JPH06148402A - 紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチック光学物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】硫黄を含有する樹脂を主成分としてなる透明基
体の表面に、下記ＡおよびＢ被膜がこの順序に積層され
てなる紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチック光
学物品。 Ａ．オルガノポリシロキサンと微粒子状無機酸化物とを
主成分としてなる被膜。 Ｂ．少なくとも一層が紫外線吸収性を有する無機酸化物
からなる被膜である反射防止膜。 【効果】耐光性および耐候性に優れ、かつ耐すり傷性、
染色性などが良好で、さらに黄変、ヘーズによる透明性
低下などがなく、外観に優れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高屈折率であり、か
つ、黄変、ヘーズによる透明性低下がなく、さらに、耐
光性、耐候性などに優れた、紫外線吸収性反射防止膜を
有するプラスチック光学物品に関する。特に眼鏡用レン
ズ、カメラ用レンズなどの光学用に好適である。

【０００２】

【従来の技術】近年、硫黄を含有する樹脂は、高い屈折
率を有する樹脂として注目されている（例えば、特開昭
64-26613号など）。しかしながら、この硫黄を含有する
樹脂は、一般に太陽光および照明ランプなどの照射光中
に含まれる紫外線によって、変色あるいは劣化するとい
った悪影響を受けやすい。

【０００３】一方、紫外線をカットするために、紫外線
吸収剤を樹脂基材や塗料に混ぜる方法が考えられてい
た。透明な紫外線吸収剤としては、例えば有機系のもの
として、ベンゾフェノン系やベンゾフェノール系のもの
が知られており、また無機系のものとしては酸化チタン
や酸化セリウムなどが知られている。この無機酸化物を
ハードコーティング剤に用いる方法としては、特開昭５
８−４６３０１号公報、特開昭５９−４９５０１号公
報、特開昭６３−２２５６３５号公報などがあり、チタ
ンアルコラートとコロイダルシリカ、あるいはコロイド
状酸化チタンとシランカップリング剤などからなる組成
物が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機系
の紫外線吸収剤は、紫外線を吸収しながらそれ自体が劣
化して黄変や褐色になり、遂には飽和して紫外線を吸収
しなくなる他、有機物であるために衛生面で毒性の問題
がある。

【０００５】一方、無機酸化物は劣化は起こりにくい
が、特開昭５８−４６３０１号公報や特開昭５９−４９
５０１号公報などに記載の方法では、紫外線照射によっ
て塗膜が黄変し易く、耐候性に乏しいという問題があ
り、特に耐候性テスト後の塗膜密着性が不良となる致命
的欠陥を有するものであった。

【０００６】そこで本発明は、これらの問題点を解決し
ようとするものであり、紫外線吸収性を有する無機酸化
物を多層反射防止膜に用いることにより、高屈折率を有
し、かつ、優れた耐光性、耐候性、耐水性を有し、かつ
黄変、ヘーズによる透明性低下などがなく、外観に優れ
た紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチック光学物
品を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために下記の構成からなる。

【０００８】「硫黄を含有する樹脂を主成分としてなる
透明基体の表面に、下記ＡおよびＢ被膜がこの順序に積
層されてなる紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチ
ック光学物品。

【０００９】Ａ．オルガノポリシロキサンと微粒子状無
機酸化物とを主成分としてなる被膜。

【００１０】Ｂ．少なくとも一層が紫外線吸収性を有す
る無機酸化物からなる被膜である反射防止膜。」本発明
における硫黄を含有する樹脂は、硫黄を含有した樹脂で
あれば限定されることなく用いることができ、主鎖およ
び／または側鎖に硫黄を有している樹脂などが好ましく
用いられるが、中でも、分子内にチオール（メタ）アク
リレート基を１つ以上有する単量体から選ばれる少なく
とも一種を１０重量％以上含む単量体組成物を重合して
得られる樹脂が特に好ましく用いられる。特に、屈折率
が、１．５４以上、さらには１．５４〜１．７０である
ことが好ましい。

【００１１】ここでチオール（メタ）アクリレートとし
ては、例えば下記一般式(II)、(III) および(IV)で示さ
れる化合物が挙げられる。

【００１２】

【化１】 （式中、Ｒ⁴ は水素またはメチル基を示す。ｍは１〜４
の整数を示す。）

【化２】 （式中、Ｒ⁵ は水素またはメチル基を示す。ｎは０また
は１を示す。）

【化３】 （式中、Ｒ⁶ は水素またはメチル基を示す。）ここで、
チオール（メタ）アクリレート系モノマーを得る際の脱
塩酸剤として、−ＳＨ基に対して３〜９５モル当量の三
級アミンと５〜１２０モル当量の金属水酸化物を併用す
ることによって、モノマーの純度、収率を高くすること
ができる。

【００１３】かかるチオール（メタ）アクリレートは、
例えば、過酸化物系あるいはアゾ系等の一般的にラジカ
ル重合に用いられる開始剤を単量体１００重量部に対し
て０．００１〜５重量部加えた後、加熱あるいは光照射
することによって重合し、透明性に優れた樹脂を製造す
ることができる。この時、単量体として上記のチオール
（メタ）アクリレートにこれ以外の単量体を加えて共重
合させることができる。この場合、得られる樹脂の特性
上、上記の一般式(II)、(III) および(IV)で示される単
量体から選ばれた少なくとも１種の単量体を１０重量％
以上加えることが好ましい。

【００１４】加える単量体としては、オレフィン系化合
物であれば特に限定されるものではなく、好ましくは
（メタ）アクリル系化合物やスチレン系化合物、アクリ
ロニトリル、Ｎ−フェニルマレイミド等が挙げられる。

【００１５】また、共重合成分として、オレフィン系化
合物以外に多官能チオール化合物を加えることによって
加工性に優れた樹脂を得ることができる。多官能チオー
ル化合物としては、ペンタエリスリトールテトラキスチ
オグリコレート、トリスメルカプトプロピルイソシアヌ
レート等がある。種々のチオール（メタ）アクリレート
系モノマーを用いて機械特性に優れた樹脂を得るために
は、チオール（メタ）アクリレートを１５〜９０重量
％、スチレンを１０〜８５重量％、ハロゲン原子含有あ
るいは非含有のビスフェノールＡを構造中に含むジ（メ
タ）アクリレートを７５重量％以下の割合で共重合する
ことが好ましい。また、この際、前述のオレフィン系化
合物を４５重量％以下の割合で共重合してもよい。

【００１６】ビスフェノールＡを構造中に含むジ（メ
タ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式(V) で
示される化合物が挙げられる。

【００１７】

【化４】 （ここで、Ｒ⁷ は水素またはメチル基を示す。）この共
重合体において用いられる種々のチオール（メタ）アク
リレート系モノマーとしては、特に制限されることなく
用いることができ、特に前記の一般式(II)、(III) 、(I
V)で示される化合物を用いた場合は、機械特性に加え
て、高屈折率、かつ高アッベ数であるといった光学特性
に優れた樹脂を得ることができる。また、種々のチオー
ル（メタ）アクリレート系モノマーを用いて、摩耗特性
に優れた樹脂を得るためには、チオール（メタ）アクリ
レート系モノマーから選ばれる少なくとも１種を１５〜
９０重量％、分子中にウレタン結合と（メタ）アクリル
基の両方を持つモノマーを１０〜８５重量％の割合で共
重合することが好ましい。また、この際、前述のオレフ
ィン系化合物を４５重量％未満の割合で共重合してもよ
い。

【００１８】分子中のウレタン結合と（メタ）アクリル
基の両方を有するモノマーとしては、例えば、下記一般
式(VI)で示される置換基を有するモノマーが挙げられ
る。

【００１９】

【化５】 （ここで、Ｒ⁸ は水素またはメチル基、Ｘは炭素数１〜
１０のアルキレン基を、ｌは０〜３の整数を示す。）チ
オール（メタ）アクリレート系モノマーとしては、制限
されることなく用いることができるが、特に前記一般式
(II)〜(IV)の化合物を用いた場合は、摩耗性に加えて、
高屈折率であり、かつ高いアッベ数を有するといった光
学特性に優れた樹脂が得られる。

【００２０】本発明の硫黄を含有する樹脂を製造する方
法としては、注型重合法が適している。この場合の成形
方法の好ましい一例としては、前述のチオール（メタ）
アクリレートあるいは共重合成分のうち少なくとも１成
分と本発明のチオール（メタ）アクリレートを混合した
液体を重合開始剤とともに、ガラスあるいは金属製のモ
ールドと粘着テープあるいはプラスチック製ガスケット
よりなる型に注入し、３０〜１５０℃で０．１〜４０時
間加熱、あるいは紫外線を照射することによって成形す
る方法が挙げられる。

【００２１】チオール（メタ）アクリレートより樹脂を
製造する場合、特に好ましいのは過酸化物系開始剤、例
えば、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキ
シイソブチレート、ジイソプロピルパーオキシジカーボ
ネート、ｔ−ブチルパーオキシピバレートを用いて重合
することによって外観品位の優れた樹脂を製造すること
ができる。

【００２２】本発明の硫黄含有樹脂を製造する際、公知
の添加剤、例えば紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤等
を適宜含んでいてもよい。

【００２３】前記のチオール（メタ）アクリレートを用
いることによって、高屈折率かつ高アッベ数で透明性に
優れた樹脂を製造することができ、さらに得られた樹脂
は硫黄含有樹脂であるにも関わらず、加工時に臭気はし
なかった。また、チオールエステル系化合物であるた
め、エステル系化合物に比べて吸水率が低く、耐薬品性
にも優れている。

【００２４】本発明はこれらの主鎖および／または側鎖
に硫黄を有する高屈折率の透明基体上に、まずオルガノ
ポリシロキサンと微粒子状無機酸化物とを主成分として
なる被膜からなるハードコート被膜を設けてなるもので
あるが、ここでオルガノポリシロキサンとしては、例え
ば、下記一般式(I) で示される有機ケイ素化合物および
／またはその加水分解物を挙げることができる。

【００２５】 Ｒ_a Ｒ¹ _b ＳｉＸ_4-a-b (I) （ここで、Ｒは炭素数１〜１０の有機基、Ｒ¹ は炭素数
１〜６の炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基、Ｘは
加水分解性基であり、ａおよびｂは０または１であ
る。）具体的な代表例としては、メチルシリケート、エ
チルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｉ−プロピ
ルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ−ブチル
シリケート、およびｔ−ブチルシリケートなどのテトラ
アルコキシシラン類、およびその加水分解物さらにはメ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセト
キシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリ
ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ
アセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリアセトキシシラン、γ−メタクリルオ
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−
（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、メチルト
リフェノキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラ
ン、クロロメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメ
チルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエト
キシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラ
ン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−
グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブ
チルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリ
エトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシエトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラ
ン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピル
トリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、
δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエ
トキシシランなどのトリアルコキシシラン、トリアシル
オキシシランまたはトリフェノキシシラン類またはその
加水分解物およびジメチルジメトキシシラン、フェニル
メチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジ
エトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メ
タクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピル
メチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメチ
ルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチル
ジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメ
トキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシ
ラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフ
ェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジア
セトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシ
シランなどジアルコキシシラン、ジフェノキシシランま
たはジアシルオキシシラン類またはその加水分解物がそ
の例である。

【００２６】これらの有機ケイ素化合物は１種または２
種以上添加することも可能である。特に染色性付与の目
的にはエポキシ基、グリシドキシ基を含む有機ケイ素化
合物の使用が好適であり、高付加価値なものとなる。

【００２７】上記の組成物は通常揮発性溶媒に希釈して
液状組成物として塗布される。溶媒として用いられるも
のは、特に限定されないが、使用にあたっては被塗布物
の表面性状を損わぬことが要求され、さらには組成物の
安定性、基材に対するぬれ性、揮発性などをも考慮して
決められるべきである。また溶媒は１種のみならず２種
以上の混合物として用いることも可能である。

【００２８】さらに、硬度向上、無機酸化物層との密着
性向上のために微粒子状無機酸化物が５重量％以上８０
重量％以下含まれることが好ましい。すなわち、５重量
％未満では、Ｂの被膜との十分に強固な密着強度が得ら
れにくく、８０重量％を越えると高屈折率の透明基体と
の密着不良、被膜自体にクラック発生、耐衝撃性低下な
どの問題が生じる傾向がある。かかる微粒子状無機酸化
物は、塗膜状態で透明性を損わないものであればとくに
限定されないが、作業性、透明性付与の点から特に好ま
しい例としてはコロイド状に分散したゾルが挙げられ
る。さらに具体的な例としては、シリカゾル、チタニア
ゾル、ジルコニアゾル、酸化アンチモンゾル、アルミナ
ゾルなどが挙げられる。

【００２９】さらには、これらのコーティング組成物中
には、塗布時におけるフローを向上させる目的で各種の
界面活性剤を使用することも可能であり、特にジメチル
ポリシロキサンとアルキレンオキシドとのブロックまた
はグラフト共重合体、さらにはフッ素系界面活性剤など
が有効である。

【００３０】さらに耐候性を向上させる目的で紫外線吸
収剤、また耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加する
ことも可能である。

【００３１】さらに、これらのコーティング組成物中に
は、被膜性能、透明性などを大幅に低下させない範囲で
微粒子状無機酸化物以外の無機化合物なども添加するこ
とができる。これらの添加物の併用によって基材との密
着性、耐薬品性、表面硬度、耐久性、染色性などの諸特
性を向上させることができる。前記の添加可能な無機材
料としては以下の一般式(VII) で表わされる金属アルコ
キシド、キレート化合物および／またはその加水分解物
が挙げられる。

【００３２】 Ｍ（ＯＲ）ｍ (VII) （ここでＲはアルキル基、アシル基、アルコキシアルキ
ル基であり、ｍは金属Ｍの電荷数と同じ値である。Ｍと
してはケイ素、チタン、ジルコン、アンチモン、タンタ
ル、ゲルマニウム、アルミニウムなどである。）本発明
におけるＢ被膜を形成せしめる場合には、硬化促進、低
温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤が使用可能
である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化剤、ある
いは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが適用される。

【００３３】これらの硬化剤の具体的な例としては、各
種の有機酸およびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合
物、各種金属錯化合物あるいは金属アルコキシド、さら
にはアルカリ金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各
種塩、さらには、過酸化物、アゾビスイソブチロニトリ
ルなどのラジカル重合開始剤などが挙げられる。これら
の硬化剤は２種以上混合して使用することも可能であ
る。これらの硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の
安定性、コーティング後の塗膜の着色防止などの点か
ら、特に下記に示すアルミニウムキレート化合物が有用
である。

【００３４】ここでいうアルミニウムキレート化合物と
は、一般式ＡｌＸ_n Ｙ_3-n で示されるアルミニウムキレ
ート化合物である。

【００３５】（但し式中、ＸはＯＬ（Ｌは低級アルキル
基）、Ｙは一般式Ｍ¹ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＭ² （Ｍ¹ ，Ｍ²
はいずれも低級アルキル基）で示される化合物に由来す
る配位子、および一般式Ｍ³ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＯＭ⁴ （Ｍ
³ ，Ｍ⁴ はいずれも低級アルキル基）で示される化合物
に由来する配位子から選ばれる少なくとも１つであり、
ｎは０，１または２である。）ＡｌＸ_n Ｙ_3-n で示され
るアルミニウムキレート化合物のうちで、組成物への溶
解性、安定性、硬化触媒としての効果などの観点からし
て、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウム
ビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネー
ト、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシド−モノエチルアセ
トアセテート、アルミニウム−ジ−ｉｓｏ−プロポキシ
ド−モノメチルアセトアセテートなどが好ましい。これ
らは２種以上を混合して使用することも可能である。

【００３６】塗布方法としては通常のコーティング作業
で用いられる方法が適用可能であるが、例えば浸漬塗
装、流し塗り法、スピンコート法などが好ましい。この
ようにして塗布されたコーティング組成物は加熱乾燥、
または硬化される。

【００３７】加熱方法としては熱風、赤外線などで行な
うことが可能である。また加熱温度は適用される基材お
よび使用されるコーティング組成物によって決定される
べきであるが、通常は室温から２５０℃、より好ましく
は３５〜２００℃が使用される。これより低温では硬化
または乾燥が不充分になりやすく、またこれより高温に
なると熱分解、亀裂発生などが起り、さらには黄変など
の問題を生じやすくなる。

【００３８】本発明における液状コーティング組成物の
塗布にあたっては、塗布されるべき表面は清浄化されて
いることが好ましく、清浄化に際しては界面活性剤によ
る汚れ除去、さらには有機溶剤による脱脂、フレオンに
よる蒸気洗浄などが適用される。また密着性、耐久性の
向上を目的として各種の前処理を施すことも有効な手段
である。特に好ましく用いられる方法としては、後述の
活性化ガス処理、濃度にもよるが酸、アルカリなどによ
る薬品処理である。

【００３９】本発明におけるオルガノポリシロキサンと
微粒子状無機酸化物とを主成分としてなる被膜の膜厚
は、特に限定されるものではない。しかし、密着強度の
保持、硬度などの点から０．１ミクロン〜２０ミクロン
の間で好ましく用いられる。特に好ましくは、０．４ミ
クロン〜１０ミクロンである。

【００４０】本発明はこれらのＡ被膜上に少なくとも一
層が紫外線吸収性を有する無機酸化物からなる被膜であ
る反射防止膜を付与するものである。この反射防止膜
は、単層膜であっても多層膜であっても良く、その少な
くとも１層として、紫外線吸収性無機酸化物を主成分と
してなる層を有していれば良い。また、形成に際して
は、前処理として活性化ガス処理、薬品処理などを施し
てもよい。かかる活性化ガス処理とは、常圧、もしくは
減圧下において、生成するイオン、電子あるいは、励起
された気体である。これらの活性化ガスを生成させる方
法としては、例えば、コロナ放電、減圧下での直流、低
周波、高周波あるいはマイクロ波による高電圧放電など
によるものである。特に減圧下で高周波放電によって得
られる低温プラズマによる処理が、再現性、生産性など
の観点から、好ましく使用される。ここで使用されるガ
スは、特に限定されるものではないが、具体例としては
酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化硫黄、ヘリウム、
ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気、アンモニア、一
酸化炭素、塩素、一酸化窒素、二酸化窒素などが挙げら
れる。これらは、一種のみならず二種以上混合しても使
用可能である。

【００４１】前記の中で好ましいガスとしては、酸素が
挙げられ、空気などの自然界に存在するものであっても
よい。特に好ましくは、純粋な酸素ガスが密着性向上に
有効である。さらには、同様の目的で前記使用に際して
は、処理基材の温度を上げることも可能である。中で
も、活性化ガスによる前処理は、特に有効である。かか
る活性化ガスを適用する場合には、処理条件としては、
オルガノポリシロキサンを形成せしめる組成物、無機酸
化物微粒子の種類、硬化条件、膜厚、染色の有無などに
よってそれぞれ最適化されるべきであり、実験的に定め
られるべきものである。

【００４２】本発明において、少なくとも一層が紫外線
吸収性を有する無機酸化物からなる反射防止膜を設ける
に際しては、液状コーティングあるいは真空蒸着などの
ドライコーティングがあるが、特に被膜の緻密性、生産
性などの観点から真空蒸着などのドライコーティングが
好ましく使用される。

【００４３】ドライコーティングに際しての無機酸化物
としては、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＯ、ＺｒＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、
ＴｉＯ、ＴｉＯ₂ 、Ｔｉ₂ Ｏ₃ 、Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｙｂ
₂ Ｏ₃、ＭｇＯ、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ₂ 、ＩｔＯ、Ｔａ
₂ Ｏ₅ 、ＣｅＯ₂ 、ＨｆＯ₂ などが挙げられる。これら
の物質は一種のみならず二種以上を混合して使用するこ
とも可能である。

【００４４】また、中でも、特に２００ｍμから３７５
ｍμにわたる紫外線領域に強い吸収を有するＺｒＯ₂ 、
ＴｉＯ、ＴｉＯ₂ 、Ｔｉ₂ Ｏ₃ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、ＣｅＯ₂
の無機酸化物から選ばれる少なくとも一種からなる反射
防止膜は、耐光性および耐候性向上に有効である。

【００４５】かかる反射防止膜の膜厚は１０ｍμ〜１０
００ｍμの間で好ましく用いられる。特に好ましくは、
２０ｍμから６００ｍμである。

【００４６】多層膜とする場合、多層膜における膜構成
の組合せあるいは、膜厚の設定などは、プラスチック基
体の屈折率、あるいはハードコート被膜の屈折率などに
よって最適組合せは決定される。また、要求される反射
防止特性、あるいはその他の物理特性、さらには耐久特
性などによっても、その最適な組合せは異なるが、反射
防止特性に関してはすでに多くの組合せが提案されてお
り（光学技術コンタクト Vol 9,No8.17〜23.(1971),'O
PTICS OF THIN FILMS' 159〜283.A.VASICEK(NORTH-HOLL
AND PUBLISHING COMPANY)AMSTERDAM(1960)) 、本発明に
おいてもこれらの組合せを用いることは何ら問題もな
い。

【００４７】また、各層間の接着性向上手段として高周
波放電処理、イオンビーム処理などが有効である。

【００４８】かかる層を形成させる方法は、真空蒸着
法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法などが挙げられる。

【００４９】本発明によって得られる紫外線吸収性反射
防止膜を有するプラスチック光学物品は、耐光性および
耐候性に優れ、かつ耐すり傷性、染色性が良好で、さら
に黄変、ヘーズによる透明性低下などがなく、外観に優
れ、また高屈折率基材であることからコバ厚の薄いレン
ズが得られることから、矯正レンズ、サングラス用レン
ズなどの光学用レンズに特に有用である。

【００５０】

【実施例】本発明の趣旨を明瞭にするために次の実施例
をあげるが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。

【００５１】実施例１ (1) コーティング組成物の調製 (a) γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加水
分解物の調製 回転子を備えた反応器にγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン６０．０ｇを仕込み、液温を１０℃に保
ち、マグネチックスターラーで攪拌しながら０．０１規
定塩酸水溶液１３．７ｇを徐々に滴下する。滴下終了後
冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランの加水分解物を得た。

【００５２】(b) コーティング組成物の調製 前記シラン加水分解物に、メタノール１０２．０ｇ、ベ
ンジルアルコール５９．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド１３１．７ｇ、フッ素系界面活性剤０．９ｇ、ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂（シェル化学社製 商品
名 エピコート８２７）４２．５ｇを添加混合し、さら
にコロイド状五酸化アンチモンゾル（日産化学社製 商
品名 アンチモンゾルＡ−２５５０ 平均粒子径 ６０
ｍμ）１７７．１ｇ、アルミニウムアセチルアセトネー
ト８．５ｇを添加し、充分攪拌した後、コーティング組
成物とした。

【００５３】(2) プラスチック基材の調製 １０００ccの三ツ口フラスコに下記式(VIII)に示した化
合物３０ｇ、トルエン３００ｇ、ＩＮ水酸化ナトリウム
５００ｇ、ナトリウムボロヒドライド１ｇ、ヒドロキノ
ンモノメチルエーテル１００mgを仕込み、０℃、窒素下
で攪拌しながらメタクリル酸クロライド３３ｇをゆっく
り滴下後、０℃で２時間攪拌した。その後、トルエン層
を洗浄、ろ過、溶媒の留去を行い、下記式(IX)の化合物
を得た。

【化６】 さらに、得られた化合物９９重量部にベンゾイルパーオ
キサイドを１重量部加えた溶媒をガラスモールドと粘着
テープよりなるモールド型に注入し、５０℃から１２０
℃まで１５時間かけて昇温し樹脂を得た。得られた樹脂
の屈折率は１．６４であった。

【００５４】(3) コーティングおよびキュア 前記(2) によって得られたプラスチック基材に前記(1)
で調製したコーティング組成物を引き上げ速度１０cm／
分の条件でプラスチック基材に浸漬塗布し、次いで９３
℃で１２分の予備硬化を行った。その後１１０℃で４時
間加熱してＡ被膜を有するプラスチック成形体を得た。

【００５５】(4) 前記(3) によって得られたハードコー
トプラスチック基体の上にＢ被膜であるところの無機酸
化物のＺｒＯ₂ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＳｉＯ₂ を真空
蒸着法でこの順序にそれぞれ光学膜厚を０．５λ／４、
０．５λ／４、λ／２、λ／４（λ＝５２１nm）に設定
して多層被覆させた。

【００５６】この塗膜の諸性能を測定した。その評価方
法を以下に示し、また、その結果を表１に示した。

【００５７】

【表１】 (5) 性能評価 (a) 外観 肉眼にて透明性が良くクラックのないものを○とした。

【００５８】(b) 全光線透過率と黄変度 デジタルＳＭカラーコンピューター（スガ試験機（株）
製）で全光線透過率（Ｔｔ）と黄変度（ΔＹＩ）を測定
した。

【００５９】(c) 密着性 塗膜面に１mmの基材に達するゴバン目を塗膜の上から鋼
ナイフで１００個入れて、セロハン粘着テープ（商品名
“セロテープ”ニチバン（株）製）を強くはりつけ９０
度方向に急速にはがし、塗膜剥離の無いものを○とし
た。

【００６０】(d) 染色性 分散染料（赤、青、黄の３色混合）に９３℃、１５分間
浸漬し、ＳＭカラーコンピューター（スガ試験機（株）
製）を用い２０％以上の減光率を示した場合を○とし
た。

【００６１】(e) 耐候性 屋外に１カ月暴露し、ΔＹＩおよび外観を調べ、ΔＹＩ
の変化量が４．０％以下を○とした。

【００６２】(f) 耐光性 紫外線ロングライフフェードメーターＦＡ−３型（スガ
試験機（株）製）を用いて照射時間１００時間後のΔＹ
Ｉと外観を調べ、ΔＹＩの変化量が３．０％以下を○と
した。

【００６３】(g) スチールウール硬度 ＃００００のスチールウールで塗面をこすり、傷つき具
合を判定する。判定基準は、 Ａ…強く摩擦しても傷がつかない。

【００６４】Ｂ…かなり強く摩擦すると少し傷がつく。

【００６５】Ｃ…弱い摩擦でも傷がつく。

【００６６】ただし、こすり回数は５往復で行なった。

【００６７】実施例２ 実施例１において、Ｂ成分のうち第２層目のＴｉＯ₂ を
イオンビームアシスト蒸着法で被膜した以外は、実施例
１と同様に行い、結果を表１に示した。

【００６８】比較例１，２ 実施例１において、透明基体のみ（比較例１）、Ａ被膜
のみ（比較例２）とし、結果を表１に示した。

【００６９】比較例３ 実施例１において、Ｂ成分をハードコートプラスチック
基体の上に無機酸化物のＳｉＯ₂ 、Ｙ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂
を真空蒸着法でこの順序にそれぞれ光学的膜厚をλ／４
（λ＝５２１nm）に設定して多層被覆させた以外は、実
施例１と同様に行い、結果を表１に示した。

【００７０】

【発明の効果】本発明によって得られた紫外線吸収性反
射防止膜を有するプラスチック光学物品は、以下に示す
効果がある。

【００７１】(1) 紫外線吸収性反射防止膜を有すること
から、耐光性および耐候性に優れる。 (2) 高い反射防止効果がある。

【００７２】(3) 表面硬度が高く、染色性に優れる。

【００７３】(4) コバ厚の薄い度付きレンズが得られ
る。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】硫黄を含有する樹脂を主成分としてなる透
   明基体の表面に、下記ＡおよびＢ被膜がこの順序に積層
   されてなる紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチッ
   ク光学物品。 Ａ．オルガノポリシロキサンと微粒子状無機酸化物とを
   主成分としてなる被膜。 Ｂ．少なくとも一層が紫外線吸収性を有する無機酸化物
   からなる被膜である反射防止膜。
2. 【請求項２】オルガノポリシロキサンが、下記一般式
   (I) で示される有機ケイ素化合物および／またはその加
   水分解物である請求項１記載の紫外線吸収性反射防止膜
   を有するプラスチック光学物品。 Ｒ_a Ｒ¹ _b ＳｉＸ_4-a-b (I) （ここで、Ｒは炭素数１〜１０の有機基、Ｒ¹ は炭素数
   １〜６の炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基、Ｘは
   加水分解性基であり、ａおよびｂは０または１であ
   る。）
3. 【請求項３】微粒子状無機酸化物が、Ａ被膜中、５重量
   ％以上、８０重量％以下含まれる請求項１記載の紫外線
   吸収性反射防止膜を有するプラスチック光学物品。
4. 【請求項４】紫外線吸収性を有する無機酸化物が、真空
   蒸着膜である請求項１記載の紫外線吸収性反射防止膜を
   有するプラスチック光学物品。
5. 【請求項５】紫外線吸収性を有する無機酸化物が、波長
   ２００〜３７５ｍμの領域に強い吸収を有する化合物で
   ある請求項１記載の紫外線吸収性反射防止膜を有するプ
   ラスチック光学物品。
6. 【請求項６】紫外線吸収性を有する無機酸化物が、酸化
   ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタンおよび五酸化
   タンタルから選ばれる少なくとも１種である請求項１記
   載の紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチック光学
   物品。
7. 【請求項７】硫黄を含有する樹脂が、分子内にチオール
   （メタ）アクリレート基を１つ以上有する単量体を１０
   重量％以上含む単量体組成物を重合して得られる樹脂で
   ある請求項１記載の紫外線吸収性反射防止膜を有するプ
   ラスチック光学物品。
8. 【請求項８】硫黄を含有する樹脂の屈折率が１．５４〜
   １．７０である請求項１記載の紫外線吸収性反射防止膜
   を有するプラスチック光学物品。