JPH04116501A - 導電性反射防止コートを有する光学部品 - Google Patents
導電性反射防止コートを有する光学部品Info
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- JPH04116501A JPH04116501A JP2238660A JP23866090A JPH04116501A JP H04116501 A JPH04116501 A JP H04116501A JP 2238660 A JP2238660 A JP 2238660A JP 23866090 A JP23866090 A JP 23866090A JP H04116501 A JPH04116501 A JP H04116501A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザプリンタ、ファクシミリ、光ディスク
や光磁気ディスクの記録再生装置等におけるレンズ、ミ
ラー プリズムあるいは光電変換素子等の光学部品とし
て特に好適に用いられる導電性反射防止コートを有する
光学部品に関する。
や光磁気ディスクの記録再生装置等におけるレンズ、ミ
ラー プリズムあるいは光電変換素子等の光学部品とし
て特に好適に用いられる導電性反射防止コートを有する
光学部品に関する。
従来、光学部品の透明基体上の第１層が設計波長をλ。
とじて層厚と屈折率の積で表わされる光学的膜厚がλ。
／４の酸化インジューム（ＩｎｌＯｓ）層、その上の第
２層が同様の光学的膜厚の弗化マグネシウム（ＭｇＦ
！ ）層の２層から成る導電性反射防止コートを有する
光学部品が、４００〜７００ｎ■の範囲にある波長λ。
２層が同様の光学的膜厚の弗化マグネシウム（ＭｇＦ
！ ）層の２層から成る導電性反射防止コートを有する
光学部品が、４００〜７００ｎ■の範囲にある波長λ。
の入射光の反射および帯電による埃やトナー等（以下、
単に埃と言う）の付着が少ない光学部品として、寅公昭
４９−１２６１４号公報により知られており、また同じ
く第１層が光学的膜厚λ。／４の酸化アルミニウム（Ａ
ｇｕｅｓ）または弗化セリウム（ＣｅＦ 、 ）層、そ
の上の第２層が適当な光学的膜厚の酸化シリコン（Ｓｉ
ｎ、乃至５ｉｎ）層、その上の第３層が光学的膜厚λ。
単に埃と言う）の付着が少ない光学部品として、寅公昭
４９−１２６１４号公報により知られており、また同じ
く第１層が光学的膜厚λ。／４の酸化アルミニウム（Ａ
ｇｕｅｓ）または弗化セリウム（ＣｅＦ 、 ）層、そ
の上の第２層が適当な光学的膜厚の酸化シリコン（Ｓｉ
ｎ、乃至５ｉｎ）層、その上の第３層が光学的膜厚λ。
／２のインジューム乃至酸化インジューム層、その上の
！４層が第２層と同様の酸化シリコン層、その上の第５
層が光学的膜厚λ。／４の弗化マグネシウム層、の５層
から成る導電性反射防止コートを有する光学部品が、同
様の効果を有する光学部品として、特公昭５３−２８２
１４号公報により知られている。
！４層が第２層と同様の酸化シリコン層、その上の第５
層が光学的膜厚λ。／４の弗化マグネシウム層、の５層
から成る導電性反射防止コートを有する光学部品が、同
様の効果を有する光学部品として、特公昭５３−２８２
１４号公報により知られている。
しかし、実公昭４９−１２６１４号公報に記載の導電性
反射防止コートは、光学部品の透明基体がアクリル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂等の
高分子物質から成る場合、基体の耐熱性が低いことから
、第１層や第２層を蒸着する際の基体温度を２００’０
以下にしなくてはならず、そのために耐環境性特に、耐
湿性に優れたＭｇＦ２層を形成することが困難であり、
導電性反射防止コートの耐湿性が低いと言う問題がある
。また、持分Ｆ＠ ５３−２８２１４号公報に記載の導
電性反射防止コートは、上述の問題のほか、構成層数が
多くて生産性が低いと言う問題、および第３層がインジ
ュ−ム層の場合、吸収成分が生じるために、その成分波
長の光を入射する光学部品は光学特性が劣ったものにな
ると言う問題もある。
反射防止コートは、光学部品の透明基体がアクリル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂等の
高分子物質から成る場合、基体の耐熱性が低いことから
、第１層や第２層を蒸着する際の基体温度を２００’０
以下にしなくてはならず、そのために耐環境性特に、耐
湿性に優れたＭｇＦ２層を形成することが困難であり、
導電性反射防止コートの耐湿性が低いと言う問題がある
。また、持分Ｆ＠ ５３−２８２１４号公報に記載の導
電性反射防止コートは、上述の問題のほか、構成層数が
多くて生産性が低いと言う問題、および第３層がインジ
ュ−ム層の場合、吸収成分が生じるために、その成分波
長の光を入射する光学部品は光学特性が劣ったものにな
ると言う問題もある。
なお、設計波長λ。は、その波長で反射防止コートの反
射率を極小にする波長を意味する。また以下、光学的膜
厚を単に膜厚とも言う。
射率を極小にする波長を意味する。また以下、光学的膜
厚を単に膜厚とも言う。
本発明は、上述のような導電性反射防止コートの問題を
解消するためになされたものであり、導電性反射防止コ
ートの構成層数が少なくて、生産性が高く、しかも光学
部品の透明基体が高分子物質から成るものであっても耐
湿性に優れて、剥がれが生じ難く、吸収成分の生じるこ
とがなくて、少なくとも４００〜８００ｎｍの範囲にあ
る任意の波長を設計入射光波長λ。に設定することがで
きて、λ０の波長の入射光に対し安定して高い透光性す
なわち反射防止効果を与え、帯電による埃の付着も効果
的に防止する導電性反射防止コートを有する光学部品の
提供を目的とする。
解消するためになされたものであり、導電性反射防止コ
ートの構成層数が少なくて、生産性が高く、しかも光学
部品の透明基体が高分子物質から成るものであっても耐
湿性に優れて、剥がれが生じ難く、吸収成分の生じるこ
とがなくて、少なくとも４００〜８００ｎｍの範囲にあ
る任意の波長を設計入射光波長λ。に設定することがで
きて、λ０の波長の入射光に対し安定して高い透光性す
なわち反射防止効果を与え、帯電による埃の付着も効果
的に防止する導電性反射防止コートを有する光学部品の
提供を目的とする。
本発明は、基体温度が低くても蒸着により容易に耐湿性
に優れて剥がれにくい安定した薄膜を形成し得る反面、
比抵抗が１０”Ω・ｃａｎ程度と言ったように高い酸化
シリコンでも、これを導電性と透光性の高い適当な膜厚
の酸化インジュームと酸化錫（Ｓｎｏｗ乃至５ｎＯ）の
混合物（以下、ＩＴＯと言う）層又は屈折率が２．０〜
１．９であるＩＴＯ層と略等しい酸化錫と酸化アンチモ
ン（ＳｂｘＯｓ乃至５ｂ２０ｓ）の混合物層又は酸化イ
ンジューム層又は酸化錫層上に適当な膜厚の表層として
形成すれば、表層を弗化マグネシウム層にし、た場合に
優るとも劣らない、帯電による埃付着の防止効果と高い
透光性を与えて、耐湿性に優れ剥がれにくい導電性反射
防止コートが得られること、さらにその導電性反射防止
コートと透明基体の間に適当な膜厚の酸化セリウム（Ｃ
ｅｎｔ）層を形成すれば導電性反射防止コートの反射防
止効果すなわち透光性が一層向上することを本発明者ら
が見出した結果なされたものであり、本発明の導電性反
射防止コートを有する光学部品は、導電性反射防止コー
トが、光学部品の透明基体上の第１層の酸化セリウムを
主成分とする薄層と、その上の８２層の酸化インジウム
と酸化錫のいずれか一方もしくは混合物又は酸化錫と酸
化アンチモンの混合物を主成分とする薄層と、その上の
第３層の酸化シリコンを主成分とする薄層の３層から成
ることを特徴とし、この特徴によって前記目的を達成す
る。
に優れて剥がれにくい安定した薄膜を形成し得る反面、
比抵抗が１０”Ω・ｃａｎ程度と言ったように高い酸化
シリコンでも、これを導電性と透光性の高い適当な膜厚
の酸化インジュームと酸化錫（Ｓｎｏｗ乃至５ｎＯ）の
混合物（以下、ＩＴＯと言う）層又は屈折率が２．０〜
１．９であるＩＴＯ層と略等しい酸化錫と酸化アンチモ
ン（ＳｂｘＯｓ乃至５ｂ２０ｓ）の混合物層又は酸化イ
ンジューム層又は酸化錫層上に適当な膜厚の表層として
形成すれば、表層を弗化マグネシウム層にし、た場合に
優るとも劣らない、帯電による埃付着の防止効果と高い
透光性を与えて、耐湿性に優れ剥がれにくい導電性反射
防止コートが得られること、さらにその導電性反射防止
コートと透明基体の間に適当な膜厚の酸化セリウム（Ｃ
ｅｎｔ）層を形成すれば導電性反射防止コートの反射防
止効果すなわち透光性が一層向上することを本発明者ら
が見出した結果なされたものであり、本発明の導電性反
射防止コートを有する光学部品は、導電性反射防止コー
トが、光学部品の透明基体上の第１層の酸化セリウムを
主成分とする薄層と、その上の８２層の酸化インジウム
と酸化錫のいずれか一方もしくは混合物又は酸化錫と酸
化アンチモンの混合物を主成分とする薄層と、その上の
第３層の酸化シリコンを主成分とする薄層の３層から成
ることを特徴とし、この特徴によって前記目的を達成す
る。
すなわち本発明の導電性反射防止コートを有する光学部
品は、導電性反射防止コートが３層構成であるから生産
性が高く、酸化シリコンを主成分とする薄層を表層とし
、ＩＴＯ１酸化錫と酸化アンチモンの混合物、酸化イン
ジウム、酸化錫のいずれかを生成成分とする薄層を中層
とし、酸化セリウムを主成分とする薄層を中層と透明基
体の間の下層としているから、透明基体に高分子物質を
用いたために各層を設ける際の基体温度が２００°Ｃ以
下に制限されたとしても、耐湿性に優れて剥がれにくく
、？ｌによる埃付着の防止効果と反射防止効果も優れる
と言う性能を示す。
品は、導電性反射防止コートが３層構成であるから生産
性が高く、酸化シリコンを主成分とする薄層を表層とし
、ＩＴＯ１酸化錫と酸化アンチモンの混合物、酸化イン
ジウム、酸化錫のいずれかを生成成分とする薄層を中層
とし、酸化セリウムを主成分とする薄層を中層と透明基
体の間の下層としているから、透明基体に高分子物質を
用いたために各層を設ける際の基体温度が２００°Ｃ以
下に制限されたとしても、耐湿性に優れて剥がれにくく
、？ｌによる埃付着の防止効果と反射防止効果も優れる
と言う性能を示す。
以下、本発明を実施例によって説明する。
第１図は本発明の光学部品の例を示す模式的断面図であ
り、０はアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、ポリスルフォン系樹脂、アモルファ
スポリオレフィン系樹脂等の高分子物質、あ′るいは５
ｉ０２ガラやＢＫ−７ガラス等の各種ガラス、ＳｉやＧ
ｅの半導体材料、ＬｉＦ、 ＣｅＦ。
り、０はアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、ポリスルフォン系樹脂、アモルファ
スポリオレフィン系樹脂等の高分子物質、あ′るいは５
ｉ０２ガラやＢＫ−７ガラス等の各種ガラス、ＳｉやＧ
ｅの半導体材料、ＬｉＦ、 ＣｅＦ。
ＬｉＮａＦｘ等の弗化物と言った無機物質がら成るレン
ズ、プリズム、ミラーあるいは光電変換素子等の光学部
品の反射防止コートが設けられる表面を形成している透
明な基体、−１は導電性反射防止コートの酸化セリウム
を主成分とした薄層の第１層、同じく２は好ましくはＩ
ＴＯが酸化錫と酸化アンチモンの混合物又は酸化インジ
ュームか酸化錫を主成分とした薄層からなる第２層、３
は酸化シリコンを主成分とした薄層からなる表層の第３
層である。
ズ、プリズム、ミラーあるいは光電変換素子等の光学部
品の反射防止コートが設けられる表面を形成している透
明な基体、−１は導電性反射防止コートの酸化セリウム
を主成分とした薄層の第１層、同じく２は好ましくはＩ
ＴＯが酸化錫と酸化アンチモンの混合物又は酸化インジ
ュームか酸化錫を主成分とした薄層からなる第２層、３
は酸化シリコンを主成分とした薄層からなる表層の第３
層である。
第１層は、酸化セリウムベレットを蒸着材料として、電
子銃加熱の真空蒸着法により、基体０の材質に応じ基体
温度を２０〜３００℃の範囲の適当な温度に保って、酸
素圧２〜３ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒの酸素雰囲気で基体
０上に蒸着材料を蒸着して形成される。
子銃加熱の真空蒸着法により、基体０の材質に応じ基体
温度を２０〜３００℃の範囲の適当な温度に保って、酸
素圧２〜３ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒの酸素雰囲気で基体
０上に蒸着材料を蒸着して形成される。
ＩＴＯを主成分とする第２層２は、例えば錫含有量５〜
１５重量％の酸化インジウム錫化合物ベレットを蒸着材
料として、電子銃加熱の真空蒸着法または高周波イオン
ブレーティング法（例えば、特公昭５６−４０４４７号
に記載の方法）により、基体温度を前述と同様の温度に
保って、酸素圧１〜４×１０’Ｔｏｒｒの酸素雰囲気で
第１層ｌ上に蒸着材料を蒸着して形成される。また酸化
錫と酸化アンチモンの混合物を主成分とする第２層２は
、例えばアンチモン含有量が５重量％の酸化錫酸化アン
チモン化合物を蒸着材料として、電子銃加熱の真空蒸着
法または高周波イオンブレーティング法により、基対温
度は前述と同様に保って、酸素圧２〜４×１０−’Ｔｏ
ｒｒの酸素雰囲気で第１層ｌ上に蒸着材料を蒸着して形
成される。酸化インジューム又は酸化錫を主成分と４す
る第２層２も、蒸着材料が酸化インジウム又は酸化錫に
変わる以外は同様の方法で形成される。第３層３は、Ｓ
ｉｎ、又はそれにＳｉＯを含む酸化シリコンのベレット
または粒状物を蒸着材料として、電子銃加熱の高周波イ
オンブレーティング法により、基体温度を前述と同様に
保って、酸素圧１〜４ Ｘ １１）”Ｔｏｒｒの酸素雰
囲気で第２層２上に蒸着材料を蒸着して形成される。
１５重量％の酸化インジウム錫化合物ベレットを蒸着材
料として、電子銃加熱の真空蒸着法または高周波イオン
ブレーティング法（例えば、特公昭５６−４０４４７号
に記載の方法）により、基体温度を前述と同様の温度に
保って、酸素圧１〜４×１０’Ｔｏｒｒの酸素雰囲気で
第１層ｌ上に蒸着材料を蒸着して形成される。また酸化
錫と酸化アンチモンの混合物を主成分とする第２層２は
、例えばアンチモン含有量が５重量％の酸化錫酸化アン
チモン化合物を蒸着材料として、電子銃加熱の真空蒸着
法または高周波イオンブレーティング法により、基対温
度は前述と同様に保って、酸素圧２〜４×１０−’Ｔｏ
ｒｒの酸素雰囲気で第１層ｌ上に蒸着材料を蒸着して形
成される。酸化インジューム又は酸化錫を主成分と４す
る第２層２も、蒸着材料が酸化インジウム又は酸化錫に
変わる以外は同様の方法で形成される。第３層３は、Ｓ
ｉｎ、又はそれにＳｉＯを含む酸化シリコンのベレット
または粒状物を蒸着材料として、電子銃加熱の高周波イ
オンブレーティング法により、基体温度を前述と同様に
保って、酸素圧１〜４ Ｘ １１）”Ｔｏｒｒの酸素雰
囲気で第２層２上に蒸着材料を蒸着して形成される。
各層１−３ ｌｅｔ、第１層ｌの膜厚ｄＪ （ｏ、２ｏ
ｆ ｏ。
ｆ ｏ。
旧）λ。ノ範囲、第２層２の膜厚ｄ、が（０，０３，ｔ
Ｏ，０１）λｏ（１）範囲、第３層３の膜厚ｄ、が（
０，２６±０．０１）Ｊ。
Ｏ，０１）λｏ（１）範囲、第３層３の膜厚ｄ、が（
０，２６±０．０１）Ｊ。
の範囲にあるように形成するのが好ましい。各層の膜厚
ｄ１〜ｄ、が上述の範囲から外れると反射率が増加する
ようになり、また、第２層２の膜厚ｄ２が薄い方に外れ
た場合はさらに、帯電防止効果も低下するようになる。
ｄ１〜ｄ、が上述の範囲から外れると反射率が増加する
ようになり、また、第２層２の膜厚ｄ２が薄い方に外れ
た場合はさらに、帯電防止効果も低下するようになる。
この膜厚ｄ、−ｄ、の影響を以下の作製例の結果で示す
。
。
作製例１
基体０をアクリル系樹脂板とし、基体温度を２５〜３０
°Ｃに保って、あとは前述の各層形成条件により、設計
波長λ。を６３２．８ｎｍとして、ｄ ｌ−（０，２０
ｆＢ、０１）Ｊ ａ−１２６±６ ｎｍ（’）第１層１
、ｄ ｘ−（０，０３±０゜０１）λ、−１９±６ｎ−
のＩＴＯからなる第２層２、ｄ。
°Ｃに保って、あとは前述の各層形成条件により、設計
波長λ。を６３２．８ｎｍとして、ｄ ｌ−（０，２０
ｆＢ、０１）Ｊ ａ−１２６±６ ｎｍ（’）第１層１
、ｄ ｘ−（０，０３±０゜０１）λ、−１９±６ｎ−
のＩＴＯからなる第２層２、ｄ。
−（０，２６±０．０１）λ、−１６４±Ｏｎｍの第３
層を形成した。これによって得られた光学部品は第２図
の分光反射率グラフに曲線ｌで示した優れた反射防止性
能を有する。また、第３層３の表面は、東亜電機製表面
電気抵抗測定器５Ｍ−１０Ｅを用いて中央電極と周囲電
極間にｌθ００ｖの電圧を印加する条件で測定した表面
電気抵抗が１０１０Ω／口以下となり、帯電による埃付
着の防止効果が十分であった。さらに、得られた光学部
品を７０℃９０％ＲＨの環境に！週間放置して膜剥れ並
びに光学特性の劣化を調べたがその兆候は全く見られな
かった。
層を形成した。これによって得られた光学部品は第２図
の分光反射率グラフに曲線ｌで示した優れた反射防止性
能を有する。また、第３層３の表面は、東亜電機製表面
電気抵抗測定器５Ｍ−１０Ｅを用いて中央電極と周囲電
極間にｌθ００ｖの電圧を印加する条件で測定した表面
電気抵抗が１０１０Ω／口以下となり、帯電による埃付
着の防止効果が十分であった。さらに、得られた光学部
品を７０℃９０％ＲＨの環境に！週間放置して膜剥れ並
びに光学特性の劣化を調べたがその兆候は全く見られな
かった。
作製例２
第２層２を酸化錫と酸化アンチモンの混合物の蒸着条件
で形成した以外は作製例１と同様に各層１〜３を形成し
て得られた光学部品は、作成例１と略同等の優れた反射
防止性能を有し、帯電防止効果と耐環境性も作製例１の
光学部品と同様であった。
で形成した以外は作製例１と同様に各層１〜３を形成し
て得られた光学部品は、作成例１と略同等の優れた反射
防止性能を有し、帯電防止効果と耐環境性も作製例１の
光学部品と同様であった。
作製例３
第２層２を酸化インジウムの蒸着条件で形成した以外は
作製例１と同様に各層１〜３を形成して得られた光学部
品は、作製例１と時開等の優れた反射防止性能を有し、
帯電防止効果と耐環境性も作製例１や２の光学部品と同
様であった。
作製例１と同様に各層１〜３を形成して得られた光学部
品は、作製例１と時開等の優れた反射防止性能を有し、
帯電防止効果と耐環境性も作製例１や２の光学部品と同
様であった。
作製例４
第２層２を酸化錫の蒸着条件で形成した以外は作製例１
と同様に各層１〜３を形成して得られた光学部品は、作
製例１と時開等の優れた反射防止性能を有し、帯電防止
効果と耐環境性も作製例１〜３の光学部品と同様であっ
た。
と同様に各層１〜３を形成して得られた光学部品は、作
製例１と時開等の優れた反射防止性能を有し、帯電防止
効果と耐環境性も作製例１〜３の光学部品と同様であっ
た。
作製例５
第１層１の膜厚ｄ＋−０，３λ。−１８９，８ｎ＋ａと
した以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して
得られた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例
１〜４のものと殆んど変らないが、反射防止性能は第２
図の曲線５で示したように作製例１〜４のものに比較し
て不十分であった。
した以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して
得られた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例
１〜４のものと殆んど変らないが、反射防止性能は第２
図の曲線５で示したように作製例１〜４のものに比較し
て不十分であった。
作製例６
第１層Ｉの膜厚ｄ＋−０−１λｏ−６３，４ｎｍとした
以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して得ら
れた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例１〜
５のものと殆んど変らないが、反射防止性能は最低の反
射率すなわちＡ、の反射率が作製例５のものと時開等で
あり不十分であった。
以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して得ら
れた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例１〜
５のものと殆んど変らないが、反射防止性能は最低の反
射率すなわちＡ、の反射率が作製例５のものと時開等で
あり不十分であった。
作製例７
第２層２の膜厚ｄ２＝０．０８λ−５０，６ｎｍとした
以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して得ら
れた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例１〜
６のものと殆んど変らないが、反射防止性能はλ。の反
射率か０．３％であり良好と言えなかった。
以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して得ら
れた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例１〜
６のものと殆んど変らないが、反射防止性能はλ。の反
射率か０．３％であり良好と言えなかった。
作製例８
第２層２の膜厚ｄ！＝０．０１λ。＝ｆｉｎｍとした以
外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して得られ
た光学部品は、耐環境性は作製例１〜７のものと殆んど
変らず、反射防止性能は第２図の曲線８で示したように
作製例１のものと同程度で満足し得るものであったが、
帯電防止効果は第３層の表面電気抵抗が１桁以上高くな
って帯電による埃付着の防止には不十分であった。
外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して得られ
た光学部品は、耐環境性は作製例１〜７のものと殆んど
変らず、反射防止性能は第２図の曲線８で示したように
作製例１のものと同程度で満足し得るものであったが、
帯電防止効果は第３層の表面電気抵抗が１桁以上高くな
って帯電による埃付着の防止には不十分であった。
作製例９
第３層３の膜厚ｄ、−０，３０λ。＝ １８９．８ｎｍ
とした以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成し
て得られた光学部品は、帯電防止効果と耐環境性は作製
例１〜７のものと殆んど変らないが、反射防止性能は作
製例６のものと同程度で不十分であった。
とした以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成し
て得られた光学部品は、帯電防止効果と耐環境性は作製
例１〜７のものと殆んど変らないが、反射防止性能は作
製例６のものと同程度で不十分であった。
作製例１Ｏ
第３層３の膜厚ｄ、−０，２２λ。＝ １３９ｎ＋ｍと
した以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して
得られた光学部品は、性能が作製例９のものと殆んど変
らなかった。
した以外は作製例１と同じ条件で各層１〜３を形成して
得られた光学部品は、性能が作製例９のものと殆んど変
らなかった。
作製例１１
第２層２の膜厚ｄｘ”０−１λ。−６３，３ｎ＋ｓとし
た以外は作製例２と同じ条件で各層１〜３を形成して得
られた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例１
〜７や９．ｌＯのものと殆んど変らないが、反射防止性
能が第２図の曲線１１で示したように不十分であった。
た以外は作製例２と同じ条件で各層１〜３を形成して得
られた光学部品は、帯電防止効果や耐環境性は作製例１
〜７や９．ｌＯのものと殆んど変らないが、反射防止性
能が第２図の曲線１１で示したように不十分であった。
以上の作製例１−１１の光学部品のλ。の反射率、耐環
境性、帯電防止効果および総合判定結果を第１表に纏め
て示した。
境性、帯電防止効果および総合判定結果を第１表に纏め
て示した。
第１表の反射率判定は波長６３２．８ｍｍにおける反射
率が０．２％以下を○、０．２％を越え１．０％未満を
△、１．０％以上を×、耐環境性は７０°Ｃ９９０％Ｒ
Ｈ環境に１週間放置した後に膜剥れや光学特性劣化の紹
められないものを０１帯電防止効果は表面抵抗１０１Ｏ
Ω１０オーダを○、１０目Ωん以上のオーダを×とした
。
率が０．２％以下を○、０．２％を越え１．０％未満を
△、１．０％以上を×、耐環境性は７０°Ｃ９９０％Ｒ
Ｈ環境に１週間放置した後に膜剥れや光学特性劣化の紹
められないものを０１帯電防止効果は表面抵抗１０１Ｏ
Ω１０オーダを○、１０目Ωん以上のオーダを×とした
。
λ。を４００〜８００ｎｍの範囲で変えて作製例１−’
１１と同様に光学部品を作成しても第１表と同様の結果
が得られる。したがって、これらの結果から、ｄ 、
−（０，２０±０．０１）λ。、ｄ ｘ−（０，０３±
０．０１）λ。。
１１と同様に光学部品を作成しても第１表と同様の結果
が得られる。したがって、これらの結果から、ｄ 、
−（０，２０±０．０１）λ。、ｄ ｘ−（０，０３±
０．０１）λ。。
ｄ 、 ＝ （０，２６±０．０１）λ。とすることが
好ましいことが分かる。
好ましいことが分かる。
本発明によれば、導電性反射防止コートの構成層数が少
なくて、生産性が高く、しかも光学部品の透明基体が高
分子物質から成るものであっても耐湿性に優れて、剥が
れが生じ難く、吸収成分の生じることがなくて、少なく
とも４００〜８００ｎｍの範囲にある任意の波長を設計
波長λ。に設定することができて、λ。の波長の入射光
に対し安定して高い透光性すなわち反射防止効果を与え
、帯電による埃の付着も効果的に防止する導電性反射防
止コートを有する光学部品が提供される。
なくて、生産性が高く、しかも光学部品の透明基体が高
分子物質から成るものであっても耐湿性に優れて、剥が
れが生じ難く、吸収成分の生じることがなくて、少なく
とも４００〜８００ｎｍの範囲にある任意の波長を設計
波長λ。に設定することができて、λ。の波長の入射光
に対し安定して高い透光性すなわち反射防止効果を与え
、帯電による埃の付着も効果的に防止する導電性反射防
止コートを有する光学部品が提供される。
第１図は本発明の光学部品の模式的断面図、第２図は本
発明の光学部品の分光反射率グラフである。 ０・・・
基体、 ｌ・・・第１層、 ２・・・第２層、
３・・・第３層。
発明の光学部品の分光反射率グラフである。 ０・・・
基体、 ｌ・・・第１層、 ２・・・第２層、
３・・・第３層。
Claims (2)
- （１）導電性反射防止コートを有する光学部品において
、導電性反射防止コートが、光学部品の透明基体上の第
１層の酸化セリウムを主成分とする薄層と、その上の第
２層の酸化インジウムと酸化錫のいずれか一方もしくは
混合物又は酸化錫と酸化アンチモンの混合物を主成分と
する薄層と、その上の第３層の酸化シリコンを主成分と
する薄層の３層から成ることを特徴とする導電性反射防
止コートを有する光学部品。 - （２）前記光学部品の設計波長をλ＿０として、前記第
１層の層厚と屈折率の積で表わされる光学的膜厚ｄ＿１
を（０．２０±０．０１）λ＿０とし、第２層の光学的
膜厚ｄ＿２を（０．０３±０．０１）λ＿０とし、第３
層の光学的膜厚ｄ＿３を（０．２６±０．０１）λ＿０
とした特許請求の範囲第１項記載の導電性反射防止コー
トを有する光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238660A JP3013099B2 (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 導電性反射防止コートを有する光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238660A JP3013099B2 (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 導電性反射防止コートを有する光学部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04116501A true JPH04116501A (ja) | 1992-04-17 |
| JP3013099B2 JP3013099B2 (ja) | 2000-02-28 |
Family
ID=17033433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238660A Expired - Lifetime JP3013099B2 (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 導電性反射防止コートを有する光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3013099B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020516571A (ja) * | 2017-04-06 | 2020-06-11 | ピルキントン グループ リミテッド | コーティングされたガラス物品 |
| WO2024053124A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | キヤノンオプトロン株式会社 | 多層膜、光学部材、眼鏡および多層膜の製造方法 |
-
1990
- 1990-09-06 JP JP2238660A patent/JP3013099B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020516571A (ja) * | 2017-04-06 | 2020-06-11 | ピルキントン グループ リミテッド | コーティングされたガラス物品 |
| WO2024053124A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | キヤノンオプトロン株式会社 | 多層膜、光学部材、眼鏡および多層膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3013099B2 (ja) | 2000-02-28 |
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