JPH03278022A - 干渉装置 - Google Patents
干渉装置Info
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- JPH03278022A JPH03278022A JP2078513A JP7851390A JPH03278022A JP H03278022 A JPH03278022 A JP H03278022A JP 2078513 A JP2078513 A JP 2078513A JP 7851390 A JP7851390 A JP 7851390A JP H03278022 A JPH03278022 A JP H03278022A
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- liquid crystal
- crystal phase
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はレーザー光の光路内に設置し光の位相を外部よ
り制御するのに有用な位相変調素子及び該位相変調素子
を用いて試料の状態を計測する干渉装置に関する。
り制御するのに有用な位相変調素子及び該位相変調素子
を用いて試料の状態を計測する干渉装置に関する。
[従来の技術]
従来干渉計測法には光学技術ハンドブック(朝食書店発
行、久保田広他W墓)P275等に記載のごとく古くか
ら様々な干渉計並びに計測法が開発されてきた。特に最
近は従来の干渉計に縞走査法による位相解析装置を設置
した物が普及している。この干渉装置によれば光波長の
1/100から1/1,000に及ぶ高い精度で測定が
出来、縞走査法は2光束干渉計に適用した精密加工面や
光学部品の検査に、又ホログラフィ−干渉法やスッペッ
クル干渉法に適用した粗面の変形測定等に広く利用され
ている。その際に用いられる位相変調器は機械的な変調
器で、例えばOplusE・1990年3月号P94に
引用のミウラ干渉計、マイクロフィゾー干渉計をはじめ
、その他公知のトワイマン・グリーン干渉計、フィゾー
干渉計、マツハ・ツエンダ−干渉計ではPZT圧電素子
でリファレンス面との距離を変調し干渉縞の走査を行い
、二次元のデーター処理により測定面の状態を計測する
物が代表的であった。
行、久保田広他W墓)P275等に記載のごとく古くか
ら様々な干渉計並びに計測法が開発されてきた。特に最
近は従来の干渉計に縞走査法による位相解析装置を設置
した物が普及している。この干渉装置によれば光波長の
1/100から1/1,000に及ぶ高い精度で測定が
出来、縞走査法は2光束干渉計に適用した精密加工面や
光学部品の検査に、又ホログラフィ−干渉法やスッペッ
クル干渉法に適用した粗面の変形測定等に広く利用され
ている。その際に用いられる位相変調器は機械的な変調
器で、例えばOplusE・1990年3月号P94に
引用のミウラ干渉計、マイクロフィゾー干渉計をはじめ
、その他公知のトワイマン・グリーン干渉計、フィゾー
干渉計、マツハ・ツエンダ−干渉計ではPZT圧電素子
でリファレンス面との距離を変調し干渉縞の走査を行い
、二次元のデーター処理により測定面の状態を計測する
物が代表的であった。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、上記機械的位相変調器はさらに干渉測定を生産
現場や計測現場等の本来計測を必要とする所にまで普及
させるためには以下のような課題が有り改善が望まれて
いた。
現場や計測現場等の本来計測を必要とする所にまで普及
させるためには以下のような課題が有り改善が望まれて
いた。
(1)機械的可動部を持ち、振動等の外乱に弱く取扱い
が雌しい。
が雌しい。
(2)トランスデユーサ−の制御電圧が数十7以上と高
くシステムが大型化する。
くシステムが大型化する。
(3)アクチエーターにヒステリシスがあり取扱が難し
い。
い。
(4)アクチエーターの形状自由度が小さく、用いる光
学系が制約される。
学系が制約される。
本発明の目的はかかる課題を解決すべく、機械的可動部
を持たず、且つ数■で制御できる小型で取扱の容易な位
相変調素子並びに干渉装置を提供する点にある。
を持たず、且つ数■で制御できる小型で取扱の容易な位
相変調素子並びに干渉装置を提供する点にある。
[課題を解決するための手段〕
本発明の液晶位相変調素子及び干渉装置は、互いに独立
に電圧を印加する手段を有する同一平面上に分割された
2つの液晶層から構成されること並びにシェアリング干
渉計の結像レンズの開口部に一方の液晶層を透過する光
がくさびガラス部を透過する位置に、互いに独立に電圧
を印加する手段を有する同一平面上に分割された2つの
液晶層から構成される液晶位相変調素子を配置したこと
を特徴とする。
に電圧を印加する手段を有する同一平面上に分割された
2つの液晶層から構成されること並びにシェアリング干
渉計の結像レンズの開口部に一方の液晶層を透過する光
がくさびガラス部を透過する位置に、互いに独立に電圧
を印加する手段を有する同一平面上に分割された2つの
液晶層から構成される液晶位相変調素子を配置したこと
を特徴とする。
以下実施例に基すき本発明の液晶位相変調素子及び干渉
装置を説明する。
装置を説明する。
[実施例]
実施例1 第1図は本発明の液晶位相変m素子の1実施
例の構成図である。一方はべたの透明薄膜電極101、
他方は中心部に1mm幅のストライブ状開口102で分
割された2つの透明薄膜電極103,104を有する光
学研磨されたガラス基板105,106により約7μm
の間隔で挟持された誘電異方性が正の捻れネマッチック
液晶(TN)層107.及び該画電極に交流電圧を印加
する電源108,109より構成される。又両分側域の
境には2つの領域を光学的に仕切るための遮光層110
をマスキングテープで形成しである。
例の構成図である。一方はべたの透明薄膜電極101、
他方は中心部に1mm幅のストライブ状開口102で分
割された2つの透明薄膜電極103,104を有する光
学研磨されたガラス基板105,106により約7μm
の間隔で挟持された誘電異方性が正の捻れネマッチック
液晶(TN)層107.及び該画電極に交流電圧を印加
する電源108,109より構成される。又両分側域の
境には2つの領域を光学的に仕切るための遮光層110
をマスキングテープで形成しである。
第2図は上記液晶位相変調素子の一方の領域ににHe−
Neレーザー光(波長632 nm)を入射させ電圧を
印加した際の透過光の位相変化を干渉計で測定した結果
を示す、横軸201が電圧、縦軸202が位相を示す、
約15Vでπの大きな位相変化が得られた。又2つの領
域を独立に位相制御することも可能であった。
Neレーザー光(波長632 nm)を入射させ電圧を
印加した際の透過光の位相変化を干渉計で測定した結果
を示す、横軸201が電圧、縦軸202が位相を示す、
約15Vでπの大きな位相変化が得られた。又2つの領
域を独立に位相制御することも可能であった。
実施例2 次に実施例1と同様のガラス基板間に誘電異
方性が正のネマチック液晶を一軸的水平(ホモジニアス
)配向状態で挟持した物を構成し第2図と同様の電圧−
位相特性の結果を得た。
方性が正のネマチック液晶を一軸的水平(ホモジニアス
)配向状態で挟持した物を構成し第2図と同様の電圧−
位相特性の結果を得た。
実施例3 次に実施例1と同様のガラス基板間に誘電異
方性が負のネマッチック液晶を一軸的垂直(ホメオトロ
ピック)配向させ実施例1と同様の結果を得た。
方性が負のネマッチック液晶を一軸的垂直(ホメオトロ
ピック)配向させ実施例1と同様の結果を得た。
実施例4 第3図は実施例1で例示した液晶位相変調素
子を用いたシェアリング干渉計に用いた干渉装置の1実
施例の光学系の構成図である。
子を用いたシェアリング干渉計に用いた干渉装置の1実
施例の光学系の構成図である。
レーザー301で照射された試料物体304がらの反射
光315を結像するレンズ309.iレンズの前方に置
かれた実施例1で例示した2分割の液晶位相変調素子3
08及び一方の液晶層を透過した光の光路を曲げるくさ
びガラス31o、該2分割の液晶位相変調素子の各各の
領域の透過光の干渉像を2次元データとして取り込むC
CDカメラ313より構成される。
光315を結像するレンズ309.iレンズの前方に置
かれた実施例1で例示した2分割の液晶位相変調素子3
08及び一方の液晶層を透過した光の光路を曲げるくさ
びガラス31o、該2分割の液晶位相変調素子の各各の
領域の透過光の干渉像を2次元データとして取り込むC
CDカメラ313より構成される。
500mWのAr’ レーザーを用いて、2分割の液晶
位相変調素子の各各に独立電源311,312により電
圧を印加し、±90”の位相差を与える条件で試料であ
る鉄板に変形を加え、変形の前後での位相データを差し
引くことで明瞭な変形データが得られた。
位相変調素子の各各に独立電源311,312により電
圧を印加し、±90”の位相差を与える条件で試料であ
る鉄板に変形を加え、変形の前後での位相データを差し
引くことで明瞭な変形データが得られた。
本実施例の干渉装置は、位相変調部が機械的可動部を持
たず約15Vの低電圧で±1806の大きな位相変化が
得られ、電源回路も小型なコンパクトで取り扱いが容易
である。また共通光路型であるため外部の振動等の影響
も少なく実用的な干渉装置である。液晶位相変調素子、
結像レンズ、くさびガラスの相対位置はこの限りでなく
互いに前後しても本発明の効果を損なうものではない。
たず約15Vの低電圧で±1806の大きな位相変化が
得られ、電源回路も小型なコンパクトで取り扱いが容易
である。また共通光路型であるため外部の振動等の影響
も少なく実用的な干渉装置である。液晶位相変調素子、
結像レンズ、くさびガラスの相対位置はこの限りでなく
互いに前後しても本発明の効果を損なうものではない。
その他実施例2から4に記載の液晶位相変調素子を用い
た場合も同様の効果が得られることは自明である。
た場合も同様の効果が得られることは自明である。
[発明の効果]
以上実施例からも明らかなように本発明によれば、互い
に独立に電圧を印加する手段を有する同一平面上に分割
された2つの液晶層から構成されること並びにシェアリ
ング干渉計の結像レンズの開口部に一方の液晶層を透過
する光がくさびガラス部を透過する位置に、互いに独立
に電圧を印加する手段を有する同一平面上に分割された
2つの液晶層から構成される液晶位相変調素子を配置し
たことにより、従来の圧電素子等の機械的素子に比べ小
型で低電圧制御が可能な位相変調素子並びに、該液晶位
相変調素子を用いることにより外部振動等に強く制御回
路も簡単な小型の干渉装置の実現を可能とするものでこ
れにより従来は不可能とされていた生産現場や計測現場
への干渉装置の使用を実現するために本発明が大きな効
果を発揮するものと確信する。
に独立に電圧を印加する手段を有する同一平面上に分割
された2つの液晶層から構成されること並びにシェアリ
ング干渉計の結像レンズの開口部に一方の液晶層を透過
する光がくさびガラス部を透過する位置に、互いに独立
に電圧を印加する手段を有する同一平面上に分割された
2つの液晶層から構成される液晶位相変調素子を配置し
たことにより、従来の圧電素子等の機械的素子に比べ小
型で低電圧制御が可能な位相変調素子並びに、該液晶位
相変調素子を用いることにより外部振動等に強く制御回
路も簡単な小型の干渉装置の実現を可能とするものでこ
れにより従来は不可能とされていた生産現場や計測現場
への干渉装置の使用を実現するために本発明が大きな効
果を発揮するものと確信する。
第1図は本発明の液晶位相変調素子の構成図。
第2図は本発明の液晶位相変調素子の電圧−位相相関図
。 第3図は本発明の液晶位相変調素子を用いた干渉装置の
構成図。 101 べたの透明電極 102 開口部103.10
4 対向側の2分割透明電極105.106 ガラ
ス基板 107 液晶層 108.109 交流電源 110 遮光部 01 01 021 05 07 08 09 10 311゜ 13 電圧 202 レーザー 303 レンズ 304 ハーフミラ−306 検光子 液晶位相変調素子 結像レンズ くさびガラス 312 独立駆動電源 CODカメラ 位相 試料 偏光子
。 第3図は本発明の液晶位相変調素子を用いた干渉装置の
構成図。 101 べたの透明電極 102 開口部103.10
4 対向側の2分割透明電極105.106 ガラ
ス基板 107 液晶層 108.109 交流電源 110 遮光部 01 01 021 05 07 08 09 10 311゜ 13 電圧 202 レーザー 303 レンズ 304 ハーフミラ−306 検光子 液晶位相変調素子 結像レンズ くさびガラス 312 独立駆動電源 CODカメラ 位相 試料 偏光子
Claims (2)
- (1)互いに独立に電圧を印加する手段を有する同一平
面上に分割された2つの液晶層から構成されることを特
徴とした液晶位相変調素子。 - (2)シェアリング干渉計の結像レンズの開口部に一方
の液晶層を透過する光がくさびガラス部を透過する位置
に、互いに独立に電圧を印加する手段を有する同一平面
上に分割された2つの液晶層から構成される液晶位相変
調素子を配置したことを特徴とする干渉装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2078513A JP2932586B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 干渉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2078513A JP2932586B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 干渉装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03278022A true JPH03278022A (ja) | 1991-12-09 |
JP2932586B2 JP2932586B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=13664020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2078513A Expired - Lifetime JP2932586B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 干渉装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2932586B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002023132A1 (fr) * | 2000-09-14 | 2002-03-21 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dispositif de mesure de deplacement |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP2078513A patent/JP2932586B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002023132A1 (fr) * | 2000-09-14 | 2002-03-21 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dispositif de mesure de deplacement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2932586B2 (ja) | 1999-08-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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