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JPH06192292A - Novel polypeptide compound and salt - Google Patents

Novel polypeptide compound and salt

Info

Publication number
JPH06192292A
JPH06192292A JP5248668A JP24866893A JPH06192292A JP H06192292 A JPH06192292 A JP H06192292A JP 5248668 A JP5248668 A JP 5248668A JP 24866893 A JP24866893 A JP 24866893A JP H06192292 A JPH06192292 A JP H06192292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
group
salt
same meaning
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5248668A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidenori Oki
秀徳 大木
Koji Kawabata
浩二 川端
Kazuo Sakane
和夫 坂根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPH06192292A publication Critical patent/JPH06192292A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
  • Peptides Or Proteins (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the novel polypeptide compound comprising a cyclic polypeptide, exhibiting a strong antibacterial activity to prevent the growth of broad pathogenic bacteria including gram-positive bacteria and gram-negative bacteria, and effective for preventing and treating carinii pneumonia, etc. CONSTITUTION:A compound of formula I [R<1> is hydroxy, lover alkoxy; R<2> is hydroxy; R<3> is acyl; R<4>, R<5> are hydroxy; R<6> is hydroxy, lower alkanoyloxy, carboxy (lower)alkoxy, etc.; R<8> is H, (substituted)over alkyl, or R<1> and R<2>, R<4> and R<5> are respectively combined with each other to form a group of formula II (R<9>, R<10> are H, lower alkyl); R<7>d. is hydroxysulfonyloxy] or its salt is hydrolyzed in the presence of an alkali such as an alkali metal hydroxide or an acid such as hydrochloric acid in a solvent such as water, alcohol or tetrahydrofuran to provide the novel polypeptide compound (salt) of formula III [R<7> is hydroxy, hydroxysulfonyloxy, carboxy (lover)alkoxy, etc.,] useful as an antibacterial agent, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は新規ポリペプチド化合
物及びその塩に関する。さらに詳しくはこの発明は抗菌
活性(特に抗真菌活性)を有し、さらに人体や動物のニ
ューモシスティスカリニ感染症(例えばカリニ肺炎)の
治療や予防に有用であると期待されている新規ポリペプ
チド化合物及びその塩、それを製造する方法、それを含
有する医薬組成物及び人体や動物のニューモシスティス
カリニ感染症(例えばカリニ肺炎)を含む感染症の治療
または予防の使用に関するものである。従って、この発
明のひとつの目的はいくらかの病原菌に対して高い活性
を有し、さらに人体や動物のニューモシスティスカリニ
感染症(例えばカリニ肺炎)の治療または予防にとって
有用であると期待される新規ポリペプチド化合物及びそ
の塩を提供する事である。
This invention relates to novel polypeptide compounds and salts thereof. More specifically, the present invention has a novel polypeptide having antibacterial activity (particularly antifungal activity), which is expected to be useful for the treatment and prevention of Pneumocystis carinii infection (eg, carini pneumonia) in humans and animals. The present invention relates to a compound and a salt thereof, a method for producing the same, a pharmaceutical composition containing the same, and use for treating or preventing infectious diseases including Pneumocystis carinii infection (eg, carini pneumonia) in humans and animals. Therefore, one object of the present invention is to have high activity against some pathogenic bacteria, and further, it is expected to be useful for the treatment or prevention of Pneumocystis carinii infection (eg, carini pneumonia) in humans and animals. A polypeptide compound and a salt thereof are provided.

【0002】この発明の他の目的のひとつは活性成分と
してポリペプチド化合物及びその塩を含有する医薬組成
物を提供することである。この発明のさらに他の目的の
ひとつは、病原菌が原因となっておこるニューモシステ
ィスカリニ感染症(例えばカリニ肺炎)を含む感染症の
治療または予防の為の人体や動物への薬物投与の為のポ
リペプチド化合物の使用法を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition containing a polypeptide compound and its salt as an active ingredient. Still another object of the present invention is to administer a drug to a human body or an animal for the treatment or prevention of infectious diseases including Pneumocystis carinii infections caused by pathogenic bacteria (eg Carini pneumonia). A method of using a polypeptide compound is provided.

【0003】[0003]

【発明の構成】この発明の目的とするポリペプチド化合
物は新規であり,次の一般式[I]によって表される。 [式中、R1はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、
2はヒドロキシ基、R3はアシル基、R4 およびR5
それぞれヒドロキシ基、R6はヒドロキシ基、低級アル
カノイルオキシ基、カルボキシ(低級)アルコキシ基ま
たは保護されたカルボキシ(低級)アルコキシ基、R7
はヒドロキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、カ
ルボキシ(低級)アルコキシ基または保護されたカルボ
キシ(低級)アルコキシ基、R8は水素または適当な置
換基を1個以上有していてもよい低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Polypeptide compounds targeted by the present invention
The product is novel and is represented by the following general formula [I].[In the formula, R1Is a hydroxy group or a lower alkoxy group,
R2Is a hydroxy group, R3Is an acyl group, RFour  And RFiveIs
Hydroxy group, R6Is a hydroxy group, lower alcohol
Canoyloxy group, carboxy (lower) alkoxy group
Or a protected carboxy (lower) alkoxy group, R7
 Is a hydroxy group, a hydroxysulfonyloxy group,
Ruboxy (lower) alkoxy group or protected carbo
Xy (lower) alkoxy group, R8Is hydrogen or suitable
A lower alkyl group which may have one or more substituents
I mean each.

【0004】ここにおいて、R1およびR2またはR4
よびR5はそれぞれ結合して、式: (式中、R9およびR10はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する)で示される基を形成していてもよ
い。(但し、R6およびR7が共にヒドロキシ基の場合
は、R3はパルミトイル基ではない)]
Here, R 1 and R 2 or R 4 and R 5 are bonded to each other to form the formula: (In the formula, R 9 and R 10 respectively represent hydrogen or a lower alkyl group) and may form a group. (However, when R 6 and R 7 are both hydroxy groups, R 3 is not a palmitoyl group)]

【0005】この発明のポリペプチド化合物[I]は下
記反応式に従って製造することができる。製造法1 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、およびR8
それぞれ前と同じ意味、R7 dはヒドロキシスルホニルオ
キシ基を意味する) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、およびR8
それぞれ前と同じ意味)
The polypeptide compound [I] of the present invention is
It can be produced according to the above reaction formula.Manufacturing method 1 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, And R8Is
Each has the same meaning as before, R7 dIs hydroxysulfonyl
Means a xy group)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, And R8Is
(The same meaning as before)

【0006】製造法2 (式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8
それぞれ前と同じ意味であり、R1 aは低級アルコキシ基
を意味する) (式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8
それぞれ前と同じ意味、R1 aは低級アルコキシ基を意味
する)
Manufacturing method 2 (In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 have the same meanings as described above, and R 1 a represents a lower alkoxy group.) (In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 have the same meanings as described above, and R 1 a means a lower alkoxy group.)

【0007】製造法3 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7 d、およびR8
それぞれ前と同じ意味である) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7 d、およびR8
それぞれ前と同じ意味、及びR6 dは低級アルカノイルオ
キシ基を意味する)
[0007]Manufacturing method 3 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7 d, And R8Is
Each has the same meaning as before)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7 d, And R8Is
Each has the same meaning as before, and R6 dIs a lower alkanoyloo
Means a xy group)

【0008】製造法4 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6 d、R7 d、およ
びR8はそれぞれ前と同じ意味である) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6 d、およびR8
それぞれ前と同じ意味である)
[0008]Manufacturing method 4 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6 d, R7 d, And
And R8Each has the same meaning as before)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6 d, And R8Is
Each has the same meaning as before)

【0009】製造法5 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6及びR7 はそれ
ぞれ前と同じ意味である) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、およびR7
それぞれ前と同じ意味、及びR8 aは適当な置換基を1個
以上有していてもよい低級アルキル基を意味する)
[0009]Manufacturing method 5 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R7 Is it
(Same meaning as before)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, And R7 Is
Each has the same meaning as before, and R8 aIs an appropriate substituent
The above means a lower alkyl group which may have)

【0010】製造法6 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6 及びR8 aはそれ
ぞれ前と同じ意味、R7 aはヒドロキシスルホニルオキシ
基を意味する) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6及びR8 aはそれ
ぞれ前と同じ意味である)製造法7 [式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7 およびR8はそ
れぞれ前と同じ意味、R11はカルボキシ(低級)アルキ
ル基または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、
Xは脱離基を意味する] [式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7及びR8 はそれ
ぞれ前と同じ意味、R6 aはカルボキシ(低級)アルコキ
シ基または保護されたカルボキシ(低級)アルコキシ基
を意味する]
[0010]Manufacturing method 6 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6 And R8 aIs it
Same meaning as before, R7 aIs hydroxysulfonyloxy
Means a group)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 aIs it
(Same meaning as before)Manufacturing method 7 [In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7 And R8Haso
The same meaning as before, R11Is carboxy (lower) alk
Group or a protected carboxy (lower) alkyl group,
X means a leaving group][In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7And R8 Is it
Same meaning as before, R6 aIs carboxy (lower) alkoxy
Si group or protected carboxy (lower) alkoxy group
Means]

【0011】製造法8 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、R8 、R11
及びXはそれぞれ前と同じ意味である) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R7 aはカルボキシ(低級)アルコ
キシ基または保護されたカルボキシ(低級)アルコキシ
基を意味する)
[0011]Manufacturing method 8 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, R8 , R11,
And X have the same meanings as before)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Haso
The same meaning as before, R7 aIs carboxy (lower) Arco
Xy or protected carboxy (lower) alkoxy
Means a group)

【0012】製造法9 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R6 bは保護されたカルボキシ(低
級)アルコキシ基を意味する) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R6 cはカルボキシ(低級)アルコ
キシ基を意味する)
[0012]Manufacturing method 9 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7And R8 Haso
The same meaning as before, R6 bProtected carboxy (low
Class) means an alkoxy group)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7And R8 Haso
The same meaning as before, R6 cIs carboxy (lower) Arco
Means a xy group)

【0013】製造法10 (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R7 bは保護されたカルボキシ(低
級)アルコキシ基を意味する) (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R7 cはカルボキシ(低級)アルコ
キシ基を意味する)
[0013]Manufacturing method 10 (In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Haso
The same meaning as before, R7 bProtected carboxy (low
Class) means an alkoxy group)(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Haso
The same meaning as before, R7 cIs carboxy (lower) Arco
Means a xy group)

【0014】製造法11 (式中、R3、R6、R7およびR8 はそれぞれ前と同じ意
味である)
[0014]Manufacturing method 11 (In the formula, R3, R6, R7And R8 Each has the same meaning as before
It's a taste)

【0015】[式中、R3、R6、R7 、R8はそれぞれ前
と同じ意味、R1 aおよびR2 aはそれぞれヒドロキシ基ま
たは両者が結合して、式: (式中、R9およびR10はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する)で示される基を形成している)を意
味する]。
[Wherein R3, R6, R7 , R8Each before
Same meaning as R1 aAnd R2 aAre hydroxy groups
Or both are combined to give the formula:(In the formula, R9And RTenIs hydrogen or lower
Forming a group represented by (meaning a kill group)
To taste].

【0016】化合物(I)の好適な塩は慣用の無毒性の
塩であって、金属塩、例えばアルカリ金属塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム
塩、有機塩基との塩(例えば、トリメチルアミン塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N,N′−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等)等、有機酸付加塩(例えばギ酸塩、酢酸塩、
トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホ
ン酸塩等)無機酸付加塩(例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩等)、アミノ酸
(例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸
等)との塩等が挙げられる。この明細書の以上および以
下の記載において、この発明の範囲内に包含される種々
の定義の好適な例および説明を以下詳細に説明する。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1ないし
6個を意味するものとする。「高級」とは、特に指示が
なければ、炭素原子7ないし20個を意味するものとす
る。
Suitable salts of the compound (I) are conventional non-toxic salts such as metal salts such as alkali metal salts (eg sodium salt, potassium salt etc.), alkaline earth metal salts (eg calcium salt, magnesium salt). Salt, etc.), ammonium salt, salt with organic base (eg, trimethylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt, picoline salt, dicyclohexylamine salt, N, N′-dibenzylethylenediamine salt, etc.), organic acid addition salt (eg, Formate, acetate,
Trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, toluenesulfonate, etc. Inorganic acid addition salts (eg hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide, sulfuric acid) Salts, phosphates, etc.), salts with amino acids (eg, arginine, aspartic acid, glutamic acid, etc.) and the like. In the above and subsequent description of the present specification, suitable examples and explanations of various definitions included in the scope of the present invention are explained in detail below.
"Lower" means 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified. “Higher” shall mean 7 to 20 carbon atoms unless otherwise indicated.

【0017】好適な「アシル基」としては、カルボン
酸、炭酸、カルバミン酸、スルホン酸等から誘導される
脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環式アシル、お
よび芳香族基または複素環式基で置換された脂肪族アシ
ル基等が挙げられる。
Suitable "acyl group" includes aliphatic acyl group derived from carboxylic acid, carbonic acid, carbamic acid, sulfonic acid, etc., aromatic acyl group, heterocyclic acyl, and aromatic group or heterocyclic group. Examples thereof include an aliphatic acyl group substituted with a group.

【0018】前記アシルの好適な例を以下に示す:ハロ
ゲン(例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等);ヒドロ
キシ、後述の高級アルコキシ、後述のアリール等のよう
な適当な置換基を1個以上(好ましくは1〜3個)有し
ていてもよいアリ−ル(例えばフェニル、ナフチル、ア
ントリル等);後述の低級アルコキシ;アミノ;保護さ
れたアミノ、好ましくは低級アルコキシカルボニルアミ
ノ(例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボ
ニルアミノ、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカ
ルボニルアミノ、第三級ブトキシカルボニルアミノ、ペ
ンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボ
ニルアミノ等)等のようなアシルアミノ;ジ(低級)ア
ルキルアミノ(例えば、ジメチルアミノ、N−メチルエ
チルアミノ、ジエチルアミノ、N−プロピルブチルアミ
ノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ等);低級ア
ルコキシイミノ(例えば、メトキシイミノ、エトキシイ
ミノ、プロポキシイミノ、ブトキシイミノ、第三級ブト
キシイミノ、ペンチルオキシイミノ、ヘキシルオキシイ
ミノ等);後述の高級アルコキシ等のような適当な置換
基を1個以上(さらに好ましくは1〜3個)有していて
もよいフェニル(低級)アルコキシイミノ(例えば、ベ
ンジルオキシイミノ、フェネチルオキシイミノ、ベンズ
ヒドリルオキシイミノ等)のようなアル(低級)アルコ
キシイミノ;高級アルキル(例えば、ヘプチル、オクチ
ル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、3,7−ジ
メチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、
テトラデシル、ペンタデシル、3−メチル−10−エチ
ルドデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシル、イコシル等)等のような適当な置換基
を1個以上(より好ましくは1〜3個)有していてもよ
い複素環チオ、好ましくはピリジルチオ;アミノ、前述
の保護されたアミノ、前述の高級アルキル等のような適
当な置換基を1個以上(さらに好ましくは1〜3個)有
していてもよい複素環基(例えば、チエニル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、フリル、テトラゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリル等)等;等のような適当な置換基を
1個以上(さらに好ましくは1〜3個)有していてもよ
い低級アルカノイル[例えばホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサ
ノイル、ピバロイル等];
Preferred examples of the acyl are shown below: Halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.); one or more appropriate substituents such as hydroxy, higher alkoxy described later, aryl mentioned later, and the like ( (Preferably 1 to 3) aryl (eg, phenyl, naphthyl, anthryl, etc.) which may have; lower alkoxy described below; amino; protected amino, preferably lower alkoxycarbonylamino (eg, methoxycarbonylamino, Acylamino such as ethoxycarbonylamino, propoxycarbonylamino, butoxycarbonylamino, tertiary butoxycarbonylamino, pentyloxycarbonylamino, hexyloxycarbonylamino and the like; di (lower) alkylamino (eg dimethylamino, N- Methylethylamino, die Ruamino, N-propylbutylamino, dipentylamino, dihexylamino, etc.); lower alkoxyimino (eg, methoxyimino, ethoxyimino, propoxyimino, butoxyimino, tertiary butoxyimino, pentyloxyimino, hexyloxyimino, etc.); Phenyl (lower) alkoxyimino optionally having one or more (more preferably 1 to 3) appropriate substituents such as higher alkoxy described below (eg, benzyloxyimino, phenethyloxyimino, benzhi) Alkyl (lower) alkoxyimino such as drilloxyimino; higher alkyl (eg, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, 3,7-dimethyloctyl, undecyl, dodecyl, tridecyl,
Even if it has one or more (more preferably 1 to 3) appropriate substituents such as tetradecyl, pentadecyl, 3-methyl-10-ethyldodecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, icosyl, etc. A good heterocyclic thio, preferably pyridylthio; a heterocyclic group which may have one or more (more preferably 1 to 3) appropriate substituents such as amino, the above-mentioned protected amino, the above-mentioned higher alkyl and the like. Cyclic group (for example, thienyl, imidazolyl, pyrazolyl, furyl, tetrazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl, etc.); etc .; and one or more (more preferably 1 to 3) suitable substituents Alkanoyl [eg formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, hexanoyl, pivaloyl ];

【0019】高級アルカノイル[例えばヘプタノイル、
オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイ
ル、ラウロイル、トリデカノイル、ミリストイル、ペン
タデカノイル、パルミトイル、10,12−ジメチルテ
トラデカノイル、ヘプタデカノイル、ステアノイル、ノ
ナデカノイル、イコサノイル等];
Higher alkanoyl [eg heptanoyl,
Octanoyl, nonanoyl, decanoyl, undecanoyl, lauroyl, tridecanoyl, myristoyl, pentadecanoyl, palmitoyl, 10,12-dimethyltetradecanoyl, heptadecanoyl, steanoyl, nonadecanoyl, icosanoyl, etc.];

【0020】後述の高級アルコキシ等のような置換基を
1個以上(さらに好ましくは1〜3個)有していてもよ
い前述のアリ−ルのような適当な置換基を1個以上(さ
らに好ましくは1〜3個)有していてもよい低級アルケ
ノイル[例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロト
ノイル、3−ペンテノイル、5−ヘキセノイル等];高
級アルケノイル[例えば、4−ヘプテノイル、3−オク
テノイル、3,6−デカジエノイル、3,7,11−ト
リメチル−2,6,10−ドデカトリエノイル、4,1
0−ヘプタデカジエノイル等];低級アルコキシカルボ
ニル[例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、t−
ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキ
シルオキシカルボニル等];高級アルコキシカルボニル
[例えば、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシ
カルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、ノ
ニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、3,
7−ジメチルオクチルオキシカルボニル、ウンデシルオ
キシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシ
ルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、
ペンタデシルオキシカルボニル、3−メチル−10−エ
チルドデシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカ
ルボニル、ヘプタデシルオキシカルボニル、オクタデシ
ルオキシカルボニル、ノナデシルオキシカルボニル、イ
コシルオキシカルボニル等];アリ−ルオキシカルボニ
ル[例えば,フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカ
ルボニル等];
One or more (more preferably 1 to 3) suitable substituents such as the higher alkoxy mentioned below and the like such as the above aryl which may have one or more substituents (more preferably 1 to 3). (Preferably 1 to 3) lower alkenoyl which may have [eg acryloyl, methacryloyl, crotonoyl, 3-pentenoyl, 5-hexenoyl, etc.]; higher alkenoyl [eg 4-heptenoyl, 3-octenoyl, 3,6- Decadienoyl, 3,7,11-trimethyl-2,6,10-dodecatrienoyl, 4,1
0-heptadecadienoyl and the like]; lower alkoxycarbonyl [eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, t-
Butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl and the like]; higher alkoxycarbonyl [eg, heptyloxycarbonyl, octyloxycarbonyl, 2-ethylhexyloxycarbonyl, nonyloxycarbonyl, decyloxycarbonyl, 3,
7-dimethyloctyloxycarbonyl, undecyloxycarbonyl, dodecyloxycarbonyl, tridecyloxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl,
Pentadecyloxycarbonyl, 3-methyl-10-ethyldodecyloxycarbonyl, hexadecyloxycarbonyl, heptadecyloxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, nonadecyloxycarbonyl, icosyloxycarbonyl and the like]; aryloxycarbonyl [eg, Phenoxycarbonyl, naphthyloxycarbonyl, etc.];

【0021】アリ−ルグリオキシロイル[例えば,フェ
ニルグリオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル
等];ニトロまたは低級アルコキシを有していてもよい
フェニル(低級)アルコキシカルボニルのような置換基
を1個以上有していてもよいアル(低級)アルコキシカ
ルボニル[例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル等];低
級アルキルスルホニル[例えば、メシル、エチルスルホ
ニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、
ペンチルスルホニル、ブチルスルホニル等];
Arylglyoxyloyl [eg, phenylglyoxyloyl, naphthylglyoxyloyl, etc.]; having one or more substituents such as phenyl (lower) alkoxycarbonyl optionally having nitro or lower alkoxy Optionally substituted ar (lower) alkoxycarbonyl [eg benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl etc.]; lower alkylsulfonyl [eg mesyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl , Isopropylsulfonyl,
Pentylsulfonyl, butylsulfonyl, etc.];

【0022】後述の低級アルキルまたは高級アルコキシ
等のような置換基を1個以上(好ましくは1〜3個)有
していてもよいアリールスルホニル[、例えばフェニル
スルホニル、トシル等];フェニル(低級)アルキルス
ルホニル等のようなアル(低級)アルキルスルホニル
[例えばベンジルスルホニル、フェネチルスルホニル、
ベンジドリルスルホニル等];
Arylsulfonyl which may have one or more (preferably 1 to 3) substituents such as lower alkyl or higher alkoxy as described below [eg, phenylsulfonyl, tosyl, etc.]; phenyl (lower) Ar (lower) alkylsulfonyl such as alkylsulfonyl and the like [eg benzylsulfonyl, phenethylsulfonyl,
Benzidylsulfonyl, etc.];

【0023】前述のハロゲン;低級アルキル(例えば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、t−ブチル、ペン
チル、ヘキシル等);前述の高級アルキル;前述の低級
アルコキシ、前述のハロゲン、前述のアリール等のよう
な適当な置換基を1個以上(好ましくは1〜10個)有
していてもよい低級アルコキシ(例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等);前述のハロゲンのよう
な適当な置換基を1個以上(好ましくは1〜17個)有
していてもよい高級アルコキシ(例えば、ヘプチルオキ
シ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニ
ルオキシ、デシルオキシ、3,7−ジメチルオクチルオ
キシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシル
オキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、3
−メチル−10−エチルドデシルオキシ、ヘキサデシル
オキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノ
ナデシルオキシ、イコシルオキシ等);高級アルケニル
オキシ(例えば、3−ヘプテニルオキシ、7−オクテニ
ルオキシ、2,6−オクタジエニルオキシ、5−ノネニ
ルオキシ、1−デセニルオキシ、3,7−ジメチル−6
−オクテニルオキシ、3,7−ジメチル−2,6−オク
タジエニルオキシ、8−ウンデセニルオキシ、3,6,
8−ドデカトリエニルオキシ、5−トリデセニルオキ
シ、7−テトラデセニルオキシ、1,8−ペンタデカジ
エニルオキシ、15−ヘキサデセニルオキシ、11−ヘ
プタデセニルオキシ、7−オクタデセニルオキシ、10
−ノナデセニルオキシ、18−イコセニルオキシ等);
カルボキシ;前述の高級アルコキシのような適当な置換
基を1個以上(好ましくは1〜3)有していてもよい前
述のアリ−ル;前述の高級アルコキシのような適当な置
換基を1個以上(好ましくは1〜3個)有していてもよ
いアリ−ルオキシ(例えば、フェノキシ、ナフチルオキ
シ、アントリルオキシ等)、等のような適当な置換基を
1個以上(好ましくは1〜5個)有していてもよい;
等;等のような置換基を1個以上(好ましくは1〜5
個)有していてもよいアロイル[例えば、ベンゾイル、
ナフトイル、アントリルカルボニル等]等が挙げられ
る。
The above-mentioned halogen; lower alkyl (for example,
Methyl, ethyl, propyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, etc.); the above-mentioned higher alkyl; one or more (preferably, one or more) suitable substituents such as the above-mentioned lower alkoxy, the above-mentioned halogen, the above-mentioned aryl and the like. 1 to 10) optionally substituted lower alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, t-butoxy, pentyloxy, hexyloxy, etc.); one or more suitable substituents such as the above-mentioned halogens. (Preferably 1 to 17) higher alkoxy which may have (for example, heptyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, 3,7-dimethyloctyloxy, undecyloxy, dodecyloxy, tri Decyloxy, tetradecyloxy, pentadecyloxy, 3
-Methyl-10-ethyldodecyloxy, hexadecyloxy, heptadecyloxy, octadecyloxy, nonadecyloxy, icosyloxy, etc .; higher alkenyloxy (eg, 3-heptenyloxy, 7-octenyloxy, 2,6-octadienyloxy) , 5-nonenyloxy, 1-decenyloxy, 3,7-dimethyl-6
-Octenyloxy, 3,7-dimethyl-2,6-octadienyloxy, 8-undecenyloxy, 3,6
8-dodecatrienyloxy, 5-tridecenyloxy, 7-tetradecenyloxy, 1,8-pentadecadienyloxy, 15-hexadecenyloxy, 11-heptadecenyloxy, 7- Octadecenyloxy, 10
-Nonadecenyloxy, 18-icosenyloxy, etc.);
Carboxy; the above-mentioned aryl which may have one or more (preferably 1 to 3) suitable substituents such as the above-mentioned higher alkoxy; and one suitable substituent such as the above-mentioned higher-alkoxy. One or more (preferably 1 to 5) appropriate substituents such as aryloxy (eg, phenoxy, naphthyloxy, anthryloxy, etc.) which may be present (preferably 1 to 3), etc. Individual) may have;
Etc .; one or more substituents such as etc. (preferably 1-5)
Aroyl that may have [eg, benzoyl,
Naphthoyl, anthrylcarbonyl, etc.] and the like.

【0024】このように定義される「アシル基」の好ま
しい例は1個以上(好ましくは1〜5)の高級アルコキ
シを有していてもよいアロイル基であり、その中でさら
に好ましい例としては1〜3個の(C7〜C16)のアル
コキシを有していてもよいベンゾイル基、1〜3個の
(C7〜C16)のアルコキシを有していてもよいナフト
イル基であり、そして最も好ましい例は4−n−オクチ
ルオキシベンジル、6−n−ヘプチルオキシ−2−ナフ
トイルと6−n−オクチルオキシ−2−ナフトイルであ
る。
A preferred example of the "acyl group" defined as above is an aroyl group which may have one or more (preferably 1 to 5) higher alkoxy, and more preferred examples thereof are 1-3 (C 7 ~C 16) may benzoyl group optionally having alkoxy, a 1-3 (C 7 ~C 16) may naphthoyl group optionally having alkoxy, And the most preferred examples are 4-n-octyloxybenzyl, 6-n-heptyloxy-2-naphthoyl and 6-n-octyloxy-2-naphthoyl.

【0025】「適当な置換基を1個以上有していてもよ
い低級アルキル基」の好適な「低級アルキル」部分とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素
数1ないし6のアルカンの残基を意味し、その好ましい
例としてはC −C アルキル基が、さらに好まし
い例としてはメチル基が挙げられる。
Suitable "lower alkyl" moiety of "lower alkyl group optionally having one or more suitable substituents" includes methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, It means a straight chain or branched chain alkane residue having 1 to 6 carbon atoms such as pentyl, neopentyl, hexyl and the like, and a preferable example thereof is a C 1 -C 4 alkyl group, and a more preferable example is Examples include a methyl group.

【0026】上記「低級アルキル基」は、ヒドロキシ、
アシル(例えばカルボキシ、保護されたカルボキシ{例
えば低級アルコキシカルボニル(例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等}
等)、ジ(低級)アルキルアミノ(例えば、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、N−メチルエチルアミノ、ジプ
ロピルアミノ、ジブチルアミノ、N−t−ブチルブチル
アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ等)、環
の部分にほかの異種原子を有していてよい環状のアミノ
(例えば1−ピロリジニル、ピペリジノ、1−ピペラジ
ニル、モルホリノ、1−ピリジル、ジヒドロピリジン−
1−イル 等)等のような置換基を1個以上(好ましく
は1〜3個)有していてもよい。
The "lower alkyl group" is hydroxy,
Acyl (eg carboxy, protected carboxy {eg lower alkoxycarbonyl (eg methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl etc.)}
Etc.), di (lower) alkylamino (eg, dimethylamino, diethylamino, N-methylethylamino, dipropylamino, dibutylamino, Nt-butylbutylamino, dipentylamino, dihexylamino, etc.), in the ring portion. Cyclic amino optionally having another hetero atom (for example, 1-pyrrolidinyl, piperidino, 1-piperazinyl, morpholino, 1-pyridyl, dihydropyridine-
1-yl and the like) and the like may have one or more (preferably 1 to 3) substituents.

【0027】「適当な置換基を1個以上有していてもよ
い低級アルキル基」の好適な例としては、ヒドロキシと
カルボキシを有する低級アルキル、ジ(低級)アルキル
アミノを有する低級アルキル;およびそして環状アミノ
を有する低級アルキルが挙げられ、それらの中でさらに
好ましい例としては、ヒドロキシ及びカルボキシを有す
る(C1〜C4)アルキル;ジ(C1〜C4)アルキルアミ
ノを有する(C1〜C4)アルキル;ピペリジノを有する
(C1〜C4)アルキルが挙げられ、そして最も好ましい
例は1−ヒドロキシ−1−カルボキシメチル、ジメチル
アミノメチルおよびピペリジノメチルである。好適な
「低級アルコキシ」としてはメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ等
のような直鎖状もしくは分岐鎖状のもの等が挙げられ
る。
Preferable examples of "lower alkyl group optionally having one or more appropriate substituents" include lower alkyl having hydroxy and carboxy, lower alkyl having di (lower) alkylamino; and include lower alkyl having cyclic amino, the more preferred examples among them, having hydroxy and carboxy (C 1 ~C 4) alkyl; di (C 1 ~C 4) having an alkylamino (C 1 ~ C 4) alkyl; with a piperidino (C 1 ~C 4) alkyl, and the like, and the most preferred example is 1-hydroxy-1-carboxymethyl, dimethylaminomethyl and piperidinomethyl. Suitable "lower alkoxy" includes straight chain or branched chain such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, hexyloxy and the like.

【0028】好適な「低級アルカノイルオキシ」として
はアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、
ヘキサノイルオキシ等が挙げられる。好適な「カルボキ
シ(低級)アルコキシ基」としてはカルボキシメトキ
シ、カルボキシエトキシ、カルボキシプロポキシ、カル
ボキシブトキシ、2−カルボキシ−2−メチルエチル、
カルボキシペンチルオキシ、カルボキシヘキシルオキシ
等の基が挙げられる。
Suitable "lower alkanoyloxy" includes acetoxy, propionyloxy, butyryloxy,
Hexanoyloxy and the like can be mentioned. Suitable "carboxy (lower) alkoxy group" is carboxymethoxy, carboxyethoxy, carboxypropoxy, carboxybutoxy, 2-carboxy-2-methylethyl,
Examples include groups such as carboxypentyloxy and carboxyhexyloxy.

【0029】好適な「保護されたカルボキシ(低級)ア
ルコキシ基」としては、エステル化されたカルボキシ
(低級)アルコキシ基等が挙げられる。前記エステルの
好適な例としては、例えばメチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステ
ル、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキ
シルエステル、1−シクロプロピルエチルエステル等の
低級アルキルエステル;例えばビニルエステル、アリル
エステル等の低級アルケニルエステル;例えばエチニル
エステル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエス
テル;例えばメトキシメチルエステル、エトキシメチル
エステル、イソプロポキシメチルエステル、t−ブトキ
シメチルエステル、1−メトキシエチルエステル、1−
エトキシエチルエステル等の低級アルコキシアルキルエ
ステル;例えばメチルチオメチルエステル、エチルチオ
メチルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプロ
ピルチオメチルエステル等の低級アルキルチオ(低級)
アルキルエステル;例えば2−ヨ−ドエチルエステル、
2,2,2−トリクロロエチルエステル等のモノ(また
はジまたはトリ)ハロ(低級)アルキルエステル;例え
ばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチ
ルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリル
オキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステ
ル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、2−アセトキ
シエチルエステル、2−プロピオニルオキシエチルエス
テル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエス
テル;例えばメシルメチルエステル、2−メシルエチル
エステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アルキル
エステル;例えば2−イソブトキシカルボニル−2−ペ
ンテニルエステル等の低級アルコキシカルボニル(低
級)アルケニルエステル、例えばベンジルエステル、4
−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエス
テル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズ
ヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエ
ステル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ第三級ブチルベンジルエステル、
ジフェニルメチルエステル等の適当な置換基1個以上を
有していてもよいモノ(またはジまたはトリ)フェニル
(低級)アルキルエステルのようなアル(低級)アルキ
ルエステル;例えばフェニルエステル、トリルエステ
ル、第三級ブチルフェニルエステル、キシリルエステ
ル、メシチルエステル、クメニルエステル、4−クロロ
フェニルエステル、4−メトキシフェニルエステル等の
置換されたまたは非置換フェニルエステルのような適当
な置換基1個以上を有していてもよいアリ−ルエステ
ル;トリ(低級)アルキルシリルエステル;例えばメチ
ルチオエステル、エチルチオエステル等の低級アルキル
チオエステル等のようなものが挙げられる。
Suitable “protected carboxy (lower) alkoxy group” includes esterified carboxy (lower) alkoxy group and the like. Preferable examples of the ester include, for example, methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, tertiary pentyl ester, hexyl ester, 1-cyclopropyl. Lower alkyl ester such as ethyl ester; lower alkenyl ester such as vinyl ester and allyl ester; lower alkynyl ester such as ethynyl ester and propynyl ester; such as methoxymethyl ester, ethoxymethyl ester, isopropoxymethyl ester, t-butoxymethyl ester Ester, 1-methoxyethyl ester, 1-
Lower alkoxyalkyl ester such as ethoxyethyl ester; lower alkylthio (lower) such as methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioethyl ester, isopropylthiomethyl ester
Alkyl ester; for example, 2-iodoethyl ester,
Mono (or di or tri) halo (lower) alkyl esters such as 2,2,2-trichloroethyl ester; eg acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyl Lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester such as oxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester; lower alkanesulfonyl (lower such as mesylmethyl ester, 2-mesylethyl ester) ) Alkyl ester; lower alkoxycarbonyl (lower) alkenyl ester such as 2-isobutoxycarbonyl-2-pentenyl ester such as benzyl ester, 4
-Methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis (methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-ditertiary butyl ester Benzyl ester,
Ar (lower) alkyl esters such as mono (or di- or tri) phenyl (lower) alkyl esters which may have one or more suitable substituents such as diphenylmethyl ester; eg phenyl esters, tolyl esters, Having one or more suitable substituents such as substituted or unsubstituted phenyl esters such as tertiary butyl phenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, 4-chlorophenyl ester, 4-methoxyphenyl ester and the like. Optionally, aryl ester; tri (lower) alkylsilyl ester; lower alkylthioester such as methylthioester, ethylthioester and the like.

【0030】好適な「脱離基」としては例えば塩素、臭
素、沃素等のハロゲン、例えばベンゼンスルホニルオキ
シ、トシルオキシ、メシルオキシ等のスルホニルオキシ
基、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ等の低
級アルカノイルオキシ基のようなアシルオキシ基等が挙
げられる。この発明の目的化合物[I]またはその塩の
製造方法を以下詳細に説明する。
Suitable "leaving group" is, for example, halogen such as chlorine, bromine, iodine and the like, sulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy, tosyloxy and mesyloxy, lower alkanoyloxy group such as acetyloxy and propionyloxy. And acyloxy groups. The method for producing the object compound [I] of the present invention or a salt thereof will be described in detail below.

【0031】製造法1 目的化合物(Ia)またはその塩は、化合物(II)ま
たはその塩を加水分解反応に付すことにより製造するこ
とができる。加水分解は塩基または酸(ルイス酸も含
む)の存在下で行うことが望ましい。好適な塩基として
は、アルカリ金属(例えばナトリウム、カリウム等)、
アルカリ土類金属(例えばマグネシウム、カルシウム
等)、それらの金属の水酸化物、炭酸塩、または炭酸水
素塩、トリアルキルアミン(例えばトリメチルアミン、
トリエチルアミン等)、ピコリン、1,5−ジアザビシ
クロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビ
シクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]−ウンデク−7等のような無機塩基ま
たは有機塩基が挙げられる。好適な酸としては、有機酸
(例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸等)および無機酸(例えば塩酸、臭化
水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等)が挙げられる。
トリハロ酢酸(例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等)等のようなルイス酸を用いる脱離はカチオン捕捉
剤(例えばアニソール、フェノール等)の存在下に行う
ことが好ましい。反応は通常、水、アルコ−ル(例えば
メタノ−ル、エタノ−ル等)、塩化メチレン、テトラヒ
ドロフラン、N,Nジメチルホルムアミドのような溶媒
中、またはそれらの混合物中で行なわれるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のあらゆる溶媒中
で行うことができる。液状の塩基あるいは酸も溶媒とし
て用いることができる。反応温度は特に限定されず、通
常冷却下ないし加温下で行われる。
Production Method 1 The object compound (Ia) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (II) or a salt thereof to a hydrolysis reaction. The hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid (including a Lewis acid). Suitable bases include alkali metals (eg sodium, potassium, etc.),
Alkaline earth metals (eg magnesium, calcium etc.), hydroxides, carbonates or hydrogen carbonates of these metals, trialkylamines (eg trimethylamine,
Triethylamine), picoline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0]. -Inorganic bases or organic bases such as Undec-7. Suitable acids include organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid,
And trifluoroacetic acid) and inorganic acids (eg hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, etc.).
The elimination using a Lewis acid such as trihaloacetic acid (eg, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) is preferably carried out in the presence of a cation scavenger (eg, anisole, phenol, etc.). The reaction is usually carried out in a solvent such as water, alcohol (for example, methanol, ethanol, etc.), methylene chloride, tetrahydrofuran, N, N dimethylformamide, or a mixture thereof, but the reaction is adversely affected. It can be carried out in any other solvent as long as it does not exceed the above. A liquid base or acid can also be used as a solvent. The reaction temperature is not particularly limited and is usually under cooling or heating.

【0032】製造法2 目的化合物(Ib)またはその塩は、化合物(III)
またはその塩を化合物(IV)と反応させることによっ
て製造することができる。この反応は通常酸(例えばp
−トルエンスルホン酸等)の存在下で行われる。化合物
(IV)は溶媒として使用しても良い。反応温度は特に
限定されず、反応は通常冷却ないし加温下で行われる。
7中のヒドロキシスルホニルオキシ基が反応中ヒドロ
キシ基に変化する場合もこの発明の範囲内に包含され
る。
Production Method 2 The object compound (Ib) or its salt is the compound (III)
Alternatively, it can be produced by reacting the salt with compound (IV). This reaction is usually an acid (eg p
-Toluenesulfonic acid, etc.). Compound (IV) may be used as a solvent. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually performed under cooling or heating.
The case where the hydroxysulfonyloxy group in R 7 is changed to a hydroxy group during the reaction is also included in the scope of the present invention.

【0033】製造法3 目的化合物(Ic)またはその塩は、化合物(V)また
はその塩をアシル化反応に付すことによって、製造する
ことができる。このアシル化反応で使用される好適なア
シル化剤としては、式:R6 b−OH[VII] [式中R3 b は低級アルカノイル]で示される慣用のア
シル化剤またはその反応性誘導体もしくはその塩が挙げ
られる。
Production Method 3 The object compound (Ic) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (V) or a salt thereof to an acylation reaction. Suitable acylating agent used in this acylation reaction, wherein: R 6 b -OH [VII] [ wherein R 3 b is lower alkanoyl] or acylating agents or a reactive derivative conventionally represented by The salt is mentioned.

【0034】化合物[VII]の好適な「低級アルカノ
イル」としては、前述の「低級アルカノイルオキシ」の
「低級アルカノイル」部分と同様のものが挙げられる。
化合物[VII]のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミ
ド、活性化エステル等が挙げられる。その好適な例とし
ては、酸塩化物;酸アジド;置換されたリン酸(例えば
ジアルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェニルりん
酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等)、ジアル
キル亜りん酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、スルホン酸
(例えばメタンスルホン酸等)、アルキル炭酸、脂肪族
カルボン酸(例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−
エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等)または芳香族カル
ボン酸(例えば安息香酸等)のような酸との混合酸無水
物;対称酸無水物(例えば無水酢酸等);イミダゾー
ル、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリ
アゾール、テトラゾールまたは1−ヒドロキシ−1H−
ベンゾトリアゾールとの活性化アミド;活性化エステル
(例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメチルイミノメチル[(CH=CH
−]エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステ
ル、p−ニトロフェニルエステル、2,4−ジニトロフ
ェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタ
クロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フ
ェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、
p−ニトロフェニルチオエステル、p−クレジルチオエ
ステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエス
テル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−キ
ノリルチオエステル等)、もしくはN−ヒドロキシ化合
物(例えばN,N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−
ヒドロキシ−2−(1H)−ピリドン、N−ヒドロキシ
スクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒ
ドロキシ−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール等)
とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導体
は、使用すべき化合物[VII]の種類によって、これ
らの中から適宜選択することができる。
Suitable "lower alkanoyl" of the compound [VII] may be the same as the above "lower alkanoyl" moiety of "lower alkanoyloxy".
Suitable reactive derivative at the carboxy group of the compound [VII] includes acid halide, acid anhydride, activated amide, activated ester and the like. Suitable examples thereof include acid chlorides; acid azides; substituted phosphoric acids (eg, dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, etc.), dialkyl phosphorous acid, and sulfurous acid. , Thiosulfuric acid, sulfuric acid, sulfonic acid (eg methanesulfonic acid etc.), alkyl carbonic acid, aliphatic carboxylic acid (eg acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, pivalic acid, pentanoic acid, isopentanoic acid, 2-
Mixed acid anhydrides with acids such as ethyl butyric acid or trichloroacetic acid) or aromatic carboxylic acids (such as benzoic acid); symmetrical acid anhydrides (such as acetic anhydride); imidazoles, 4-substituted imidazoles, dimethylpyrazole, Triazole, tetrazole or 1-hydroxy-1H-
Activated amides with benzotriazoles; activated esters (eg cyanomethyl ester, methoxymethyl ester, dimethyliminomethyl [(CH 3 ) 2 N + = CH
-] Ester, vinyl ester, propargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester,
p-nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester, carboxymethyl thioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl thioester, etc., or N-hydroxy compound (for example, N, N-dimethylhydroxylamine, 1-
Hydroxy-2- (1H) -pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-6-chloro-1H-benzotriazole, etc.)
And the like. These reactive derivatives can be appropriately selected from these depending on the kind of the compound [VII] to be used.

【0035】化合物[VII]およびその反応誘導体の
好適な塩としては、化合物(I)の塩について例示した
ものと同じものを挙げることができる。
Suitable salts of the compound [VII] and its reaction derivative may be the same as those exemplified for the salt of the compound (I).

【0036】反応は、通常、水、アルコール(例えばメ
タノール、エタノール等)、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒または
反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中
で行われる。これらの慣用の溶媒は水と混合して用いて
もよい。
The reaction is usually carried out in a conventional manner such as water, alcohol (eg methanol, ethanol, etc.), acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, pyridine. In any other organic solvent that does not adversely affect the reaction. These conventional solvents may be used as a mixture with water.

【0037】化合物[VII]を遊離酸またはその塩の
形でこの反応に使用する場合、反応を、N,N′−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−
N′−モルホリノエチルカルボジイミド;N−シクロヘ
キシル−N′−(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)
カルボジイミド;N,N′−ジエチルカルボジイミド、
N,N′−ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチル
−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド;N,N′−カルボニルビス−(2−メチルイミダゾ
ール);ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイ
ミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;
エトキシアセチレン;1−アルコキシ−1−クロロエチ
レン;亜りん酸トリアルキル;ポリリン酸エチル;ポリ
リン酸イソプロピル;オキシ塩化リン(塩化ホスホリ
ル);三塩化リン;塩化チオニル;塩化オキサリル;例
えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハ
ロギ酸低級アルキル;トリフェニルホスフィン;2−エ
チル−7−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩;2
−エチル−5−(m−スルホフェニル)イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩;1−(p−クロロベンゼン
スルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリア
ゾール;N,N−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって調整
したいわゆるビルスマイヤー試薬のような慣用の縮合剤
の存在下に行うことが望ましい。反応はまた、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)ア
ルキルアミン(例えばトリエチルアミン等)、ピリジ
ン、ジ(低級)アルキルアミノピリジン(例えば4−ジ
メチルアミノピリジン等)、N−(低級)アルキルモル
ホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等
のような無機または有機塩基の存在下に行うことが望ま
しい。反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし
加温下で行われる。
When the compound [VII] is used in this reaction in the form of a free acid or a salt thereof, the reaction is carried out by N, N'-dicyclohexylcarbodiimide; N-cyclohexyl-
N'-morpholinoethylcarbodiimide; N-cyclohexyl-N '-(4-diethylaminocyclohexyl)
Carbodiimide; N, N'-diethylcarbodiimide,
N, N'-diisopropylcarbodiimide; N-ethyl-N '-(3-dimethylaminopropyl) carbodiimide; N, N'-carbonylbis- (2-methylimidazole); pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine; diphenylketene -N-cyclohexylimine;
1-alkoxy-1-chloroethylene; trialkyl phosphite; ethyl polyphosphate; isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); phosphorus trichloride; thionyl chloride; oxalyl chloride; eg ethyl chloroformate, chloroformate Lower alkyl haloformates such as isopropyl acid; triphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2
-Ethyl-5- (m-sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1- (p-chlorobenzenesulfonyloxy) -6-chloro-1H-benzotriazole; N, N-dimethylformamide and thionyl chloride, It is desirable to carry out in the presence of a conventional condensing agent such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by reaction with phosgene, phosphorus oxychloride and the like. The reaction also includes alkali metal carbonates, alkali metal hydrogen carbonates, tri (lower) alkylamines (eg triethylamine etc.), pyridine, di (lower) alkylaminopyridines (eg 4-dimethylaminopyridine etc.), N- (lower ) It is desirable to carry out in the presence of an inorganic or organic base such as alkylmorpholine, N, N-di (lower) alkylbenzylamine and the like. The reaction temperature is not particularly limited and is usually under cooling or heating.

【0038】製造法4 目的化合物(Id)またはその塩は、化合物(Ic)ま
たはその塩を加水分解反応に付すことによって、製造す
ることができる。この反応は、製造法1で述べたものと
実質的に同じ方法で行うことができるので、反応方法お
よび反応条件(例えば溶媒、反応温度等)は製造法1の
説明を援用できる。
Production Method 4 The object compound (Id) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (Ic) or a salt thereof to a hydrolysis reaction. Since this reaction can be carried out by substantially the same method as described in Production method 1, the description of Production method 1 can be applied to the reaction method and reaction conditions (for example, solvent, reaction temperature, etc.).

【0039】製造法5 目的化合物(Ie)またはその塩は、化合物(VI)ま
たはその塩をアルキル化反応に付すことによって、製造
することができる。この反応で用いられる好適なアルキ
ル化剤としては、 1)1個以上(好ましくは1〜3)の「1個以上の適当
な置換基を有していてもよい低級アルキル基」の置換基
として例示したような適当な置換基を有していてもよい
低級アルカナル(例えば ホルムアルデヒド、エタナ
ル、プロパナル、ブタナル、t−ブタナル、ペンタナ
ル、ヘキサナル等)、
Production Method 5 The object compound (Ie) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (VI) or a salt thereof to an alkylation reaction. Suitable alkylating agents used in this reaction include: 1) as a substituent of one or more (preferably 1 to 3) “lower alkyl group optionally having one or more suitable substituents” Lower alkanals optionally having suitable substituents as exemplified (eg formaldehyde, ethanal, propanal, butanal, t-butanal, pentanal, hexanal, etc.),

【0040】2)式 [式中R12とR13はそれぞれ前記例示の低級アルキル]
で示される化合物、 3)式 (式中、式: で示される基は環の部分にほかのヘテロ原子を有してい
てもよい環状アミニウム基(例えばピイルロリジニウ
ム、ピペリジニウム、ピペラジニウム、モルホリニウ
等)等が挙げられる。
2) Expression [Wherein R 12 and R 13 are each lower alkyl as exemplified above]
A compound represented by: 3) formula (In the formula, the formula: Examples of the group represented by are cyclic aminium groups which may have other heteroatoms in the ring portion (eg, pyrirollidinium, piperidinium, piperazinium, morpholinium, etc.) and the like.

【0041】反応は通常、水、アルコ−ル(例えばメタ
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノール等)、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホ
キシド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトンのよ
うな慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他
のあらゆる溶媒中で行われる。反応温度は特に限定され
ず、通常冷却下ないし加温下で行われる。
The reaction is usually carried out in a conventional solvent such as water, alcohol (for example, methanol, ethanol, propanol, etc.), methylene chloride, tetrahydrofuran, dioxane, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, acetone. Alternatively, it is carried out in any other solvent that does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited and is usually under cooling or heating.

【0042】製造法6 目的化合物(Ig)またはその塩は、化合物(If)ま
たはその塩を加水分解反応に付すことにより製造するこ
とができる。この反応は、製造法1で述べたものと実質
的に同じ方法で行うことができるので、反応方法および
反応条件(例えば溶媒、反応温度等)は製造法1の説明
を援用できる。
Production Method 6 The object compound (Ig) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (If) or a salt thereof to a hydrolysis reaction. Since this reaction can be carried out by substantially the same method as described in Production method 1, the description of Production method 1 can be applied to the reaction method and reaction conditions (for example, solvent, reaction temperature, etc.).

【0043】製造法7 目的化合物(Ii)またはその塩は、化合物(Ih)ま
たはその塩を化合物(VIII)と反応させることによ
って製造することができる。この反応はトリ(低級)ア
ルキルアミン(例えばトリメチルアミン,トリエチルア
ミン等)、ピリジン、ジ(低級)アルキルアミノピリジ
ン(例えば4−ジメチルアミノピリジン等)、N−(低
級)アルキルモルホリン、N,N−ジ(低級)アルキル
ベンジルアミン等のような無機または有機塩基の存在下
に行うことが望ましい。反応は通常、アルコ−ル(例え
ばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノール等)、塩化メ
チレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルス
ルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン
のような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないそ
の他のあらゆる溶媒中で行われる。反応温度は特に限定
されず、通常冷却下ないし加温下で行われる。
Production Method 7 The object compound (Ii) or its salt can be produced by reacting the compound (Ih) or its salt with the compound (VIII). This reaction is carried out by tri (lower) alkylamine (eg trimethylamine, triethylamine etc.), pyridine, di (lower) alkylaminopyridine (eg 4-dimethylaminopyridine etc.), N- (lower) alkylmorpholine, N, N-di ( It is desirable to carry out in the presence of an inorganic or organic base such as (lower) alkylbenzylamine. The reaction will usually adversely affect conventional solvents or reactions such as alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, etc.), methylene chloride, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylsulfoxide, N, N-dimethylformamide, acetone. Done in any other solvent that does not affect. The reaction temperature is not particularly limited and is usually under cooling or heating.

【0044】製造法8 目的化合物(Ik)またはその塩は、化合物(Ij)ま
たはその塩を化合物(VIII)と反応させることによ
って製造することができる。この反応は製造法7と実質
的に同様に行なうことができるので、反応条件(例え
ば、反応温度、溶媒等)は製造法7について述べたもの
を準用することができる。
Production Method 8 The object compound (Ik) or its salt can be produced by reacting the compound (Ij) or its salt with the compound (VIII). Since this reaction can be carried out in substantially the same manner as in production method 7, the reaction conditions (for example, reaction temperature, solvent etc.) described in production method 7 can be applied correspondingly.

【0045】製造法9 目的化合物(Im)またはその塩は、化合物(Il)ま
たはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造することができる。この反応は加水分解、還
元等の常法により行われる。加水分解は塩基または酸
(ルイス酸も含む)の存在下で行うことが望ましい。好
適な塩基としては、アルカリ金属(例えばナトリウム、
カリウム等)、アルカリ土類金属(例えばマグネシウ
ム、カルシウム等)、これらの水酸化物または炭酸塩ま
たは炭酸水素塩、トリアルキルアミン(例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン等)、ピコリン、1,5−
ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4
−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−ウンデク−7等の無機塩
基または有機塩基を挙げることができる。好適な酸とし
ては、有機酸(例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリ
クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン
酸等)および無機酸(例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、
塩化水素、臭化水素、塩化アンモニウム等)を挙げるこ
とができる。トリハロ酢酸(例えばトリクロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸等)等のルイス酸を用いる脱離反応はカ
チオン捕捉剤(例えばアニソール、フェノール等)の存
在下に行うことが望ましい。反応は通常、水、アルコ−
ル(例えばメタノ−ル、エタノ−ル等)、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、これらの混合物のような溶媒中
または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる溶媒
中で行われる。液状塩基あるいは酸も溶媒として用いる
ことができる。反応温度は特に限定されず、反応は通常
冷却ないし加温下で行われる。
Production Method 9 The object compound (Im) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (Il) or a salt thereof to a reaction for eliminating a carboxy protecting group. This reaction is carried out by a conventional method such as hydrolysis or reduction. The hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid (including a Lewis acid). Suitable bases include alkali metals (eg sodium,
Potassium, etc.), alkaline earth metals (eg magnesium, calcium etc.), hydroxides or carbonates or hydrogen carbonates thereof, trialkylamines (eg trimethylamine, triethylamine etc.), picoline, 1,5-
Diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4
There may be mentioned inorganic bases or organic bases such as -diazabicyclo [2.2.2] octane and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undec-7. Suitable acids include organic acids (eg formic acid, acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.) and inorganic acids (eg hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid,
Hydrogen chloride, hydrogen bromide, ammonium chloride and the like). The elimination reaction using a Lewis acid such as trihaloacetic acid (eg, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) is preferably carried out in the presence of a cation scavenger (eg, anisole, phenol, etc.). The reaction is usually water, alcohol
In a solvent such as methanol (e.g. methanol, ethanol, etc.), tetrahydrofuran, methylene chloride, mixtures thereof, or any other solvent that does not adversely influence the reaction. A liquid base or acid can also be used as a solvent. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually performed under cooling or heating.

【0046】脱離反応に用いることのできる還元法とし
ては、化学還元および接触還元を挙げることができる。
化学還元に用いる好適な還元剤としては、金属(例えば
錫、亜鉛、鉄等)または金属化合物(例えば塩化クロ
ム、酢酸クロム等)と有機酸あるいは無機酸(例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等)の組み合わせを
挙げることができる。接触還元に使用される好適な触媒
としては、白金触媒(例えば白金板、白金海綿、白金
黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等)、パラジウム
触媒(例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラ
ジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パラ
ジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等)、ニッケル触媒(例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネ−ニッケル等)、コバルト触媒(例えば還元コ
バルト、ラネ−コバルト等)、鉄触媒(例えば還元鉄、
ラネ−鉄等)、銅触媒(例えば還元銅、ラネ−銅、ウル
マン銅等)等を挙げることができる。還元は通常、反応
に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば水、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノール、N,N−ジメチルホル
ムアミド、またはそれらの混合物等の溶媒中で行われ
る。また、化学還元に用いる前記酸が液状の場合、これ
らは溶媒として使用することもできる。還元の反応温度
は特に限定されないが、通常、冷却ないし加温下に反応
が行われる。
Examples of the reduction method that can be used in the elimination reaction include chemical reduction and catalytic reduction.
Suitable reducing agents used for chemical reduction include metals (eg tin, zinc, iron etc.) or metal compounds (eg chromium chloride, chromium acetate etc.) and organic or inorganic acids (eg formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoro). A combination of acetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, etc.). Suitable catalysts used for catalytic reduction include platinum catalysts (eg platinum plate, platinum sponge, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wire, etc.), palladium catalysts (eg palladium sponge, palladium black, palladium oxide, palladium). -Carbon, colloidal palladium, palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, etc.), nickel catalyst (eg, reduced nickel, nickel oxide, Raney-nickel, etc.), cobalt catalyst (eg, reduced cobalt, Raney-cobalt, etc.), iron catalyst ( Reduced iron,
Raney iron, etc.), a copper catalyst (for example, reduced copper, Raney copper, Ullmann copper, etc.) and the like. The reduction is usually carried out in conventional solvents which do not adversely influence the reaction, such as water, methanol.
It is carried out in a solvent such as toluene, ethanol, propanol, N, N-dimethylformamide, or a mixture thereof. Further, when the acid used for chemical reduction is liquid, these can be used as a solvent. The reaction temperature for reduction is not particularly limited, but the reaction is usually performed under cooling or heating.

【0047】製造法10 目的化合物(Io)またはその塩は、化合物(In)ま
たはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造することができる。この反応は製造法9と実
質的に同様に行なうことができるので、反応条件(例え
ば、反応温度、溶媒等)は製造法9について述べたもの
を準用することができる。
Production Method 10 The object compound (Io) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (In) or a salt thereof to a reaction for eliminating a carboxy protecting group. Since this reaction can be carried out in substantially the same manner as in production method 9, the reaction conditions (for example, reaction temperature, solvent etc.) described in production method 9 can be applied correspondingly.

【0048】製造法11 目的化合物(Iq)またはその塩は、化合物(Ip)ま
たはその塩をケタール化反応に付すことによって製造す
ることができる。この反応は、ケタール化に通常用いら
れる方法(例えば、後記の実施例として記載された方
法)により行なうことができる。出発化合物[II]は
ヨーロッパ特許EP0462531A2号公報で開示さ
れた発酵及び合成法により製造することができる。上記
の発酵方法で使用される菌株コレオフォマ sp.F−
11899は第FERM BP−2635号として19
89年10月26日付で工業技術院微生物工業技術研究
所(日本国茨城県つくば市東1丁目1番3号 郵便番号
305)に寄託されている。
Production Method 11 The object compound (Iq) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (Ip) or a salt thereof to a ketalization reaction. This reaction can be carried out by a method usually used for ketalization (for example, the method described in Examples below). The starting compound [II] can be produced by the fermentation and synthetic methods disclosed in European Patent EP0462531A2. The strain Coleophoma sp. Used in the above fermentation method. F-
11899 is No. 19 as FERM BP-2635.
It has been deposited at the Institute of Microbial Technology, Institute of Industrial Technology (Postal code 305, 1-3 1-3 Higashi, Tsukuba, Ibaraki, Japan) on October 26, 1989.

【0049】この発明のポリペプチド化合物(I)の有
用性を示す為に代表的化合物の生物学的デ−タを以下に
示す。試験法 :抗菌活性 後述する実施例3の化合物(以下化合物Iという)の試
験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法により測定し
た。各試験菌株を2%グルコ−スを含むサブロ−・ブロ
ス(Sabouraudbroth)中一夜培養してそ
の1白金耳(生菌数105個/ml)を、各濃度段階の
化合物(I)を含むイ−ストニトロゲンベ−スデクスト
ロ−ズ寒天(YNBD寒天)に接種し、30℃で24時
間インキュベ−トした後、最小発育阻止濃度(MIC)
をμg/mlで表した。 上記試験結果から明らかなようにこの発明のポリペプチ
ド化合物(I)は抗菌活性(特に抗真菌活性)を有す
る。
The biological data of typical compounds are shown below to show the usefulness of the polypeptide compound (I) of the present invention. Test method : antibacterial activity The in vitro antibacterial activity of the compound of Example 3 (hereinafter referred to as compound I) described below was measured by the following agar plate multiple dilution method. Each test strain was cultivated overnight in Sabouraud broth containing 2% glucose, and 1 platinum loop (viable cell count 10 5 cells / ml) was added to each test strain containing Compound (I) at each concentration step. -Stonitrogen base Dextrose agar (YNBD agar) was inoculated and incubated at 30 ° C for 24 hours, after which the minimum inhibitory concentration (MIC)
Was expressed in μg / ml. As is clear from the above test results, the polypeptide compound (I) of the present invention has antibacterial activity (particularly antifungal activity).

【0050】この発明の医薬組成物は直腸吸入、肺吸入
(鼻腔または口からの吸入)、鼻への投与、目への投
与、外用投与(局部投与)、経口投与、非経口投与(皮
下、静脈、筋肉注射)に適した有機、無機担体または賦
形剤と混合して、ポリペプチド化合物(I)とその塩を
有効物質として含有する常用の医薬製剤例えば固体状、
半固体状、液状の形で使用することができる。有効成分
は常用無毒で医薬として許容される担体と混合して適当
な剤形、例えば錠剤、ペレット、トロ−チ、カプセル
剤、坐剤、軟膏、エアゾル剤、吸入用粉末、または溶
液、エマルジョン、懸濁液などのようなの形として使用
すればよい。必要に応じて上記製剤中に補助剤、安定化
剤、濃糊化剤および着色剤並びに香料を使用してもよ
い。
The pharmaceutical composition of the present invention comprises rectal inhalation, pulmonary inhalation (inhalation from nasal cavity or mouth), nasal administration, eye administration, external administration (local administration), oral administration, parenteral administration (subcutaneous, subcutaneous, Conventional pharmaceutical preparations containing the polypeptide compound (I) and salts thereof as active substances in admixture with organic or inorganic carriers or excipients suitable for (intravenous, intramuscular injection) solid forms,
It can be used in a semi-solid or liquid form. The active ingredient is mixed with a conventional non-toxic pharmaceutically acceptable carrier and is in a suitable dosage form such as tablets, pellets, troches, capsules, suppositories, ointments, aerosols, powders for inhalation or solutions, emulsions, It may be used in the form of a suspension or the like. If necessary, auxiliary agents, stabilizers, thickening agents and coloring agents, and fragrances may be used in the above formulations.

【0051】この医薬用組成物中に含有されるポリペプ
チド化合物(I)とその塩の量は疾患の過程と状態に対
して所望の抗菌効果を発揮するのに十分な量である この組成物を人に適用する場合、静脈内注射、筋肉注
射、肺への吸入、経口投与の方法でなされることが好ま
しい。このポリペプチド化合物(I)の投与量は、処置
すべき患者の年齢、疾患の程度等の条件によって変化す
る。一般的には、静脈注射の場合ポリペプチド化合物1
日投与量約0.01〜20mg/kg、筋肉注射の場合
ポリペプチド化合物1日投与量約0.1〜20mg/k
g、経口投与の場合ポリペプチド化合物1日投与量約
0.5〜50mg/kg、を感染症治療、または予防に
使用すればよい。吸入による投与の為には、この発明の
化合物は圧縮された容器からのエアゾルスプレイ、また
はネブライザ−の形で用いられるのが便利である。この
化合物は粉末として形成され用いられてよい。その粉末
組成物は吸入用粉末の吸入器の助けを借りて吸入しても
良い。望ましい吸入方法は、目盛り付きの吸入エアゾ−
ル等によってするもので、化合物のフルオロカ−ボンや
ハイドロカ−ボンのような好適な推進剤中懸濁液、また
は溶液として形成されていても良い。特に耳やそのほか
の体腔にまで感染が広がってしまったような場合に吸入
もまた望ましい方法である。他には非経口投与として点
滴による静脈投与が用いられる。以下、製造例と実施例
に従ってこの発明をさらに詳細に説明する。
The amount of the polypeptide compound (I) and its salt contained in this pharmaceutical composition is an amount sufficient to exert a desired antibacterial effect on a disease process and state. When applied to humans, it is preferably performed by intravenous injection, intramuscular injection, inhalation into the lung, or oral administration. The dose of the polypeptide compound (I) varies depending on conditions such as the age of the patient to be treated and the degree of disease. Generally, polypeptide compound 1 for intravenous injection
The daily dose is about 0.01 to 20 mg / kg, and the intramuscular injection is a polypeptide compound. The daily dose is about 0.1 to 20 mg / k.
g, in the case of oral administration, a daily dose of the polypeptide compound of about 0.5 to 50 mg / kg may be used for treating or preventing infectious diseases. For administration by inhalation, the compounds of this invention are conveniently used in the form of an aerosol spray from a compressed container or nebulizer. This compound may be formed and used as a powder. The powder composition may be inhaled with the aid of an inhaler for inhalable powders. The preferred inhalation method is a calibrated inhalation aerosol.
It may be formed as a suspension or solution of a compound in a suitable propellant such as fluorocarbon or hydrocarbon. Inhalation is also a desirable method, especially when the infection has spread to the ears and other body cavities. In addition, intravenous administration by infusion is used as parenteral administration. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to manufacturing examples and examples.

【0052】製造例1 メチルトリクロロシラン(0.82ml)のアセトニト
リル溶液中に氷冷下に1−エトキシメチルピペリジン
(1g)を加え、同温で5分間攪拌する。ジエチルエ−
テルを加え、生成する沈殿物を濾取し、乾燥して、1−
メチレンピペリジニウムクロリド(0.88g)を得
る。 IR (Nujol) : 3100, 2700,
1420, 1110, 920 cm-1 EI−MS : e/z = 133 (M+)
Production Example 1 1 -Ethoxymethylpiperidine (1 g) was added to an acetonitrile solution of methyltrichlorosilane (0.82 ml) under ice cooling, and the mixture was stirred at the same temperature for 5 minutes. Diethyl ether
Tellurium, the precipitate formed is filtered off, dried and
Methylene piperidinium chloride (0.88 g) is obtained. IR (Nujol): 3100, 2700,
1420, 1110, 920 cm -1 EI-MS: e / z = 133 (M +).

【0053】製造例2 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(1.04g)の10
%の水酸化ナトリウム水溶液(4.44ml)とジメチ
ルスルホキシド(18ml)の混合物中溶液を80℃で
半時間攪拌する。ヘプチルブロミド(0.872ml)
を加え、60℃で5時間攪拌する。反応混合物を、水
(50ml)に入れ、混合物を濃塩酸で、pH3に調製
する。生成する沈殿物を濾取し、乾燥して6−ヘプチル
オキシ−2−ナフトエ酸(1.39g)を得る。 IR(Nujol):1660, 1620, 121
0cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):0.88(3H,
t, J=6.6Hz), 1.2−1.6(8H,
m), 1.7−1.9(2H, m), 4.10
(2H, t, J=6.5Hz), 7.18(1
H, dd, J=8.9Hz and 2.4H
z), 7.35(1H, d, J=2.4Hz),
7.79(1H, d, J=8.6Hz), 7.
9−8.1(2H, m), 8.45(1H, s)
[0053]Production example 2 10 of 6-hydroxy-2-naphthoic acid (1.04 g)
% Aqueous sodium hydroxide solution (4.44 ml) and dimethy
Solution of a mixture of lusulfoxide (18 ml) at 80 ° C.
Stir for half an hour. Heptyl bromide (0.872 ml)
And stirred at 60 ° C. for 5 hours. The reaction mixture with water
(50 ml), adjust the mixture to pH 3 with concentrated hydrochloric acid
To do. The precipitate formed is filtered off and dried to give 6-heptyl.
Oxy-2-naphthoic acid (1.39 g) is obtained. IR (Nujol): 1660, 1620, 121
0 cm-1  NMR (DMSO-d6, Δ): 0.88 (3H,
t, J = 6.6 Hz), 1.2-1.6 (8H,
m), 1.7-1.9 (2H, m), 4.10
(2H, t, J = 6.5Hz), 7.18 (1
H, dd, J = 8.9 Hz and 2.4H
z), 7.35 (1H, d, J = 2.4 Hz),
 7.79 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.
9-8.1 (2H, m), 8.45 (1H, s)

【0054】製造例3 N−ヒドロキシスクシンイミド(0.56g)と6−ヘ
プチルオキシ−2−ナフトエ酸(1.39g)の塩化メ
チレン(42ml)中けん濁液に1−エチル−3−(3
−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
(1.21g)を加え、室温で3時間攪拌する。反応混
合物を、水(100ml)に入れる。有機層を分取し、
硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾去
し、濾液の溶媒を減圧下で留去して、6−ヘプチルオキ
シ−2−ナフトエ酸スクシンイミド(1.48g)を得
る。 IR(Nujol) : 1760, 1740, 1
620cm-1 NMR(CDCl3, δ) : 0.91(3H,
t, J=6.6Hz), 1.2−1.6(8H,
m), 1.7−2.0(2H,
m), 2.93(4H, s), 4.10(2H,
t, J=6.5Hz), 7.
1−7.3(2H, m), 7.77(1H,
d, J=8.6Hz), 7.84(1H, d,J
=8.6Hz), 8.03(1H, dd, J=
8.9Hzand 2.4Hz), 8.65(1H,
s)
Preparation Example 3 1-Ethyl-3- (3
Add dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (1.21 g) and stir at room temperature for 3 hours. The reaction mixture is taken up in water (100 ml). Separate the organic layer,
It is dried over magnesium sulfate, magnesium sulfate is filtered off, and the solvent of the filtrate is distilled off under reduced pressure to obtain 6-heptyloxy-2-naphthoic acid succinimide (1.48 g). IR (Nujol): 1760, 1740, 1
620 cm -1 NMR (CDCl 3 , δ): 0.91 (3H,
t, J = 6.6 Hz), 1.2-1.6 (8H,
m), 1.7-2.0 (2H,
m), 2.93 (4H, s), 4.10 (2H,
t, J = 6.5 Hz), 7.
1-7.3 (2H, m), 7.77 (1H,
d, J = 8.6 Hz), 7.84 (1H, d, J
= 8.6 Hz), 8.03 (1H, dd, J =
8.9 Hz and 2.4 Hz), 8.65 (1H,
s)

【0055】製造例4 ブロモ酢酸(10g)のテトラヒドロフラン(300m
l)溶液にジフェニルジアゾメタン(28g)を加え室
温で5時間撹拌する。反応混合物を減圧下で濃縮し、残
留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、ブロ
モ酢酸ベンズヒドリルエステル(5.4g)を得る。 NMR(CDCl)δ:3.91(s,2H),
6.91(s,1H),7.2−7.5(m,10H) IR(neat):3020,1720,1260,1
140cm−1
[0055]Production Example 4 Bromoacetic acid (10 g) in tetrahydrofuran (300 m
l) Add diphenyldiazomethane (28 g) to the solution and add
Stir at warm temperature for 5 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure and the residue
The distillate is purified by silica gel chromatography and
Molybdenum benzhydryl ester (5.4 g) is obtained.  NMR (CDClThree) Δ: 3.91 (s, 2H),
6.91 (s, 1H), 7.2-7.5 (m, 10H) IR (neat): 3020, 1720, 1260, 1
140 cm-1

【0056】以下の製造例と実施例で用いられる出発化
合物と得られる目的化合物は、下記の表に表され、出発
化合物の式が上段に示されており、目的化合物の式が下
段に示される。下記表中、Phはフェニル基を意味す
る。
The starting compounds used in the following Production Examples and Examples and the target compounds obtained are shown in the following tables, the formulas of the starting compounds are shown in the upper row, and the formulas of the target compounds are shown in the lower row. . In the table below, Ph means a phenyl group.

【0057】 [0057]

【0058】 [0058]

【0059】 [0059]

【0060】 [0060]

【0061】 [0061]

【0062】 [0062]

【0063】 [0063]

【0064】 [0064]

【0065】 [0065]

【0066】 [0066]

【0067】 [0067]

【0068】 [0068]

【0069】 [0069]

【0070】 [0070]

【0071】 [0071]

【0072】[0072]

【0073】製造例5 出発化合物(2.8g)と、6−ヘプチルオキシ−2−
ナフトエ酸スクシンイミド(1.46g)のN,N−ジ
メチルホルムアミド(28ml)溶液に、4−(N,N
−ジメチルアミノ)ピリジン(0.393g)を加え、
室温で12時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル
(140ml)で粉砕する。沈殿物を濾取し、溶媒を減
圧下で乾燥する。得られた粉末を水(50ml)に入
れ、ダウエックス(DOWEX) 50WX4(商標:
ダウケミカル社)のイオン交換カラムクロマトグラフィ
−に付し、水で溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せODS(YMC−gelODS−AMS−50)(商
標:山村化学研究所製)のカラムクロマトグラフィ−に
付し、50%のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合
物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去す
る。残渣を凍結乾燥して目的化合物(1.94g)を得
る。
Production Example 5 Starting compound (2.8 g) and 6-heptyloxy-2-
A solution of naphthoic acid succinimide (1.46 g) in N, N-dimethylformamide (28 ml) was added with 4- (N, N).
-Dimethylamino) pyridine (0.393 g) was added,
Stir for 12 hours at room temperature. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (140ml). The precipitate is filtered off and the solvent is dried under reduced pressure. The powder obtained was placed in water (50 ml) and the DOWEX 50WX4 (trademark:
It is subjected to ion exchange column chromatography (Dow Chemical Company) and eluted with water. Fractions containing the target compound are combined and subjected to column chromatography of ODS (YMC-gelODS-AMS-50) (trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory), and eluted with 50% aqueous methanol solution. The fractions containing the target compound are combined and the methanol is distilled off under reduced pressure. The residue is freeze-dried to obtain the target compound (1.94 g).

【0074】IR (Nujol) : 3300,
1620cm-1 NMR (CD3OD,δ) : 0.92(3H,
t, J=6.6Hz), 1.06(3H, d,
J=6. 8Hz), 1.24(3H,
d, J=6.1Hz), 1.3−1.7(8H,
m), 1.7−2.3(5H, m),
2.3−2.7(3H, m), 2.8−2.9(1
H, m), 3.39(1H, m), 3.7−
4.7(16H, m), 4.99(1H,
d, J=2Hz), 5.10(1H, d, J
=3.7Hz), 5.36(1d, J=2.9H
z), 6.86(1H, d, J=8.3H
z), 7.05(1H, dd, J=8.3Hz
and 2Hz), 7.17(1H, d
d, J=8.9Hz and 1.9Hz), 7.
23 (1H,d, J=2Hz), 7.32 (1
H, d, J=1.9Hz), 7.7−7.9(3
H, m), 8.31(1H, s) FRB−MS e/z = 1249 (M+Na)
IR (Nujol): 3300,
1620 cm -1 NMR (CD 3 OD, δ): 0.92 (3H,
t, J = 6.6 Hz), 1.06 (3H, d,
J = 6. 8Hz), 1.24 (3H,
d, J = 6.1 Hz), 1.3-1.7 (8H,
m), 1.7-2.3 (5H, m),
2.3-2.7 (3H, m), 2.8-2.9 (1
H, m), 3.39 (1H, m), 3.7-
4.7 (16H, m), 4.99 (1H, m
d, J = 2 Hz), 5.10 (1H, d, J
= 3.7 Hz), 5.36 (1d, J = 2.9H)
z), 6.86 (1H, d, J = 8.3H
z), 7.05 (1H, dd, J = 8.3 Hz)
and 2 Hz), 7.17 (1H, d
d, J = 8.9 Hz and 1.9 Hz), 7.
23 (1H, d, J = 2 Hz), 7.32 (1
H, d, J = 1.9 Hz), 7.7-7.9 (3
H, m), 8.31 (1H, s) FRB-MS e / z = 1249 (M + Na).

【0075】実施例1 出発化合物(0.2g)のN,N−ジメチルホルムアミ
ド(2ml)とアセトン(2ml)の混合物中溶液に、
モレキュラ−シ−ブ4Åの存在下で室温でグリオキシル
酸(0.155g)を加える。混合物を同温で5時間攪
拌する。反応混合物を、酢酸エチル(20ml)で粉砕
する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下で乾燥して、目的化
合物(0.14g)を得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.90
(t, 3H, J=6, 6Hz), 1.05
(d, 3H, J=6.7Hz), 1.24(d,
3H, J=6.0Hz), 1.2−1.6
(m, 10H),1.7−1.9 (m, 2H),
1.9−2.2 (m, 3H), 2.3−2.6
(m, 3H), 2.7−2.9 (m, 1
H), 3.40 (m, 1H), 3.7−4.7
(m, 16H), 4.98 (s, 1H),
5.09 (brs, 1H), 5.31 (br
s, 1H), 5.40 (s, 1H), 6.8
−7.2 (m, 4H), 7.33 (s, 1
H), 7.85 (d, 2H, J=8.4H
z). FAB−MS : e/z = 1287 (M +
Na)
Example 1 A solution of the starting compound (0.2 g) in N, N-dimethylformamide (2 ml) and acetone (2 ml) was added,
Glyoxylic acid (0.155 g) is added at room temperature in the presence of molecular sieves 4Å. The mixture is stirred at the same temperature for 5 hours. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (20ml). The precipitate is collected by filtration and the solvent is dried under reduced pressure to obtain the target compound (0.14g). NMR (CD 3 OD, δ): 0.90
(T, 3H, J = 6, 6Hz), 1.05
(D, 3H, J = 6.7 Hz), 1.24 (d,
3H, J = 6.0 Hz), 1.2-1.6
(M, 10H), 1.7-1.9 (m, 2H),
1.9-2.2 (m, 3H), 2.3-2.6
(M, 3H), 2.7-2.9 (m, 1
H), 3.40 (m, 1H), 3.7-4.7.
(M, 16H), 4.98 (s, 1H),
5.09 (brs, 1H), 5.31 (br
s, 1H), 5.40 (s, 1H), 6.8
-7.2 (m, 4H), 7.33 (s, 1
H), 7.85 (d, 2H, J = 8.4H
z). FAB-MS: e / z = 1287 (M +
Na)

【0076】実施例2 実施例1と同様にして目的化合物を得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.90
(t, 3H, J=6, 6Hz), 1.05
(d, 3H, J=6.7Hz), 1.24(d,
3H, J=6.1Hz), 1.2−1.6
(m, 10H),1.7−1.9 (m, 2H),
1.9−2.2 (m, 3H), 2.3−2.6
(m, 3H), 2.7−2.9 (m, 1
H), 3.42 (m, 1H), 3.7−4.7
(m, 16H), 4.98 (s, 1H),
5.09 (d, 1H, J=3.8Hz), 5.
31 (d, 1H, J=2.8Hz), 5.44
(s, 1H), 6.60(dd, 1H, J=
8.1,1.9Hz), 6.72 (d, 1H,
J=8.1Hz), 6.82 (d, 1H, J=
1.9Hz), 6.95(d, 2H, J=8.8
Hz) 7.84 (d, 2H, J=8.8H
z). IR (Nujol) : 3250, 1610
cm-1 FAB−MS : e/z = 1185 (M +
Na) 元素分析 C5273822Na ・7H2Oとして、 計算値: C 47.63, H 6.76, N
8.54 実測値: C 47,56, H 6.66, N
8.35
Example 2 The target compound is obtained in the same manner as in Example 1. NMR (CD 3 OD, δ): 0.90
(T, 3H, J = 6, 6Hz), 1.05
(D, 3H, J = 6.7 Hz), 1.24 (d,
3H, J = 6.1 Hz), 1.2-1.6
(M, 10H), 1.7-1.9 (m, 2H),
1.9-2.2 (m, 3H), 2.3-2.6
(M, 3H), 2.7-2.9 (m, 1
H), 3.42 (m, 1H), 3.7-4.7.
(M, 16H), 4.98 (s, 1H),
5.09 (d, 1H, J = 3.8Hz), 5.
31 (d, 1H, J = 2.8 Hz), 5.44
(S, 1H), 6.60 (dd, 1H, J =
8.1, 1.9 Hz), 6.72 (d, 1H,
J = 8.1 Hz), 6.82 (d, 1H, J =
1.9 Hz), 6.95 (d, 2H, J = 8.8)
Hz) 7.84 (d, 2H, J = 8.8H
z). IR (Nujol): 3250, 1610
cm -1 FAB-MS: e / z = 1185 (M +
Na) Elemental analysis As C 52 H 73 N 8 O 22 Na.7H 2 O, calculated value: C 47.63, H 6.76, N
8.54 Found: C 47, 56, H 6.66, N
8.35

【0077】実施例3 粗出発化合物(3.1g)のN,N−ジメチルホルムア
ミド(31ml)溶液をモレキュラ−シ−ブ4Åの存在
下で室温でグリオキシル酸(1.25g)を加える。混
合物を同温で5時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチ
ル(150ml)で粉砕する。沈殿を濾取し、溶媒を減
圧下で乾燥する。粉末を水(70ml)に入れ、ダウエ
ックス 50WX4(商標:ダウケミカル社製)(15
ml)のイオン交換カラムクロマトグラフィ−に付し、
水で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ,c18
μボンダパック(Bondapak)樹脂(ウオ−タ−
アソシエ−ツ社製、マサチュ−セッツ州、ミルファ−
ド)を使用する分取HPLCに付し、LC−8Aポンプ
(島津製作所社製)を使って1分間80mlの流速で、
アセトニトリル−pH3リン酸塩緩衝液(44:56)
からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを240nm
で、UV探知機で監視する。保持時間14.8分の目的
化合物(主)を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニト
リルを留去する。残渣をODS(YMC−gelODS
−AMS−50)(商標:山村化学研究所製)のカラム
クロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、80%のメタ
ノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せ、減圧下でメタノ−ルを留去する。残渣を凍結乾燥し
て目的化合物(主)を得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.91
(t, 3H, J=6.7Hz), 1.05
(d, 3H, J=6.7Hz), 1.25(d,
3H, J=5.9Hz), 1.2−1.6
(m, 10H),1.7−2.0 (m, 2H),
2.0−2.3 (m, 3H), 2.3−2.8
(m, 3H), 2.98 (m, 1H),
3.37 (m, 1H), 3.7−4.8 (m,
16H), 4.97 (m, 1H), 5.11
(m, 1H, 5.38 (d, 1H, J=2
Hz),5.70 (s, 1H), 6.61(d
d, 1H, J=8.1,1.7Hz), 6.72
(d, 1H, J=8.1Hz) 6.81
(d,1H, J=1.7Hz) 7.15(dd,
1H, J=8.7,1.7Hz), 7.21
(d, 1H, J=1.7Hz) 7.75 (d,
1H, J=8.7Hz) 7.88(d, 2H,
J=8.7Hz),8.39 (s, 1H) FAB−MS : e/z = 1235 (M +
Na) 元素分析 C56758NaO22・6H2Oとして、 計算値:C 50.22, H 6.54, N 8.
36 実測値:C 50.26, H 6.39, N 8.
38
Example 3 A solution of the crude starting compound (3.1 g) in N, N-dimethylformamide (31 ml) was added glyoxylic acid (1.25 g) at room temperature in the presence of molecular sieves 4Å. The mixture is stirred at the same temperature for 5 hours. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (150ml). The precipitate is filtered off and the solvent is dried under reduced pressure. The powder was put in water (70 ml), and Dowex 50WX4 (trademark: manufactured by Dow Chemical Co.) (15
ml) ion-exchange column chromatography,
Elute with water. Combine the fractions containing the target compound, and c18
μ Bondapak resin (water)
Associates, Milf, Massachusetts
D)) and the LC-8A pump (manufactured by Shimadzu Corporation) at a flow rate of 80 ml for 1 minute,
Acetonitrile-pH3 phosphate buffer (44:56)
Elute with a solvent system consisting of. The column is 240 nm
Then, monitor with a UV detector. Fractions containing the target compound (main) with a retention time of 14.8 minutes are combined, and acetonitrile is distilled off under reduced pressure. The residue is converted to ODS (YMC-gelODS
-AMS-50) (trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory), washed with water, and eluted with 80% aqueous methanol solution. The fractions containing the target compound are combined and the methanol is distilled off under reduced pressure. The residue is freeze-dried to obtain the target compound (main). NMR (CD 3 OD, δ): 0.91
(T, 3H, J = 6.7 Hz), 1.05
(D, 3H, J = 6.7 Hz), 1.25 (d,
3H, J = 5.9 Hz), 1.2-1.6
(M, 10H), 1.7-2.0 (m, 2H),
2.0-2.3 (m, 3H), 2.3-2.8
(M, 3H), 2.98 (m, 1H),
3.37 (m, 1H), 3.7-4.8 (m,
16H), 4.97 (m, 1H), 5.11
(M, 1H, 5.38 (d, 1H, J = 2
Hz), 5.70 (s, 1H), 6.61 (d
d, 1H, J = 8.1, 1.7 Hz), 6.72
(D, 1H, J = 8.1 Hz) 6.81
(D, 1H, J = 1.7 Hz) 7.15 (dd,
1H, J = 8.7, 1.7 Hz), 7.21
(D, 1H, J = 1.7 Hz) 7.75 (d,
1H, J = 8.7 Hz) 7.88 (d, 2H,
J = 8.7 Hz), 8.39 (s, 1H) FAB-MS: e / z = 1235 (M +
Na) as the element analysis C 56 H 75 N 8 NaO 22 · 6H 2 O, Calculated: C 50.22, H 6.54, N 8.
36 Found: C 50.26, H 6.39, N 8.
38

【0078】保持時間9.87分の目的化合物(少ない
方)を目的化合物(主)と同様にして得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.91
(t, 3H, J=6.7Hz), 1.06
(d, 3H, J=6.7Hz), 1.2−1.6
(m, 13H), 1.7−2.3 (m, 5
H), 2.3−3.0(m, 4H), 3.34
(m, 1H), 3.6−4.7 (m,16H),
4.98 (m, 1H), 5.11 (m, 1
H), 5.35 (d, 1H, J=2Hz),
5.51 (s, 1H), 6.86(d, 1H,
J=8.3Hz), 7.04 (d, 1H, J
=8.3Hz) 7.1−7.25 (m, 2H),
7.33 (s, 1H ), 7.6−8.0
(m, 3H), 8.35(s, 1H) 元素分析 C5675825SNa・7H20として、 計算値: C 46.66, H 6.22, N
7.77 実測値: C 46.63, H 6.01, N
7.74
The target compound (the smaller one) with a retention time of 9.87 minutes is obtained in the same manner as the target compound (main). NMR (CD 3 OD, δ): 0.91
(T, 3H, J = 6.7 Hz), 1.06
(D, 3H, J = 6.7 Hz), 1.2-1.6
(M, 13H), 1.7-2.3 (m, 5
H), 2.3-3.0 (m, 4H), 3.34.
(M, 1H), 3.6-4.7 (m, 16H),
4.98 (m, 1H), 5.11 (m, 1
H), 5.35 (d, 1H, J = 2Hz),
5.51 (s, 1H), 6.86 (d, 1H,
J = 8.3 Hz), 7.04 (d, 1H, J
= 8.3 Hz) 7.1-7.25 (m, 2H),
7.33 (s, 1H), 7.6-8.0
(M, 3H), 8.35 (s, 1H) Elemental analysis As C 56 H 75 N 8 O 25 SNa · 7H 2 0, calculated value: C 46.66, H 6.22, N
7.77 Found: C 46.63, H 6.01, N
7.74

【0079】実施例4 出発化合物(1g)のN,N−ジメチルホルムアミド
(10ml)溶液に1−メチレンピペリジニウムクロリ
ド(0.169g)をモレキュラ−シ−ブ4Åの存在下
で室温で加える。混合物を同温で5時間攪拌する。反応
混合物を、酢酸エチル(50ml)で粉砕する。沈殿を
濾取し、溶媒を減圧下で乾燥する。紛末を水(20m
l)に入れ、ダウエックス 50WX4(商標:ダウケ
ミカル社製)(15ml)のイオン交換カラムクロマト
グラフィ−に付し、水で溶出する。目的化合物を含む画
分を合わせ,ODS(YMC−gelODS−AMS−
50)(商標:山村化学研究所製)のカラムクロマトグ
ラフィ−に付し、40%のメタノ−ル水溶液で溶出す
る。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−
ルを留去する。
Example 4 To a solution of the starting compound (1g) in N, N-dimethylformamide (10ml) was added 1-methylenepiperidinium chloride (0.169g) at room temperature in the presence of 4Å molecular sieves. The mixture is stirred at the same temperature for 5 hours. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (50 ml). The precipitate is filtered off and the solvent is dried under reduced pressure. The end of the water (20m
1), and the mixture is subjected to ion exchange column chromatography using Dowex 50WX4 (trademark: manufactured by Dow Chemical Co.) (15 ml) and eluted with water. Fractions containing the target compound were combined and combined with ODS (YMC-gelODS-AMS-
50) Subject to column chromatography (trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory Co., Ltd.) and elute with 40% aqueous methanol solution. Fractions containing the target compound were combined and concentrated under reduced pressure.
Distill Le.

【0080】残渣を凍結乾燥して目的化合物(0.90
g)を得る。 NMR (DMSO−d6, δ) :(目的化合物の硫
酸エステルは、NMR測定状態で脱エステル化されてい
る可能性がある。) 0.86 (t, 3H, J=6.7Hz), 0.
96 (d, 3H, J=6.7Hz), 1.0
3, (d, 3H, J=6.0Hz),1.2−
1.5 (m, 10H), 1.5−2.0 (m,
11H),2.1−2.5 (m, 4H), 2.
6−3.0 (m, 4H), 3.17 (m, 1
H), 3.6−4.5 (m, 18H), 4.7
8(d, 2H, J=5.9Hz), 4.8−5.
3 (m, 8H), 5.48(d, 1H, J=
5.9Hz), 6.72 (d, 1H, J=8.
2Hz), 6.81 (d, 1H, J=8.2H
z), 6.98(d, 2H, J=8.8Hz),
7.04 (s, 1H), 7.35(d, 1
H, J=6.7Hz), 7.45 (d, 1
H, J=8Hz), 7.86 (d, 2H,
J=8.8Hz), 8.12 (d, 1H, J
=8Hz)8.24 (d, 1H, J=8H
z), 8.64 (m, 2H), 8.85
(s, 1H), 9.8 (s, 1H) IR (Nujol) : 3300, 1620,
1240, 1040 cm-1
The residue was lyophilized to give the desired compound (0.90
g) is obtained. NMR (DMSO-d6, Δ): (Sulfurization of the target compound
The acid ester has not been deesterified in the NMR measurement state.
There is a possibility. ) 0.86 (t, 3H, J = 6.7 Hz), 0.
96 (d, 3H, J = 6.7 Hz), 1.0
3, (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.2-
1.5 (m, 10H), 1.5-2.0 (m,
 11H), 2.1-2.5 (m, 4H), 2.
6-3.0 (m, 4H), 3.17 (m, 1
H), 3.6-4.5 (m, 18H), 4.7.
8 (d, 2H, J = 5.9 Hz), 4.8-5.
3 (m, 8H), 5.48 (d, 1H, J =
5.9 Hz), 6.72 (d, 1H, J = 8.
2Hz), 6.81 (d, 1H, J = 8.2H
z), 6.98 (d, 2H, J = 8.8 Hz),
 7.04 (s, 1H), 7.35 (d, 1
H, J = 6.7 Hz), 7.45 (d, 1
H, J = 8 Hz), 7.86 (d, 2H,
J = 8.8 Hz), 8.12 (d, 1H, J
= 8 Hz) 8.24 (d, 1H, J = 8H
z), 8.64 (m, 2H), 8.85
(S, 1H), 9.8 (s, 1H) IR (Nujol): 3300, 1620,
 1240, 1040 cm-1

【0081】実施例5 実施例4と同様にして目的化合物を得る。 NMR (DMSO−d6, δ) :(目的化合物の
硫酸エステルは、NMR測定状態で脱エステル化されて
いる可能性がある。) 0.86 (t, 3H, J=6.7Hz), 0.
96 (d, 3H, J=6.8Hz), 1.0
3, (d, 3H, J=6.0Hz),1.2−
1.5 (m, 10H), 1.6−2.0 (m,
5H), 2.1−2.5 (m, 4H), 2.
69 (s, 6H), 3.24 (s, 1H),
3.73 (m, 2H), 3.9−4.7
(m, 16H), 4.8(m, 2H), 4.9
−5.5 (m, 9H), 6.71 (d, 1
H, J=8.2Hz), 6.81 (d, 1H,
J=8.2Hz) 6.99 (d, 2H, J=
8.8Hz), 7.11 (s, 1H), 7.2
−7.5 (m, 2H), 7.85 (d, 2
H,J=8.8Hz), 8.14 (d, 1H,
J=8Hz), 8.29 (d, 1H, J=
7.3Hz), 8.6−8.8(m, 2H),
8.84(s, 1H), 9.38 (s, 1H) IR (Nujol) : 3300, 1620,
1500, 1240 cm-1 FAB−MS : e/z = 1248 (M +
Na) 元素分析 C5379922S・6H2O として、 計算値:C 47.70, H 6.87, N 9.
44 実測値:C 47.47, H 6.83, N 9.
34
[0081]Example 5 The target compound is obtained in the same manner as in Example 4. NMR  (DMSO-d6, Δ): (of the target compound
Sulfate ester is deesterified under NMR measurement
There is a possibility that ) 0.86 (t, 3H, J = 6.7 Hz), 0.
96 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.0
3, (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.2-
1.5 (m, 10H), 1.6-2.0 (m,
 5H), 2.1-2.5 (m, 4H), 2.
69 (s, 6H), 3.24 (s, 1H),
 3.73 (m, 2H), 3.9-4.7
(M, 16H), 4.8 (m, 2H), 4.9
-5.5 (m, 9H), 6.71 (d, 1
H, J = 8.2 Hz), 6.81 (d, 1H,
 J = 8.2 Hz) 6.99 (d, 2H, J =
8.8 Hz), 7.11 (s, 1H), 7.2
-7.5 (m, 2H), 7.85 (d, 2
H, J = 8.8 Hz), 8.14 (d, 1H,
 J = 8 Hz), 8.29 (d, 1H, J =
7.3 Hz), 8.6-8.8 (m, 2H),
8.84 (s, 1H), 9.38 (s, 1H) IR (Nujol): 3300, 1620,
 1500, 1240 cm-1 FAB-MS: e / z = 1248 (M +
Na) Elemental analysis C53H79N9Otwenty twoS ・ 6H2As O 2, calculated values: C 47.70, H 6.87, N 9.
44 Found: C 47.47, H 6.83, N 9.
34

【0082】実施例6 出発化合物(0.5g)のN,N−ジメチルホルムアミ
ド(10ml)溶液にモレキュラ−シ−ブ4Åの存在下
で無水酢酸(0.119ml)を加え,次に氷冷下でト
リエチルアミン(0.175ml)を加える。混合物を
氷冷下で5時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル
(50ml)で粉砕する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下
で乾燥する。粉末を水(20ml)に入れ、ダウエック
ス 50WX4(商標:ダウケミカル社製)(15m
l)のイオン交換カラムクロマトグラフィ−のイオン交
換に付す。 そして、水で溶出する。目的化合物を含む
画分を合わせ、ODS(YMC−gelODS−AMS
−50)(商標:山村化学研究所製)のカラムクロマト
グラフィ−に付し、40%のメタノ−ル水溶液で溶出す
る。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−
ルを留去する。
Example 6 To a solution of the starting compound (0.5 g) in N, N-dimethylformamide (10 ml) was added acetic anhydride (0.119 ml) in the presence of molecular sieve 4Å, and then under ice cooling. Add triethylamine (0.175 ml) at. The mixture is stirred under ice cooling for 5 hours. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (50 ml). The precipitate is filtered off and the solvent is dried under reduced pressure. The powder is put in water (20 ml) and the Dowex 50WX4 (trademark: Dow Chemical Co.) (15 m
l) Ion exchange column chromatography-ion exchange. Then, it is eluted with water. Fractions containing the target compound were combined and combined with ODS (YMC-gelODS-AMS
-50) (Trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory Co., Ltd.), and eluted with 40% aqueous methanol solution. Fractions containing the target compound were combined and concentrated under reduced pressure.
Distill Le.

【0083】残渣を凍結乾燥して目的化合物(104m
g)を得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.90
(t, 3H, J=6.7Hz), 1.07
(d, 3H, J=6.8Hz), 1.20
(d, 3H, J=6.1Hz), 1.3−1.6
(m, 10H), 1.7−1.9 (m, 2
H), 1.9−2.2 (m, 3H), 2.29
(s, 3H), 2.2−2.6 (m, 3
H), 2.7−2.9(m, 1H), 3.39
(m, 1H), 3.7−4.7 (m, 16
H), 4.98 (s, 1H), 5.10
(d, 1H, J=3.5Hz), 5.32
(d, 1H, J=2.8Hz) 6.93 (d,
2H, J=8.9Hz), 7.09 (d, 1
H, J=8.3Hz), 7.19 (dd, 1
H, J=8.3,1.7Hz), 7.60(d,
1H, J=1.7Hz), 7.80 (d,
2H, J=8.9Hz) IR (Nujol) : 3300, 1740,
1600, 1040 cm-1 FAB−MS : e/z = 1255 (M +
Na) 元素分析 C52738NaO23S・6H20 として、 計算値:C 46.56, H 6.38, N 8.
35 実測値:C 46.62, H 6.38, N 8.
23
The residue was lyophilized to give the desired compound (104 m
g) is obtained. NMR (CD 3 OD, δ): 0.90
(T, 3H, J = 6.7 Hz), 1.07
(D, 3H, J = 6.8 Hz), 1.20
(D, 3H, J = 6.1 Hz), 1.3-1.6
(M, 10H), 1.7-1.9 (m, 2
H), 1.9-2.2 (m, 3H), 2.29.
(S, 3H), 2.2-2.6 (m, 3
H), 2.7-2.9 (m, 1H), 3.39.
(M, 1H), 3.7-4.7 (m, 16
H), 4.98 (s, 1H), 5.10.
(D, 1H, J = 3.5 Hz), 5.32
(D, 1H, J = 2.8 Hz) 6.93 (d,
2H, J = 8.9 Hz), 7.09 (d, 1
H, J = 8.3 Hz), 7.19 (dd, 1
H, J = 8.3, 1.7 Hz), 7.60 (d,
1H, J = 1.7 Hz), 7.80 (d,
2H, J = 8.9 Hz) IR (Nujol): 3300, 1740,
1600, 1040 cm -1 FAB-MS: e / z = 1255 (M +
Na) Elemental analysis As C 52 H 73 N 8 NaO 23 S.6H 2 0, calculated value: C 46.56, H 6.38, N 8.
35 Found: C 46.62, H 6.38, N 8.
23

【0084】実施例7 実施例9と同様にして目的化合物を得る。 NMR (DMSO−d6, δ) : 0.86
(t, 3H, J=6.6Hz), 0.95
(d, 3H, J=6.7Hz), 1.06,
(d, 3H, J=5.9Hz), 1.2−2.0
(m, 15H), 2.1−2.7 (m, 4
H), 3.15(dd, 1H, J=6.6H
z), 3.73 (m, 2H), 3.8−4.5
(m, 14H), 4.7−5.2 (m, 10
H), 5.49 (d, 1H, J=5.5H
z), 6.41 (d, 1H, J=8.1H
z), 6.61 (d, 1H, J=8.1H
z), 6.70 (s, 1H), 6.85(s,
1H), 6.96 (d, 2H, J=8.8H
z), 7.2−7.5 (m, 3H), 7.8
6 (d, 2H, J=8.8Hz),8.04
(d, 1H, J=8Hz), 8.32 (d,
1H,J=7.3Hz),8.54 (d, 1H,
J=6.7Hz), 8.79 (s, 2H) IR (Nujol) : 3300, 1620
cm-1 FAB−MS : e/z = 1112 (M +
Na) 元素分析 C5072819・4H20 として、 計算値:C 51.71, H 6.94, N 9.
64 実測値:C 51.67, H 6.96, N 9.
54
Example 7 The target compound is obtained in the same manner as in Example 9. NMR (DMSO-d6, δ): 0.86
(T, 3H, J = 6.6Hz), 0.95
(D, 3H, J = 6.7 Hz), 1.06
(D, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2-2.0
(M, 15H), 2.1-2.7 (m, 4
H), 3.15 (dd, 1H, J = 6.6H)
z), 3.73 (m, 2H), 3.8-4.5.
(M, 14H), 4.7-5.2 (m, 10
H), 5.49 (d, 1H, J = 5.5H
z), 6.41 (d, 1H, J = 8.1H
z), 6.61 (d, 1H, J = 8.1H
z), 6.70 (s, 1H), 6.85 (s,
1H), 6.96 (d, 2H, J = 8.8H
z), 7.2-7.5 (m, 3H), 7.8
6 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 8.04
(D, 1H, J = 8 Hz), 8.32 (d,
1H, J = 7.3 Hz), 8.54 (d, 1H,
J = 6.7 Hz), 8.79 (s, 2H) IR (Nujol): 3300, 1620.
cm -1 FAB-MS: e / z = 1112 (M +
Na) as the elemental analysis C 50 H 72 N 8 O 19 · 4H 2 0, Calcd: C 51.71, H 6.94, N 9.
64 Found: C 51.67, H 6.96, N 9.
54

【0085】実施例8 実施例9と同様にして目的化合物を得る。 NMR (DMSO−d6, δ) : 0.86
(t, 3H, J=6.7Hz), 0.96
(d, 3H, J=6.8Hz), 1.06,
(d, 3H, J=5.9Hz), 1.2−2.0
(m, 15H), 2.23 (s, 3H),
2.1−2.7(m, 4H), 3.17(dd,
1H, J=6.6Hz), 3.73 (m, 2
H), 3.8−4.5 (m, 14H), 4.7
−5.4 (m, 10H), 5.49 (d, 1
H, J=5.5Hz), 6.7−7.1(m, 5
H),7.2−7.5 (m, 3H), 7.86
(d, 2H, J=8.8Hz), 8.09
(d, 1H, J=8Hz), 8.30 (d,
1H, J=7.3Hz), 8.59 (d, 1H
J=6.7Hz), 9.57 (s, 1H) IR (Nujol) : 3300, 1620,
1250 cm-1 FAB−MS : e/z = 1153 (M +
Na) 元素分析 C5274820・5H20 として、 計算値:C 51.14, H 6.93, N 9.
17 実測値:C 51.05, H 7.00, N 9.
06
Example 8 The target compound is obtained in the same manner as in Example 9. NMR (DMSO-d 6 , δ): 0.86
(T, 3H, J = 6.7 Hz), 0.96
(D, 3H, J = 6.8 Hz), 1.06
(D, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2-2.0
(M, 15H), 2.23 (s, 3H),
2.1-2.7 (m, 4H), 3.17 (dd,
1H, J = 6.6 Hz), 3.73 (m, 2
H), 3.8-4.5 (m, 14H), 4.7.
-5.4 (m, 10H), 5.49 (d, 1
H, J = 5.5 Hz), 6.7-7.1 (m, 5
H), 7.2-7.5 (m, 3H), 7.86
(D, 2H, J = 8.8 Hz), 8.09
(D, 1H, J = 8 Hz), 8.30 (d,
1H, J = 7.3 Hz), 8.59 (d, 1H
J = 6.7 Hz), 9.57 (s, 1H) IR (Nujol): 3300, 1620,
1250 cm -1 FAB-MS: e / z = 1153 (M +
Na) as the element analysis C 52 H 74 N 8 O 20 · 5H 2 0, Calcd: C 51.14, H 6.93, N 9.
17 Found: C 51.05, H 7.00, N 9.
06

【0086】実施例9 出発化合物(0.5g)のN,N−ジメチルホルムアミ
ド(5ml)溶液にトリフルオロ酢酸(30.9μ1)
と水(5μ1)の混合物を室温で加え、同温で6時間攪
拌する。反応混合物を、酢酸エチル(50ml)で粉砕
する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下で乾燥する。粉末を
水に入れ、ODS(YMC−gelODS−AMS−5
0)(商標:山村化学研究所製)のカラムクロマトグラ
フィ−に付し、45%のメタノ−ル水溶液で溶出する。
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを
留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物(99.0m
g)を得る。 NMR (DMSO−d6, δ) : 0.86
(t, 3H, J=6.6Hz), 0.96
(d, 3H, J=6.6Hz), 1.02,
(d, 3H, J=5.9Hz), 1.2−1.5
(m, 10H),1.6−2.0 (m, 5
H), 2.1−2.7(m, 4H), 2.68
(s, 6H), 3.2 (m, 1H), 3.7
3 (m, 2H), 3.8−4.6 (m, 16
H), 4.7−5.5 (m, 11H), 6.7
4 (d, 1H, J=8Hz), 6.76
(d, 1H, J=8Hz), 6.99 (d,
2H, J=8.7Hz), 7.11 (s, 1
H), 7.2−7.5 (m, 2H), 7.85
(d,2H, J=8.7Hz) 8.09 (d,
1H, J=8Hz), 8.32 (d, 1H,
J=7.3Hz), 8.67 (m, 2H),
8.84 (s, 1H), 9.40 (s, 1
H) IR (Nujol) : 3300, 1600
cm-1 FAB−MS : e/z = 1147 (M +
1) 元素分析 C5379919・CF3COOH・9H2
として、 計算値:C 46.44, H 6.94, N 8.
86 実測値:C 46.71, H 6.82, N 9.
13
Example 9 Trifluoroacetic acid (30.9 μl) was added to a solution of the starting compound (0.5 g) in N, N-dimethylformamide (5 ml).
And water (5 μl) are added at room temperature, and the mixture is stirred at the same temperature for 6 hours. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (50 ml). The precipitate is filtered off and the solvent is dried under reduced pressure. Put the powder in water and add ODS (YMC-gelODS-AMS-5
0) (trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory), and eluted with a 45% aqueous methanol solution.
The fractions containing the target compound are combined and the methanol is distilled off under reduced pressure. The residue was lyophilized to give the desired compound (99.0 m
g) is obtained. NMR (DMSO-d 6 , δ): 0.86
(T, 3H, J = 6.6 Hz), 0.96
(D, 3H, J = 6.6 Hz), 1.02
(D, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2-1.5
(M, 10H), 1.6-2.0 (m, 5
H), 2.1-2.7 (m, 4H), 2.68.
(S, 6H), 3.2 (m, 1H), 3.7
3 (m, 2H), 3.8-4.6 (m, 16
H), 4.7-5.5 (m, 11H), 6.7.
4 (d, 1H, J = 8Hz), 6.76
(D, 1H, J = 8 Hz), 6.99 (d,
2H, J = 8.7 Hz), 7.11 (s, 1
H), 7.2-7.5 (m, 2H), 7.85.
(D, 2H, J = 8.7 Hz) 8.09 (d,
1H, J = 8Hz), 8.32 (d, 1H,
J = 7.3 Hz), 8.67 (m, 2H),
8.84 (s, 1H), 9.40 (s, 1
H) IR (Nujol): 3300, 1600
cm -1 FAB-MS: e / z = 1147 (M +
1) Elemental analysis C 53 H 79 N 9 O 19 · CF 3 COOH · 9H 2 0
As calculated value: C 46.44, H 6.94, N 8.
86 Found: C 46.71, H 6.82, N 9.
Thirteen

【0087】実施例10 実施例9と同様にして目的化合物を得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.91
(t, 3H, J=6.7Hz), 1.05
(d, 3H, J=6.8Hz), 1.23,
(d, 3H, J=4.9Hz), 1.2−1.6
(m, 10H),1.7−2.0 (m, 2
H), 2.0−2.35 (m, 3H), 2.4
−2.7 (m, 3H), 2.91 (m, 1
H), 3.37 (m, 1H), 3.82
(d, 1H, J=10Hz), 3.92 (d,
1H, J=10Hz), 4.1−4.8 (m,
14H), 5.00 (m, 1H), 5.10
(d, 1H, J=3.8Hz), 5.39
(d, 1H, J=2.3Hz), 6.62
(d, 1H, J=8.1Hz) 6.74 (d,
1H, J=8.1Hz), 6.80(s, 1
H), 8.29 (s, 1H) IR (Nujol) : 3300, 1620,
1500, 1210 cm-1 FAB−MS : e/z = 1161 (M +
Na)
Example 10 The object compound is obtained in the same manner as in Example 9. NMR (CD 3 OD, δ): 0.91
(T, 3H, J = 6.7 Hz), 1.05
(D, 3H, J = 6.8 Hz), 1.23
(D, 3H, J = 4.9 Hz), 1.2-1.6
(M, 10H), 1.7-2.0 (m, 2
H), 2.0-2.35 (m, 3H), 2.4.
-2.7 (m, 3H), 2.91 (m, 1
H), 3.37 (m, 1H), 3.82
(D, 1H, J = 10 Hz), 3.92 (d,
1H, J = 10 Hz), 4.1-4.8 (m,
14H), 5.00 (m, 1H), 5.10
(D, 1H, J = 3.8 Hz), 5.39
(D, 1H, J = 2.3 Hz), 6.62
(D, 1H, J = 8.1 Hz) 6.74 (d,
1H, J = 8.1 Hz), 6.80 (s, 1
H), 8.29 (s, 1H) IR (Nujol): 3300, 1620,
1500, 1210 cm -1 FAB-MS: e / z = 1161 (M +
Na)

【0088】実施例11 出発化合物(1g)のメタノ−ル(10ml)溶液にp
−トルエンスルホン酸(0.08g)を室温でを加え、
同温で12時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル
(50ml)で粉砕する。沈殿を濾取し、溶媒を減圧下
で乾燥する。粉末を50%のメタノ−ル水溶液に加え、
c18μボンダパック(Bondapak)樹脂(ウオ
−タ−アソシエ−ツ社製、マサチュ−セッツ州、ミルフ
ァ−ド)を使用する分取HPLCに付し、島津LC−8
Aポンプを使って1分間80mlの流速で、アセトニト
リル−pH3リン酸塩緩衝液(42:58)からなる溶
媒系で溶出する。そのカラムを240nmで、UV探知
機で監視する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下
でアセトニトリルを留去する。残渣はODS(YMC−
gelODS−AMS−50)(商標:山村化学研究所
製)のカラムクロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、
80%のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去する。
Example 11 A solution of the starting compound (1 g) in methanol (10 ml) was added with p.
-Toluenesulfonic acid (0.08g) was added at room temperature,
Stir for 12 hours at the same temperature. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (50 ml). The precipitate is filtered off and the solvent is dried under reduced pressure. Add the powder to a 50% aqueous solution of methanol,
Preparative HPLC using c18μ Bondapak resin (Water Associates, Inc., Milfad, Mass.), Shimadzu LC-8.
Elute with a solvent system consisting of acetonitrile-pH3 phosphate buffer (42:58) at a flow rate of 80 ml for 1 minute using the A pump. The column is monitored at 240 nm with a UV detector. Fractions containing the target compound are combined, and acetonitrile is distilled off under reduced pressure. The residue is ODS (YMC-
gel ODS-AMS-50) (trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory), subjected to column chromatography, washed with water,
Elute with 80% aqueous methanol solution. The fractions containing the target compound are combined and the methanol is distilled off under reduced pressure.

【0089】残渣を凍結乾燥して目的化合物(0.13
g)を得る。 NMR (CD3OD, δ) : 0.90
(t, 3H, J=6.7Hz), 1.06
(d, 3H, J=6.9Hz), 1.20(d,
3H, J=6.0Hz), 1.3−1.6
(m, 10H),1.6−1.9 (m, 2H),
1.9−2.2 (m, 3H), 2.3−2.
7 (m, 3H), 2.8−3.0 (m, 1
H), 3.34 (s, 3H), 3.38
(m, 1H), 3.7−4.7 (m,16H),
4.99 (m, 1H), 5.05−5.15
(m, 2H), 6.61 (dd, 1H, J=
8.1,1.7Hz), 6.72(d, 1H, J
=8.1Hz), 6.80 (d, 1H, J=
1.7Hz), 6.92 (d, 2H, J=8.
9Hz), 7.78 (d, 2H, J=8.9H
z) IR (Nujol) : 3250, 1620,
1500, 1250 cm-1 FAB−MS : e/z = 1125 (M +
Na)
The residue was lyophilized to give the desired compound (0.13
g) is obtained. NMR (CD 3 OD, δ): 0.90
(T, 3H, J = 6.7 Hz), 1.06
(D, 3H, J = 6.9 Hz), 1.20 (d,
3H, J = 6.0 Hz), 1.3-1.6
(M, 10H), 1.6-1.9 (m, 2H),
1.9-2.2 (m, 3H), 2.3-2.
7 (m, 3H), 2.8-3.0 (m, 1
H), 3.34 (s, 3H), 3.38.
(M, 1H), 3.7-4.7 (m, 16H),
4.99 (m, 1H), 5.05-5.15
(M, 2H), 6.61 (dd, 1H, J =
8.1, 1.7 Hz), 6.72 (d, 1H, J
= 8.1 Hz), 6.80 (d, 1H, J =
1.7 Hz), 6.92 (d, 2H, J = 8.
9 Hz), 7.78 (d, 2H, J = 8.9H
z) IR (Nujol): 3250, 1620,
1500, 1250 cm -1 FAB-MS: e / z = 1125 (M +
Na)

【0090】実施例12 実施例1と同様にして目的化合物を得る。 NMR(DMSO−d6,δ):0.88(t, 3
H, J=6.6Hz), 0.96(d, 3H,
J=6.7Hz), 1.12(d, 3H,J=5.
9Hz), 1.2−2.0(m, 13H), 2.
1−2.7(m, 4H), 3.15(m, 1
H), 3.5−4.5(m, 18H), 4.7−
5.7(m, 1H), 6.74(d, 1H, J
=8.2Hz), 6.84(d, 1H, J=8.
5Hz), 7.03(s, 1H), 7.22
(d, 1H, J=8.9Hz), 7.36(s,
1H), 7.5(m, 1H), 7.83(d,
1H, J=8.8Hz),7.9−8.0(m,2
H), 8.0−8.3(m, 3H), 8.49
(s, 1H), 8.65(m, 1H), 8.8
5(brs,1H) FAB−MS e/z=1324(M) Elemental Analysis : 元素分析 C55728Na225S;7H2O とし
て、 計算値:C45.57, H5.98, N7.73 実測値:C45.72, H5.87, N7.69
Example 12 The target compound is obtained in the same manner as in Example 1. NMR (DMSO-d 6 , δ): 0.88 (t, 3
H, J = 6.6 Hz), 0.96 (d, 3H,
J = 6.7 Hz), 1.12 (d, 3H, J = 5.
9 Hz), 1.2-2.0 (m, 13H), 2.
1-2.7 (m, 4H), 3.15 (m, 1
H), 3.5-4.5 (m, 18H), 4.7-
5.7 (m, 1H), 6.74 (d, 1H, J
= 8.2 Hz), 6.84 (d, 1H, J = 8.
5 Hz), 7.03 (s, 1H), 7.22
(D, 1H, J = 8.9 Hz), 7.36 (s,
1H), 7.5 (m, 1H), 7.83 (d,
1H, J = 8.8 Hz), 7.9-8.0 (m, 2
H), 8.0-8.3 (m, 3H), 8.49.
(S, 1H), 8.65 (m, 1H), 8.8
5 (brs, 1H) FAB-MS e / z = 1324 (M) Elemental Analysis: Elemental analysis C 55 H 72 N 8 Na 2 O 25 S; 7H 2 O, calculated value: C45.57, H5.98, N7.73 Found: C45.72, H5.87, N7.69.

【0091】実施例13 出発化合物(3.15g)のN,N−ジメチルホルムア
ミド(32ml)溶液にトリフルオロ酢酸(0.37m
l)とp−トルエンスルホン酸の水和物(0.5g)の
混合物を室温で加え、同温で12時間攪拌する。反応混
合物を、酢酸エチル(300ml)で粉砕する。沈殿を
濾取し、溶媒を減圧下で乾燥して、粗生成物(3.3
g)を得る。粗生成物(0.6g)を水(100ml)
に加え、c18μボンダパック(Bondapak)樹
脂(ウオ−タ−アソシエ−ツ社製、マサチュ−セッツ
州、ミルファ−ド)を使用する分取HPLCに付し、シ
マズLC−8Aポンプを使って1分間80mlの流速
で、アセトニトリル−pH3リン酸塩緩衝液(38:6
2)からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを240n
mで、UV探知機で監視する。保持時間が20、6分の
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリ
ルを留去する。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
Ph6.5に調整し、ODS(YMC−gelODS−
AMS−50)(商標:山村化学研究所製)のカラムク
ロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、80%のメタノ
−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せ、減圧下でメタノ−ルを留去する。
Example 13 A solution of the starting compound (3.15 g) in N, N-dimethylformamide (32 ml) was added with trifluoroacetic acid (0.37 m).
A mixture of 1) and p-toluenesulfonic acid hydrate (0.5 g) is added at room temperature, and the mixture is stirred at the same temperature for 12 hours. The reaction mixture is triturated with ethyl acetate (300 ml). The precipitate was filtered off and the solvent was dried under reduced pressure to give the crude product (3.3
g) is obtained. The crude product (0.6 g) was added to water (100 ml)
In addition, the sample was subjected to preparative HPLC using c18μ Bondapak resin (Water Associates, Inc., Millfad, Mass.) For 1 minute using a Shimadzu LC-8A pump. Acetonitrile-pH 3 phosphate buffer (38: 6 at a flow rate of 80 ml).
Elute with the solvent system consisting of 2). The column is 240n
m, monitor with UV detector. Fractions containing the target compound with a retention time of 20 and 6 minutes are combined, and acetonitrile is distilled off under reduced pressure. The residue was adjusted to Ph6.5 with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and ODS (YMC-gelODS-
AMS-50) (trademark: manufactured by Yamamura Chemical Laboratory), subjected to column chromatography, washed with water, and eluted with 80% aqueous methanol solution. The fractions containing the target compound are combined and the methanol is distilled off under reduced pressure.

【0092】残渣を凍結乾燥して目的化合物(147m
g)を得る。 NMR (DMSO−d6,δ);0.88(t, 3
H, J=6.6Hz), 0.94(t, 2H,
J=6.7Hz), 1.09(d, 3H,J=5.
9Hz), 1.2−2.0(m, 13H), 2.
1−2.7(m, 4H), 3.20(m, 1
H), 3.6−4.5(m, 18H), 4.7−
5.2(m, 10H), 5.4−5.6(m, 2
H), 6.44(d, 1H, J=8.2Hz),
6.6(d, 1H, J=8.2Hz), 6.7
0 (s, 1H), 7.1−7.5 (m, 3
H),7.7−8.2 (m, 6H), 8.3−
8.9(m, 5H)IR(Nujol)3300,1
620cm-1
The residue was lyophilized to give the desired compound (147 m
g) is obtained.  NMR (DMSO-d6, Δ); 0.88 (t, 3
H, J = 6.6 Hz), 0.94 (t, 2H,
J = 6.7 Hz), 1.09 (d, 3H, J = 5.
9 Hz), 1.2-2.0 (m, 13H), 2.
1-2.7 (m, 4H), 3.20 (m, 1
H), 3.6-4.5 (m, 18H), 4.7-
5.2 (m, 10H), 5.4-5.6 (m, 2
H), 6.44 (d, 1H, J = 8.2 Hz),
 6.6 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 6.7
0 (s, 1H), 7.1-7.5 (m, 3
H), 7.7-8.2 (m, 6H), 8.3-
8.9 (m, 5H) IR (Nujol) 3300, 1
620 cm-1

【0093】実施例14 実施例4と同様にして目的化合物を得る。 NMR(DMSO−d)δ:0.88(t,3H,
J=6.8Hz),0.967(d,3H,J=6.8
Hz),1.06(d,3H,J=5.5Hz),1.
22−1.55(m,8H),1.7−2.1(m,5
H),2.1−2.5(m,4H),2.70(s,6
H),3.20(m,1H),3.74(m,2H),
3.87−4.7(m,16H),4.7−5.56
(m,11H),6.72(d,1H,J=8.2H
z),6.78(d,1H,J=8.2Hz),7.1
0(s,1H),7.24(d,1H,J=8.9H
z),7.3−7.5(m,3H),7.8−8.0
(m,3H),8.14(d,1H,J=8Hz),
8.29(d,1H,J=7.3Hz),8.43
(s,1H),8.67(m,1H),8.83(s,
1H),8.75−8.85(m,1H),9.38
(s,1H) IR(Nujol):3250,1600cm−1 元素分析 C567922Sとして、 計算値:C;50.40,H;6.57,N;9.44 実測値:C;50.62,H;6.79,N;9.54
[0093]Example 14 The target compound is obtained in the same manner as in Example 4.  NMR (DMSO-d6) Δ: 0.88 (t, 3H,
J = 6.8 Hz), 0.967 (d, 3H, J = 6.8)
Hz), 1.06 (d, 3H, J = 5.5 Hz), 1.
22-1.55 (m, 8H), 1.7-2.1 (m, 5)
H), 2.1-2.5 (m, 4H), 2.70 (s, 6)
H), 3.20 (m, 1H), 3.74 (m, 2H),
3.87-4.7 (m, 16H), 4.7-5.56
(M, 11H), 6.72 (d, 1H, J = 8.2H
z), 6.78 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.1
0 (s, 1H), 7.24 (d, 1H, J = 8.9H
z), 7.3-7.5 (m, 3H), 7.8-8.0.
(M, 3H), 8.14 (d, 1H, J = 8Hz),
8.29 (d, 1H, J = 7.3 Hz), 8.43
(S, 1H), 8.67 (m, 1H), 8.83 (s,
1H), 8.75-8.85 (m, 1H), 9.38
(S, 1H) IR (Nujol): 3250, 1600 cm-1 Elemental analysis C56H79N9O22As S, calculated value: C; 50.40, H; 6.57, N; 9.44 Measured value: C; 50.62, H; 6.79, N; 9.54

【0094】実施例15 実施例9と同様にして目的化合物を得る。 NMR(DMSO−d)δ:0.88(t,3H,
J=6.8Hz),0.96(d,3H,J=6.9H
z),1.09(d,3H,J=5.5Hz),1.2
−1.6(m,8H),1.68−2.75(m,9
H),2.12(s,6H),3.20(m,1H),
3.74(m,2H),3.8−4.6(m,16
H),4.7−5.23(m,10H),5.51
(d,1H,J=5.8Hz),6.44(d,1H,
J=8.9Hz),7.24(d,1H,J=8.9H
z),6.70(s,1H),7.1−7.5(m,4
H),7.8−8.2(m,6H),8.3−8.5
(m,2H),8.7−8.9(m,3H) IR(Nujol):3200,1600cm−1 元素分析 C567919・6HOとし
て、 計算値:C;52.11,H;7.10,N;9.76 実測値:C;51.77,H;7.04,N;9.69
[0094]Example 15 The target compound is obtained in the same manner as in Example 9.  NMR (DMSO-d6) Δ: 0.88 (t, 3H,
J = 6.8 Hz), 0.96 (d, 3H, J = 6.9H
z), 1.09 (d, 3H, J = 5.5 Hz), 1.2
-1.6 (m, 8H), 1.68-2.75 (m, 9
H), 2.12 (s, 6H), 3.20 (m, 1H),
3.74 (m, 2H), 3.8-4.6 (m, 16)
H), 4.7-5.23 (m, 10H), 5.51
(D, 1H, J = 5.8 Hz), 6.44 (d, 1H,
J = 8.9 Hz), 7.24 (d, 1H, J = 8.9H)
z), 6.70 (s, 1H), 7.1-7.5 (m, 4)
H), 7.8-8.2 (m, 6H), 8.3-8.5.
(M, 2H), 8.7-8.9 (m, 3H) IR (Nujol): 3200, 1600 cm-1 Elemental analysis C56H79N9O19・ 6HTwoO
Calculated value: C; 52.11, H; 7.10, N; 9.76 Measured value: C; 51.77, H; 7.04, N; 9.69

【0095】実施例16 テトラヒドロフラン(500ml)とN,N−ジメチル
ホルムアミド(125ml)の混合溶媒に出発化合物
(25g)を加え、さらに氷冷撹拌下、クロロトリメチ
ルシラン(107ml)とトリエチルアミン(175.
5ml)を加え、室温で20時間撹拌した。反応混合物
を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残留物をシリカゲル
クロマトグラフィーで精製して、化合物[A](15.
57g)を得た。化合物[A](5g)のN,N−ジメ
チルホルムアミド(25ml)溶液に氷冷撹拌下、炭酸
カリウム(0.249g)とブロモ酢酸ベンズヒドリル
エステル(1.10g)を加え、そのまま3時間撹拌し
た。反応混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製して、2つの異性体化合物[B](1.
05g)、化合物[C](1.619g)を得た。メタ
ノール(10.5ml)と酢酸(2.63ml)の混合
溶媒に化合物[B](1.05g)を加え室温で1時間
撹拌した。反応混合物をエーテルに加え、粉末化し、そ
の粉末を濾取し、減圧下乾燥した。その粉末をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製して目的化合物(イ)
(0.3g)を得た。化合物[C]を化合物[B]と同
様の操作で処理し、目的化合物(ロ)(0.27g)を
得た。
Example 16 The starting compound (25 g) was added to a mixed solvent of tetrahydrofuran (500 ml) and N, N-dimethylformamide (125 ml), and chlorotrimethylsilane (107 ml) and triethylamine (175.
5 ml) was added and the mixture was stirred at room temperature for 20 hours. The reaction mixture was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography to give compound [A] (15.
57 g) was obtained. Potassium carbonate (0.249 g) and bromoacetic acid benzhydryl ester (1.10 g) were added to an N, N-dimethylformamide (25 ml) solution of compound [A] (5 g) under ice-cooling stirring, and the mixture was stirred for 3 hours as it was. . The reaction mixture was concentrated under reduced pressure and purified by silica gel chromatography to give two isomeric compounds [B] (1.
05 g) and compound [C] (1.619 g) were obtained. Compound [B] (1.05 g) was added to a mixed solvent of methanol (10.5 ml) and acetic acid (2.63 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was added to ether and pulverized, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. The powder is purified by silica gel chromatography to obtain the target compound (a).
(0.3 g) was obtained. The compound [C] was treated in the same manner as the compound [B] to obtain the target compound (II) (0.27 g).

【0096】目的化合物[イ] NMR(DMSO−d)δ:0.86(t,3H,
J=6.6Hz),0.95(d,3H,J=6.6H
z),1.07(d,3H,J=5.9Hz),1.2
−1.53(m,10H),1.55−2.10(m,
5H),2.10−2.70(m,4H),3.17
(dd,1H,J=6.6Hz),3.71(m,2
H),3.8−4.6(m,15H),4.7−5.7
(m,12H),6.60−6.92(m,5H),
6.97(d,2H,J=8.7Hz),7.2−7.
6(m,13H),7.86(d,2H,J=8.7H
z),8.09(d,1H,J=8Hz),8.31
(d,1H,J=7.3Hz),8.59(d,1H,
J=6.7Hz),9.11(brs,1H) IR(Nujol):3250,1600cm−1 FAB−MS:e/z=1335(M+Na)
Target compound [a]  NMR (DMSO-d6) Δ: 0.86 (t, 3H,
J = 6.6 Hz), 0.95 (d, 3H, J = 6.6H)
z), 1.07 (d, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2
-1.53 (m, 10H), 1.55-2.10 (m,
5H), 2.10-2.70 (m, 4H), 3.17.
(Dd, 1H, J = 6.6 Hz), 3.71 (m, 2
H), 3.8-4.6 (m, 15H), 4.7-5.7.
(M, 12H), 6.60-6.92 (m, 5H),
6.97 (d, 2H, J = 8.7 Hz), 7.2-7.
6 (m, 13H), 7.86 (d, 2H, J = 8.7H
z), 8.09 (d, 1H, J = 8 Hz), 8.31
(D, 1H, J = 7.3 Hz), 8.59 (d, 1H,
J = 6.7 Hz), 9.11 (brs, 1H) IR (Nujol): 3250, 1600 cm-1 FAB-MS: e / z = 1335 (M + Na)

【0097】目的化合物[ロ] NMR(DMSO−d)δ:0.86(t,3H,
J=6.6Hz),0.95(d,3H,J=6.8H
z),1.07(d,3H,J=5.9Hz),1.2
−1.55(m,10H),1.6−2.1(m,5
H),2.1−2.7(m,4H),3.16(dd,
1H,J=6.6Hz),3.73(m,2H),3.
8−4.6(m,15H),4.7−5.6(m,12
H),6.52(dd,1H,J=8.2,1.5H
z),6.74(d,1H,J=8.2Hz),6.7
9(d,1H,J=1.5Hz),6.87(m,2
H),6.97(d,2H,J=8.9Hz),7.2
−7.6(m,13H),7.86(d,2H,J=
8.9Hz),8.04(d,1H,J=8Hz),
8.32(d,1H,J=7.3Hz),8.55
(d,1H,J=6.7Hz),9.12(s,1H) IR(Nujol):3250,1610,1240,
1060cm−1 FAB−MS:e/z=1335(M+Na)
Target compound [b]  NMR (DMSO-d6) Δ: 0.86 (t, 3H,
J = 6.6 Hz), 0.95 (d, 3H, J = 6.8H)
z), 1.07 (d, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2
-1.55 (m, 10H), 1.6-2.1 (m, 5
H), 2.1-2.7 (m, 4H), 3.16 (dd,
1H, J = 6.6 Hz), 3.73 (m, 2H), 3.
8-4.6 (m, 15H), 4.7-5.6 (m, 12)
H), 6.52 (dd, 1H, J = 8.2, 1.5H
z), 6.74 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 6.7.
9 (d, 1H, J = 1.5 Hz), 6.87 (m, 2
H), 6.97 (d, 2H, J = 8.9 Hz), 7.2
-7.6 (m, 13H), 7.86 (d, 2H, J =
8.9 Hz), 8.04 (d, 1H, J = 8 Hz),
8.32 (d, 1H, J = 7.3 Hz), 8.55
(D, 1H, J = 6.7 Hz), 9.12 (s, 1H) IR (Nujol): 3250, 1610, 1240,
1060 cm-1 FAB-MS: e / z = 1335 (M + Na)

【0098】実施例17 メタノール(12ml)に出発化合物(0.3g)とパ
ラジウムブラック(0.15g)を加え、水素下、室温
で15分間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧
下濃縮して、残留物を分取液体クロマトグラフィーで精
製し、目的化合物(102mg)を得た。 NMR(DMSO−d)δ:0.86(t,3H,
J=6.6Hz),0.95(d,3H,J=6.7H
z),1.06(d,3H,J=5.9Hz),1.2
−1.6(m,10H),1.6−2.15(m,5
H),2.15−2.7(m,4H),3.17(d
d,1H,J=6.6Hz),3.74(m,2H),
3.9−4.7(m,13H),4.52(s,2
H),4.7−5.6(m,12H),6.60(s,
1H),6.73(s,2H),6.84(s,1
H),6.97(d,2H,J=8.8Hz),7.2
−7.6(m,3H),7.86(d,2H,J=8.
8Hz),8.04(d,1H,J=8Hz),8.3
1(d,1H,J=7.3Hz),8.59(d,1
H,J=6.7Hz) IR(Nujol):3250,1610,1240c
−1 FAB−MS:e/z=1169(M+Na) 元素分析 C527421として、 計算値:C;49.75,H;6.90,N;8.92 実測値:C;49.74,H;6.98,N;8.91
[0098]Example 17 The starting compound (0.3 g) was added to methanol (12 ml).
Add radium black (0.15g), under hydrogen, room temperature
For 15 minutes. The reaction mixture is filtered and the filtrate is depressurized.
Concentrate below and purify the residue by preparative liquid chromatography.
The target compound (102 mg) was obtained.  NMR (DMSO-d6) Δ: 0.86 (t, 3H,
J = 6.6 Hz), 0.95 (d, 3H, J = 6.7H)
z), 1.06 (d, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2
-1.6 (m, 10H), 1.6-2.15 (m, 5
H), 2.15-2.7 (m, 4H), 3.17 (d
d, 1H, J = 6.6 Hz), 3.74 (m, 2H),
3.9-4.7 (m, 13H), 4.52 (s, 2)
H), 4.7-5.6 (m, 12H), 6.60 (s,
1H), 6.73 (s, 2H), 6.84 (s, 1
H), 6.97 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.2
-7.6 (m, 3H), 7.86 (d, 2H, J = 8.
8 Hz), 8.04 (d, 1H, J = 8 Hz), 8.3
1 (d, 1H, J = 7.3 Hz), 8.59 (d, 1
H, J = 6.7 Hz) IR (Nujol): 3250, 1610, 1240c
m-1 FAB-MS: e / z = 1169 (M + Na) Elemental analysis C52H74N8O21Calculated value: C; 49.75, H; 6.90, N; 8.92 Measured value: C; 49.74, H; 6.98, N; 8.91

【0099】実施例18 実施例17と同様にして目的化合物を得る。 NMR(DMSO−d)δ:0.86(t,3H,
J=6.6Hz),0.96(d,3H,J=6.8H
z),1.07(d,3H,J=5.9Hz),1.2
−1.6(m,10H),1.6−2.2(m,5
H),2.2−2.7(m,4H),3.17(dd,
1H,J=6.6Hz),3.7−4.6(m,17
H),4.7−5.6(m,12H),6.54(d,
1H,J=8.5Hz),6.76(d,1H,J=
8.5Hz),6.74(s,1H),6.84(s,
1H),6.96(d,2H,J=8.8Hz),7.
2−7.6(m,3H),7.86(d,2H,J=
8.8Hz),8.04(d,1H,J=8Hz),
8.31(d,1H,J=7.3Hz),8.59
(d,1H,J=6.7Hz) IR(Nujol):3300,1620,1250,
1050cm−1 FAB−MS:e/z=1145(M−Na−1) 元素分析 C5273NaO21として、 計算値:C;48.89,H;6.70,N;8.77 実測値:C;49.13,H;6.81,N;8.89
[0099]Example 18 The target compound is obtained in the same manner as in Example 17.  NMR (DMSO-d6) Δ: 0.86 (t, 3H,
J = 6.6 Hz), 0.96 (d, 3H, J = 6.8H)
z), 1.07 (d, 3H, J = 5.9 Hz), 1.2
-1.6 (m, 10H), 1.6-2.2 (m, 5)
H), 2.2-2.7 (m, 4H), 3.17 (dd,
1H, J = 6.6 Hz), 3.7-4.6 (m, 17)
H), 4.7-5.6 (m, 12H), 6.54 (d,
1H, J = 8.5 Hz), 6.76 (d, 1H, J =
8.5 Hz), 6.74 (s, 1H), 6.84 (s,
1H), 6.96 (d, 2H, J = 8.8Hz), 7.
2-7.6 (m, 3H), 7.86 (d, 2H, J =
8.8 Hz), 8.04 (d, 1H, J = 8 Hz),
8.31 (d, 1H, J = 7.3 Hz), 8.59
(D, 1H, J = 6.7 Hz) IR (Nujol): 3300, 1620, 1250,
1050 cm-1 FAB-MS: e / z = 1145 (M-Na-1) Elemental analysis C52H73N8NaO21Calculated value: C; 48.89, H; 6.70, N; 8.77 Actual value: C; 49.13, H; 6.81, N; 8.89

【0100】実施例19 N,N−ジメチルホルムアミド(2ml)とアセトン
(2ml)の混合溶媒に出発化合物(0.2g)、2,
2−ジメトキシプロパン(0.206ml)、p−トル
エンスルホン酸1水和物(0.0319g)及びモレキ
ュラシーブ4Å(3粒)を加え、その反応混合物を室温
で24時間撹拌した。その反応混合物を酢酸エチル(5
0ml)に加え、生じた粉末を濾取し、減圧下乾燥し
た。その粉末と水(10ml)に加え、DOWEX−5
0W×4を用いたイオン交換カラムクロマトグラフィー
により精製し、次いで、ODS(YMC−gelODS
−AMS−50)を用いるカラムクロマトグラフィーに
より精製した。目的物を含む画分を集め、凍結乾燥し、
目的化合物(20mg)を得た。 FAB−MS:e/z=1293(M+Na)
Example 19 A starting compound (0.2 g), 2, in a mixed solvent of N, N-dimethylformamide (2 ml) and acetone (2 ml).
2-Dimethoxypropane (0.206 ml), p-toluenesulfonic acid monohydrate (0.0319 g) and molecular sieves 4Å (3 grains) were added, and the reaction mixture was stirred at room temperature for 24 hours. The reaction mixture was washed with ethyl acetate (5
0 ml) and the resulting powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. In addition to the powder and water (10 ml), DOWEX-5
Purified by ion exchange column chromatography using 0W × 4, then ODS (YMC-gelODS
-AMS-50) for purification by column chromatography. Fractions containing the desired product are collected, lyophilized,
The target compound (20 mg) was obtained. FAB-MS: e / z = 1293 (M + + Na)

【0101】実施例20 合成法は氷冷下で反応を行なう以外は実施例19と同様
の方法で行なった。 IR(Nujol):3300,1620cm−1 FAB−MS:e/z=1253(M+Na)
Example 20 The synthesis method was performed in the same manner as in Example 19 except that the reaction was performed under ice cooling. IR (Nujol): 3300, 1620 cm -1 FAB-MS: e / z = 1253 (M + + Na).

【0102】次式の公知の化合物[A]またはその塩
は、製造法2、3、5と同様の方法により、次式の化合
物[B]またはその塩に変えることができることに留意
すべきである。 (式中、Rはアシル基 R ,R ,Rf ,R はそれぞれ独立して水
素またはヒドロキシ R はヒドロキシ、アシルオキシ、ホスホリルオキシ
またはスルホニルオキシ R は水素またはメチル Rf 1 は水素または低級アルコキシ R は1個以上の好適な置換基をもっていてもよい低
級アルキルをそれぞれ意味する)
It should be noted that the known compound [A] of the following formula or a salt thereof can be converted to the compound [B] of the following formula or a salt thereof by a method similar to the production methods 2, 3, and 5. is there. (In the formula, R a is an acyl group R b , R c , R f , and R g are each independently hydrogen or hydroxy R d is hydroxy, acyloxy, phosphoryloxy or sulfonyloxy R e is hydrogen or methyl R f 1 is Hydrogen or lower alkoxy R h means each lower alkyl optionally having one or more suitable substituents)

【0103】化合物[A]は特開平1−163179,
3−163096,4−217694,4−21769
5,4−217696,4−217697,4−217
698,4−217699の公報で公開されている。
Compound [A] is described in JP-A-1-163179,
3-163096, 4-217694, 4-21769
5,4-217696, 4-217697, 4-217
698, 4-217699.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式: [式中、R1はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、 R2はヒドロキシ基、 R3はアシル基、R4 およびR5はそれぞれヒドロキシ
基、R6はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基、
カルボキシ(低級)アルコキシ基または保護されたカル
ボキシ(低級)アルコキシ基、R7 はヒドロキシ基、
ヒドロキシスルホニルオキシ基、カルボキシ(低級)ア
ルコキシ基または保護されたカルボキシ(低級)アルコ
キシ基、R8は水素または適当な置換基を1個以上有し
ていてもよい低級アルキル基をそれぞれ意味する。ここ
において、R1およびR2またはR4およびR5はそれぞれ
結合して、式: (式中、R9およびR10はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する)で示される基を形成していてもよ
い。(但し、R6およびR7が共にヒドロキシ基の場合
は、R3はパルミトイル基ではない)]で示される化合
物およびその塩。
1. The formula:[In the formula, R1Is a hydroxy group or a lower alkoxy group, R2Is a hydroxy group, R3Is an acyl group, RFour  And RFiveAre each hydroxy
Group, R6Is a hydroxy group, a lower alkanoyloxy group,
Carboxy (lower) alkoxy group or protected cal
Boxy (lower) alkoxy group, R7  Is a hydroxy group,
Hydroxysulfonyloxy group, carboxy (lower)
Lucoxy group or protected carboxy (lower) alk
Xy group, R8Has one or more hydrogen or suitable substituents
And a lower alkyl group which may be present. here
Where R1And R2Or RFourAnd RFiveAre each
Combine and formula:(In the formula, R9And RTenIs hydrogen or lower
(Meaning a kill group) may be formed.
Yes. (However, R6And R7When both are hydroxy groups
Is R3Is not a palmitoyl group)]
Thing and its salt.
【請求項2】 式: [式中、R1はヒドロキシ基または低級アルコキシ基、 R2はヒドロキシ基、 R3はアシル基、R4 およびR5はそれぞれヒドロキシ
基、R6はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基、
カルボキシ(低級)アルコキシ基または保護されたカル
ボキシ(低級)アルコキシ基、R7 はヒドロキシ基、
ヒドロキシスルホニルオキシ基、カルボキシ(低級)ア
ルコキシ基または保護されたカルボキシ(低級)アルコ
キシ基、R8は水素または適当な置換基を1個以上有し
ていてもよい低級アルキル基をそれぞれ意味する。ここ
において、R1およびR2またはR4およびR5はそれぞれ
結合して、式: (式中、R9およびR10はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する)で示される基を形成していてもよ
い。(但し、R6およびR7が共にヒドロキシ基の場合
は、R3はパルミトイル基ではない)]で示される化合
物およびその塩の製造法であって、(1)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、およびR8
それぞれ前と同じ意味、R7 dはヒドロキシスルホニルオ
キシ基を意味する)で示される化合物またはその塩を加
水分解反応に付して、式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、およびR8
それぞれ前と同じ意味)で示される化合物またはその塩
を得るか、または(2)式: (式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8
それぞれ前と同じ意味である)で示される化合物または
その塩を式: R1 a−H (式中、R1 aは低級アルコキシ基を意味する)で示され
る化合物と反応させて、式: (式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8
それぞれ前と同じ意味、R1 aは低級アルコキシ基を意味
する)で示される化合物またはその塩を得るか、または
(3)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7 d、およびR8
それぞれ前と同じ意味である)で示される化合物または
その塩をアシル化反応に付して式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7 d、およびR8
それぞれ前と同じ意味、及びR6 dは低級アルカノイルオ
キシ基を意味する)で示される化合物またはその塩を得
るか、または(4)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6 d、R7 d、およ
びR8はそれぞれ前と同じ意味である)で示される化合
物またはその塩を加水分解反応に付して式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6 d、およびR8
それぞれ前と同じ意味である)で示される化合物または
その塩を得るか、または(5)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6及びR7 はそれ
ぞれ前と同じ意味である)で示される化合物またはその
塩をアルキル化反応に付して式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6、およびR7
それぞれ前と同じ意味、及びR8 aは適当な置換基を1個
以上有していてもよい低級アルキル基を意味する)で示
される化合物またはその塩を得るか、または(6)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6 及びR8 aはそれ
ぞれ前と同じ意味、R7 aはヒドロキシスルホニルオキシ
基を意味する)で示される化合物またはその塩を加水分
解反応に付して式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6及びR8 aはそれ
ぞれ前と同じ意味である)で示される化合物またはその
塩を得るか、または(7)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7 およびR8はそ
れぞれ前と同じ意味)で示される化合物またはその塩と
式: R11−X [式中、R11はカルボキシ(低級)アルキル基または保
護されたカルボキシ(低級)アルキル基、Xは脱離基を
意味する]で示される化合物と反応させて、式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7及びR8 はそれ
ぞれ前と同じ意味、R6 aはカルボキシ(低級)アルコキ
シ基または保護されたカルボキシ(低級)アルコキシ基
を意味する)で示される化合物またはその塩を得るか、
または(8)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6及びR8 はそれ
ぞれ前と同じ意味である)で示される化合物またはその
塩と式: R11−X (式中R11、Xは前と同じ意味である)で示される化合
物と反応させて、式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R7 aはカルボキシ(低級)アルコ
キシ基または保護されたカルボキシ(低級)アルコキシ
基を意味する)で示される化合物またはその塩を得る
か、または(9)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R6 bは保護されたカルボキシ(低
級)アルコキシ基を意味する)で示される化合物または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R7およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R6 cはカルボキシ(低級)アルコ
キシ基を意味する)で示される化合物またはその塩を得
るか、または(10)式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R7 bは保護されたカルボキシ(低
級)アルコキシ基を意味する)で示される化合物または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して式: (式中、R1 、R2、R3、R4、R5、R6およびR8 はそ
れぞれ前と同じ意味、R7 cはカルボキシ(低級)アルコ
キシ基を意味する)で示される化合物またはその塩を得
るか、または(11)式: (式中、R3、R6、R7およびR8 はそれぞれ前と同じ意
味である)で示される化合物またはその塩をケタール化
反応に付して式: [式中、R3、R6、R7 、R8はそれぞれ前と同じ意味、
1 aおよびR2 aはそれぞれヒドロキシ基または両者が結
合して、式: (式中、R9およびR10はそれぞれ水素または低級アル
キル基を意味する)で示される基を形成している)を意
味する]で示される化合物またはその塩を得ることを特
徴とする前記ポリペプチド化合物の製造法。
2. The formula:[In the formula, R1Is a hydroxy group or a lower alkoxy group, R2Is a hydroxy group, R3Is an acyl group, RFour  And RFiveAre each hydroxy
Group, R6Is a hydroxy group, a lower alkanoyloxy group,
Carboxy (lower) alkoxy group or protected cal
Boxy (lower) alkoxy group, R7  Is a hydroxy group,
Hydroxysulfonyloxy group, carboxy (lower)
Lucoxy group or protected carboxy (lower) alk
Xy group, R8Has one or more hydrogen or suitable substituents
And a lower alkyl group which may be present. here
Where R1And R2Or RFourAnd RFiveAre each
Combine and formula:(In the formula, R9And RTenIs hydrogen or lower
(Meaning a kill group) may be formed.
Yes. (However, R6And R7When both are hydroxy groups
Is R3Is not a palmitoyl group)]
And a salt thereof, which is represented by the formula (1):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, And R8Is
Each has the same meaning as before, R7 dIs hydroxysulfonyl
(Which means a xy group) or a salt thereof is added.
Following the water splitting reaction, the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, And R8Is
The same meanings as before) or salts thereof
Or the expression (2):(In the formula, R2, R3, RFour, RFive, R6, R7, And R8Is
Each has the same meaning as before) or
The salt has the formula: R1 a-H (In the formula, R1 aMeans a lower alkoxy group)
The compound of formula:(In the formula, R2, R3, RFour, RFive, R6, R7, And R8Is
Each has the same meaning as before, R1 aMeans a lower alkoxy group
Or a salt thereof, or
Formula (3):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7 d, And R8Is
Each has the same meaning as before) or
The salt is subjected to an acylation reaction to give the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7 d, And R8Is
Each has the same meaning as before, and R6 dIs a lower alkanoyloo
A compound represented by xy) or a salt thereof.
Or equation (4):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6 d, R7 d, And
And R8Each have the same meaning as before)
The compound or salt thereof is subjected to a hydrolysis reaction to obtain the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6 d, And R8Is
Each has the same meaning as before) or
Obtaining the salt or formula (5):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R7 Is it
The same meaning as before) or a compound thereof
The salt is subjected to an alkylation reaction to give the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6, And R7 Is
Each has the same meaning as before, and R8 aIs an appropriate substituent
The above means a lower alkyl group which may have)
Or a salt thereof, or a compound of formula (6):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6 And R8 aIs it
Same meaning as before, R7 aIs hydroxysulfonyloxy
(Meaning a group) or a salt thereof is hydrolyzed.
The equation for the reaction:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 aIs it
The same meaning as before) or a compound thereof
Obtain salt or formula (7):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7 And R8Haso
The same meaning as before) or a salt thereof
Formula: R11-X [wherein R11Is a carboxy (lower) alkyl group or
Protected carboxy (lower) alkyl group, X is a leaving group
A compound represented by the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7And R8 Is it
Same meaning as before, R6 aIs carboxy (lower) alkoxy
Si group or protected carboxy (lower) alkoxy group
Or a salt thereof, or
Or formula (8):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Is it
The same meaning as before) or a compound thereof
Salt and formula: R11-X (R in the formula11, X is the same meaning as before)
React with the thing, the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Haso
The same meaning as before, R7 aIs carboxy (lower) Arco
Xy or protected carboxy (lower) alkoxy
Group), or a salt thereof.
Or, equation (9):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7And R8 Haso
The same meaning as before, R6 bProtected carboxy (low
Class) meaning an alkoxy group) or
The salt is subjected to a carboxy protecting group elimination reaction to give the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R7And R8 Haso
The same meaning as before, R6 cIs carboxy (lower) Arco
A compound represented by xy) or a salt thereof.
Or equation (10):(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Haso
The same meaning as before, R7 bProtected carboxy (low
Class) meaning an alkoxy group) or
The salt is subjected to a carboxy protecting group elimination reaction to give the formula:(In the formula, R1 , R2, R3, RFour, RFive, R6And R8 Haso
The same meaning as before, R7 cIs carboxy (lower) Arco
A compound represented by xy) or a salt thereof.
Or equation (11):(In the formula, R3, R6, R7And R8 Each has the same meaning as before
Ketalize the compound represented by (Taste) or its salt
Add the reaction to the formula:[In the formula, R3, R6, R7 , R8Each has the same meaning as before,
R1 aAnd R2 aAre hydroxy groups or both
Combined, the formula:(In the formula, R9And RTenIs hydrogen or lower
Forming a group represented by (meaning a kill group)
To obtain the compound or salt thereof.
A method for producing the above-mentioned polypeptide compound.
【請求項3】 有効成分として、請求項1に記載の化合
物またはその塩を含有することを特徴とする抗菌剤。
3. An antibacterial agent comprising the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient.
JP5248668A 1992-09-09 1993-09-09 Novel polypeptide compound and salt Pending JPH06192292A (en)

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