋
Ｎａ）元素分析Ｃ₅₀Ｈ₇₂Ｎ₈Ｏ₁₉・４Ｈ₂０として、計算値：Ｃ５１．７１，Ｈ６．９４，Ｎ９．
６４実測値：Ｃ５１．６７，Ｈ６．９６，Ｎ９．
５４

【００８５】実施例８実施例９と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆， δ）：０．８６
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），０．９６
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．０６，
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２−２．０
（ｍ，１５Ｈ），２．２３（ｓ，３Ｈ），
２．１−２．７（ｍ，４Ｈ），３．１７（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７３（ｍ，２
Ｈ），３．８−４．５（ｍ，１４Ｈ），４．７
−５．４（ｍ，１０Ｈ），５．４９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．７−７．１（ｍ，５
Ｈ），７．２−７．５（ｍ，３Ｈ），７．８６
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．０９
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３０（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５９（ｄ，１Ｈ
Ｊ＝６．７Ｈｚ），９．５７（ｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０，
１２５０ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１５３（Ｍ＋
Ｎａ）元素分析Ｃ₅₂Ｈ₇₄Ｎ₈Ｏ₂₀・５Ｈ₂０として、計算値：Ｃ５１．１４，Ｈ６．９３，Ｎ９．
１７実測値：Ｃ５１．０５，Ｈ７．００，Ｎ９．
０６

【００８６】実施例９出発化合物（０．５ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（５ｍｌ）溶液にトリフルオロ酢酸（３０．９μ１）
と水（５μ１）の混合物を室温で加え、同温で６時間攪
拌する。反応混合物を、酢酸エチル（５０ｍｌ）で粉砕
する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下で乾燥する。粉末を
水に入れ、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ−ＡＭＳ−５
０）（商標：山村化学研究所製）のカラムクロマトグラ
フィ−に付し、４５％のメタノ−ル水溶液で溶出する。
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを
留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（９９．０ｍ
ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆， δ）：０．８６
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９６
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．０２，
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２−１．５
（ｍ，１０Ｈ），１．６−２．０（ｍ，５
Ｈ），２．１−２．７（ｍ，４Ｈ），２．６８
（ｓ，６Ｈ），３．２（ｍ，１Ｈ），３．７
３（ｍ，２Ｈ），３．８−４．６（ｍ，１６
Ｈ），４．７−５．５（ｍ，１１Ｈ），６．７
４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．７６
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９９（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１１（ｓ，１
Ｈ），７．２−７．５（ｍ，２Ｈ），７．８５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）８．０９（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３２（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．６７（ｍ，２Ｈ），
８．８４（ｓ，１Ｈ），９．４０（ｓ，１
Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６００
ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１４７（Ｍ＋
１）元素分析Ｃ₅₃Ｈ₇₉Ｎ₉Ｏ₁₉・ＣＦ₃ＣＯＯＨ・９Ｈ₂０
として、計算値：Ｃ４６．４４，Ｈ６．９４，Ｎ８．
８６実測値：Ｃ４６．７１，Ｈ６．８２，Ｎ９．
１３

【００８７】実施例１０実施例９と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９１
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２３，
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），１．２−１．６
（ｍ，１０Ｈ），１．７−２．０（ｍ，２
Ｈ），２．０−２．３５（ｍ，３Ｈ），２．４
−２．７（ｍ，３Ｈ），２．９１（ｍ，１
Ｈ），３．３７（ｍ，１Ｈ），３．８２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ），３．９２（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．１−４．８（ｍ，
１４Ｈ），５．００（ｍ，１Ｈ），５．１０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），５．３９
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．６２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）６．７４（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．８０（ｓ，１
Ｈ），８．２９（ｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０，
１５００，１２１０ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１６１（Ｍ＋
Ｎａ）

【００８８】実施例１１出発化合物（１ｇ）のメタノ−ル（１０ｍｌ）溶液にｐ
−トルエンスルホン酸（０．０８ｇ）を室温でを加え、
同温で１２時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル
（５０ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下
で乾燥する。粉末を５０％のメタノ−ル水溶液に加え、
ｃ１８μボンダパック（Ｂｏｎｄａｐａｋ）樹脂（ウオ
−タ−アソシエ−ツ社製、マサチュ−セッツ州、ミルフ
ァ−ド）を使用する分取ＨＰＬＣに付し、島津ＬＣ−８
Ａポンプを使って１分間８０ｍｌの流速で、アセトニト
リル−ｐＨ３リン酸塩緩衝液（４２：５８）からなる溶
媒系で溶出する。そのカラムを２４０ｎｍで、ＵＶ探知
機で監視する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下
でアセトニトリルを留去する。残渣はＯＤＳ（ＹＭＣ−
ｇｅｌＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所
製）のカラムクロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、
８０％のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去する。

【００８９】残渣を凍結乾燥して目的化合物（０．１３
ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ， δ）：０．９０
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０６
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２０（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．３−１．６
（ｍ，１０Ｈ），１．６−１．９（ｍ，２Ｈ），
１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．３−２．
７（ｍ，３Ｈ），２．８−３．０（ｍ，１
Ｈ），３．３４（ｓ，３Ｈ），３．３８
（ｍ，１Ｈ），３．７−４．７（ｍ，１６Ｈ），
４．９９（ｍ，１Ｈ），５．０５−５．１５
（ｍ，２Ｈ），６．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．１，１．７Ｈｚ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．７Ｈｚ），６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
９Ｈｚ），７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，１６２０，
１５００，１２５０ｃｍ^-1 ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１２５（Ｍ＋
Ｎａ）

【００９０】実施例１２実施例１と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆，δ）：０．８８（ｔ，３
Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９６（ｄ，３Ｈ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１２（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ），１．２−２．０（ｍ，１３Ｈ），２．
１−２．７（ｍ，４Ｈ），３．１５（ｍ，１
Ｈ），３．５−４．５（ｍ，１８Ｈ），４．７−
５．７（ｍ，１Ｈ），６．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝８．２Ｈｚ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ），７．０３（ｓ，１Ｈ），７．２２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３６（ｓ，
１Ｈ），７．５（ｍ，１Ｈ），７．８３（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９−８．０（ｍ，２
Ｈ），８．０−８．３（ｍ，３Ｈ），８．４９
（ｓ，１Ｈ），８．６５（ｍ，１Ｈ），８．８
５（ｂｒｓ，１Ｈ）ＦＡＢ−ＭＳｅ／ｚ＝１３２４（Ｍ）ＥｌｅｍｅｎｔａｌＡｎａｌｙｓｉｓ：元素分析Ｃ₅₅Ｈ₇₂Ｎ₈Ｎａ₂Ｏ₂₅Ｓ；７Ｈ₂Ｏとし
て、計算値：Ｃ４５．５７，Ｈ５．９８，Ｎ７．７３実測値：Ｃ４５．７２，Ｈ５．８７，Ｎ７．６９

【００９１】実施例１３出発化合物（３．１５ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（３２ｍｌ）溶液にトリフルオロ酢酸（０．３７ｍ
ｌ）とｐ−トルエンスルホン酸の水和物（０．５ｇ）の
混合物を室温で加え、同温で１２時間攪拌する。反応混
合物を、酢酸エチル（３００ｍｌ）で粉砕する。沈殿を
濾取し、溶媒を減圧下で乾燥して、粗生成物（３．３
ｇ）を得る。粗生成物（０．６ｇ）を水（１００ｍｌ）
に加え、ｃ１８μボンダパック（Ｂｏｎｄａｐａｋ）樹
脂（ウオ−タ−アソシエ−ツ社製、マサチュ−セッツ
州、ミルファ−ド）を使用する分取ＨＰＬＣに付し、シ
マズＬＣ−８Ａポンプを使って１分間８０ｍｌの流速
で、アセトニトリル−ｐＨ３リン酸塩緩衝液（３８：６
２）からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを２４０ｎ
ｍで、ＵＶ探知機で監視する。保持時間が２０、６分の
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリ
ルを留去する。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
Ｐｈ６．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ−
ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）のカラムク
ロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、８０％のメタノ
−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せ、減圧下でメタノ−ルを留去する。

【００９２】残渣を凍結乾燥して目的化合物（１４７ｍ
ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆，δ）；０．８８（ｔ，３
Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９４（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．０９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ），１．２−２．０（ｍ，１３Ｈ），２．
１−２．７（ｍ，４Ｈ），３．２０（ｍ，１
Ｈ），３．６−４．５（ｍ，１８Ｈ），４．７−
５．２（ｍ，１０Ｈ），５．４−５．６（ｍ，２
Ｈ），６．４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
６．６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７
０（ｓ，１Ｈ），７．１−７．５（ｍ，３
Ｈ），７．７−８．２（ｍ，６Ｈ），８．３−
８．９（ｍ，５Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）３３００，１
６２０ｃｍ^-1

【００９３】実施例１４実施例４と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：０．８８（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９６７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８
Ｈｚ），１．０６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），１．
２２−１．５５（ｍ，８Ｈ），１．７−２．１（ｍ，５
Ｈ），２．１−２．５（ｍ，４Ｈ），２．７０（ｓ，６
Ｈ），３．２０（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｍ，２Ｈ），
３．８７−４．７（ｍ，１６Ｈ），４．７−５．５６
（ｍ，１１Ｈ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．１
０（ｓ，１Ｈ），７．２４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ），７．３−７．５（ｍ，３Ｈ），７．８−８．０
（ｍ，３Ｈ），８．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），
８．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．４３
（ｓ，１Ｈ），８．６７（ｍ，１Ｈ），８．８３（ｓ，
１Ｈ），８．７５−８．８５（ｍ，１Ｈ），９．３８
（ｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，１６００ｃｍ^−１元素分析Ｃ_５６Ｈ_７９Ｎ_９Ｏ_２２Ｓとして、計算値：Ｃ；５０．４０，Ｈ；６．５７，Ｎ；９．４４実測値：Ｃ；５０．６２，Ｈ；６．７９，Ｎ；９．５４

【００９４】実施例１５実施例９と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：０．８８（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ），１．０９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），１．２
−１．６（ｍ，８Ｈ），１．６８−２．７５（ｍ，９
Ｈ），２．１２（ｓ，６Ｈ），３．２０（ｍ，１Ｈ），
３．７４（ｍ，２Ｈ），３．８−４．６（ｍ，１６
Ｈ），４．７−５．２３（ｍ，１０Ｈ），５．５１
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），６．４４（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．２４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ），６．７０（ｓ，１Ｈ），７．１−７．５（ｍ，４
Ｈ），７．８−８．２（ｍ，６Ｈ），８．３−８．５
（ｍ，２Ｈ），８．７−８．９（ｍ，３Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２００，１６００ｃｍ^−１元素分析Ｃ_５６Ｈ_７９Ｎ_９Ｏ_１９・６Ｈ_２Ｏとし
て、計算値：Ｃ；５２．１１，Ｈ；７．１０，Ｎ；９．７６実測値：Ｃ；５１．７７，Ｈ；７．０４，Ｎ；９．６９

【００９５】実施例１６テトラヒドロフラン（５００ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（１２５ｍｌ）の混合溶媒に出発化合物
（２５ｇ）を加え、さらに氷冷撹拌下、クロロトリメチ
ルシラン（１０７ｍｌ）とトリエチルアミン（１７５．
５ｍｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。反応混合物
を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残留物をシリカゲル
クロマトグラフィーで精製して、化合物［Ａ］（１５．
５７ｇ）を得た。化合物［Ａ］（５ｇ）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（２５ｍｌ）溶液に氷冷撹拌下、炭酸
カリウム（０．２４９ｇ）とブロモ酢酸ベンズヒドリル
エステル（１．１０ｇ）を加え、そのまま３時間撹拌し
た。反応混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製して、２つの異性体化合物［Ｂ］（１．
０５ｇ）、化合物［Ｃ］（１．６１９ｇ）を得た。メタ
ノール（１０．５ｍｌ）と酢酸（２．６３ｍｌ）の混合
溶媒に化合物［Ｂ］（１．０５ｇ）を加え室温で１時間
撹拌した。反応混合物をエーテルに加え、粉末化し、そ
の粉末を濾取し、減圧下乾燥した。その粉末をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製して目的化合物（イ）
（０．３ｇ）を得た。化合物［Ｃ］を化合物［Ｂ］と同
様の操作で処理し、目的化合物（ロ）（０．２７ｇ）を
得た。

【００９６】目的化合物［イ］ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：０．８６（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），１．０７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２
−１．５３（ｍ，１０Ｈ），１．５５−２．１０（ｍ，
５Ｈ），２．１０−２．７０（ｍ，４Ｈ），３．１７
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７１（ｍ，２
Ｈ），３．８−４．６（ｍ，１５Ｈ），４．７−５．７
（ｍ，１２Ｈ），６．６０−６．９２（ｍ，５Ｈ），
６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２−７．
６（ｍ，１３Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ），８．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３１
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５９（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ），９．１１（ｂｒｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，１６００ｃｍ^−１ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１３３５（Ｍ＋Ｎａ）

【００９７】目的化合物［ロ］ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：０．８６（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ），１．０７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２
−１．５５（ｍ，１０Ｈ），１．６−２．１（ｍ，５
Ｈ），２．１−２．７（ｍ，４Ｈ），３．１６（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７３（ｍ，２Ｈ），３．
８−４．６（ｍ，１５Ｈ），４．７−５．６（ｍ，１２
Ｈ），６．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２，１．５Ｈ
ｚ），６．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７
９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），６．８７（ｍ，２
Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．２
−７．６（ｍ，１３Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ），８．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），
８．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５５
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），９．１２（ｓ，１Ｈ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，１６１０，１２４０，
１０６０ｃｍ^−１ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１３３５（Ｍ＋Ｎａ）

【００９８】実施例１７メタノール（１２ｍｌ）に出発化合物（０．３ｇ）とパ
ラジウムブラック（０．１５ｇ）を加え、水素下、室温
で１５分間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧
下濃縮して、残留物を分取液体クロマトグラフィーで精
製し、目的化合物（１０２ｍｇ）を得た。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：０．８６（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ），１．０６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２
−１．６（ｍ，１０Ｈ），１．６−２．１５（ｍ，５
Ｈ），２．１５−２．７（ｍ，４Ｈ），３．１７（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７４（ｍ，２Ｈ），
３．９−４．７（ｍ，１３Ｈ），４．５２（ｓ，２
Ｈ），４．７−５．６（ｍ，１２Ｈ），６．６０（ｓ，
１Ｈ），６．７３（ｓ，２Ｈ），６．８４（ｓ，１
Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２
−７．６（ｍ，３Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ），８．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．３
１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，１６１０，１２４０ｃ
ｍ^−１ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１６９（Ｍ＋Ｎａ）元素分析Ｃ_５２Ｈ_７４Ｎ_８Ｏ_２１として、計算値：Ｃ；４９．７５，Ｈ；６．９０，Ｎ；８．９２実測値：Ｃ；４９．７４，Ｈ；６．９８，Ｎ；８．９１

【００９９】実施例１８実施例１７と同様にして目的化合物を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：０．８６（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ），１．０７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２
−１．６（ｍ，１０Ｈ），１．６−２．２（ｍ，５
Ｈ），２．２−２．７（ｍ，４Ｈ），３．１７（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７−４．６（ｍ，１７
Ｈ），４．７−５．６（ｍ，１２Ｈ），６．５４（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），６．７４（ｓ，１Ｈ），６．８４（ｓ，
１Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．
２−７．６（ｍ，３Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ），８．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），
８．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５９
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０，１２５０，
１０５０ｃｍ^−１ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１４５（Ｍ−Ｎａ−１）元素分析Ｃ_５２Ｈ_７３Ｎ_８ＮａＯ_２１として、計算値：Ｃ；４８．８９，Ｈ；６．７０，Ｎ；８．７７実測値：Ｃ；４９．１３，Ｈ；６．８１，Ｎ；８．８９

【０１００】実施例１９Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）とアセトン
（２ｍｌ）の混合溶媒に出発化合物（０．２ｇ）、２，
２−ジメトキシプロパン（０．２０６ｍｌ）、ｐ−トル
エンスルホン酸１水和物（０．０３１９ｇ）及びモレキ
ュラシーブ４Å（３粒）を加え、その反応混合物を室温
で２４時間撹拌した。その反応混合物を酢酸エチル（５
０ｍｌ）に加え、生じた粉末を濾取し、減圧下乾燥し
た。その粉末と水（１０ｍｌ）に加え、ＤＯＷＥＸ−５
０Ｗ×４を用いたイオン交換カラムクロマトグラフィー
により精製し、次いで、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌＯＤＳ
−ＡＭＳ−５０）を用いるカラムクロマトグラフィーに
より精製した。目的物を含む画分を集め、凍結乾燥し、
目的化合物（２０ｍｇ）を得た。ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１２９３（Ｍ^＋＋Ｎａ）

【０１０１】実施例２０合成法は氷冷下で反応を行なう以外は実施例１９と同様
の方法で行なった。ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００，１６２０ｃｍ^−１ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１２５３（Ｍ^＋＋Ｎａ）

【０１０２】次式の公知の化合物［Ａ］またはその塩
は、製造法２、３、５と同様の方法により、次式の化合
物［Ｂ］またはその塩に変えることができることに留意
すべきである。（式中、Ｒ^ａはアシル基Ｒ^ｂ，Ｒ^ｃ，Ｒ^f ，Ｒ^ｇはそれぞれ独立して水
素またはヒドロキシＲ^ｄはヒドロキシ、アシルオキシ、ホスホリルオキシ
またはスルホニルオキシＲ^ｅは水素またはメチルＲ^f ₁ は水素または低級アルコキシＲ^ｈは１個以上の好適な置換基をもっていてもよい低
級アルキルをそれぞれ意味する）

【０１０３】化合物［Ａ］は特開平１−１６３１７９，
３−１６３０９６，４−２１７６９４，４−２１７６９
５，４−２１７６９６，４−２１７６９７，４−２１７
６９８，４−２１７６９９の公報で公開されている。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式：［式中、Ｒ¹はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、Ｒ²はヒドロキシ基、Ｒ³はアシル基、Ｒ⁴ およびＲ⁵はそれぞれヒドロキシ
基、Ｒ⁶はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基、
カルボキシ（低級）アルコキシ基または保護されたカル
ボキシ（低級）アルコキシ基、Ｒ⁷ はヒドロキシ基、
ヒドロキシスルホニルオキシ基、カルボキシ（低級）ア
ルコキシ基または保護されたカルボキシ（低級）アルコ
キシ基、Ｒ⁸は水素または適当な置換基を１個以上有し
ていてもよい低級アルキル基をそれぞれ意味する。ここ
において、Ｒ¹およびＲ²またはＲ⁴およびＲ⁵はそれぞれ
結合して、式：（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する）で示される基を形成していてもよ
い。（但し、Ｒ⁶およびＲ⁷が共にヒドロキシ基の場合
は、Ｒ³はパルミトイル基ではない）］で示される化合
物およびその塩。
【請求項２】式：［式中、Ｒ¹はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、Ｒ²はヒドロキシ基、Ｒ³はアシル基、Ｒ⁴ およびＲ⁵はそれぞれヒドロキシ
基、Ｒ⁶はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基、
カルボキシ（低級）アルコキシ基または保護されたカル
ボキシ（低級）アルコキシ基、Ｒ⁷ はヒドロキシ基、
ヒドロキシスルホニルオキシ基、カルボキシ（低級）ア
ルコキシ基または保護されたカルボキシ（低級）アルコ
キシ基、Ｒ⁸は水素または適当な置換基を１個以上有し
ていてもよい低級アルキル基をそれぞれ意味する。ここ
において、Ｒ¹およびＲ²またはＲ⁴およびＲ⁵はそれぞれ
結合して、式：（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する）で示される基を形成していてもよ
い。（但し、Ｒ⁶およびＲ⁷が共にヒドロキシ基の場合
は、Ｒ³はパルミトイル基ではない）］で示される化合
物およびその塩の製造法であって、（１）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _dはヒドロキシスルホニルオ
キシ基を意味する）で示される化合物またはその塩を加
水分解反応に付して、式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味）で示される化合物またはその塩
を得るか、または（２）式：（式中、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味である）で示される化合物または
その塩を式：Ｒ¹ _a−Ｈ（式中、Ｒ¹ _aは低級アルコキシ基を意味する）で示され
る化合物と反応させて、式：（式中、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味、Ｒ¹ _aは低級アルコキシ基を意味
する）で示される化合物またはその塩を得るか、または
（３）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷ _d、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味である）で示される化合物または
その塩をアシル化反応に付して式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷ _d、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味、及びＲ⁶ _dは低級アルカノイルオ
キシ基を意味する）で示される化合物またはその塩を得
るか、または（４）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶ _d、Ｒ⁷ _d、およ
びＲ⁸はそれぞれ前と同じ意味である）で示される化合
物またはその塩を加水分解反応に付して式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶ _d、およびＲ⁸は
それぞれ前と同じ意味である）で示される化合物または
その塩を得るか、または（５）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷ はそれ
ぞれ前と同じ意味である）で示される化合物またはその
塩をアルキル化反応に付して式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁷ は
それぞれ前と同じ意味、及びＲ⁸ _aは適当な置換基を１個
以上有していてもよい低級アルキル基を意味する）で示
される化合物またはその塩を得るか、または（６）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶ 及びＲ⁸ _aはそれ
ぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _aはヒドロキシスルホニルオキシ
基を意味する）で示される化合物またはその塩を加水分
解反応に付して式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁸ _aはそれ
ぞれ前と同じ意味である）で示される化合物またはその
塩を得るか、または（７）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷ およびＲ⁸はそ
れぞれ前と同じ意味）で示される化合物またはその塩と
式：Ｒ¹¹−Ｘ［式中、Ｒ¹¹はカルボキシ（低級）アルキル基または保
護されたカルボキシ（低級）アルキル基、Ｘは脱離基を
意味する］で示される化合物と反応させて、式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＲ⁸ はそれ
ぞれ前と同じ意味、Ｒ⁶ _aはカルボキシ（低級）アルコキ
シ基または保護されたカルボキシ（低級）アルコキシ基
を意味する）で示される化合物またはその塩を得るか、
または（８）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁸ はそれ
ぞれ前と同じ意味である）で示される化合物またはその
塩と式：Ｒ¹¹−Ｘ（式中Ｒ¹¹、Ｘは前と同じ意味である）で示される化合
物と反応させて、式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _aはカルボキシ（低級）アルコ
キシ基または保護されたカルボキシ（低級）アルコキシ
基を意味する）で示される化合物またはその塩を得る
か、または（９）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁶ _bは保護されたカルボキシ（低
級）アルコキシ基を意味する）で示される化合物または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁶ _cはカルボキシ（低級）アルコ
キシ基を意味する）で示される化合物またはその塩を得
るか、または（１０）式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _bは保護されたカルボキシ（低
級）アルコキシ基を意味する）で示される化合物または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して式：（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁸ はそ
れぞれ前と同じ意味、Ｒ⁷ _cはカルボキシ（低級）アルコ
キシ基を意味する）で示される化合物またはその塩を得
るか、または（１１）式：（式中、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸ はそれぞれ前と同じ意
味である）で示される化合物またはその塩をケタール化
反応に付して式：［式中、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸はそれぞれ前と同じ意味、
Ｒ¹ _aおよびＲ² _aはそれぞれヒドロキシ基または両者が結
合して、式：（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する）で示される基を形成している）を意
味する］で示される化合物またはその塩を得ることを特
徴とする前記ポリペプチド化合物の製造法。
【請求項３】有効成分として、請求項１に記載の化合
物またはその塩を含有することを特徴とする抗菌剤。