JPH04169542A - ビストリフルオロメチルビフェニルの製造法 - Google Patents
ビストリフルオロメチルビフェニルの製造法Info
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- JPH04169542A JPH04169542A JP2294892A JP29489290A JPH04169542A JP H04169542 A JPH04169542 A JP H04169542A JP 2294892 A JP2294892 A JP 2294892A JP 29489290 A JP29489290 A JP 29489290A JP H04169542 A JPH04169542 A JP H04169542A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はポリイミド樹脂等の重縮合樹脂モノマーとして
有用な２，２゛−ビストリフルオロメチル−４゜４”−
ジアミノビフェニルの原料としての２，２゛−ビストリ
フルオロメチルビフェニル等のビストリフルオロメチル
ビフェニルの製造法に関する。
有用な２，２゛−ビストリフルオロメチル−４゜４”−
ジアミノビフェニルの原料としての２，２゛−ビストリ
フルオロメチルビフェニル等のビストリフルオロメチル
ビフェニルの製造法に関する。
［従来の技術］
ビストリフルオロメチルビフェニルの合成法としては、
ヨードベンゾトリフルオリドを活性銅の存在下ニ二量化
する方法（Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、 、 １９５４．１
０７１）、あるいはハロゲノベンゾトリフルオリドにＮ
ａｐ／ ｔ−Ａｍ０Ｎａ ／Ｎ１（ＯＡｃ）ｚ ／２＋
２’−ビピリジンを４／２／１／２の比率で反応させ二
重化する方法（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、 、 ５４．４
８４０．１９８９）が知られている。
ヨードベンゾトリフルオリドを活性銅の存在下ニ二量化
する方法（Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、 、 １９５４．１
０７１）、あるいはハロゲノベンゾトリフルオリドにＮ
ａｐ／ ｔ−Ａｍ０Ｎａ ／Ｎ１（ＯＡｃ）ｚ ／２＋
２’−ビピリジンを４／２／１／２の比率で反応させ二
重化する方法（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、 、 ５４．４
８４０．１９８９）が知られている。
前者の方法は基質に対して等モル以上の活性鋼を必要と
し、活性銅の大量１１１１は排水の環境問題あるいは空
気との接触により活性が低下する等、操作上の難点があ
り、また原料とするヨード化合物はペンゾトリフルオリ
ドから多段階の反応を要して得られる高価な化合物であ
り、工業的に実施するための方法とは言い難い。
し、活性銅の大量１１１１は排水の環境問題あるいは空
気との接触により活性が低下する等、操作上の難点があ
り、また原料とするヨード化合物はペンゾトリフルオリ
ドから多段階の反応を要して得られる高価な化合物であ
り、工業的に実施するための方法とは言い難い。
後者の方法はブロム、ヨード化合物のみならずクロル化
合物にも適用できるものであるが、多量の反応試剤の使
用が必要であり、工業的製法とは言い難い。
合物にも適用できるものであるが、多量の反応試剤の使
用が必要であり、工業的製法とは言い難い。
一方、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、５１．２６２７（１９
８６） （米国特許第４２６３４６６号明細書）には
ニッケル触媒によるクロルベンゼン誘導体の二重化反応
が記載されているが、２−クロルベンゾトリフルオリド
を含め含フ・７素化合物への適用例は記載されていない
。
８６） （米国特許第４２６３４６６号明細書）には
ニッケル触媒によるクロルベンゼン誘導体の二重化反応
が記載されているが、２−クロルベンゾトリフルオリド
を含め含フ・７素化合物への適用例は記載されていない
。
ニッケル触媒反応の公知の反応条件は、例えばＴｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、４７．４０８９（１９７
７）では、ブロモベンゼン５ｍｍｏＬ ＤＭＦ ２０ｍ
ｌ、亜鉛末５Ｂ原子、［Ｎｉ （ＰＰｈ） ２ Ｃ１２
コ ０．２５ｍｍｏｌ、トリフェニルホスフィン２１０
１を５０℃で２０時間反応させるもので８９％の単離収
率でビフェニルを得ており、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、
５１．２６２７（１９８６）ではクロルベンゼン２０Ｉ
ｌ１ｍｏ１、ＤＭＡＣ１５ｍ７、亜鉛３０．６ｍｇ原子
、塩化ニッケル１ ｍｍｏＬ、 ）リフェニルホスフ
ィン７゜５ Ｍｍｏｌを５０〜８０℃で反応させるもの
で９０分で反応は完結し、９９％のガスクロ収率でビフ
ェニルを得ている。
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、４７．４０８９（１９７
７）では、ブロモベンゼン５ｍｍｏＬ ＤＭＦ ２０ｍ
ｌ、亜鉛末５Ｂ原子、［Ｎｉ （ＰＰｈ） ２ Ｃ１２
コ ０．２５ｍｍｏｌ、トリフェニルホスフィン２１０
１を５０℃で２０時間反応させるもので８９％の単離収
率でビフェニルを得ており、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、
５１．２６２７（１９８６）ではクロルベンゼン２０Ｉ
ｌ１ｍｏ１、ＤＭＡＣ１５ｍ７、亜鉛３０．６ｍｇ原子
、塩化ニッケル１ ｍｍｏＬ、 ）リフェニルホスフ
ィン７゜５ Ｍｍｏｌを５０〜８０℃で反応させるもの
で９０分で反応は完結し、９９％のガスクロ収率でビフ
ェニルを得ている。
同様の反応条件下で２−クロルベンゾトリフルオリドを
二重化したところ［Ｎ１（ＰＰｈ）ｚ Ｃ１ｚ ］を用
いる条件では反応は殆ど進行せず塩化ニッケルを用いる
条件では３時間で原料は消失し、２，２゛−ビストリフ
ルオロメチルビフェニルを生成するものの、このほかに
ビフェニルが５．３％も生成し両者は沸点が近接してい
るため蒸留によって精製することは困難であり、また混
合物のままニトロ化してジニトロ化合物として再結晶に
よる精製においても除去することは困難であった。
二重化したところ［Ｎ１（ＰＰｈ）ｚ Ｃ１ｚ ］を用
いる条件では反応は殆ど進行せず塩化ニッケルを用いる
条件では３時間で原料は消失し、２，２゛−ビストリフ
ルオロメチルビフェニルを生成するものの、このほかに
ビフェニルが５．３％も生成し両者は沸点が近接してい
るため蒸留によって精製することは困難であり、また混
合物のままニトロ化してジニトロ化合物として再結晶に
よる精製においても除去することは困難であった。
前記のＪ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、５１．２６２７（１９
８６）には電子供与性置換基を有する基質、例えば４−
クロロアニソール等を用いた場合、配位子として使用す
るトリアリールホスフィン由来の非対称ビフェニルの生
成が記載されており、その生成は反応温度を高くすると
増加しトルアリールホスフィンを多量に用いると減少す
ること、およびビピリジンの添加は著しく副反応を抑制
することが記載されている。
８６）には電子供与性置換基を有する基質、例えば４−
クロロアニソール等を用いた場合、配位子として使用す
るトリアリールホスフィン由来の非対称ビフェニルの生
成が記載されており、その生成は反応温度を高くすると
増加しトルアリールホスフィンを多量に用いると減少す
ること、およびビピリジンの添加は著しく副反応を抑制
することが記載されている。
しかしながら本発明が対象とするトリフルオロメチル基
という電子吸引性置換基を有する化合物を使用するに際
してトリアリールホスフィンからビアリールが数％の高
濃度で副生ずることはこれまで知られていなかった。
という電子吸引性置換基を有する化合物を使用するに際
してトリアリールホスフィンからビアリールが数％の高
濃度で副生ずることはこれまで知られていなかった。
ニッケル触媒反応は通常反応収率向上のために配位子と
してのトリアリールホスフィンをニッケルに対して８〜
１０倍量使用するものであり、反応系中では少なくとも
２〜３分子のトリアリールホスフィンが配位したゼロ価
ニッケルが活性種として存在していると考えられている
（Ｊ、Ａｍｅｒ、Ｃｈｅｍ。
してのトリアリールホスフィンをニッケルに対して８〜
１０倍量使用するものであり、反応系中では少なくとも
２〜３分子のトリアリールホスフィンが配位したゼロ価
ニッケルが活性種として存在していると考えられている
（Ｊ、Ａｍｅｒ、Ｃｈｅｍ。
Ｓｏｃ、 、９４．２６６９（１９７２））。
［問題点を解決するための具体的手段］本発明者らは、
ビアリール生成の抑制方法について検討した結果、ニッ
ケルおよびニッケルに対して従来考えられていたトリア
リールホスフィンの必要量よりもはるかに少ない量を用
いれば２，２゜−ビストリフルオロメチル−４，４′−
ジアミノビフェニルの原料として毒性の高いベンジジン
およびその類縁物質生成の原因となるビアリールの生成
を実質的に無視し得る高純度な２，２゛−ビストリフル
オロメチルビフェニルを満足すべき収率で製造できるこ
とを見いだした。
ビアリール生成の抑制方法について検討した結果、ニッ
ケルおよびニッケルに対して従来考えられていたトリア
リールホスフィンの必要量よりもはるかに少ない量を用
いれば２，２゜−ビストリフルオロメチル−４，４′−
ジアミノビフェニルの原料として毒性の高いベンジジン
およびその類縁物質生成の原因となるビアリールの生成
を実質的に無視し得る高純度な２，２゛−ビストリフル
オロメチルビフェニルを満足すべき収率で製造できるこ
とを見いだした。
一方、さらに本発明者らは溶媒についての検討を行い、
上記した反応はアミド系溶媒を使用することにより反応
が進行するが、ＤＭＦあるいは０ＭＡｃ溶媒では急激な
発熱のため反応制御が容易でなく、多量の結晶が析出す
るため反応液の抜出しや固液分離の濾過性等が悪い等の
難点があり、収率的にも還元生成物であるペンゾトリフ
ルオリドが５〜１０％副生じ易い等の問題があることが
わかった。析出結晶を分析したところこの白色結晶は反
応により生成する塩化亜鉛の溶媒付加体であることが判
明した。
上記した反応はアミド系溶媒を使用することにより反応
が進行するが、ＤＭＦあるいは０ＭＡｃ溶媒では急激な
発熱のため反応制御が容易でなく、多量の結晶が析出す
るため反応液の抜出しや固液分離の濾過性等が悪い等の
難点があり、収率的にも還元生成物であるペンゾトリフ
ルオリドが５〜１０％副生じ易い等の問題があることが
わかった。析出結晶を分析したところこの白色結晶は反
応により生成する塩化亜鉛の溶媒付加体であることが判
明した。
しかし同じアミド系溶媒の中でもＮ−メチルピロリドン
を使用した場合、発熱が穏やかで制御が容易であり、ま
たこの溶媒は塩化亜鉛と結晶性付加体を生成せず、しか
も還元生成物の副生も著しく低減されることがわかり、
これらの結果から本発明に到達したものである。
を使用した場合、発熱が穏やかで制御が容易であり、ま
たこの溶媒は塩化亜鉛と結晶性付加体を生成せず、しか
も還元生成物の副生も著しく低減されることがわかり、
これらの結果から本発明に到達したものである。
すなわち本発明は、クロルベンゾトリフルオリドを触媒
量のニッケル塩、前記ニッケル塩に対し等モル以下のト
リアリールホスフィンおよび亜鉛を用いて二重化する方
法において、溶媒としてＮ−メチルピロリドンをクロル
ベンゾトリフルオリドの２倍モル量以下用いることを特
徴とするビストリフルオロメチルビフェニルの製造法で
ある。
量のニッケル塩、前記ニッケル塩に対し等モル以下のト
リアリールホスフィンおよび亜鉛を用いて二重化する方
法において、溶媒としてＮ−メチルピロリドンをクロル
ベンゾトリフルオリドの２倍モル量以下用いることを特
徴とするビストリフルオロメチルビフェニルの製造法で
ある。
本発明において、Ｎ−メチルピロリドンの使用量は、原
料のクロルベンゾトリフルオリドに対して２倍モル量以
下の量を用いる必要がある。
料のクロルベンゾトリフルオリドに対して２倍モル量以
下の量を用いる必要がある。
Ｎ−メチルピロリドンの使用量が２倍モル量より多い場
合、反応の進行速度が遅くなり、またフラッシュ蒸留に
より単離する際に過剰のＮ−メチルピロリドンが留出し
て好ましくない。しかし、Ｎ−メチルピロリドンの量が
０．５倍量以下と少なすぎても溶液の粘度が高くなるた
め攪拌をうまく行うことができない。
合、反応の進行速度が遅くなり、またフラッシュ蒸留に
より単離する際に過剰のＮ−メチルピロリドンが留出し
て好ましくない。しかし、Ｎ−メチルピロリドンの量が
０．５倍量以下と少なすぎても溶液の粘度が高くなるた
め攪拌をうまく行うことができない。
本反応において使用しうるニッケル塩とは塩化ニッケル
、臭化ニッケル、酢酸ニッケル、二ソケルアセチルアセ
トナート、ジクロルビス（トリフェニルホスフィン）ニ
ッケル（Ｉ［）であり、特に塩化ニッケルが好ましく、
その使用量はクロル化合物に対して１〜１０モル％であ
り、より好ましくは３〜７モル％である。トリアリール
ホスフィンとしてはトリフェニルホスフィンあるいはト
リトリルホスフィンが好ましく、その使用量はニッケル
に対して当モル量以下が好ましい。
、臭化ニッケル、酢酸ニッケル、二ソケルアセチルアセ
トナート、ジクロルビス（トリフェニルホスフィン）ニ
ッケル（Ｉ［）であり、特に塩化ニッケルが好ましく、
その使用量はクロル化合物に対して１〜１０モル％であ
り、より好ましくは３〜７モル％である。トリアリール
ホスフィンとしてはトリフェニルホスフィンあるいはト
リトリルホスフィンが好ましく、その使用量はニッケル
に対して当モル量以下が好ましい。
金属還元剤としては亜鉛、マグネシウム、アルミニウム
、マンガン等を例示でき、特に亜鉛が好ましい。その使
用量はクロル化合物に対して０゜５〜５倍当量の範囲で
あり、好ましくは０．８〜１．２倍当量である。この範
囲より少ないとビアリールの生成が認められ、多いとス
ラリー濃度が高くなり、攪拌が困難となる。
、マンガン等を例示でき、特に亜鉛が好ましい。その使
用量はクロル化合物に対して０゜５〜５倍当量の範囲で
あり、好ましくは０．８〜１．２倍当量である。この範
囲より少ないとビアリールの生成が認められ、多いとス
ラリー濃度が高くなり、攪拌が困難となる。
反応温度は６０〜１００℃の範囲が好ましく、より好ま
しくは７０〜９０℃である。これより低くても高くても
反応の進行は遅く、実際的ではない。
しくは７０〜９０℃である。これより低くても高くても
反応の進行は遅く、実際的ではない。
反応液の後処理方法として水添加による二相分離は未反
応亜鉛による界面の分離不良、無視できない量のビスト
リフルオロメチルビフェニルの水層への溶解が認められ
好ましくない。フラッシュ蒸留による単離を検討したと
ころ意外にもＮ−メチルピロリドン（沸点２０２℃）よ
り高沸点である反応生成物（２、２’−ビストリフルオ
ロメチルビフェニル、沸点２３６℃）が先に留出し、し
かも９０％以上の純度で容易に得られることを見出した
ものである。これは前述のＮ−メチルピロリドンは塩化
亜鉛とは結晶性付加体を生成しないが、おおよそ１５０
℃以下では安定な錯体を形成しているので沸点が高くな
るためと考えられる。このことにより蒸留残渣は固形物
ではなく未反応亜鉛を含むスラＩＪ−であるため、蒸留
収率が高く、残渣の抜出しが容易である。
応亜鉛による界面の分離不良、無視できない量のビスト
リフルオロメチルビフェニルの水層への溶解が認められ
好ましくない。フラッシュ蒸留による単離を検討したと
ころ意外にもＮ−メチルピロリドン（沸点２０２℃）よ
り高沸点である反応生成物（２、２’−ビストリフルオ
ロメチルビフェニル、沸点２３６℃）が先に留出し、し
かも９０％以上の純度で容易に得られることを見出した
ものである。これは前述のＮ−メチルピロリドンは塩化
亜鉛とは結晶性付加体を生成しないが、おおよそ１５０
℃以下では安定な錯体を形成しているので沸点が高くな
るためと考えられる。このことにより蒸留残渣は固形物
ではなく未反応亜鉛を含むスラＩＪ−であるため、蒸留
収率が高く、残渣の抜出しが容易である。
この残渣に炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、重炭酸カリウム、炭酸カルシウム等のアルカリ
金属、アルカリ土類金属の炭酸塩、重炭酸塩を添加して
複分解し炭酸亜鉛とすることにより形成されたＮ−メチ
ルピロリドンとの錯体を分解し、析出する無機物を濾別
することにより容易にＮ−メチルピロリドンを回収する
ことができる。
リウム、重炭酸カリウム、炭酸カルシウム等のアルカリ
金属、アルカリ土類金属の炭酸塩、重炭酸塩を添加して
複分解し炭酸亜鉛とすることにより形成されたＮ−メチ
ルピロリドンとの錯体を分解し、析出する無機物を濾別
することにより容易にＮ−メチルピロリドンを回収する
ことができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
温度針、還留塔、窒素導入口、滴下ロートを備えた１０
１三ツロフラスコに、無水塩化ニッケルを１２９．６ｇ
（１，０ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１３１．２
ｇ （０，５ｍｏｌ）、亜鉛末１０４６．４ｇ （１６
ｍｏｌ） 、Ｎ−メチルピロリドン１５００ａｄ （１
５５３ｇ 、 １５．７ｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置
換した。加熱昇温して内温が５０℃に達してから、０−
クロロベンゾトリフルオリド２８８８ ｇ（１６ｍｏｌ
）を滴下し始め、滴下中の内温を７０℃付近に調整した
。全量滴下後反応温度を８０〜９０℃に調整しながら９
時間反応させた。
１三ツロフラスコに、無水塩化ニッケルを１２９．６ｇ
（１，０ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１３１．２
ｇ （０，５ｍｏｌ）、亜鉛末１０４６．４ｇ （１６
ｍｏｌ） 、Ｎ−メチルピロリドン１５００ａｄ （１
５５３ｇ 、 １５．７ｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置
換した。加熱昇温して内温が５０℃に達してから、０−
クロロベンゾトリフルオリド２８８８ ｇ（１６ｍｏｌ
）を滴下し始め、滴下中の内温を７０℃付近に調整した
。全量滴下後反応温度を８０〜９０℃に調整しながら９
時間反応させた。
還留塔、滴下ロートを外して蒸留装置を組込み直接減圧
下にフラッシュ蒸留した。減圧度２〜３ｓｍｏｇ留出温
度４０〜７９℃での留分２２４２．９ｇを得、ガスクロ
マトグラフ分析により２．２“−ビストリフルオロメチ
ルビフェニル９５．１％、ビフェニル０．０５％、Ｎ−
メチルピロリドン４．５％であり、これより収率を求め
ると９１．９％に相当する。蒸留残渣に水８０〇−を加
え冷却下に炭酸カルシウム８５０ｇを添加攪拌し、固形
分を濾過してＮ−メチルピロリドン１１３２ｇを回収し
た。
下にフラッシュ蒸留した。減圧度２〜３ｓｍｏｇ留出温
度４０〜７９℃での留分２２４２．９ｇを得、ガスクロ
マトグラフ分析により２．２“−ビストリフルオロメチ
ルビフェニル９５．１％、ビフェニル０．０５％、Ｎ−
メチルピロリドン４．５％であり、これより収率を求め
ると９１．９％に相当する。蒸留残渣に水８０〇−を加
え冷却下に炭酸カルシウム８５０ｇを添加攪拌し、固形
分を濾過してＮ−メチルピロリドン１１３２ｇを回収し
た。
比較例１
反応に使用した化合物として、無水塩化ニッケル６４．
８ｇ（０，５ｍｏｌ） 、）リフェニルホスフィン６５
．６ｇ （０，２５ｍｏｌ） 、亜鉛末５２３．２ｇ
（８ｍｏ １）、Ｎ−メチルピロリドン２０００ａ／
（２０７１ｇ、２０．９ｍｏｌ）およびＯ−クロロペン
ゾトリフルオリド１４４４ｇ （８ｍｏｌ）を使用した
他は、実施例１と同様の条件で反応を行い、反応後の蒸
留処理も同様に行った。
８ｇ（０，５ｍｏｌ） 、）リフェニルホスフィン６５
．６ｇ （０，２５ｍｏｌ） 、亜鉛末５２３．２ｇ
（８ｍｏ １）、Ｎ−メチルピロリドン２０００ａ／
（２０７１ｇ、２０．９ｍｏｌ）およびＯ−クロロペン
ゾトリフルオリド１４４４ｇ （８ｍｏｌ）を使用した
他は、実施例１と同様の条件で反応を行い、反応後の蒸
留処理も同様に行った。
留分のガスクロマトグラフ分析により０−クロルベンゾ
トリフルオリド３９，２％、２，２゛−ビストリフルオ
ロメチルビフェニル１１．７％、ビフェニル０．１％、
Ｎ−メチルピロリドン４８．９％であり、これより収率
を求めると２５．７％に相当し、はとんど反応が進行し
ていないことがわかった。
トリフルオリド３９，２％、２，２゛−ビストリフルオ
ロメチルビフェニル１１．７％、ビフェニル０．１％、
Ｎ−メチルピロリドン４８．９％であり、これより収率
を求めると２５．７％に相当し、はとんど反応が進行し
ていないことがわかった。
比較例２
温度針、還留塔、窒素導入口、セプタムを備えた３βの
四ツロフラスコに、無水塩化ニッケルを８．１ｇ（１／
１６ｍｏｌ） 、トリフェニルホスフィン９８．４ｇ（
３／８ｍｏｌ）、亜鉛末６５．４ ｇ （１ｍｏｌ）、
ＤＭＡｃ７５０−を仕込み系内を窒素置換した後、攪拌
しなから０−クロロペンゾトリフルオリド１８０．５ｇ
（１ｍｏｌ）を注射器により導入し８０℃にまで昇温
した。
四ツロフラスコに、無水塩化ニッケルを８．１ｇ（１／
１６ｍｏｌ） 、トリフェニルホスフィン９８．４ｇ（
３／８ｍｏｌ）、亜鉛末６５．４ ｇ （１ｍｏｌ）、
ＤＭＡｃ７５０−を仕込み系内を窒素置換した後、攪拌
しなから０−クロロペンゾトリフルオリド１８０．５ｇ
（１ｍｏｌ）を注射器により導入し８０℃にまで昇温
した。
７時間反応させた後、固形物を熱時濾過し、２０ｉのＤ
ＭＡｃで固形物を洗浄した後、濾液を減圧蒸留した。
３ｍｍＨｇ減圧度の第１留分として５０℃まで、第２
留分として５０〜１０４℃、第３留分として１０４〜１
０６℃を採集した。
ＭＡｃで固形物を洗浄した後、濾液を減圧蒸留した。
３ｍｍＨｇ減圧度の第１留分として５０℃まで、第２
留分として５０〜１０４℃、第３留分として１０４〜１
０６℃を採集した。
第３留分をガスクロマトグラフ分析したところ、２．２
−ビストリフルオロメチルビフェニル９４．５％、ビフ
ェニル５．３％となり、分離の難しい副生物のビフェニ
ルがかなり生成していることがわかった。
−ビストリフルオロメチルビフェニル９４．５％、ビフ
ェニル５．３％となり、分離の難しい副生物のビフェニ
ルがかなり生成していることがわかった。
［発明の効果コ
本発明によれば、ポリイミドの原料等として有用な２．
２′−ビストリフルオロメチルビフェニルを容易にかつ
純度よく得ることができるものである。
２′−ビストリフルオロメチルビフェニルを容易にかつ
純度よく得ることができるものである。
Claims (3)
- （１）クロルベンゾトリフルオリドを触媒量のニッケル
塩、前記ニッケル塩に対し等モル以下のトリアリールホ
スフィンおよび亜鉛を用いて二重化する方法において、
溶媒としてＮ−メチルピロリドンをクロルベンゾトリフ
ルオリドの２倍モル量以下用いることを特徴とするビス
トリフルオロメチルビフェニルの製造法。 - （２）請求項（１）で得られる反応液を減圧下に蒸留単
離することを特徴とするビストリフルオロメチルビフェ
ニルの製造法。 - （３）請求項（２）の蒸留操作により得られる蒸留残差
に含有される塩化亜鉛をアルカリ金属、アルカリ土類金
属の炭酸塩、重炭酸塩により複分解し炭酸塩として濾別
してＮ−メチルピロリドンを回収することを特徴とする
ビストリフルオロメチルビフェニルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2294892A JPH075488B2 (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | ビストリフルオロメチルビフェニルの製造法 |
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| JP2294892A JPH075488B2 (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | ビストリフルオロメチルビフェニルの製造法 |
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| JPH04169542A true JPH04169542A (ja) | 1992-06-17 |
| JPH075488B2 JPH075488B2 (ja) | 1995-01-25 |
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ID=17813602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2294892A Expired - Fee Related JPH075488B2 (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | ビストリフルオロメチルビフェニルの製造法 |
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| JP (1) | JPH075488B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0665153A (ja) * | 1992-04-28 | 1994-03-08 | Ihara Chem Ind Co Ltd | 非対称ビアリール誘導体の製造方法 |
| EP1955990A1 (en) * | 2005-11-04 | 2008-08-13 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Process for production of biphenyl derivatives |
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-
1990
- 1990-10-31 JP JP2294892A patent/JPH075488B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0665153A (ja) * | 1992-04-28 | 1994-03-08 | Ihara Chem Ind Co Ltd | 非対称ビアリール誘導体の製造方法 |
| EP1955990A1 (en) * | 2005-11-04 | 2008-08-13 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Process for production of biphenyl derivatives |
| US7893306B2 (en) | 2005-11-04 | 2011-02-22 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Process for production of biphenyl derivatives |
| EP1955990B1 (en) * | 2005-11-04 | 2012-08-22 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Process for production of biphenyl derivatives |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH075488B2 (ja) | 1995-01-25 |
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