JPH02309535A - X線イメージ管 - Google Patents
X線イメージ管Info
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- JPH02309535A JPH02309535A JP1129842A JP12984289A JPH02309535A JP H02309535 A JPH02309535 A JP H02309535A JP 1129842 A JP1129842 A JP 1129842A JP 12984289 A JP12984289 A JP 12984289A JP H02309535 A JPH02309535 A JP H02309535A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/36—Photoelectric screens; Charge-storage screens
- H01J29/38—Photoelectric screens; Charge-storage screens not using charge storage, e.g. photo-emissive screen, extended cathode
- H01J29/385—Photocathodes comprising a layer which modified the wave length of impinging radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/50—Image-conversion or image-amplification tubes, i.e. having optical, X-ray, or analogous input, and optical output
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、X線イメージ管にかかり、とくに、その入力
面の改良に関するものである。
面の改良に関するものである。
(従来の技術)
一般に、X線イメージ管を用いた被写体観察システムは
、第11図に示すように、X線管1の前方にX線イメー
ジ管2を配置し、これらの間の被写体3を通過して変調
されたX線像をX線イメージ管2に入射し、X線イメー
ジ管2で得られる可視出力像を、たとえば、撮像カメラ
で撮影してモニタテレビで再生するように構成されてい
る。
、第11図に示すように、X線管1の前方にX線イメー
ジ管2を配置し、これらの間の被写体3を通過して変調
されたX線像をX線イメージ管2に入射し、X線イメー
ジ管2で得られる可視出力像を、たとえば、撮像カメラ
で撮影してモニタテレビで再生するように構成されてい
る。
すなわち、X線イメージ管2は、一端部に入力面4、他
端部に出力面5を有し、動作時には、変調されたX線像
を入力面4で光電子像に変換し、この光電子像を出力面
5に集束加速して、出力面5に輝度増強された可視出力
像を得ている。そして、この出力像を撮像カメラ等によ
り観察するようになっている。
端部に出力面5を有し、動作時には、変調されたX線像
を入力面4で光電子像に変換し、この光電子像を出力面
5に集束加速して、出力面5に輝度増強された可視出力
像を得ている。そして、この出力像を撮像カメラ等によ
り観察するようになっている。
ところで、従来のX線イメージ管2の入力面4は、第1
2図に示すように、球面状に形成されたアルミニウム基
板6の凹面に、CsI:Na(ナトリウム付活よう化セ
シウム)蛍光体の多数の柱状結晶7から成る蛍光体層8
を形成し、この蛍光体層8上に酸化アルミニウム層と酸
化インジウム層から成る中間層9を介して光電面10を
形成した構造となっている。
2図に示すように、球面状に形成されたアルミニウム基
板6の凹面に、CsI:Na(ナトリウム付活よう化セ
シウム)蛍光体の多数の柱状結晶7から成る蛍光体層8
を形成し、この蛍光体層8上に酸化アルミニウム層と酸
化インジウム層から成る中間層9を介して光電面10を
形成した構造となっている。
(発明が解決しようとする課題)
上述したようなX線イメージ管2を用いた被写体観察シ
ステムにおいて、被写体3のX線被爆を少なくするため
には、被写体3を透過したX線を損失なく蛍光体層8に
入力させて、その吸収量を多くすることが要求される。
ステムにおいて、被写体3のX線被爆を少なくするため
には、被写体3を透過したX線を損失なく蛍光体層8に
入力させて、その吸収量を多くすることが要求される。
そして、蛍光体層8におけるX線吸収量を多くするため
には、蛍光体の柱状結晶7を長くしたほうが良いが、柱
状結晶7が長くなると、柱状結晶7内で発光した蛍光の
屈折回数が増加し、柱状結晶7の側面から他の柱状結晶
7に伝播する蛍光の量が増加し、解像度を低下させる。
には、蛍光体の柱状結晶7を長くしたほうが良いが、柱
状結晶7が長くなると、柱状結晶7内で発光した蛍光の
屈折回数が増加し、柱状結晶7の側面から他の柱状結晶
7に伝播する蛍光の量が増加し、解像度を低下させる。
そのため、柱状結晶7の長さをあまり長くすることはで
きず、400μm程度が限度である。
きず、400μm程度が限度である。
すなわち、これらの柱状結晶7は球面状の基板6内側に
向いているため、周辺部では、X線管1から放射された
X線が複数の柱状結晶7を斜めに横切ることになり、周
辺部における解像度が中央部における解像度よりも悪く
なるからである。
向いているため、周辺部では、X線管1から放射された
X線が複数の柱状結晶7を斜めに横切ることになり、周
辺部における解像度が中央部における解像度よりも悪く
なるからである。
これを防止して、周辺部における解像度を改善するには
、周辺部における柱状結晶7の太さを中央部における柱
状結晶7の太さよりも細くし、これによって、周辺部に
おける蛍光の基板6の接線方向の伝播係数を実質的に低
下させることが考えられる。
、周辺部における柱状結晶7の太さを中央部における柱
状結晶7の太さよりも細くし、これによって、周辺部に
おける蛍光の基板6の接線方向の伝播係数を実質的に低
下させることが考えられる。
しかしながら、このようにすると、蛍光体層8上の光電
面10の感度は周辺部において極端に悪くなり、周辺部
における輝度が低下する。これは、周辺部における柱状
結晶7の太さを細くしたために、蛍光体層8の表面に隙
間が多くなり、表面の連続性が損なわれる結果、その上
に形成される光電面10を構成するアルカリ金属が隙間
を介して蛍光体層8に拡散移動して消失するためと考え
られる。
面10の感度は周辺部において極端に悪くなり、周辺部
における輝度が低下する。これは、周辺部における柱状
結晶7の太さを細くしたために、蛍光体層8の表面に隙
間が多くなり、表面の連続性が損なわれる結果、その上
に形成される光電面10を構成するアルカリ金属が隙間
を介して蛍光体層8に拡散移動して消失するためと考え
られる。
なお、中央部と周辺部における輝度の一様性を得るため
に、中央部から周辺部に向かって、柱状結晶7の太さを
太くするという内容の発明(特願昭63−56231号
)が、先に、同一出願人によって成されているが、この
発明は、輝度の一様性を得るために、周辺部の解像度を
犠牲にするものであった。
に、中央部から周辺部に向かって、柱状結晶7の太さを
太くするという内容の発明(特願昭63−56231号
)が、先に、同一出願人によって成されているが、この
発明は、輝度の一様性を得るために、周辺部の解像度を
犠牲にするものであった。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、周辺部
における解像度の低下と周辺部における輝度の低下が少
ないX線イメージ管を提供しようとするものである。
における解像度の低下と周辺部における輝度の低下が少
ないX線イメージ管を提供しようとするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、真空外囲器の一端部に設けられた入力面によ
りX線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入
力面に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面
により可視光線に変換するX線イメージ管で、入力面に
、基板と、この基板上に形成された多数の蛍光体の柱状
結晶を有する蛍光体層と、この蛍光体層上に直接的また
は間接的に形成された光電面とを備えたものにおいて、
入力面の周辺部の柱状結晶を中央部の柱状結晶よりも細
く形成し、入力面の隣接した柱状結晶の頭頂部を密に互
いに連結させたものである。
りX線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入
力面に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面
により可視光線に変換するX線イメージ管で、入力面に
、基板と、この基板上に形成された多数の蛍光体の柱状
結晶を有する蛍光体層と、この蛍光体層上に直接的また
は間接的に形成された光電面とを備えたものにおいて、
入力面の周辺部の柱状結晶を中央部の柱状結晶よりも細
く形成し、入力面の隣接した柱状結晶の頭頂部を密に互
いに連結させたものである。
(作用)
本発明のX線イメージ管は、被写体観察システムに使用
した場合、X線管から放射されて被写体を通過したX線
が入力面に到達すると、蛍光体層がX線により発光し、
この蛍光により光電面が光電子を発生し、この光電子線
が出方面に到達すると、出力面が光電子により発光する
。
した場合、X線管から放射されて被写体を通過したX線
が入力面に到達すると、蛍光体層がX線により発光し、
この蛍光により光電面が光電子を発生し、この光電子線
が出方面に到達すると、出力面が光電子により発光する
。
そして、上記入力面の蛍光体層は、十分な長さの蛍光体
の柱状結晶を有し、その太さを入力面の周辺部において
中央部より細くしであるので、入射したX線は周辺部に
おいて中央部よりも多くの柱状結晶を横切ることになる
が、周辺部では、発光した蛍光が、同一の横方向距離を
伝播するのに、中央部よりも多くの柱状結晶を横切るこ
とが必要になり、個々の柱状結晶外側の境界面で蛍光の
反射と減衰が起こることから、蛍光の横方向の伝播は、
中央部よりも少なくなる。
の柱状結晶を有し、その太さを入力面の周辺部において
中央部より細くしであるので、入射したX線は周辺部に
おいて中央部よりも多くの柱状結晶を横切ることになる
が、周辺部では、発光した蛍光が、同一の横方向距離を
伝播するのに、中央部よりも多くの柱状結晶を横切るこ
とが必要になり、個々の柱状結晶外側の境界面で蛍光の
反射と減衰が起こることから、蛍光の横方向の伝播は、
中央部よりも少なくなる。
したがって、入力面の周辺部において、同じ方向からの
X線が多(の柱状結晶を横切って発光させたとしても、
個々の柱状結晶で発光した蛍光の横方向の伝播が少ない
ことから、解像度の低下は防止でき、中央部と周辺部で
実質的に同等の空間解像度を得ることができる。
X線が多(の柱状結晶を横切って発光させたとしても、
個々の柱状結晶で発光した蛍光の横方向の伝播が少ない
ことから、解像度の低下は防止でき、中央部と周辺部で
実質的に同等の空間解像度を得ることができる。
さらに、入力面の多数の蛍光体の柱状結晶の上面が実質
的に連続しているので、その上に直接的または間接的に
形成される光電面を構成するアルカリ金属が蛍光体層に
拡散移動して消失するのを阻止することがで、き、光電
面が安定するため、光電面の感度低下つまり輝度低下が
押さえられる。
的に連続しているので、その上に直接的または間接的に
形成される光電面を構成するアルカリ金属が蛍光体層に
拡散移動して消失するのを阻止することがで、き、光電
面が安定するため、光電面の感度低下つまり輝度低下が
押さえられる。
(実施例)
本発明のX線イメージ管の一実施例を第1図ないし第1
0図を参照して説明する。
0図を参照して説明する。
第10図はX線イメージ管の断面を示し、21は真空外
囲器で、この真空外囲器21は、X線を透過する球面状
の金属から成る入力窓22と、この入力窓22の外周に
その一端部を気密に封着された金属から成る円筒状の胴
部23と、この胴部23の他端部にその一端部を気密に
封着されたコバールから成る漏斗状の封着部材24と、
この封着部材24の他端部に気密に封着されたガラスか
ら成る出力窓25とで構成されている。
囲器で、この真空外囲器21は、X線を透過する球面状
の金属から成る入力窓22と、この入力窓22の外周に
その一端部を気密に封着された金属から成る円筒状の胴
部23と、この胴部23の他端部にその一端部を気密に
封着されたコバールから成る漏斗状の封着部材24と、
この封着部材24の他端部に気密に封着されたガラスか
ら成る出力窓25とで構成されている。
そして、上記入力窓22の内側に蛍光体層と光電面を備
えた入力面26が設けられ、この入力面26に対向して
上記出力窓25の内側に蛍光体層を備えた出力面27が
形成され、この出力面27の内側に位置して上記封着部
材24の内側に陽極28が設けられ、さらに、上記胴部
23の内側に集束電極29が設けられている。
えた入力面26が設けられ、この入力面26に対向して
上記出力窓25の内側に蛍光体層を備えた出力面27が
形成され、この出力面27の内側に位置して上記封着部
材24の内側に陽極28が設けられ、さらに、上記胴部
23の内側に集束電極29が設けられている。
そうして、このX線イメージ管では、入力窓22に入射
したX線像が、入力面26において、蛍光体層を発光さ
せ、この蛍光により光電面が光電子を発生して、光電子
像に変換され、この光電子像は、陽極28と集束電極2
9により加速・集束されて出力面27に到達し、蛍光体
層により高輝度の可視光像に変換される。
したX線像が、入力面26において、蛍光体層を発光さ
せ、この蛍光により光電面が光電子を発生して、光電子
像に変換され、この光電子像は、陽極28と集束電極2
9により加速・集束されて出力面27に到達し、蛍光体
層により高輝度の可視光像に変換される。
第1図は上記入力面26の構造の概要を示すもので、入
力面26は、たとえば薄いアルミニウム等から成る球面
状の基板31の内面側つまり凹面側にたとえばCsI:
Na(ナトリウム付活よう化セシウム)蛍光体から成る
多数の柱状結晶32を形成してあり、この多数の柱状結
晶32を含む蛍光体層33の内面側つまり表面側にたと
えばK 2 Cs S bあるいはに2NaSbの層か
ら成る光電面34を形成したものであり、蛍光体層33
を構成する個々の柱状結晶32の太さは、入力面26の
中央部(矢印C部)から周辺部(矢印E部)に向かって
しだいに細くなっている。
力面26は、たとえば薄いアルミニウム等から成る球面
状の基板31の内面側つまり凹面側にたとえばCsI:
Na(ナトリウム付活よう化セシウム)蛍光体から成る
多数の柱状結晶32を形成してあり、この多数の柱状結
晶32を含む蛍光体層33の内面側つまり表面側にたと
えばK 2 Cs S bあるいはに2NaSbの層か
ら成る光電面34を形成したものであり、蛍光体層33
を構成する個々の柱状結晶32の太さは、入力面26の
中央部(矢印C部)から周辺部(矢印E部)に向かって
しだいに細くなっている。
第2図及び第3図は入力面26の中央部(第1図矢印C
部)及び周辺部(第1図矢印E部)の構造の詳細を示す
もので、隣接した蛍光体の柱状結晶32の間には、個々
の柱状結晶32を光学的に分離するのに必要な幅Gのギ
ャップ41が有り、それぞれの柱状結晶32の基板31
と反対側の頭頂部42を他の部分よりも径大となるよう
に変形して幅を広げることにより、隣接した柱状結晶3
2の頭頂部42を互いに密着連結させて、多数の柱状結
晶32の頭頂部42を連続させ、これによって、入力面
26の多数の蛍光体の柱状結晶32の上面を実質的に連
続した連続面に加工してあり、この連続面の上に、柱状
結晶32とともに蛍光体層33を構成するCsI:Na
蛍光体あるいはCsI蛍光体から成る表層43を形成し
、さらに、この蛍光体の表層43の上に酸化インジウム
等から成る導電性の保護膜44を形成し、この保護膜4
4の上に上記光電面34を形成した構造となっている。
部)及び周辺部(第1図矢印E部)の構造の詳細を示す
もので、隣接した蛍光体の柱状結晶32の間には、個々
の柱状結晶32を光学的に分離するのに必要な幅Gのギ
ャップ41が有り、それぞれの柱状結晶32の基板31
と反対側の頭頂部42を他の部分よりも径大となるよう
に変形して幅を広げることにより、隣接した柱状結晶3
2の頭頂部42を互いに密着連結させて、多数の柱状結
晶32の頭頂部42を連続させ、これによって、入力面
26の多数の蛍光体の柱状結晶32の上面を実質的に連
続した連続面に加工してあり、この連続面の上に、柱状
結晶32とともに蛍光体層33を構成するCsI:Na
蛍光体あるいはCsI蛍光体から成る表層43を形成し
、さらに、この蛍光体の表層43の上に酸化インジウム
等から成る導電性の保護膜44を形成し、この保護膜4
4の上に上記光電面34を形成した構造となっている。
そして、多数の柱状結晶32の頭頂部42を連続面にす
る方法としては、蒸着により形成した多数の柱状結晶3
2の上に多数のステンレス等の金属小球を乗せて水平方
向に振動させるタンプリング法によって、この実施例の
ように、柱状結晶32の頭頂部42を径大となるように
変形して幅を広げる方法の他、基板31を回転させなが
ら、柱状結晶32の頭頂部42に研磨部材を当接して、
柱状結晶32の頭頂部42を研磨部材で水平方向に擦る
研磨法によって、隣接した柱状結晶32の頭頂部42間
のギャップ41を埋める方法が有るが、いずれの場合も
、柱状結晶32の長さ方向に加わる力を小さく制限して
、ギャップ41の無い部分の深さつまり光電面34の表
面から柱状結晶32の変形した部分までの深さり。
る方法としては、蒸着により形成した多数の柱状結晶3
2の上に多数のステンレス等の金属小球を乗せて水平方
向に振動させるタンプリング法によって、この実施例の
ように、柱状結晶32の頭頂部42を径大となるように
変形して幅を広げる方法の他、基板31を回転させなが
ら、柱状結晶32の頭頂部42に研磨部材を当接して、
柱状結晶32の頭頂部42を研磨部材で水平方向に擦る
研磨法によって、隣接した柱状結晶32の頭頂部42間
のギャップ41を埋める方法が有るが、いずれの場合も
、柱状結晶32の長さ方向に加わる力を小さく制限して
、ギャップ41の無い部分の深さつまり光電面34の表
面から柱状結晶32の変形した部分までの深さり。
を10μm程度以下とし、その光学的特性を損なわない
ようにする。
ようにする。
このように、蛍光体の多数の柱状結晶32の頭頂部42
は、水平方向に外力を加えることによって、平坦化して
いるため、表面が平らになるように水平方向に引伸ばさ
れており、隣接した柱状結晶32の頭頂部42の間にあ
ったピンホール的な隙間は極端に少ないか、皆無に等し
くなっている。
は、水平方向に外力を加えることによって、平坦化して
いるため、表面が平らになるように水平方向に引伸ばさ
れており、隣接した柱状結晶32の頭頂部42の間にあ
ったピンホール的な隙間は極端に少ないか、皆無に等し
くなっている。
したがって、この上に高真空蒸着によって連続性を有す
る蛍光体の表層43を形成することにより、表層43の
表面はさらに連続性及び緻密性が向上し、ピンホールが
さらに少くなる。
る蛍光体の表層43を形成することにより、表層43の
表面はさらに連続性及び緻密性が向上し、ピンホールが
さらに少くなる。
このため、蛍光体の表層43の上に保護膜44を介して
形成される光電面34は、連続緻密な保護膜44によっ
て蛍光体層33の表層43及び柱状結晶32と物理的に
分離されているため安定であり、光電面34を構成する
に、Cs5Naが蛍光体層33に拡散移動して消失する
ことがないので、光電面34の感度は、低下せず、最適
な構造によって高い値に保たれる。
形成される光電面34は、連続緻密な保護膜44によっ
て蛍光体層33の表層43及び柱状結晶32と物理的に
分離されているため安定であり、光電面34を構成する
に、Cs5Naが蛍光体層33に拡散移動して消失する
ことがないので、光電面34の感度は、低下せず、最適
な構造によって高い値に保たれる。
上述したように、入力面26の中央部と周辺部では、柱
状結晶32の太さが次第に変化していること以外は、は
ぼ同等であるが、蛍光体層33による解像度を上げる目
的で、表層43を薄ぐした場合や表層43を形成しない
場合、光電面34に電気抵抗の小さい材料を用いること
によって、保護膜44を形成しない場合等には、光電面
34に対するピンホールがある程度束じる。
状結晶32の太さが次第に変化していること以外は、は
ぼ同等であるが、蛍光体層33による解像度を上げる目
的で、表層43を薄ぐした場合や表層43を形成しない
場合、光電面34に電気抵抗の小さい材料を用いること
によって、保護膜44を形成しない場合等には、光電面
34に対するピンホールがある程度束じる。
このピンホールの数は、単位面積に対して、ギャップ4
1の数つまり柱状結晶32の数と相関関係があり、入力
面26の周辺部で多くなる傾向にあるので、この影響を
排除するために、場合によっては、周辺部における柱状
結晶32の変形の程度を高めることも行なわれる。
1の数つまり柱状結晶32の数と相関関係があり、入力
面26の周辺部で多くなる傾向にあるので、この影響を
排除するために、場合によっては、周辺部における柱状
結晶32の変形の程度を高めることも行なわれる。
これらのことについて、第2図及び第3図の各部の寸法
の関係を式に示す。
の関係を式に示す。
柱状結晶32の平均的なピッチをWl、柱状結晶32の
平均的な外径をW2、 光電面34の表面から柱状結晶32の変形した部分まで
の深さつまりギャップ41の無い部分の平均的な深さを
Dl、 柱状結晶32のギャップ41の有る部分の平均的な深さ
をD2、 ギャップ41の平均的な幅をG として、入力面26の中央部を01周辺部をeとすると
、 W2 (c)>、w2 (e) D+(C) ≦D+(c) G (c) #G (e) W2 (e) /W+ (e) <W2 (e)
/W+ (c)となる。
平均的な外径をW2、 光電面34の表面から柱状結晶32の変形した部分まで
の深さつまりギャップ41の無い部分の平均的な深さを
Dl、 柱状結晶32のギャップ41の有る部分の平均的な深さ
をD2、 ギャップ41の平均的な幅をG として、入力面26の中央部を01周辺部をeとすると
、 W2 (c)>、w2 (e) D+(C) ≦D+(c) G (c) #G (e) W2 (e) /W+ (e) <W2 (e)
/W+ (c)となる。
また、この関係を示したのが、第4図及び第5図である
。
。
そうして、第3図に示したように、柱状結晶32か細く
なると、従来のように頭頂部42に加工を行なわない場
合には、頭頂部42間にでるギャップ41は、単位面積
当たりで多くなり、その上に形成した保護膜44にでき
るピンホールの数が多くなり、その上に形成した光電面
34を構成するに、Cs。
なると、従来のように頭頂部42に加工を行なわない場
合には、頭頂部42間にでるギャップ41は、単位面積
当たりで多くなり、その上に形成した保護膜44にでき
るピンホールの数が多くなり、その上に形成した光電面
34を構成するに、Cs。
Na等のアルカリ金属が蛍光体層33に拡散移動して消
失すること等により、光電面34の感度が低下していた
。
失すること等により、光電面34の感度が低下していた
。
しかしながら、本発明では、多数の柱状結晶32の頭頂
部42の上面を、加工により平坦化させ、実質的に連続
緻密な連続面としているので、光電面34を構成するに
、Cs5Na等のアルカリ金属が蛍光体層33に拡散移
動して消失することがなく、光電面34の感度が低下せ
ず、この結果、高輝度で安定な光電面34を作ることが
できた。
部42の上面を、加工により平坦化させ、実質的に連続
緻密な連続面としているので、光電面34を構成するに
、Cs5Na等のアルカリ金属が蛍光体層33に拡散移
動して消失することがなく、光電面34の感度が低下せ
ず、この結果、高輝度で安定な光電面34を作ることが
できた。
つぎに、解像度について説明する。
第1図に示した入力面26の中央部(矢印C部)に入射
したX線は、第6図に示すように、蛍光体の柱状結晶3
2にほぼ平行に入射し、その一部は、入射側から浅い位
置P1で吸収されて蛍光を発生する。
したX線は、第6図に示すように、蛍光体の柱状結晶3
2にほぼ平行に入射し、その一部は、入射側から浅い位
置P1で吸収されて蛍光を発生する。
この位置で発生した蛍光は、反射と透過を繰返しながら
、光電面34に到達する。この光の広がりを表わす線像
強度分布(line 5pread Ianction
。
、光電面34に到達する。この光の広がりを表わす線像
強度分布(line 5pread Ianction
。
LSF)を第7図にLSF (c、1)で示す。
同様に、さらに深い位置P2、P3、で発生した蛍光の
線像強度分布を第7図にLSF (c。
線像強度分布を第7図にLSF (c。
2) 、LSF (c、3)で示す。
これらの強度は、X線の吸収による発光の減少、光の減
衰による減少等によって、深さの関数となっている。こ
れらのLSFを深さ方向に積分することにより、総合し
た線像強度分布LSF(c)が求められる。
衰による減少等によって、深さの関数となっている。こ
れらのLSFを深さ方向に積分することにより、総合し
た線像強度分布LSF(c)が求められる。
仮に、入力面26の中央部(第1図矢印C部)入射した
X線が、入力面26の周辺部(矢印E部)に入射したX
線と同様に、柱状結晶32を横切るように傾斜して入射
した場合には、発光位置P1、P2、P3が横方向に移
動したのと等価となり、LSF (c、1) 、LSF
(c、2) 、LSF(c、3)を横にずらせて合成
した総合の線像強度分布LSF” (C)は幅が広くな
り、換言すると、解像度が低下する。
X線が、入力面26の周辺部(矢印E部)に入射したX
線と同様に、柱状結晶32を横切るように傾斜して入射
した場合には、発光位置P1、P2、P3が横方向に移
動したのと等価となり、LSF (c、1) 、LSF
(c、2) 、LSF(c、3)を横にずらせて合成
した総合の線像強度分布LSF” (C)は幅が広くな
り、換言すると、解像度が低下する。
このような現象は、X線が柱状結晶32を横切るように
傾斜して入射する入力面26の周辺部(矢印E部)では
従来避けることができなかった。
傾斜して入射する入力面26の周辺部(矢印E部)では
従来避けることができなかった。
しかしながら、本発明では、入力面26の周辺部(矢印
E部)の柱状結晶32の太さを細くすることによって、
解像度の低下をなくしている。この様子を第8図及び第
9図で説明する。
E部)の柱状結晶32の太さを細くすることによって、
解像度の低下をなくしている。この様子を第8図及び第
9図で説明する。
第8図に示すように、入力面26の周辺部(矢印E部)
に傾斜角をもって入射したX線は、入射側から浅い位置
P1で一部が吸収されて蛍光を発生する。
に傾斜角をもって入射したX線は、入射側から浅い位置
P1で一部が吸収されて蛍光を発生する。
この位置で発生した蛍光は、多数の隣接した柱状結晶3
2で反射と透過中の減衰を多数回受けながら横方向に広
がり、光電面34に到達するが、柱状結晶32か細いの
で、この際の単位距離当りの反射回数は第6図に示した
入力面26の中央部の場合よりも多くなる。
2で反射と透過中の減衰を多数回受けながら横方向に広
がり、光電面34に到達するが、柱状結晶32か細いの
で、この際の単位距離当りの反射回数は第6図に示した
入力面26の中央部の場合よりも多くなる。
このため、等価的な横方向の伝播範囲が狭くなり、第9
図に示すように、入力面26の周辺部(矢印E部)にお
ける位tJli p +で発光した蛍光による線像強度
分布LSF (e、1)は、第7図に示した入力面26
の中央部の場合のLSF (c、1)よりも狭くなる。
図に示すように、入力面26の周辺部(矢印E部)にお
ける位tJli p +で発光した蛍光による線像強度
分布LSF (e、1)は、第7図に示した入力面26
の中央部の場合のLSF (c、1)よりも狭くなる。
入力面26の周辺部(矢印E部)ではX線は斜めに入射
するため、残りのX線は一部減衰して位置P2に到達し
て蛍光を発生する。この位置P2で発光した蛍光による
線像強度分布は、上記と同様に、LSF (e、2)と
なる。以後、同様のことを繰返して、位置P、、P4で
発生した蛍光の線像強度分布はLSF (e、3) 、
LSF (e。
するため、残りのX線は一部減衰して位置P2に到達し
て蛍光を発生する。この位置P2で発光した蛍光による
線像強度分布は、上記と同様に、LSF (e、2)と
なる。以後、同様のことを繰返して、位置P、、P4で
発生した蛍光の線像強度分布はLSF (e、3) 、
LSF (e。
4)となり、これらを合成して総合の線像強度分布LS
F (e)を得る。
F (e)を得る。
このように、入力面26の周辺部(矢印E部)では、柱
状結晶32か細く、各位置P1、P2、P3、P4で発
光した蛍光による線像強度分布しSFが狭いため、各位
置PISP2、Pl、P4で発光した蛍光による線像強
度分布LSFは幅方向にずれるが、入力面26の周辺部
(矢印E部)における総合の線像強度分布LSF (e
)は、入力面26の中央部(矢印C部)における総合の
線像強度分布LSF (c)と同等あるいはそれよりも
狭くなる。
状結晶32か細く、各位置P1、P2、P3、P4で発
光した蛍光による線像強度分布しSFが狭いため、各位
置PISP2、Pl、P4で発光した蛍光による線像強
度分布LSFは幅方向にずれるが、入力面26の周辺部
(矢印E部)における総合の線像強度分布LSF (e
)は、入力面26の中央部(矢印C部)における総合の
線像強度分布LSF (c)と同等あるいはそれよりも
狭くなる。
したがって、本発明によると、入力面26の周辺部(矢
印E部)ではX線が斜めに入射するにもかかわらず、解
像度が低下することにはならず、X線イメージ管の中央
部と周辺部の解像度に差がでない。
印E部)ではX線が斜めに入射するにもかかわらず、解
像度が低下することにはならず、X線イメージ管の中央
部と周辺部の解像度に差がでない。
なお、上述したように、周辺部の柱状結晶32の平均的
な外形W2(e)と中央部の柱状結晶32の平均的な外
形Wz(c)の関係を、W2 (e) <w2(C)と
するためには、たとえばCsI:Na蛍光体を蒸着して
柱状結晶32を形成する際に、基板31の温度を中央部
と周辺部で変えることによって達成することができる。
な外形W2(e)と中央部の柱状結晶32の平均的な外
形Wz(c)の関係を、W2 (e) <w2(C)と
するためには、たとえばCsI:Na蛍光体を蒸着して
柱状結晶32を形成する際に、基板31の温度を中央部
と周辺部で変えることによって達成することができる。
そうして、従来のように、この様にして太さを変えた柱
状結晶32をそのままの状態で蛍光体層33に用いただ
けでは、先に説明したように、その表面の周辺部では、
中央部よりも、狭い間隔で微小なピンホールが生じ、そ
の上に形成した光電面34を構成するアルカリ金属が蛍
光体層33内に拡散してしまい、最適構成の光電面34
でなくなるため、光電感度が低下し、結果として、周辺
部の輝度が、中央部の輝度よりも低くなるいわゆるシェ
ーディングが大きくなる。
状結晶32をそのままの状態で蛍光体層33に用いただ
けでは、先に説明したように、その表面の周辺部では、
中央部よりも、狭い間隔で微小なピンホールが生じ、そ
の上に形成した光電面34を構成するアルカリ金属が蛍
光体層33内に拡散してしまい、最適構成の光電面34
でなくなるため、光電感度が低下し、結果として、周辺
部の輝度が、中央部の輝度よりも低くなるいわゆるシェ
ーディングが大きくなる。
上述したように、本発明によれば、入力面の周辺部にお
ける解像度と輝度の両方の低下が少なく、中央部と周辺
部の解像度及び輝度が均一なX線イメージ管を提供する
ことができる。
ける解像度と輝度の両方の低下が少なく、中央部と周辺
部の解像度及び輝度が均一なX線イメージ管を提供する
ことができる。
第1図ないし第10図は本発明のX線イメージ管の一実
施例を示し、第1図はその入力面の構造の概要図、第2
図及び第3図は入力面の中央部及び周辺部の構造の詳細
図、第4図及び第5図はその構造寸法の違いを示す図、
第6図は入力面の中央部の動作状態の説明図、第7図は
その線像強度分布を示す図、第8図は入力面の周辺部の
動作状態の説明図、第9図はその線像強度分布を示す図
、第10図はX線イメージ管の構造図であり、第111
図はX線イメージ管の一般的な使用状態の説明図、第1
2図は従来のX線イメージ管の入力面の構造の概要図あ
る。 21・・真空外囲器、26・・入力綿、27・・出力面
、31・・基板、32・・柱状結晶、33・・蛍光体層
、34・・光電面、42・・頭頂部。 S阜及 ]1(耽
施例を示し、第1図はその入力面の構造の概要図、第2
図及び第3図は入力面の中央部及び周辺部の構造の詳細
図、第4図及び第5図はその構造寸法の違いを示す図、
第6図は入力面の中央部の動作状態の説明図、第7図は
その線像強度分布を示す図、第8図は入力面の周辺部の
動作状態の説明図、第9図はその線像強度分布を示す図
、第10図はX線イメージ管の構造図であり、第111
図はX線イメージ管の一般的な使用状態の説明図、第1
2図は従来のX線イメージ管の入力面の構造の概要図あ
る。 21・・真空外囲器、26・・入力綿、27・・出力面
、31・・基板、32・・柱状結晶、33・・蛍光体層
、34・・光電面、42・・頭頂部。 S阜及 ]1(耽
Claims (1)
- (1)真空外囲器の一端部に設けられた入力面によりX
線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入力面
に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面によ
り可視光線に変換するX線イメージ管において、 上記入力面は、基板と、この基板上に形成された多数の
蛍光体の柱状結晶を有する蛍光体層と、この蛍光体層上
に直接的または間接的に形成された光電面とを備え、 上記入力面の周辺部の柱状結晶を中央部の柱状結晶より
も細く形成し、 上記入力面の隣接した柱状結晶の頭頂部を密に互いに連
結させたことを特徴とするX線イメージ管。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1129842A JP2758206B2 (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | X線イメージ管 |
DE69015436T DE69015436T2 (de) | 1989-05-23 | 1990-05-17 | Röntgenbildverstärker. |
EP90109376A EP0399378B1 (en) | 1989-05-23 | 1990-05-17 | X-ray image intensifier |
CN90103851A CN1019622B (zh) | 1989-05-23 | 1990-05-21 | X射线图象管 |
US07/526,907 US5045682A (en) | 1989-05-23 | 1990-05-22 | X-ray image intensifier having columnar crystals having a cross section decrease as it goes towards the edge |
KR1019900007564A KR930001851B1 (ko) | 1989-05-23 | 1990-05-22 | X선 이미지관 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02309535A true JPH02309535A (ja) | 1990-12-25 |
JP2758206B2 JP2758206B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=15019585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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KR (1) | KR930001851B1 (ja) |
CN (1) | CN1019622B (ja) |
DE (1) | DE69015436T2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
FR2666447B1 (fr) * | 1990-08-31 | 1996-08-14 | Thomson Tubes Electroniques | Tube intensificateur d'image avec compensation de courbe de brillance. |
JPH09180658A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-07-11 | Toshiba Corp | X線イメージ管 |
EP0869533B1 (en) * | 1996-09-18 | 2003-11-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | X-ray image tube and method for manufacturing the same |
JP2004233067A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-08-19 | Konica Minolta Holdings Inc | 放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2545270B1 (fr) * | 1983-04-29 | 1985-12-27 | Thomson Csf | Intensificateur d'images radiologiques et application a un systeme de radiologie numerique |
JPH0754675B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1995-06-07 | 株式会社東芝 | X線イメ−ジインテンシフアイア |
EP0240951B1 (en) * | 1986-04-04 | 1991-11-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | X-ray image intensifier |
JP2815881B2 (ja) * | 1988-03-04 | 1998-10-27 | 株式会社東芝 | X線イメージ管の製造方法 |
-
1989
- 1989-05-23 JP JP1129842A patent/JP2758206B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-05-17 DE DE69015436T patent/DE69015436T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-17 EP EP90109376A patent/EP0399378B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-21 CN CN90103851A patent/CN1019622B/zh not_active Expired
- 1990-05-22 US US07/526,907 patent/US5045682A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-22 KR KR1019900007564A patent/KR930001851B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0399378A2 (en) | 1990-11-28 |
DE69015436T2 (de) | 1995-05-18 |
US5045682A (en) | 1991-09-03 |
DE69015436D1 (de) | 1995-02-09 |
JP2758206B2 (ja) | 1998-05-28 |
KR900019118A (ko) | 1990-12-24 |
CN1047588A (zh) | 1990-12-05 |
KR930001851B1 (ko) | 1993-03-15 |
EP0399378B1 (en) | 1994-12-28 |
EP0399378A3 (en) | 1993-02-03 |
CN1019622B (zh) | 1992-12-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |