JPH04193706A - シリコンの精製方法 - Google Patents
シリコンの精製方法Info
- Publication number
- JPH04193706A JPH04193706A JP32232090A JP32232090A JPH04193706A JP H04193706 A JPH04193706 A JP H04193706A JP 32232090 A JP32232090 A JP 32232090A JP 32232090 A JP32232090 A JP 32232090A JP H04193706 A JPH04193706 A JP H04193706A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- gas
- tuyere
- added
- blowing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 44
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000007670 refining Methods 0.000 title claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 2
- 101100083507 Caenorhabditis elegans acl-2 gene Proteins 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 abstract 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 abstract 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、主に太陽電池に用いる高純度シリコンの精製
方法に関するものである。
方法に関するものである。
〈従来の技術〉
太陽電池に使用するシリコン中のP、B、C1Fe、
AI、 T+などの不純物は少ない方がよく、シリコン
は高純度であることが望まれる。また、太陽電池が広く
利用されるためには、このシリコンを安価に量産するこ
とが必要である。
AI、 T+などの不純物は少ない方がよく、シリコン
は高純度であることが望まれる。また、太陽電池が広く
利用されるためには、このシリコンを安価に量産するこ
とが必要である。
従来、この太陽電池用シリコンとして半導体用のシリコ
ンが用いられてきたが、高価なためより安価な製造法が
検討されている。例えば特開昭63−218506号公
報にはプラズマを用いる精製方法が提案されている。
ンが用いられてきたが、高価なためより安価な製造法が
検討されている。例えば特開昭63−218506号公
報にはプラズマを用いる精製方法が提案されている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、この方法では金属シリコンより除去しに
くいBの除去ができ、量産も可能であるが、プラズマを
用いるため、高価な静ガスと電力の多量消費は避けられ
ず、精製コストの点で未だ問題があった。
くいBの除去ができ、量産も可能であるが、プラズマを
用いるため、高価な静ガスと電力の多量消費は避けられ
ず、精製コストの点で未だ問題があった。
そこで、工業的により有利に太陽電池用のシリコンを製
造する技術の開発が望まれていた。
造する技術の開発が望まれていた。
本発明の目的は、上記問題点を解決し、より有利に高純
度の原料シリコンを大量に供給できるシリコンの精製方
法を提供することである。
度の原料シリコンを大量に供給できるシリコンの精製方
法を提供することである。
〈課題を解決するだめの手段〉
本発明者らは、前記問題点を解決Jるため、基礎実験を
重ねた結果、シリコン中の炭素、ボ[Iンの除去にはシ
リコン浴の攪拌強化と、さらに加えるに、酸化性ガスと
の反応界面積の増加が重要な要因であることを知見し、
これに基づいて本発明を構成したものである。
重ねた結果、シリコン中の炭素、ボ[Iンの除去にはシ
リコン浴の攪拌強化と、さらに加えるに、酸化性ガスと
の反応界面積の増加が重要な要因であることを知見し、
これに基づいて本発明を構成したものである。
ずなわぢ、本発明は、13、C,P、 Fe、へ1等の
不純物元素を含むシリコンを底部にガス吹込め羽L1を
有するシリカを主成分とする容器内で溶融し、該羽口か
らAr若しくはH□又はこれらの混合ガスを吹込むこと
を特徴とするシリコンの精製方法であり、さらに望まし
くは、上記吹込みガスにH□0、CO□及び/又は0□
ガスを添加することであり、またあるいはさらに、ll
Clを添加することもできる。
不純物元素を含むシリコンを底部にガス吹込め羽L1を
有するシリカを主成分とする容器内で溶融し、該羽口か
らAr若しくはH□又はこれらの混合ガスを吹込むこと
を特徴とするシリコンの精製方法であり、さらに望まし
くは、上記吹込みガスにH□0、CO□及び/又は0□
ガスを添加することであり、またあるいはさらに、ll
Clを添加することもできる。
また、羽口から吹込まれるガスにSiO□、CaO1C
aCI□及びCaF2の各粉末から選ばれた1種以上を
添加することもできる。
aCI□及びCaF2の各粉末から選ばれた1種以上を
添加することもできる。
く作 用〉
第1図は本発明を実施する際に用いる基本的な装置を示
したもので、B、C,P、Fe、AIなどの不純物を1
ppm以上含む金属シリコン2を、底部にガス吹込み
羽口(ガス吹込み孔)3を有するシリカあるいはシリカ
を主成分とする容器I内でシリコンの融点以上の温度に
加熱して溶融し、底部に設けた羽口より計、H□などの
不活性ガス、あるいはこれにf(20、CO□、又は少
量の02などの酸化性ガスを混合したガスを吹込むこと
ができるように構成されている。4は誘導力ij熱コイ
ル、6はガス排出用フードである。
したもので、B、C,P、Fe、AIなどの不純物を1
ppm以上含む金属シリコン2を、底部にガス吹込み
羽口(ガス吹込み孔)3を有するシリカあるいはシリカ
を主成分とする容器I内でシリコンの融点以上の温度に
加熱して溶融し、底部に設けた羽口より計、H□などの
不活性ガス、あるいはこれにf(20、CO□、又は少
量の02などの酸化性ガスを混合したガスを吹込むこと
ができるように構成されている。4は誘導力ij熱コイ
ル、6はガス排出用フードである。
このように容器底部よりガスを吹込むことで、容器内の
シリコンは停滞域を形成ゼす、浴全体が強く攪拌される
と同時に、浴中を上昇するガス気泡とシリコンの界面が
反応界面となるため、反応を非常に速く進行さ・けるこ
とができる。またシリコン中の炭素、ボロンは、このよ
・うな方法では酸化物ガスの形で除去されると考えられ
るが、シリカ又はシリカを主成分とする容器を用いるこ
よで、容器より反応に必要な酸素が供給されると同時に
、容器より他の不純物が混入するのを防くごとができる
。また、反応をより速く進めるには、底部より吹込むガ
スに、H□0、CO2及び/又は少量の酸素などの酸化
性ガスを混入することで有利に進めることができる。
シリコンは停滞域を形成ゼす、浴全体が強く攪拌される
と同時に、浴中を上昇するガス気泡とシリコンの界面が
反応界面となるため、反応を非常に速く進行さ・けるこ
とができる。またシリコン中の炭素、ボロンは、このよ
・うな方法では酸化物ガスの形で除去されると考えられ
るが、シリカ又はシリカを主成分とする容器を用いるこ
よで、容器より反応に必要な酸素が供給されると同時に
、容器より他の不純物が混入するのを防くごとができる
。また、反応をより速く進めるには、底部より吹込むガ
スに、H□0、CO2及び/又は少量の酸素などの酸化
性ガスを混入することで有利に進めることができる。
また、特に原料Si中のB濃度が高い場合には、底部羽
口より吹込まれるガスにSin、、Cab、 CaCl
□、(:aFeの一種以上の混合物をわ)末で添加する
ことで、Bの除去が有利に促進される。
口より吹込まれるガスにSin、、Cab、 CaCl
□、(:aFeの一種以上の混合物をわ)末で添加する
ことで、Bの除去が有利に促進される。
本発明では、このようにして、反応時間を短くして有利
にシリコン中のC1■3を除去できるが、シリコン中の
P、AIなどのガスとして除去し易い成分も同時にシリ
コンより除去できる。またFeを除去するには該吹込み
ガスに少量のHClを添加し、蒸気圧の高い鉄の塩化物
を生成させ、これをガスとともに系外に除去することで
達成できる。
にシリコン中のC1■3を除去できるが、シリコン中の
P、AIなどのガスとして除去し易い成分も同時にシリ
コンより除去できる。またFeを除去するには該吹込み
ガスに少量のHClを添加し、蒸気圧の高い鉄の塩化物
を生成させ、これをガスとともに系外に除去することで
達成できる。
これらの処理は、Siの融点以上の温度で行われるが、
作業性、反応速度の点より1450〜1650’Cの範
囲が望ましい。
作業性、反応速度の点より1450〜1650’Cの範
囲が望ましい。
〈実施例〉
第1図に示す装置出回じ構造を有する装置を用いてシリ
コンの精製を行った。容器はシリカ製の容器を用い、底
部に1mmφの孔径の羽口3木を設けている。8kgの
金属シリコンを該容器内で誘導加熱により1550’C
に加熱溶解し、25NI/minで静ガスを底部羽口よ
り吹込んだ。原料として用いた金属シリコン中の不純物
含有量ならびに処理後のシリコン中の不純物含有量を表
1に示す。
コンの精製を行った。容器はシリカ製の容器を用い、底
部に1mmφの孔径の羽口3木を設けている。8kgの
金属シリコンを該容器内で誘導加熱により1550’C
に加熱溶解し、25NI/minで静ガスを底部羽口よ
り吹込んだ。原料として用いた金属シリコン中の不純物
含有量ならびに処理後のシリコン中の不純物含有量を表
1に示す。
実施例1は吹込みガスにAr、実施例2はH□、実施例
3はArとH3、を用いたときの結果である。実施例4
.5.6は各々計ガスにH□05%、CO□ 2%、0
□O205%を添力Hシたときの結果で、これらガスの
添加により不純物の除去速度はより大きくなることがわ
かる。
3はArとH3、を用いたときの結果である。実施例4
.5.6は各々計ガスにH□05%、CO□ 2%、0
□O205%を添力Hシたときの結果で、これらガスの
添加により不純物の除去速度はより大きくなることがわ
かる。
実施例7ば実施例4の条件にフラ・ンクスとじて5iO
z/CaO(] : 1 )の混合粉末を2.0 g
/minで吹込んだときの結果で、実施例8はSiO□
/CaCl□/CaFz (1: 1 : I)の混合
粉末を2.0g/minで吹込んだときの結果である。
z/CaO(] : 1 )の混合粉末を2.0 g
/minで吹込んだときの結果で、実施例8はSiO□
/CaCl□/CaFz (1: 1 : I)の混合
粉末を2.0g/minで吹込んだときの結果である。
この処理では、処理後シリコン浴を静置してフラックス
とシリコンの分離を図ることが必要であったが、反応は
最も早く進行した。
とシリコンの分離を図ることが必要であったが、反応は
最も早く進行した。
実施例9は上記結果ではシリコン中のl?eが除去でき
ないため、実施例1の^rガスにH01ガスを1%添加
したときの結果で、Fe分の除去も行われた。
ないため、実施例1の^rガスにH01ガスを1%添加
したときの結果で、Fe分の除去も行われた。
本発明の実施例では、表1かられかるように、シリコン
中のFe、AIの除去は必ずしも太陽電池用として十分
な量まで低減されないが、これは処理後に一方向凝固な
ど通常の処理方法を併用することで十分な結果を得るこ
とができる。すなわち、実施例4で処理したシリコンを
、1mm/minの速度で一方向に凝固させたシリコン
鋳塊の中央部より切り出した多結晶シリコン基板を用い
た太陽電池では、H%の変換効率が得られた。
中のFe、AIの除去は必ずしも太陽電池用として十分
な量まで低減されないが、これは処理後に一方向凝固な
ど通常の処理方法を併用することで十分な結果を得るこ
とができる。すなわち、実施例4で処理したシリコンを
、1mm/minの速度で一方向に凝固させたシリコン
鋳塊の中央部より切り出した多結晶シリコン基板を用い
た太陽電池では、H%の変換効率が得られた。
以上のように、本発明ではプラズマを使用しないため、
プラズマ発生のためのArガス、電力が不要であるなど
、経済的にも有利な結果が得られている。
プラズマ発生のためのArガス、電力が不要であるなど
、経済的にも有利な結果が得られている。
〈発明の効果〉
本発明は、従来複雑な工程により製造される半導体用シ
リコンを用いていた太陽電池に対して、冶金的手法によ
り低コストかつ量産製の高い原料シリコン製造技術を提
供したもので、これにより将来のエネルギー問題に対し
て自然エネルギー(太陽エネルギー)を安価に利用でき
る道を拓くものである。
リコンを用いていた太陽電池に対して、冶金的手法によ
り低コストかつ量産製の高い原料シリコン製造技術を提
供したもので、これにより将来のエネルギー問題に対し
て自然エネルギー(太陽エネルギー)を安価に利用でき
る道を拓くものである。
また、Si合金など他の産業に対しても高純度の原料シ
リコンを安価に製造できることになり、Si合金分野の
発展にも貢献し得る技術である。
リコンを安価に製造できることになり、Si合金分野の
発展にも貢献し得る技術である。
また、本発明の説明ではSiの溶融に誘導加熱を用いた
が、抵抗加熱や他の一般的に用いられる加熱方法のいず
れを用いCも、本発明の範囲から逸脱するものではない
。
が、抵抗加熱や他の一般的に用いられる加熱方法のいず
れを用いCも、本発明の範囲から逸脱するものではない
。
第1図は本発明方法に用いられる装置の説明図である。
1・・・容 器、
2・・・熔融シリコン、
3・・・ガス吹込み羽口、
4・・・誘導加熱コイル、
5・・・ガス導入口、
6・・・ガス排出用フード。
特許出願人 川崎製鉄株式会社
第1図
ガス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、B、C、P、Fe、Al等の不純物元素を含むシリ
コンを底部にガス吹込み羽口を有するシリカを主成分と
する容器内で溶融し、該羽口からAr若しくはH_2又
はこれらの混合ガスを吹込むことを特徴とするシリコン
の精製方法。 2、羽口から吹込まれるガスに酸化性のH_2O、CO
_2及び/又はO_2ガスを添加することを特徴とする
請求項1記載のシリコンの精製方法。 3、羽口から吹込まれるガスにHClを添加することを
特徴とする請求項1又は2記載のシリコンの精製方法。 4、羽口から吹込まれるガスにSiO_2、CaO、C
aCl_2及びCaF_2の各粉末から選ばれた1種以
上を添加することを特徴とする請求項1、2又は3記載
のシリコンの精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32232090A JPH04193706A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | シリコンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32232090A JPH04193706A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | シリコンの精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04193706A true JPH04193706A (ja) | 1992-07-13 |
Family
ID=18142320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32232090A Pending JPH04193706A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | シリコンの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04193706A (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5961944A (en) * | 1996-10-14 | 1999-10-05 | Kawasaki Steel Corporation | Process and apparatus for manufacturing polycrystalline silicon, and process for manufacturing silicon wafer for solar cell |
WO2002016265A1 (en) * | 2000-08-21 | 2002-02-28 | Astropower, Inc. | Method and apparatus for purifying silicon |
JP2003002629A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Sharp Corp | 溶融シリコンの精製方法および溶融シリコン精製装置 |
FR2827592A1 (fr) * | 2001-07-23 | 2003-01-24 | Invensil | Silicium metallurgique de haute purete et procede d'elaboration |
JP2006104030A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-04-20 | Sharp Corp | シリコンの精製方法 |
WO2008035799A1 (en) | 2006-09-29 | 2008-03-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for purification of silicon, silicon, and solar cell |
JP2009062275A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-03-26 | Showa Denko Kk | ケイ素の精製方法 |
JP2009114026A (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 金属珪素の精製方法 |
US7615202B2 (en) | 2005-03-07 | 2009-11-10 | Nippon Steel Materials Co., Ltd. | Method for producing high purity silicon |
CN101306817B (zh) | 2008-02-04 | 2010-06-02 | 刘培东 | 重掺硅中磷、砷、锑、硼的去除装置 |
US8003546B2 (en) | 2008-12-16 | 2011-08-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of growing silicon and method of manufacturing solar cell using the same |
US8034151B2 (en) | 2004-03-03 | 2011-10-11 | Nippon Steel Corporation | Method for removing boron from silicon |
CN103771419A (zh) * | 2014-01-10 | 2014-05-07 | 黑河合盛光伏科技有限公司 | 一种去除多晶硅中硼的方法 |
CN106185948A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 厦门大学 | 一种工业硅造渣除磷工艺 |
CN106744977A (zh) * | 2016-12-09 | 2017-05-31 | 永平县泰达废渣开发利用有限公司 | 一种运用感应炉熔硅的石墨起炉方法 |
CN108467043A (zh) * | 2018-03-06 | 2018-08-31 | 昆明理工大学 | 一种含氯硅酸钙渣剂与湿氧混合气体协同强化精炼提纯工业硅的方法 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP32232090A patent/JPH04193706A/ja active Pending
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5961944A (en) * | 1996-10-14 | 1999-10-05 | Kawasaki Steel Corporation | Process and apparatus for manufacturing polycrystalline silicon, and process for manufacturing silicon wafer for solar cell |
WO2002016265A1 (en) * | 2000-08-21 | 2002-02-28 | Astropower, Inc. | Method and apparatus for purifying silicon |
US6632413B2 (en) | 2000-08-21 | 2003-10-14 | Astropower, Inc. | Method for purifying silicon |
JP2003002629A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Sharp Corp | 溶融シリコンの精製方法および溶融シリコン精製装置 |
FR2827592A1 (fr) * | 2001-07-23 | 2003-01-24 | Invensil | Silicium metallurgique de haute purete et procede d'elaboration |
WO2003010090A1 (fr) * | 2001-07-23 | 2003-02-06 | Invensil | Silicium metallurgique de moyenne purete et procede d'elaboration |
WO2003014019A1 (fr) * | 2001-07-23 | 2003-02-20 | Invensil | Silicium metallurgique de haute purete et procede d'elaboration |
JP2004537491A (ja) * | 2001-07-23 | 2004-12-16 | アンヴァンシル | 高純度金属シリコンとその製錬法 |
US8034151B2 (en) | 2004-03-03 | 2011-10-11 | Nippon Steel Corporation | Method for removing boron from silicon |
JP2006104030A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-04-20 | Sharp Corp | シリコンの精製方法 |
US7615202B2 (en) | 2005-03-07 | 2009-11-10 | Nippon Steel Materials Co., Ltd. | Method for producing high purity silicon |
WO2008035799A1 (en) | 2006-09-29 | 2008-03-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for purification of silicon, silicon, and solar cell |
JP5210167B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-06-12 | 信越化学工業株式会社 | 珪素の精製方法 |
JP2009114026A (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 金属珪素の精製方法 |
CN101306817B (zh) | 2008-02-04 | 2010-06-02 | 刘培东 | 重掺硅中磷、砷、锑、硼的去除装置 |
US8003546B2 (en) | 2008-12-16 | 2011-08-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of growing silicon and method of manufacturing solar cell using the same |
JP2009062275A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-03-26 | Showa Denko Kk | ケイ素の精製方法 |
CN103771419A (zh) * | 2014-01-10 | 2014-05-07 | 黑河合盛光伏科技有限公司 | 一种去除多晶硅中硼的方法 |
CN106185948A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 厦门大学 | 一种工业硅造渣除磷工艺 |
CN106185948B (zh) * | 2016-07-11 | 2018-12-11 | 厦门大学 | 一种工业硅造渣除磷工艺 |
CN106744977A (zh) * | 2016-12-09 | 2017-05-31 | 永平县泰达废渣开发利用有限公司 | 一种运用感应炉熔硅的石墨起炉方法 |
CN108467043A (zh) * | 2018-03-06 | 2018-08-31 | 昆明理工大学 | 一种含氯硅酸钙渣剂与湿氧混合气体协同强化精炼提纯工业硅的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4523274B2 (ja) | 高純度金属シリコンとその製錬法 | |
US7682585B2 (en) | Silicon refining process | |
JPH04193706A (ja) | シリコンの精製方法 | |
JP3325900B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法及び装置、並びに太陽電池用シリコン基板の製造方法 | |
CN101353167A (zh) | 一种超纯冶金硅的制备方法 | |
CN110612269B (zh) | 用于生产商业级硅的方法 | |
CN103318894A (zh) | 去除多晶硅中硼的方法 | |
JPH05330815A (ja) | シリコンの精製方法 | |
CN101323897A (zh) | 粗制镍铁空气一步除杂精炼方法 | |
JPH1149510A (ja) | 金属Siの精製方法及びその装置 | |
CN108950143A (zh) | 一种黄磷冶炼副产品磷铁的综合利用方法 | |
CN108249447A (zh) | 一种挥发性渣气协同提纯多晶硅的方法 | |
JPH05139713A (ja) | シリコンの精製方法及びその装置 | |
JPH02267110A (ja) | 金属シリコン脱炭用ランスおよび脱炭方法 | |
JPS6141712A (ja) | 銑鉄、鋼、他の金属、及び金属合金から汚染元素を除去する方法 | |
JPH10130011A (ja) | 金属シリコンからのボロン除去方法 | |
JPH10212113A (ja) | 金属シリコンからのボロン除去方法 | |
JPH0416504A (ja) | シリコンの精製方法 | |
CN115572876B (zh) | 一种超纯钒铁合金及其制备方法和应用 | |
JPH10120412A (ja) | 金属シリコンの精製方法 | |
JP4132918B2 (ja) | 低炭素フェロボロンの製造方法 | |
JP2003119016A (ja) | 金属シリコンの精製方法及び精製装置 | |
US1858386A (en) | Process for preparing and purifying alloys | |
JPH10251007A (ja) | 金属シリコンの溶解方法及びそれを用いた酸化精錬方法 | |
JPS6280249A (ja) | アモルフアス合金の製造方法 |