JPH03278882A - 水中の溶存酸素の除去方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は水中の溶存酸素（以下ＤＯと称す）を除去する
方法及び装置に係り、特に低濃度（１■／ｌ以下）のＤ
ｏを除去する方法及び装置に関するものである。

本発明は、電子工業の洗浄用水、ボイラ給水、食品工業
のプロセス用水及び洗浄用水等に利用できる。

〔従来の技術〕

水のＤｏを除去する方法としては、従来より加熱脱気、
真空脱気、Ｎ、ガスパージ等の物理的方法と還元剤を添
加する化学的方法とがある。

加熱脱気はガスの水への溶解度が高温では低くなること
を利用し、蒸気と水とを直接接触させて加熱することに
よりＤｏを除去する方法である。

主として、高温かつ多量の水を必要とする発電所等で用
いられ、ボイラ等の腐食防止を目的として、ボイラ給水
のＤｏの除去を行っている。

冷水の脱気は、おもに真空脱気で行われる。真空脱気塔
は塔内を真空状態にするとともに、ラシヒリング等を充
填した塔に、上部より水を噴霧して、塔内の水の表面積
を大きくすることで、水に溶存しているガスを塔外へ放
出する。疎水性膜を介して真空脱気を行う膜脱気法が最
近注目されている。この方法は液相と気相（真空）を膜
で隔離しているため、脱気塔の場合のような塔高の制約
を受けない。

また、Ｎ２ガスを水中に曝気し、水中のＮ、ガス分圧を
高めることでＯｔガスの分圧を小さくし、水中からＯｔ
ガスをパージする方法もある。

以上は物理的にＤｏを除去するものであるが、化学反応
を利用する方法もある０例えば、ヒドラジン（ＮａＨＪ
、亜硫酸ナトリウム（ＮａｚＳＯｓ）、または亜硫酸水
素ナトリウム（ＮａＨ３Ｏｓ）等の還元剤を水に添加す
ることで、以下に示す化学反応でＤｏを除去することが
できる。

ＮＪａ＋Ｏ□　→　Ｎ２＋２ＨｚＯ ２ＷａｚＳＯｘ　＋（ｈ　　−）　　２ＮａｚＳＯａ２
Ｎａ）ＩＳＯ＝　＋０．　　→ＮａｚＳＯ４＋Ｈ２Ｓ０
ｎまた、加熱脱気あるいは真空脱気の物理的方法と、還
元剤を注入する化学的方法との併用も行われている。

〔発明が解決しようとする課題〕

近年、半導体集積回路の高密度化に伴い、要求される超
純水の水質もますます厳しくなりつつある０例えば第１
表に示すように、集積度によっては電解質、微粒子、生
菌等が極めて少なくＤｏも５０１１ｇ／ｆ以下を要求さ
れる。

このように掻く低濃度のＤＯを、従来の加熱脱気或いは
真空脱気単独で達成することは、原理的に困難なだけで
な（、装置規模や処理時間の点から経済的にみて実現が
難しい、そのため例えば、貫流型ボイラ等のボイラ給水
では、ＤＯをｉｏｏｐｇ７１以下とするために、該物理
的方法の他にヒドラジン（ＮｚＨ４）を注入する化学的
方法を併用している。

しかし、化学的方法でＤＯを除去する場合、ＤＯより過
剰に添加した薬品（ＮｚＨａ、ＮａｚＳＯｘ等）が残留
し、イオン交換処理におけるイオン交換樹脂の負荷とな
るばかりか、Ｄｏと反応して生成したＳ０４トイオン等
も同様にイオン交換樹脂の負荷となる。

また、Ｎ２パージ法では１〜２　Ｎｍ’／−’と多量の
Ｎ２ガスを必要とし不経済である。

第１表 超純水水質とＬＳＩ集積度 以上示したように、従来の脱気法で極く低濃度のＤｏを
達成しようとするならば、設備が大損りとなったり、不
純物イオンの増加を生じたり、多量の薬品或いはＮ２ガ
スが必要となるなどの問題があった・ そこで、本発明は、上記のような問題点を解決し、Ｄｏ
の極力少ない水を安価に安定して得ることのできるＤＯ
除去方法及び装置を提供することを目的とする。

（！１ｌｆｆを解決するための手段および作用〕本発明
者らは上記目的を達成すべく研究の結果、酸素を溶存す
る水に還元剤を溶解し、紫外線を照射すれば容易に水中
の溶存酸素を除去できることを見出し、さらに還元剤の
種類及びその添加量、紫外線の照射量、還元剤としての
Ｎ２ガスの供給源としての電気分解から発生する水素の
採用、水素以外の還元剤の供給方法及び残留還元剤の除
去方法等について検討を加えこれらの条件を選定すれば
、上記課題を解決して工業的に利用可能な除去方法及び
装置が得られることを見出し、本発明に到達した。

したがって、本発明は第１に、水中に溶存する酸素の除
去方法として、酸素を溶存する水に還元剤を溶解し、同
時にまたは次いで紫外線を照射することを特徴とする方
法を提供するものであり、好ましくは下記のような具体
的条件を有するものである。

（１）水素、ヒドラジン、しゆう酸、ギ酸、亜硫酸ナト
リウム、及び亜硫酸水素ナトリウムのうちから選ばれた
１種以上の還元剤を使用し、還元剤の水に溶解する量が
水中に溶存する酸素量に対しモル比で１〜５の範囲とな
るように添加する。

（２）　　Ｍ元側トしてのＮ２ガスは気体透過膜を介し
て水に溶解する。

（３）また水素の供給源として、水の電気分解によって
発生する水素を利用する。

（４）処理水にＨ，ガスを溶解し紫外線を照射して溶存
酸素を除去したのち、未反応の溶存水素を気体透過膜を
介して除去する。

（５）水素以外の還元剤のうちから選ばれた還元剤をメ
ンブレンフィルタを介して水に溶解し、紫外線を照射し
たのち、残留還元剤を温床式イオン交換樹脂で除去する
。

（６）紫外線の照射量を波長２５４ｎｓ＋で１０ｗｗ　
・ｓｅｃ７ｃｍ”以上とする。

また本発明は、第２に水中の溶存酸素の除去装置として
、 （イ）水の電気分解による水素発生装置、（ロ）この水
素を気体透過膜を介して、ＤＯを含有する被処理水に溶
解させる水素溶解装置、（ハ）この処理水に紫外線を照
射する装置、（ニ）必要により未反応の溶存水素が存在
すれば気体透過膜を介して除去する余剰水素除去装置、
及び （ホ）前記（イ）から（ハ）または（イ）から（ニ）ま
での装置相互間を接続するパイプ及びポンプ等の接続手
段とを有することを特徴とする装置を提供するものであ
る。

以下に本発明の詳細な説明する６ 本発明においては、ＤＯを含有する原水を処理するに際
し、原水に還元剤を添加し、同時にまたは次いで紫外線
を照射する手段を備えたものであればよい。

使用する紫外線ランプの特性は、波長４００ｎｍ以下の
紫外線を発生する光源であればよく、光源として、−船
釣には水銀ランプを用いる。水銀ランプの他、キセノン
水銀ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザ−１電子
シンクロトン等も光源として使用可能である。

使用する還元剤には、水素亜硫酸ナトリウム（Ｎａ！５
Ｏｆｆ）、亜硫酸水素ナトリウム（ＮａｌｌＳＯｚ）、
ヒドラジン（ＮＪ、）、しゆう酸（ＣＪｚＯ４）及びギ
酸（ＨＣＯ２Ｈ）等を用いることができる。

還元剤としてのＨ２ガスへの溶解の手段は、散気管又は
散気ノズルを内蔵したＨ２溶解装置で行うか或いは紫外
線ランプ、石英保護管からなる紫外線装置の下部に散気
ノズル等のＨ２ガス溶解手段を内蔵させても良いが更に
ガス透過膜により膜を介して■２ガスを溶解させるなら
ば、■２ガス中の微粒子を膜でろ過できるため超純水等
に有効である。

次に還元剤の添加量と処理水Ｄｏとの関係について述べ
る。

水道水を温床式イオン交換樹脂塔で処理した純水を原水
とした。この原水のＤＯは約７．３■／２であった。こ
の原水にガス透過膜を介してＨ２ガスを添加し、紫外線
照射装置に２００　ｆｆｉ　／　ｈで導入した。Ｈ２ガ
ス添加量は原水ＤＯに対しモル比で１〜６の範囲となる
ように調整した。またこの時の紫外線照射量は１６０−
　　・ｓｅｃ／ｃｍ”であった。

Ｈ２ガス／原水Ｄｏのモル比と処理水ＤＯの関係を第２
図に示す。第２図から■２ガス／原水ＤＯのモル比が３
で処理水ＤＯはほぼ平衡に達している。

したがって実用的にはモル比５以下で充分である。

同様にＮｚＨａ溶液をポンプで０．４５ＩＲＩのメンブ
ランフィルタを介して原水に注入し、紫外線照射装置に
２００１　／　ｈで導入した。ＮＪｔ添加量は原水ＤＯ
に対してモル比で１〜３の範囲となるように調整した。

その結果を第２図に示す。ＮＪａ／原水ＤＯモル比が１
．５で処理水Ｄｏはほぼ平衡に達している。

この他の還元剤であるしゅう酸、亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸水素ナトリウム及びギ酸では第２図に示したＨ２ガ
スとＮ！８４のいずれかのケースと同様であった。

以上の結果から還元剤／原水Ｄｏのモル比は１〜５とす
べきである。

次に紫外線照射量と処理水ＤＯの関係について述べる。

水道水を温床式イオン交換樹脂塔で処理した純水を原水
とした。この原水のＤｏは約７．３■／ｌであった。こ
の原水にガス透過膜を介してＨｚガスを原水ＤＯに対し
モル比で３となるように調整して添加し、紫外線照射装
置に５０１　／　ｈ〜１５００　ｆｆｉ　／ｈの範囲で
導入した。

この時の紫外線照射量は６４０〜２１１１１１・ＳｅＣ
／ｃ−！＋２であった。紫外線照射量と処理水ＤＯの関
係を第３図に示す。第３図から紫外線照射量は少なくと
も１０ｍ１ｉ・ｓｅｃ／ｃｍ”以上必要である。紫外線
照射量の上限は要求される処理水ＤＯとシステムの経済
性を考慮して決定される。

Ｄｏを含む水にＨｔガスを溶解し、次いで紫外線を照射
するとＤｏが減少する現象を論じた報告は、調査した範
囲では見い出せない。

従って反応の詳細は十分解明されていないが、以下に示
す反応が生じているものと推論する。

光量子が気体原子に衝突すると、原子は励起状態を経て
イオン化する。基底状態とイオン化状態の間には多くの
励起状態が存在する。共鳴励起電圧はＨｚで１１．２Ｖ
、　Ｏｔで５■であり、最低励起電圧はこれらより小さ
な電圧で良い。

紫外線を照射すると、励起電圧の小さな０□が励起状態
となり、以下の反応が進行するものと考えられる。

（０）”　　＋Ｈｚ　　　　　Ｈ２Ｏ ＤＯはＨｚと反応し水（［１，０）となるため、不純物
の増加は全くなく、特に超純水に適用した場合水質の低
下を生じない大きな利点がある。

更に当然のことながら、紫外線には殺菌作用があり、Ｄ
Ｏ除去と同時に水の殺菌も行うことができる。

ＤＯを含む水に水素以外の還元剤を添加すると、Ｄｏが
減少するが、常温ではその反応効率がかなり低いことは
公知である。

紫外線は、波長４００ｎｓ＋で約３００ｋＪ　／　ｍｏ
ｌ、波長３００ｎｍで約４００ｋＪ／ｓ＋ｏｌ、波長２
００ｒｖで約６００ｋＪ　／　ｍｏｌのエネルギーを持
つ、ここで上記還元剤の結合解離エネルギーは、例えば
、第２表にヒドラジン（Ｎｚｏａ）とその中間反応物の
値を示したように、約３００〜４５０ｋＪ／ｓｏｌであ
り、紫外線の照射によって、還元剤に活性化エネルギー
を十分に与えることができる。また水中の０□の一部も
励起されると考えられる。

従って、該還元剤を添加し、次いで紫外線を照射するこ
とによって、常温でＤｏと還元剤との反応が著しく促進
され、Ｄｏが効果的に除去できる。

第２表　　結合解離エネルギー 前記還元剤としての水素の供給源として、水の電気分解
によって発生する水素を利用すれば、高圧ボンベから水
素ガスを供給するよりも設備の安全対策上及び水素の水
への溶解効率の点から有利であり、さらに水素の溶解に
際して水素を気体透過膜を介して溶解することにより、
安全かつ容易に被処理水中に水素を溶解することができ
る。また必要により未反応の溶存水素が存在すれば気体
透過膜を介して除去してもよい。

したがって、工業的に安全かつ容易に極く低濃度のＤｏ
を除去する装置の具体例としては、処理工程順に、水の
電気分解による水素発生装置、この水素を気体透過膜を
介して被処理水に溶解させる水素溶解装置、紫外線を照
射する装置、必要により設ける余剰水素除去装置、から
なり、さらにこれら装置相互間を接続するパイプやポン
プ等の接続手段を有するものである。

ここで水素発生装置とは、水の電気分解によって必要量
の水素を発生する装置であればよく、例えば、アルカリ
水溶液電解方式、固体高分子電解質水電解方式、固体酸
化物電解質水電解方式等の装置が使用可能である。水素
発生装置としては、アルカリなどの腐食性溶液が不要で
、保守が容易な固体高分子電解質水分解方式の装置が好
ましい。

気体透過膜とは、水素、酸素、窒素、１気などの気体を
透過し、水を透過しない膜であり、シリコンゴム系、ポ
リ四弗化エチレン系、ポリオレフィン系、ポリウレタン
系等の疎水性膜を用いることができる。膜には孔径２０
ｔｓ以下の気孔があり、−船釣には０．０１〜ｌ−の孔
径のものが広（用いられている。

水素溶解装置とは、前記気体透過膜を介して一方に水を
通水し、他方を水素で加圧することによって、水に水素
を溶解させる装置であり、散気ノズル等に比較して効率
よく溶解させることができる。

紫外線照射装置に使用する紫外線照射ランプの特性は前
述の通りである。

余剰水素除去装置とは、前記気体透過膜を介して一方に
水を通水し、他方を真空ポンプで排気して真空に保持す
ることによって、水中の余剰水素を除去する装置である
。

ＤＯ除去装置を構成する各装置には、以下のような作用
がある。

水素溶解装置では、気体透過膜を介して溶解させるため
全く気泡は発生せず、水素の供給量は水への溶解量と等
しく、水素の水への溶解効率はほぼ１００％となる。す
なわち、水素溶解装置からの過剰水素の排出はなく、ガ
ス分離塔も必要としない。また、使用する膜の材質及び
面積等によって水素の溶解量は制御できる。

水の電気分解による水素発生装置では、前記水素発生装
置によって溶解する水素を、電流制御によって所要量の
みを容易に発生させることができる。従って、ＤＯを含
有する水に対して所要量の水素を供給することができる
。

このように、水の電気分解による水素発生装置と、気体
透過膜を介して、水素を溶解する水素溶解装置とを組合
わせることにより、水素の添加量を安定かつ安全に、さ
らには容易に制御することが可能となる。

余剰水素除去装置では、前記紫外線照射工程で残留した
溶存水素を除去することができる。すなわち、水素ガス
は分子量が他のガスよりきわめて小さいため、気体透過
膜を介して容易に液相から真空側へ除去される０通常水
素は酸素と比較して５〜２０倍のガス透過速度を有する
。

Ｃ実施例〕 以下、本発明を実施例及び比較例を挙げて説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ 第４図は本発明の方法におけるＤＯと処理時間の関係を
調べるための実験装置の模式断面図である。

水道水を強酸性陽イオン交換術脂（ダウケミカル社製Ｄ
ｏｂ＋ｅｘ　ＦＩＣＲ−Ｗ２）と強塩基性陰イオン交換
樹脂（ダウケミカル社製Ｄｏｓｅｅｘ　５ＢＲ−Ｐ）を
混合して充填したいわゆる温床式脱塩塔で処理して純水
とし、これを原水とした。第４図に示す装置の容器３に
１２採取した。第４図中容器３の有効体積は約Ｉｌであ
り、容器中央に人工石英製保護管９を介して消費電力１
００Ｗの低圧水銀ランプ８を点灯し、保護管下部より散
気ノズル１０でＨ２ガス２を１００Ｎ　−Ｍｌ／　ｓｉ
ｎで通気した０図中１１は気液分離器、１２はポンプ、
１３はＤｏメータを示す。

ＤＯと処理時間との関係を第６図に示す、実施例Ｉの結
果は曲線人となり、処理待間約９１ｎでＤｏは５０ｔｒ
ｇ／ｌ以下トナツタ。

比較例１ 実施例１と同様に純水を１１採取し、Ｈ２ガス２を通気
せずに低圧水銀ランプ８のみを点灯した。

比較例１の結果は第６図中曲線Ｂとなり処理時間３０ｍ
１ｎでＤＯの減少はわずかであった。

比較例２ 実施例１と同様に純水を１２採取し、低圧水銀ランプ８
を点灯せず、Ｈ２ガス２を１００Ｎ　　ｄ／＋＊ｉｎで
通気した。比較例２の結果は第６図中曲線Ｃとなり、処
理時間３０■ｉｎでほぼ１１００ａ／ｆｆｉとなった。

実施例２ 第５図に、本発明方法の実施例において水素以外の還元
剤を用いた実験装置の模式断面図を示す。

水道水を、温床式イオン交換樹脂塔で処理した純水を原
水ｌとした。この原水ｌのＤＯは約８０００ｔｔｇ／ｌ
であった。この原水を原水ポンプ７を介して、第５図に
示した装置の容器３の下部にある原水配管１５から通水
した。原水配管１５に設けた薬注配管１７から、薬注ポ
ンプ１６によりヒドラジン（ＮＪａ）１４を約ｌθ■／
１となるように注入するとともに、容器中央の保護管９
を介して低圧水銀ランプ８を点灯して紫外線を５０ｗｗ
・ｓｅｃ／ｃｔｉ”で照射した。容器３の出口水を、温
床式イオン交換樹脂カラム１日に通水して残留ヒドラジ
ンを除去し、Ｄ。

モニター１３でＤｏを測定した。処理水６のＤＯを第３
表に示した。実施例２では、わずかな電力で１１００ｔ
ｔ／／！以下のＤｏの処理水が得られた。

実施例３ 実施例２と同様の装置を用い、薬注ポンプ１６により、
しゅう酸を約６０■／！となるように注入するとともに
、低圧水銀ランプ８を点灯して紫外線を照射した。処理
水のＤｏを第３表に示した。

実施例４ 実施例２と同様の装置を用い、薬注ポンプ１６により、
亜硫酸ナトリウムを約８０■／ｉ！となるように注入す
るとともに、低圧水銀ランプ８を点灯して紫外線を照射
した。処理水のＤＯを第３表に示した。

実施例５ 実施例２と同様の装置を用い、薬注ポンプ１６により、
ギ酸を約５０■／Ｉ！となるように注入するとともに、
低圧水銀ランプ８を点灯して紫外線を照射した。処理水
のＤＯを第３表に示した。

比較例３ 実施例２と同様の装置を用い低圧水銀ランプ８を点灯せ
ず、ヒドラジンと純水とを接触させた。

処理水のＤｏを第３表に示した。比較例３では、ＤＯの
減少はわずかであった。

比較例４ 実施例３と同様の装置を用い低圧水銀ランプ８を点灯せ
ず、しゅう酸と純水とを接触させた。処理水のＤｏを第
３表に示した。比較例４では、ＤＯの減少はわずかであ
った。

比較例５ 実施例４と同様の装置を用い低圧水銀ランプ８を点灯せ
ず、亜硫酸ナトリウムと純水とを接触させた。処理水の
Ｄｏを第３表に示した。比較例５では、Ｄｏの減少は実
施例４と比較して小さかった。

比較例６ 実施例５と同様の装置を用い低圧水銀ランプ８を点灯せ
ず、ギ酸と純水とを接触させた。処理水のＤＯを第３表
に示した。比較例６では、Ｄｏはほとんど減少しなかっ
た。

比較例７ 実施例２と同様の装置を用い、還元剤を注入せず低圧水
銀ランプ８のみを点灯して純水を通水した。比較例７で
は、第３表に示したようにＤｏはほとんど減少しなかっ
た。

第３表 処理水のＤｏ 実施例６ 第１図は、実用的に好ましい本発明装置の一例を示す模
式断面図である。

第１図において、水素発生装置１９は固体高分子電解質
水分解方式で、発生水素量を電気的に制御でき、必要量
の水素の発生が容易に可能である。

次いで、水素発生装置１９で発生した水素ガス２を、水
素溶解装置３に供給してＤＯを含む原水１に膜２０を介
して溶解させる。例えば、ＤＯ約１■／２、流量１５０
　ｆ　／　ｈの原水を処理する場合、８ｄ／＋ｗｉｎの
水素を発生させ、気体透過膜２０として膜面積０．４ｓ
ｔのポリウレタン系中空糸膜を用いることで所要量が供
給される。このとき水素は酸素の等量よりわずかに過剰
に溶解させておく。

次いで、水素を溶解させた中間処理水５を、紫外線照射
装置４に導入して水素とＤＯとを反応させて、ＤＯを除
去する。

次いで、Ｄｏが除去された水を余剰水素除去装置２１に
導入し、等量よりわずかに過剰に溶解させているために
残留した溶存水素を気体透過膜２０を介して真空ポンプ
２２によって除去し、ＤＯ除去処理水６を得る。

なお、真空ポンプからの水素を含む排ガス２５は極めて
わずかであるが、水素発生装置１９から排出される酸素
を主成分とするガス２４と酸化触媒２３上で接触させて
処理する。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の方法及び装置によれば、
従来の方法よりも簡単な装置で、Ｄｏの極力少ない水を
供給することができる。特に水の電気分解による水素を
気体透過膜を介して水に溶解させることにより水素の添
加量を安全かつ容易に制御することができるので経済的
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実用的に好ましい本発明装置の１例を示す模
式断面図である。 第２図は、本発明方法における還元剤の添加量と処理水
ＤＯとの関係を示すグラフ、第３図は本発明方法におけ
る紫外線照射量と処理水ＤＯとの関係を示すグラフであ
る。 第４図は、本発明方法において、水素を用いた場合のＤ
ｏと処理時間との関係を調べるための実験装置の模式断
面図である。 第５図は、本発明方法において、水素以外の還元剤を用
いる実験装置の模式断面図である。 第６図は第４図の実験装置によるＤｏと処理時間の関係
を示すグラフである。 符号の説明 １・・・原水　　　　　　　２・・・Ｈ２ガス３・・・
容器または還元剤溶解装置 ４・・・紫外線照射装置　　５・・・中間処理水６・・
・最終処理水　　　　７・・・原水ポンプ８・・・水銀
ランプ　　　　９・・・石英保護管ＩＯ・・・散気ノズ
ル　　　　１１・・・気液分離器１２・・・ポンプ　　
　　　　　１３・・・Ｄｏメータ１４・・・ヒドラジン
　　　　１５・・・原水配管１６・・・薬注ポンプ　　
　　１７・・・薬注配管１８・・・混床式イオン交換樹
脂カラムＩ９・・・Ｈ２ガス発生装置　　２０・・・気
体透過膜２１・・・余剰Ｈ２除去装置　　２２・・・真
空ポンプ２３・・・酸化触媒　　　２４・・・０□を主
成分とするガス２５・・・排気 Ａ・・・実施例１の結果 Ｂ・・・比較例１の結果 Ｃ・・・比較例２の結果 第 図 還元斉１”Ａ水ＤＯとのモル比 第４図 ／θ 第５図

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）酸素を溶存する水に還元剤を溶解し、紫外線を照
   射することを特徴とする水中の溶存酸素の除去方法。
2. （２）前記還元剤が、水素、ヒドラジン、しゅう酸、ギ
   酸、亜硫酸ナトリウム及び亜硫酸水素ナトリウムのうち
   から選ばれた１種以上である請求項１記載の方法。
3. （３）前記還元剤の水に溶解する量が、水中に溶存する
   酸素量に対しモル比で１〜５の範囲である請求項１また
   は２記載の方法。
4. （４）前記水素を気体透過膜を介して水に溶解する請求
   項２または３記載の方法。
5. （５）前記水素が水の電気分解によって発生する水素で
   ある請求項２ないし４のいずれかに記載の方法。
6. （６）被処理水に水素を溶解し紫外線を照射して溶存酸
   素を除去した後、未反応の溶存水素を気体透過膜を介し
   て除去する請求項１ないし５のいずれかに記載の方法。
7. （７）前記還元剤がヒドラジン、しゅう酸、ギ酸、亜硫
   酸ナトリウム及び亜硫酸水素ナトリウムのうちから選ば
   れた１種以上のものであり、その還元剤の水溶液をメン
   ブレン・フィルタを介して水に溶解し、紫外線を照射し
   て溶存酸素を除去したのち、残留還元剤を混床式イオン
   交換樹脂で除去する請求項１ないし３のいずれかに記載
   の方法。
8. （８）前記紫外線の照射量が波長２５４ｎｍで１０ｍｗ
   ・ｓｅｃ／ｃｍ＾２以上である請求項１ないし３のいず
   れかに記載の方法。
9. （９）水の電気分解によって水素を発生する水素発生装
   置と、酸素を含有する被処理水に、前記水素発生装置か
   らの水素を気体透過膜を介して溶解する装置と、水素を
   溶解した処理水に紫外線を照射する装置とからなること
   を特徴とする水中の溶存酸素の除去装置。
10. （１０）水の電気分解によって水素を発生する水素発生
    装置と、酸素を含有する被処理水に、前記水素発生装置
    からの水素を気体透過膜を介して溶解する装置と、水素
    を溶解した処理水に紫外線を照射する装置と、未反応の
    溶存水素を気体透過膜を介して除去する装置とからなる
    ことを特徴とする水中の溶存酸素の除去装置。