JPH02111039A - Method for manufacturing semiconductor devices and resin molding equipment used therein - Google Patents
Method for manufacturing semiconductor devices and resin molding equipment used thereinInfo
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置の製造方法、特に樹脂封止形半導
体装置の製造における樹脂モールド工程に適用して有効
な技術に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, and particularly to a technique that is effective when applied to a resin molding process in manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
この種の技術について記載されている例としては、特開
昭52−95765公報等がある。An example of this type of technology described is Japanese Patent Laid-Open No. 52-95765.
上記公報においては、樹脂封止形半導体装置の製造工程
において、パッケージ形成に用いられる樹脂モールド装
置、特にその金型構造について詳細に説明されている。The above-mentioned publication describes in detail the resin molding device used to form a package in the manufacturing process of a resin-sealed semiconductor device, and particularly the mold structure thereof.
一般に、このような樹脂モールド装置においては、上型
と下型とからなる一対の金型の各対面部位に複数個のキ
ャビティを形成し、両全型間にリードフレームを載置し
た状態で、上記キャビティに対して溶融状態の樹脂を高
圧注入し、当該樹脂をリードフレームの周囲にキャビテ
ィ形状で加熱硬化させることによってパッケージの形成
を行っている。Generally, in such a resin molding device, a plurality of cavities are formed in each facing portion of a pair of molds consisting of an upper mold and a lower mold, and a lead frame is placed between both molds. The package is formed by injecting molten resin into the cavity at high pressure and heating and hardening the resin in the shape of the cavity around the lead frame.
このような樹脂モールド装置の概略について第11図を
用いてさらに詳しく説明する。The outline of such a resin molding device will be explained in more detail using FIG. 11.
同図において、下方の可動プラテン51上に垂設された
サポートピラ52によって支持された下型ベースユニッ
ト53 (基体)上には下金型54が固定されている。In the figure, a lower mold 54 is fixed on a lower mold base unit 53 (substrate) supported by a support pillar 52 vertically installed above a lower movable platen 51.
該下金型54は上記下型ベースユニット53内に内蔵さ
れた加熱源としてのヒータ55によって所定温度に加熱
される構造となっている。The lower mold 54 is heated to a predetermined temperature by a heater 55 as a heat source built into the lower mold base unit 53.
上記下金型54の上方には上型ベースユニット56の下
面に固定された上金型57が設置されており、両金型5
4.57のそれぞれ対応する成形分割平面(パーティン
グ面P)にはキャビティ58が形成されている。上型ベ
ースユニット56の内部には、上記と同様にヒータ55
が内蔵されてふり、上金型57を加熱する構造となって
いる。An upper mold 57 fixed to the lower surface of the upper mold base unit 56 is installed above the lower mold 54, and both molds 5
Cavities 58 are formed in the molding dividing planes (parting planes P) corresponding to the respective parts 4.57. Inside the upper mold base unit 56, there is a heater 55 as described above.
The upper mold 57 is heated by heating the upper mold 57.
また、この上型ベースユニット56は、サポートピラ5
2によって図示しない上方の固定プラテン側に固定され
た構造となっている。Further, this upper mold base unit 56 is connected to the support pillar 5.
2, it has a structure fixed to the upper fixed platen side (not shown).
上型ベースユニット56と上金型57のほぼ中央垂直方
向には、円筒形状のポット60が配設されており、該ポ
ット60の内部にはプランジャ61が筒袖方向に摺動可
能に配置されている。A cylindrical pot 60 is disposed approximately vertically in the center of the upper die base unit 56 and the upper die 57, and a plunger 61 is disposed inside the pot 60 so as to be slidable in the sleeve direction. There is.
上記構成において、被モールド物体であるIJ −ドフ
レーム62は、上金型57と下金型54):で構成さ−
れるキャビティ58内に配置される。この状態でポット
60内に収納されたタブレット63(パッケージ樹脂材
料)がヒータ55による加熱とプランジャ61とによる
移送圧力とで溶融状態となり、ランナ64およびゲート
65を通じてキャビティ58内に高圧注入され、該キャ
ビティ形状に対応したパッケージが形成される。In the above configuration, the IJ-de frame 62, which is the object to be molded, is composed of an upper mold 57 and a lower mold 54).
It is disposed within a cavity 58 that is In this state, the tablet 63 (package resin material) housed in the pot 60 is melted by heating by the heater 55 and transfer pressure by the plunger 61, and is injected into the cavity 58 under high pressure through the runner 64 and the gate 65. A package corresponding to the cavity shape is formed.
上記樹脂モールド工程において、上金型57と下金型5
4とのパーティング面Pによって挟持されるリードフレ
ーム62等の全インサートに対して均等な型締力が加わ
らなかった場合には、上記パーティング面Pに対して全
面的あるいは局所的な隙間が生じ、この隙間によって樹
脂のにじみ出し、いわゆるレジンフラッシュRが発生す
る。このようなレジンフラッジ、Hの発生状態を示した
ものが第12図である。In the resin molding process, the upper mold 57 and the lower mold 5
If an equal mold clamping force is not applied to all the inserts such as the lead frame 62 held by the parting surface P between the parting surface P and This gap causes the resin to ooze out, a so-called resin flash R. FIG. 12 shows the state of occurrence of such resin fludge, H.
上記レジンフラッシュRがリード66の表面を覆う程度
に発生した製品は、外観が好ましくない以上に、半田付
は性および封止信頼性の低下を来す結果となる。さらに
、このようにして発生したレジンフラッシュRの除去作
業も煩雑である等の不都合を有している。A product in which the resin flash R has occurred to such an extent that it covers the surface of the lead 66 not only has an unfavorable appearance but also results in a decrease in soldering performance and sealing reliability. Further, there are other disadvantages, such as the work to remove the resin flash R generated in this way is complicated.
パーティング面Pにおいて、上記の如き隙間の生じる要
因としては、リードフレーム62の加工精度とともに、
上金型57および下金型54のそれぞれの組立・加工精
度、各ベースユニット5356内に内蔵されたヒータ5
5による加熱部分と非加熱部分との熱膨張差から発生す
る平坦誤差、プランジャ61の移送圧力およびプラテン
加圧等による変形によるものが多く、これらの相乗作用
によって上記隙間を生じている。第1I図中、2点鎖線
で示したものはプランジャ61の移送圧力による下型ベ
ースユニット53の歪み形状を示しており、破線で示し
たものは、プラテン加圧時による可動プラテン51の変
形形状を示している。On the parting surface P, the causes of the above-mentioned gap include the machining accuracy of the lead frame 62, and
The assembly and processing accuracy of the upper mold 57 and the lower mold 54, and the heater 5 built into each base unit 5356.
This gap is mainly caused by the flatness error caused by the difference in thermal expansion between the heated portion and the non-heated portion by 5, the transfer pressure of the plunger 61, the platen pressurization, etc., and the synergistic effect of these causes the above-mentioned gap. In FIG. 1I, the two-dot chain line indicates the distorted shape of the lower die base unit 53 due to the transfer pressure of the plunger 61, and the broken line indicates the deformed shape of the movable platen 51 due to the platen pressurization. It shows.
このような変形を防止するために、装置の初期設計で任
意に配設されたサポートピラ52のうち、該当箇所の高
さを切削加工あるいはスペーサの挿人等により調整して
いた。しかし、サポートピラ52の高さ調整は高精度な
技術を必要とし、さらに経時変化によって変形形状も異
なってくるため、完全な対処は困難であった。そのため
、レジンフラッジ5Rの発生防止について十分な効果が
得られてはいなかった。In order to prevent such deformation, the height of the corresponding part of the support pillars 52, which are arbitrarily arranged in the initial design of the device, is adjusted by cutting or inserting a spacer. However, adjusting the height of the support pillar 52 requires highly accurate technology, and furthermore, the deformed shape changes over time, so it has been difficult to completely adjust the height. Therefore, a sufficient effect in preventing the occurrence of resin fluff 5R has not been achieved.
本発明は、上記課題に着目してなされたものであり、そ
の目的は、樹脂モールド成形時におけるレジンフラッシ
ュの発生を防止し、信頼性の高いパンケージ成形を実現
可能な技術を提供することにある。The present invention has been made with attention to the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a technology that can prevent the occurrence of resin flash during resin molding and realize highly reliable pancage molding. .
本発明の上記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、概ね次のとおりである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、樹脂モールド工程において、金型の成形分割
平面に対して局所的に加わる応力を成形分割平面全体に
対して均等に分散させながらキャビティに対して樹脂の
高圧注入を行うものである。That is, in the resin molding process, high-pressure injection of resin into the cavity is performed while the stress locally applied to the molding dividing plane of the mold is evenly distributed over the entire molding dividing plane.
また、上記応力の分散を実現するために、金型あるいは
この金型を保持する基体において、流体が充填されると
ともに互いに流体流通管によって連結された複数のシリ
ンダからなる均圧機構を備え、該均圧機構の各シリンダ
はその各ロッド端面によって上記金型あるいは上記基体
を支持する構造としたものである。In addition, in order to realize the above-mentioned stress distribution, the mold or the base holding the mold is equipped with a pressure equalization mechanism consisting of a plurality of cylinders filled with fluid and connected to each other by fluid flow pipes. Each cylinder of the pressure equalization mechanism is structured to support the mold or the base body by its respective rod end surface.
上記した手段によれば、第1に、金型の成形分割平面に
対して局所的に加わる応力を均等に分散させながら樹脂
の高圧注入を行うことによって、金型の熱膨張差、ある
いはプランジャの移送圧力およびプラテン加圧等による
金型の変形にともなう成形分割平面の平坦誤差を防止で
き、隙間の発生によるレジンフラッシュを効果的に防止
できる。According to the above-mentioned means, firstly, by performing high-pressure injection of resin while uniformly dispersing the stress locally applied to the molding dividing plane of the mold, the thermal expansion difference of the mold or the plunger It is possible to prevent flatness errors in the molding division plane due to deformation of the mold due to transfer pressure, platen pressurization, etc., and it is possible to effectively prevent resin flash due to the generation of gaps.
第2に、均圧機構を設け、この均圧機構に設けられた各
シリンダを流体流通管で互いに連結構造とすることによ
って、局所的に加わる応力を金型の成形分割平面全体に
対して均等に分散させることができる。したがって、サ
ポートピラの切削加工あるいはスペーサの挿入等の高精
度かつ煩雑な調整作業等を必要とすることなく、成形分
割面の平坦誤差を修正でき、隙間の発生にともなうレジ
ンフラッシュを防止できる。Second, by providing a pressure equalization mechanism and connecting the cylinders of this pressure equalization mechanism to each other through fluid flow pipes, the locally applied stress is evenly distributed over the entire molding division plane of the mold. can be dispersed into Therefore, it is possible to correct the flatness error of the molded parting surface without requiring highly accurate and complicated adjustment work such as cutting of support pillars or insertion of spacers, and it is possible to prevent resin flash due to the occurrence of gaps.
第1図は本発明の一実施例である樹脂モールド装置の金
型近傍を示す断面図、第2図はこの樹脂モールド装置の
全体構成図、第3図は下型のパーティング面における形
成状態を示す平面図、第4図は本実施例における均圧機
構を示す斜視図、第5図はリードフレームの板厚のばら
つき状態を示す説明図、第6図および第7図はリードフ
レームの板厚寸法誤差とレジンフラッシュとの発生関係
を示す説明図、第8図および第9図は金型に対する押え
面積とレジンフラッシュの発生状態の関係を示す説明図
、第10図は本実施例によって得られる半導体装置を示
す断面図である。Fig. 1 is a sectional view showing the vicinity of the mold of a resin molding device which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an overall configuration diagram of this resin molding device, and Fig. 3 is a forming state on the parting surface of the lower mold. FIG. 4 is a perspective view showing the pressure equalizing mechanism in this embodiment, FIG. 5 is an explanatory diagram showing variations in the plate thickness of the lead frame, and FIGS. 6 and 7 are the plates of the lead frame. FIGS. 8 and 9 are explanatory diagrams showing the relationship between the thickness dimensional error and the occurrence of resin flash. FIGS. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a semiconductor device.
本実施例に用いられる樹脂モールド装置1は、第2図に
示すように、上方の固定プラテン2に保持された上型部
3と、下方の可動プラテン4に支持された下型部5とを
有している。この上型部3と下型部5の詳しい構成につ
いては第1図に示す通りであるが詳細については後述す
る。As shown in FIG. 2, the resin molding device 1 used in this embodiment includes an upper mold part 3 held by an upper fixed platen 2 and a lower mold part 5 supported by a lower movable platen 4. have. The detailed structure of the upper mold part 3 and the lower mold part 5 is as shown in FIG. 1, and the details will be described later.
上記固定プラテン2は、装置基台6より垂設された支柱
7によって装置基台6のステージ上方に支持されており
、該固定プラテン2の上部にはタブレット8を挿入する
トランスファシリンダ10が取付けられている。一方、
装置基台6の下部には上記可動プラテン4を上下動させ
るプラテン駆動用シリンダ11が設けられており、この
プラテン駆動用シリンダ11はステージ側方に配置され
た制御部12によって制御されている。The fixed platen 2 is supported above the stage of the device base 6 by a column 7 vertically installed from the device base 6, and a transfer cylinder 10 into which the tablet 8 is inserted is attached to the top of the fixed platen 2. ing. on the other hand,
A platen driving cylinder 11 for moving the movable platen 4 up and down is provided at the bottom of the apparatus base 6, and this platen driving cylinder 11 is controlled by a control section 12 disposed on the side of the stage.
次に、上記上型部3と下型部5の構造について第1図を
用いて説明する。Next, the structure of the upper mold part 3 and the lower mold part 5 will be explained using FIG. 1.
同図において、下型部5は、可動プラテン4と、均圧ブ
ロック13と、下型ベースユニット14と、下金型15
とで構成されている。一方、上型部3は可動プラテン4
より垂下されたサポートピラ16に保持される上型ベー
スユニッ)17と、止金型18と、ポット20と、プラ
ンジャ21とで構成されている。In the figure, the lower mold part 5 includes a movable platen 4, a pressure equalizing block 13, a lower mold base unit 14, and a lower mold 15.
It is made up of. On the other hand, the upper mold part 3 is connected to a movable platen 4.
It is composed of an upper mold base unit (17) held by a support pillar 16 hanging down, a stopper mold 18, a pot 20, and a plunger 21.
同図中、下金型15を固定する下型ベースユニット14
と、上金型18を固定する上型ベースユニット17には
加熱源としてのヒータ22が複数箇所に内蔵されており
、上記上金型18と下金型15とを加熱する構造となっ
ている。また、下型ベースユニット14は第4図にその
詳細を示すように、ユニット本体14aの下郎において
断Qli23を経て当て坂24が配設された構成を有し
ている。上記断熱板23により、ヒータ22からの熱が
遮断され、均圧ブロック13内の後述の作動油25の温
度上昇を防止するようになっている。In the figure, a lower mold base unit 14 fixing the lower mold 15
The upper mold base unit 17 that fixes the upper mold 18 has heaters 22 as heating sources built in at multiple locations, and is structured to heat the upper mold 18 and the lower mold 15. . Further, as shown in detail in FIG. 4, the lower mold base unit 14 has a configuration in which a contact slope 24 is provided at the bottom of the unit main body 14a via a cut Qli 23. The heat insulating plate 23 blocks heat from the heater 22 and prevents the temperature of the hydraulic oil 25 (described later) in the pressure equalizing block 13 from rising.
なお、上記断熱板23の他にさらに均圧ブロック13側
に図示しない水冷等の強制冷却機構を設けてもよい。In addition to the heat insulating plate 23, a forced cooling mechanism such as water cooling (not shown) may be provided on the pressure equalizing block 13 side.
上型ベースユニット17と上金型18の略中央部位には
円筒形状のポット20が垂設されており、該ポット20
の内部にはプランジャ21がポット軸方向に摺動可能に
内設されている。A cylindrical pot 20 is vertically installed approximately at the center of the upper mold base unit 17 and the upper mold 18.
A plunger 21 is installed inside the pot so as to be slidable in the axial direction of the pot.
上金型18と下金型15とで構成されるパーティング面
Pには、両金型18および15が閉塞状態において上記
ポット20の下端開口部に対応したカル26と連通され
溶融樹脂の通路として構成されるランナ27、および加
圧手段として機能するゲート28、および被モールド物
体としてのリードフレーム30を挟持するキャビティ3
1がそれぞれ形成されている。A parting surface P composed of an upper mold 18 and a lower mold 15 is connected to a cull 26 corresponding to the lower end opening of the pot 20 when both molds 18 and 15 are in a closed state, and a passage for molten resin is formed. A runner 27 configured as a runner 27, a gate 28 functioning as a pressurizing means, and a cavity 3 that holds a lead frame 30 as an object to be molded.
1 are formed respectively.
上記下金型15におけるランナ27およびキャビティ3
1の配路・配置状態を示したものが第3図であり、同図
では単一のポット20 (カル26)からランチ27を
通じて複数のキャビティ31に対して溶融樹脂を供給す
る経路が示されているっなお、同図ではランナ27、ゲ
ート28およびキャピテイ31の形成される下金型15
は複数に分割可能なチエイスユニット構造で示している
。図中においては8個のチエイスユニットを有する場合
で示しているが、4個あるいは6個等のように必要に応
じて適宜チエイスユニット数を変更することが可能であ
る。Runner 27 and cavity 3 in the lower mold 15
Fig. 3 shows the wiring/arrangement state of No. 1, and this figure shows a route for supplying molten resin from a single pot 20 (cull 26) to a plurality of cavities 31 through a launch 27. Note that in the same figure, the lower mold 15 in which the runner 27, gate 28, and cavity 31 are formed is shown.
is shown as a chain unit structure that can be divided into multiple parts. In the figure, a case is shown in which there are eight chase units, but the number of chase units can be changed as necessary, such as four or six.
なお、同図では単一のポット20で構成される、いわゆ
るシングルポ゛ット方式による場合で説明したが、複数
のポット20を備えた、いわゆるマルチポット方式のも
のであってもよい。In addition, in the same figure, a so-called single-pot system, which is composed of a single pot 20, has been described, but a so-called multi-pot system, which has a plurality of pots 20, may also be used.
次に、第1図および第4図を用いて本実施例の均圧機構
である均圧ブロック13の構成について説明する。Next, the configuration of the pressure equalizing block 13, which is the pressure equalizing mechanism of this embodiment, will be explained using FIG. 1 and FIG. 4.
本実施例の均圧ブロック13は、外囲筐体としてのブロ
ック本体13a内において、5個の油圧シリンダ81〜
S5が配置されており、各油圧シリンダ81〜S5は、
互いに流通管32(流体流通管)によって連結されてい
る。したがって、上記油圧シリンダに充填された作動油
25はこの流通管32を通じて互いの油圧シリンダ81
〜85間を流通可能となっており連動シリンダとして機
能する。各シリンダ81〜S5の上端にはフローティン
グ状態のロッド33がそれぞれ配置されており、各ロッ
ド33の端面は第4図に示すようにブロック本体13a
の上面より突出された状態となっている。The pressure equalizing block 13 of this embodiment has five hydraulic cylinders 81 to 81 in the block body 13a as an outer enclosure.
S5 is arranged, and each hydraulic cylinder 81 to S5 is
They are connected to each other by a flow pipe 32 (fluid flow pipe). Therefore, the hydraulic oil 25 filled in the hydraulic cylinders is transferred to each other's hydraulic cylinders 81 through this flow pipe 32.
~85 can flow and functions as an interlocking cylinder. A floating rod 33 is arranged at the upper end of each cylinder 81 to S5, and the end surface of each rod 33 is connected to the block body 13a as shown in FIG.
It is protruding from the top surface.
また、上記ブロック本体13aの上面には上記ロッド3
3の端面の他に、所定高さのストッパ34が突出形成さ
れており、該ストッパ34の高さによって油圧シリンダ
S1〜S5によるロッド33の最大偏位遣が決定される
構造となっている。Further, the rod 3 is provided on the upper surface of the block main body 13a.
A stopper 34 of a predetermined height is formed to protrude from the end face of the rod 3, and the maximum displacement of the rod 33 by the hydraulic cylinders S1 to S5 is determined by the height of the stopper 34.
次に、上記均圧ブロック13の各部の設定値について考
慮すべき事項をふまえながら説明する。Next, the set values of each part of the pressure equalizing block 13 will be explained based on the matters to be considered.
本発明者の研究によれば、板厚が0.25mmで設定さ
れたリードフレーム30のフレーム板厚のばらつきは第
5図に示す通りであり、0.240+nm〜0、260
mmの間の20μmに集中していることが判明した。According to the research of the present inventor, the variation in the frame thickness of the lead frame 30 whose thickness is set to 0.25 mm is as shown in FIG.
It was found that the particles were concentrated in 20 μm between mm.
このような20μmの板厚のばらつきがレジンフラッシ
ュRの発生に及ぼす影響を示したものが第6図および第
7図である。FIGS. 6 and 7 show the influence of such a variation in plate thickness of 20 μm on the occurrence of resin flash R.
すなわち、第6図は樹脂モールド後のパッケージ本体3
5からダム37およびリード36にかけてのレジンフラ
ッシュRの発生レベルを0〜5の6段階で示したもので
あり、同図中Oで囲まれた数字が第7図のランクに対応
している。ここで、0ランクはレジンフラッシュRの発
生が全く認められないもの、1ランクはレジンフラッジ
:LRは発生しているが、リードフレーム30のダム3
7の範囲内であるもの、2ランクはレジンフラッシュR
がダム37上に生じたもの、3ランクはダム37を越え
たもの、4ランクはリード36の直前位置の許容限界の
もの、5ランクはこれを越えてリード36上にまでレジ
ンフラッシュRが生じているものをそれぞれ示している
。That is, FIG. 6 shows the package body 3 after resin molding.
The generation level of resin flash R from 5 to dam 37 and lead 36 is shown in six levels from 0 to 5, and the numbers surrounded by O in the figure correspond to the ranks in FIG. Here, 0 rank means that the occurrence of resin flash R is not recognized at all, and 1 rank means that resin flash R occurs, but dam 3 of lead frame 30
Those within the range of 7, 2 ranks are Resin Flash R
3rd rank is the one that occurs on the dam 37, 3rd rank is the one that exceeds the dam 37, 4th rank is the one that is at the permissible limit in the position immediately before the lead 36, and 5th rank is that the resin flash R occurs beyond this and reaches the top of the lead 36. Each shows what is happening.
以上の点から、上金型18と下金型15とのパーティン
グ面P1;おける加工精度が初期設定状態に維持されて
いたとしても、リードフレーム30の=20μmばらつ
きによって許容範囲を越えたり−ド36の表面へのレジ
ンフラッジsRが多く発生することから、均圧ブロック
13による応力分数も、この範囲を吸収できるものでな
ければならなし八〇
次に、第3ズおよび第9図は、単位面積に加わる圧力と
、レジンフラッシュRの先端位置との関係を示した説明
図である。From the above points, even if the machining accuracy at the parting surface P1 between the upper mold 18 and the lower mold 15 is maintained at the initial setting state, the tolerance range may be exceeded due to a variation of 20 μm in the lead frame 30. Since a lot of resin fluff sR occurs on the surface of the door 36, the stress fraction by the pressure equalizing block 13 must also be able to absorb this range. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the relationship between the pressure applied to the area and the position of the tip of the resin flash R.
同図からも明かなように、面圧を大きくすること、すな
わち加圧面積を小さくすることによってレジンフラッシ
ュRの発生が抑制されることを示している。As is clear from the figure, the occurrence of resin flash R can be suppressed by increasing the surface pressure, that is, by decreasing the pressurized area.
したがって、本実施例の均圧ブロック13においても、
油圧シリンダを複数配置して複数のロッド33の端面で
高い面圧で下型ベースユニット14を加圧することによ
って、レジンフラッジ、Rの発生を抑制できることが理
解できる。Therefore, also in the pressure equalizing block 13 of this embodiment,
It can be seen that by arranging a plurality of hydraulic cylinders and pressurizing the lower die base unit 14 with a high surface pressure at the end surfaces of the plurality of rods 33, the occurrence of resin fluff and R can be suppressed.
本実施例において、可動プラテン4による型締力が例え
ば150(T)とし、これを100%の出力で常用した
場合、油圧シリンダ81〜S5の1個あたりの負荷荷重
Qは
Q=150x1000/N (kg)で算出され
る。なおここで、Nは油圧シリンダの個数を示しており
、第4図ではN=5となっている。In this embodiment, if the mold clamping force by the movable platen 4 is, for example, 150 (T) and is regularly used at 100% output, the load Q per hydraulic cylinder 81 to S5 is Q = 150 x 1000/N. (kg). Note that here, N indicates the number of hydraulic cylinders, and in FIG. 4, N=5.
ここで、ロッド33の端面の直径をφ=100(mo)
とすると、その内圧力QIは、QI=150X1000
/(π/ 4 x 1 0 ) x N(kg/c
m’)
出なる。Here, the diameter of the end surface of the rod 33 is φ=100 (mo)
Then, the internal pressure QI is QI=150X1000
/(π/ 4 x 1 0) x N(kg/c
m') come out.
ここで、たとえば油圧シリンダの数をN=9とすると、
荷重は油圧シリンダ1個当り15〜30(T) 、内圧
は200〜350 (kg/cm2>程度となる。こ
の値は、パーティング面Pにおいて局所的に加えろれた
応力に対向し、これを均等に他の油圧シリンダに分散さ
せるために適当な数値である。For example, if the number of hydraulic cylinders is N=9,
The load is 15 to 30 (T) per hydraulic cylinder, and the internal pressure is about 200 to 350 (kg/cm2>). This is an appropriate value for evenly distributing the pressure to other hydraulic cylinders.
次に、本実施例の樹脂モールド装置1を用いた樹脂モー
ルド工程について説明する。Next, a resin molding process using the resin molding apparatus 1 of this embodiment will be explained.
まず、可動プラテン4が下方に位置されて上金型18と
下金型15とが開いた状態で各キャビティ31にリード
フレーム30が配置されると、制(連部12の制御によ
ってプラテン駆動用シリンダ11が作動されて、可動プ
ラテン4が上昇される。First, when the lead frame 30 is placed in each cavity 31 with the movable platen 4 positioned downward and the upper mold 18 and lower mold 15 opened, the platen driving The cylinder 11 is actuated and the movable platen 4 is raised.
このようにして下金型15と上金型18とのパーティン
グ面Pが密接状態となり、型締力がたとえば150 (
T)程度に高められると、ポット20内に半溶融状態の
エポキシ樹脂からなる円柱状のタブレット8が投入され
トランスファシリンダ10が作動してプランジャ21が
第1図中下方に移動される。このプランジャ21によっ
てタブレット8に対して、たとえば75 (Kgf/c
m’)程度の移送圧力が加えられると、180℃程度の
ヒータ22の加熱とあいまって上記タブレット8は溶融
樹脂8aの状態となってランナ27を通じて各ゲート2
8によって注入圧力がさらに高められ、キャピテイ31
内に高圧注入される。In this way, the parting surfaces P of the lower mold 15 and the upper mold 18 are brought into close contact, and the mold clamping force is, for example, 150 (
When the temperature reaches T), a cylindrical tablet 8 made of semi-molten epoxy resin is introduced into the pot 20, the transfer cylinder 10 is activated, and the plunger 21 is moved downward in FIG. For example, 75 (Kgf/c
When a transfer pressure of about m') is applied, combined with heating by the heater 22 to about 180° C., the tablet 8 becomes a molten resin 8a and is transferred through the runner 27 to each gate 2.
8, the injection pressure is further increased and the injection pressure is increased by
High pressure is injected into the body.
このとき、上記に説明したリードフレーム30の板厚の
ばらつき、可動プラテン4の型締力、あるいはプランジ
ャ21の移送圧力によって、下金型15に対して局所的
に応力が加わることがある。At this time, stress may be locally applied to the lower mold 15 due to variations in the thickness of the lead frame 30, the mold clamping force of the movable platen 4, or the transfer pressure of the plunger 21 described above.
第4図において、油圧シリンダS1に対して池の部分に
比して+tだけ大きな応力が同図矢印方向に加えられた
場合、この+tの力は上記油圧シリンダS1のロッド3
3の端面を下方に押し下げようとして作用する。これに
対して上記油圧シリンダS1は他の油圧シリンダ82〜
S5と流通管32を通じて連動構造となっているため、
全油圧シリンダS1〜S5のロッド33の端面に対して
t15の反力として作用する。したがって、油圧シリン
ダSlに対して局所的に加えられた応力tは、各油圧シ
リンダ81〜S5に分散されてパーティング面Pの全面
に対して均等にはたらく結果となる。このために、局所
的な応力の印加による下型ベースユニット14あるいは
金型15の変形、これにともなうパーティング面Pの平
坦誤差等が修正され、レジンフラッジ:LRの発生が抑
制される。In FIG. 4, when a stress greater than +t is applied to the hydraulic cylinder S1 in the direction of the arrow in the figure compared to the pond portion, this +t force is applied to the rod 3 of the hydraulic cylinder S1.
It acts to push down the end face of 3. On the other hand, the hydraulic cylinder S1 is connected to the other hydraulic cylinders 82 to 82.
Since it has an interlocking structure through S5 and the flow pipe 32,
A reaction force of t15 acts on the end surfaces of the rods 33 of the full hydraulic cylinders S1 to S5. Therefore, the stress t locally applied to the hydraulic cylinder Sl is distributed to each of the hydraulic cylinders 81 to S5 and acts equally on the entire parting surface P. For this reason, the deformation of the lower die base unit 14 or the mold 15 due to the application of local stress and the resulting flatness error of the parting surface P are corrected, thereby suppressing the occurrence of resin flutter: LR.
特に、本実施例によれば複雑な局所毎の機械的制御を必
要とせず、に、応力の均等分散が可能である。In particular, according to this embodiment, stress can be uniformly distributed without requiring complicated mechanical control for each local area.
キャビティ31内に高圧注入された溶融樹脂8aが加熱
硬化された後、制御部12の制御によって可動プラテン
4が下降し、上金型18と下金型15とが開かれると、
上記樹脂によってパッケージ本体35の形成されたリー
ドフレーム30が取り出される。After the molten resin 8a injected into the cavity 31 under high pressure is cured by heating, the movable platen 4 is lowered under the control of the control unit 12, and the upper mold 18 and the lower mold 15 are opened.
The lead frame 30 with the package body 35 formed of the resin is taken out.
このようなリードフレーム30は、上記パッケージ本体
35より突出されたリード36が所定形状に切断・成形
されることによって第1O図に示す半導体装置43とな
る。Such a lead frame 30 becomes a semiconductor device 43 shown in FIG. 1O by cutting and molding the leads 36 protruding from the package body 35 into a predetermined shape.
同図中、38はタブを示しており、該タブ38上には銀
ペースト等の接合材40を介して半導体ペレッ)41が
装着されている。上記半導体ペレット41の電極パッド
41aとリード36におけるインナーリード(パッケー
ジ本体35内に封止される部分)とは、金(Au)、銅
(Cu)あるいはアルミニウム(AI)等”からなる導
電性のワイヤ42がループ状に張設されて、リード36
を通じて外部より上記半導体ペレット41に対して電源
電圧め印加、信号の人出力等が可能となっている。In the figure, 38 indicates a tab, and a semiconductor pellet 41 is mounted on the tab 38 via a bonding material 40 such as silver paste. The electrode pad 41a of the semiconductor pellet 41 and the inner lead (the part sealed inside the package body 35) of the lead 36 are made of conductive material such as gold (Au), copper (Cu), or aluminum (AI). The wire 42 is stretched in a loop shape, and the lead 36
Through this, it is possible to apply a power supply voltage to the semiconductor pellet 41 from the outside, output signals, and the like.
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.
たとえば、均圧ブロックにおける油圧シリンダの本数は
、第4図中では5個、さらに説明中では9個の場合を述
べたが、勿論これらの個数に限るものではない。For example, although the number of hydraulic cylinders in the pressure equalizing block is five in FIG. 4 and nine in the description, it is of course not limited to these numbers.
また、シリンダに充填される流体としては作動油を用い
たが他の方式のものでもよい。Further, although hydraulic oil is used as the fluid filled in the cylinder, other types of fluid may be used.
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆるフラットパッケージ形
(Q F P : Quad Flat Packag
e )の半導体装置における樹脂モールド工程に適用し
た場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく、たとえばD I P (Dual In−1in
e Package) 、P L CC(Plasti
c Leaded Chip Carrier ) 、
S OJ (Small 0ut−’1ine J−b
end 1ead)等のパッケージ構造にも適用できる
。In the above explanation, the invention made by the present inventor will be mainly described in terms of its field of application, which is the so-called flat package type (QFP: Quad Flat Pack).
e) The case where the application is applied to the resin molding process in a semiconductor device has been described, but the invention is not limited to this. For example, DIP (Dual In-1 In-1
e Package), P L CC (Plasti
c Leaded Chip Carrier),
S OJ (Small 0ut-'1ine J-b
It can also be applied to package structures such as end 1 ead).
本軸において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。A brief explanation of the effects obtained by representative inventions among the inventions disclosed in this section is as follows.
すなわち、金型の成形分割平面に対して局所的に加わる
応力を均等に分散させながら樹脂の高圧注入を行うこと
によって、成形分割平面の平坦誤差を防止できる。That is, by injecting the resin at high pressure while uniformly distributing the stress locally applied to the molding dividing plane of the mold, it is possible to prevent flatness errors in the molding dividing plane.
また、高精度かつ煩雑な調整作業等を必要とすることな
く、成形分割面の平坦誤差を修正できる。Furthermore, flatness errors in the molded dividing surfaces can be corrected without requiring highly accurate and complicated adjustment work.
これらにより平坦誤差にともなう隙間の発生に起因する
レジンフラッシュを防止でき、樹脂封止形半導体装置に
おける信頼性の高いパッケージ成形が可能となる。These can prevent resin flash caused by gaps caused by flatness errors, and enable highly reliable package molding of resin-sealed semiconductor devices.
第1図は本発明の一実施例である瞳(脂モールド装置の
金型近傍を示す断面図、
第2図はこの樹脂モールド装置の全体構成図、第3図は
下型のパーティング面における形成状態を示す平面図、
第4図は均圧ブロックを示す斜視図、
第5図はリードフレームの板厚のばらつき状態を示す説
明図、
第6図および第7図はリードフレームの板厚寸法誤差と
レジンフラッシュとの発生関係を示す説明図、
第8図および第9図は金型に対する押え面積とレジンフ
ラッシュの発生状態の関係を示す説明図、第10図は本
実施例によって得られる半導体装置を示す断面図、
第11図は従来技術における樹脂モールド装置の概略を
示す説明図、
第12図は従来技術における半導体装置のレジンフラッ
シュの発生状態を示す平面図である。
■・・・樹脂モールド装置、2・・・固定プラテン、3
・・・上型部、4・・・可動プラテン、5・・・下型部
、6・・・装置基台、7・・・支住、8・・・タブレッ
ト、8a・・・溶融樹脂、10・・・トランスファンリ
ング、11・・・プラテン駆動用シリンダ、12・・・
制御部、13・・・均圧ブロック(均圧機構)、14・
・・下型ペースユニント、14a・・・ユニソ+−本、
tt、15・・・下金型、16・・・サポートピラ、1
7・・・上型ベースユニ7)、18・・・上金型、20
・・ ・ポット、21・・・プランジャ、22・・・ヒ
ータ、23・・・断熱板、24・・・当て板、25・・
・作動油、26・・・カル、27・・・ランナ、28・
・・ゲート、30・・・リードフレーム、31・・・キ
ャビティ、32・・・流通管(流体流通管)、33・・
・ロッド、34・・・ストッパ、35・・・パッケージ
本体、36 ・ ・ ・ リード、37 ・ ・ ・ダ
ム、38 ・ ・タブ、40・・・接合材、41・・・
半導体ペレット、41a・・・電極パッド、42・・・
ワイヤ、43・・・半導体装置、51・・・可動プラテ
ン、52・・・サポートピラ、53・・・下型ベースユ
ニット、54・・・下金型、55・・ヒータ、56・・
・上型ベースユニット、57・・・上金型、58・・・
キャビティ、60・・・ポット、61・・・プランジャ
、62・・・リードフレーム、63・・・タブレット、
64・・・ランナ、65・・・ゲート、66・・・リー
ド、P・・・パーティング面、R・・・レジンフラッシ
ュ、S1〜S5・・・油圧シリンダ。
代理人 弁理士 筒 井 大 和
第
図
第
図
第
図
第
図
第
図
第
図
第
図Fig. 1 is a cross-sectional view showing the vicinity of the mold of a resin molding device, which is an embodiment of the present invention; Fig. 2 is an overall configuration diagram of this resin molding device; Fig. 4 is a perspective view showing the pressure equalizing block; Fig. 5 is an explanatory diagram showing variations in the thickness of the lead frame; Figs. 6 and 7 are the thickness dimensions of the lead frame. An explanatory diagram showing the relationship between errors and the occurrence of resin flash. Figures 8 and 9 are explanatory diagrams showing the relationship between the pressing area for the mold and the occurrence of resin flash. Figure 10 is an illustration of the semiconductor obtained by this example. 11 is an explanatory diagram showing an outline of a resin molding device in the prior art, and FIG. 12 is a plan view showing a state in which resin flash occurs in a semiconductor device in the prior art. ■...Resin Mold device, 2... Fixed platen, 3
... Upper mold part, 4... Movable platen, 5... Lower mold part, 6... Device base, 7... Support, 8... Tablet, 8a... Molten resin, 10...Transfer fan ring, 11...Platen drive cylinder, 12...
Control unit, 13... pressure equalization block (pressure equalization mechanism), 14.
...lower pace unit, 14a...uniso +- book,
tt, 15...Lower mold, 16...Support pillar, 1
7... Upper mold base unit 7), 18... Upper mold, 20
... Pot, 21... Plunger, 22... Heater, 23... Heat insulation plate, 24... Backing plate, 25...
・Hydraulic oil, 26...Cal, 27...Runner, 28.
...gate, 30...lead frame, 31...cavity, 32...flow pipe (fluid flow pipe), 33...
・Rod, 34...stopper, 35...package body, 36...lead, 37...dam, 38...tab, 40...bonding material, 41...
Semiconductor pellet, 41a... Electrode pad, 42...
Wire, 43... Semiconductor device, 51... Movable platen, 52... Support pillar, 53... Lower die base unit, 54... Lower die, 55... Heater, 56...
・Upper mold base unit, 57... Upper mold, 58...
Cavity, 60... Pot, 61... Plunger, 62... Lead frame, 63... Tablet,
64...Runner, 65...Gate, 66...Lead, P...Parting surface, R...Resin flash, S1-S5...Hydraulic cylinder. Agent: Patent Attorney Daiwa Tsutsui
Claims (5)
キャビティ内への樹脂の高圧注入の際に、上記金型の成
形分割平面に対して局所的に加わる応力を成形分割平面
全体に対して均等に分散させながら行うことにより該キ
ャビティ形状に対応した樹脂モールドパッケージを形成
することを特徴とする半導体装置の製造方法。1. When injecting resin at high pressure into multiple cavities formed on the molding dividing plane of a pair of upper and lower molds, the stress applied locally to the molding dividing plane of the mold is applied to the entire molding dividing plane. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising forming a resin mold package corresponding to the shape of the cavity by uniformly dispersing the resin.
わった場合には、該局部において上記応力に対向する押
圧力を生成することを特徴とする請求項1記載の半導体
装置の製造方法。2. 2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein when stress is applied locally on a molding dividing plane of said mold, a pressing force opposing said stress is generated in said local area.
キャビティ内への樹脂の高圧注入によってキャビティ形
状に対応したパッケージを形成する樹脂モールド装置で
あって、少なくとも上記金型あるいはこの金型を保持す
る基体において、流体が充填されるとともに互いに流体
流通管によって連結された複数のシリンダからなる均圧
機構を備えており、該均圧機構の各シリンダはその各ロ
ッド端面によって上記金型あるいは上記基体を支持して
いることを特徴とする樹脂モールド装置。3. A resin molding device that forms a package corresponding to the shape of the cavity by high-pressure injection of resin into a plurality of cavities formed on a molding division plane of a pair of upper and lower molds, and the apparatus holds at least the mold or the mold. The base body is equipped with a pressure equalization mechanism consisting of a plurality of cylinders filled with fluid and connected to each other by fluid flow pipes, and each cylinder of the pressure equalization mechanism is connected to the mold or the base body by its respective rod end surface. A resin molding device characterized by supporting.
ンダの各ロッド端面は上記流体流通管によって伝えられ
た油圧によって上記金型の成形分割平面を均等に支持し
ていることを特徴とする請求項3記載の樹脂モールド装
置。4. Claim characterized in that the fluid filled in the cylinder is oil, and each rod end face of each cylinder equally supports the molding dividing plane of the mold by hydraulic pressure transmitted by the fluid flow pipe. 3. The resin molding device according to 3.
トッパが備えられており、上記ロッド端面の最大偏位置
が制御されていることを特徴とする請求項3記載の樹脂
モールド装置。5. 4. The resin molding apparatus according to claim 3, wherein the support surface of the pressure equalizing mechanism is provided with a stopper controlled to a predetermined height, and the maximum eccentric position of the rod end surface is controlled.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26516188A JPH02111039A (en) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | Method for manufacturing semiconductor devices and resin molding equipment used therein |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26516188A JPH02111039A (en) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | Method for manufacturing semiconductor devices and resin molding equipment used therein |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02111039A true JPH02111039A (en) | 1990-04-24 |
Family
ID=17413463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26516188A Pending JPH02111039A (en) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | Method for manufacturing semiconductor devices and resin molding equipment used therein |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02111039A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100441188B1 (en) * | 2000-08-30 | 2004-07-22 | 토와 가부시기가이샤 | Pressing method, pressing mechanism and resin molding device |
JP2007190814A (en) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Apic Yamada Corp | Molding die |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26516188A patent/JPH02111039A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100441188B1 (en) * | 2000-08-30 | 2004-07-22 | 토와 가부시기가이샤 | Pressing method, pressing mechanism and resin molding device |
JP2007190814A (en) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Apic Yamada Corp | Molding die |
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