JPH10246802A - 低反射樹脂基材 - Google Patents
低反射樹脂基材Info
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- JPH10246802A JPH10246802A JP9050189A JP5018997A JPH10246802A JP H10246802 A JPH10246802 A JP H10246802A JP 9050189 A JP9050189 A JP 9050189A JP 5018997 A JP5018997 A JP 5018997A JP H10246802 A JPH10246802 A JP H10246802A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 十分な耐擦傷性、密着性、耐久性を備えた低
反射樹脂基材を提供する。 【解決手段】 樹脂基材の上に設けられたノングレア層
と、該ノングレア層の上に形成された酸化アルミニウム
層と、該酸化アルミニウム層の上に形成された反射防止
層とを有することを特徴とする低反射樹脂基材。
反射樹脂基材を提供する。 【解決手段】 樹脂基材の上に設けられたノングレア層
と、該ノングレア層の上に形成された酸化アルミニウム
層と、該酸化アルミニウム層の上に形成された反射防止
層とを有することを特徴とする低反射樹脂基材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は低反射樹脂基材に関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、オフィスや各種測定などにおいて
ディスプレイ画面を用いた作業が増加している。これら
の作業においては、窓や室内照明などの外光がディスプ
レイ画面の表面で反射することにより画面が見難くなっ
たり、反射により周囲の像が画面に映り込むため、疲労
低減のためにもかかる反射を防止することが必要となっ
ている。そのための方法の一つとして、ディスプレイ画
面の表面に反射防止層を設ける方法が知られている。か
かる反射防止層としては、基材としてガラスを用いた場
合には、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、フッ化マグネシウムなどの透明誘電体層が知られて
いるが、これらを樹脂基材に用いた場合には耐擦傷性、
密着性、耐久性が十分でないという傾向があり、特にフ
ッ化マグネシウムを用いた場合にはこの傾向が顕著であ
った。
ディスプレイ画面を用いた作業が増加している。これら
の作業においては、窓や室内照明などの外光がディスプ
レイ画面の表面で反射することにより画面が見難くなっ
たり、反射により周囲の像が画面に映り込むため、疲労
低減のためにもかかる反射を防止することが必要となっ
ている。そのための方法の一つとして、ディスプレイ画
面の表面に反射防止層を設ける方法が知られている。か
かる反射防止層としては、基材としてガラスを用いた場
合には、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、フッ化マグネシウムなどの透明誘電体層が知られて
いるが、これらを樹脂基材に用いた場合には耐擦傷性、
密着性、耐久性が十分でないという傾向があり、特にフ
ッ化マグネシウムを用いた場合にはこの傾向が顕著であ
った。
【０００３】かかる問題を解決するものとして、樹脂基
材の表面に酸化アルミニウム層を形成させ、その上に反
射防止層（フッ化マグネシウム層）を形成させた低反射
樹脂基材（特公昭６１−６０２号公報など）、樹脂基材
の表面に酸化ケイ素層を形成させ、その上に反射防止層
（フッ化マグネシウム層）を形成させた低反射樹脂基材
（特開昭６２−１８６２０３号公報）などが知られてい
るが、これらはいずれも実用上の耐擦傷性が未だ十分で
はないという問題があった。
材の表面に酸化アルミニウム層を形成させ、その上に反
射防止層（フッ化マグネシウム層）を形成させた低反射
樹脂基材（特公昭６１−６０２号公報など）、樹脂基材
の表面に酸化ケイ素層を形成させ、その上に反射防止層
（フッ化マグネシウム層）を形成させた低反射樹脂基材
（特開昭６２−１８６２０３号公報）などが知られてい
るが、これらはいずれも実用上の耐擦傷性が未だ十分で
はないという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
十分な耐擦傷性、密着性、耐久性を備えた低反射樹脂基
材を開発するべく鋭意検討した結果、樹脂基材上にノン
グレア層を設け、その上に酸化アルミニウム層を形成さ
せ、その上に反射防止層を形成させることにより、耐擦
傷性、密着性、耐久性のいずれもが十分な性能の低反射
樹脂基材が得られることを見出し、本発明に至った。
十分な耐擦傷性、密着性、耐久性を備えた低反射樹脂基
材を開発するべく鋭意検討した結果、樹脂基材上にノン
グレア層を設け、その上に酸化アルミニウム層を形成さ
せ、その上に反射防止層を形成させることにより、耐擦
傷性、密着性、耐久性のいずれもが十分な性能の低反射
樹脂基材が得られることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、樹
脂基材上に設けられたノングレア層と、該ノングレア層
の上に形成された酸化アルミニウム層と、該酸化アルミ
ニウム層の上に形成された反射防止層とを有することを
特徴とする低反射樹脂基材を提供するものである。
脂基材上に設けられたノングレア層と、該ノングレア層
の上に形成された酸化アルミニウム層と、該酸化アルミ
ニウム層の上に形成された反射防止層とを有することを
特徴とする低反射樹脂基材を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の低反射樹脂基材における
樹脂基材としては、透明性のあるものであれば特に限定
されず、例えばトリアセチルセルロースなどのセルロー
ス系樹脂、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
トなどのアクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート
などのエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。
樹脂基材としては、透明性のあるものであれば特に限定
されず、例えばトリアセチルセルロースなどのセルロー
ス系樹脂、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
トなどのアクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート
などのエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。
【０００７】かかる樹脂基材の上にはノングレア層が設
けられるが、かかるノングレア層は、例えば微小なフィ
ラーを分散させたハードコート剤を樹脂基材の表面に塗
布後に紫外線硬化または熱硬化などによって硬化させる
方法、エンボス加工によってハードコート層に凹凸を形
成させる方法、ハードコート層を機械的に擦傷する方法
などの通常の方法によって容易に設けることができる。
ハードコート剤としては、アクリルウレタン系ハードコ
ート剤、アクリル系ハードコート剤などが用いられる。
かかるノングレア層を設けることにより、外光等の反射
を防止し得るばかりではなく、耐擦傷性を向上すること
ができる。
けられるが、かかるノングレア層は、例えば微小なフィ
ラーを分散させたハードコート剤を樹脂基材の表面に塗
布後に紫外線硬化または熱硬化などによって硬化させる
方法、エンボス加工によってハードコート層に凹凸を形
成させる方法、ハードコート層を機械的に擦傷する方法
などの通常の方法によって容易に設けることができる。
ハードコート剤としては、アクリルウレタン系ハードコ
ート剤、アクリル系ハードコート剤などが用いられる。
かかるノングレア層を設けることにより、外光等の反射
を防止し得るばかりではなく、耐擦傷性を向上すること
ができる。
【０００８】ノングレア層の表面は、ＪＩＳ Ｂ ０６
０１（１９９４）に従って測定される十点平均粗さが１
μm以上１０μm以下、さらには１μｍ以上５μｍ以下で
あり、かつ凹凸の平均間隔が２０μｍ以上４００μｍ以
下、さらには３０μｍ以上９０μｍ以下であることが好
ましい。十点平均粗さが１μｍ未満であるか又は凹凸の
平均間隔が２０μｍ未満では耐擦傷性が低下する傾向に
あり、十点平均粗さが１０μｍを超えるか又は凹凸の平
均間隔が４００μｍを超えると透過光の散乱が大きくな
り、ディスプレイ画面がぼやけた感じとなる傾向にあ
る。
０１（１９９４）に従って測定される十点平均粗さが１
μm以上１０μm以下、さらには１μｍ以上５μｍ以下で
あり、かつ凹凸の平均間隔が２０μｍ以上４００μｍ以
下、さらには３０μｍ以上９０μｍ以下であることが好
ましい。十点平均粗さが１μｍ未満であるか又は凹凸の
平均間隔が２０μｍ未満では耐擦傷性が低下する傾向に
あり、十点平均粗さが１０μｍを超えるか又は凹凸の平
均間隔が４００μｍを超えると透過光の散乱が大きくな
り、ディスプレイ画面がぼやけた感じとなる傾向にあ
る。
【０００９】かかるノングレア層の上には酸化アルミニ
ウム層が形成されるが、かかる酸化アルミニウム層を形
成させる方法は特に限定されず、通常の方法、例えば真
空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などに
より形成させることができる。酸化アルミニウム層の膜
厚（ｄ）は通常５０Å以上である。膜厚（ｄ）の上限は
特に限定されないが、反射防止性能を損なわないために
は反射防止の目的とする光の波長をλ、酸化アルミニウ
ムの屈折率をｎとして一般式（１） ｄ0＝λ／２ｎ （１） で示される値ｄ0以下であることが好ましい。なお、通
常の場合、λは概ね５５０ｎｍ、ｄ0は概ね１７００Å
程度である。
ウム層が形成されるが、かかる酸化アルミニウム層を形
成させる方法は特に限定されず、通常の方法、例えば真
空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などに
より形成させることができる。酸化アルミニウム層の膜
厚（ｄ）は通常５０Å以上である。膜厚（ｄ）の上限は
特に限定されないが、反射防止性能を損なわないために
は反射防止の目的とする光の波長をλ、酸化アルミニウ
ムの屈折率をｎとして一般式（１） ｄ0＝λ／２ｎ （１） で示される値ｄ0以下であることが好ましい。なお、通
常の場合、λは概ね５５０ｎｍ、ｄ0は概ね１７００Å
程度である。
【００１０】酸化アルミニウム層を形成させる前に、ノ
ングレア層の表面はプラズマを用いた処理を施されてい
てもよい。かかる処理を施されることにより、得られる
低反射樹脂基材はその耐擦傷性がさらに向上する。プラ
ズマを用いた処理としては、例えばコロナ処理や、１×
１０-4Ｔｏｒｒ〜１×１０-1Ｔｏｒｒ程度の真空下でア
ルゴンガス、酸素ガスなどを用いた放電プラズマ中にノ
ングレア層表面をさらす方法などが挙げられる。コロナ
処理は通常、放電領域に樹脂基材を通過させることによ
り行われ、放電領域に投入されるエネルギーを該放電領
域を通過する樹脂基材の速度で除した値として計算され
る処理エネルギーは、特に限定されないが、２０Ｗ／ｍ
以上１ｋＷ／ｍ以下であることが好ましい。処理エネル
ギーが２０Ｗ／ｍ未満であれば酸化アルミニウム層との
密着性向上の効果が十分に得られない傾向にあり、１ｋ
Ｗ／ｍを超えると得られる反射防止板の反射光に色が付
いたり、反射防止層の耐久性が低下する傾向にある。
ングレア層の表面はプラズマを用いた処理を施されてい
てもよい。かかる処理を施されることにより、得られる
低反射樹脂基材はその耐擦傷性がさらに向上する。プラ
ズマを用いた処理としては、例えばコロナ処理や、１×
１０-4Ｔｏｒｒ〜１×１０-1Ｔｏｒｒ程度の真空下でア
ルゴンガス、酸素ガスなどを用いた放電プラズマ中にノ
ングレア層表面をさらす方法などが挙げられる。コロナ
処理は通常、放電領域に樹脂基材を通過させることによ
り行われ、放電領域に投入されるエネルギーを該放電領
域を通過する樹脂基材の速度で除した値として計算され
る処理エネルギーは、特に限定されないが、２０Ｗ／ｍ
以上１ｋＷ／ｍ以下であることが好ましい。処理エネル
ギーが２０Ｗ／ｍ未満であれば酸化アルミニウム層との
密着性向上の効果が十分に得られない傾向にあり、１ｋ
Ｗ／ｍを超えると得られる反射防止板の反射光に色が付
いたり、反射防止層の耐久性が低下する傾向にある。
【００１１】酸化アルミニウム層の上に形成される反射
防止層は１層であってもよいし、２層以上であってもよ
い。かかる反射防止層としては、例えばフッ化マグネシ
ウムなどの金属フッ化物、酸化シリコン、酸化チタンな
どの金属酸化物などからなる層が挙げられる。中でも金
属フッ化物、特にはフッ化マグネシウムを用いた場合に
は耐擦傷性および耐久性の向上が顕著である。これらの
反射防止層は通常の方法、例えば真空蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法などにより形成させること
ができ、その厚みは反射防止層が１層である場合には通
常６００〜１１００Å、好ましくは７００〜９５０Åの
範囲である。
防止層は１層であってもよいし、２層以上であってもよ
い。かかる反射防止層としては、例えばフッ化マグネシ
ウムなどの金属フッ化物、酸化シリコン、酸化チタンな
どの金属酸化物などからなる層が挙げられる。中でも金
属フッ化物、特にはフッ化マグネシウムを用いた場合に
は耐擦傷性および耐久性の向上が顕著である。これらの
反射防止層は通常の方法、例えば真空蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法などにより形成させること
ができ、その厚みは反射防止層が１層である場合には通
常６００〜１１００Å、好ましくは７００〜９５０Åの
範囲である。
【００１２】かかる本発明の低反射樹脂基材は、その反
射防止層の表面に撥水層が形成されて用いられてもよ
い。かかる撥水層としては、例えばフッ素を含む重合層
が挙げられ、かかる重合膜としては、例えばテフロンコ
ート、フッ素系のオイルの塗布膜、フッ素系のシランカ
ップリング剤によるコートなどが挙げられる。撥水層
は、純水を用いた測定による接触角が１００°以上であ
ると耐擦傷性の向上に十分な効果があるため好ましい。
射防止層の表面に撥水層が形成されて用いられてもよ
い。かかる撥水層としては、例えばフッ素を含む重合層
が挙げられ、かかる重合膜としては、例えばテフロンコ
ート、フッ素系のオイルの塗布膜、フッ素系のシランカ
ップリング剤によるコートなどが挙げられる。撥水層
は、純水を用いた測定による接触角が１００°以上であ
ると耐擦傷性の向上に十分な効果があるため好ましい。
【００１３】かかる撥水層は、接着性の点で、金属酸化
物、特には酸化ケイ素からなる層の上に形成されること
が好ましい。そのため、反射防止層として金属フッ化物
からなる層を用いた場合には、その上にさらに金属酸化
物からなる保護層を形成させ、その上に撥水層を形成さ
せることが好ましい。かかる保護層は通常の方法、例え
ば真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法な
どにより形成させることができ、その厚みは通常３０〜
３００Å、好ましくは５０〜２００Åの範囲である。
物、特には酸化ケイ素からなる層の上に形成されること
が好ましい。そのため、反射防止層として金属フッ化物
からなる層を用いた場合には、その上にさらに金属酸化
物からなる保護層を形成させ、その上に撥水層を形成さ
せることが好ましい。かかる保護層は通常の方法、例え
ば真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法な
どにより形成させることができ、その厚みは通常３０〜
３００Å、好ましくは５０〜２００Åの範囲である。
【００１４】かかる本発明の低反射樹脂基材は、予め目
的とする大きさに切断された樹脂基材ごとに製造されて
もよいし、フィルムもしくはシートを用いた連続プロセ
スよって製造された後、目的の大きさに切断されてもよ
い。
的とする大きさに切断された樹脂基材ごとに製造されて
もよいし、フィルムもしくはシートを用いた連続プロセ
スよって製造された後、目的の大きさに切断されてもよ
い。
【００１５】
【発明の効果】本発明の低反射樹脂基材は、十分な耐擦
傷性、密着性、耐久性を備えており、偏光フィルターな
どの各種光学フィルターとして有用である。
傷性、密着性、耐久性を備えており、偏光フィルターな
どの各種光学フィルターとして有用である。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００１７】評価方法以下の実施例で得た低反射樹脂基
材は、下記の方法により評価した。 （１）耐擦傷性 スチールウール＃００００を使用して、荷重２５０ｇ／
ｃｍ2で表面を２０回こすり、目視により表面の傷つき
状態を観察し、以下の基準で評価した。 ◎：傷は確認できない ○：傷はほとんど確認できない △：わずかに傷を確認できた ×：はっきりと傷が確認できる （２）耐擦傷性の再現性 各実施例について同様の操作を行って低反射樹脂基材を
製造し、得られた低反射樹脂基材の耐擦傷性を再び評価
した。 （３）密着性 碁盤目に切り込みを入れた表面にセロハンテープ（ニチ
バン社製）を貼り付け、９０°の角度で引き剥がしたと
きの反射防止層の剥離状況を目視により観察し、下記の
基準で評価した。 ○：剥離しない ×：剥離した （４）耐久性 得られた低反射樹脂基材を切断して、それぞれを下記
（Ａ）〜（Ｄ）で示す条件下に２００時間放置した。 （Ａ）温度８０℃／乾燥状態 （Ｂ）温度９０℃／乾燥状態 （Ｃ）温度６０℃／湿度９０％ （Ｄ）温度６５℃／湿度９５％ 放置後の反射防止層におけるクラックの発生および上記
と同様の密着性評価の結果から、下記の基準で評価し
た。 ○：いずれの条件下でも、クラックなどの発生がなく、
かつ密着性の低下を生じない。 ×：条件（Ｃ）、条件（Ｄ）において反射防止層に密着
性の低下を生じた。 （５）映り込み防止性 黒色の紙の上に低反射基材をおいた状態で、該低反射基
材の表面に周囲の像が映り込む様子を目視により観察
し、下記の基準で評価した。 ◎：像が認識できない ○：像が認識されるが、その輪郭は認識できない ×：像が、その輪郭まで認識できる
材は、下記の方法により評価した。 （１）耐擦傷性 スチールウール＃００００を使用して、荷重２５０ｇ／
ｃｍ2で表面を２０回こすり、目視により表面の傷つき
状態を観察し、以下の基準で評価した。 ◎：傷は確認できない ○：傷はほとんど確認できない △：わずかに傷を確認できた ×：はっきりと傷が確認できる （２）耐擦傷性の再現性 各実施例について同様の操作を行って低反射樹脂基材を
製造し、得られた低反射樹脂基材の耐擦傷性を再び評価
した。 （３）密着性 碁盤目に切り込みを入れた表面にセロハンテープ（ニチ
バン社製）を貼り付け、９０°の角度で引き剥がしたと
きの反射防止層の剥離状況を目視により観察し、下記の
基準で評価した。 ○：剥離しない ×：剥離した （４）耐久性 得られた低反射樹脂基材を切断して、それぞれを下記
（Ａ）〜（Ｄ）で示す条件下に２００時間放置した。 （Ａ）温度８０℃／乾燥状態 （Ｂ）温度９０℃／乾燥状態 （Ｃ）温度６０℃／湿度９０％ （Ｄ）温度６５℃／湿度９５％ 放置後の反射防止層におけるクラックの発生および上記
と同様の密着性評価の結果から、下記の基準で評価し
た。 ○：いずれの条件下でも、クラックなどの発生がなく、
かつ密着性の低下を生じない。 ×：条件（Ｃ）、条件（Ｄ）において反射防止層に密着
性の低下を生じた。 （５）映り込み防止性 黒色の紙の上に低反射基材をおいた状態で、該低反射基
材の表面に周囲の像が映り込む様子を目視により観察
し、下記の基準で評価した。 ◎：像が認識できない ○：像が認識されるが、その輪郭は認識できない ×：像が、その輪郭まで認識できる
【００１８】なお、ノングレア層の表面の十点平均粗さ
および凹凸の平均間隔は、表面粗さ計（東京精密社製、
ｓｕｒｆｃｏｍ−５７０Ａ）を用いてＪＩＳ Ｂ ０６
０１（１９９４）に基づいて測定した。
および凹凸の平均間隔は、表面粗さ計（東京精密社製、
ｓｕｒｆｃｏｍ−５７０Ａ）を用いてＪＩＳ Ｂ ０６
０１（１９９４）に基づいて測定した。
【００１９】実施例１ トリアセチルセルロース（以下、ＴＡＣと称する。）の
フィルムの一方の表面に、アクリルウレタン系ハードコ
ート剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布し、紫外
線硬化させてノングレア層（厚み３μｍ、十点平均粗さ
は３．０μｍ、凹凸の平均間隔は１１３μｍ）を形成さ
せ、次いでコロナ処理（処理エネルギー１５０Ｗ／ｍ）
を行った。その後、ノングレア層表面上に、真空度１．
２×１０ ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によ
って酸化アルミニウム層（厚み１００Å）を形成させ、
次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真
空蒸着法によってフッ化マグネシウム層（厚み８５０
Å）を形成させ、次いで真空度１×１０ー4Ｔｏｒｒで電
子ビームによる真空蒸着法によって酸化ケイ素層（厚み
１００Å）を形成させた。その後、真空容器内で撥水処
理剤（オプトロン社製、ＯＦ−１１０）を電子ビームに
より加熱、気化させて、酸化ケイ素層の上に撥水層（純
水を用いた接触角は１０４°）を形成させて、低反射樹
脂基材を得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂
基材を、ポリビニルアルコールフィルムを延伸して得た
偏光フィルムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を
液晶表示装置に適用したところ、外光が画面に反射する
ことがほとんどなく、しかも視認性は十分であった。
フィルムの一方の表面に、アクリルウレタン系ハードコ
ート剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布し、紫外
線硬化させてノングレア層（厚み３μｍ、十点平均粗さ
は３．０μｍ、凹凸の平均間隔は１１３μｍ）を形成さ
せ、次いでコロナ処理（処理エネルギー１５０Ｗ／ｍ）
を行った。その後、ノングレア層表面上に、真空度１．
２×１０ ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によ
って酸化アルミニウム層（厚み１００Å）を形成させ、
次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真
空蒸着法によってフッ化マグネシウム層（厚み８５０
Å）を形成させ、次いで真空度１×１０ー4Ｔｏｒｒで電
子ビームによる真空蒸着法によって酸化ケイ素層（厚み
１００Å）を形成させた。その後、真空容器内で撥水処
理剤（オプトロン社製、ＯＦ−１１０）を電子ビームに
より加熱、気化させて、酸化ケイ素層の上に撥水層（純
水を用いた接触角は１０４°）を形成させて、低反射樹
脂基材を得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂
基材を、ポリビニルアルコールフィルムを延伸して得た
偏光フィルムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を
液晶表示装置に適用したところ、外光が画面に反射する
ことがほとんどなく、しかも視認性は十分であった。
【００２０】実施例２ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、アクリルウレタン系
のハードコート剤にシリカ微粒子を分散させたものを使
用して紫外線硬化によりノングレア層（厚み３μｍ、十
点平均粗さは４．７μｍ、凹凸の平均間隔は８５μｍ）
を形成させ、次いでコロナ処理（処理エネルギー４００
Ｗ／ｍ）を行った。その後、ノングレア層表面上に、真
空度１．２×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸
着法によって酸化アルミニウム層（厚み６０Å）を形成
させ、次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームに
よる真空蒸着法によってフッ化マグネシウム層（厚み９
５０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を得た。評価結
果を表１に示す。この低反射樹脂基材を、ポリビニルア
ルコールフィルムを延伸して得た偏光フィルムに貼合し
て、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示装置に適用し
たところ、外光が画面に反射することがほとんどなく、
しかも視認性は十分であった。
のハードコート剤にシリカ微粒子を分散させたものを使
用して紫外線硬化によりノングレア層（厚み３μｍ、十
点平均粗さは４．７μｍ、凹凸の平均間隔は８５μｍ）
を形成させ、次いでコロナ処理（処理エネルギー４００
Ｗ／ｍ）を行った。その後、ノングレア層表面上に、真
空度１．２×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸
着法によって酸化アルミニウム層（厚み６０Å）を形成
させ、次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームに
よる真空蒸着法によってフッ化マグネシウム層（厚み９
５０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を得た。評価結
果を表１に示す。この低反射樹脂基材を、ポリビニルア
ルコールフィルムを延伸して得た偏光フィルムに貼合し
て、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示装置に適用し
たところ、外光が画面に反射することがほとんどなく、
しかも視認性は十分であった。
【００２１】実施例３ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、紫外線硬化によりア
クリル系のハードコートを形成し、エンボス加工してノ
ングレア層（厚み５μｍ、十点平均粗さは８．１μｍ、
凹凸の平均間隔は１９０μｍ）を形成させ、次いでコロ
ナ処理（処理エネルギー８０Ｗ／ｍ）を行った。その
後、ノングレア層表面上に、真空度１．２×１０ー4Ｔｏ
ｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によって酸化アルミ
ニウム層（厚み１５０Å）を形成させ、次いで真空度８
×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によっ
てフッ化マグネシウム層（厚み９５０Å）を形成させ
て、低反射樹脂基材を得た。評価結果を表１に示す。こ
の低反射樹脂基材を、ポリビニルアルコールフィルムを
延伸して得た偏光フィルムに貼合して、偏光板を得た。
この偏光板を液晶表示装置に適用したところ、外光が画
面に反射することがほとんどなく、しかも視認性は十分
であった。
クリル系のハードコートを形成し、エンボス加工してノ
ングレア層（厚み５μｍ、十点平均粗さは８．１μｍ、
凹凸の平均間隔は１９０μｍ）を形成させ、次いでコロ
ナ処理（処理エネルギー８０Ｗ／ｍ）を行った。その
後、ノングレア層表面上に、真空度１．２×１０ー4Ｔｏ
ｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によって酸化アルミ
ニウム層（厚み１５０Å）を形成させ、次いで真空度８
×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によっ
てフッ化マグネシウム層（厚み９５０Å）を形成させ
て、低反射樹脂基材を得た。評価結果を表１に示す。こ
の低反射樹脂基材を、ポリビニルアルコールフィルムを
延伸して得た偏光フィルムに貼合して、偏光板を得た。
この偏光板を液晶表示装置に適用したところ、外光が画
面に反射することがほとんどなく、しかも視認性は十分
であった。
【００２２】実施例４ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、紫外線硬化によりア
クリル系のハードコートを形成し、エンボス加工してノ
ングレア層（厚み５μｍ、十点平均粗さは８．７μｍ、
凹凸の平均間隔は１３４μｍ）を形成させ、次いで真空
度１×１０-2Ｔｏｒｒのアルゴンガス雰囲気下で放電プ
ラズマ（放電パワーは１．２Ｗ／ｃｍ2）の放電領域を
２０秒間さらした。その後、ノングレア層表面上に、ス
パッター法によって酸化アルミニウム層（厚み１００
Å）を形成させ、次いでスパッター法によって酸化ケイ
素層（厚み８５０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を
得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材を、
ポリビニルアルコールフィルムを延伸して得た偏光フィ
ルムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示
装置に適用したところ、外光が画面に反射することがほ
とんどなく、しかも視認性は十分であった。
クリル系のハードコートを形成し、エンボス加工してノ
ングレア層（厚み５μｍ、十点平均粗さは８．７μｍ、
凹凸の平均間隔は１３４μｍ）を形成させ、次いで真空
度１×１０-2Ｔｏｒｒのアルゴンガス雰囲気下で放電プ
ラズマ（放電パワーは１．２Ｗ／ｃｍ2）の放電領域を
２０秒間さらした。その後、ノングレア層表面上に、ス
パッター法によって酸化アルミニウム層（厚み１００
Å）を形成させ、次いでスパッター法によって酸化ケイ
素層（厚み８５０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を
得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材を、
ポリビニルアルコールフィルムを延伸して得た偏光フィ
ルムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示
装置に適用したところ、外光が画面に反射することがほ
とんどなく、しかも視認性は十分であった。
【００２３】実施例５ メチルメタアクリレート板（グレーに着色、光透過率８
５％）の一方の表面に、アクリルウレタン系ハードコー
ト剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布し、紫外線
硬化させてノングレア層（厚み３μｍ、十点平均粗さは
３．５μｍ、凹凸の平均間隔は６８μｍ）を形成させ、
次いでコロナ処理（処理エネルギー４００Ｗ／ｍ）を行
った。その後、ノングレア層表面上に、真空度１．２×
１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によって
酸化アルミニウム層（厚み１００Å）を形成させ、次い
で真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸
着法によってフッ化マグネシウム層（厚み８５０Å）を
形成させ、次いで真空度１×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビー
ムによる真空蒸着法によって酸化ケイ素層（厚み１２０
Å）を形成させた。その後、真空容器内で撥水処理剤
（オプトロン社製、ＯＦ−１１０）を電子ビームにより
加熱、気化させて、酸化ケイ素層の上に撥水層（純水を
用いた接触角は１０８°）を形成させて、低反射樹脂基
材を得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材
をＣＲＴディスプレーの前面に配置する光学フィルター
として適用したところ、外光が画面に映り込むことがほ
とんどなく、コントラストは良好であり、かつ視認性も
良好であった。
５％）の一方の表面に、アクリルウレタン系ハードコー
ト剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布し、紫外線
硬化させてノングレア層（厚み３μｍ、十点平均粗さは
３．５μｍ、凹凸の平均間隔は６８μｍ）を形成させ、
次いでコロナ処理（処理エネルギー４００Ｗ／ｍ）を行
った。その後、ノングレア層表面上に、真空度１．２×
１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によって
酸化アルミニウム層（厚み１００Å）を形成させ、次い
で真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸
着法によってフッ化マグネシウム層（厚み８５０Å）を
形成させ、次いで真空度１×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビー
ムによる真空蒸着法によって酸化ケイ素層（厚み１２０
Å）を形成させた。その後、真空容器内で撥水処理剤
（オプトロン社製、ＯＦ−１１０）を電子ビームにより
加熱、気化させて、酸化ケイ素層の上に撥水層（純水を
用いた接触角は１０８°）を形成させて、低反射樹脂基
材を得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材
をＣＲＴディスプレーの前面に配置する光学フィルター
として適用したところ、外光が画面に映り込むことがほ
とんどなく、コントラストは良好であり、かつ視認性も
良好であった。
【００２４】実施例６ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、アクリルウレタン系
ハードコート剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布
し、加熱してノングレア層（厚み３μｍ、十点平均粗さ
は４．７μｍ、凹凸の平均間隔は８５μｍ）を形成さ
せ、次いでノングレア層表面上に、真空度１．２×１０
ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によって酸化
アルミニウム層（厚み１００Å）を形成させ、次いで真
空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法
によってフッ化マグネシウム層（厚み９５０Å）を形成
させて、低反射樹脂基材を得た。評価結果を表１に示
す。この低反射樹脂基材を、ポリビニルアルコールフィ
ルムを延伸して得た偏光フィルムに貼合して、偏光板を
得た。この偏光板を液晶表示装置に適用したところ、外
光が画面に反射することがほとんどなく、しかも視認性
は十分であった。
ハードコート剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布
し、加熱してノングレア層（厚み３μｍ、十点平均粗さ
は４．７μｍ、凹凸の平均間隔は８５μｍ）を形成さ
せ、次いでノングレア層表面上に、真空度１．２×１０
ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法によって酸化
アルミニウム層（厚み１００Å）を形成させ、次いで真
空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸着法
によってフッ化マグネシウム層（厚み９５０Å）を形成
させて、低反射樹脂基材を得た。評価結果を表１に示
す。この低反射樹脂基材を、ポリビニルアルコールフィ
ルムを延伸して得た偏光フィルムに貼合して、偏光板を
得た。この偏光板を液晶表示装置に適用したところ、外
光が画面に反射することがほとんどなく、しかも視認性
は十分であった。
【００２５】比較例１ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、紫外線硬化により平
滑なアクリルウレタン系ハードコート層を形成させ（厚
み３μｍ）、次いでコロナ処理（処理エネルギー１５０
Ｗ／ｍ）を行った。その後、このハードコート層表面上
に、真空度１．２×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる
真空蒸着法によって酸化アルミニウム層（厚み１００
Å）を形成させ、次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電
子ビームによる真空蒸着法によってフッ化マグネシウム
層（厚み９５０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を得
た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材を、ポ
リビニルアルコールフィルムを延伸して得た偏光フィル
ムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示装
置に適用したところ、視認性は十分であったが、外光が
画面上でわずかに反射した。
滑なアクリルウレタン系ハードコート層を形成させ（厚
み３μｍ）、次いでコロナ処理（処理エネルギー１５０
Ｗ／ｍ）を行った。その後、このハードコート層表面上
に、真空度１．２×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる
真空蒸着法によって酸化アルミニウム層（厚み１００
Å）を形成させ、次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電
子ビームによる真空蒸着法によってフッ化マグネシウム
層（厚み９５０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を得
た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材を、ポ
リビニルアルコールフィルムを延伸して得た偏光フィル
ムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示装
置に適用したところ、視認性は十分であったが、外光が
画面上でわずかに反射した。
【００２６】比較例２ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、アクリルウレタン系
ハードコート剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布
し、紫外線硬化させてノングレア層（厚み３μｍ、十点
平均粗さは３．０μｍ、凹凸の平均間隔は１１３μｍ）
を形成させ、次いでコロナ処理（処理エネルギー１５０
Ｗ／ｍ）を行った。その後、ノングレア層表面上に、真
空度１．２×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸
着法によって酸化ケイ素層（厚み１００Å）を形成さ
せ、次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによ
る真空蒸着法によってフッ化マグネシウム層（厚み８５
０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を得た。評価結果
を表１に示す。この低反射樹脂基材を、ポリビニルアル
コールフィルムを延伸して得た偏光フィルムに貼合し
て、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示装置に適用し
たところ、外光が画面に反射することがほとんどなく、
しかも視認性は十分であった。
ハードコート剤にシリカ微粒子を分散させたものを塗布
し、紫外線硬化させてノングレア層（厚み３μｍ、十点
平均粗さは３．０μｍ、凹凸の平均間隔は１１３μｍ）
を形成させ、次いでコロナ処理（処理エネルギー１５０
Ｗ／ｍ）を行った。その後、ノングレア層表面上に、真
空度１．２×１０ー4Ｔｏｒｒで電子ビームによる真空蒸
着法によって酸化ケイ素層（厚み１００Å）を形成さ
せ、次いで真空度８×１０-5Ｔｏｒｒで電子ビームによ
る真空蒸着法によってフッ化マグネシウム層（厚み８５
０Å）を形成させて、低反射樹脂基材を得た。評価結果
を表１に示す。この低反射樹脂基材を、ポリビニルアル
コールフィルムを延伸して得た偏光フィルムに貼合し
て、偏光板を得た。この偏光板を液晶表示装置に適用し
たところ、外光が画面に反射することがほとんどなく、
しかも視認性は十分であった。
【００２７】比較例３ ＴＡＣのフィルムの一方の表面に、紫外線硬化によりア
クリル系ハードコートを形成させ、エンボス加工により
ノングレア層（厚み５μｍ、十点平均粗さは１１．８μ
ｍ、凹凸の平均間隔は１４０μｍ）を形成させ、次いで
コロナ処理（処理エネルギー１５０Ｗ／ｍ）を行った。
その後、ノングレア層表面上に真空度８×１０-5Ｔｏｒ
ｒで電子ビームによる真空蒸着法によってフッ化マグネ
シウム層（厚み９５０Å）を形成させて、低反射樹脂基
材を得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材
を、ポリビニルアルコールフィルムを延伸して得た偏光
フィルムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を液晶
表示装置に適用したところ、外光が画面に反射すること
はがほとんどなかったが、透過光の散乱が大きく、表示
画面がぼやけた感じとなった。
クリル系ハードコートを形成させ、エンボス加工により
ノングレア層（厚み５μｍ、十点平均粗さは１１．８μ
ｍ、凹凸の平均間隔は１４０μｍ）を形成させ、次いで
コロナ処理（処理エネルギー１５０Ｗ／ｍ）を行った。
その後、ノングレア層表面上に真空度８×１０-5Ｔｏｒ
ｒで電子ビームによる真空蒸着法によってフッ化マグネ
シウム層（厚み９５０Å）を形成させて、低反射樹脂基
材を得た。評価結果を表１に示す。この低反射樹脂基材
を、ポリビニルアルコールフィルムを延伸して得た偏光
フィルムに貼合して、偏光板を得た。この偏光板を液晶
表示装置に適用したところ、外光が画面に反射すること
はがほとんどなかったが、透過光の散乱が大きく、表示
画面がぼやけた感じとなった。
【００２８】
【表１】
【００２９】表１に示すように、本発明の実施例はいず
れも耐擦傷性に優れ、かつ耐久性、密着性も十分なレベ
ルであり、低反射樹脂基材として優れている。
れも耐擦傷性に優れ、かつ耐久性、密着性も十分なレベ
ルであり、低反射樹脂基材として優れている。
Claims (10)
- 【請求項１】樹脂基材の上に設けられたノングレア層
と、該ノングレア層の上に形成された酸化アルミニウム
層と、該酸化アルミニウム層の上に形成された反射防止
層とを有することを特徴とする低反射樹脂基材。 - 【請求項２】樹脂基材がセルロース系樹脂である請求項
１に記載の低反射樹脂基材。 - 【請求項３】ノングレア層の表面が、十点平均粗さが１
μm以上１０μm以下であり、かつ凹凸の平均間隔が２０
μｍ以上４００μｍ以下である請求項１に記載の低反射
樹脂基材。 - 【請求項４】ノングレア層が、その表面にプラズマを用
いた処理を施されてなる請求項１、請求項２または請求
項３に記載の低反射樹脂基材。 - 【請求項５】プラズマを用いた処理がコロナ処理である
請求項４に記載の低反射樹脂基材。 - 【請求項６】反射防止層が金属フッ化物または金属酸化
物からなる層である請求項１または請求項４に記載の低
反射樹脂基材。 - 【請求項７】金属フッ化物からなる反射防止層の上に金
属酸化物からなる保護層が形成されてなる請求項６に記
載の低反射樹脂基材。 - 【請求項８】金属酸化物からなる保護層の上に撥水層が
形成されてなる請求項７に記載の低反射樹脂基材。 - 【請求項９】撥水層が、フッ素を含む重合層である請求
項８に記載の低反射樹脂基材。 - 【請求項１０】撥水層が、純水を用いて測定される接触
角が１００°以上である請求項８または請求項９に記載
の低反射樹脂基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05018997A JP3541606B2 (ja) | 1997-03-05 | 1997-03-05 | 低反射樹脂基材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05018997A JP3541606B2 (ja) | 1997-03-05 | 1997-03-05 | 低反射樹脂基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10246802A true JPH10246802A (ja) | 1998-09-14 |
| JP3541606B2 JP3541606B2 (ja) | 2004-07-14 |
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ID=12852229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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