JPH05196802A - 光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理光学部品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 コロイダルシリカと混合したケイ酸エステル
を加水分解し、さらに、白濁するまでコロイド溶液化し
て調製されてなる反射防止処理液において、反射防止処
理液に、下記一般式で示されるフッ化アルキルアルコキ
シシランの加水分解物が添加混合されていることを特徴
とする。 Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
ル基であり、ａは０〜１０の整数である。） 【効果】 光学部品における反射防止処理膜の耐熱水性
及び耐汚染性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学部品の反射防止処
理液及び反射防止処理光学部品に関する。特に、プラス
チック光学部品に好適な発明に関する。

【０００２】ここで、プラスチック光学部品とは、眼鏡
レンズ、カメラ用レンズ、照明器具用カバー、その他光
学部品に使用されるプラスチック成形品を意味する。

【０００３】

【従来の技術】ここでは、プラスチック光学部品を例に
採り説明するが、これに限られず、無機ガラス製の光学
部品にも本発明は、適用可能である。

【０００４】プラスチック光学部品は、その軽量性、優
れた加工性・耐衝撃性などの特性ゆえに、広範囲な分野
における適用が検討されている。

【０００５】こられのプラスチック光学部品の適用分野
拡大のためには、安価かつ生産性良好に反射防止処理膜
をプラスチック光学部品（光学基材）の一面または両面
に形成する必要がある。

【０００６】このための反射防止処理膜の形成方法とし
て、塗膜にしたとき表面に微小な凹凸ができるようなコ
ロイダルシリカが含まれている処理液を使用する、いわ
ゆる塗膜法が、特開昭５８−１２６５０２号公報で提案
されている。即ち、コロイダルシリカ（ケイ酸コロイ
ド）及びケイ酸エステルの加水分解物（重縮合物を含
む）を塗膜成分の主成分とするものであり、一定粒径の
コロイダルシリカが塗膜表面に散在することにより、見
かけ上の屈折率を下げて、反射防止処理作用を奏するも
である。

【０００７】しかし、この処理方法の場合、コロイダル
シリカのバインダーとなるケイ酸エステルの重合は、低
温度（８０〜１３０℃）では進みにくいため、塗膜強度
が相対的に低いともに、汚れ易く（表面が凹凸であるた
め）、基材に対しての密着性が悪い等の問題点があるこ
とが判った。

【０００８】そこで、本発明者の一人が、下記方法を国
際公開ＷＯ８９／０４００４号公報において提案してい
る。

【０００９】「ケイ酸エステルの加水分解誘導物を塗膜
成分の主成分とする反射防止処理液を、光学機材の表面
に塗布し加熱硬化させて、反射防止膜を形成する光学部
品の反射防止処理方法において、ケイ酸エステルの加水
分解誘導物として、ケイ酸エステル／加水分解水＝１／
６〜１／６０（モル比）の混合物を両者と相溶可能な溶
剤の存在下で加水分解され、さらに、 pH ３〜７の条件
下でコロイド溶液化させたものを使用することを特徴と
する。」

【００１０】

【発明が解決使用とする課題】しかし、上記国際公開公
報における反射防止処理方法で形成した反射防止処理膜
では、昨今の光学的性質の高性能化の要請には応えがた
かった。即ち、耐汚染性はある程度解決できるも、耐熱
水性において十分でないことが判った。

【００１１】本発明の目的は、上記に問題点を解決する
ことのできる、光学部品の反射防止処理液及び反射防止
処理光学部品を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、鋭意開発に努力をした結果、下記構
成の光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理光学部
品に想到した。

【００１３】Ａ．請求項１〜３に記載の反射防止処理液
は、コロイダルシリカと混合した一般式(a) で示される
ケイ酸エステルを加水分解し、さらに、白濁するまでコ
ロイド溶液化して調製されてなる反射防止処理液におい
て、該反射防止処理液に、一般式(b) で示されるフッ化
アルキルケイ素化合物の加水分解物が添加混合されてい
ることを特徴とする。

【００１４】(a) Ｓｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシル基である。） (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
ル基であり、ａは０〜１０の整数である。） Ｂ．請求項４〜７に記載の光学部品は、光学基材の少な
くとも一面に、コロイダルシリカが、一般式(a) で示さ
れるケイ酸エステルの加水分解コロイド粒子で凝集固化
されて反射防止膜が形成されてなる反射防止処理光学部
品において、前記反射防止膜が、一般式(b) で示される
フッ化アルキルアルコキシシランあるケイ素化合物の加
水分解物を含有することを特徴とする反射防止処理光学
部品。

【００１５】(a) Ｓｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシル基である。） (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
ル基であり、ａは０〜１０の整数である。）

【００１６】

【手段の詳細な説明】以下の説明で配合単位を示す
「部」は、特に断らない限り、「重量部」を意味する。

【００１７】本発明の反射防止処理液は、下記の様にし
て調製をする。

【００１８】Ａ．コロイダルシリカと混合した一般式
(a) で示されるケイ酸エステルを加水分解し、さらに、
白濁するまでコロイド溶液化する。

【００１９】(a) Ｓｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシル基である。） (1) 上記コロイダルシリカとは、二酸化ケイ素水和物の
コロイドで、粒径１０〜１００ｎｍのものが、メタノー
ル等に分散されているものを使用する。

【００２０】上記ケイ酸エステルとしては、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシ
シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、テトラsec-ブトキシシラン、等を挙げることが
できる。

【００２１】コロイダルシリカのケイ酸エステルケイ酸
エステル１００部に対する混合量は、５〜５０部（好ま
しくは、１０〜３０部）とする。コロイダルシリカが５
部未満では十分な反射防止効果が期待できず、５０部を
越えると耐擦傷性等が劣ってしまう。

【００２２】(2) 加水分解は、上記一般式(a) で示され
るケイ酸エステル１ molに対して、加水分解水５〜６０
mol（望ましくは、２０〜６０ mol）を添加した混合物
を両者と相溶可能な溶剤の存在下で、加水分解（通常、
還流法により１〜２ｈ）させる。当量比で示すと、前者
１当量に対して、1.25〜１５当量となる。

【００２３】ここで、加水分解水が５ mol未満では、後
述のコロイド溶液化工程において、反射防止に必要なコ
ロイド粒子が得がたく、逆に６０ molを越えると、反射
防止処理膜の膜強度が低下すると共に、処理液の安定性
が低下する。

【００２４】ここで、加水分解水は、純水でもよいが、
通常、加水分解促進のために酸触媒の存在下で行なう。
例えば、0.01〜１Ｎの塩酸水を使用する。

【００２５】上記溶媒としては、ケイ酸エステル及び水
の双方に相溶可能なものならば、特に限定されるもので
はない。例えば、メチルアルコール，エチルアルコー
ル，メソプロピルアルコール，ブチルアルコール等のア
ルコール類、アセトン，メケルエチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル，酢酸メチル等のエステル類、ジイソプ
ロピルエーテル，グリコールエーテル等のエーテル類を
挙げることができ、単独もしくは混合して使用する。

【００２６】(3) コロイド溶液化は、加水分解終了後、
溶液の pH を３〜７（好ましくは４〜５）に調製し、必
要とする粒径のコロイド粒子（通常、１０〜１００ｎ
ｍ）が得られるまで、還流を続行する。 pH が３未満で
は、コロイド粒子ができがたく、所要のコロイド粒子を
得るのに時間がかかり過ぎ、逆に、 pH が７を越える
と、ゲル化し易い。通常、コロイド溶液化するまで、pH
４〜５の範囲だと２０〜６０時間かかる。

【００２７】Ｂ．上記様にして調製をした、コロイド溶
液化が十分済んだ反射防止処理液に、一般式(b) で示さ
れるフッ化アルキルアルコキシシランの加水分解物を添
加混合する。

【００２８】 (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但しＲ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基，Ｒ² は炭素
数１〜４のアルチル基，アルコキシアルキル基，アシル
基であり、ａは０〜１０の整数である。）この (1) 上記フッ化アルキルアルコキシシランとしては、ト
リフルオロプロピルトリメトキシシラン，トリフルオロ
プロピルトリエトキシシラン，トリデカフルオロオクチ
ルトリメトキシシラン，ヘプタデカフルオロデシルトリ
メトキシシラン，ヘプタデカフルオロデシルトリエトキ
シシラン等を挙げることができる。

【００２９】(2) 上記加水分解は、基本的には、上記ケ
イ酸エステルの場合と同様である。即ち、フッ化アルキ
ルアルコキシシランと加水分解水が当モルとなる様に混
合し、相溶可能な溶剤下で２時間還流加水分解をする。

【００３０】(3) このフッ化アルキルアルコキシシラン
の加水分解物の、上記コロイド溶液への混合量は、ケイ
酸エステル加水分解物１００部に対して、３〜２０部と
する。３部未満では、本発明の効果（反射防止膜の耐熱
水性の向上）を奏しがたく、２０部を越えると、塗れ性
が悪くなり、また、ポットライフも短くなる。

【００３１】Ｃ．反射防止膜に低屈折率（1.40以下）が
要求される場合には、それ自身低屈折率の無機コロイド
粒子を、添加混合する。この添加混合時期は、ケイ酸エ
ステルの加水分解時であってもよい。無機コロイド粒子
としては、低屈折率を有するものなら特に、限定されな
いが、金属フッ化物が、他の塗膜成分との混和性（コン
パティビリティ）との見地から望ましい。特に、後述の
オルガノアルコキシシランの加水分解物を添加混合する
場合は、屈折率が当該加水分解物を添加混合しない場合
に比して、高くなるため必然的となることが多い。

【００３２】この無機コロイド粒子の混合量は、ケイ酸
エステルの加水分解物１００部に対して、0.5 〜１０部
とする。

【００３３】Ｄ．反射防止膜に耐擦傷性が要求される場
合には、一般式 (c)で示されるオルガノアルコキシシラ
ンの加水分解物を添加混合する。

【００３４】(c) Ｒ¹ _aＳｉＲ² _b（ＯＲ³ ）_4-a-b （但し、Ｒ¹ は炭素数が１〜６のアルキル基、ビニル
基、エポキシ基、メタクリロキシ基、フェニル基であ
り、Ｒ² は炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン化アル
キル基であり、Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル基、アル
コキシアルキル基、アシル基であり、ａ及びｂは、０，
１または２であって、ａ＋ｂ＝１，２，３のいずれかで
ある。） (1) 上記オルガノアルコキシシランとしては、メチルト
リメトキシシラン，メチルトリエトキシシラン，メチル
トリメトキシエトキシシラン，グリシドキシメチルトリ
メトキシシラン，α−グリシドキシエチルトリメトキシ
シラン，β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン，
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げ
ることができる。

【００３５】(2) 上記加水分解は、基本的には、上記ケ
イ酸エステルの場合と同様である。即ち、オルガノアル
コキシシランと加水分解水が当モルとなる様に混合し、
相溶可能な溶剤下で２時間還流加水分解をする。

【００３６】(3) このオルガノアルコキシシランの加水
分解物の、上記コロイド溶液への混合量は、ケイ酸エス
テル加水分解物１００部に対して、５〜２０部とする。
５部未満では、耐擦傷性等の塗膜性能の向上を期待しが
たく、２０部を越えると、コロイド粒子による低屈折率
効果が阻害され、反射防止性が低下する。

【００３７】Ｅ．上記のようにして調製した反射防止処
理液を、被処理物に塗布する為には、粘度が高すぎて適
さず、必要に応じて溶剤及び界面滑性剤を添加し、さら
には塗膜の硬化速度を速くするため触媒を添加して最終
調製を行う。

【００３８】Ｆ．このようにして調製した反射防止処理
液をガラス及びプラスチックの透明基材に塗布、加熱硬
化させ反射防止膜を形成する。上記プラスチック透明基
材としては、ポリジェチレングリコールビスアリルカー
ボネート（ＣＲ−３９），ポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ），ポリカーボネート（ＰＣ）等を挙げるこ
とができる。

【００３９】なお、プラスチック基材の場合は、表面硬
度が低く、耐擦傷性に劣るため、予め、ハードコート処
理をされているものを使用するのが望ましい。

【００４０】塗布方法は、浸漬法、スピンコート，フロ
ーコート，スプレーコート，ロールコート等で膜厚は１
〜７００nmとなるようにする。硬化条件は１００℃前後
で３分である。

【００４１】このようにして基板上に形成された反射防
止膜の表面にはより耐汚染性，耐摩耗性，耐水性を向上
させるため、下記一般式(b) 、(d) 、(e) で示されるオ
ルガノアルコキシシランの加水分解物からなる滑性処理
膜が形成することが望ましい。この滑性処理膜の膜厚
は、反射防止効果を低減させない程度の薄膜（２〜５０
ｎｍ）とする。

【００４２】 (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
ル基であり、ａは０〜１０の整数である。） (d) Ｓｉ_a Ｏ_a-1 ［−（ＯＳｉ( ＣＨ₃)₂ ）−_b ＯＲ₁ ］_2a+2 （Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキ
ル基、アシル基であり、ａは１〜４の、ｂは１〜７のそ
れぞれ整数である。） (e) Ｒ¹ Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ Ｏ−［Ｓｉ（ＣＨ₃ ）₂ Ｏ］−_a Ｒ₂ （Ｒ¹ 、Ｒ² は炭素数１〜４のアルコキシ基、ヒドロキ
シル基、アミノ基、ビニル基、メタクリロキシ基、エポ
キシ基、カルボキシル基であり、Ｒ¹ 、Ｒ²は、同一基
または異なった基であってもよい。ａは０〜１０の整数
である。）

【００４３】

【実施例】本発明の効果を確認するために行なった実施
例について説明をする。

【００４４】＜実施例１＞ (1) 反射防止処理液の調製： ａ）ケイ酸エステルの加水分解・コロイド溶液化 下記組成物（ pH ４〜4.5 ）を、十分白濁化するまで還
流を続け、加水分解・コロイド溶液化を同時的に行なっ
た（合計３０ｈ）。

【００４５】組 成 テトラエトキシシラン １００部 メチルアルコール ８４５部 コロイダルシリカ ２０部 0.01N 塩酸 ３０５部 １％アンモニア水 １８部 （メチルアルコール希釈） ｂ）オルガノアルコキシシランの加水分解 下記組成物を還流法で２ｈ加水分解を行なった。

【００４６】組 成 メチルトリメトキシシラン １０部 イソプロピルアルコール ３２部 0.01N 塩酸 １２部 ｃ）フッ化アルキルアルコキシシランの加水分解 下記組成物を還流法で２ｈ加水分解を行なった。

【００４７】 組 成 トリフルオロプロピルトリメトキシシラン １０部 イソプロピルアルコール ８０部 0.01N 塩酸 ６部 上記各加水分解物 ａ）、ｂ）、ｃ）に、フッ化マグネ
シウム８部、エチルセロソルブ８００部、アセチルアセ
トン６００部を混ぜ、触媒として酢酸ナトリウム0.2
部、フッ素系界面滑性剤0.3 部を添加し、予め、ハード
コート処理してあるＣＲ−３９フラノレンズ（光学基
材）に浸漬塗布し、１００℃×２ｈの条件で加熱効果さ
せて反射防止処理膜を光学基材上に形成した。

【００４８】＜実施例２＞下記組成物を室温で攪拌しな
がら２４ｈ加水分解後、メチルアルコール２０００部、
エチルセロソルブ４００部、フッ素系界面滑性剤５部、
触媒としてアセチルアセトンアルミニウム１０部を添加
混合して、滑性処理剤を調製した。

【００４９】 組 成 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン １５部 メチルトリメトキシシラン ２０部 メチルアルコール ７００部 0.01N 塩酸 ３０部 上記滑性処理剤を、実施例１の反射防止処理膜上に、浸
漬塗布し、１００℃×２ｈの条件で、加熱硬化させて滑
性処理膜を形成した。

【００５０】＜実施例３＞実施例１において、ｂ）オル
ガノアルコキシシラン及びｃ）フッ化アルキルアルコキ
シシランの加水分解の組成を下記の通り変更したもので
ある。

【００５１】下記組成物を還流法で２ｈ加水分解を行な
った。

【００５２】ｂ） 組 成 メチルトリメトキシシラン ８部 イソプロピルアルコール ２７部 0.01N 塩酸 ８部 ｃ） 組 成 トリフルオロプロピルトリメトキシシラン １２部 イソプロピルアルコール １００部 0.01N 塩酸 １０部 ＜実施例４＞実施例１において、ａ）ケイ酸エステルの
加水分解・コロイド溶液化の組成を下記の通り変更した
ものである。即ち、この実施例では、無機コロイド粒子
を添加して、ケイ酸エステル加水分解を行なうものであ
る。

【００５３】組 成 テトラエトキシシラン １００部 メチルアルコール ８４５部 コロイダルシリカ ４０部 フッ化マグネシウム ４０部 0.01N 塩酸 ３０５部 ＜比較例＞実施例１において、ｃ）成分及び金属マグネ
シウムを除いた以外は同じである。

【００５４】Ｂ．塗膜性能試験及び評価 (1) 各実施例・比較例における反射防止処理膜につい
て、下記各項目の膜性能試験を行なつた。

【００５５】透過率；５５０ｎｍの波長を使用して測
定 耐摩耗性試験；＃0000のスチールウールを使用して、
表面を６００ｇ荷重で３０回こすり、次の様に判定し
た。

【００５６】○…傷の入った面積が１０％未満。

【００５７】△…傷の入った面積が１０〜３０％。

【００５８】Χ…傷の入った面積が３０％より多い。

【００５９】耐汚染性；セロハン粘着テープを密着さ
せ、後から乾拭きして、次の様に判定した。

【００６０】○…前面テープ付着跡なし。

【００６１】△…周辺部にややテープ付着跡あり。

【００６２】Χ…全面にテープ付着跡あり。

【００６３】耐熱水性試験；８０℃の熱水中に１０mi
n 浸漬し、浸漬前後の外観，反射色の変化を見る。

【００６４】○…反射色変化せず。

【００６５】△…反射色が薄くなる。

【００６６】Χ…反射色が全く変化する。

【００６７】熱水試験後の耐摩耗性試験 上記熱水試験後の、各試験片について、砂消しゴムを使
用して、２００ｇ荷重で１５回こすり、上記の耐摩耗
性試験と同様にして評価をした。

【００６８】熱水後の耐汚染性試験 上記熱水試験後の、各試験片について、上記の耐汚染
性試験を行ない、同様にして評価した。

【００６９】屈折率 「Hitaxhi U-3410 スペクトロフォトメータ」により計
測をした。

【００７０】(2) 上記試験結果を示す表１から、本発明
の各実施例は、耐熱水性及び、耐汚染性のいずれもが、
従来例に比して、向上していることが判る。

【００７１】

【表１】

【００７２】

【発明の作用・効果】本発明は、上記の様に、コロイダ
ルシリカと混合したケイ酸エステルを加水分解し、さら
に、白濁するまでコロイド溶液化して調製されてなる反
射防止処理液または該処理液で反射防止処理膜が形成さ
れている光学部品において、該反射防止処理液に、特定
のフッ化アルキルアルコキシシランの加水分解物が添加
混合されていることにより、上記の如く、反射防止処理
膜の耐熱水性及び耐汚染性が向上する。

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【手続補正書】

【提出日】平成４年２月２０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３８】 Ｆ．このようにして調製した反射防止処
理液をガラス及びプラスチックの透明基材に塗布、加熱
硬化させて反射防止膜を形成する。上記プラスチック透
明基材としては、ポリジエチレングリコールビスアリル
カーボネート（ＣＲ−３９）、ポリメチルメタクリレー
ト（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、変性ポリ
ウレタン、変性チオウレタン、等を挙げることができ
る。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００３９

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００３９】 なお、プラスチック基材の場合は、表
面硬度が低く、耐擦傷性に劣るため、予めハードコート
処理を施したものを使用するのが望ましい。また、透明
基材及びハードコート処理透明基材において、密着性を
向上させるために、プラズマ処理等の表面活性化処理を
適宜施すこともできる。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 コロイダルシリカと混合した一般式(a)
   で示されるケイ酸エステルを加水分解し、さらに、白濁
   するまでコロイド溶液化して調製されてなる反射防止処
   理液において、 該反射防止処理液に、一般式(b) で示されるフッ化アル
   キルアルコキシシランの加水分解物が添加混合されてい
   ることを特徴とする光学部品の反射防止処理液。 (a) Ｓｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシア
   ルキル基、アシル基である。） (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
   素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
   ル基であり、ａは０〜１０の整数である。）
2. 【請求項２】 請求項１の反射防止処理液において、低
   屈折率の無機コロイド粒子が添加混合されていることを
   特徴とする光学部品の反射防止処理液。
3. 【請求項３】 請求項１または２の反射防止処理液にお
   いて、一般式(3) で示されるオルガノアルコキシシラン
   の加水分解物が添加混合されていることを特徴とする光
   学部品の反射防止処理液。 (c) Ｒ¹ _aＳｉＲ² _b（ＯＲ³ ）_4-a-b （但し、Ｒ¹ は炭素数が１〜６のアルキル基、ビニル
   基、エポキシ基、メタクリロキシ基、フェニル基であ
   り、Ｒ² は炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン化アル
   キル基であり、Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル基、アル
   コキシアルキル基、アシル基であり、ａ及びｂは、０，
   １または２であって、ａ＋ｂ＝１，２，３のいずれかで
   ある。）
4. 【請求項４】 光学基材の少なくとも一面に、コロイダ
   ルシリカが、一般式(a) で示されるケイ酸エステルの加
   水分解コロイド粒子で凝集固化されて反射防止膜が形成
   されてなる反射防止処理光学部品において、 前記反射防止膜が、一般式(b) で示されるフッ化アルキ
   ルアルコキシシランの加水分解物を含有することを特徴
   とする反射防止処理光学部品。 (a) Ｓｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシア
   ルキル基、アシル基である。） (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
   素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
   ル基であり、ａは０〜１０の整数である。）
5. 【請求項５】 請求項４の光学部品において、前記反射
   防止処理膜が、低屈折率の無機コロイド粒子を含有する
   ことを特徴とする反射防止処理光学部品。
6. 【請求項６】 請求項４または５の光学部品において、
   前記反射防止処理膜が、一般式(c) で示されるオルガノ
   アルコキシシランの加水分解物を含有することを特徴と
   する反射防止処理光学部品。 (c) Ｒ¹ _aＳｉＲ² _b（ＯＲ³ ）_4-a-b （但し、Ｒ¹ は炭素数が１〜６のアルキル基、ビニル
   基、エポキシ基、メタクリロキシ基、フェニル基であ
   り、Ｒ² は炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン化アル
   キル基であり、Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル基、アル
   コキシアルキル基、アシル基であり、ａ及びｂは、０，
   １または２であって、ａ＋ｂ＝１，２，３のいずれかで
   ある。）
7. 【請求項７】 請求項４、５または６において、前記反
   射防止処理膜の表面が、一般式(b) 、(d) 、(e) で示さ
   れるオルガノアルコキシシランの加水分解物からなる滑
   性処理膜が形成されていることを特徴とする反射防止処
   理光学部品。 (b) Ｆ₃ Ｃ−（ＣＦ₂ ）−_a Ｒ¹ Ｓｉ( ＯＲ²)₃ （但し、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ² は炭
   素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシ
   ル基であり、ａは０〜１０の整数である。） (d) Ｓｉ_a Ｏ_a-1 ［−（ＯＳｉ( ＣＨ₃)₂ ）−_b ＯＲ₁ ］_2a+2 （Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシアルキ
   ル基、アシル基であり、ａは１〜４の、ｂは１〜７のそ
   れぞれ整数である。） (e) Ｒ¹ Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ Ｏ−［Ｓｉ（ＣＨ₃ ）₂ Ｏ］−_a Ｒ₂ （Ｒ¹ 、Ｒ² は炭素数１〜４のアルコキシ基、ヒドロキ
   シル基、アミノ基、ビニル基、メタクリロキシ基、エポ
   キシ基、カルボキシル基であり、Ｒ¹ 、Ｒ²は、同一基
   または異なった基であってもよい。ａは０〜１０の整数
   である。）