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JPH04214727A - ジアセチレン系ポリアミド酸誘導体及びポリイミド - Google Patents

ジアセチレン系ポリアミド酸誘導体及びポリイミド

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Publication number
JPH04214727A
JPH04214727A JP40215090A JP40215090A JPH04214727A JP H04214727 A JPH04214727 A JP H04214727A JP 40215090 A JP40215090 A JP 40215090A JP 40215090 A JP40215090 A JP 40215090A JP H04214727 A JPH04214727 A JP H04214727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
polyamic acid
diacetylene
polyimide
expressed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP40215090A
Other languages
English (en)
Inventor
Jinichiro Kato
仁一郎 加藤
Taichi Imanishi
今西 太一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP40215090A priority Critical patent/JPH04214727A/ja
Publication of JPH04214727A publication Critical patent/JPH04214727A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】本発明は、架橋反応性に優れたジ
アセチレン結合を有するジアセチレン系ポリアミド酸、
その誘導体及びポリイミドに関するものであり、更に詳
しくは、成形加工性に優れ、ジアセチレン基の高反応性
を有する新種のポリアミド酸誘導体及びポリイミドに関
する。
【従来技術及びその問題点】近年、ポリイミドは高分子
材料の中では耐熱性の良い材料として、フィルム、接着
剤、ワニス、成形材料などに用いられ、また一部は繊維
としても開発されるようになってきた。これらポリイミ
ド材料は、通常の高分子材料では使用が困難な厳しい使
用環境や使用条件のところで用いられることが多いため
、ますますその性能向上が要求されているが、例えば、
高度の耐熱性を持たせながら一層の低吸水率、高い寸法
安定性、更には、一層の高弾性率や硬さなどが要求され
ている。
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、固相
反応性に優れ、熱的特性にも力学特性にも優れた架橋材
料を与えることのできる新規なジアセチレン系ポリアミ
ド酸誘導体、及びポリイミドを提供することにある。
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
の解決策として、ポリイミドに架橋反応性を持たせ、架
橋によって上記特性を向上させることを試み、いくつか
のジアセチレン系ポリイミドを開発したが(例えば、特
開昭62−288610号公報、特開昭63−1582
7号公報)、これらは架橋反応性が十分でなく、また原
料モノマ−の合成が難しいなどの問題があった。本発明
者らは、従来よりジアセチレン結合のトポケミカル反応
性、及び架橋性官能基として用いる技術について詳細な
研究を進めてきた。更に、芳香族環にはさまれたジアセ
チレン結合の反応性について、特に固相反応性、トポケ
ミカル反応性について検討を行った結果、化3で表わさ
れる低分子のイミド化合物において、ジアセチレン基が
優れた反応性を示すことを見出し、更に研究の結果、ジ
アセチレン結合を高密度に導入したポリマ−性イミド化
合物において、特に優れた固相反応性を有する素材を見
出し、鋭意研究の結果、本発明に到達した。
【化3】 すなわち、本発明の第1は、化4の一般式(1)で表さ
れる構造単位の1種または2種以上を有する対数粘度が
0.4以上のジアセチレン系ポリアミド酸誘導体
【化4
】 に関するものであり、本発明の第2は、化5の一般式(
2)で表される構造単位の1種または2種以上を有する
対数粘度が0.4以上のジアセチレン系ポリイミドであ
る。
【化5】 本発明の一般式(1)あるいは一般式(2)において、
Rは炭素数1から6までの二価の有機基であり、脂肪族
系、脂環族系もしくは芳香族系炭化水素基または、これ
らが何らかの連結基で連結された炭化水素基である。こ
れらの2価の有機基を例示するならば化6である。
【化6】 本発明において、一般式(1)あるいは(2)以外の構
成単位については特に制約はなく、例えば、ポリイミド
の構成単位、ポリアミド酸の構成単位、ポリアミドの構
成単位、ポリエステルの構成単位、ポリエ−テルやポリ
ケトン、ポリスルホン、ポリスルフイドなどの構成単位
などが単一あるいは2種以上用いられてもよい。しかし
、本発明の目的を最高に達成するためには、特に芳香族
系の炭化水素基を分子骨格とするポリイミド、ポリアミ
ド酸、ポリアミド、ポリエステル、ポリエ−テル、ポリ
ケトン、ポリスルホン、ポリスルフイドなどの構成単位
であり、特に好ましくは、ポリイミド、ポリアミド酸あ
るいはポリアミドの構成単位である。本発明のポリアミ
ド酸誘導体及びポリイミドは付形後の強度を十分に保つ
ため、対数粘度が0.4以上でなくてはいけない。また
、材料としてのしなやかさ、強度等を最大限に高めるた
めには、対数粘度が好ましくは1.0以上、より好まし
くは2.0以上である。尚、ここで用いる対数粘度とは
、30℃においてN,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジ
メチルスルホキシド、硫酸、メタンスルホン酸、クロロ
スルホン酸、硝酸、ヘキサフロロイソプロパノ−ルから
選ばれた溶媒を用いて、0.5g/dlの濃度で測定さ
れたものである。本発明のジアセチレン系ポリイミドお
よびジアセチレン系ポリアミド酸のいくつかの例を示す
ならば、一般式(1)あるいは(2)に対応するものと
して、化7、化8などであり、これらは単独であるいは
2種以上の組合せで用いられる。
【化7】
【化8】 本発明のポリイミドおよびポリアミド酸の製造方法とし
ては化9が用いられる。
【化9】 一般式(1)あるいは(2)以外の構成単位を組みこみ
、本発明のポリアミド酸あるいはポリイミドを製造する
方法においても、上記方法を適宜応用して用いることが
出来、例えば化10が用いられる。
【化10】 上記酸化カップリング反応の条件としては特に制限はな
いものの、アミド酸の溶解性及び反応性を高めるため、
溶剤としてはジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミ
ド系、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチ
ルアセトアミドなどのアセトアミド類、N−メチル−2
−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロ
リドン類、ヘキサメチルホスホルアミド、ピリジン、ピ
コリン、トリエチルアミンなどの3級アミン類を挙げる
ことができ、これらを単独または混合物として用い、又
、部分的にはトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ク
ロロホルムなどの炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類を
用いられ得る。金属触媒としては、通常酸化カップリン
グ反応に用いられる金属化合物が用いられ、例えば、銅
、コバルト、マンガンなどの遷移金属の塩や錯体が用い
られ、例えば、塩化銅(I)や酢酸銅(I)などが用い
られる。反応温度は0℃〜120℃、好ましくは5〜8
0℃の範囲であり、酸素、あるいは不活性ガスで希釈し
た酸素を導入して反応させる。酸無水物とジアミンの反
応に際しては、通常一般に行われる反応条件が用いられ
、例えば、溶剤としては、酸化カップリング反応で用い
られる溶剤がこの場合も適宜選択して用いられる。ポリ
アミド酸からポリイミドを合成する方法についても、通
常の方法および条件が適用できるが、反応温度について
は好ましくは330℃以下、特に好ましくは300℃以
下であり、この温度をこすとジアセチレン結合の反応も
関与してくるため、ポリイミドとして単離する場合には
注意を要する。ポリアミド酸から脱水閉環イミド化する
方法としては、例えば、熱的に行う場合には、ポリアミ
ド酸溶液を流延し膜状化あるいは塗布したり、水などの
貧溶剤に沈澱、粉末化させたり、繊維状にしたりした後
、150℃以下の温度で乾燥し、ついで、これを100
℃付近から徐々に温度を高め加熱を行い、330℃以下
、特に300℃以下に保持することにより達成出来る。 また、化学的に脱水閉環イミド化する方法としては、上
記ポリアミド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と必要に応
じて触媒も加え、これを製膜、塗布、粉末化、繊維化な
どした後150℃以下の温度で乾燥し、次いで100℃
付近から徐々に温度を上げ330℃以下、好ましくは3
00℃以下、最も好ましくは280℃以下で保持し反応
を達成させる。この際、触媒としては、トリエチルアミ
ン、ジメチルアニリン、ピリジン、ピコリンなどの第3
級アミン類が好ましい。本発明のポリアミド酸を脱水閉
環してポリイミドを合成する際に、ジアセチレン結合の
架橋反応も進行させてもかまわない用途においては、上
記の反応温度の上限は特に無くなる。しかし、架橋後の
生成物の特性を高度に発生させるためには、ポリアミド
酸からイミド化への反応は出来るだけ完全に進めること
が望ましく、このため、反応温度の制御は極めて重要で
ある。なお本発明において、ポリアミド酸の脱水閉環反
応を行う以前に、本発明のポリアミド酸同志を混合した
り、他のポリアミド酸あるいは各種のポリマ−や安定剤
、添加剤などを添加混合することも可能である。
【実施例】
【実施例1】(1)  ジャ−ナル・オブ・オ−ガニッ
クケミストリ−第48巻5135頁(1983年)に記
載されている方法に従って合成した化11のエチニル系
酸無水物
【化11】 を用い、エタノ−ルと反応させエステル化を行った後、
このエステル化物220g、塩化第一胴12gをピリジ
ン1.2lに溶解し、酸素を吹きこみながら最高60℃
で3時間反応を行い、反応後、多量の水中に注ぎ希塩酸
及び水で洗浄を行った。次に、この生成物を希NaOH
水溶液(約4%)500重量部と80℃で5時間加熱し
、反応後、母液を塩酸酸性にした。得られた生成物を水
洗した後、乾燥し、キシレン中で5時間還流し脱水を行
った。この生成物をクロロホルムで抽出し、更に洗浄を
行い、乾燥後活性炭で処理した後、結晶化させ、白色の
化12を得た。
【化12】 このジアセチレン系酸無水物は元素分析、IR、NMR
などで確認した。 IR(KBr 錠剤法)での典型的吸収位置(cm−1
):3075、  1806、  1836、  17
69 1H−NMR(重クロロホルム中ppm): 8.09、  7.99 (2)  化13のジアセチレン系ポリイミドの合成

化13】 4.4′−ジアミノジフェニルジアセチレン0.2モル
を窒素で置換された四つ口フラスコに仕込み、300m
lのN−メチルピロリドンに溶解した。この溶液に(1
)で合成したジアセチレン系酸無水物(0.2モル) 
の粉砕物を添加し、2時間、室温で攪拌した。得られた
化14のポリアミック酸の対数粘度は0.8であった。 反応後、得られたド−プをガラス板上にキャストし、8
0℃のエア−オ−ブンで1時間乾燥後、N−メチルピロ
リドンと水の混合溶液中でガラス板から剥し、黄色のフ
ィルムを得た。
【化14】 得られたポリアミド酸フィルムを300℃でイミド化し
た。得られたポリイミドの対数粘度は1.2であった。 IR(cm−1)  2213、  1778、  1
721、  1614 得られたイミドフィルムは350℃以上の熱処理でジア
セチレン結合が架橋し、硬いフィルムとなった。この架
橋したフィルムの線膨張係数は、1.2ppm、吸水率
は0.02%以下と良好であった。
【実施例2】実施例1において、4,4′−ジアミノジ
フェニルジアセチレンの代わりに、他のジアセチレン系
ジアミンを用いて、実験を繰り返した。原料であるポリ
アミック酸の結果を表1に、ポリイミドの結果を表2に
示す。いずれのポリマ−IRスペクトルにおいてもアミ
ド酸には、3500cm−1と1600cm−1付近に
カルボキシル基の吸収が、またポリイミドには1780
cm−1にイミド基の吸収が認められた。
【表1】
【表2】
【実施例3】実施例1において、ジアセチレン系酸無水
物の代わりに、ジアセチレン系酸無水物0.07モル、
及びピロメリット酸二無水物0.13モルを用いて同様
の実験を行った。得られたポリイミドフィルムは若干も
ろいもののフィルムとしての特性が測定でき、ジアセチ
レン結合を350℃で反応させたフィルムの線膨張係数
は16、吸水率は0.12%であった。
【比較例1】実施例3において、ジアセチレン系酸無水
物の代りに、ピロメリット酸二無水物を用いたところフ
ィルムは極めてもろく特性評価できなかった。
【実施例4】実施例1の(1)で合成した化15のエチ
ニル系酸無水物68.8g(0.4モル)を、
【化15
】 N−メチルピロリドン600ml中に溶解した化16の
4,4′−ジアミノジフエニルメタン39.6g(0.
2モル)に添加し5〜10℃で1時間反応させた。
【化16】 その後反応液を水中に注ぎ、生成物を析出させ、洗浄後
乾燥した。得られた化17のエチニル末端アミド酸
【化
17】 は、IR、NMRおよび元素分析で確認した。 IR(cm−1):3426、1600、1540この
エチニル末端アミド酸54.2g(0.14モル) を
ピリジン300ml、N−メチルピロリドン200ml
の混合系に溶解し、これに塩化第一銅1.2gを加え、
酸素を吹きこみ5時間、30℃から最高温度60℃の範
囲で反応させポリアミド酸溶液を得た。これを多量の水
に注ぎ、沈澱をろ過し、冷希塩酸、水で洗浄を繰り返し
た後乾燥した。得られたポリアミック酸の対数粘度は0
.4であった。このポリアミック酸を冷却下粉砕し、粉
末状にした後、100℃に1時間、200℃で1時間、
更に 260℃で1時間加熱し、脱水閉環を行った。つ
いで、この粉末を直径20mmの金型に入れ真空高圧プ
レスにより、まず脱気を行った後、高真空下(0.2T
prr以下)で、260℃、30分間2500kg/c
m2 で加圧し、次いで昇温を行い最終的に340℃で
1時間3000kg/cm2 で高圧粉体圧縮成形を行
った。得られた成形体は、DTA測定でジアセチレン結
合の発熱ピ−クは消失し、十分架橋が進展しており、そ
の線膨張係数は1.0ppm、吸水率は0.05%以下
であった。
【発明の効果】本発明のジアセチレン結合を有するポリ
アミド酸誘導体及びポリイミドは、その剛直鎖構造から
由来する凝集性や配向性、また、電子吸引的又は電子放
出的官能基による電子的効果を受けたジアセチレン結合
の反応性などから固相架橋反応性に優れ、高密度に導入
されたジアセチレン結合が高収率で反応するため熱的特
性にも力学特性にも優れた架橋材料を与えることが出来
る。それ故、高度の耐熱性と寸法安定性(低吸水率、低
線膨張率)が要求される用途に使用可能であり、特にそ
の用途に応じて、粉体状、塊状、膜状、繊維状、溶液状
、懸濁状など種々の形状で使用可能であり、フィルム、
テ−プ、ワニスコ−ティング剤、接着剤、繊維、成形用
樹脂、プリント基板用樹脂などに活用でき極めて有用で
ある。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  化1の一般式(1)で表される構造単
    位の1種または2種以上を有する対数粘度が0.4以上
    のジアセチレン系ポリアミド酸誘導体。 【化1】
  2. 【請求項2】  化2の一般式(2)で表される構造単
    位の1種または2種以上を有する対数粘度が0.4以上
    のジアセチレン系ポリイミド。 【化2】
JP40215090A 1990-12-14 1990-12-14 ジアセチレン系ポリアミド酸誘導体及びポリイミド Withdrawn JPH04214727A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010036170A1 (en) * 2008-09-23 2010-04-01 Nexam Chemical Ab Acetylenic polyamide
CN101831174A (zh) * 2009-03-10 2010-09-15 三星电子株式会社 交联的含金属的聚酰胺酸、交联的含金属的聚酰亚胺、其制法及聚酰亚胺膜
US8263732B2 (en) 2006-03-16 2012-09-11 Jnc Corporation Photo-alignment film and liquid crystal display element
JP2013173820A (ja) * 2012-02-23 2013-09-05 Pi R & D Co Ltd 新規ポリイミド及びそれを含む印刷用組成物
JP2014509674A (ja) * 2011-04-01 2014-04-21 ネクサム ケミカル エイビー 改善したオリゴイミドおよびポリイミド
JP2016533394A (ja) * 2013-09-30 2016-10-27 エルジー・ケム・リミテッド 重合性液晶化合物、これを含む液晶組成物および光学フィルム
EP3725773A1 (en) * 2019-04-16 2020-10-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Compounds and materials for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process
US11692066B2 (en) 2019-04-16 2023-07-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound for forming organic film

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8263732B2 (en) 2006-03-16 2012-09-11 Jnc Corporation Photo-alignment film and liquid crystal display element
TWI422927B (zh) * 2006-03-16 2014-01-11 Jnc Corp 光配向膜以及液晶顯示元件
US8492507B2 (en) 2008-09-23 2013-07-23 Nexam Chemical Ab Acetylenic polyamide
WO2010036170A1 (en) * 2008-09-23 2010-04-01 Nexam Chemical Ab Acetylenic polyamide
CN101831174A (zh) * 2009-03-10 2010-09-15 三星电子株式会社 交联的含金属的聚酰胺酸、交联的含金属的聚酰亚胺、其制法及聚酰亚胺膜
US20100273954A1 (en) * 2009-03-10 2010-10-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Cross-linked product of metal-containing polyamic acid, cross-linked product of metal-containing polyimide including the cross-linked product of metal-containing polyamic acid, method of manufacturing the cross-linked product of metal-containing polyimide, and polyimide film including the cross-linked product of metal-containing polyimide
US8288484B2 (en) * 2009-03-10 2012-10-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Cross-linked product of metal-containing polyamic acid, cross-linked product of metal-containing polyimide including the cross-linked product of metal-containing polyamic acid, method of manufacturing the cross-linked product of metal-containing polyimide, and polyimide film including the cross-linked product of metal-containing polyimide
JP2014509674A (ja) * 2011-04-01 2014-04-21 ネクサム ケミカル エイビー 改善したオリゴイミドおよびポリイミド
JP2013173820A (ja) * 2012-02-23 2013-09-05 Pi R & D Co Ltd 新規ポリイミド及びそれを含む印刷用組成物
JP2016533394A (ja) * 2013-09-30 2016-10-27 エルジー・ケム・リミテッド 重合性液晶化合物、これを含む液晶組成物および光学フィルム
EP3725773A1 (en) * 2019-04-16 2020-10-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Compounds and materials for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process
JP2020177226A (ja) * 2019-04-16 2020-10-29 信越化学工業株式会社 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び有機膜形成用化合物
US11500292B2 (en) 2019-04-16 2022-11-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound for forming organic film
US11692066B2 (en) 2019-04-16 2023-07-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound for forming organic film

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