JPH0572094A - 公害ガスの連続測定システム - Google Patents
公害ガスの連続測定システムInfo
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- JPH0572094A JPH0572094A JP30728991A JP30728991A JPH0572094A JP H0572094 A JPH0572094 A JP H0572094A JP 30728991 A JP30728991 A JP 30728991A JP 30728991 A JP30728991 A JP 30728991A JP H0572094 A JPH0572094 A JP H0572094A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 官能試験で測定される臭気濃度に対応する値
の連続測定ならびに測定ガス中に含まれる水分を自動補
正する公害ガスの連続測定の実現。 【構成】 前処理部１と測定部２で構成され、前処理部
１はシリカゲ充填槽３、増湿槽４、恒温槽５及び乾燥空
気と飽和空気の混合割合を制御する流量制御器６ならび
に乾燥空気と飽和空気を均一に混合する混合槽７で構成
され、測定部２はガス濃度検知センサー８で構成され
る。 【効果】 測定ガスの水分補正が自動的に可能となり、
ガス濃度の連続測定が可能にる。また、ガス濃度検知セ
ンサーとして水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着し
たセンサーを用いることにより、人間の嗅覚による官能
試験で測定される臭気濃度に対応する値の連続測定が可
能となる。
の連続測定ならびに測定ガス中に含まれる水分を自動補
正する公害ガスの連続測定の実現。 【構成】 前処理部１と測定部２で構成され、前処理部
１はシリカゲ充填槽３、増湿槽４、恒温槽５及び乾燥空
気と飽和空気の混合割合を制御する流量制御器６ならび
に乾燥空気と飽和空気を均一に混合する混合槽７で構成
され、測定部２はガス濃度検知センサー８で構成され
る。 【効果】 測定ガスの水分補正が自動的に可能となり、
ガス濃度の連続測定が可能にる。また、ガス濃度検知セ
ンサーとして水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着し
たセンサーを用いることにより、人間の嗅覚による官能
試験で測定される臭気濃度に対応する値の連続測定が可
能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は公害ガス、臭気ガスなど
の連続測定、監視に関する。
の連続測定、監視に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、官能試験で測定される臭気濃度に
対応する値の機器による連続測定は実現されていない。
また半導体センサーを用いて公害ガスを機器により連続
測定する場合、測定ガス中の水分の影響が全く無視され
ているか測定後計算により水分量の補正をおこなってい
る。
対応する値の機器による連続測定は実現されていない。
また半導体センサーを用いて公害ガスを機器により連続
測定する場合、測定ガス中の水分の影響が全く無視され
ているか測定後計算により水分量の補正をおこなってい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現在ガスセンサーある
いはニオイセンサーとして一般に半導体センサーあるい
は脂質二分子膜センサーなどが利用されている。水晶発
振子に二分子構造の有機膜を添着したいわゆる脂質二分
子膜センサーにおいては、ナノグラム単位のニオイを重
量として測定可能であり、かつ人間の嗅細胞が二分子構
造であることから人間の嗅覚で測定する官能試験の臭気
濃度に対応する値が測定できる利点がある。しかし、測
定ガス中の数十ｐｐｍ（ｐｐｍは百万分の一の単位）の
ニオイの量を測定する場合にもその測定ガス中には温度
にもよるが数千から数万ｐｐｍの水分が含まれ水分補正
なしでニオイを測定することは困難であり、現実にはニ
オイを測定しているというより水分重量を測定している
といっても過言でない。同様に半導体センサーでも公知
の事実として水分の影響が測定値に及ぼす影響が極めて
大きく、ゼロ値を設定する標準空気の絶対湿度が測定ガ
スの絶対湿度と異なればその分誤差となってあらわれ
る。しかし、測定ガス中の水分の影響を考慮した連続測
定方法は実現されておらずゼロ値の設定に用いるべき標
準空気すら使用されていない現実である。本発明は、測
定ガス中に含まれる水分の量を自動的に補正することに
より公害ガスの連続測定、監視を目的とするものであ
る。
いはニオイセンサーとして一般に半導体センサーあるい
は脂質二分子膜センサーなどが利用されている。水晶発
振子に二分子構造の有機膜を添着したいわゆる脂質二分
子膜センサーにおいては、ナノグラム単位のニオイを重
量として測定可能であり、かつ人間の嗅細胞が二分子構
造であることから人間の嗅覚で測定する官能試験の臭気
濃度に対応する値が測定できる利点がある。しかし、測
定ガス中の数十ｐｐｍ（ｐｐｍは百万分の一の単位）の
ニオイの量を測定する場合にもその測定ガス中には温度
にもよるが数千から数万ｐｐｍの水分が含まれ水分補正
なしでニオイを測定することは困難であり、現実にはニ
オイを測定しているというより水分重量を測定している
といっても過言でない。同様に半導体センサーでも公知
の事実として水分の影響が測定値に及ぼす影響が極めて
大きく、ゼロ値を設定する標準空気の絶対湿度が測定ガ
スの絶対湿度と異なればその分誤差となってあらわれ
る。しかし、測定ガス中の水分の影響を考慮した連続測
定方法は実現されておらずゼロ値の設定に用いるべき標
準空気すら使用されていない現実である。本発明は、測
定ガス中に含まれる水分の量を自動的に補正することに
より公害ガスの連続測定、監視を目的とするものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
には、測定ガス中の水分量すなわち測定ガスの絶対湿度
と等しい絶対湿度の空気を製造し、それを標準空気とし
てゼロ値の設定に用いれば測定値より水分の影響は自動
的に補正できる。本発明では、上記目的を達成するため
二つの方法を提案するものである。
には、測定ガス中の水分量すなわち測定ガスの絶対湿度
と等しい絶対湿度の空気を製造し、それを標準空気とし
てゼロ値の設定に用いれば測定値より水分の影響は自動
的に補正できる。本発明では、上記目的を達成するため
二つの方法を提案するものである。
【０００５】第１の方法は、任意の温度・湿度の測定ガ
ス並びに標準空気の温度を恒温槽によってある特定の一
定の温度、本発明では１５℃又は２５℃に変換し、測定
ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度をもった標準空気を造
る方法である。温度が１５℃又は２５℃のガスあるいは
空気を造るには、１５℃又は２５℃に制御された恒温槽
へガス又は空気を通すことによって達成できる。する
と、その温度における測定ガスの相対湿度・絶対湿度は
定まる。一方、同じ絶対湿度をもった標準空気を造るに
は、測定ガスの相対湿度がその温度でψ％のとき、同じ
温度の全く水分を含まない乾燥空気の量とこれ以上水分
を含めない飽和空気の量をそれぞれ（１−ψ／１００）
とψ／１００の割合で混合すれば達成できる。乾燥空気
の量と飽和空気の量を制御するには流量制御器によって
達成できる。また、乾燥空気を造るには十分なシリカゲ
ル充填槽に空気を通すことによって得られる。また、十
分な接触時間のある水中に空気を通すと湿度の飽和した
飽和空気が得られる。このようにして造られた測定ガス
の絶対湿度と等しい絶対湿度の標準空気を用い、水晶発
振子に二分子構造の有機膜を添着したガス濃度検知セン
サーのゼロ値設定を行なうことによって官能試験で測定
される臭気濃度に対応する値を連続測定することが可能
となる。測定部にガス濃度検知センサーとリファレンス
センサーを設置すれば常時連続測定が可能になり、リフ
ァレンスセンーを設置しない場合は測定プログラムにし
たがった間欠連続測定となる。測定ガスの温度を１５℃
又は２５℃に設定する意義は亜硫酸ガスの測定値が１５
℃換算の測定値が規定されていること、さらに人間の嗅
覚は２５℃近辺で最も鋭敏であることから２５℃の測定
値は大きな意味をもっている。さらに、二分子構造の有
機膜を水晶発振子に添着したいわゆる脂質２分子膜セン
サーは３０℃付近に温度変異点があるものもあり、３０
℃以下での適用が望ましいからである。
ス並びに標準空気の温度を恒温槽によってある特定の一
定の温度、本発明では１５℃又は２５℃に変換し、測定
ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度をもった標準空気を造
る方法である。温度が１５℃又は２５℃のガスあるいは
空気を造るには、１５℃又は２５℃に制御された恒温槽
へガス又は空気を通すことによって達成できる。する
と、その温度における測定ガスの相対湿度・絶対湿度は
定まる。一方、同じ絶対湿度をもった標準空気を造るに
は、測定ガスの相対湿度がその温度でψ％のとき、同じ
温度の全く水分を含まない乾燥空気の量とこれ以上水分
を含めない飽和空気の量をそれぞれ（１−ψ／１００）
とψ／１００の割合で混合すれば達成できる。乾燥空気
の量と飽和空気の量を制御するには流量制御器によって
達成できる。また、乾燥空気を造るには十分なシリカゲ
ル充填槽に空気を通すことによって得られる。また、十
分な接触時間のある水中に空気を通すと湿度の飽和した
飽和空気が得られる。このようにして造られた測定ガス
の絶対湿度と等しい絶対湿度の標準空気を用い、水晶発
振子に二分子構造の有機膜を添着したガス濃度検知セン
サーのゼロ値設定を行なうことによって官能試験で測定
される臭気濃度に対応する値を連続測定することが可能
となる。測定部にガス濃度検知センサーとリファレンス
センサーを設置すれば常時連続測定が可能になり、リフ
ァレンスセンーを設置しない場合は測定プログラムにし
たがった間欠連続測定となる。測定ガスの温度を１５℃
又は２５℃に設定する意義は亜硫酸ガスの測定値が１５
℃換算の測定値が規定されていること、さらに人間の嗅
覚は２５℃近辺で最も鋭敏であることから２５℃の測定
値は大きな意味をもっている。さらに、二分子構造の有
機膜を水晶発振子に添着したいわゆる脂質２分子膜セン
サーは３０℃付近に温度変異点があるものもあり、３０
℃以下での適用が望ましいからである。
【０００６】第２の方法は、任意の温度・湿度をもった
測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気を造る方法であ
る。半導体センサーを用いる場合は特に温度制限がな
い。したがって、この場合は測定ガスをなんら変化させ
ることなく、標準空気の温度・湿度を測定ガスの温度・
湿度に変換する方法である。標準空気を造る方法は第１
の方法と全く同じであり、異なる点は恒温槽の温度を測
定ガスの温度に等しく制御することである。また、第１
の方法では測定ガスを恒温槽に導き、恒温槽の温度にお
ける相対湿度の測定が必要であったが、第２の方法で
は、測定ガスを直接測定部に導くことである。したがっ
て、測定ガスの温度・湿度の測定は測定部において測定
してもよく、また全く別の場所例えばガスの発生源で測
定してもよい。第２の方法においても、リファレンスセ
ンサーを設ける場合は常時連続測定が可能であり、リフ
ァレンスセンサーを設置しない場合はプログラムにした
がった間欠連続測定となる。
測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気を造る方法であ
る。半導体センサーを用いる場合は特に温度制限がな
い。したがって、この場合は測定ガスをなんら変化させ
ることなく、標準空気の温度・湿度を測定ガスの温度・
湿度に変換する方法である。標準空気を造る方法は第１
の方法と全く同じであり、異なる点は恒温槽の温度を測
定ガスの温度に等しく制御することである。また、第１
の方法では測定ガスを恒温槽に導き、恒温槽の温度にお
ける相対湿度の測定が必要であったが、第２の方法で
は、測定ガスを直接測定部に導くことである。したがっ
て、測定ガスの温度・湿度の測定は測定部において測定
してもよく、また全く別の場所例えばガスの発生源で測
定してもよい。第２の方法においても、リファレンスセ
ンサーを設ける場合は常時連続測定が可能であり、リフ
ァレンスセンサーを設置しない場合はプログラムにした
がった間欠連続測定となる。
【０００７】
【実施例】本発明の実施例を図によって説明すると、１
図はガス濃度検出センサーが水晶発振子に二分子構造の
有機膜を添着したセンサーで構成され、かつガス濃度が
官能試験で測定される臭気濃度に対応する値を測定する
公害ガスの連続測定システムを示す。
図はガス濃度検出センサーが水晶発振子に二分子構造の
有機膜を添着したセンサーで構成され、かつガス濃度が
官能試験で測定される臭気濃度に対応する値を測定する
公害ガスの連続測定システムを示す。
【０００８】２図は恒温槽５の温度を測定ガスの温度と
等しく制御する場合の公害ガスの連続測定方システムを
示す。
等しく制御する場合の公害ガスの連続測定方システムを
示す。
【０００９】１図において、測定ガスはガス吸引ポンプ
１１によって前処理部１の測定ガス接続口２０より系内
に流入し、１５℃又は２５℃の一定の温度に保持された
恒温槽５を通過する間に１５℃又は２５℃に調整され、
温湿度センサー１０によって相対湿度ψ％が測定され
る。一方、原料空気はエアポンプ１４によって空気取入
接続口２１より系内に流入しエアフィルター１３を通過
したのち恒温槽５に設けられたシリカゲル充填槽３及び
増湿槽４に送られる。シリカゲル充填槽では乾燥空気が
造られ、増湿槽では飽和空気がつくられる。乾燥空気と
飽和付空気の割合は流量制御器６によって（１−ψ／１
００）とψ／１００の割合で制御され、混合槽７で均一
に混合され測定ガスの絶対湿度と常に等しい絶対湿度の
標準空気がつくられ測定部２に送られる。
１１によって前処理部１の測定ガス接続口２０より系内
に流入し、１５℃又は２５℃の一定の温度に保持された
恒温槽５を通過する間に１５℃又は２５℃に調整され、
温湿度センサー１０によって相対湿度ψ％が測定され
る。一方、原料空気はエアポンプ１４によって空気取入
接続口２１より系内に流入しエアフィルター１３を通過
したのち恒温槽５に設けられたシリカゲル充填槽３及び
増湿槽４に送られる。シリカゲル充填槽では乾燥空気が
造られ、増湿槽では飽和空気がつくられる。乾燥空気と
飽和付空気の割合は流量制御器６によって（１−ψ／１
００）とψ／１００の割合で制御され、混合槽７で均一
に混合され測定ガスの絶対湿度と常に等しい絶対湿度の
標準空気がつくられ測定部２に送られる。
【００１０】測定部２においては、ゼロ値設定・洗浄工
程と測定工程の２工程に分けられる。
程と測定工程の２工程に分けられる。
【００１１】ゼロ値設定・洗浄工程ではガス吸引ポンプ
１１及び１２が作動すると、電磁弁１５、１７及び１９
が開き電磁弁１６及び１８は閉じた状態になる。前処理
部１でつくられた測定ガスと絶対湿度の等しい標準空気
はガス濃度検出センサー８及びリファレンスセンサー９
に送られ各センサーを洗浄したのち、ガス吸引ポンプ１
２によって系外に排出される。
１１及び１２が作動すると、電磁弁１５、１７及び１９
が開き電磁弁１６及び１８は閉じた状態になる。前処理
部１でつくられた測定ガスと絶対湿度の等しい標準空気
はガス濃度検出センサー８及びリファレンスセンサー９
に送られ各センサーを洗浄したのち、ガス吸引ポンプ１
２によって系外に排出される。
【００１２】測定工程ではカス吸引ポンプ１１は停止、
ガス吸引ポンプ１２が作動している。電磁弁１５、１７
及び１９は閉じ、電磁弁１６及び１８が開く。測定ガス
の絶対湿度と等しい標準空気はエアポンプ１４によって
リファレンスセンサー９、電磁弁１８を経由して系外に
排出される。測定ガスはガス吸引ポンプ１２によって電
磁弁１６、ガス濃度検出センサー８を経由して系外に排
出される。
ガス吸引ポンプ１２が作動している。電磁弁１５、１７
及び１９は閉じ、電磁弁１６及び１８が開く。測定ガス
の絶対湿度と等しい標準空気はエアポンプ１４によって
リファレンスセンサー９、電磁弁１８を経由して系外に
排出される。測定ガスはガス吸引ポンプ１２によって電
磁弁１６、ガス濃度検出センサー８を経由して系外に排
出される。
【００１３】第１の方法を用いて測定した結果を表１に
示す。
示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】第２図において半導体センサーを用いる場
合、測定部２はゼロ値設定工程、測定工程及びパージ工
程の３工程に分かれる。
合、測定部２はゼロ値設定工程、測定工程及びパージ工
程の３工程に分かれる。
【００１６】ゼロ値設定工程では、電磁弁１６、１７及
び１９が開き、電磁弁１５及び１８は閉じた状態とな
る。ガス吸引ポンプ１１及び１２が作動する。測定ガス
はガス吸引ポンプ１１によって測定ガス接続口２０より
系内に流入し、電磁弁１７を経由して温湿度センサー１
０によって温度・湿度が測定されたのち系外に排出され
る。なお温湿度センサーは必ずしも測定部２に設置され
る必要はなく、全く別の場所ガス発生源等に設置されて
いてもよい。測定された温度・湿度は電気信号として前
処理部１に伝達される。前処理部１では 測定ガスの温
度と等しくなるよう恒温槽５の温度が制御され、同時に
測定ガスの相対湿度ψ％にしたがって乾燥空気と飽和空
気の量が（１−ψ／１００）とψ／１００の割合で流量
制御器６によって制御され混合槽７で均一に混合されて
測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気が造られ 測定部
２へ送られ、電磁弁１６、ガス濃度検知センサー８、電
磁弁１９を経由して系外に排出される。
び１９が開き、電磁弁１５及び１８は閉じた状態とな
る。ガス吸引ポンプ１１及び１２が作動する。測定ガス
はガス吸引ポンプ１１によって測定ガス接続口２０より
系内に流入し、電磁弁１７を経由して温湿度センサー１
０によって温度・湿度が測定されたのち系外に排出され
る。なお温湿度センサーは必ずしも測定部２に設置され
る必要はなく、全く別の場所ガス発生源等に設置されて
いてもよい。測定された温度・湿度は電気信号として前
処理部１に伝達される。前処理部１では 測定ガスの温
度と等しくなるよう恒温槽５の温度が制御され、同時に
測定ガスの相対湿度ψ％にしたがって乾燥空気と飽和空
気の量が（１−ψ／１００）とψ／１００の割合で流量
制御器６によって制御され混合槽７で均一に混合されて
測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気が造られ 測定部
２へ送られ、電磁弁１６、ガス濃度検知センサー８、電
磁弁１９を経由して系外に排出される。
【００１７】測定工程では ガス吸引ポンプ１１及びエ
アポンプ１４は停止し、ガス吸引ポンプ１２が作動す
る。電磁弁１６、１７及び１８は閉じ、電磁弁１５及び
１９は開いた状態となる。測定ガスはガス吸引ポンプ１
２によって、電磁弁１５、１９を経由して系外に排出さ
れる。
アポンプ１４は停止し、ガス吸引ポンプ１２が作動す
る。電磁弁１６、１７及び１８は閉じ、電磁弁１５及び
１９は開いた状態となる。測定ガスはガス吸引ポンプ１
２によって、電磁弁１５、１９を経由して系外に排出さ
れる。
【００１８】パージ工程ではガス吸引ポンプ１１及び１
２は停止し、エアポンプ１４が作動する。電磁弁１５、
１７及び１９が閉じ、電磁弁１６及び１８が開いた状態
となる。前処理部１では飽和空気の流量が流量制御器６
によりゼロとなり、すべての流量が乾燥空気として製造
され、測定部２に送られ、電磁弁１６、ガス濃度検知セ
ンサー８、電磁弁１８を経由して系外に排出される。リ
ファレンスセンサー９を設置する場合は常時連続測定が
可能であり、リファレンスセンサーを設置しない場合は
測定プログラムによる間欠連続測定となる。
２は停止し、エアポンプ１４が作動する。電磁弁１５、
１７及び１９が閉じ、電磁弁１６及び１８が開いた状態
となる。前処理部１では飽和空気の流量が流量制御器６
によりゼロとなり、すべての流量が乾燥空気として製造
され、測定部２に送られ、電磁弁１６、ガス濃度検知セ
ンサー８、電磁弁１８を経由して系外に排出される。リ
ファレンスセンサー９を設置する場合は常時連続測定が
可能であり、リファレンスセンサーを設置しない場合は
測定プログラムによる間欠連続測定となる。
【００１９】
【作用】前処理部１を設けることにより常に測定ガスの
絶対湿度と等しい標準空気が製造でき、測定ガス中の水
分を自動補正できる。前処理部におけるシリカゲル充填
槽は湿度ゼロの乾燥空気をつくる作用し、増湿槽は飽和
湿度の空気をつくる作用をする。恒温槽は取入空気を測
定ガスの温度と等しくする作用があり、流量制御器は測
定ガスの絶対湿度と等しい標準空気を製造するための混
合割合を決める作用があり、混合槽は測定ガスの絶対湿
度と等しい標準空気をつくる作用がある。また、恒温槽
の温度を１５℃の一定の温度に制御し測定ガスの温度を
１５℃にすることは亜硫酸ガスの測定値が常に１５℃に
換算した値を求める規定に対応できる作用がある。また
恒温槽の温度を２５℃の一定の温度に制御し、測定ガス
の温度を２５℃にすることは官能試験で臭気を最も鋭敏
に感じる温度であり、かつガス濃度検出センサーとして
水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーを
用いることは、官能試験で測定される臭気濃度に対応す
る値が得られる作用をする。
絶対湿度と等しい標準空気が製造でき、測定ガス中の水
分を自動補正できる。前処理部におけるシリカゲル充填
槽は湿度ゼロの乾燥空気をつくる作用し、増湿槽は飽和
湿度の空気をつくる作用をする。恒温槽は取入空気を測
定ガスの温度と等しくする作用があり、流量制御器は測
定ガスの絶対湿度と等しい標準空気を製造するための混
合割合を決める作用があり、混合槽は測定ガスの絶対湿
度と等しい標準空気をつくる作用がある。また、恒温槽
の温度を１５℃の一定の温度に制御し測定ガスの温度を
１５℃にすることは亜硫酸ガスの測定値が常に１５℃に
換算した値を求める規定に対応できる作用がある。また
恒温槽の温度を２５℃の一定の温度に制御し、測定ガス
の温度を２５℃にすることは官能試験で臭気を最も鋭敏
に感じる温度であり、かつガス濃度検出センサーとして
水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーを
用いることは、官能試験で測定される臭気濃度に対応す
る値が得られる作用をする。
【００２０】
【効果】測定ガスの水分に影響されない公害ガスの連続
測定が可能となる。
測定が可能となる。
【００２１】
【図１】水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセ
ンサーを用い、官能試験で測定される臭気濃度に対応す
る値を測定する公害ガスの連続測定方システムである。
ンサーを用い、官能試験で測定される臭気濃度に対応す
る値を測定する公害ガスの連続測定方システムである。
【図２】半導体センサを利用し測定ガスの水分に影響さ
れない公害ガスの連続測定システムである。
れない公害ガスの連続測定システムである。
１ 前処理部 ２ 測定部 ３ シリカゲル充填槽 ４ 増湿槽 ５ 恒温槽 ６ 流量制御器 ７ 混合槽 ８ ガス濃度検知センサー ９ リファレンスセンサー １０ 温湿度センサー １１ １２ ガス吸引ポンプ １３ エアフィルター １４ エアポンプ １５ １６、１７、１８、１９ 電磁弁 ２０ 測定ガス接続口 ２１ 空気取入接続口 ２２ 連絡配管
Claims (5)
- 【請求項１】 測定ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度を
もった空気を製造するための前処理部１と測定ガスのガ
ス濃度を検出する測定部２で構成されることを特徴とし
た公害ガスの連続測定システム。 - 【請求項２】 前処理部１は乾燥空気を製造するシリカ
ゲル充填槽３、飽和湿度の空気を製造する増湿槽４、温
度を一定に保つための恒温槽５、乾燥空気と飽和湿度の
空気の量を制御する流量制御器６ならびに乾燥空気と飽
和湿度の空気を均一に混合する混合槽７で構成され、シ
リカゲル充填槽３で造られる乾燥空気の量と増湿槽４で
造られる飽和湿度の空気の量の混合割合が測定ガスの相
対湿度をψ％とするとき流量制御器６によって（１−ψ
／１００）とψ／１００の割合で自動制御され、混合槽
７で均一に混合されたのち、測定部２に設けられたガス
濃度検知センサー８に送られることを特徴とした請求項
１記載の公害ガスの連続測定システム。 - 【請求項３】 前処理部１の恒温槽５の温度が１５℃又
は２５℃の一定の温度に制御されることを特徴とした請
求項２記載の公害ガスの連続測定システム。 - 【請求項４】 測定部２のガス濃度検知センサー８が水
晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーで構
成され、かつガス濃度が官能試験で測定される臭気濃度
に対応する値を測定することを特徴とした請求項３記載
の公害ガスの連続測定システム。 - 【請求項５】 前処理部１の恒温槽５の温度が測定ガス
の温度と等しく制御されることを特徴とした請求項２記
載の公害ガスの連続測定システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30728991A JPH0572094A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 公害ガスの連続測定システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30728991A JPH0572094A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 公害ガスの連続測定システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0572094A true JPH0572094A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=17967344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30728991A Pending JPH0572094A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 公害ガスの連続測定システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0572094A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07198641A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-08-01 | Agency Of Ind Science & Technol | 化学／物理量の識別方法及び装置 |
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