JPH03181316A - Nf↓3の除害方法 - Google Patents
Nf↓3の除害方法Info
- Publication number
- JPH03181316A JPH03181316A JP1320477A JP32047789A JPH03181316A JP H03181316 A JPH03181316 A JP H03181316A JP 1320477 A JP1320477 A JP 1320477A JP 32047789 A JP32047789 A JP 32047789A JP H03181316 A JPH03181316 A JP H03181316A
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- Japan
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- oxide
- gas
- oxidizing gas
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、NF3の除害方法に係り、特に、酸化性ガス
が共存しているガス中からNP、を効率よく分解するこ
とのできるNF3の除害方法に関する。
が共存しているガス中からNP、を効率よく分解するこ
とのできるNF3の除害方法に関する。
NF3は、ロケット燃料のほか、最近では超LSIのエ
ツチングガスやCVDのクリーニングガスとして使用さ
れている。しかしながら、このガスは常温できわめて安
定であると同時に水に対する溶解度も低く、かつまた、
TLV値が10ppmとされており、除害すべきではあ
るが処理困難な物質の1つである。
ツチングガスやCVDのクリーニングガスとして使用さ
れている。しかしながら、このガスは常温できわめて安
定であると同時に水に対する溶解度も低く、かつまた、
TLV値が10ppmとされており、除害すべきではあ
るが処理困難な物質の1つである。
NF3の除害方法としては、
(1) 炭素塊と300〜600℃で反応させる方法
(特開昭62−237929号公報)(2) 金属チ
タンと200℃以上の温度で接触させる方法(特開昭6
1−287424号公報〉(3) 金属シリコンと1
00℃以上で反応させる方法(特開昭63−12322
号公報)(4)金属タングステンないし、金属モリブデ
ンと250℃以上の温度で接触させる方法(特開昭62
−225228号公報) がある。
(特開昭62−237929号公報)(2) 金属チ
タンと200℃以上の温度で接触させる方法(特開昭6
1−287424号公報〉(3) 金属シリコンと1
00℃以上で反応させる方法(特開昭63−12322
号公報)(4)金属タングステンないし、金属モリブデ
ンと250℃以上の温度で接触させる方法(特開昭62
−225228号公報) がある。
従来技術は、いずれも単体とNF3を高温で反応させる
方法を採用しているが、この際02やN20A、’i’
の酸化性の物質が共存すると、処理剤として使用した金
属がこれらと反応し、無駄に消耗されると同時に、酸化
された金属ないし0.やN2()そのものとNF3が反
応し、窒素酸化物が副生じ、これらを別途処理する方策
を講じなければならない。
方法を採用しているが、この際02やN20A、’i’
の酸化性の物質が共存すると、処理剤として使用した金
属がこれらと反応し、無駄に消耗されると同時に、酸化
された金属ないし0.やN2()そのものとNF3が反
応し、窒素酸化物が副生じ、これらを別途処理する方策
を講じなければならない。
また、(]2やN20等はC1,やF2等の酸化性物質
と異なり、常温での反応性が乏しく、事前にこれらのみ
を除去しておくことも困難である。
と異なり、常温での反応性が乏しく、事前にこれらのみ
を除去しておくことも困難である。
そこで、本発明は、上記の問題点を解消し、酸化性ガス
の共存下においてもNF、を有効に除去し、また、副生
ずる窒素酸化物も除去することのできるNF3の除害方
法を提供することを目的とする。
の共存下においてもNF、を有効に除去し、また、副生
ずる窒素酸化物も除去することのできるNF3の除害方
法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、酸化生ガスと
NF3とを含むガスを、遷移金属の酸化物と250℃以
上の温度で接触させ、NF3中のふっ素を該金属のふつ
化物として酸化物表面に固定し、窒素はNO及び/又は
NO2に変換して吸着剤により吸着除去することを特徴
とするNFsの除害方法、としたものである。
NF3とを含むガスを、遷移金属の酸化物と250℃以
上の温度で接触させ、NF3中のふっ素を該金属のふつ
化物として酸化物表面に固定し、窒素はNO及び/又は
NO2に変換して吸着剤により吸着除去することを特徴
とするNFsの除害方法、としたものである。
すなわち、本発明は、酸素及び/又は亜酸化窒素専の酸
化性ガスが共存する排ガス中に含まれるNF3を処理す
るにあたって、まず第1に鉄、マンガン、銅等の遷移金
属の酸化物と250℃以上の温度で接触させNF、中の
ふっ素については該金属のふつ化物として酸化物表面上
に固定し、窒素についてはNO及び/又はNO,に変換
する。第2に、ここで発生したNO及び/又はNO2を
活性炭・アルミナ・シリカゲル・モレキュラーシーブ・
MnO2・CuO・ホブカライド等の吸着剤で吸着する
。これらの一連の工程により酸素および/または亜酸化
窒素等の共存下にあるNP。
化性ガスが共存する排ガス中に含まれるNF3を処理す
るにあたって、まず第1に鉄、マンガン、銅等の遷移金
属の酸化物と250℃以上の温度で接触させNF、中の
ふっ素については該金属のふつ化物として酸化物表面上
に固定し、窒素についてはNO及び/又はNO,に変換
する。第2に、ここで発生したNO及び/又はNO2を
活性炭・アルミナ・シリカゲル・モレキュラーシーブ・
MnO2・CuO・ホブカライド等の吸着剤で吸着する
。これらの一連の工程により酸素および/または亜酸化
窒素等の共存下にあるNP。
を完全に除去し、かつ外部環境に対して支障のある物質
を一切排出しない方法を提供するものである。
を一切排出しない方法を提供するものである。
NF3(化学的に処理する場合には、高温で反応を’t
iI&わなければならないことは、従来技術からち1す
1らかである。その際に、02やN、0等の酸化性物質
が共存すれば、従来技術のように、金1i1i”、94
そのままNF、の処理剤に使用するかぎり、酸化されて
しまいNF3の処理に役立たなくなったり、NOやNO
2の生成が起きたりして、所期の1−1的を達すること
ができないのは避けられない。
iI&わなければならないことは、従来技術からち1す
1らかである。その際に、02やN、0等の酸化性物質
が共存すれば、従来技術のように、金1i1i”、94
そのままNF、の処理剤に使用するかぎり、酸化されて
しまいNF3の処理に役立たなくなったり、NOやNO
2の生成が起きたりして、所期の1−1的を達すること
ができないのは避けられない。
そこで、Fe−Mn−Cu等の遷移元素の酸化物を処理
剤とし、250℃以上の温度において、NF。
剤とし、250℃以上の温度において、NF。
と1]2やN、0を含むガスと接触させ処理を行う。
処Pl剤は、既に酸化されているので02やN20の共
71:による影響をうけずにNF、と反応し、従って処
Jlllh11の処理能力は、0□やN、Oの量に依ら
ず一定したものとなる。なお、酸化物としてはアルミナ
やシリカ等の軽元素のものもあるが、これらは活性が低
く250〜300℃程度では、NF3とはあまり反応し
ない。
71:による影響をうけずにNF、と反応し、従って処
Jlllh11の処理能力は、0□やN、Oの量に依ら
ず一定したものとなる。なお、酸化物としてはアルミナ
やシリカ等の軽元素のものもあるが、これらは活性が低
く250〜300℃程度では、NF3とはあまり反応し
ない。
酸化物とNF2との反応において、NFs中のふっ素は
ぶつ化物として処理剤表面に固定されるが、窒素につい
てはNO及び/又はNO□に変換されて排出される。N
O及び/又はNO2は、TLV値がそれぞれ25 pp
mと3 ppmであり、そのまま排出するべきではない
ので、引き続き活性炭・アルミナゲル・モレキュラーシ
ーブ・MnO2・CuO・ホブカライド等の吸着剤で吸
着除去し完全に無毒化した処理ガスのみを排出する。
ぶつ化物として処理剤表面に固定されるが、窒素につい
てはNO及び/又はNO□に変換されて排出される。N
O及び/又はNO2は、TLV値がそれぞれ25 pp
mと3 ppmであり、そのまま排出するべきではない
ので、引き続き活性炭・アルミナゲル・モレキュラーシ
ーブ・MnO2・CuO・ホブカライド等の吸着剤で吸
着除去し完全に無毒化した処理ガスのみを排出する。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1〜3
40φのSUS製容器に、層高50mmになるように処
理剤を充てんし、処理剤層の中心温度が、350℃±5
0℃になるよう外部からヒータで加熱し、N2ガスで希
釈したNF、を0.5j!/minで流す。出口側のN
P3濃度をガスクロマトグラフィーにより追跡し、TL
V値10ppmを超えるまで処理を行い、それ迄に導入
したNP。
理剤を充てんし、処理剤層の中心温度が、350℃±5
0℃になるよう外部からヒータで加熱し、N2ガスで希
釈したNF、を0.5j!/minで流す。出口側のN
P3濃度をガスクロマトグラフィーにより追跡し、TL
V値10ppmを超えるまで処理を行い、それ迄に導入
したNP。
の容積と処理剤の容積から処理能力を求め比較する。同
5.fに、処理剤層出口でNOとN口、の発生i10)
合計量を、窒素酸化物用の検知管で、またフン素化合物
発生量を、アルカリ溶液吸収−イオンク0マドグラフィ
ーにより求め、処理反応に伴って生成する副生成物量を
求めた。
5.fに、処理剤層出口でNOとN口、の発生i10)
合計量を、窒素酸化物用の検知管で、またフン素化合物
発生量を、アルカリ溶液吸収−イオンク0マドグラフィ
ーにより求め、処理反応に伴って生成する副生成物量を
求めた。
実施例1では、1IIlfflφのCu線を10mmの
長さに切断したものを処理剤とし、NF、を2%として
処理4行った。表−1に示すようにNO・NO2・Fの
発生はなく、15 f−NP、/Itの処理能力を示し
た。
長さに切断したものを処理剤とし、NF、を2%として
処理4行った。表−1に示すようにNO・NO2・Fの
発生はなく、15 f−NP、/Itの処理能力を示し
た。
実hh例2では、実施例1と同一条件で、02を2%に
なるように添加して処理を行った。同じく表 1に示す
ように、0□の添加により、処理剤が02とも反応して
処理能力がA程度になると同時に、導入したNF3とほ
ぼ等量のNO・N02の発生が認められた。
なるように添加して処理を行った。同じく表 1に示す
ように、0□の添加により、処理剤が02とも反応して
処理能力がA程度になると同時に、導入したNF3とほ
ぼ等量のNO・N02の発生が認められた。
実施例3では、実施例2と同一条件で、処理剤を針状の
Cuから7〜20meshの粒状のCuOに換えて処理
を行った。NO・N02の発生量は実施例2とほぼ同じ
であるが、NF3処理能力は実施例1と同等以上あった
。
Cuから7〜20meshの粒状のCuOに換えて処理
を行った。NO・N02の発生量は実施例2とほぼ同じ
であるが、NF3処理能力は実施例1と同等以上あった
。
実施例4〜7
実施例3と同二装置・同一条件で、処理剤を同一粒径の
Feze3・Mn0z e SiO□’ Al2O3に
換えて処理を行った。結果を表−2に一括して示す。
Feze3・Mn0z e SiO□’ Al2O3に
換えて処理を行った。結果を表−2に一括して示す。
Fe、N3やMnO2は、Cu1lと同様に充分な処理
が可能であるが、5102やAl2O,の場合は、処理
開始直後にNF3が人口濃度とほぼ同等の濃度に達して
しまった。
が可能であるが、5102やAl2O,の場合は、処理
開始直後にNF3が人口濃度とほぼ同等の濃度に達して
しまった。
実施例8
実施例3と同一条件でNF3処理を行い、処理後のガス
を40φのカラムに層高50mmになるよう充てんした
8〜12meShの活性炭に常温下で流しNO及びNO
2を処理した。その結果、前段に設けたCuOで処理し
たNF3が約91!−NP、/1処理剤になた時点、す
なわちCuOのNF3処理能力の約2を消賀した時点で
NOとN02の合計量がl Q ppmをこえた。
を40φのカラムに層高50mmになるよう充てんした
8〜12meShの活性炭に常温下で流しNO及びNO
2を処理した。その結果、前段に設けたCuOで処理し
たNF3が約91!−NP、/1処理剤になた時点、す
なわちCuOのNF3処理能力の約2を消賀した時点で
NOとN02の合計量がl Q ppmをこえた。
〔発1!J1の効果〕
本発明によれば、NF3の除害処理において02やN2
[]等の酸化性ガスが共存してもこれらの妨害をうける
ことなく NF、を効率よく除去することができる。
[]等の酸化性ガスが共存してもこれらの妨害をうける
ことなく NF、を効率よく除去することができる。
TI’ +i’l出軸人
同
同
代 坤 人
同
株式会社荏原総合研究所
荏原インフィルコ株式会社
株式会社 荏原製作所
吉 嶺 桂
松 1) 大
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、酸化性ガスとNF_3とを含むガスを、遷移金属の
酸化物と250℃以上の温度で接触させ、NF_3中の
ふっ素を該金属のふっ化物として酸化物表面に固定し、
窒素はNO及び/又はNO_2に変換して吸着剤により
吸着除去することを特徴とするNF_3の除害方法。 2、遷移金属の酸化物が、鉄、マンガン、銅の酸化物か
ら選ばれた1種以上からなる請求項1記載のNF_3の
除害方法。 3、吸着剤が、活性炭・アルミナ・シリカゲル・モレキ
ュラーシーブ・CuO・MnO_2・ホプカライトから
選ばれた1種以上からなる請求項1記載のNF_3の除
害方法。 4、酸化性ガスが、酸素及び/又は亜酸化窒素からなる
請求項1記載のNF_3の除害方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1320477A JPH03181316A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | Nf↓3の除害方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1320477A JPH03181316A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | Nf↓3の除害方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03181316A true JPH03181316A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18121882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1320477A Expired - Lifetime JPH03181316A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | Nf↓3の除害方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03181316A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06319947A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Ube Ind Ltd | エッチング排ガス除害剤及びその使用方法 |
EP0666101A1 (en) * | 1994-02-03 | 1995-08-09 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Exhaust gas treating agent and a method of treating exhaust gas using the agent |
WO2001023073A1 (fr) * | 1999-09-30 | 2001-04-05 | L'air Liquide, Societe Anonyme À Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L´Etude Et L´Exploitation Des Procedes Georges Claude | Dispositif de traitement de gaz d'echappement |
WO2010095512A1 (ja) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | セントラル硝子株式会社 | 三フッ化窒素の分解方法及び分解装置 |
JP2021164904A (ja) * | 2020-04-07 | 2021-10-14 | セントラル硝子株式会社 | N2oの処理方法及びn2oの除害装置 |
CN114761106A (zh) * | 2019-12-13 | 2022-07-15 | 通用电器技术有限公司 | 过渡金属氧化物用于从气体去除氟化副产物的用途、用于去除这样的副产物的设备和方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63137736A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | エッチング排ガス除害方法 |
-
1989
- 1989-12-12 JP JP1320477A patent/JPH03181316A/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63137736A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | エッチング排ガス除害方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06319947A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Ube Ind Ltd | エッチング排ガス除害剤及びその使用方法 |
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JP2001096135A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-10 | Air Liquide Japan Ltd | 排ガス処理装置 |
JP4545852B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2010-09-15 | 日本エア・リキード株式会社 | 排ガス処理装置 |
WO2010095512A1 (ja) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | セントラル硝子株式会社 | 三フッ化窒素の分解方法及び分解装置 |
CN114761106A (zh) * | 2019-12-13 | 2022-07-15 | 通用电器技术有限公司 | 过渡金属氧化物用于从气体去除氟化副产物的用途、用于去除这样的副产物的设备和方法 |
JP2021164904A (ja) * | 2020-04-07 | 2021-10-14 | セントラル硝子株式会社 | N2oの処理方法及びn2oの除害装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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