JPH0475573B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0475573B2 JPH0475573B2 JP58218931A JP21893183A JPH0475573B2 JP H0475573 B2 JPH0475573 B2 JP H0475573B2 JP 58218931 A JP58218931 A JP 58218931A JP 21893183 A JP21893183 A JP 21893183A JP H0475573 B2 JPH0475573 B2 JP H0475573B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- thin film
- metal thin
- thickness direction
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録再生に利用される金属
薄膜型磁気記録媒体に関する。 従来例の構成とその問題点 ビデオ記録、コンピユータデータ記録などに用
いる磁気記録媒体においては記録容量の大容量
化、機器の小型化を達成するため記録密度の向上
が強く望まれていることは良く知られている。 そのため各方面で磁気記録媒体の改良が続けら
れているが、磁気記録再生は媒体と磁気ヘツドの
相互作用に基本があり、原理的に高密度記録に適
した媒体であるものは勿論であるが、実用信頼性
の確保できるものでなければならない。 上記事情に鑑み、現在提案されているCo−Ni
−Ｏ系の面内磁化膜、Co−Cr系の垂直磁化膜に
代表される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金
属薄膜型磁気記録媒体は、最短記録波長が0.5μｍ
までに短波長化可能であることが確かめられ、有
望視されているものの、くり返し使用時、強磁性
金属薄膜に亀裂が入り、信号対雑音化（以下Ｓ／
Ｎで示す）が増加する欠点があり、磁気記録層表
面に滑剤を塗布し、滑性を付与することで、応力
分散により、亀裂の発生を抑える試みがあるが不
十分であるし、強磁性金属薄膜と高分子基板との
間の付着強度が重要な因子となつているとの考え
方に基ずく高分子基板の前処理等も検討されてい
るもののこれも不十分であり、例えば、回転ヘリ
カルスキヤンの磁気ヘツドによる記録再生では、
テープ走行系を工夫し、テープに与える張力の大
きさ、変動を小さくしても、100回以上Ｓ／Ｎを
維持できる構成のものは見出せないのが実状であ
る。 発明の目的 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とし、く
り返し使用でＳ／Ｎの安定な金属薄膜型磁気記録
媒体を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は高分子基板
の厚み方向に対する圧縮弾性率が400Kg／mm2以上
であることを特徴とするもので、くり返し記録再
生を行つても亀裂は発生しないか発生しても殆ん
どＳ／Ｎの低下なしに使用できる媒体が得られる
ものである。 実施例の説明 以下本発明について図面を参照しながら説明す
る。第１図は本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の
拡大断面図で、第１図に於て１は強磁性金属薄膜
からなる磁気記録層で、２は高分子基板で、３は
滑剤塗布層である。ここで強磁性金属薄膜１とし
ては、Co，Fe，Ni，Co−Fe，Co−Ni，Co−
Ｂ，Co−Cu，Co−Ge，Co−Mn，Co−Mg，Co
−Mo，Co−Pt，Co−Ru，Co−Rh，Co−Si，
Co−Sm，Co−Gd，Co−Ta，Co−Ｖ，Co−Ｗ，
Co−Ｙ，Co−Zn，Co−Cr，Co−Ti，Co−Ce，
Co−Ni−Cr，Co−Ni−Mg等及びそれらの部分
酸化膜、部分窒化膜などが挙げられる。 前記薄膜の製法としては、無電解メツキ、イオ
ンビームデポジシヨン、イオンプレーテイング、
スパツタリング、電子ビーム蒸着等公知の薄膜化
技術から適宜選択できる。 高分子基板２としては、ポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピレン等の
ポリオレフイン類、セルロースジアセテート、ニ
トロセルロース等のセルロース誘導体、ポリカー
ボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド等が挙げられ、下塗り層を有する場合は、そ
れを含めて高分子基板２とみなして考えるものと
する。滑剤塗布層３は、脂肪酸、金属石けん、脂
肪酸アミド、鉱油、動植物油、高級アルコール、
シリコーンオイル、フルオロカーボン類などを溶
剤に溶かして塗布乾燥して得るか、乾式法にて得
たものである。 本発明の要旨とするところは、前記基板の構成
要件が従来全く着目されなかつた基板の厚み方向
の機械特性に制限を加えるもので、具体的には、
厚み方向の圧縮弾性率を400Kg／mm2以上にするこ
とで後述するように、走行系での異常な応力集中
でも亀裂が発生しないか、例え発生してもＳ／Ｎ
が低下する程の永久変形にならないものである。 臨界値が400Kg／mm2にあることについては、必
ずしも明確ではないが、前提となるのは、短波長
記録のために、磁気記録層表面は、平均粗さで
0.05μｍ以下で好んで使われるため、テープの走
行系に特別の配慮がされ、シリンダ、ポスト、ピ
ンチローラ、ガイドピン等の表面仕上げも1S以
下で用いられることから、これらの組み合せで総
合的に決るもので、定常走行時のテープ張力は
高々40ｇ（テープ幅８mmに対して）までの範囲で
使用することと基板厚みは20μｍ以下で使われる
ことが前提である。 尚数多くの実験結果が示しているのは、400
Kg／mm2から300Kg／mm2の範囲では、強磁性金属薄
膜の条件によつてＳ／Ｎの劣化するものとしない
ものとが現れる遷移領域となるので、400Kg／mm2
以下を使用するのが好ましい。 尚基板の条件で厚み方向に400Kg／mm2以上の圧
縮弾性率を有するものを選択するには、材質を選
ぶか、同一材質でも製膜時の特に熱管理条件を選
ぶことで実施できるものである。 〔実施例 １〕 厚み15μｍのポリエーテルケトンスルフオンフ
イルムを厚み方向の圧縮弾性率を３水準選んで、
その基板上にCo−Ni（Ni20重量％）０，12μｍを
１×10-6Torrの酸素雰囲気で0.2μｍ／minの速度
で最小入射角43度で蒸着した。この上にミリスチ
ン酸を180ppm溶解したメチルエチルケトンを乾
燥厚みが55Åになるよう塗布し、８mm幅の磁気テ
ープを得た。 このテープをギヤツプ長0.25μｍのアモルフア
スヘツドを塔さいした直径40mmの回転シリンダに
沿わせて移動する走行系をもつた試験用のビデオ
テープレコーダにかけて（張力25ｇとした）くり
返し使用してＳ／Ｎの変化を調べた。Ｓ／Ｎは記
録波長0.66μｍの値で第１回目の記録再生時の値
をＯ〔dB〕とした。その結果を表１に示した。
薄膜型磁気記録媒体に関する。 従来例の構成とその問題点 ビデオ記録、コンピユータデータ記録などに用
いる磁気記録媒体においては記録容量の大容量
化、機器の小型化を達成するため記録密度の向上
が強く望まれていることは良く知られている。 そのため各方面で磁気記録媒体の改良が続けら
れているが、磁気記録再生は媒体と磁気ヘツドの
相互作用に基本があり、原理的に高密度記録に適
した媒体であるものは勿論であるが、実用信頼性
の確保できるものでなければならない。 上記事情に鑑み、現在提案されているCo−Ni
−Ｏ系の面内磁化膜、Co−Cr系の垂直磁化膜に
代表される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金
属薄膜型磁気記録媒体は、最短記録波長が0.5μｍ
までに短波長化可能であることが確かめられ、有
望視されているものの、くり返し使用時、強磁性
金属薄膜に亀裂が入り、信号対雑音化（以下Ｓ／
Ｎで示す）が増加する欠点があり、磁気記録層表
面に滑剤を塗布し、滑性を付与することで、応力
分散により、亀裂の発生を抑える試みがあるが不
十分であるし、強磁性金属薄膜と高分子基板との
間の付着強度が重要な因子となつているとの考え
方に基ずく高分子基板の前処理等も検討されてい
るもののこれも不十分であり、例えば、回転ヘリ
カルスキヤンの磁気ヘツドによる記録再生では、
テープ走行系を工夫し、テープに与える張力の大
きさ、変動を小さくしても、100回以上Ｓ／Ｎを
維持できる構成のものは見出せないのが実状であ
る。 発明の目的 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とし、く
り返し使用でＳ／Ｎの安定な金属薄膜型磁気記録
媒体を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は高分子基板
の厚み方向に対する圧縮弾性率が400Kg／mm2以上
であることを特徴とするもので、くり返し記録再
生を行つても亀裂は発生しないか発生しても殆ん
どＳ／Ｎの低下なしに使用できる媒体が得られる
ものである。 実施例の説明 以下本発明について図面を参照しながら説明す
る。第１図は本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の
拡大断面図で、第１図に於て１は強磁性金属薄膜
からなる磁気記録層で、２は高分子基板で、３は
滑剤塗布層である。ここで強磁性金属薄膜１とし
ては、Co，Fe，Ni，Co−Fe，Co−Ni，Co−
Ｂ，Co−Cu，Co−Ge，Co−Mn，Co−Mg，Co
−Mo，Co−Pt，Co−Ru，Co−Rh，Co−Si，
Co−Sm，Co−Gd，Co−Ta，Co−Ｖ，Co−Ｗ，
Co−Ｙ，Co−Zn，Co−Cr，Co−Ti，Co−Ce，
Co−Ni−Cr，Co−Ni−Mg等及びそれらの部分
酸化膜、部分窒化膜などが挙げられる。 前記薄膜の製法としては、無電解メツキ、イオ
ンビームデポジシヨン、イオンプレーテイング、
スパツタリング、電子ビーム蒸着等公知の薄膜化
技術から適宜選択できる。 高分子基板２としては、ポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピレン等の
ポリオレフイン類、セルロースジアセテート、ニ
トロセルロース等のセルロース誘導体、ポリカー
ボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド等が挙げられ、下塗り層を有する場合は、そ
れを含めて高分子基板２とみなして考えるものと
する。滑剤塗布層３は、脂肪酸、金属石けん、脂
肪酸アミド、鉱油、動植物油、高級アルコール、
シリコーンオイル、フルオロカーボン類などを溶
剤に溶かして塗布乾燥して得るか、乾式法にて得
たものである。 本発明の要旨とするところは、前記基板の構成
要件が従来全く着目されなかつた基板の厚み方向
の機械特性に制限を加えるもので、具体的には、
厚み方向の圧縮弾性率を400Kg／mm2以上にするこ
とで後述するように、走行系での異常な応力集中
でも亀裂が発生しないか、例え発生してもＳ／Ｎ
が低下する程の永久変形にならないものである。 臨界値が400Kg／mm2にあることについては、必
ずしも明確ではないが、前提となるのは、短波長
記録のために、磁気記録層表面は、平均粗さで
0.05μｍ以下で好んで使われるため、テープの走
行系に特別の配慮がされ、シリンダ、ポスト、ピ
ンチローラ、ガイドピン等の表面仕上げも1S以
下で用いられることから、これらの組み合せで総
合的に決るもので、定常走行時のテープ張力は
高々40ｇ（テープ幅８mmに対して）までの範囲で
使用することと基板厚みは20μｍ以下で使われる
ことが前提である。 尚数多くの実験結果が示しているのは、400
Kg／mm2から300Kg／mm2の範囲では、強磁性金属薄
膜の条件によつてＳ／Ｎの劣化するものとしない
ものとが現れる遷移領域となるので、400Kg／mm2
以下を使用するのが好ましい。 尚基板の条件で厚み方向に400Kg／mm2以上の圧
縮弾性率を有するものを選択するには、材質を選
ぶか、同一材質でも製膜時の特に熱管理条件を選
ぶことで実施できるものである。 〔実施例 １〕 厚み15μｍのポリエーテルケトンスルフオンフ
イルムを厚み方向の圧縮弾性率を３水準選んで、
その基板上にCo−Ni（Ni20重量％）０，12μｍを
１×10-6Torrの酸素雰囲気で0.2μｍ／minの速度
で最小入射角43度で蒸着した。この上にミリスチ
ン酸を180ppm溶解したメチルエチルケトンを乾
燥厚みが55Åになるよう塗布し、８mm幅の磁気テ
ープを得た。 このテープをギヤツプ長0.25μｍのアモルフア
スヘツドを塔さいした直径40mmの回転シリンダに
沿わせて移動する走行系をもつた試験用のビデオ
テープレコーダにかけて（張力25ｇとした）くり
返し使用してＳ／Ｎの変化を調べた。Ｓ／Ｎは記
録波長0.66μｍの値で第１回目の記録再生時の値
をＯ〔dB〕とした。その結果を表１に示した。
【表】
厚み9μｍのポリアミドイミドフイルムを基板
とし、厚み方向の圧縮弾性率の異なるものに、80
％NiのNi−Fe合金を0.3μｍ、20％CrのCo−Cr合
金を0.1μｍをAr分圧１×10-2Torr中で13.56MHz
のグロー放電を利用したスパツタリング法により
積層し、実施例−１と同様に垂直記録用の８mm幅
のテープを作成し、ギヤツプ長0.3μｍのフエライ
トヘツドによりＳ／Ｎの変化を調べた結果を表２
に示す。
とし、厚み方向の圧縮弾性率の異なるものに、80
％NiのNi−Fe合金を0.3μｍ、20％CrのCo−Cr合
金を0.1μｍをAr分圧１×10-2Torr中で13.56MHz
のグロー放電を利用したスパツタリング法により
積層し、実施例−１と同様に垂直記録用の８mm幅
のテープを作成し、ギヤツプ長0.3μｍのフエライ
トヘツドによりＳ／Ｎの変化を調べた結果を表２
に示す。
【表】
両実施例に共通して言えることは基板によらず
厚み方向の圧縮弾性率が400Kg／mm2以上であれば
環境によることなく、多数のくり返し使用後も
Ｓ／Ｎは殆んど変化ししない点で、これは第２図
に亀裂の入るメカニズムをを摸式的に示したよう
に、例えばポスト４の異常突起５（又はかみ込ん
だ、硬いゴミ、磁性粉などの場合も同様である。）
に起因した変形が基板の厚み方向に（矢印Ａで示
したように）伝幡し、強磁性金属薄膜を破かい
し、亀裂６を生じることが殆んどないか、あつて
も変形量が小さくＳ／Ｎに影響しないのである。
この亀裂に特徴的なのは、放射状の亀裂、又は放
射状と同心状に近い亀裂の混在で、この種の亀裂
が著しくノイズを誘発するために、これを防ぐ本
発明の構成はくり返し使用下にＳ／Ｎを安定化し
た磁気記録媒体を得る上で極めて有効である。 発明の効果 本発明は、高分子基板の厚み方向の圧縮弾性率
が400Kg／mm2以上の基板上に強磁性金属薄膜を配
することで、テープレコーダでくり返し使用した
時に亀裂が発生してＳ／Ｎを低下させることを実
用レベルで防止できるもので、短波長記録用の媒
体として実用価値は大きい。
厚み方向の圧縮弾性率が400Kg／mm2以上であれば
環境によることなく、多数のくり返し使用後も
Ｓ／Ｎは殆んど変化ししない点で、これは第２図
に亀裂の入るメカニズムをを摸式的に示したよう
に、例えばポスト４の異常突起５（又はかみ込ん
だ、硬いゴミ、磁性粉などの場合も同様である。）
に起因した変形が基板の厚み方向に（矢印Ａで示
したように）伝幡し、強磁性金属薄膜を破かい
し、亀裂６を生じることが殆んどないか、あつて
も変形量が小さくＳ／Ｎに影響しないのである。
この亀裂に特徴的なのは、放射状の亀裂、又は放
射状と同心状に近い亀裂の混在で、この種の亀裂
が著しくノイズを誘発するために、これを防ぐ本
発明の構成はくり返し使用下にＳ／Ｎを安定化し
た磁気記録媒体を得る上で極めて有効である。 発明の効果 本発明は、高分子基板の厚み方向の圧縮弾性率
が400Kg／mm2以上の基板上に強磁性金属薄膜を配
することで、テープレコーダでくり返し使用した
時に亀裂が発生してＳ／Ｎを低下させることを実
用レベルで防止できるもので、短波長記録用の媒
体として実用価値は大きい。
第１図は本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の拡
大断面図、第２図は本発明の磁気記録媒体の作用
効果を説明するための図である。 １……強磁性金属薄膜、２……高分子基板、６
…亀裂部。
大断面図、第２図は本発明の磁気記録媒体の作用
効果を説明するための図である。 １……強磁性金属薄膜、２……高分子基板、６
…亀裂部。
Claims (1)
- １ 高分子基板上に強磁性金属薄膜からなる磁気
記録層を配して成る磁気記録媒体に於て、前記高
分子基板の厚み方向に対する圧縮弾性率が400
Kg／mm2以上であることを特徴とする金属薄膜型磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21893183A JPS60111322A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21893183A JPS60111322A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60111322A JPS60111322A (ja) | 1985-06-17 |
| JPH0475573B2 true JPH0475573B2 (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=16727562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21893183A Granted JPS60111322A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60111322A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3526150B2 (ja) * | 1995-10-31 | 2004-05-10 | 矢崎総業株式会社 | メッキ処理治具及びメッキ処理治具を用いたメッキ処理方法 |
| JPH09298382A (ja) | 1996-05-07 | 1997-11-18 | Yazaki Corp | シールドメッキコルゲートチューブ |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS605183B2 (ja) * | 1979-07-09 | 1985-02-08 | 東レ株式会社 | ポリエステルフイルム |
| JPS5868225A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPS58168655A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-05 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-11-21 JP JP21893183A patent/JPS60111322A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60111322A (ja) | 1985-06-17 |
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