JPH03168212A - ポリエーテルグリコールの製法 - Google Patents
ポリエーテルグリコールの製法Info
- Publication number
- JPH03168212A JPH03168212A JP2299096A JP29909690A JPH03168212A JP H03168212 A JPH03168212 A JP H03168212A JP 2299096 A JP2299096 A JP 2299096A JP 29909690 A JP29909690 A JP 29909690A JP H03168212 A JPH03168212 A JP H03168212A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- phase
- thf
- polymerization
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 14
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 title claims abstract description 10
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 claims abstract description 21
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 16
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 27
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 4
- 210000004177 elastic tissue Anatomy 0.000 abstract description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- BJZYYSAMLOBSDY-QMMMGPOBSA-N (2s)-2-butoxybutan-1-ol Chemical compound CCCCO[C@@H](CC)CO BJZYYSAMLOBSDY-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- -1 Polyoxytetramethylene Polymers 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- JECYNCQXXKQDJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylhexan-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(C)(C)OCC1CO1 JECYNCQXXKQDJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABKDZANKXKCXKG-UHFFFAOYSA-B P(=O)([O-])([O-])[O-].[W+4].P(=O)([O-])([O-])[O-].P(=O)([O-])([O-])[O-].P(=O)([O-])([O-])[O-].[W+4].[W+4] Chemical compound P(=O)([O-])([O-])[O-].[W+4].P(=O)([O-])([O-])[O-].P(=O)([O-])([O-])[O-].P(=O)([O-])([O-])[O-].[W+4].[W+4] ABKDZANKXKCXKG-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007700 distillative separation Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- JZSKWOFOVWVHFZ-UHFFFAOYSA-N molybdenum phosphoric acid Chemical compound [Mo].OP(O)(O)=O JZSKWOFOVWVHFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- PDDXOPNEMCREGN-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum;hydrate Chemical compound O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O PDDXOPNEMCREGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFBYUADVDVJQL-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten;hydrate Chemical compound O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O AVFBYUADVDVJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
- C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
- C08G65/16—Cyclic ethers having four or more ring atoms
- C08G65/20—Tetrahydrofuran
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はへテロポリ酸および炭化水素の存在下で、テト
ラヒドロフランの重合又はテトラヒドロフランとオキシ
ランとの共重合によりポリエーテルグリコールを製造す
る方法に関する.[従来の技術] ポリオキシテトラメチレングリコール(以下″PTMG
″と記載する)、特にポリテトラヒドロフラン(以下”
PTHF”と記載する)、のようなポリエーテルグリコ
ールは、弾性繊維、弾性建築材料および被覆の製造のた
めに重要な原料である.これはカチオン性触媒の存在下
でのテトラヒドロフラン(以下”TIIP”と記乾する
)の重合、又はTHFとエチレンオキシド又はプロピレ
ンオキシドのようなオキシランとの共重合によって製造
される。ヨーロッパ特許公開第l2647l号明細書に
よれば触媒としてヘテロポリ酸を使用する。この方法は
特に注目すべきである.それというのも該方法によれば
、ポリアルキルエーテルグリコールが生成するのに対し
、別の方法に基づきTHFを重合させるとポリアルキレ
ンエーテルグリコールのエステルが得られ、該エステル
はボリマーの分野で使用する前になおポリアルキルエー
テルグリコールに加水分解しなければならないからであ
る. ヘテロポリ酸と共にTIIFの重合において、触媒の大
部分を反応後簡単な相分離によって回収し、かつ反jJ
一τ戻すここには成功し゛Cいる。しかしながら無視さ
れλなl,)分の触媒は、分離したボリマー溶液に溶i
jた*表である。該触媒は経費上の理tbからおよび安
求されてし)るPTMGの純度のため(ご完全に分離さ
れねばならないいへそ口ポリ酸によって汚染されている
PTMG H容液の浄化方法は、ヨー口ッパ特許公開第
181621号明細書に配乾されている.このような多
段式方法では、TIIFの重合の際に群初(′:得られ
た、例えば23亀敗%のPTMG含凰を打ずるTlIF
中のPTMG溶液を、第−王程で未反応のT■Fを留去
することによってPTMG約50重凰%の濃彦にする。
ラヒドロフランの重合又はテトラヒドロフランとオキシ
ランとの共重合によりポリエーテルグリコールを製造す
る方法に関する.[従来の技術] ポリオキシテトラメチレングリコール(以下″PTMG
″と記載する)、特にポリテトラヒドロフラン(以下”
PTHF”と記載する)、のようなポリエーテルグリコ
ールは、弾性繊維、弾性建築材料および被覆の製造のた
めに重要な原料である.これはカチオン性触媒の存在下
でのテトラヒドロフラン(以下”TIIP”と記乾する
)の重合、又はTHFとエチレンオキシド又はプロピレ
ンオキシドのようなオキシランとの共重合によって製造
される。ヨーロッパ特許公開第l2647l号明細書に
よれば触媒としてヘテロポリ酸を使用する。この方法は
特に注目すべきである.それというのも該方法によれば
、ポリアルキルエーテルグリコールが生成するのに対し
、別の方法に基づきTHFを重合させるとポリアルキレ
ンエーテルグリコールのエステルが得られ、該エステル
はボリマーの分野で使用する前になおポリアルキルエー
テルグリコールに加水分解しなければならないからであ
る. ヘテロポリ酸と共にTIIFの重合において、触媒の大
部分を反応後簡単な相分離によって回収し、かつ反jJ
一τ戻すここには成功し゛Cいる。しかしながら無視さ
れλなl,)分の触媒は、分離したボリマー溶液に溶i
jた*表である。該触媒は経費上の理tbからおよび安
求されてし)るPTMGの純度のため(ご完全に分離さ
れねばならないいへそ口ポリ酸によって汚染されている
PTMG H容液の浄化方法は、ヨー口ッパ特許公開第
181621号明細書に配乾されている.このような多
段式方法では、TIIFの重合の際に群初(′:得られ
た、例えば23亀敗%のPTMG含凰を打ずるTlIF
中のPTMG溶液を、第−王程で未反応のT■Fを留去
することによってPTMG約50重凰%の濃彦にする。
その後教しい阪の炭化水素員を添加し、徹底的に混合し
、該混合物を30時間2つの相に分離沈殿さ廿る。下方
の相は50重歓%がヘテロポリ酸から成りその残りがP
TMG,THFおよび痕跡教の炭化水素から成る。PT
MGの主要凰を含有する土方相から未反応TI印を留夫
する.後に歿された炭化水素およびPT&lGから成る
混合物は冷却すると新たに2つの相に分離する、炭化水
素相と溶解しノニ炭化水素タ・^・むPTMGから成る
相とが得られる。PTMGをき{■ずる相から炭化水累
を留去tるヒ、最終的には、まだへテロポリ酸を50p
pm含イイしているPTMGが得られる。,″のPTM
G中の強酸性結含化含物の含吸は許容され得ないのe、
別の操作ではへテl1ボリ酸の濃度を、該1’TMGを
新た(二炭化水素中で溶かし、吸着剤、例A,ば酸化カ
ルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニリム、活性
炭又は活性アルミナで処理ずるど,′:.によって低ド
させる。従ってこの全方法は大変頻雑である。j、2か
も甚しく費用がかかる、それこいうのも電合体から触媒
を分離するため番一゛は、約4償檄(PTMGに対して
〉の炭化水素を浄化操作後蒸開.′!.せなければなら
ないからである.(:3・一目ツバ特許公開第1816
218明細含記載の′J!施例1 bよびl5参照)。
、該混合物を30時間2つの相に分離沈殿さ廿る。下方
の相は50重歓%がヘテロポリ酸から成りその残りがP
TMG,THFおよび痕跡教の炭化水素から成る。PT
MGの主要凰を含有する土方相から未反応TI印を留夫
する.後に歿された炭化水素およびPT&lGから成る
混合物は冷却すると新たに2つの相に分離する、炭化水
素相と溶解しノニ炭化水素タ・^・むPTMGから成る
相とが得られる。PTMGをき{■ずる相から炭化水累
を留去tるヒ、最終的には、まだへテロポリ酸を50p
pm含イイしているPTMGが得られる。,″のPTM
G中の強酸性結含化含物の含吸は許容され得ないのe、
別の操作ではへテl1ボリ酸の濃度を、該1’TMGを
新た(二炭化水素中で溶かし、吸着剤、例A,ば酸化カ
ルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニリム、活性
炭又は活性アルミナで処理ずるど,′:.によって低ド
させる。従ってこの全方法は大変頻雑である。j、2か
も甚しく費用がかかる、それこいうのも電合体から触媒
を分離するため番一゛は、約4償檄(PTMGに対して
〉の炭化水素を浄化操作後蒸開.′!.せなければなら
ないからである.(:3・一目ツバ特許公開第1816
218明細含記載の′J!施例1 bよびl5参照)。
TIIl?,l−環式J−テルこをヘテロポリ酸を用い
て重合させるこ比較的狭い分子歌分布を何4″るボリア
ルキlノンエーテルグリコ・−ルが得られるウこれらの
ボリマーは特に弾性繊維の製造に好都合である.欧合体
から触媒残留分を分離するここが困難なため、この上う
な好劇しい狭い分子量分布を存するポリアルキレン゛耘
一テルグリコールは工業的規模ぞはまだ通用していない
.[発明が解決しJ:うヒする課題] 従って、本発明の課題は、へテロポリ酸を用いたTHF
の重合を経済的に実施するこ.!二にあった。特に狭い
分布のポリアルキレンエーテルグリコールを連続的に製
造する方法を見い出すべきであった。更に該新規方法は
少ないヱネルギーを要するべきであった。
て重合させるこ比較的狭い分子歌分布を何4″るボリア
ルキlノンエーテルグリコ・−ルが得られるウこれらの
ボリマーは特に弾性繊維の製造に好都合である.欧合体
から触媒残留分を分離するここが困難なため、この上う
な好劇しい狭い分子量分布を存するポリアルキレン゛耘
一テルグリコールは工業的規模ぞはまだ通用していない
.[発明が解決しJ:うヒする課題] 従って、本発明の課題は、へテロポリ酸を用いたTHF
の重合を経済的に実施するこ.!二にあった。特に狭い
分布のポリアルキレンエーテルグリコールを連続的に製
造する方法を見い出すべきであった。更に該新規方法は
少ないヱネルギーを要するべきであった。
『課題を解決するための手段]
ところで、触vtコしてへテロポリ酸を使用して、TH
Fの乗合又はTIIFとオキシランこの共煎合によりポ
リエーテルグリコールをII造する際に、該重合を使用
されたTHFに対して、炭化水累20−500重量%の
存在下に実施すれば、所望のUましい結果が得られるこ
とが判明した。
Fの乗合又はTIIFとオキシランこの共煎合によりポ
リエーテルグリコールをII造する際に、該重合を使用
されたTHFに対して、炭化水累20−500重量%の
存在下に実施すれば、所望のUましい結果が得られるこ
とが判明した。
驚いたことに本発明による方法では風合速度および醜0
反応率が高められている。このこた?予想が付かなかっ
たことである、散合速度はモノマー濃度によって影響を
受ljるので、希釈効果(:■基づき重合の減速が予測
されたはずである. TIIFの取合は、温度に依存す
る最終反応率を決定tる平衡反I8である.!衡状態で
(よ、反応系内の構成ヒ分離との均衡が保たれる。従っ
て使用されたモノマーに対ずる反応率は、反応系内に存
在する溶剤しは依存しないはずである9しかしこの予測
からは外れて、容剤中でのTIIFの重合1ノ又共徂合
も、容媒不在の重合よりも高い反応率をもたらすここが
確認された、触媒としてヘテロポリ酸を用いたTI1F
の重合またはTHF.!:オキシラン、例えばヱチレン
オキシド又はブロビl/ンオキシドとの共瓜含は、例え
ばヨーロッパ特許公開第1 2647 1号明細跨に記
載されているような、それ自体公知な方法で行う。
反応率が高められている。このこた?予想が付かなかっ
たことである、散合速度はモノマー濃度によって影響を
受ljるので、希釈効果(:■基づき重合の減速が予測
されたはずである. TIIFの取合は、温度に依存す
る最終反応率を決定tる平衡反I8である.!衡状態で
(よ、反応系内の構成ヒ分離との均衡が保たれる。従っ
て使用されたモノマーに対ずる反応率は、反応系内に存
在する溶剤しは依存しないはずである9しかしこの予測
からは外れて、容剤中でのTIIFの重合1ノ又共徂合
も、容媒不在の重合よりも高い反応率をもたらすここが
確認された、触媒としてヘテロポリ酸を用いたTI1F
の重合またはTHF.!:オキシラン、例えばヱチレン
オキシド又はブロビl/ンオキシドとの共瓜含は、例え
ばヨーロッパ特許公開第1 2647 1号明細跨に記
載されているような、それ自体公知な方法で行う。
本発明によって使用きれているヘテロポリ酸は、イソボ
リ酸とは異なり少なくたも2つの異なった中心原子を有
する無機ポリ酸である。ヘテロボリ酸は、部分的に混合
した無水物としての金属、例えばクロム、モリブデン、
パナジウム、およびタングステン並びに非金属、例えば
ヒ素、ヨウ素、リン、セレニウム、ケイ素、ホウ素、お
よびテルルのそれぞれの弱多塩基性酸素酸から生じる。
リ酸とは異なり少なくたも2つの異なった中心原子を有
する無機ポリ酸である。ヘテロボリ酸は、部分的に混合
した無水物としての金属、例えばクロム、モリブデン、
パナジウム、およびタングステン並びに非金属、例えば
ヒ素、ヨウ素、リン、セレニウム、ケイ素、ホウ素、お
よびテルルのそれぞれの弱多塩基性酸素酸から生じる。
例としてドデカタンダストリン酸H s [ p w
+ x 0 4 0 ]又はドデカモリブドリン酸H
s [ P M O + x O s。]が挙げられる
.ヘテロポリ酸は第2の中心原子としてアクチオノイド
又はランタノイドを含有することができる( Z. C
hemiel7 (1977)、p353〜357およ
び19 (1979)、308参照〕。ヘテロポIJ
fil ハ、一般1:lftル式; Ha−@ (Yn
Mt*On。)によって表れ、この場合n=Y元素(例
えばホウ素、ケイ素、亜鉛)の原子価である.(t(e
teropoly−und Igopoly−oxom
etalates,Berlin;Springer
1983参照).本発明による方法には触媒として、タ
ングストリン酸、モリブデンリン酸、モリブデンケイ素
酸、およびタングステンケイ素酸が特に適している. 一般にヘテロポリ酸l分子は配位結合によって水20〜
40分子を結合する.触媒として使用されるヘテロポリ
酸は、ヘテロポリ酸1分子当り、水約1〜8分子を含有
するべきである.ヘテロポリ酸中水の含量が、得られる
重合の分子量を決定する。触媒中の含水量が増すほど、
ますます得られるボリマーの分子量は減少する.ヘテロ
ポリ酸1分子当り含水量1〜8分子の所定の範囲は、約
1000〜3000までのポリエーテルグリコールの平
均分子量に相当する。
+ x 0 4 0 ]又はドデカモリブドリン酸H
s [ P M O + x O s。]が挙げられる
.ヘテロポリ酸は第2の中心原子としてアクチオノイド
又はランタノイドを含有することができる( Z. C
hemiel7 (1977)、p353〜357およ
び19 (1979)、308参照〕。ヘテロポIJ
fil ハ、一般1:lftル式; Ha−@ (Yn
Mt*On。)によって表れ、この場合n=Y元素(例
えばホウ素、ケイ素、亜鉛)の原子価である.(t(e
teropoly−und Igopoly−oxom
etalates,Berlin;Springer
1983参照).本発明による方法には触媒として、タ
ングストリン酸、モリブデンリン酸、モリブデンケイ素
酸、およびタングステンケイ素酸が特に適している. 一般にヘテロポリ酸l分子は配位結合によって水20〜
40分子を結合する.触媒として使用されるヘテロポリ
酸は、ヘテロポリ酸1分子当り、水約1〜8分子を含有
するべきである.ヘテロポリ酸中水の含量が、得られる
重合の分子量を決定する。触媒中の含水量が増すほど、
ますます得られるボリマーの分子量は減少する.ヘテロ
ポリ酸1分子当り含水量1〜8分子の所定の範囲は、約
1000〜3000までのポリエーテルグリコールの平
均分子量に相当する。
炭化水素としては、例えばC原子数5〜l2を有する脂
肪族又は環式脂肪族炭化水素、又はC原子6〜10を有
する芳香族炭化水素を使用する。詳細には例えばペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、又はナフタリ
ンが挙げられ、これらのうちでもシクロヘキサン、n−
ヘキサン、n−へブタン、およびn−オクタンが有利で
ある.炭化水素はTHFに対して20〜500、有利に
は50〜200m量%の量で使用する. 重合は連続的又は不連続的に、例えば20〜100℃の
温度で実施する.*準圧では、例えば30〜65℃の温
度を選ぶ.加圧下に重合する際は、例えば35〜85℃
の温度を選ぶ.触媒量はTHFIOO重量部に対して、
例えば20〜300重量部ある。有利には混合装置、例
えば撹拌器を備えた重合反応装置を使用する.重合は2
相系内で進行するので、有利には、触媒相からボリマー
溶液が分離する分離機を使用する。この下方触媒層はそ
れが生成する程度で反応に戻す。相分離器の上方層は生
成した重合体、溶剤として使用された炭化水素、未反応
のT}IPおよび、例えば10〜40ppmの低濃度の
へテロポリ酸を含有する.この上方相を塩基で中和する
.塩基として例えばアルカリ又はアルカリ土類金属の水
酸化物及び炭酸塩が該当する.未反応Tl1Fおよび炭
化水素の蒸留分離後、得られたPTMGから濾過するこ
とによって塩痕跡を除去する。しばしば重合体は付加的
に遷移金属触媒で水素化触媒脱色処理をすることが望ま
れる.該新規方法によればポリエーテルグリコールが特
に経済的な方法で得られる.重合体は驚いたことにヘテ
ロポリ酸の痕跡を含有するにすぎない.それによって本
発明による方法はヨーロッパ特許公開第181621号
明細書に記載されている、ヘテロポリ酸によって汚染さ
れた重合体溶液の多段式浄化を必要とする方法を著しく
単純化するものである.本発明の方法によって得られる
重合体中のへテロポリ酸の濃度は、lO〜100ppm
であってこの割合は重合パッチに戻す必要がないほど低
い.その損失のための費用は無視できるほどであり、重
合反応器中での活性損失は、極めて長い時間帯の後に初
めて僅かに認められるようになる.従って、それを重合
体中に溶解した少量のへテロポリ酸は簡単に塩基での中
和またはヨーロッパ特許公開第181621号明細書に
記載されているような吸収によって除去するとこができ
る.従って、本発明による方法では、前記の第3頁6行
目に記載した、重合体バッチからの主要量のへテロポリ
酸の費用のかかる分離は不必要である.本発明の方法に
より得られたポリエーテルグリコールは極めて狭い分子
量分布よって際立っており、かつこの有利な特性におい
ても炭化水素不在のTHFの重合によって得られる重合
体よりも優れている。
肪族又は環式脂肪族炭化水素、又はC原子6〜10を有
する芳香族炭化水素を使用する。詳細には例えばペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、又はナフタリ
ンが挙げられ、これらのうちでもシクロヘキサン、n−
ヘキサン、n−へブタン、およびn−オクタンが有利で
ある.炭化水素はTHFに対して20〜500、有利に
は50〜200m量%の量で使用する. 重合は連続的又は不連続的に、例えば20〜100℃の
温度で実施する.*準圧では、例えば30〜65℃の温
度を選ぶ.加圧下に重合する際は、例えば35〜85℃
の温度を選ぶ.触媒量はTHFIOO重量部に対して、
例えば20〜300重量部ある。有利には混合装置、例
えば撹拌器を備えた重合反応装置を使用する.重合は2
相系内で進行するので、有利には、触媒相からボリマー
溶液が分離する分離機を使用する。この下方触媒層はそ
れが生成する程度で反応に戻す。相分離器の上方層は生
成した重合体、溶剤として使用された炭化水素、未反応
のT}IPおよび、例えば10〜40ppmの低濃度の
へテロポリ酸を含有する.この上方相を塩基で中和する
.塩基として例えばアルカリ又はアルカリ土類金属の水
酸化物及び炭酸塩が該当する.未反応Tl1Fおよび炭
化水素の蒸留分離後、得られたPTMGから濾過するこ
とによって塩痕跡を除去する。しばしば重合体は付加的
に遷移金属触媒で水素化触媒脱色処理をすることが望ま
れる.該新規方法によればポリエーテルグリコールが特
に経済的な方法で得られる.重合体は驚いたことにヘテ
ロポリ酸の痕跡を含有するにすぎない.それによって本
発明による方法はヨーロッパ特許公開第181621号
明細書に記載されている、ヘテロポリ酸によって汚染さ
れた重合体溶液の多段式浄化を必要とする方法を著しく
単純化するものである.本発明の方法によって得られる
重合体中のへテロポリ酸の濃度は、lO〜100ppm
であってこの割合は重合パッチに戻す必要がないほど低
い.その損失のための費用は無視できるほどであり、重
合反応器中での活性損失は、極めて長い時間帯の後に初
めて僅かに認められるようになる.従って、それを重合
体中に溶解した少量のへテロポリ酸は簡単に塩基での中
和またはヨーロッパ特許公開第181621号明細書に
記載されているような吸収によって除去するとこができ
る.従って、本発明による方法では、前記の第3頁6行
目に記載した、重合体バッチからの主要量のへテロポリ
酸の費用のかかる分離は不必要である.本発明の方法に
より得られたポリエーテルグリコールは極めて狭い分子
量分布よって際立っており、かつこの有利な特性におい
ても炭化水素不在のTHFの重合によって得られる重合
体よりも優れている。
[実施例コ
実施例に記載のF部」は「重量部Jである。
不均質性比M w / M nはヨーロッパ特許公開第
195910号明細書の第l頁に述べられている. a〉触媒の調製 150℃および0.1mバールで脱水した含水率0.8
9重量%を有するタングステンリン酸Hs[FW+sO
4o] 4 0 0部に、水13.6部とTHF4 5
0部とから成る混合物を、40℃未満の温度で、1時
間かけて慎重に加える.得られえた混合物を60℃で5
時間激しく撹拌する.次いで撹拌機を停止し、形成され
た2相は互いに分離する。土方相(重合体相)・とじて
181部および下方相(触媒相)として683部が得ら
れる。重合体相はPTMG13重量%を含有する.PT
MGは分子量2140であり不均質性比( M w/M
n)は1.8である。重合体相中のへテロボリ酸の含量
は4.5重量%である。
195910号明細書の第l頁に述べられている. a〉触媒の調製 150℃および0.1mバールで脱水した含水率0.8
9重量%を有するタングステンリン酸Hs[FW+sO
4o] 4 0 0部に、水13.6部とTHF4 5
0部とから成る混合物を、40℃未満の温度で、1時
間かけて慎重に加える.得られえた混合物を60℃で5
時間激しく撹拌する.次いで撹拌機を停止し、形成され
た2相は互いに分離する。土方相(重合体相)・とじて
181部および下方相(触媒相)として683部が得ら
れる。重合体相はPTMG13重量%を含有する.PT
MGは分子量2140であり不均質性比( M w/M
n)は1.8である。重合体相中のへテロボリ酸の含量
は4.5重量%である。
b ) THFの重合体相
下方相(触媒相〉を重合反応器に入れ、TIIF150
部、水0.75部およびシクロヘキサン100部を加え
るい重合は強度撹拌のもとで60℃で5時間実施する.
最初のパッチはPTMG含量37重量%を有する上方相
280部を生じる.該PTMGは分子量2050及び、
不均質性比(Mw/Mn)1.5を有する.分離された
上方相はへテロポリ酸約28ppmを含有する。触媒相
は再び反応器に入れる。続いて、それぞれTllF15
0部、水0.5〜0.75部およびシクロヘキサン10
0部を有する別のlO回の重合パッチ操作を上記記載の
ように60℃で実施する。そこで得られた重合体は19
60〜2100の分子量を有する。不均質性比( M
w / M n )は1.4〜1.5である.個々のバ
ッチ中で排出されたヘテロポリ酸の含量は25〜aop
pmである. 次に重合装置を1#間当り含水率0.43重量%を有す
るTHF25部およびシクロヘキサン25部を供給しな
がら連続的に運転する.自由オーバーフローで、触媒相
および重合体相( PTMG.シクロヘキサン、Tl{
Fおよび触媒痕跡を含有する)から成る混合物を相分離
器に達する.該総分離器内で触媒相は下方に沈殿する。
部、水0.75部およびシクロヘキサン100部を加え
るい重合は強度撹拌のもとで60℃で5時間実施する.
最初のパッチはPTMG含量37重量%を有する上方相
280部を生じる.該PTMGは分子量2050及び、
不均質性比(Mw/Mn)1.5を有する.分離された
上方相はへテロポリ酸約28ppmを含有する。触媒相
は再び反応器に入れる。続いて、それぞれTllF15
0部、水0.5〜0.75部およびシクロヘキサン10
0部を有する別のlO回の重合パッチ操作を上記記載の
ように60℃で実施する。そこで得られた重合体は19
60〜2100の分子量を有する。不均質性比( M
w / M n )は1.4〜1.5である.個々のバ
ッチ中で排出されたヘテロポリ酸の含量は25〜aop
pmである. 次に重合装置を1#間当り含水率0.43重量%を有す
るTHF25部およびシクロヘキサン25部を供給しな
がら連続的に運転する.自由オーバーフローで、触媒相
および重合体相( PTMG.シクロヘキサン、Tl{
Fおよび触媒痕跡を含有する)から成る混合物を相分離
器に達する.該総分離器内で触媒相は下方に沈殿する。
該触媒相は、それが得られる程度で重合反応謬に戻す。
上方重合体含有相は後処理へ送る.そのために第1工程
で一緒に導かれたヘトロポリ酸の痕跡を希釈した(10
重量%の)苛性ソーダ液で中和し、そうして処理した重
合体溶液から2段階で標準圧およびIomパールで18
0℃までの温度で溶剤を除去する。少量の塩不純物を浄
化するためにザイツ濾過器を通して濾過し、不均質性比
1.4を有する極めて高品質水準の純粋なPTMGが得
られる.ポリテトラヒドロフランの反応率は合計で72
時間にわたって行った連続的試験で32重量%である。
で一緒に導かれたヘトロポリ酸の痕跡を希釈した(10
重量%の)苛性ソーダ液で中和し、そうして処理した重
合体溶液から2段階で標準圧およびIomパールで18
0℃までの温度で溶剤を除去する。少量の塩不純物を浄
化するためにザイツ濾過器を通して濾過し、不均質性比
1.4を有する極めて高品質水準の純粋なPTMGが得
られる.ポリテトラヒドロフランの反応率は合計で72
時間にわたって行った連続的試験で32重量%である。
重合の際シクロヘキサンの代わりに同量のn一へブタン
を使用した場合、実質的には同じ重合結果が得られる。
を使用した場合、実質的には同じ重合結果が得られる。
しかしながら重合体相と一絹に排出されるヘテロボリ酸
の量は、重合をシクロヘキサンを使用して実施する場合
に除去される量の約50%であるにすぎない。
の量は、重合をシクロヘキサンを使用して実施する場合
に除去される量の約50%であるにすぎない。
重合の際丁■Fの代わりにTHF92部とプaビレンオ
キシド8部とから成る混合物を使用し、上記記載のよう
に不連続的に同じ量のシクロヘキサンの存在下で重合さ
せると、30%の反応率が達成される.該重合体は平均
分子量1 800、不均質性比(Mw/ M n )
1 . 6およびブロビレンオキシド含量約30重量%
である。
キシド8部とから成る混合物を使用し、上記記載のよう
に不連続的に同じ量のシクロヘキサンの存在下で重合さ
せると、30%の反応率が達成される.該重合体は平均
分子量1 800、不均質性比(Mw/ M n )
1 . 6およびブロビレンオキシド含量約30重量%
である。
Claims (1)
- 1、触媒としてヘテロポリ酸を使用してテトラヒドロフ
ランの重合又はテトラヒドロフランとオキシランとの共
重合によりポリエーテルグリコールを製造する方法にお
いて、重合を使用したテトラヒドロフランに対し、炭化
水素20〜500重量%の存在下で実施することを特徴
とするポリエーテルグリコールの製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3937797A DE3937797A1 (de) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Verfahren zur herstellung von polyetherglykolen |
DE3937797.0 | 1989-11-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03168212A true JPH03168212A (ja) | 1991-07-22 |
Family
ID=6393471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2299096A Pending JPH03168212A (ja) | 1989-11-14 | 1990-11-06 | ポリエーテルグリコールの製法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5099074A (ja) |
EP (1) | EP0428003B1 (ja) |
JP (1) | JPH03168212A (ja) |
DE (2) | DE3937797A1 (ja) |
ES (1) | ES2057328T3 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001014455A1 (fr) * | 1999-08-19 | 2001-03-01 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Polyoxytetramethylene-glycol et procede de production de ce compose |
JP2012524148A (ja) * | 2009-04-15 | 2012-10-11 | インビスタ テクノロジーズ エス エイ アール エル | コポリエーテルグリコールの製法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4108047A1 (de) * | 1991-03-13 | 1992-09-17 | Basf Ag | Verfahren zur einstellung des mittleren molekulargewichts von polyoxyalkylenglykolen und polyoxyalkylenderivaten bei der heteropolysaeure-katalysierten ringoeffnungspolymerisation von cyclischen ethern und(/oder acetalen |
US5155283A (en) * | 1991-03-19 | 1992-10-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymerization of tetrahydrofuran using trifluoromethane sulfonic acid monohydrate as catalyst |
DE4435920A1 (de) * | 1994-10-07 | 1996-04-11 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung von Heteropolyverbindungen aus Polyethern, Polyestern und Polyetherestern |
US5648557A (en) * | 1994-10-27 | 1997-07-15 | Mobil Oil Corporation | Polyether lubricants and method for their production |
US7169889B1 (en) * | 1999-06-19 | 2007-01-30 | Biocon Limited | Insulin prodrugs hydrolyzable in vivo to yield peglylated insulin |
US6673889B1 (en) | 1999-06-28 | 2004-01-06 | Omnova Solutions Inc. | Radiation curable coating containing polyfuorooxetane |
WO2002051428A1 (fr) * | 2000-12-25 | 2002-07-04 | Shiseido Company, Ltd. | Composition de parfum stimulant le systeme sympathique |
US6867183B2 (en) * | 2001-02-15 | 2005-03-15 | Nobex Corporation | Pharmaceutical compositions of insulin drug-oligomer conjugates and methods of treating diseases therewith |
US6828297B2 (en) * | 2001-06-04 | 2004-12-07 | Nobex Corporation | Mixtures of insulin drug-oligomer conjugates comprising polyalkylene glycol, uses thereof, and methods of making same |
US6828305B2 (en) * | 2001-06-04 | 2004-12-07 | Nobex Corporation | Mixtures of growth hormone drug-oligomer conjugates comprising polyalkylene glycol, uses thereof, and methods of making same |
US6835802B2 (en) * | 2001-06-04 | 2004-12-28 | Nobex Corporation | Methods of synthesizing substantially monodispersed mixtures of polymers having polyethylene glycol moieties |
US6713452B2 (en) | 2001-06-04 | 2004-03-30 | Nobex Corporation | Mixtures of calcitonin drug-oligomer conjugates comprising polyalkylene glycol, uses thereof, and methods of making same |
US7713932B2 (en) * | 2001-06-04 | 2010-05-11 | Biocon Limited | Calcitonin drug-oligomer conjugates, and uses thereof |
US6858580B2 (en) | 2001-06-04 | 2005-02-22 | Nobex Corporation | Mixtures of drug-oligomer conjugates comprising polyalkylene glycol, uses thereof, and methods of making same |
US7196059B2 (en) * | 2001-09-07 | 2007-03-27 | Biocon Limited | Pharmaceutical compositions of insulin drug-oligomer conjugates and methods of treating diseases therewith |
WO2003105768A2 (en) * | 2002-06-13 | 2003-12-24 | Nobex Corporation | Methods of reducing hypoglycemic episodes in the treatment of diabetes mellitus |
EA015333B1 (ru) * | 2003-12-16 | 2011-06-30 | Нектар Терапьютикс | Композиции, содержащие конъюгаты, способы их получения и применение |
US20060182692A1 (en) | 2003-12-16 | 2006-08-17 | Fishburn C S | Chemically modified small molecules |
KR100914055B1 (ko) * | 2007-09-11 | 2009-08-28 | 주식회사 효성 | 폴리테트라메틸렌 에테르 글리콜에서 올리고머의 제거 방법 |
EP2867286A1 (en) * | 2012-07-02 | 2015-05-06 | Invista North America S.a.r.l. | Tetrahydrofuran purge treatment process |
CN113563575B (zh) * | 2021-07-29 | 2023-04-28 | 浙江皇马科技股份有限公司 | 一种环氧烷烃-四氢呋喃共聚物及制备方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3478109A (en) * | 1967-07-28 | 1969-11-11 | Eastman Kodak Co | Solvent extraction of polymeric glycols using methanol |
CA1216597A (en) * | 1983-05-23 | 1987-01-13 | Atsushi Aoshima | Process for producing polyetherglycol |
US4500705A (en) * | 1984-01-09 | 1985-02-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for reducing oligomeric cyclic ether content of a polymerizate |
EP0158229B1 (en) * | 1984-03-28 | 1988-06-22 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for producing polyether polyol, the produced polyether polyol and polyurethane |
DE3583988D1 (de) * | 1984-11-13 | 1991-10-10 | Asahi Chemical Ind | Verfahren zur reinigung von polyalkylenaethern. |
DE3514547A1 (de) * | 1985-04-23 | 1986-10-23 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur verminderung des anteils von cyclischen oligomeren ethern in polytetramethylenetherglykolen oder polyoxibutylen-polyoxialkylenglykolen |
DE3607946A1 (de) * | 1986-03-11 | 1987-09-17 | Basf Ag | Verfahren zur einengung der molekulargewichtsverteilung von polytetrahydrofuran und von copolymerisaten aus tetrahydrofuran und alkylenoxiden |
-
1989
- 1989-11-14 DE DE3937797A patent/DE3937797A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-10-26 US US07/603,519 patent/US5099074A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-30 ES ES90120770T patent/ES2057328T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-30 EP EP90120770A patent/EP0428003B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-30 DE DE59006970T patent/DE59006970D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-06 JP JP2299096A patent/JPH03168212A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001014455A1 (fr) * | 1999-08-19 | 2001-03-01 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Polyoxytetramethylene-glycol et procede de production de ce compose |
JP2012524148A (ja) * | 2009-04-15 | 2012-10-11 | インビスタ テクノロジーズ エス エイ アール エル | コポリエーテルグリコールの製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0428003A2 (de) | 1991-05-22 |
ES2057328T3 (es) | 1994-10-16 |
EP0428003B1 (de) | 1994-08-31 |
DE59006970D1 (de) | 1994-10-06 |
US5099074A (en) | 1992-03-24 |
DE3937797A1 (de) | 1991-05-16 |
EP0428003A3 (en) | 1991-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH03168212A (ja) | ポリエーテルグリコールの製法 | |
KR880001518B1 (ko) | 폴리알킬렌 에테르의 정제방법 | |
KR100193017B1 (ko) | 산성 지르코니아 촉매를 이용한 폴리테트라메틸렌 에테르 글리콜의 제조 방법 | |
JP2003517082A (ja) | ポリトリメチレンエーテルグリコールの調製のための連続的な方法 | |
US5886138A (en) | Process for the preparation of tetrahydrofuran polymers | |
JPH03126722A (ja) | 粗製ポリアルキレンエーテルグリコールの精製方法 | |
JP4327724B2 (ja) | テトラヒドロフラン−コポリマーの製造法 | |
JPH02248426A (ja) | オキセタンポリエーテルポリオールの製造 | |
JP2004189898A (ja) | ポリエチレンテレフタレートの製造方法 | |
US5344964A (en) | Method for preparing ester end-capped polyalkylene ether | |
KR100358552B1 (ko) | 테트라히드로푸란 중합체의 제조 방법 | |
KR100626773B1 (ko) | 분자량 분포가 좁은 폴리에테르-폴리올의 제조 방법 | |
JP2020517809A (ja) | ポリマー | |
JP4800568B2 (ja) | 分子量分布の狭められたポリエーテルポリオールの製造方法 | |
JP3719325B2 (ja) | ポリテトラメチレンエーテルグリコールジカルボン酸エステルの連続的製造方法 | |
JPH0597996A (ja) | ポリエーテル類の精製方法 | |
JPS61143428A (ja) | ポリアルキレンエ−テルポリオ−ルの製造方法 | |
Toskas et al. | Cationic polymerization of hexamethylcyclosiloxane (D3): Kinetics and mechanism of cyclics formation | |
KR100358481B1 (ko) | 폴리에테르,폴리에스테르및폴리에테르에스테르로부터의헤테로폴리화합물의추출방법 | |
JP4831852B2 (ja) | ヘテロポリリン酸を触媒としてthf重合体を製造する方法 | |
US20050124733A1 (en) | Process for working up polymer dispersions in polyesterpolyols | |
JPS62257931A (ja) | ポリオキシアルキレングリコ−ルおよび、または環式ポリアルキレンエ−テルの解重合方法 | |
JP5189259B2 (ja) | ポリエーテルの製造方法 | |
SU887584A1 (ru) | Способ получени олигоэфирдиолов | |
JPH0372094B2 (ja) |