JPH0211587A - シリル化方法 - Google Patents
シリル化方法Info
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- JPH0211587A JPH0211587A JP63162173A JP16217388A JPH0211587A JP H0211587 A JPH0211587 A JP H0211587A JP 63162173 A JP63162173 A JP 63162173A JP 16217388 A JP16217388 A JP 16217388A JP H0211587 A JPH0211587 A JP H0211587A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、シリル化方法に関し、特に、有機化合物中に
ter t−ブチルジメチルシリル基を導入する新規な
シリル化方法に関するものである。
ter t−ブチルジメチルシリル基を導入する新規な
シリル化方法に関するものである。
最近、β−ラクタム抗住物質やプロスタノイドの製造に
は、−N)1基や一〇H基をter t−ブチルジメチ
ルシリル基で保護する手法が多用されている。
は、−N)1基や一〇H基をter t−ブチルジメチ
ルシリル基で保護する手法が多用されている。
これは、この保護基がシリル化された後でグリニヤール
反応、ウインチヒ反応あるいはジイソブチルアルミニウ
ムヒドリド還元やジョーンズ酸化に耐性を持つが、F−
イオンの攻撃を受は非常に簡単に脱保護することが可能
なためである。〔例えば、トーマスN、サルツマンら、
J、Am、Che+++、Soc。
反応、ウインチヒ反応あるいはジイソブチルアルミニウ
ムヒドリド還元やジョーンズ酸化に耐性を持つが、F−
イオンの攻撃を受は非常に簡単に脱保護することが可能
なためである。〔例えば、トーマスN、サルツマンら、
J、Am、Che+++、Soc。
皿6161 (1980))
活性水素基をtert−ブチルジメチルシリル基で保護
するために、従来常用されているシリル化剤C)13 はすべて、クロルシラン型の(C1,) 5csic
/である。
するために、従来常用されているシリル化剤C)13 はすべて、クロルシラン型の(C1,) 5csic
/である。
CI。
このクロルシラン利用の理由はこの分野の研究がCor
ey試薬を中心に進められた結果と推定される(Cor
eyら、 J、 And、 Che+w、 Soc、、
94.6190.1972)。
ey試薬を中心に進められた結果と推定される(Cor
eyら、 J、 And、 Che+w、 Soc、、
94.6190.1972)。
このter t−ブチルジメチルクロルシランを利用す
る場合の欠点は目的物から副生ずる固形の4級アンモニ
ウム塩を除去する必要があること、クロルシランが反応
装置の材質、特に鉄を腐食させるために、特にガラスラ
イニング製の装置を使用しなければならないこと、並び
にter t−ブチルジメチルクロルシランが室温では
固体であるために取扱いにくいことである。
る場合の欠点は目的物から副生ずる固形の4級アンモニ
ウム塩を除去する必要があること、クロルシランが反応
装置の材質、特に鉄を腐食させるために、特にガラスラ
イニング製の装置を使用しなければならないこと、並び
にter t−ブチルジメチルクロルシランが室温では
固体であるために取扱いにくいことである。
本発明者らは、これらの欠点を持たないシランについて
研究を重ねた結果、ter t−ブチルジメチルクロル
シランの代りにter t−プチルジメチルシの欠点が
全くなくなることを見出し、本発明に至った。
研究を重ねた結果、ter t−ブチルジメチルクロル
シランの代りにter t−プチルジメチルシの欠点が
全くなくなることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、ter t−ブチルジメチルシランと
活性水素を有する有機化合物とを、加熱下で反応させる
ことを特徴とするシリル化方法を提供するものである。
活性水素を有する有機化合物とを、加熱下で反応させる
ことを特徴とするシリル化方法を提供するものである。
本発明に用いられるtert−ブチルジメチルシランは
沸点82℃を持つ液状の化合物であり、次の方法により
、高価なter t−ブチルリチウムを用いることなく
大量に製造されている。
沸点82℃を持つ液状の化合物であり、次の方法により
、高価なter t−ブチルリチウムを用いることなく
大量に製造されている。
CH3
また、有機化合物が有する活性水素としては、例えば、
水酸基、アミノ基、カルボキシル基その他が挙げられ、
本発明の方法によりシリル化することができる。
水酸基、アミノ基、カルボキシル基その他が挙げられ、
本発明の方法によりシリル化することができる。
本発明の方法は、第■族金属を含む触媒の存在下で行う
ことが好ましく、触媒として用いられる、第■族金属あ
るいはその金属化合物には、次のようなものがある。R
u、 Rh、 Pd ; Ruカーボン、Rhカーボン
、Pdカーボン、PdCAz 、(Pd (η3CJs
)C1) 1錯体が、反応中にter t−ブチルジメ
チルシランによって還元されて析出する金1iPdが極
めて高いシリル化活性を存する。pt及びHzPtCl
! 6の如き白金化合物も利用できるが、シリル化され
る化合物の構造中に二重結合や三重結合のような不飽和
結合がある場合にはこの結合がter t−ブチルジメ
チルシランと反応してハイドロサイレーションするので
好ましくない。用いる触媒の量は使用する活性水素を有
する有機化合物に対して0.1 mo I!%〜20m
o1%の範囲であるが、好ましいのは1〜10mo1%
である。
ことが好ましく、触媒として用いられる、第■族金属あ
るいはその金属化合物には、次のようなものがある。R
u、 Rh、 Pd ; Ruカーボン、Rhカーボン
、Pdカーボン、PdCAz 、(Pd (η3CJs
)C1) 1錯体が、反応中にter t−ブチルジメ
チルシランによって還元されて析出する金1iPdが極
めて高いシリル化活性を存する。pt及びHzPtCl
! 6の如き白金化合物も利用できるが、シリル化され
る化合物の構造中に二重結合や三重結合のような不飽和
結合がある場合にはこの結合がter t−ブチルジメ
チルシランと反応してハイドロサイレーションするので
好ましくない。用いる触媒の量は使用する活性水素を有
する有機化合物に対して0.1 mo I!%〜20m
o1%の範囲であるが、好ましいのは1〜10mo1%
である。
触媒を用いなくても反応は進行するがこれはまれな場合
である。酢酸のような酸に対しては触媒を用いないと反
応が進行しない。有機アルコール類及び有機アミン類に
対しては触媒を用いないと反応が進行しない。
である。酢酸のような酸に対しては触媒を用いないと反
応が進行しない。有機アルコール類及び有機アミン類に
対しては触媒を用いないと反応が進行しない。
本発明の方法によるシリル化反応は、例えば、一般に次
のように示される。
のように示される。
CH。
(基質hOsi t BLI+H2CI+3
CI+3
(基質)−N 5i−t−Bu+H2CH3
CI。
(基質)−COO5i −t−Bu+112CI(。
本発明の方法を実施するには、例えば、活性水素を持つ
有機化合物とter t−ブチルジメチルシランとを混
合し、これに触媒を加えた後に加熱すれば、副生成物と
して水素が発生すると共に目的物のt−ブチルジメチル
シリル体が得られる。目的物は蒸留あるいはカラムクロ
マトグラフィーで分離精製する。シリル化される化合物
に対して使用するtert−ブチルジメチルシランの量
は等モル以上使用することが好ましいが、その量が余り
にも多くても不経済なので通常は1〜3モル倍量使用さ
れる。但し最も適当な量は1.05〜1.5モル倍量で
ある。
有機化合物とter t−ブチルジメチルシランとを混
合し、これに触媒を加えた後に加熱すれば、副生成物と
して水素が発生すると共に目的物のt−ブチルジメチル
シリル体が得られる。目的物は蒸留あるいはカラムクロ
マトグラフィーで分離精製する。シリル化される化合物
に対して使用するtert−ブチルジメチルシランの量
は等モル以上使用することが好ましいが、その量が余り
にも多くても不経済なので通常は1〜3モル倍量使用さ
れる。但し最も適当な量は1.05〜1.5モル倍量で
ある。
溶媒は使用しても使用しなくてもよいが、一般に使用し
て便利な溶媒には、例えば次のものがある。
て便利な溶媒には、例えば次のものがある。
n−ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロルメタン、クロ
ロホルム、ジクロルエタン、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、THF 、アセトニトリル、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどである。
ロホルム、ジクロルエタン、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、THF 、アセトニトリル、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどである。
反応温度は用いる溶媒によって支配されるが一20℃以
上200℃までの温度が利用できる。但し好ましい温度
は5℃〜150℃の温度である。
上200℃までの温度が利用できる。但し好ましい温度
は5℃〜150℃の温度である。
以下、実施例により具体的に説明する。
メチルシリル誘 のム
アルゴンガスを満たした小型の20フラスコ内に10%
Pd/Cを53.2■(0,05mmoff)入れた。
Pd/Cを53.2■(0,05mmoff)入れた。
このフラスコ内に、3−フェニル−1−プロパツール(
これは乾燥n−ヘキサン1.5mj2にとかしたもの)
を136.2■(1,00mmol)加えた。次いで、
L −Bu(Clli)zSiH174,4mg (1
,5mmo 1 )と乾燥n〜ヘキサン2.0+j!を
常法に従って加えた。この溶液を25℃で撹拌した。2
時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、原
料のB であった。ここで反応をとめた。Pd/Cを濾紙でCH
。
これは乾燥n−ヘキサン1.5mj2にとかしたもの)
を136.2■(1,00mmol)加えた。次いで、
L −Bu(Clli)zSiH174,4mg (1
,5mmo 1 )と乾燥n〜ヘキサン2.0+j!を
常法に従って加えた。この溶液を25℃で撹拌した。2
時間後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、原
料のB であった。ここで反応をとめた。Pd/Cを濾紙でCH
。
濾過し、次いで溶媒と過剰のt−BuSiHを減圧下で
th 除去した。
th 除去した。
無色油状のシリル化保護物
Clli
た。
生成物をNMRスペクトル及びIRスペクトルで分析し
たところ、次の結果が得られた。
たところ、次の結果が得られた。
祖!」1定
’HNMR(CDC1z、90MHz) 、δ0.05
(s、6H) 0.1 (s、9H) 1.7 〜2.0 (n+、211)3.63 (
t、28) 7.2 〜7.3(m、5H) 用貫定 IR(nea t) cm −’ 1490、 1460. 1385. 1250. 1
100. 960. 830゜770.735.690 ス1」(Lユl 触媒の種類、反応温度及び反応時間のみを変化させた以
外は実施例1と同様の方法で合成を実施した。次の結果
が得られた。
(s、6H) 0.1 (s、9H) 1.7 〜2.0 (n+、211)3.63 (
t、28) 7.2 〜7.3(m、5H) 用貫定 IR(nea t) cm −’ 1490、 1460. 1385. 1250. 1
100. 960. 830゜770.735.690 ス1」(Lユl 触媒の種類、反応温度及び反応時間のみを変化させた以
外は実施例1と同様の方法で合成を実施した。次の結果
が得られた。
実施例2
〃 3
〃 4
〃 5
〃 6
(PhCN) zPdc l z
PdC/2
10%Pd/C
10%Pd/C
10%Rh/C
7 10%Ru/C
8な し
実施例1において出発物質としてシクロヘキサノールを
用い、反応温度、時間を変えると同時に溶媒の種類を変
えて合成を実施したところ、次の結果が得られた。
用い、反応温度、時間を変えると同時に溶媒の種類を変
えて合成を実施したところ、次の結果が得られた。
0.89 (s、9)1)
1.1 〜1.9 (m、l0H)
3.4 〜3.8 (m、LH)
■■定
IR(neat) cm−’
1470.1460,1445,1370.1360,
1250,1135゜1095、 1050. 101
5. 1005. 995. 885. 870゜83
5、 770,660 実施例9 〃10 〃11 〃12 〃13 n C6H14 CH2CA ! Tl(F HjCN C6H。
1250,1135゜1095、 1050. 101
5. 1005. 995. 885. 870゜83
5、 770,660 実施例9 〃10 〃11 〃12 〃13 n C6H14 CH2CA ! Tl(F HjCN C6H。
尚、生成物の分析はガスクロマトグラフィーで分離後、
NMR,IRを用いて行った。
NMR,IRを用いて行った。
すI?a1足
’HNMR(CDC13+ 90M)lz) δ0.
05 (s、6H) 査戒 キサンからヘンゼンに変えた以外は同様の条件で反応さ
せたところ、モルホリンの目的物への変換率は93%で
あった。
05 (s、6H) 査戒 キサンからヘンゼンに変えた以外は同様の条件で反応さ
せたところ、モルホリンの目的物への変換率は93%で
あった。
認した。
’HNMR(CDCl 3,90MHz) δ0.0
3 (s、6H) 0.86 (s、9H) 2.8 〜3.0 (m、4H) 3.4 〜3.6 (m、4H) 実施例15〜18 実施例14において溶媒であるヘンゼンを別の種々の溶
媒に変えることと、温度を変えることと、反応時間を変
えることの他は同一条件で反応を実施して次の結果を得
た。
3 (s、6H) 0.86 (s、9H) 2.8 〜3.0 (m、4H) 3.4 〜3.6 (m、4H) 実施例15〜18 実施例14において溶媒であるヘンゼンを別の種々の溶
媒に変えることと、温度を変えることと、反応時間を変
えることの他は同一条件で反応を実施して次の結果を得
た。
温度
ン容 媒 (°C)
実施例15 n CbH+a 70〃16
CH2Cβ240 〃17THF 70 〃18 CH3CN 80時間 転換率 (hr) (%) NMR測定 四1111針叙戊 実施例1において、出発物質を を用い、反応時間と反応温度を変えた以外は同一の条件
下で反応を実施した。結果は次の通りであった。
CH2Cβ240 〃17THF 70 〃18 CH3CN 80時間 転換率 (hr) (%) NMR測定 四1111針叙戊 実施例1において、出発物質を を用い、反応時間と反応温度を変えた以外は同一の条件
下で反応を実施した。結果は次の通りであった。
温度(’c) 時間(hr) 転且率(% )慰区
」」に ’ H−NMR O026 0,93 2,5 2,8 7,25 月りt( IR(neat) 1720゜ 1290゜ 820゜ (CDC1z、90MHz) δ (s、611) (s、9H) 〜2.8 (m、2H) 〜3.1 (m、2H) (s、58) cut −’ 1605.1495,1460゜ 1255、 1190. 1075゜ 805、 790. 740. 695チルシリル誘導
の合 1450、 1410. 1365゜ 945.870,840゜ はNMR分析、IR分析により確認した。
」」に ’ H−NMR O026 0,93 2,5 2,8 7,25 月りt( IR(neat) 1720゜ 1290゜ 820゜ (CDC1z、90MHz) δ (s、611) (s、9H) 〜2.8 (m、2H) 〜3.1 (m、2H) (s、58) cut −’ 1605.1495,1460゜ 1255、 1190. 1075゜ 805、 790. 740. 695チルシリル誘導
の合 1450、 1410. 1365゜ 945.870,840゜ はNMR分析、IR分析により確認した。
て濾過した。
濾液から溶媒と過剰の
t−BuSiH
e
を減圧下で留去させた後には目的とするβタムのシリル
化物である ラフ 反応の全系をアルゴンで覆って合成を実施した。
化物である ラフ 反応の全系をアルゴンで覆って合成を実施した。
20のフラスコに10%Pd/Cを10.6■(0,0
1mmo 7りとヒドロキシメチルβ−ラクタム33.
8rrg (0,33mmo#)を入れた。その後に1
.5mj2の乾燥n C61114に溶解させたn−
ブチルジメチルシラン116.24mg (1,OOm
mo l )を入れた。この状態では溶けなかったので
、更に乾燥した1、51I+1のC1,C1,を加えて
いった。この溶液を25℃で2時間撹拌させた触媒のP
d/Cを濾紙を用いが収率80%で生成していることが
判った。
1mmo 7りとヒドロキシメチルβ−ラクタム33.
8rrg (0,33mmo#)を入れた。その後に1
.5mj2の乾燥n C61114に溶解させたn−
ブチルジメチルシラン116.24mg (1,OOm
mo l )を入れた。この状態では溶けなかったので
、更に乾燥した1、51I+1のC1,C1,を加えて
いった。この溶液を25℃で2時間撹拌させた触媒のP
d/Cを濾紙を用いが収率80%で生成していることが
判った。
目的物の確認はNMRで行った。
NMR測定
’HNMR(CDCl z 90MHz) 、 δ0
.06(s、6H) 0.22(s、3H) 0.24(s、3H) 0.90(s、9H) 0.96(s、9H) この 2.5 〜3.2(m、28) 3.4 〜3.8(m、3H) 〔発明の効果〕 本発明のシリル化方法は、シリル化率が高い上に常温で
液体でしかも腐食性のないtert−ブチルジメチルシ
ランを用いるため取扱いが便利であり、また特別に除去
操作が必要である副生物が生じないので従来のtert
−ブチルジメチルシランを用いる方法に比べて格段に有
利である。
.06(s、6H) 0.22(s、3H) 0.24(s、3H) 0.90(s、9H) 0.96(s、9H) この 2.5 〜3.2(m、28) 3.4 〜3.8(m、3H) 〔発明の効果〕 本発明のシリル化方法は、シリル化率が高い上に常温で
液体でしかも腐食性のないtert−ブチルジメチルシ
ランを用いるため取扱いが便利であり、また特別に除去
操作が必要である副生物が生じないので従来のtert
−ブチルジメチルシランを用いる方法に比べて格段に有
利である。
代理人 弁理士 岩見谷 周 志
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)tert−ブチルジメチルシランと活性水素を有す
る有機化合物とを加熱下で反応させることを特徴とする
シリル化方法。 2)特許請求の範囲第1項記載の方法であって、前記の
反応を第VIII族の金属を含む触媒の存在下で行なう方法
。 3)特許請求の範囲第2項記載の方法であって、前記の
触媒がRu、Rh、Pd及びその化合物から選ばれる方
法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63162173A JPH0211587A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | シリル化方法 |
US07/369,964 US5047526A (en) | 1988-06-29 | 1989-06-22 | Dehydrogenative silylation process of organic compounds having active hydrogen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63162173A JPH0211587A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | シリル化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0211587A true JPH0211587A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=15749403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63162173A Pending JPH0211587A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | シリル化方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5047526A (ja) |
JP (1) | JPH0211587A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016536276A (ja) * | 2013-09-27 | 2016-11-24 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 触媒脱水素カップリングによるアミノシランの無ハロゲン合成 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0949277A3 (en) * | 1995-06-22 | 2000-12-27 | Yuri Gudimenko | Surface modification of polymers and carbon-based materials |
JP3666551B2 (ja) * | 1998-05-11 | 2005-06-29 | 信越化学工業株式会社 | ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼン化合物の製造方法 |
JP3824046B2 (ja) * | 1999-10-18 | 2006-09-20 | 信越化学工業株式会社 | 水酸基を有する化合物のシリル化方法 |
DE102005051939A1 (de) * | 2005-10-29 | 2007-05-03 | Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstellung von organisch modifizierten Polyorganosiloxanen |
US9777025B2 (en) | 2015-03-30 | 2017-10-03 | L'Air Liquide, Société pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Si-containing film forming precursors and methods of using the same |
WO2018190999A1 (en) * | 2017-04-11 | 2018-10-18 | Dow Silicones Corporation | Method for preparing arylalkoxysilanes by dehydrogenative silylation |
US11466037B2 (en) * | 2019-10-31 | 2022-10-11 | Nata Semiconductor Materials Co., Ltd. | Catalysis of dehydrocoupling reactions between amines and silanes |
Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JPS4942615A (ja) * | 1972-08-24 | 1974-04-22 | ||
JPS49108024A (ja) * | 1973-02-26 | 1974-10-14 | ||
JPS5116616A (en) * | 1974-07-29 | 1976-02-10 | Ajinomoto Kk | Shirirujudotaino seizohoho |
JPH0193570A (ja) * | 1987-05-21 | 1989-04-12 | L'oreal Sa | ビタミンa及びその誘導体の合成方法 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63162173A patent/JPH0211587A/ja active Pending
-
1989
- 1989-06-22 US US07/369,964 patent/US5047526A/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
US5047526A (en) | 1991-09-10 |
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