JPH03505896A - 原子化装置及び製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 原子化装置及び製法 本発明は金属又は金属合金の液体流を原子化する方法及び装置に関する。本発明 の一様相は粉体を製造すること、特に、大きな固体−液体温度ギャップを有する 金属又は金属合金から粗い粉体及び粉体を製造することに関する。本発明の他の 様相は改善されたスプレデポジション（ｓｐｒａｙ　　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ） プロセスに関する。

粗い寸法の範囲内に産出する最適化を必要とする場合に、粗い粉体を生産するの に問題が生じ、例えば、１゜０ミクロンより大きな平均粒体寸法の原子化粉体は 、原子化を実施する収納容器の表面又は内部にて柔がい若しくは塗液状の熱い粗 い粒子のメッキ若しくは合体若しくは付着により著しく粉体の回復が減じられる ことである。

例えば、液体金属又は金属合金流の原子化により粉体を生産するための代表的な 原子化装置において、金属高さ約４．５ｍの原子化室内にて原子化される。前記 装置内にて粗い寸法の範囲に高産出する粉体を生産するために、液体金属又は合 金流は低い原子化ガス対金属比の手段により粉砕されなければならない。これに よりより少ない流の粉砕、従って粗い粒子を与え、多くの粒子は長過ぎる間然過 ぎる状態に留まり、両者共固有に粗い粉体のより遅い冷却と、粗い粉体の実現に 伴い金属汚染対ガスの低い比によるものであるので、幾らかの粒体は原子化室の ベースに達するときに液状又は半液状又は柔い状態におり、従って室のベース上 にスプラット（ｓｐｌａｔ）、塊になるか付着する。理解される如く、これが注 入された総金属から粒体寸法範囲の金属粉体の可能な回復を感じる。デポジット した材の建立は生産物の連続除去用のベース出口管が備えである原子化室内に更 に問題を派生させる。理由はデポジットの建立は粉体／ガス出口をブロックでき 、プロセスを停止させるからである。

広い固体対液体ギャップを有し、かつ一方で特定の低いガス対金属比を有して所 望の粉状粉体寸法を与える場合及び他方スプレを構成する粉状粉体の直接の環境 内で起こりうる比較的冷たいガスがあって十分な熱を除去して粒体が室のベース に達する時迄に固体になることを要する金属合金から粉体を生産する際にも問題 が生じる。

一つの解決法は原子化室の高さを増すので流体は飛散中に原子化室のベースに達 する前に冷却時間がかかり過ぎる。しかしながら、前記解決法は要求される装置 の寸法と設備をハウジングするのに建設費がかかり過ぎるという見地から実用的 でない。

ガス原子化金属又は金属合金のスプレデポジション（ｓｐｒａｙ　　ｄｅｐｏｓ ｉｔｉｏｎ）を実施する時の問題はデポジットする落下物が十分に固化されかつ 最適デポジット条件を与えるために適当な寸法であることを保証し、かつスプレ の高さの長寸化を滅しるようにすることである。従って、本発明の目的は広い固 体／液体ギャップを備えた粗い粉体又は粉体、又は準固体／準液体落下物で比較 的小さな原子化装置内で生産されるデポジション用のものの生産と許す原子化方 法及び原子化装置を提供することである。

本発明の一様相によれば、下記の工程から成る金属又は金属合金を原子化する方 法を提供する。

（ア）原子化装置内に溶融金属又は金属合金の流れを充満させること。

（イ）金属又は金属合金の落下物を形成するために金属又は金属合金の温度によ り低い温度にて原子化ガスにより流を原子化すること。

（つ）流れ又は落下物に冷却流体を向けて更に除熱すること９望ましくは原子化 ガスは最初のジェット（ｊｅｔｓ）から発し、原子化落下物に向けらな第二のジ ェットから冷却流体を発すること。この方法は広い固体７／液体ギャップを備え た合金から粗い粉体又は粉体を生産するためのであり、前記第二のジェットは第 一のジェットのガスによりほぼ単純に決定される粉体寸法分布に何ら影響を有さ せない低い流速である。代替的に、この方法はスプレデポジットの生産用である 。第二のジェットは十分な混合と金属又は合金粒体と落下物のスプレ内への収納 、又は代案的に同じジェット内に冷却流体と原子化ガスが注入される。適切には 、冷動流体は液化不活性ガスでアルゴン又はヘリューム又は液体チッ素で例えば ０．５〜２．５ベルグの低い圧力で原子化落下物に向けられるので、それらは単 に落下物を更に冷却するが寸法には影響を与えない。原子化ガス空気、アルゴン 、ヘリューム又はチッ素が適切である。低温液化ガス、例えばアルゴン又はチッ 素の使用により、低い酸素含有粒体の生産が可能になる。例えばチ・ソ素又はア ルゴンの選択は液体金属又は合金構成比の反応性及びチッ化物形成の傾向とその 所望性に基づいて決定される９ 本発明の他の様相によれば、原子化される溶融金属又は金属合金の流を受けるた めの原子化装置、金属又は金属合金の温度よりも低い温度にて、原子化落下物内 に流を破断するための液体流にて、原子化ガスを方向づけする手段、及び更に除 熱するために流又は原子化落下物に冷却流体を方向づける手段とから成る原子化 装置を提供する。望ましい配設において、原子化ガスを方向づける手段は、主ジ ェツトから成り、冷却流体を方向づける手段は原子化落下物に、方向づけられな 第二のジェットから　成る。しかしながら、代案的に、原子化ガスと冷却流体は 同時に共通のジェット内に導入される。望ましくは冷却流体は、原子化ガスによ り決定される寸法分布を実質的に影響も与えずに抽熱するように第二のジェット 内に与えられる。

適材には第二のジェットは原子化落下物に低温液体ガスを方向づけるように配設 してあり、前記液体ガスは低圧で、典型的に０．５〜２．５バ一グ程度に印加さ れる。

装置に印加される液体ガスの量を決定するために、望ましくは、信号が検出され た温度の派生した指数であるように、セットデータ温度に関してスプレ室内の温 度をモニタする手段を含む。信号は検出した温度低下により液体ガスの供給を制 御する制御手段に送信される。検出手段は、例えば、スプレ室のベース内に配置 した複数個のサーモカップルで良い。本発明の装置により最適化で２５０ミクロ ン迄の平均粒体寸法を要する寸法範囲の粉体を高産出することができる。（例え ば最適平均粒体直径が２２４ミクロンの場合に一５００＋１００ミクロン、又は 最適平均粒体直径が２１２ミクロンの場合に一３００＋１５０ミクロン、又は最 適粒体直径が１１６ミクロンの場合に−１８０＋’７５ミクロンであるように） 。供給された液体ガスは液体チッ素が望ましい。

代案的に、装置は適切なコレクタ上にスプレデポジットを生産するのに使用され る。

本発明は添付図面を参照して実施例を説明する。

第１図は本発明によるガス原子化装置のダイアグラム断面倒立図面９ 第２図は代案のベース装置を備えた本発明による原子化装置を含む粉体を生産す るための装置のダイアダラム側立図面。

第３　（ａ）　、３　（ｂ）図はスプレの温度効果と、液体チッ素比の印加した 液体チッ素の冷却効果、金属比に対する異なるガス用のガス状の原子化チッ素流 体速度比の流体速度を示すもの。

表１は各種条件下の３０４型ステンレススチール上に印加された液体チッ素の効 果を示す。

表２は広い固体・液体凝固範囲を有する二つの異なる合金ＡとＢ上に印加された 液体チッ素の効果を示す。

第１図において、図示されたガス原子化液体金属又は合金用の原子化装置は、耐 火又は耐火ライナ張りされたルツボ又はタンディツシュ（ｔｕｎｄｉｓｈ）（１ ）から成り、液体金属層又は合金（２）を含む。タンディッシ　ュ（１）は、所 望の直径の液体金属又は合金流（４）を　提供するためにセラミックノズル底面 メータリング装置（３）を有する。液体金属又は合金流（４）は原子化落下物く ７）のスプレ内に流れを破壊するために液体金属又は合金流（４）に向けさせる 複数個の流速ガスジェット（６）を有する主ガス原子化装置（５）内の中央開口 内に充満する。主原子化ガスジェット（６）はチッ素、アルゴン又はヘリューム から成るのが望ましく、酸化されない物質の金属又は合金の落下物を提供するの が、酸化が許され又は望ましい場合に空気も使用される。原子化アセンフ刃は又 第ニスプレステーション（８）、液体又は半液体、／半固体原子化落下物に液体 チッ素又は液体アルゴンスプレ（１０）を印加する複数個の第ニジエツト（９） を含む。主原子化ガスジェットく６）の配設された下流をも含む。

粒体生産において、第ニスプレステーション（８）に印加された液化ガスは比較 的低圧であり、例えば０．５〜２．５バーグであるので、その低温度がガス／金 属スプレから除熱するが、その流速は粒体を細微にはしない。

従って、液化ガスは、主ガス原子化ジェット（６）により実質的に又は単独で決 定される生産された粉体の粉体寸法分布を変えない。第二の液化ガスジェットは 主ガス原子化ジェット（５）から１００ｍｍの所で十分に働くことと、１２５ｍ ｍのピッチサークル直径で金属流（４）の軸線に対して３０°の角度にて４ｍｍ 直径の六個のジェットから成る液化ガススプレユニットは良く働くことが判った 。

第２図は粉体形成装置に適用される第１図の装置を示す。この図において、液体 金属（１２）を伴うルツボ／タンディツシュ金属ディスペンスシステム（１１） 、ガス原子化装置（１３）及び第二の液化ガススプレ装置（１４）はスプレ室（ １７）上に配設しである。原子化ガスは入口管（１５）を経て原子化装置（１３ ）に供給され、液化ガスは入口管（１６）を経て第二の液化ガススプレ装置へ供 給される。スプレ室のベースには粉体コレクタ容器（１８）があり、前記室は更 にガス排気管（１９）を含む。

スプレ室のベースには温度検出装置（２１）があり、それは−個又は複数個のサ ーモカップルであり、例えば粉体ガス供給の温度を計測し、かつ温度制御器（２ ２）へ信号を送る。温度制御器（２２）は計測した温度をプリセットデータ温度 とを比較するコンパレータを含み、その差異により、空気圧コンバータ（Ｐ／Ｉ ）への電流を経て液化ガス制御弁（２３）を作動させて、第二の液化ガススプレ ジェット（１４）への液化ガス流速を増減する。このようにして、スプレへの液 化ガスの印加は制御されて、半液体／半固体、又は液体、又は非常に熱く柔かい 粒体が室ベースに存在するのを防ぎ、かつデポジット室のベースに固化、付着さ せるために十分に選択された室ベースにてスペレに所望の温度を与える。

第２図の下部に示すように、代案ベース設計も使用される。例えば、室ベース設 計は、室外へ粉体コレクタ（例えばサイクロン、図示せず〉へ出口管（３０）を 経て伝達媒体として消費原子化ガスを使用する粉体の連続除去を行うことができ る。

本発明は粗い粉体の生産に好適である。

冷たい液化ガスが加熱され、蒸発されて、冷却原子化ガスと金属合金粒体により 均衡温度に達するので、低温液化ガスの使用は大きなヒートシンク（ｂｅａｔ　 　５ｉｎｋ）を原子化金属スプレに備える。

低温液化ガスにより備えられたこのヒートシンクの範囲はチッ素、特定の熱、そ れは約１．０４Ｋｊ／Ｋｇ／°Ｃで１００に度から３００に’で潜在性熱の蒸発 、約２２０　Ｋ　ｊ　／Ｋ　ｇで鋼の固化潜在熱＜　２７３　Ｋ　ｊ　／　Ｋ　 ｇ　）と比較できるものを、参照して意義づけられる。均衡点への熱転位と原子 化室壁への冷却無しを想定しての熱均衡は下記式により表される。

Ｍｍ　（Ｃｐｍ　（Ｔｐ−Ｔ）　十Ｈｓ）−Ｍｎ”　Ｃｐｍ２（Ｔ−Ｔａ）　＋ Ｍ１　ｎＣｐ　１　ｎ　（Ｔ＋１９６＞−１−Ｍｌ　ｎ）！但しＭｍ＝質量液体 金属流体速度 Ｃｐｍ＝液体金属の特定熱 ＭＳ＝固化の潜在熱 Ｍｎ”−質量原子化チツ素ガス流速 Ｃｐｎ２−チッ素の特定熱 Ｍ１ｎ＝質量液体チッ素チツ速 Ｈｅ＝チッチツ蒸発の潜在熱 Ｔｐ＝金属の注入温度、°Ｃ Ｔａ＝周囲温度、°Ｃ Ｔ＝金金属ガス混合から成るスプレの温度液体チツ素の冷却効果の範囲は△Ｔで 表され、△Ｔ−Ｔ、−Ｔ但しＴ２は追加された液体チッ素なしのスプレ混合体の 温度である（即ち、Ｍ１ｎ＝Ｏ上記式にて〉。

第３　＜ａ）　、３　（ｂ）図は異なる原子化ガス：金属比（ＧＭＲ）用のガス 状原子化チツ素の流速に対する液体チツ素流速の比のＴと△Ｔの効果を示す。ス プレ（△Ｔ）の冷却についての液体チッ素の効果は低原子化ガス：金属比（第一 （ｂ）図参照）にて増加する。原子化ガス：金属比、即ち０．５が粗い粉体を提 供することに注目すべきであり、スプレ温度減少、△Ｔは５００〜６００°Ｃ程 度である。

平均粒体直径の範囲への各種条件下で原子化された３０４型ステンレススチール ＜１８ｗｔ％Ｃｒ；９ｗｔ％Ｎｉ；０．１５最大ｗｔ％：残部Ｆｅ）原子化中に 、室ベース上に形成されるデポジットの量での液体チツ素第ニジエツトの効果は 表１に示しである。原子化室の高さは４．５ｍであり、チッ素を原子化ガスとし て使用した。

生産された粉体の平均粒体直径は原子化が流速二金属流速比の減少に伴い増大す る。原子化スプレ内への第ニジエツトを介しての流体チツ素の送入なしには、原 子化ガス二金属比１．１にて何らベースデポジットを得られなかったし、平均粒 体直径は８３，１ミクロンであった〈ＲｕｎＡを参照）９しかしながら、原子化 ガス：金属比０．６９と平均粒体直径９３．７ミクロンにて、原子化材の６．１ ％は得られた（ＲｕｎＢ）、これにより十分な生産損失をきたし、室からの粉体 の転出と室ベースの清掃に困難を伴った。ＲｕｎＣ１原子化ガス：金属比０．８ １と平均粒体直径９３．４ミクロン（ＲｕｎＢ＞と同様に）にて、しかし液体チ ツ素冷却で冷却した場合にはベースデポジットを生産しなかった。ＲｕｎＤ、Ｅ 、Ｆではベースデポジットを生産しなかった。これらは減少する原子化ガス：金 属比と増大する平均粒体直径（１１８，１８７，２９６ミクロンの生産されたも の）を示す。３６８ミクロンの平均粒体直径を生産するＲｕｎＧは、液体チツ素 流速９．３Ｋｇ／分でさえもベースデポジットを示した：しかしながら、デポジ ットは僅かに１゜２％であった。ＲｕｎＨと工は４０Ｋｇ／分以上の非常に速い 金属流速にて実施されたし、そこでは液体チッ素のスプレの適用にも拘らず、よ り大量のベースデポジットがＲｕｎＩにて１６．５％迄得られた。明らかに、第 二の液体チツ素ジェットの使用は生産を促がすし、ベースポジットなしにもでき 、付随物は産出量を減らし、室からの２９６ミクロン迄の平均粒体直径の粉体の 粉体抽出と室清掃に困難をもたらし、液体チッ素なしには、最大８３と９３ミク ロンの粉体が生産できた。逆に第二液化ガススプレジェットシステムの使用によ り、原子化室の高さは、室ベース上の生産物のデポジットの問題なしに、いかな る要求される特定の粒体寸法分布の金属又は金属合金粉体の生産用に最小にでき な。

本発明は粗い粉体を生産するのに特定の利点を有するが、他の適用にも使用でき る。例えば、広い固体−液体固化範囲の合金用にでもである。例えば、本発明の 方法と装置を使用して、Ｃｕ３０ｗｔ％、ｐｂｏ、０５ｗｔ）％Ｐ（合金Ｂ）及 びＣｕ１０ｗｔ％、ｐｂｌｏｗｔ％、Ｓｎ（Ｌ２ｗｔ％Ｐ（合金Ａ）の合金で、 １１８０’Ｃと１２５０°Ｃの間の注入温度と、３２７℃の有効固体を有するも の（混和できない鉛の融点）が４．５ｍの高さの小さな原子化室内にて粉体を生 産するために原子化でき、原子化室のベース粉状粒体の合体と付着による産出量 を大きく減らさずにできる。

表２は、両合金上に原子化をランさせる間に得たベースデポジットの範囲を減ら すのに使用する第二の液化ガスジェットの効果を示す。原子化室のベース上に固 体の合体デポジットとして得られた原子化された金属合金の％は、第二液化ガス を使用せずに得られたものの１／６から１／１０だけ減じられた。

液化ガス注入の使用の更に別の適用はスプレデポジットの生産においてである。

スプレデポジットの生産において液体金属又は合金は適切なコレクタ上にスプレ される。プロセスは、集積ガス原子化／スプレデポジット操作の手段により、デ ポジット内に液体金属を直接変換するために、本質的に急速同化技術である。溶 融金属の制御された流はガス原子化装置内に充満され、そこでは流は高流速ガス ジェットにより衝撃され、通常はチツ素又はアルゴンである。金属落下物のでき たスプレはコレクタに導かれ、そこでは、完全に液体、半固体／半液体と固体の 粒体との混合物から成る原子化落下物は高密度のデポジットを形成するためにデ ポジットされる。コレクタは制御機構に固定され、コレクタのなめにスプレ下で 動きのシーケンスを遂行するようにプログラムされるので、所望のデポジット形 状ができあがる。多くの場合に、スプレ自身は動かされ多くのデポジット形状は 管状、ビレット、平らな製品及び被覆された製品を含んだものに作られる。前記 製品は直接使用されるか、又は通常はホット又はコールド作業により、コレクタ の有無を伴い更に処理される。上記方法は英国特許第１，３７９，２６１．１， ４７２，９３９．１，５９９，３９２号、ＲＰＣ公報２００，３４９．１９８， ６１３．２２５，０８０．２４４，４５４及び２２５，７３２号を含む当社の先 行特許により詳細に詳述しである。

上記の方法において、原子化条件は選択されて（例えば原子化装置からコレクタ 表面迄の距離、ガス対金属比等）デポジション上に固着したデポジットが形成さ れ、それ自身自己支持する（例えば、コレクタは鋳造工程における如く液体金属 の動きを妨げるために側壁を要しない〉十分に固化されて形成されることを保証 する。これら条件を実現するために、高いガス対金属比を使用して精細な原子化 スプレを保証し、その連結した高表面域を備えて急速冷却を促進する。

代案的に、冷却に可能な時間を増大するために長いスプレ距離を要する。これら 二つの条件の各々は不利点が発見された。例えば、高いガス対金属比を使用する と、スプレ内の細密粒体く例えば２０ミクロン以下）の割合は増大する。前記細 密粒体は非常に速く固化し、コレクタの表面に到着し、又は完全に固化した条件 に既にデポジットした金属、典型的には原子化ガスと同温にてそこに到着する。

高速原子化ガスは、それがデポジション表面に当る時に偏向され、横方向のガス の動きはしばしば、極細密な粒体（低いモーメントを有する）の一部をデポジシ ョン表面から離反させ、それらはデポジットされない：例えば、細密粒体はガス の方向に運ばれる。更に、幾らかの固体粒体はデポジット表面でバウンドでき、 又全質的に原子化ガスにより運び去られる。従って、デポジットされた金属の産 出は減り、次いで工程の経済に不利に働く。スプレ内の粗い流体（例えば２０ミ クロン以下）は一般に、デポジション上の半固体／半液体又は完全に溶融された ものである。これはそれらの低い冷却率のためである。従って、それらの高いモ ーメントの故と増大する液体容量が、原子化ガスにより運びさられるように少な く、デポジット表面には付着しやすくなる９従って、デポジット産出の語義にお いて、スプレ内の細密粒体は望ましくない。

長いスプレ距離の使用（しばしばイン・フライト冷却に十分に発生させる必要が ある）も、原子化スプレが末広りコーン形状であるので望ましくないし、従って 長いスプレ距離ではスプレの長い部分がコレクタをミスし、スプレデポジット金 属の産出を減じる。

最後に、所与のスプレの高さと、ガス対金属比のために、スプレデポジットが液 体容量内にて高過ぎるようになる前に、かつ最早自身で支持できなくなる前に原 子化装置を介して緩やかにされる最大金属流上に限度がある。

従って、スプレデポジットの生産量に限度がある。

本発明により、上記三つの限度はそれらの効果において著しく減じられる。例え ば、注入液死相の使用は最初に原子化した落下物の飛来中に冷却を増大させ、従 ってより高い金属流は緩和される。第二のオプションとして、スプレの高さは増 大した冷却比の結果として、減じることができる。第三のオプションは、原子化 工程中にガス対金属比を減じることであり、そこでは粗いスプレを生産するが、 スプレ内に液相を注入して粗いスプレの冷却比を通常は下げる。これら全ての効 果は独立して又は互いに組み合わせて行われる。

本発明の高い潜在熱若しくは比較的低い融点の合金により特別な利点を有するも のとして示された。例えば、本発明は低融点（例えば約６６０℃）を有するアル ミ合金に実施して特に利点がある。これには原子化ガス温度（通常周囲温度）と 高い潜在熱く例えばＡｌ−２０％Ｓｉ合金）に関してである。

にも拘らず、本発明は全ての金属と金属合金に適用できるし、合金はマグネシュ ーム合金、銅合金、ニッケル÷コバルト基合金、チタン合金、鉄合金等を含む溶 融できるものである。本発明は、ガス化工程と液体注入工程が別マであり、注入 された液化ガスが原子化落下物の寸法に著しく影響しないが、それらに続く冷却 工程にのみ影響する。粗い粉体生産用に詳述したものと同様な方法で実施される ９更に注入された液化ガスは通寓は、原子化ガス、望ましくはチツ素又はアルゴ ンと同一の化学構成物である９しかし、本発明を実施する代案方法は、同一の原 子化ジェットを介して同一の構成物のガスと共に液化ガスを注入することである 。これは、続いて原子化される金属落下物とより親密に混合物を与えるという利 点がある。液相は又原子化とデポジション中にそのガス状状態を変えるし、従っ て状態変化中にかなりの量の熱を抽出する。更に、デポジット表面上を流れるガ ス又は冷却を助ける。

スプレデポジットしたビレットプレフォームの生産における液体チツ素使用の例 下記例は二つの同一形状のプレフォーム（１５０ｍｍ直径Ｘ１００ｍｍ高さ）の Ｔ１５高速鋼合金の生産用の条件を示す。両ケースの場合に、原子化高速鋼は回 転円形コレクタ上にデポジットされた９例Ａにおいて従来型の生産方法において 原子化ガスのみを使用したし、高密度のプレフォーム（典型的に１０−２５ミク ロンの粒寸法で理論的密度９９．５％以上）を与えるのに必要な金属流速は２８ Ｋｇ、／分であった９例Ｂでは、液体チツ素は主原子化ガスジェット下のスプレ 内に導入された。さもなければ、原子化は例Ａと同一の条件下で実施された。

しかし、この場合に、液体チツ素５Ｋｇ／分の導入により、金属流速は例Ａのと 同し品質のスプレデポジットしたプレフォーム（ｐｒｅｆｏｒｍ＞を生産するた めに４３Ｋｇ／分迄上昇させた。

例Ａ　　　　例Ｂ 合金　　　　　　　　　　　　　　Ｔ、１５　　　７．１５金属処理温度（℃） 　　　　　　　　１５３０　　　１５３０金属流速＜Ｋｇ／分）　　　　　　　 　２８　　　　４３原子化ガス（Ｎ２）流速（ｍ３／分）　２１．８　　　２１ ．８液体チッ素流速（Ｋｇ／分）０５ 原子化ガス対金属比（Ｎｍ３．／′Ｋｇ）　　０．７８　　　０．５１全体ガス 対金属比（Ｎ３３／Ｋｇ）　　　０．７８　　　０．６５スプレ高さくｍｍ）　 　　　　　　　　５２０　　　５２０コレクク直径（ｍｍ）　　　　　　　　１ ５０　　　１５０コレクタ回転速度（Ｈｚ）　　　　　　　３．２　　　３．２ スプレデポジシヨン用の当社の先行特許（特許公報第１９８６１３号）は又、急 速に固化されたデポジット又は金属マトリックスコンポジットを生産するための 方法を請求しており、そこでは、原子化される金属の同−又は異なる構成比の粒 体く金属又は非金属の何れか）原子化スプレ内に導入され、次いでデポジットさ れたスプレに導入される。本発明によれば、原子化スプレ内に粒体を導くために 注入した液相（液体チツ素）を使用するための方法を提供する。液体内に粒体を 内含する前記方法は、スプレ内に粒体を運び込む非常に簡単な方法を提案する。

特に微細粒体（例えば４０ミクロン以下）のものは従来の方法では転位が困難で ある。

白金工緋補正婁 Ｆ　Ｉ　Ｇ、　３゜ 平成３年１月１１日

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. １．下記工程から成る粉体又はスプレデポジットの生産のための金属又は金属合 金の液体流を原子化する方法；（ア）原子化装置内に溶融金属又は金属合金の流 れを充させること、 （イ）金属又は金属合金の落下物を形成するために、金属又は金属合金より低い 温度にて、原子化ガスにより前記流れを原子化すること、及び （ウ）前記流れ又は落下物に冷却流体を向けて更に除熱すること。
2. ２．請求項１に起債の方法において、原子化ガスは第一ジェットから発し、冷却 流体は、原子化落下物に向けられた第二ジェットから発する方法。
3. ３．請求項１に記載の方法において、原子化ガスと冷却流体は同じジェットを介 して印加される方法。
4. ４．請求項２に記載の方法において、第二ジェットは低圧であり、主ジェットの ガスによりのみ実質的に決定される粒体寸法分布に実質的に何の効果を有さない 方法。
5. ５．金属のスプレ又は金属合金落下物内に効率的混合と一体化を行うために、第 二ジェットを原子化ガスジェットに近くに位置させることから成ることを特徴と する請求項２又は４に記載の方法。
6. ６．請求項２、４又は５に記載の方法において、第二ジェットは０．５と２．５ バーグの間の低圧にて原子化落下物に低温液化ガスを向ける方法。
7. ７．請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法において、冷却流体は落下物の 冷却中に、ガス状相に変化する低温液化ガスである方法。
8. ８．請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法において、粉体生産の方法は更 に、スプレの温度を検出すること、所定のデータと検出した温度を比較すること 、及び比較した関係から冷却流体流を変化させることから成る方法。
9. ９．粉体又はスプレデポジットの生産用の原子化装置であって、該装置は原子化 される溶融金属又は金属合金の流れを受けるための原子化装置、金属又は金属合 金のそれよりも低い温度にて、原子化落下物内に流れを分けるための液体流に原 子化ガスを向けるための手段、及び更に除熱するために流れ又は原子化落下物に 冷却流体を向ける手段とから成る装置。
10. １０．請求項９に記載の装置において、原子化ガスを向ける手段は、主ジェット から成り、冷却流体を向ける手段は原子化落下物に向いた第二ジェットから成る 装置。
11. １１．請求項９に記載の装置において、原子化ガスと冷却流体は同時に共通のジ ェットを介して導入される装置。
12. １２．請求項１０に記載の装置において、第二ジェットは原子化落下物に低温液 化ガスを向けるように配設してある装置。
13. １３．請求項１２に記載の装置において、液化ガスの圧力は０．５と２．５バー グの間にある装置。
14. １４．スプレ室、スプレ室内の温度をモニタするための検出手段、検出した温度 をセットデータ温度に係わり比較し、比較した関係により液体ガスの供給を制御 するための信号を発生させるコンパレータ手段とを含む、請求項９乃至１３のい ずれか１項に記載の装置。
15. １５．粉体を生産する請求項９乃至１４のいずれか１項に記載の装置において、 該装置は更に粉体コレクタ手段を含む装置。
16. １６．スプレデポジットを生産するための請求項９乃至１４のいずれか１項に記 載の装置であって、該装置は更に原子化落下物の道内に配され、その上にコヒレ ントなデポジットが形成される、コレクタを含む装置。
17. １７．請求項１６に記載の装置において、コレクタはスプレに関して動く装置。
18. １８．請求項１６又は１７に記載の装置において、ガス原子化装置はガス原子化 中に、スプレの平均軸線を動かす装置。
19. １９．原子化落下物と共にデポジットされる粒体用の転位容器として働く冷却流 体内に固体粒体を導入するための手段を含む請求項１６乃至１８のいずれか１項 に記載の装置。