JPH02273955A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH02273955A JPH02273955A JP1096111A JP9611189A JPH02273955A JP H02273955 A JPH02273955 A JP H02273955A JP 1096111 A JP1096111 A JP 1096111A JP 9611189 A JP9611189 A JP 9611189A JP H02273955 A JPH02273955 A JP H02273955A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive tape
- semiconductor
- semiconductor wafer
- tape
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68318—Auxiliary support including means facilitating the separation of a device or wafer from the auxiliary support
- H01L2221/68322—Auxiliary support including means facilitating the selective separation of some of a plurality of devices from the auxiliary support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体装置の製造方法に関し、
半導体ウェーハの微小破砕片により半導体チップ表面の
配線パターンの短絡を防止可能な半導体装置の製造方法
の提供を目的とし、 加熱により粘着性のでる熱可塑性粘着材を可撓性のテー
プの片面に塗布して形成し・た粘着テープを加熱し、半
導体ウェーハを前記熱可塑性粘着材を介して粘着テープ
に貼着する工程と、前記半導体ウェーハ表面から切り込
んで、該半導体ウェーハに形成された半導体チップがそ
れぞれ分離可能な状態に該半導体ウェーハを切断すると
ともに、前記粘着テープも該粘着テープの厚さ方向に一
部未切断部を残して切り込みする工程と、前記粘着テー
プを加熱して、前記半導体チップを該粘着テープから剥
離する工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置
の製造方法で構成する。
配線パターンの短絡を防止可能な半導体装置の製造方法
の提供を目的とし、 加熱により粘着性のでる熱可塑性粘着材を可撓性のテー
プの片面に塗布して形成し・た粘着テープを加熱し、半
導体ウェーハを前記熱可塑性粘着材を介して粘着テープ
に貼着する工程と、前記半導体ウェーハ表面から切り込
んで、該半導体ウェーハに形成された半導体チップがそ
れぞれ分離可能な状態に該半導体ウェーハを切断すると
ともに、前記粘着テープも該粘着テープの厚さ方向に一
部未切断部を残して切り込みする工程と、前記粘着テー
プを加熱して、前記半導体チップを該粘着テープから剥
離する工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置
の製造方法で構成する。
本発明は、半導体ウェーハの微小破砕片により半導体チ
ップ表面の配線パターンの短絡を防止可能な半導体装置
の製造方法に関する。
ップ表面の配線パターンの短絡を防止可能な半導体装置
の製造方法に関する。
近年、半導体チップに形成した電子回路の高集積化に伴
い、半導体チップ表面の配線パターン幅や配線パターン
間距離がサブミクロン程度の非常に微細なものになって
きている。
い、半導体チップ表面の配線パターン幅や配線パターン
間距離がサブミクロン程度の非常に微細なものになって
きている。
従って、半導体ウェーハ等を扱うクリーンルーム内のク
リーン度の改善は熱論、半導体ウェーハ自身からの微小
破砕片の発生を抑え、半導体チップ表面の配線パターン
が微小破砕片等で短絡することの防止が益々重要な課題
となってきている。
リーン度の改善は熱論、半導体ウェーハ自身からの微小
破砕片の発生を抑え、半導体チップ表面の配線パターン
が微小破砕片等で短絡することの防止が益々重要な課題
となってきている。
半導体ウェーハを粘着テープに貼着し、半導体ウェーハ
を切断し、そして半導体チップを粘着テープから剥離す
る従来の方法を説明する。
を切断し、そして半導体チップを粘着テープから剥離す
る従来の方法を説明する。
第2図は、従来の製造方法を説明するための工程順側断
面図である。
面図である。
尚、同じ部品・材料に対しては全図を通して同じ記号を
付与しである。
付与しである。
図において、■は粘着テープで、可撓性を有するテープ
la(例えば、厚さ70μmのポリエチレン製のテープ
)の片面に粘着材1b (例えば、アクリル系の粘着材
)を20μm程度の厚さで塗布して形成したものである
。
la(例えば、厚さ70μmのポリエチレン製のテープ
)の片面に粘着材1b (例えば、アクリル系の粘着材
)を20μm程度の厚さで塗布して形成したものである
。
2はウェーハフレーム(以下、フレームと呼称する)で
、厚さ1mm程度の金属板(例えば、ステンレス鋼板)
の中心部に半導体ウェーハ3より大きな開口部2aを設
けて形成したものである。
、厚さ1mm程度の金属板(例えば、ステンレス鋼板)
の中心部に半導体ウェーハ3より大きな開口部2aを設
けて形成したものである。
5は突上治具で、少なくとも3本以上の針状ピンの先端
を揃えて構成したものである。
を揃えて構成したものである。
6はウェーハ保持台で、フレーム2の裏面2bの外側面
を支持するものである。
を支持するものである。
7はチップ用真空チャックで、金属棒の中心部に設けた
減圧部7aが図示してない真空装置に接続し該減圧部7
aの減圧により半導体チップ4を該減圧部7aの先端に
真空吸着可能に形成されている。
減圧部7aが図示してない真空装置に接続し該減圧部7
aの減圧により半導体チップ4を該減圧部7aの先端に
真空吸着可能に形成されている。
次に、従来の製造方法、すなわち半導体ウェーハ3の粘
着テープ1への貼着から該粘着テープ1から半導体ウェ
ーハ3に形成した半導体チップ4を剥離して、例えば該
半導体チップ4をチップトレイに収納するまでを説明す
る。
着テープ1への貼着から該粘着テープ1から半導体ウェ
ーハ3に形成した半導体チップ4を剥離して、例えば該
半導体チップ4をチップトレイに収納するまでを説明す
る。
先ず、フレーム2の開口部2aを張膜した粘着テープ1
に、ウェーハエ程の完了した半導体ウェーハ3の裏面を
貼着する(同図(a)参照)。
に、ウェーハエ程の完了した半導体ウェーハ3の裏面を
貼着する(同図(a)参照)。
そして、半導体ウェーハ3の切断は、始めに半導体ウェ
ーハ3を貼着した粘着テープ1のテープ1aが半導体ウ
ェーハ切断用のグイシングツ−の真空吸着板8表面と対
面するようにして、フレーム2を前記真空吸着板8上に
載置した後、粘着テープ面を真空吸着して確りと半導体
ウェーハを該真空吸着板に固定する。
ーハ3を貼着した粘着テープ1のテープ1aが半導体ウ
ェーハ切断用のグイシングツ−の真空吸着板8表面と対
面するようにして、フレーム2を前記真空吸着板8上に
載置した後、粘着テープ面を真空吸着して確りと半導体
ウェーハを該真空吸着板に固定する。
次いで、高速で回転しているダイシングソーの回転カッ
ター9により半導体ウェーハの半導体チップ4間部分を
十文字状に切断する。
ター9により半導体ウェーハの半導体チップ4間部分を
十文字状に切断する。
尚、この切断においては、半導体ウェーハは完全に切断
されるが、粘着テープ1は厚さ方向に未切断部分が残さ
れている(同図(b)参照)。
されるが、粘着テープ1は厚さ方向に未切断部分が残さ
れている(同図(b)参照)。
次に、上記切断によりそれぞれが分離状態になって粘着
テープ1に貼着されている半導体チップ4を剥離する方
法を説明する。
テープ1に貼着されている半導体チップ4を剥離する方
法を説明する。
先ず、半導体チップ4表面を上方に向けて、フレーム2
をウェーハフレーム保持台6に固定した後、突上治具5
を垂直に上昇させる。
をウェーハフレーム保持台6に固定した後、突上治具5
を垂直に上昇させる。
すると、突上治具5の先端部は、粘着テープlを突き破
って半導体チップ4裏面に当接し、該半導体チップを粘
着テープから剥離させる。
って半導体チップ4裏面に当接し、該半導体チップを粘
着テープから剥離させる。
次いで、この剥離と同時にチップ用真空チャック7を垂
直に下降させ、半導体チップ4を真空チャックの先端に
真空吸着する(同図(c)参照)。
直に下降させ、半導体チップ4を真空チャックの先端に
真空吸着する(同図(c)参照)。
そして、半導体チップ4を真空吸着したチップ用真空チ
ャック7をチップトレイ (図示せず)の置かれた位置
に移動し、該半導体チップ4を該チップトレイ上に静か
に載置して収納する。
ャック7をチップトレイ (図示せず)の置かれた位置
に移動し、該半導体チップ4を該チップトレイ上に静か
に載置して収納する。
高速で回転してる回転カッターにより半導体ウェーハ表
面から切り込んで、該半導体ウェーハを切断する方法に
おいては、半導体ウェーハの切断が進むに連れての回転
カッターの直下部分の半導体ウェーハの厚さが薄くなる
。
面から切り込んで、該半導体ウェーハを切断する方法に
おいては、半導体ウェーハの切断が進むに連れての回転
カッターの直下部分の半導体ウェーハの厚さが薄くなる
。
然も、この半導体ウェーハは高粘度ではあるが常温にお
いては液体である従来の粘着テープlのの粘着材1bに
貼着されている。
いては液体である従来の粘着テープlのの粘着材1bに
貼着されている。
従って、回転カッター直下部の厚さが薄くなった半導体
ウェーハも、単に液体状態の粘着材に支持されているに
過ぎない。
ウェーハも、単に液体状態の粘着材に支持されているに
過ぎない。
このため、前記部分は回転カッターからの押圧力、振動
、更には衝撃等に耐え切れずに、半導体ウェーハの切断
溝3aにおいて、微小破砕片3cを伴なって破砕部3d
を形成する破壊が発生する((d)図;同図(b)のB
部拡大図参照)。
、更には衝撃等に耐え切れずに、半導体ウェーハの切断
溝3aにおいて、微小破砕片3cを伴なって破砕部3d
を形成する破壊が発生する((d)図;同図(b)のB
部拡大図参照)。
この為、半導体チップを粘着テープから剥離する際、半
導体チップを突上治具で突き上げると、突き上げの衝撃
で微小破砕片3cが切断溝3aより飛び上がり周囲の半
導体チップ表面に落下して付着する(同図(e);同図
(c)のC部拡大図参照)。
導体チップを突上治具で突き上げると、突き上げの衝撃
で微小破砕片3cが切断溝3aより飛び上がり周囲の半
導体チップ表面に落下して付着する(同図(e);同図
(c)のC部拡大図参照)。
従って、微小破砕片3cが表面に付着した半導体チップ
は、配線パターンが短絡して回路機能が不良になること
が発生していた。
は、配線パターンが短絡して回路機能が不良になること
が発生していた。
本発明は上記したような問題に鑑みてなされたもので、
半導体ウェーハの微小破砕片により半導体チップ表面の
配線パターンが短絡することを防止することのできる半
導体装置の製造方法の提供を目的とするものである。
半導体ウェーハの微小破砕片により半導体チップ表面の
配線パターンが短絡することを防止することのできる半
導体装置の製造方法の提供を目的とするものである。
前記課題は、加熱により粘着性のでる熱可塑性粘着材1
1bを可撓性のテープ1aの片面に塗布して形成した粘
着テープ11を加熱し、半導体ウェーハ3を前記熱可塑
性粘着材弁して粘着テープに貼着する工程と、前記半導
体ウェーハ3表面から切り込んで、該半導体ウェーハに
形成された半導体チップ4がそれぞれ分離可能な状態に
該半導体ウェーハを切断するとともに、前記粘着テープ
11も該粘着テープ11の厚さ方向に一部未切断部を残
して切り込みする工程と、前記粘着テープ11を加熱し
て、前記半導体チップ4を該粘着テープから剥離する工
程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方
法により解決される。
1bを可撓性のテープ1aの片面に塗布して形成した粘
着テープ11を加熱し、半導体ウェーハ3を前記熱可塑
性粘着材弁して粘着テープに貼着する工程と、前記半導
体ウェーハ3表面から切り込んで、該半導体ウェーハに
形成された半導体チップ4がそれぞれ分離可能な状態に
該半導体ウェーハを切断するとともに、前記粘着テープ
11も該粘着テープ11の厚さ方向に一部未切断部を残
して切り込みする工程と、前記粘着テープ11を加熱し
て、前記半導体チップ4を該粘着テープから剥離する工
程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方
法により解決される。
粘着テープ11の熱可塑性粘着材11bは、常温におい
て硬い固体で、加熱されると軟化して粘性のでる性質の
材料である。
て硬い固体で、加熱されると軟化して粘性のでる性質の
材料である。
斯くして、半導体ウェーハ3の切断時、該半導体ウェー
ハは硬い熱可塑性粘着材に保持されているために、切断
が進んでも半導体ウェーへの機械的強度は殆ど弱く成ら
ない。
ハは硬い熱可塑性粘着材に保持されているために、切断
が進んでも半導体ウェーへの機械的強度は殆ど弱く成ら
ない。
この結果、切断溝3a部の半導体ウェーハ3が破壊され
ないために微小破砕片3cの発生もない。
ないために微小破砕片3cの発生もない。
従って、半導体チップ4表面に微小破砕片3cが付着す
ることはないので、該微小破砕片3cによって半導体チ
ップ表面の配線パターン間が短絡することはなくなる。
ることはないので、該微小破砕片3cによって半導体チ
ップ表面の配線パターン間が短絡することはなくなる。
第1図は本発明の一実施例の製造方法を説明するだめの
工程順側断面図である。
工程順側断面図である。
図において、11は粘着テープ、11bは常温時は固体
で100°C程度に加熱されると粘性のでるメチルメタ
アクリレートをテープ1aの片面に50μmの厚さで塗
布して形成した熱可塑性粘着材、12は減圧部12aを
減圧して半導体ウェーハ3を下端面に吸着するウェーハ
用真空チャック、13は粘着テープ11を貼着したフレ
ーム2を載置して該粘着テープ11を100 ”C程度
に加熱可能なテープ貼着用加熱台、14は内側壁に加熱
ヒータ14aを配設してフレーム2を載置して該フレー
ム2に貼着した粘着テープ11を100℃程度に加熱可
能なチップ!、r1雛用加熱台をそれぞれ示す。
で100°C程度に加熱されると粘性のでるメチルメタ
アクリレートをテープ1aの片面に50μmの厚さで塗
布して形成した熱可塑性粘着材、12は減圧部12aを
減圧して半導体ウェーハ3を下端面に吸着するウェーハ
用真空チャック、13は粘着テープ11を貼着したフレ
ーム2を載置して該粘着テープ11を100 ”C程度
に加熱可能なテープ貼着用加熱台、14は内側壁に加熱
ヒータ14aを配設してフレーム2を載置して該フレー
ム2に貼着した粘着テープ11を100℃程度に加熱可
能なチップ!、r1雛用加熱台をそれぞれ示す。
次に、第1図を参照して本発明の一実施例を詳細に説明
する。
する。
同図(a)は、ウェーハ用真空チャック12により真空
吸着された半導体ウェーハ3が、フレーム2に貼着され
てテープ貼着用加熱台13上で100 ’C程度に加熱
されているテープ11の直上部にある状態を示すもので
ある。
吸着された半導体ウェーハ3が、フレーム2に貼着され
てテープ貼着用加熱台13上で100 ’C程度に加熱
されているテープ11の直上部にある状態を示すもので
ある。
そして、ウェーハ用真空チャック12は図示してない駆
動装置により下降し、半導体ウェーハ3の裏面を粘着テ
ープ11の熱可塑性粘着材11bに貼着する(同図(b
)参照)。
動装置により下降し、半導体ウェーハ3の裏面を粘着テ
ープ11の熱可塑性粘着材11bに貼着する(同図(b
)参照)。
この後、半導体ウェーハ3は、前記説明した方法により
切断されて半導体チップ4が分離可能な状態となる。(
同図(c)参照)。
切断されて半導体チップ4が分離可能な状態となる。(
同図(c)参照)。
この切断は、室温中で行われるために粘着テープ11の
熱可塑性粘着材11bは硬い固体状態になっている。
熱可塑性粘着材11bは硬い固体状態になっている。
従って、半導体ウェーハ3の切断が完了する直前におい
ても、該半導体ウェーハ3の未切断部分は硬度が高くな
った熱可塑性粘着材11bで支持されているために、該
未切断部分が回転カッターの押圧、振動、衝撃等で破壊
されることはない。
ても、該半導体ウェーハ3の未切断部分は硬度が高くな
った熱可塑性粘着材11bで支持されているために、該
未切断部分が回転カッターの押圧、振動、衝撃等で破壊
されることはない。
(同図(d);同図(c)のA部分拡大図参照)。
半導体チップ4の粘着テープ11からの剥離は、フレー
ム2をチップ剥離用加熱台14上に載置し、該フレーム
2に貼着した粘着テープ11を100℃程度に加熱した
後、前記で説明した方法により半導体チップ4を粘着テ
ープ11から剥離する。
ム2をチップ剥離用加熱台14上に載置し、該フレーム
2に貼着した粘着テープ11を100℃程度に加熱した
後、前記で説明した方法により半導体チップ4を粘着テ
ープ11から剥離する。
上記詳細に亙る説明から明らなように、本発明の半導体
装置の製造方法は、半導体ウェーハを回転カッターによ
り切断しても該半導体ウェーハ裏面と切断溝とのコーナ
部に破壊が発生しないために、半導体ウェーハ材料の微
小な破砕片も熱論発生させない。
装置の製造方法は、半導体ウェーハを回転カッターによ
り切断しても該半導体ウェーハ裏面と切断溝とのコーナ
部に破壊が発生しないために、半導体ウェーハ材料の微
小な破砕片も熱論発生させない。
この結果、半導体チップ表面の配線パターンには、半導
体ウェーハ材料の微小な破砕片が付着することがないた
めに、配線パターンが上記微小な破砕片により短絡する
ことはない。
体ウェーハ材料の微小な破砕片が付着することがないた
めに、配線パターンが上記微小な破砕片により短絡する
ことはない。
従って、本発明の半導体装置の製造方法は、半導体装置
を歩留まり良く製造することを可能にすると共に、高い
信頼性を存する半導体装置の製造をも可能とするもので
ある。
を歩留まり良く製造することを可能にすると共に、高い
信頼性を存する半導体装置の製造をも可能とするもので
ある。
第1図は本発明の一実施例の製造方法を説明するための
工程順側断面図、 第2図は従来の製造方決を説明するための工程順側断面
図である。 図において、 1と11は粘着テープ、 2はウェーハフレーム、 3は半導体ウェーハ、 4は半導体チップ、 5は突上治具、 6はウェーハ保持台、 7はチップ用真空チャック・ 8は真空吸着板、 9は回転カッター 12はウェーハ用真空チャック、 13はテープ貼着用加熱台、 14はチップ剥離用加熱台をそれぞれ示す。 第1図
工程順側断面図、 第2図は従来の製造方決を説明するための工程順側断面
図である。 図において、 1と11は粘着テープ、 2はウェーハフレーム、 3は半導体ウェーハ、 4は半導体チップ、 5は突上治具、 6はウェーハ保持台、 7はチップ用真空チャック・ 8は真空吸着板、 9は回転カッター 12はウェーハ用真空チャック、 13はテープ貼着用加熱台、 14はチップ剥離用加熱台をそれぞれ示す。 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 加熱により粘着性のでる熱可塑性粘着材(11b)を可
撓性のテープ(1a)の片面に塗布して形成した粘着テ
ープ(11)を加熱し、半導体ウェーハ(3)を前記熱
可塑性粘着材を介して粘着テープに貼着する工程と、 前記半導体ウェーハ(3)表面から切り込んで、該半導
体ウェーハに形成された半導体チップ(4)がそれぞれ
分離可能な状態に該半導体ウェーハを切断するとともに
、前記粘着テープ(11)も該粘着テープ(11)の厚
さ方向に一部未切断部を残して切り込む工程と、 前記粘着テープ(11)を加熱して、前記半導体チップ
(4)を該粘着テープから剥離する工程とを含んでいる
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9611189A JP2687573B2 (ja) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9611189A JP2687573B2 (ja) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02273955A true JPH02273955A (ja) | 1990-11-08 |
JP2687573B2 JP2687573B2 (ja) | 1997-12-08 |
Family
ID=14156279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9611189A Expired - Lifetime JP2687573B2 (ja) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2687573B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003063219A1 (fr) * | 2002-01-25 | 2003-07-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede servant a fabriquer un composant electronique |
-
1989
- 1989-04-14 JP JP9611189A patent/JP2687573B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003063219A1 (fr) * | 2002-01-25 | 2003-07-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede servant a fabriquer un composant electronique |
US6984572B2 (en) | 2002-01-25 | 2006-01-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing electronic component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2687573B2 (ja) | 1997-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101064274B (zh) | 结合在晶片上的粘结膜的分断方法 | |
US10985065B2 (en) | Method of dicing a wafer by pre-sawing and subsequent laser cutting | |
CN101436526A (zh) | 半导体器件的制造方法 | |
JPH0231441A (ja) | ウエハ処理テープから回路チップを取外し易くする方法及びその装置 | |
JP2016001677A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2002076096A (ja) | 半導体素子のピックアップ方法 | |
JP2004193241A (ja) | 半導体ウエーハの分割方法 | |
JPH10189690A (ja) | 半導体チップのピックアップ方法及びピックアップ装置 | |
CN110808226B (zh) | 晶片的加工方法 | |
JP2004281659A (ja) | 保持部材及び半導体装置の製造方法 | |
JP2001144037A (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
JP2008192945A (ja) | ウエーハの裏面に装着された接着フィルムの破断方法 | |
TWI844615B (zh) | 晶圓的加工方法 | |
JP2014013807A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JPH02273955A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2020181931A (ja) | ウエハーのブレイク方法並びにブレイク装置 | |
JP2014003115A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
TWI864320B (zh) | 片材貼附方法及片材貼附裝置 | |
JPH05206267A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH10303150A (ja) | 半導体用粘着シートおよびその粘着シートを用いた半導体装置の製造方法 | |
JP2003203881A (ja) | 電子部品の剥離方法及びその実装方法 | |
JP7134561B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP7134563B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6633447B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP7134560B2 (ja) | ウェーハの加工方法 |