[go: up one dir, main page]

JPH0577067B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0577067B2
JPH0577067B2 JP61214842A JP21484286A JPH0577067B2 JP H0577067 B2 JPH0577067 B2 JP H0577067B2 JP 61214842 A JP61214842 A JP 61214842A JP 21484286 A JP21484286 A JP 21484286A JP H0577067 B2 JPH0577067 B2 JP H0577067B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
block copolymer
photosensitive
block
polymer
double bond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61214842A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6370241A (en
Inventor
Hiroto Kidokoro
Hideyoshi Sakurai
Mitsuhiro Tamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP21484286A priority Critical patent/JPS6370241A/en
Priority to GB8719421A priority patent/GB2195349B/en
Priority to DE3727537A priority patent/DE3727537C2/en
Publication of JPS6370241A publication Critical patent/JPS6370241A/en
Priority to US07/192,641 priority patent/US4980269A/en
Priority to US08/064,482 priority patent/US5281510A/en
Publication of JPH0577067B2 publication Critical patent/JPH0577067B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F279/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
    • C08F279/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00 on to polymers of conjugated dienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F287/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to block polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/04Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
    • C08F290/048Polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は感光性エラストマー組成物に関するも
のである。 (従来の技術) 従来、フレキソ印刷に用いられるゴム版は、ゴ
ム板に直接彫刻する方法と、金属板の腐食により
原版を製造し、プラスチツク等による母型を製造
し、この母型版にゴムを流し込み加硫する事で製
造されてきた。しかし、これらの方法は複雑で熟
練を要したり、多くの工程からなるため経費や時
間が多くかかる上に、得られたゴム版自体の精度
が低いため使用に際しては裏削りなどの後加工を
必要とするなどの欠点を有していた。 この欠点を解決するために、近年になつて感光
性エラストマー組成物を用いて直接的にフレキソ
印刷版を製造する方法が提案されるようになつ
た。例えば特公昭51−43375号公報には、エラス
トマー性ポリマーとして、25℃以上のガラス転移
温度をもつ少なくとも2個の熱可塑性非エラスト
マー状重合体ブロツク及びそれらの非エラストマ
ー状重合体ブロツク間を、10℃以下のガラス転移
温度をもつエラストマー状ブロツクで結合した構
造の、溶媒可溶性熱可塑性エラストマー状ブロツ
ク共重合体を用いると効果があることが示されて
いる。しかしこのようなブロツク共重合体を使用
する感光性組成物で成形し、光照射して得られた
フレキソ印刷版は従来の加硫ゴム版に比べて版強
度が弱く、また印刷版製造における現像(溶剤に
よる洗い出し)工程で版が溶剤により膨潤し、像
の再現性が低下するという欠点があり、改善が要
望されている。 (発明が解決しようとする問題点) 従つて、本発明の目的は上記の欠点のないフレ
キソ印刷版の製造に特に適した感光性エラストマ
ー組成物の提供にある。 (問題点を解決するための手段) 本発明のかかる目的は、(1)分子鎖の少なくとも
1端に重合可能なエチレン性二重結合を有する末
端基が結合した線状のエラストマー状A−B型末
端変性ブロツク共重合体(Aはモノビニル芳香族
化合物の重合体ブロツクを、Bは共役ジエン系単
量体の重合体ブロツクを表わす)、(2)少なくとも
1個のエチレン性二重結合を有する付加重合性化
合物及び光重合開始剤とから成り、前記ブロツク
共重合体(1)が、アニオン重合方法により得られる
A−B型リビングブロツク共重合体と、ハロゲン
を含む単量体とを反応させることにより得られた
ものであることを特徴とする感光性エラストマー
組成物を使用することにより達成される。 本発明で(1)成分として使用されるブロツク共重
合体は、線状のもので、該共重合体鎖の少なくと
も一端にラジカル重合可能なエチレン性二重結合
を有する末端基が結合したエラストマー状のA−
B型末端変性ブロツク共重合体である。 ブロツクAはスチレン、α−メチルスチレンな
どのモノビニル芳香族化合物の重合体ブロツクで
あり、該化合物の1種以上の重合体あるいは該化
合物及びこれと共重合可能な単量体との共重合体
が含まれるガラス転移温度が25℃以上の熱可塑性
非エラストマー状重合体のブロツクである。特に
好ましいのはポリスチレンのブロツクである。 ブロツクBは1,3−ブタジエン、イソプレ
ン、1,3−ペンタジエン、クロロプレンなどの
共役ジエン系単量体の重合体ブロツクであり、該
単量体の1種以上の重合体あるいは該単量体及び
これと共重合可能な単量体との共重合体が含まれ
るガラス転移温度が10℃以下のエラストマー状重
合体のブロツクである。特に好ましいのはポリブ
タジエンブロツクあるいはポリイソプレンブロツ
クである。 本発明で使用されるA−B型末端変性ブロツク
共重合体は、(A−B)を一単位として該単位が
分子鎖中に1〜10個程度、好ましくは1〜3個繰
返して存在する、線状のものである。ブロツクA
とブロツクBの割合は、末端変性ブロツク共重合
体がエラストマーとなる範囲であれば特に制限は
ないが、全ブロツク中のブロツクBの好ましい割
合は60〜90重量%である。ブロツクAのGPCに
よる重量平均分子量は通常2000〜100000の範囲で
あり、ブロツクBの重量平均分子量は通常10000
〜1000000の範囲である。 本発明で使用される末端変性ブロツク共重合体
は、上記の構造と共にブロツク共重合体鎖の少な
くとも一端にラジカル重合可能なエチレン性二重
結合を有する末端基が結合していることが特徴で
ある。 本発明で使用される末端変性ブロツク共重合体
は、通常のアルカリ金属基材を開始剤に用いるア
ニオン重合方法により得ることができる。即ち、
逐次重合によりポリスチレン−ポリイソプレン等
のA−B型リビングブロツク共重合体を生成せし
め、エチレンオキシドまたはプロピレンオキシド
などを添加して該共重合体ブロツクの活性末端を
安定なアニオンとした後、メタクリル酸ハライド
等のハロゲンを含む単量体と反応させることによ
り、ラジカル重合可能なエチレン性二重結合を有
する末端基がブロツク重合体鎖の末端に結合し
た、末端変性ブロツク共重合体が製造される。そ
の例としては、米国特許第3786116号明細書開示
の方法が挙げられる。 末端に安定なアニオンを有するブロツク共重合
体と反応して、ラジカル重合可能なエチレン性二
重結合を有する末端基を形成する化合物として
は、塩素、臭素、フツ素などのハロゲンを含む単
量体が使用される。 このような単量体としては、1−クロロエチル
ビニルエーテル、3−クロロプロピルビニルエー
テルなどのハロアルキルビニルエーテル類、クロ
ロ酢酸ビニル、3−クロロプロピオン酸ビニル、
2−ブロモウンデカン酸ビニルなどのハロゲン含
有ビニルエーテル類、2−クロロメチル−1,3
−ブタジエン、2−クロロメチル−3−メチル−
1,3−ブタジエンなどのジエンハライド、アク
リル酸クロリド、メタクリル酸クロリドなどの
(メタ)アクリル酸ハライド、ビニルベンジルク
ロリドブロムノルボルネン、ブロムメチルノルボ
ルネンなどが挙げられる。これらの化合物は、ブ
ロツク共重合体製造時に1官能性の重合開始剤を
使用すれば該共重合体鎖の一端に、また2官能性
の重合開始剤を使用すれば両端に結合する。 本発明で使用される末端変性ブロツク共重合体
は上記の方法により導入されたラジカル重合可能
な末端基を有しているので、該共重合体と付加重
合性化合物及び光重合開始剤を混合して感光性エ
ラストマー組成物及びフレキソ版を製造し、露光
することにより、末端変性ブロツク共重合体分子
鎖間に架橋が生じる。その結果、露光後のフレキ
ソ版の強度が改善されると共にレリーフ像の再現
性も大幅に改善される。 該末端変性ブロツク共重合体の含有量は通常30
重量%以上であり、ゴム弾性や成形のし易さを考
慮すると60〜95重量%の範囲で使用されるのが好
ましい。必要に応じ本発明の主旨が損われない範
囲で他のエラストマー状重合体を併用しても構わ
ない。 本発明の感光性エラストマー組成物には、上記
の末端変性ブロツク共重合体以外は、従来から感
光性組成物製造用に使用されている少なくとも1
個のエチレン性二重結合を有する付加重合性化合
物及び光重合開始剤が使用でき、これらは特に限
定されない。 少なくとも1個のエチレン性二重結合を有する
付加重合性化合物としては、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、1,4ブタ
ンジオール、1,6ヘキサンジオールなどのジア
クリレート及びジメタアクリレート、あるいはト
リメチロールプロパンのトリアクリレート及びト
リメタクリレート、ペンタエリトリツトテトラア
クリレート及びテトラメタクリレートなどや、
NN′−ヘキサメチレンビスアクリルアミド及び
メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド及
びメタクリルアミド、スチレン、ビニルトルエ
ン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ト
リアリルシアヌレートなどが挙げられ、1種又は
2種以上で使用される。 該化合物の使用量は通常感光性組成物中(以下
も同様)5〜30重量%である。 光重合開始剤としては、ベンゾフエノン、ベン
ゾイン、ベンゾインのアルキルエーテル例えばベ
ンゾインのメチル、エチル、イソプロピルおよび
イソブチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α
−メチルベンゾインメチルエーテル、α−メトキ
シベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフエニ
ルエーテル、α−t−ブチルベンゾイン、アント
ラキノン、ベンズアントラキノン、2−エチルア
ントラキノン、2−クロルアントラキノン、2−
2′ジメトキジフエニルアセトフエノン、2,2−
ジエトキシフエニルアセトフエノン、2,2−ジ
エトキシアセトフエノン、ベンジル、ビバロイン
などが例として挙げられる。これらの光重合開始
剤は1種又は2種以上で使用される。該開始剤の
使用量は通常0.01〜5重量%である。 本発明においては上記以外の成分も必要に応じ
感光性組成物中に含有させることができる。この
ような成分としては可塑剤、熱重合抑制剤、老化
防止剤などが挙げられる。 可塑剤は感光性エラストマー組成物の製造、成
型を助成し、また、感光性エラストマー組成物の
未露光部分の除去を促進し、さらに、露光硬化部
分の硬さを調整する。これらの目標とする特性に
応じて可塑剤は2〜40重量%の範囲で添加され
る。有用物質としては、ナフテン油やパラフイン
油のような炭化水素油、低分子量ポリスチレン
(分子量3000以下)、α−メチルスチレン−ビニル
トルエン共重合体、石油樹脂、ポリアクリレー
ト、ポリエチレン、ポリエステル樹脂、ポリテル
ペン樹脂、液状1,2−及び1,4−ポリブタジ
エン、およびこれらの水酸化物、カルボキシル化
物、液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体、およびこれらのカルボキシル化物、液状スチ
レンブタジエン共重合体などが例示できる。 熱重合抑制剤としては例えば、2,6−ジ−t
−ブチル−4−メチルフエノール、メトキシフエ
ノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、t−ブチルカテコール、ピロガロール、ナフ
チルアミン、β−ナフトール、t−ブチルハイド
ロキシアニソール、ハイドロキノンなどを挙げる
ことができる。使用量は通常0.001〜2重量%で
ある。 本発明の感光性エラストマー組成物は多くの方
法で調製することができる。例えば、通常のゴム
の混練機械であるニーダーあるいはロールミル等
を用いて混合混練し、押出し機、プレス、カレン
ダーなどの成形機を用いて所望の厚さのシート
(以下では光感受性層と称することがある)とし
て調製することができる。また、所望ならば本発
明の感光性エラストマー組成物を溶媒、例えば、
クロロホルム、四塩化炭素、1,1,1−トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロル
エチレン、メチルエチルケトン、ジエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ベンゼン、トルエ
ン、テトラヒドロフラン、などの適当な溶媒に溶
解させた混合物を枠型の中に注入して溶剤を蒸発
させてシートを調製したり、さらに、このシート
を加熱プレス、押出しまたはカレンダー処理すれ
ば厚み精度のよいシートが得られる。 本発明のシート状に成形された感光性エラスト
マー組成物には貯蔵または操作中に光感受性層が
汚染または損傷することを防ぐために光感受性層
の表面にポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
ステル、ポリスチレンなどの剥離可能な薄い透明
フイルム層を設けることができる。 また、本発明の感光性エラストマー組成物は露
光時に原図を光感受性層の上に重ねて活性光線を
照射するが、原図との接触性をよくするため及び
その原図の再利用を可能にするために、光感受性
層の表面に溶剤可溶性の薄い可撓性の層を設けて
もよい。この場合光感受性層の露光が終了してか
ら未露光部分を溶剤で溶出する際にこの層も同時
に除去されることが望ましい。 本発明の感光性エラストマー組成物を用いるこ
とにより、露光後の強度が改善されたフレキソ版
の製造が可能となるばかりでなく解像度が高いレ
リーフ画像が得られる。 本発明の感光性エラストマー組成物は感光性が
高く、フレキソ印刷用印刷版として優れた特性を
有しているが、この他にフオトレジスト用やスク
リーン印刷のスクリーン用さらに塗料、コーテイ
ング材、接着材、フイルム、シート性物、含浸
物、その他成形品等に利用することができる。 (実施例) 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明する。なお、実施例、比較例中の部数及び%
はとくに断りのない限り重量基準である。 実施例 1 (A) 末端変性ブロツク共重合体の合成 5の耐圧反応器を用い、n−ブタン/シクロ
ヘキサン=30/70の割合の混合溶剤1.875Kg、ジ
ブチルエーテル20ミリモル、開始剤n−ブチルリ
チウム10ミリモルを存在させ、30℃で1時間、先
ずスチレン112.5gを重合し、続いてイソプレン
687.5gを添加して反応温度が50℃から60℃の間
となるように還流冷却により温度制御しながら1
時間半重合した。続いてイソプレンブロツクの活
性末端を安定なアニオンとするためエチレンオキ
シド11ミリモルを加え、さらにアクリル酸クロリ
ド12ミリモルを加え活性ポリマー末端に反応させ
た。反応混合物に反応停止剤としてメタノール5
ml、酸化安定剤として4−メチル−2,6−ジ−
t−ブチルフエノールを4g加えた後この混合溶
液を少量ずつ、85〜95℃に加熱された水中に滴下
し溶媒を揮発させた。得られたポリマーを細片と
なし、85℃で熱風乾燥した。かくして、ラジカル
重合可能なエチレン性二重結合を有する末端基が
結合した、末端変性ブロツク共重合体が得られ
た。 (B) 感光性組成物の調製 上記により得られた末端変性ブロツク共重合体
100gにベンゾインメチルエーテル0.6g、1,4
−ブタンジオールジメタクリレート5g、2,6
−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノール0.01g
を加えて充分に混合し感光性組成物を調製した。 (C) 硬化物の物性 1 上記感光性組成物を300W高圧水銀灯を用い
て5分間露光処理して硬化物を得た。得られた
硬化物は、硬度40(JIS K6301に従つて測定)、
反ぱつ弾性49%(ダンロツプ トリプソメータ
ーにより25℃で測定)であつた。さらに室温
(25℃)における強度、伸びおよび硬さ変化
(加圧直後と10秒後の差、ΔHsと表示する)を
JIS K6301に従つて求め、第1表に示す結果を
得た。
(Industrial Application Field) The present invention relates to a photosensitive elastomer composition. (Prior art) Conventionally, rubber plates used for flexographic printing have been produced by engraving directly on the rubber plate, or by corroding a metal plate to produce an original plate, producing a matrix made of plastic, etc., and applying rubber to this matrix plate. It has been manufactured by pouring and vulcanizing. However, these methods are complex and require skill, involve many steps, and require a lot of money and time. Furthermore, the precision of the obtained rubber plate itself is low, so post-processing such as back-shaving is required before use. It had drawbacks such as the need for In order to solve this drawback, in recent years, methods have been proposed for directly producing flexographic printing plates using photosensitive elastomer compositions. For example, Japanese Patent Publication No. 51-43375 discloses that the elastomeric polymer contains at least two thermoplastic non-elastomeric polymer blocks having a glass transition temperature of 25°C or higher and a 10% bond between the non-elastomeric polymer blocks. It has been shown to be effective to use solvent soluble thermoplastic elastomeric block copolymers with structures bonded by elastomeric blocks having glass transition temperatures below .degree. However, a flexographic printing plate obtained by molding a photosensitive composition using such a block copolymer and irradiating it with light has weaker plate strength than a conventional vulcanized rubber plate, and also requires development during printing plate production. There is a drawback that the plate is swollen by the solvent during the (washing out with solvent) process, resulting in a decrease in image reproducibility, and an improvement is desired. Problems to be Solved by the Invention It is therefore an object of the present invention to provide a photosensitive elastomer composition which is particularly suitable for the production of flexographic printing plates and which does not have the above-mentioned drawbacks. (Means for Solving the Problems) The object of the present invention is to (1) form a linear elastomer A-B in which a terminal group having a polymerizable ethylenic double bond is bonded to at least one end of the molecular chain; type terminal-modified block copolymer (A represents a polymer block of a monovinyl aromatic compound, B represents a polymer block of a conjugated diene monomer), (2) having at least one ethylenic double bond The block copolymer (1) is composed of an addition polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and the A-B type living block copolymer obtained by an anionic polymerization method is reacted with a halogen-containing monomer. This is achieved by using a photosensitive elastomer composition characterized in that it is obtained by. The block copolymer used as component (1) in the present invention is a linear one, and is an elastomer in which a terminal group having a radically polymerizable ethylenic double bond is bonded to at least one end of the copolymer chain. A-
It is a type B terminal-modified block copolymer. Block A is a polymer block of a monovinyl aromatic compound such as styrene or α-methylstyrene, and contains one or more polymers of the compound or a copolymer of the compound and a monomer copolymerizable therewith. It is a block of thermoplastic non-elastomeric polymer containing a glass transition temperature of 25°C or higher. Particularly preferred are polystyrene blocks. Block B is a polymer block of conjugated diene monomers such as 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, and chloroprene, and is a polymer block of one or more of the monomers or the monomers and This is an elastomeric polymer block containing a copolymer of this and a copolymerizable monomer with a glass transition temperature of 10°C or less. Particularly preferred are polybutadiene blocks or polyisoprene blocks. The A-B type terminal-modified block copolymer used in the present invention has (A-B) as one unit, and about 1 to 10, preferably 1 to 3 units of this unit are repeatedly present in the molecular chain. , which is linear. Block A
The proportion of block B and block B is not particularly limited as long as the terminally modified block copolymer becomes an elastomer, but the preferable proportion of block B in all blocks is 60 to 90% by weight. The weight average molecular weight of block A by GPC is usually in the range of 2,000 to 100,000, and the weight average molecular weight of block B is usually 10,000.
~1000000 range. The terminal-modified block copolymer used in the present invention is characterized by the above structure and a terminal group having a radically polymerizable ethylenic double bond bonded to at least one end of the block copolymer chain. . The terminally modified block copolymer used in the present invention can be obtained by an anionic polymerization method using a common alkali metal base material as an initiator. That is,
An A-B type living block copolymer such as polystyrene-polyisoprene is produced by sequential polymerization, and after adding ethylene oxide or propylene oxide to make the active end of the copolymer block a stable anion, methacrylic acid halide is produced. A terminally modified block copolymer in which a radically polymerizable ethylenic double bond-containing terminal group is bonded to the terminal end of the block polymer chain is produced by reacting with a halogen-containing monomer such as the following. An example is the method disclosed in US Pat. No. 3,786,116. Compounds that react with a block copolymer having a stable anion at the end to form a radically polymerizable end group having an ethylenic double bond include monomers containing halogens such as chlorine, bromine, and fluorine. is used. Such monomers include haloalkyl vinyl ethers such as 1-chloroethyl vinyl ether and 3-chloropropyl vinyl ether, vinyl chloroacetate, vinyl 3-chloropropionate,
Halogen-containing vinyl ethers such as vinyl 2-bromoundecanoate, 2-chloromethyl-1,3
-butadiene, 2-chloromethyl-3-methyl-
Examples include diene halides such as 1,3-butadiene, (meth)acrylic halides such as acrylic acid chloride and methacrylic acid chloride, vinylbenzyl chloride bromennorbornene, and bromomethylnorbornene. These compounds are bonded to one end of the copolymer chain if a monofunctional polymerization initiator is used during the production of the block copolymer, and to both ends of the copolymer chain if a difunctional polymerization initiator is used. Since the terminal-modified block copolymer used in the present invention has a radically polymerizable terminal group introduced by the above method, the copolymer is mixed with an addition polymerizable compound and a photopolymerization initiator. By producing a photosensitive elastomer composition and a flexographic plate and exposing them to light, crosslinking occurs between the molecular chains of the terminally modified block copolymer. As a result, the strength of the flexographic plate after exposure is improved and the reproducibility of the relief image is also significantly improved. The content of the terminal-modified block copolymer is usually 30
% by weight or more, and in consideration of rubber elasticity and ease of molding, it is preferably used in a range of 60 to 95% by weight. If necessary, other elastomeric polymers may be used in combination as long as the gist of the present invention is not impaired. In the photosensitive elastomer composition of the present invention, in addition to the above-mentioned terminal-modified block copolymer, at least one of
An addition polymerizable compound having ethylenic double bonds and a photopolymerization initiator can be used, and these are not particularly limited. Examples of addition polymerizable compounds having at least one ethylenic double bond include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, 1,4 butanediol, 1,6 hexanediol, and the like. Acrylates and dimethacrylates, or trimethylolpropane triacrylates and trimethacrylates, pentaerythritate tetraacrylates and tetramethacrylates, etc.
Examples include NN'-hexamethylene bisacrylamide and methacrylamide, diacetone acrylamide and methacrylamide, styrene, vinyltoluene, divinylbenzene, diallyl phthalate, and triallyl cyanurate, which may be used singly or in combination of two or more. The amount of the compound used is usually 5 to 30% by weight in the photosensitive composition (the same applies hereinafter). As photoinitiators, benzophenone, benzoin, alkyl ethers of benzoin, such as methyl, ethyl, isopropyl and isobutyl ethers of benzoin, α-methylbenzoin, α
-Methylbenzoin methyl ether, α-methoxybenzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, α-t-butylbenzoin, anthraquinone, benzanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-
2'dimethoxydiphenylacetophenone, 2,2-
Examples include diethoxyphenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, benzyl, vivaloin, and the like. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The amount of the initiator used is usually 0.01 to 5% by weight. In the present invention, components other than those mentioned above may also be included in the photosensitive composition as required. Examples of such components include plasticizers, thermal polymerization inhibitors, and antiaging agents. The plasticizer assists in the production and molding of the photosensitive elastomer composition, promotes the removal of unexposed areas of the photosensitive elastomer composition, and further adjusts the hardness of exposed and cured areas. Depending on these targeted properties, plasticizers are added in amounts ranging from 2 to 40% by weight. Useful substances include hydrocarbon oils such as naphthenic oil and paraffin oil, low molecular weight polystyrene (molecular weight below 3000), α-methylstyrene-vinyltoluene copolymer, petroleum resin, polyacrylate, polyethylene, polyester resin, polyterpene resin. , liquid 1,2- and 1,4-polybutadiene, hydroxides and carboxylated products thereof, liquid acrylonitrile-butadiene copolymers, carboxylated products thereof, and liquid styrene-butadiene copolymers. Examples of thermal polymerization inhibitors include 2,6-di-t
-butyl-4-methylphenol, methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, t-butylcatechol, pyrogallol, naphthylamine, β-naphthol, t-butylhydroxyanisole, hydroquinone, etc. can. The amount used is usually 0.001 to 2% by weight. The photosensitive elastomer compositions of this invention can be prepared in many ways. For example, the mixture is mixed and kneaded using a kneader or roll mill, which are ordinary rubber kneading machines, and then formed into a sheet of desired thickness (hereinafter referred to as a photosensitive layer) using a molding machine such as an extruder, press, or calendar. It can be prepared as: If desired, the photosensitive elastomer compositions of the present invention can also be treated with a solvent, e.g.
A frame is prepared by dissolving a mixture in an appropriate solvent such as chloroform, carbon tetrachloride, 1,1,1-trichloroethane, trichlorethylene, tetrachlorethylene, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzene, toluene, tetrahydrofuran, etc. A sheet with good thickness accuracy can be obtained by injecting the resin into a liquid and evaporating the solvent to prepare a sheet, or by subjecting this sheet to hot pressing, extrusion, or calendering. The sheet-formed photosensitive elastomer composition of the present invention has a peelable material such as polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, etc. on the surface of the photosensitive layer to prevent the photosensitive layer from being contaminated or damaged during storage or handling. A thin transparent film layer can be provided. In addition, when the photosensitive elastomer composition of the present invention is exposed to light, the original image is superimposed on the photosensitive layer and irradiated with actinic rays. Additionally, a thin, solvent-soluble, flexible layer may be provided on the surface of the photosensitive layer. In this case, it is desirable that this layer be removed at the same time when the unexposed portions are eluted with a solvent after exposure of the photosensitive layer is completed. By using the photosensitive elastomer composition of the present invention, it is not only possible to produce a flexographic plate with improved strength after exposure, but also a relief image with high resolution can be obtained. The photosensitive elastomer composition of the present invention has high photosensitivity and has excellent properties as a printing plate for flexographic printing, but it can also be used for photoresists, screen printing screens, paints, coating materials, and adhesives. , films, sheet materials, impregnated materials, and other molded products. (Example) The present invention will be described in more detail with reference to Examples below. In addition, the number of copies and percentages in Examples and Comparative Examples
Unless otherwise specified, data are based on weight. Example 1 (A) Synthesis of terminal-modified block copolymer Using the pressure-resistant reactor No. 5, 1.875 kg of a mixed solvent of n-butane/cyclohexane = 30/70, 20 mmol of dibutyl ether, and n-butyl lithium initiator. First, 112.5 g of styrene was polymerized in the presence of 10 mmol at 30°C for 1 hour, followed by isoprene.
687.5g was added and the temperature was controlled by reflux cooling so that the reaction temperature was between 50℃ and 60℃.
Polymerized for half an hour. Subsequently, 11 mmol of ethylene oxide was added to make the active end of the isoprene block a stable anion, and 12 mmol of acrylic acid chloride was added to react with the active polymer end. Methanol 5 was added to the reaction mixture as a reaction terminator.
ml, 4-methyl-2,6-di- as oxidative stabilizer
After adding 4 g of t-butylphenol, this mixed solution was dropped little by little into water heated to 85 to 95°C to evaporate the solvent. The obtained polymer was cut into strips and dried with hot air at 85°C. In this way, a terminally modified block copolymer was obtained in which a terminal group having a radically polymerizable ethylenic double bond was bonded. (B) Preparation of photosensitive composition Terminal-modified block copolymer obtained as above
0.6g of benzoin methyl ether to 100g, 1,4
-butanediol dimethacrylate 5g, 2,6
-di-t-butyl-4-methylphenol 0.01g
was added and thoroughly mixed to prepare a photosensitive composition. (C) Physical properties 1 of cured product The above photosensitive composition was exposed to light for 5 minutes using a 300W high-pressure mercury lamp to obtain a cured product. The obtained cured product has a hardness of 40 (measured according to JIS K6301),
The rebound elasticity was 49% (measured at 25°C with a Dunlop trypsometer). Furthermore, changes in strength, elongation, and hardness at room temperature (25°C) (the difference between immediately after and 10 seconds after applying pressure, expressed as ΔHs) were measured.
It was determined according to JIS K6301, and the results shown in Table 1 were obtained.

【表】 用した。
2 上記の感光性組成物を0.1mm厚ポリエステル
フイルムにはさみ、真空プレス機により3mm厚
のシートに成形した。フイルムをはがし、ネガ
フイルムをあてて、該フイルム面に前記紫外線
ランプで3〜6分間照射した。露光後感光性原
版をトリクロルエタン溶液で洗浄現像し、レリ
ーフ像(レリーフ高さ1.4mm)を得た。得られ
た版の解像度は、得られたレリーフ像を目視及
び写真撮影により、凸型及び凹型の罫線(細
線)と網点濃度3%及び95%の網点の再現限界
を評価した。結果を第2表に示す。
[Table] Used.
2 The above photosensitive composition was sandwiched between 0.1 mm thick polyester films and formed into a 3 mm thick sheet using a vacuum press machine. The film was peeled off, a negative film was applied, and the film surface was irradiated with the ultraviolet lamp for 3 to 6 minutes. After exposure, the photosensitive original plate was washed and developed with a trichloroethane solution to obtain a relief image (relief height 1.4 mm). The resolution of the obtained plate was determined by visually observing and photographing the obtained relief image, and evaluating the reproducibility limits of convex and concave ruled lines (thin lines) and halftone dots with halftone density of 3% and 95%. The results are shown in Table 2.

【表】 本発明組成物を用いて得られたレリーフ像は網
点の再現限界は150線/インチ、罫線については
100μの細線までと比較例の市販品よりも格段に
優れた再現性を示すと共にレリーフ像はシヤープ
で精度が高いものであつた。又、比較例の市販品
はレリーフ高が本発明品よりも高く、現像時の溶
剤による膨潤が大きく、凸罫線はツイスト(波状
のゆがみ)を生じた。 本発明の組成物で得たフレキソ版を用いて段ボ
ール印刷を45℃の温度で連続して行つたが、耐刷
性は50万部以上であり、「文字の太り」、「版のへ
たり」は認められなかつた。 実施例 2 実施例1と同様の方法で、第3表記載の末端基
が結合した末端変性ブロツクと共重合体を調製
し、実施例1と同じ処方で感光性組成物を調製
し、それぞれの硬化物の強度特性及びフレキソ版
の解像度(再現限界)を評価した。結果を第3表
に示す。
[Table] The relief image obtained using the composition of the present invention has a halftone dot reproduction limit of 150 lines/inch, and a ruled line
The reproducibility of fine lines up to 100 μm was much better than that of the commercially available comparative example, and the relief images were sharp and highly accurate. In addition, the relief height of the commercial product of the comparative example was higher than that of the product of the present invention, the swelling due to the solvent during development was large, and the convex ruled lines were twisted (wavy distortion). Corrugated board printing was carried out continuously at a temperature of 45°C using the flexographic plate obtained with the composition of the present invention, and the printing durability was more than 500,000 copies. ' was not accepted. Example 2 In the same manner as in Example 1, terminal-modified blocks and copolymers to which the terminal groups listed in Table 3 were bonded were prepared, and photosensitive compositions were prepared in the same formulation as in Example 1. The strength characteristics of the cured product and the resolution (reproducibility limit) of the flexo plate were evaluated. The results are shown in Table 3.

【表】 実施例 3 第4表記載の組成の、ラジカル重合可能なエチ
レン性二重結合を有する末端基(該末端基源とし
てアクリル酸クロリドを使用)が結合したA−B
型末端変性ブロツク共重合体を、実施例1と同様
の方法で調製した。これらのそれぞれを用い、実
施例1と同じ処方、方法で硬化物及びフレキソ版
を得た。強度特性及び解像度を評価し、第4表に
示す結果を得た。
[Table] Example 3 A-B bonded with an end group having a radically polymerizable ethylenic double bond (acrylic acid chloride was used as the end group source) having the composition shown in Table 4
A type-end modified block copolymer was prepared in the same manner as in Example 1. Using each of these, a cured product and a flexo plate were obtained using the same recipe and method as in Example 1. The strength characteristics and resolution were evaluated, and the results shown in Table 4 were obtained.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 (1)分子鎖の少なくとも1端に重合可能なエチ
レン性二重結合を有する末端基が結合した線状の
エラストマー状A−B型末端変性ブロツク共重合
体(Aはモノビニル芳香族の重合体ブロツクを、
Bは共役ジエン系単量体の重合体ブロツクを表
す)、(2)少なくとも1個のエチレン性二重結合を
有する付加重合性化合物及び(3)光重合開始剤とか
ら成り、前記ブロツク共重合体(1)が、アニオン重
合方法により得られるA−B型リビングブロツク
共重合体と、ハロゲンを含む単量体とを反応させ
ることにより得られたものであることを特徴とす
る感光性エラストマー組成物。
1 (1) Linear elastomeric A-B type terminal modified block copolymer in which a terminal group having a polymerizable ethylenic double bond is bonded to at least one end of the molecular chain (A is a monovinyl aromatic polymer) block,
(B represents a polymer block of a conjugated diene monomer), (2) an addition polymerizable compound having at least one ethylenic double bond, and (3) a photopolymerization initiator; A photosensitive elastomer composition characterized in that the polymer (1) is obtained by reacting an A-B type living block copolymer obtained by an anionic polymerization method with a halogen-containing monomer. thing.
JP21484286A 1986-08-18 1986-09-11 Photosensitive elastomer composition Granted JPS6370241A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21484286A JPS6370241A (en) 1986-09-11 1986-09-11 Photosensitive elastomer composition
GB8719421A GB2195349B (en) 1986-08-18 1987-08-17 Photosensitive elastomeric composition
DE3727537A DE3727537C2 (en) 1986-08-18 1987-08-18 Photosensitive elastomeric mass
US07/192,641 US4980269A (en) 1986-08-18 1988-05-11 Photosensitive elastomeric composition
US08/064,482 US5281510A (en) 1986-08-18 1992-12-30 Photosensitive elastomeric composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21484286A JPS6370241A (en) 1986-09-11 1986-09-11 Photosensitive elastomer composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6370241A JPS6370241A (en) 1988-03-30
JPH0577067B2 true JPH0577067B2 (en) 1993-10-25

Family

ID=16662445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21484286A Granted JPS6370241A (en) 1986-08-18 1986-09-11 Photosensitive elastomer composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6370241A (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5239742A (en) * 1975-09-25 1977-03-28 Nippon Soda Co Ltd Sensitized materials
JPS5240594A (en) * 1975-09-29 1977-03-29 Nippon Soda Co Ltd Preparation of photosensitive polymers
JPS5659230A (en) * 1980-07-07 1981-05-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition for flexographic plate

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5239742A (en) * 1975-09-25 1977-03-28 Nippon Soda Co Ltd Sensitized materials
JPS5240594A (en) * 1975-09-29 1977-03-29 Nippon Soda Co Ltd Preparation of photosensitive polymers
JPS5659230A (en) * 1980-07-07 1981-05-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition for flexographic plate

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6370241A (en) 1988-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3157295B2 (en) Photosensitive elastomeric polymer compositions for flexographic printing plates
US5863704A (en) Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
US5679485A (en) Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and process for producing same, and flexographic plate and process for producing same
KR100753261B1 (en) Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same
JPS60211451A (en) Photosensitive elastomer composition
JPH0495960A (en) Composition for photosensitive flexographic printing plate
WO1992015046A1 (en) Photosensitive elastomer composition
US5889116A (en) Photosensitive composition from copolymers of ethylenic phosphorous monomer(s) and elastomer
US7432037B2 (en) Curable resin composition and flexographic plate material using the same
US4980269A (en) Photosensitive elastomeric composition
JP4482032B2 (en) Photosensitive resin composition
JP2025037999A (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing
GB2064151A (en) Photopolymerisable composition
JPS5950971B2 (en) curable composition
JPH059017B2 (en)
JP7105240B2 (en) Block copolymer for photosensitive printing plate material with excellent wear resistance and method for producing the same
US5281510A (en) Photosensitive elastomeric composition
JPH0577067B2 (en)
JPH10287817A (en) Hydrophilic copolymer composition and photosensitive composition
JP2792388B2 (en) Method for producing hydrophilic copolymer for water development, photosensitive polymer composition for water development using the copolymer, photosensitive flexographic plate
JPH0541979B2 (en)
JPH10161301A (en) Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
US5362806A (en) Toughened photocurable polymer composition for processible flexographic printing plates
WO2023026928A1 (en) Photosensitive composition for pattern formation, and flexographic plate
JPH06214389A (en) Photosensitive elastomer composition