JPH0145902B2 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 103
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 82
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 82
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 39
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 22
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 20
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 14
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 14
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 13
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 12
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims description 11
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 11
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 9
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 9
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 9
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 8
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 8
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims description 7
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 5
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 69
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 27
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 12
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 6
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical class CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Natural products CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- RBYJOOWYRXEJAM-UHFFFAOYSA-M sodium;5,9-dianilino-7-phenylbenzo[a]phenazin-7-ium-4,10-disulfonate Chemical compound [Na+].C=1C=CC=CC=1[N+]1=C2C=C(NC=3C=CC=CC=3)C(S(=O)(=O)[O-])=CC2=NC(C2=CC=CC(=C22)S([O-])(=O)=O)=C1C=C2NC1=CC=CC=C1 RBYJOOWYRXEJAM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- BATOPAZDIZEVQF-MQQKCMAXSA-N (E,E)-2,4-hexadienal Chemical compound C\C=C\C=C\C=O BATOPAZDIZEVQF-MQQKCMAXSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical group C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYXHKHDZJSDWEF-LHLOQNFPSA-N CCCCCCC1=C(CCCCCC)C(\C=C\CCCCCCCC(O)=O)C(CCCCCCCC(O)=O)CC1 Chemical compound CCCCCCC1=C(CCCCCC)C(\C=C\CCCCCCCC(O)=O)C(CCCCCCCC(O)=O)CC1 KYXHKHDZJSDWEF-LHLOQNFPSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical group OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-2-naphthylamine Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1NC1=CC=CC=C1 KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N isopropyl alcohol Natural products CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical class COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical group OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- BATOPAZDIZEVQF-UHFFFAOYSA-N sorbic aldehyde Natural products CC=CC=CC=O BATOPAZDIZEVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKBXPLYSDKSFEQ-UHFFFAOYSA-L turquoise gll Chemical compound [Na+].[Na+].[Cu+2].N1=C(N=C2[N-]3)[C]4C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC4=C1N=C([N-]1)C4=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C4C1=NC(C=1C4=CC=CC=1)=NC4=NC3=C1[C]2C=CC=C1 DKBXPLYSDKSFEQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWABICBDFJMISP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC(C(C)=C)=CC(C(C)=C)=C1 CWABICBDFJMISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(C)=C)C=C1 ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUDLWRCUFOLJES-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyethanol;hydrate Chemical compound O.CCCCOC(C)O VUDLWRCUFOLJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHNJVKIVSXGYBD-UHFFFAOYSA-N 10-prop-2-enoyloxydecyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCCCCCCCCCOC(=O)C=C RHNJVKIVSXGYBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical group C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIGVPIXONIAZHK-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO MIGVPIXONIAZHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1 SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARKDCHXUGNPHJU-UHFFFAOYSA-N 2,7-dimethylocta-2,6-dienediamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CCCC=C(C)C(N)=O ARKDCHXUGNPHJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCOC(=O)C(C)=C QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAPDDMLAYOSJDQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl-prop-2-enoylamino]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN(C(=O)C=C)CCOC(=O)C(C)=C QAPDDMLAYOSJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQFMZZXTUFBRIU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-hydroxyethyl(2-methylprop-2-enoyl)amino]ethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)N(CCO)CCOC(=O)C=C YQFMZZXTUFBRIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical group CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQHWUYVHKRVCMD-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethyl-10-phenylphenazin-10-ium-2,8-diamine;chloride Chemical compound [Cl-].C12=CC(N(C)C)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SQHWUYVHKRVCMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJOGRWSDLNNDHP-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(CC)CCOC(=O)C(C)=C DJOGRWSDLNNDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLZQYRWXRDHBR-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dihydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,2-diol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical group CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.C=1C=CC(O)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O CYLZQYRWXRDHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-n-[(prop-2-enoylamino)methyl]propanamide Chemical compound BrCCC(=O)NCNC(=O)C=C CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRLSTWVLSWCGBT-UHFFFAOYSA-N 4-((4,6-bis(octylthio)-1,3,5-triazin-2-yl)amino)-2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC(SCCCCCCCC)=NC(NC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=N1 QRLSTWVLSWCGBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALJHHTHBYJROOG-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)phenothiazin-3-one Chemical compound C1=CC(=O)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 ALJHHTHBYJROOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 241000271566 Aves Species 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920013646 Hycar Polymers 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N N,N'-dibutylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)NCCCC KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019484 Rapeseed oil Nutrition 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 235000019485 Safflower oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N Tetramethylthiourea Chemical compound CN(C)C(=S)N(C)C MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVGGFVNRRGKACD-UHFFFAOYSA-N [2,2,4-trimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C(C)C)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C TVGGFVNRRGKACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N [2-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHTJVCVAGSECMN-UHFFFAOYSA-N [2-(ethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CCNC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 XHTJVCVAGSECMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCEDRXYMELQBIW-UHFFFAOYSA-N [2-(prop-2-enoyloxymethyl)phenyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1COC(=O)C=C DCEDRXYMELQBIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFQSMLBZXQOMKK-UHFFFAOYSA-N [3-[(4,8-diamino-6-bromo-1,5-dioxonaphthalen-2-yl)amino]phenyl]-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC(NC=2C(C3=C(N)C=C(Br)C(=O)C3=C(N)C=2)=O)=C1 RFQSMLBZXQOMKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde dimethyl acetal Natural products COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)OC=C)=C1 FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N bis(prop-2-enyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- VERAMNDAEAQRGS-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCCS(O)(=O)=O VERAMNDAEAQRGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical group CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- BBFBNDYGZBKPIA-UHFFFAOYSA-K dichlorozinc [7-(diethylamino)phenothiazin-3-ylidene]-dimethylazanium chloride Chemical compound [Cl-].Cl[Zn]Cl.C1=CC(=[N+](C)C)C=C2SC3=CC(N(CC)CC)=CC=C3N=C21 BBFBNDYGZBKPIA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- SEACYXSIPDVVMV-UHFFFAOYSA-L eosin Y Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C([O-])=C(Br)C=C21 SEACYXSIPDVVMV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-[3-(ethylamino)-6-ethylimino-2,7-dimethylxanthen-9-yl]benzoate;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical class O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N n'-(2-aminoethyl)ethane-1,2-diamine;2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.NCCNCCN IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 235000019809 paraffin wax Nutrition 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Chemical group COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 235000005713 safflower oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003813 safflower oil Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001016 thiazine dye Substances 0.000 description 1
- 229950003937 tolonium Drugs 0.000 description 1
- HNONEKILPDHFOL-UHFFFAOYSA-M tolonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=C(C)C(N)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 HNONEKILPDHFOL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
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-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description
本発明は光感受性フレクソ印刷用エレメントに
関する。更に詳しくは本発明はその光感受性層が
接着剤ブレンドによつて支持体に結合されている
光感受性フレクソ印刷用エレメントに関する。
光感受性フレクソグラフイー印刷プレートは印
刷商業においてより重要となつてきている。その
ようなフレクソグラフイー印刷プレートの製造に
対して特に有用な組成物は場合によりカルボキシ
ル基を含有するブタジエン/アクリロニトリル重
合体、付加重合性エチレン性不飽和化合物および
光開始剤を含有している。この組成物は層に形成
されそしてこれは一般に可撓性支持体に積層され
る。支持体に対する光感受性層の接着は支持体へ
の層の結合に対して接着剤組成物が使用されない
場合には不充分であることが見出されている。光
感受性フレクソグラフイー層に関する米国特許第
4177074号明細書(第9欄第10〜16行)において
は既知の接着剤組成物を使用して強い接着を生成
させることができると開示している。その他の既
知の接着剤は硬化剤例えばイソシアネートと共に
使用できるポリエステルタイプのものである。こ
れら接着剤は光感受性層と支持体との間に改善さ
れた結合を与えるけれども、すべての条件下に所
望の標準に達するものではない。イソシアヌート
硬化剤を含有するポリエステル接着剤は製造後ほ
とんど瞬間的に光感受性層と接触させなくてはな
らない。さもないと、この接着剤の時期尚早の硬
化の故に劣つた結合を与える結果となる。接着剤
ブレンドは印刷プレートにおいては、光感受性層
を支持体に結合させるに有用であることが知られ
ている。しかしながらフレクソグラフイー印刷プ
レート中に接着剤ブレンドが使用されるというこ
とは以前には知られていない。
光感受性層と支持体との間に優れた接着を有し
ている光感受性フレクソグラフイーエレメントを
提供することが本発明の目的である。その他の目
的は硬化段階を必要とすることなしに接着剤ブレ
ンドを使用して通常の条件下にそのような接着を
与えることである。
本発明によれば、
(A) 可撓性支持体および
(B) 全組成物重量基準で
(a) 20000〜75000の数平均分子量そして10〜50
重量%のアクリロニトリル含量および0〜15
重量%のカルボキシル含量を有する高分子量
ブタジエン/アクリロニトリル共重合体55〜
90重量%、
(b) 少くとも1個の末端エチレン性基を含有す
る遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合により
高分子量重合体を形成できそして(a)の重合体
と相容性の非気体状エチレン性不飽和化合物
2〜40重量%、および
(c) 不飽和化合物の重合を開始させる活性線放
射によつて活性化可能な有機放射感受性遊離
ラジカル生成系0.001〜10重量%
を包含する光感受性弾性体状組成物の層
からなりそして層(A)と層(B)との間に
(1) 約6:2:1:3のモル比のエチレングリコ
ール、テレフタル酸、イソフタル酸およびアゼ
ライン酸の縮合重合体でありそして約19000の
数平均分子量および約37000の重量平均分子量
を有する、接着剤組成物の全樹脂重量基準で0
〜78重量%のポリエステル樹脂、
(2) メチルエチルケトン中5重量%固体分でそし
てブルツクフイールドスピンドル#3を12rpm
で使用して100〜1200のブルツクフイールド粘
度を有し、そして54〜63℃範囲の接着活性化温
度を有する、接着剤組成物中の全樹脂重量基準
で0〜78重量%の結晶性熱可塑性樹脂であるポ
リエーテルポリウレタン樹脂、
(3) 132〜145℃のボール・アンド・リング軟化
点、210℃で40〜60ポアズの粘度、ASTM D
―1708により−18℃で測定して130,24℃で測
定して560そして60℃で測定して100の伸度%、
ASTM D―1708により−18℃で測定して
4000psi、24℃で測定して450psiそして60℃で
測定して170psiの引張り破断点を有する、接着
剤組成物の全樹脂重量基準で0〜94重量%の熱
可塑性二量体酸ポリアミド樹脂であるポリアミ
ド、および
(4) 150〜160℃のボール・アンド・リング軟化
点、210℃で28〜38ポアズの粘度、ASTM D
―1708により−18℃で測定して350,24℃で測
定して250そして60℃で測定して40の伸度%、
ASTM D―1708により−18℃で測定して
2200psi、24℃で測定して360psiそして60℃で
測定して50psiの引張り破断点を有する、接着
剤組成物の樹脂全重量基準で0〜97重量%の熱
可塑性二量体酸ポリアミド樹脂であるポリアミ
ド
よりなる群から選ばれた少くとも2種の重合体の
ブレンドを包含する接着剤組成物の層
を包含する光感受性フレクソグラフイーエレメン
トが提供される。
本発明のエレメント中に使用される光感受性組
成物は可撓性支持体すなわちプラスチツクフイル
ムおよび金属よりなる群から選んだ支持体に接着
せしめられる。そのような支持体の例としては、
重合体状フイルム支持体例えばポリエチレンテレ
フタレート、火炎処理ポリエチレンテレフタレー
ト、電子放電処理ポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド例えばここに参照として包含されてい
る米国特許第3179634号明細書その他に開示のフ
イルムおよび薄い金属支持体例えばアルミニウ
ム、錫めつきスチール(艷消しまたは光沢性)が
あげられる。重合体支持体は一般に0.001インチ
〜0.007インチ(0.025〜0.18mm)範囲の厚さを有
している。金属支持体は一般にアルミニウムに対
して0.010〜0.0115インチ(0.25〜0.29mm)範囲、
そして錫めつきスチールに対しては0.008〜0.010
インチ(0.20〜0.25mm)範囲の厚さを有してい
る。本明細書に開示の光感受性組成物は、それら
の未露光状態においては光感受性組成物の重合体
結合前成分のカルボキシル含量によつて水性、半
水性塩基性または溶媒溶液中で現像可能である。
この光感受性層は0.0005〜0.250インチ(約0.013
〜6.35mm)またはそれ以上の厚さ範囲にある。
光感受性弾性体状組成物の一つの本質的成分(a)
は、約20000〜約75000の範囲、好ましくは約
25000〜約50000範囲の数平均分子量を有する高分
子量ブタジエン/アクリロニトリル共重合体であ
る。本明細書に記載の重合体に対する- Mnはブタ
ジエン標準品を使用したゲル透過クロマトグラフ
イーにより測定することができる。重合体のアク
リロニトリル含量は重量基準で約10〜約50%、好
ましくは約15〜約40%の間で変動する。場合によ
りこの共重合体はまた0〜約15重量%のカルボキ
シル含量を有している。共重合体がカルボキシル
基を含有している場合にはそのカルボキシル含量
は好ましくは約1〜約15%の範囲、好ましくは約
2〜約10重量%の範囲である。共重合体は組成物
の全重量基準で約55〜90重量%、そして好ましく
は約60〜約75重量%量で存在する。特にフレクソ
グラフイープレートのための光感受性エレメント
に対して充分な可撓性および物理的一体性を与え
るためには少くとも約55重量%の共重合体が必要
である。
カルボキシル基は、重合過程にカルボキシル含
有単量体例えばアクリルまたはメタクリル酸また
はカルボキシル含有基に変換可能な単量体例えば
マレイン酸無水物またはメチルメタクリレートを
加えることによつて高分子量共重合体中に包含さ
せることができる。そのような重合体はいくつか
の供給源例えばビー・エフ・グードリツチ・ケミ
カル・コンパニーから「ハイカー(Hycar
)」
の商品名で市場的に入手可能である。
本発明の光感受性組成物のその他の本質的成分
(b)は少なくとも1個の末端エチレン性基を含有す
る非ガス状エチレン性不飽和化合物である。この
化合物は遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合によ
つて高分子量重合体を形成しうるものであるべき
でありそして前記(a)の高分子量重合体と相溶性で
あるべきである。適当なエチレン性不飽和化合物
の一つの群としては、アルコールの不飽和エステ
ル、特にα―メチレンカルボン酸および置換α―
メチレンカルボン酸のそのようなエステル、より
特別にはアルキレンポリオールおよびポリアルキ
レンポリオールのそのようなエステル、そして最
も特別には2〜15個の炭素原子数のアルキレンポ
リオールまたは1〜10個のエーテル結合のポリア
ルキレンエーテルポリオールまたはグリコールか
ら製造されたアルキレンポリオールジおよびトリ
アクリレートおよびポリアルキレンポリオールジ
およびトリアクリレートがあげられる。
次の具体的化合物はこの群のその他の例であ
る。エチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、グリセロールジ
アクリレート、グリセロールトリアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3―プロ
パンジオールジメタクリレート、1,2,4―ブ
タントリオールトリメタクリレート、1,4―シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、1,4―
ベンゼンジオールジメタクリレート、1,2―ベ
ンゼンジメタノールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、1,3―プロパンジ
オールジアクリレート、1,3―ペンタンジオー
ルジメタクリレート、p―α,α―ジメチルベン
ジルフエニルアクリレート、第3級ブチルアクリ
レート、N,N―ジエチルアミノエチルアクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、
1,4―ブタンジオールジアクリレート、ヘキサ
メチレングリコールジアクリレート、デカメチレ
ングリコールジアクリレート、2,2―ジメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、2,2―ジ(p―ヒド
ロキシフエニル)プロパン、2,2―ジ(ジ―ヒ
ドロキシフエニル)プロパンジメタクリレート、
ポリオキシエチル―2,2―ジ(p―ヒドロキシ
フエニル)プロパントリアクリレート(分子量
462)、1,4―ブタンジオールジメタクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジメタクリレー
ト、2,2,4―トリメチル―1,3―ペンタン
ジオールジメタクリレート、1―フエニルエチレ
ン―1,2―ジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールアク
リレートフタレート、ポリオキシエチルトリメチ
ロールプロパントリアクリレート、芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物例えばビスフエノール、ノボラツ
クおよび例えばここに参照として包含されている
米国特許第3661576号明細書記載の同様の化合物
から導かれたジエポキシポリエーテルのジアクリ
レートおよびメタクリレートエステル、分子量
200〜500のポリエチレングリコールのビスアクリ
レートおよびメタクリレートがあげられる。
その他の適当なエチレン性不飽和化合物群とし
てはここに参照として包含されている米国特許第
2927022号明細書に開示の化合物例えば特に末端
結合として存在する場合の複数個の付加重合性エ
チレン性結合を有する化合物、そして特にそのよ
うな結合の少くとも1個そして好ましくはほとん
どが炭素―炭素二重結合および炭素―ヘテロ原子
(例えば窒素、酸素および硫黄)二重結合を含む
二重結合炭素と共役しているものがあげられる。
エチレン性不飽和基特にビニリデン基がエステル
またはアミド構造に共役しているそのような物質
が好ましい。そのような化合物の具体例として
は、不飽和アミド、特にα―メチレンカルボン酸
と特にα,ω―ジアミンおよび酸素中断ω―ジア
ミンとのアミド例えばメチレンビスアクリルアミ
ド、メチレンビスメタクリルアミド、エチレンビ
スメタクリルアミド、1,6―ヘキサメチレンビ
スアクリルアミド、ジエチレントリアミントリス
メタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロ
ポキシ)エタン、β―メタクリルアミドエチルメ
タクリレート、N―(β―ヒドロキシエチル)―
β―(メタクリルアミド)エチルアクリレートお
よびN,N―ビス(β―メタクリルオキシエチ
ル)アクリルアミド、ビニルエステル例えばジビ
ニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニ
ルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニ
ルベンゼン―1,3―ジスルホネートおよびジビ
ニルブタン―1,4―ジスルホネート、ジアリル
フマレートその他があげられる。
使用しうるその他のエチレン性不飽和化合物と
してはステレンおよびその誘導体、1,4―ジイ
ソプロペニルベンゼン、1,3,5―トリイソプ
ロペニルベンゼン、イタコン酸無水物とヒドロキ
シエチルアクリレートとのアダクト(1:1)、
イタコン酸無水物と末端アミノ基を有する液体状
ブタジエン/アクリロニトリル重合体とのアダク
ト、および米国特許第3661576号明細書記載のジ
エポキシポリエーテルのジアクリレートおよびジ
メタクリレートエステルとイタコン酸無水物との
アダクト、末端および懸垂ビニル基を含有するポ
リブタジエンおよびブタジエン/アクリロニトリ
ル共重合体、および不飽和アルデヒド例えばソル
ブアルデヒド(2,4―ヘキサジエナール)があ
げられる。
水性塩基性現像可能な系が包含される場合に
は、水溶性であるかまたはカルボキシルまたはそ
の他のアルカリ反応性基を含有するエチレン性不
飽和化合物が特に適当である。更に米国特許第
3043805号および同第2929710号明細書記載の重合
性エチレン性不飽和重合体および同様の物質を単
独でかまたはその他の物質と混合して使用するこ
とができる。エチレンオキサイドと多価ヒドロキ
シ化合物とのアダクトのアクリルおよびメタクリ
ルエステル例えば米国特許3380831号明細書記載
のものもまた有用である。米国特許第3418295号
および同第3448089号各明細書に開示の光交叉結
合性重合体もまた使用できる。これらすべての特
許明細書はここに参照として包含されている。
添加される不飽和化合物の量は組成物の全重量
基準で約2〜約40重量%の範囲であるべきであ
る。最適結果のための特定の量は、使用される特
定の重合体に応じて変動する。好ましくは不飽和
化合物の量は約5〜約25%の範囲である。
好ましくはこのエチレン性不飽和化合物は常圧
で約100℃以上の沸点を有している。最も好まし
いエチレン性不飽和化合物はトリエチレングリコ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、ヘキサメチレングリコールジメ
タクリレートおよびヘキサメチレングリコールジ
アクリレートである。
本発明の光感受性組成物は前記の薄い層の形の
場合には実質的に活性線放射を散乱しない。実質
的に透明な混合物すなわち非放射散乱性混合物を
確実ならしめるためにはそのブタジエン共重合体
および重合体成分は使用される比率においてエチ
レン性不飽和化合物と相容性であるべきであり、
そして好ましくはその中に可溶性であるべきであ
る。
「相容性」とは有意量の活性線放射を散乱させ
ることなく2種またはそれ以上の成分が相互に分
散状態に留まりうることを意味している。相容性
は往々にして成分の相対比率により限定され、そ
して非相容性は光感受性組成物中のくもり(ヘイ
ズ)の形成によつて証明される。印刷レリーフの
製造においては、露光の前または露光中のいくら
かのわずかなくもりは許容されうる。しかしなが
ら細かい詳細(デテール)が所望される場合に
は、くもりは完全に除去されるべきである。使用
されるエチレン性不飽和化合物またはいずれかの
その他の成分の量は従つて望ましくない光散乱ま
たはくもりを生ぜしめない濃度に限定される。
本発明の光感受性組成物のその他の本質的成分
(c)は有機放射感受性遊離ラジカル生成系である。
実際には不飽和化合物の重合を開始させそして重
合を過剰に停止させないすべての有機放射感受性
遊離ラジカル生成系を本発明の光感受性組成物中
に使用することができる。「有機」なる表現は、
本明細書においては炭素、そして酸素、水素、窒
素、硫黄およびハロゲンの1種またはそれ以上を
含有するがしかし金属を含有しない化合物を意味
して使用されている。プロセス透明画は活性放射
源の通常の光源から生ずる熱を伝達しそして光感
受性組成物は通常高温を与えるような条件下に製
造されるのであるから、好ましい遊離ラジカル生
成性化合物は85℃以下、そしてより好ましくは
185℃以下では熱的に不活性である。それらは比
較的短時間の露光において吸収される放射量の影
響下に所望の重合または交叉結合を開始させるに
必要な程度まで組成物中に分散可能であるべきで
ある。これら開始剤は溶媒不含の光感受性組成物
の全重量基準で約0.001〜約10重量%、そして好
ましくは約0.1〜約5%の量で有用である。
この遊離ラジカル生成系は約2000〜約8000Åの
範囲内の放射を吸収し、そしてこれは約2500〜約
8000Åそして好ましくは約2500〜5000Åの範囲内
に少くとも約50の分子吸光係数を有する活性放射
吸収バンドを有する少くとも1種の成分を有して
いる。「活性放射吸収バンド」なる表現は不飽和
物質の重合または交叉結合を開始させるに必要な
遊離ラジカルを生成させるに活性な放射バンドを
意味している。
遊離ラジカル生成系は放射により活性化された
場合に直接遊離ラジカルを与える1種またはそれ
以上の成分を包含しうる。それはまたその一つは
放射により活性化された増感剤により活性化され
た後に遊離ラジカルを生成するような複数の化合
物をも包含しうる。
本発明の実施においては多数のそのような遊離
ラジカル生成性化合物を使用することができ、そ
してこれらとしては芳香族ケトン例えばベンゾフ
エノン、ミヒラーのケトン〔4,4′―ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフエノン〕、4,4―ビス
(ジエチルアミノベンゾフエノン、4―アクリル
オキシ―4′―ジメチルアミノベゾフエノン、4―
アクリルオキシ―4′―ジエチルアミノベゾフエノ
ン、4―メトキシ―4′―ジメチルアミノベンゾフ
エノン、2―フエニル―2,2―ジメトキシアセ
トフエノン、2―エチルアントラキノン、フエナ
ントラキノン、2―第3級ブチルアトラキノン、
1,2―ベンズアントラキノン、2,3―ベンズ
アトラキノン、2,3―ジクロロナフトキノン、
ベンジルジメチルアセタール、よびその他の芳香
族ケトン、ベンゾイン、ベンゾインエーテル例え
ばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテルおよび
ベンゾインフエニルエーテル、メチルベンゾイ
ン、エチルベンゾインおよびその他のベンゾイ
ン、および2,4,5―トリアリールイミダゾー
ル二量体例えば2―(o―クロロフエニル)―
4,5―ジフエニルイミダゾリル二量体、2―
(o―クロロフエニル)―4,5―ジ(m―メト
キシフエニル)イミダゾリル二量体、(2―(o
―フルオロフエニル)―4,5―ジフエニルイミ
ダゾリル二量体、2―(o―メトキシフエニル)
―4,5―ジフエニルイミダゾリル二量体、2―
(p―メトキシフエニル)―4,5―ジフエニル
イミダゾリル二量体、2,4―ジ(p―メトキシ
フエニル)―5―フエニルイミダゾリル二量体、
2―(2,4―ジメトキシフエニル)―4,5―
ジフエニルイミダゾリル二量体、2―(p―メチ
ルメルカプトフエニル)―4,5―ジフエニルイ
ミダゾリル二量体、米国特許第3479185号および
同第3784557号、英国特許第997396号および同第
1047569号各明細書に記載のようなその他のもの
があげられる。これら特許はここに参照として包
含されている。
イミダゾリル二量体は遊離ラジカル生成性電子
ドナー例えば2―メルカプトベンゾキサゾール、
ロイコクリスタルバイオレツトまたはトリ(4―
ジエチルアミノ―2―メチルフエニル)メタンと
共に使用することができる。ミヒラーのケトンの
ような増感剤を加えることができる。種々のエネ
ルギー伝達染料例えばローズベンガルおよびエオ
ジンYもまた使用しうる。適当な開始剤のその他
の例はここに参照として包含されている米国特許
第2760863号明細書中に開示されている。
光感受性組成物はまた少量すなわち溶媒不含光
感受性組成物全重量基準で例えば0.001〜2.0%の
熱付加重合阻害剤を含有しうる。適当な阻害剤と
してはヒドロキノンおよびアルキルおよびアリー
ル置換ヒドロキノン、2,6―ジ第3級ブチル4
―メチルフエノール、p―メトキシフエノール、
第3級ブチルピロカテコール、ピロガロール、β
―ナフトール、2,6―ジ第3級ブチル―p―ク
レゾール、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼンおよびここに参照とし
て包含されている米国特許第4168982号明細書記
載のニトロソ二量体阻害剤系があげられる。その
他の有用な阻害剤としてはp―トルキノン、クロ
ラニル、およびチアジン染料例えばチオニンブル
ーG(CI 52025)、メチレンブルーB(CI 52015)
およびトルイジンブルー(CI 52040)があげら
れる。そのような組成物は阻害剤を除去すること
なしに光重合または光交叉結合させることができ
る。好ましい阻害剤は2,6―ジ第3級ブチル―
4―メチルフエノールおよびp―メトキシフエノ
ールである。
本発明の光感受性組成物およびそれから製造さ
れた印刷レリーフの酸素およびオゾン抵抗性はそ
の光感受性組成物中に相容性ある周知の酸化防止
剤および/またはオゾン分解防止剤の適当量を包
含させることによつて改善できる。本発明に有用
な酸化防止剤としてはアルキル化フエノール例え
ば2,6―ジ第3級ブチル―4―メチルフエノー
ル、アルキル化ビスフエノール例えば2,2―メ
チレン―ビス―(4―メチル―6―第3級ブチル
フエノール)、1,3,5―トリメチル―2,4,
6―トリス(3,5―ジ第3級ブチル―4―ヒド
ロキシベンジル)ベンゼン、2―(4―ヒドロキ
シ―3,5―ジ第3級ブチルアニリノ)―4,6
―ビス(n―オクチルチオ)―1,3,5―トリ
アジン、重合トリメチルジヒドロキノンおよびジ
ラウリルチオプロピオネートがあげられる。
本発明に有用なオゾン分離防止剤としては微晶
性ワツクスおよびパラフインワツクス、ジブチル
チオ尿素、1,1,3,3―テトラメチル―2―
チオ尿素、「アンチオゾナント」AFD(Nafton社
製品)、ノルボルネン例えばジ―5―ノルボルネ
ン―2―メチルアジペート、ジ―5―ノルボルネ
ン―2―メチルテレフタレート、「オゾンプロテ
クター」80(Reichhld Chem.社製品)、N―フエ
ニル―2―ナフチルアミン、不飽和植物油例えば
なたね油、あまに油、サフラワー油、重合体およ
び樹脂例えばエチレン/ビニルアセテート共重合
体樹脂、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化
ポリエチレン、塩素化エチレン/メタクリル酸共
重合体、ポリウレタン、ポリペンタジエン、ポリ
ブタジエン、フルフラール誘導体樹脂、エチレ
ン/プロピレン/ジエンゴム、ロジンのジエチレ
ングリコールエステルおよびα―メチルスチレ
ン/ビニルトルエン共重合体があげられる。製造
された印刷レリーフのオゾン抵抗性はまた使用前
に高温でそれをやきなましすることによつても改
善できる。
所望により光感受性組成物には、光感受性物質
の露光に使用される波長で本質的に透明なそして
活性線放射を散乱させない非混和性の重合体状ま
たは非重合体状有機または無機充填剤または補強
剤例えばポリスチレン、有機親和性シリカ、ベン
トナイト、シリカ、粉末ガラス、コロイドカーボ
ンならびに種々のタイプの染料および顔料をも含
有させることができる。そのような物質は弾性体
状組成物の所望される性質によつて種々の量で使
用される。充填剤は弾性体層の強度改善、タツク
(粘着性)減少そして更に着色剤として有用であ
る。
光感受性層は好ましくは結合剤のガラス転移温
度を低下させそして選択的現像を容易ならしめる
ため、相容性可塑剤を含有している。この可塑剤
は重合体結合剤と相容性の一般的可塑剤のいずれ
かでありうる。一般的可塑剤の中にはジアルキル
フタレート、アルキルホスフエート、ポリエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコールエステル
およびポリエチレングリコールエーテルがある。
その他の有用な可塑剤としてはオレイン酸、ラウ
リン酸その他があげられる。ポリエステル例えば
ポリエチレンセバケートその他は好ましい可塑剤
である。可塑剤は一般に光感受性組成物の全固体
分の重量基準で1〜15重量%量で存在する。
本発明の光感受性組成物は任意の適当な方法で
各成分すなわち(a)高分子量ブタジエン/アクリロ
ニトリル共重合体、(b)相容性エチレン性不飽和化
合物および(c)遊離ラジカル生成系を混合すること
によつて製造することができる。例えば流動性組
成物はそれらとその他の所望の添加剤を任意の順
序でそして所望により溶媒例えば塩素化炭化水素
例えばクロロホルム、クロロベンゼン、トリクロ
ロエチレンおよびクロロトルエン、ケトン例えば
メチルエチルケトン、ジエチルケトンおよびメチ
ルイソブチルケトン、芳香族炭化水素例えばベン
ゼン、トルエンおよびキシレン、およびテトラヒ
ドロフランの助けをかりて混合することによつて
製造できる。前記溶媒は希釈剤としてアセトン、
低分子量アルコール例えばメチルアルコール、エ
チルアルコールおよびプロピルアルコールおよび
エステル例えば酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢
酸ブチルを含有しうる。この溶媒は後で、その混
合物または押出された層の加熱によつて除去する
ことができる。
これら組成物の製造においては慣用のミル処
理、混合および溶液技術を使用することができ
る。特定の技術はそれぞれの成分の性質の差によ
り変動する。均質で実質的に非放射散乱性の組成
物は任意の所望の方法でシートに成形される。例
えば溶媒流延(キヤステイング)、熱プレス、カ
レンダーがけまたは押出しは所望の厚さの層を製
造するために適当な方法である。
本発明の光感受性エレメントはその光感受性組
成物を高温で溶媒流延または押出し、カレンダー
がけまたはプレス処理によつて適当な成形ホイー
ル、ベルトまたはプラテン上で層または自己支持
性シートの形とすることによつて製造できる。こ
の層またはシートを前記可撓性支持体表面上に積
層させそして以下に記載の接着剤ブレンドによつ
て接着させることができる。溶液が使用される場
合にはコーテイングは接着剤担持支持体上につく
られる。
光感受性層の厚さはレリーフ像中で所望される
厚さの直接の函数であり、そしてこれは複製され
る対象およびレリーフの最終用途に依存する。例
えば厚い軟質レリーフはフレクソグラフイー印刷
に有用でありそして薄い硬いレリーフはプラノグ
ラフイー印刷に対して有用である。一般にこの光
重合性層の厚さは約0.250インチ以下である。例
えばそれは約0.0005〜約0.250インチ(0.00127〜
0.635cm)に変動し、そしてこの厚さ範囲の層が
大多数の印刷プレートに対して使用される。
光感受性層と前記可撓性支持体との間には接着
剤ブレンドの層が置かれるが、これは次の4種の
重合体群からとつた少くとも2種の重合体を包含
している。
(1) ポリエステル樹脂、これはエチレングリコー
ル、テレフタル酸、イソフタル酸およびアゼラ
イン酸のモル比約6:2:1:3の縮合重合体
であり、- Mn19000および- Mn37000を有する。
(2) ポリエーテルポリウレタン樹脂、これはメチ
ルエチルケトン中15%固体分および#3ブルツ
クフイールドスピンドルを使用して12rpmで
100〜1200センチポアズのブルツクフイールド
粘度、そして54〜63℃の範囲の接着剤活性化温
度を有する結晶性熱可塑性樹脂である。このポ
リエーテルポリウレタンは15%の降伏伸長度、
615%の破断点伸長度、600psi(42.18Kg/cm2)
の400%伸長におけるモジユラス、約49℃の結
晶状態破壊(decrystallization)温度を有して
いる。
(3) ポリアミド樹脂、これは半透明の明るい琥珀
色で132〜145℃のボール・アンド・リング軟化
点、210℃で40〜60ポアズの溶融粘度、299℃以
上の発火点、1日の水吸収%0.7、7日の水吸
収%1.6、460psi(32.34Kg/cm2)の引張り降伏強
度、450psi(31.64Kg/cm2)の引張り破断強度お
よび560%の伸長度を有している(引張り降伏
強度、引張り破断強度よび伸長度はASTM法
D―1708によつて24℃で測定される)。
(4) ポリアミド樹脂、このものは半透明の明るい
琥珀色で150〜160℃のボール・アンド・リング
軟化点、210℃において28〜38ポアズの粘度、
1日の水吸収%は1.5、7日の水吸収%は2.8、
そして
The present invention relates to a photosensitive flexographic printing element. More particularly, the present invention relates to a photosensitive flexographic printing element, the photosensitive layer of which is bonded to a support by an adhesive blend. Photosensitive flexographic printing plates are becoming more important in the printing commerce. A particularly useful composition for the production of such flexographic printing plates contains a butadiene/acrylonitrile polymer optionally containing carboxyl groups, an addition polymerizable ethylenically unsaturated compound, and a photoinitiator. . The composition is formed into layers, which are generally laminated to a flexible support. It has been found that the adhesion of the photosensitive layer to the support is insufficient if no adhesive composition is used to bond the layer to the support. U.S. Patent No. 1 for light-sensitive flexographic layers
No. 4,177,074 (column 9, lines 10-16) discloses that known adhesive compositions can be used to create strong bonds. Other known adhesives are of the polyester type which can be used with hardeners such as isocyanates. Although these adhesives provide improved bonding between the photosensitive layer and the support, they do not reach the desired standard under all conditions. Polyester adhesives containing isocyanate curing agents must be brought into contact with the photosensitive layer almost instantaneously after manufacture. Otherwise, premature curing of the adhesive will result in a poor bond. Adhesive blends are known to be useful in printing plates for bonding photosensitive layers to supports. However, the use of adhesive blends in flexographic printing plates has not previously been known. It is an object of the present invention to provide a photosensitive flexographic element that has excellent adhesion between the photosensitive layer and the support. Another objective is to provide such adhesion under normal conditions using adhesive blends without the need for a curing step. According to the invention, (A) a flexible support and (B) a number average molecular weight of (a) from 20,000 to 75,000 and from 10 to 50, based on the weight of the total composition.
Acrylonitrile content in weight% and 0-15
High molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer with carboxyl content of 55% by weight
90% by weight; (b) non-gaseous ethylene capable of forming high molecular weight polymers by free radical-initiated chain extension addition polymerization containing at least one terminal ethylenic group and compatible with the polymer of (a); (c) 0.001 to 10% by weight of an organic radiation-sensitive free radical-generating system activatable by actinic radiation to initiate polymerization of the unsaturated compound; and between layer (A) and layer (B) (1) a condensation of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of about 6:2:1:3. 0 based on the total resin weight of the adhesive composition and having a number average molecular weight of about 19,000 and a weight average molecular weight of about 37,000.
~78 wt% polyester resin, (2) at 5 wt% solids in methyl ethyl ketone and on Bruckfield spindle #3 at 12 rpm.
0 to 78% by weight of the heat of crystallization based on the total resin weight in the adhesive composition, with a Burckfield viscosity of 100 to 1200 and an adhesive activation temperature in the range of 54 to 63°C. Polyether polyurethane resin, which is a plastic resin, (3) ball-and-ring softening point of 132-145°C, viscosity of 40-60 poise at 210°C, ASTM D
-1708, elongation % of 130 measured at -18°C, 560 measured at 24°C and 100 measured at 60°C,
Measured at -18℃ according to ASTM D-1708
0 to 94 weight percent thermoplastic dimeric acid polyamide resin, based on the total resin weight of the adhesive composition, having a tensile point of break of 4000 psi, 450 psi measured at 24°C, and 170 psi measured at 60°C. polyamide, and (4) ball-and-ring softening point of 150-160°C, viscosity of 28-38 poise at 210°C, ASTM D
-1708, elongation % of 350 measured at -18°C, 250 measured at 24°C and 40 measured at 60°C;
Measured at -18℃ according to ASTM D-1708
0 to 97 weight percent thermoplastic dimeric acid polyamide resin, based on the total resin weight of the adhesive composition, having a tensile point of break of 2200 psi, 360 psi measured at 24°C, and 50 psi measured at 60°C. A photosensitive flexographic element is provided that includes a layer of an adhesive composition that includes a blend of at least two polymers selected from the group consisting of polyamides. The photosensitive composition used in the elements of the invention is adhered to a flexible support, ie a support selected from the group consisting of plastic film and metal. Examples of such supports include:
Polymeric film supports such as polyethylene terephthalate, flame treated polyethylene terephthalate, electron discharge treated polyethylene terephthalate,
Polyimides, such as the films disclosed in U.S. Pat. No. 3,179,634, herein incorporated by reference, and elsewhere, and thin metal supports, such as aluminum, tinned steel (brushed or polished). The polymeric support generally has a thickness in the range of 0.001 inch to 0.007 inch (0.025 to 0.18 mm). Metal supports generally range from 0.010 to 0.0115 inches (0.25 to 0.29 mm) for aluminum;
and 0.008 to 0.010 for tinned steel.
It has a thickness in the inch (0.20-0.25mm) range. In their unexposed state, the photosensitive compositions disclosed herein are developable in aqueous, semi-aqueous basic or solvent solutions depending on the carboxyl content of the pre-polymerized component of the photosensitive composition. .
This photosensitive layer is 0.0005 to 0.250 inches (approximately 0.013
~6.35mm) or thicker. One essential component (a) of the photosensitive elastomer composition
ranges from about 20,000 to about 75,000, preferably about
It is a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having a number average molecular weight ranging from 25,000 to about 50,000. -Mn for the polymers described herein can be determined by gel permeation chromatography using butadiene standards. The acrylonitrile content of the polymer varies from about 10 to about 50%, preferably from about 15 to about 40% by weight. Optionally, the copolymer also has a carboxyl content of 0 to about 15% by weight. If the copolymer contains carboxyl groups, its carboxyl content preferably ranges from about 1 to about 15%, preferably from about 2 to about 10% by weight. The copolymer is present in an amount of about 55 to 90% by weight, and preferably about 60 to about 75% by weight, based on the total weight of the composition. At least about 55% by weight copolymer is required to provide sufficient flexibility and physical integrity to the photosensitive element, particularly for flexographic plates. Carboxyl groups can be incorporated into high molecular weight copolymers by adding to the polymerization process carboxyl-containing monomers such as acrylic or methacrylic acid or monomers convertible to carboxyl-containing groups such as maleic anhydride or methyl methacrylate. can be done. Such polymers are available from several sources such as "Hycar" from BF Goodrich Chemical Company.
It is commercially available under the trade name. Other essential components of the photosensitive composition of the invention
(b) is a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylenic group. The compound should be capable of forming a high molecular weight polymer by free radical initiated chain extension addition polymerization and should be compatible with the high molecular weight polymer of (a) above. One group of suitable ethylenically unsaturated compounds includes unsaturated esters of alcohols, especially α-methylenecarboxylic acids and substituted α-
Such esters of methylene carboxylic acids, more particularly alkylene polyols and such esters of polyalkylene polyols, and most especially alkylene polyols having from 2 to 15 carbon atoms or from 1 to 10 ether linkages. Mention may be made of alkylene polyol di- and triacrylates and polyalkylene polyol di- and triacrylates made from polyalkylene ether polyols or glycols. The following specific compounds are other examples of this group. Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, glycerol triacrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-propanediol dimethacrylate, 1,2,4-butanetriol trimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 1,4-
Benzenediol dimethacrylate, 1,2-benzenedimethanol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,3-pentanediol dimethacrylate, p-α,α-dimethyl Benzyl phenyl acrylate, tertiary butyl acrylate, N,N-diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, hexamethylene glycol diacrylate, decamethylene glycol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 2,2-di(p-hydroxyphenyl)propane , 2,2-di(di-hydroxyphenyl)propane dimethacrylate,
Polyoxyethyl-2,2-di(p-hydroxyphenyl)propane triacrylate (molecular weight
462), 1,4-butanediol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol dimethacrylate, 1-phenylethylene-1,2-dimethacrylate, trimethylol Propane trimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethylene glycol acrylate phthalate, polyoxyethyltrimethylolpropane triacrylate, aromatic polyhydroxy compounds such as bisphenols, novolaks and e.g. U.S. Pat. No. 3,661,576, incorporated herein by reference. Diacrylate and methacrylate esters of diepoxy polyethers derived from similar compounds described in the book, molecular weight
200-500 polyethylene glycol bisacrylates and methacrylates. Other suitable groups of ethylenically unsaturated compounds include U.S. Pat.
2927022, such as compounds having a plurality of addition-polymerizable ethylenic bonds, especially when present as terminal bonds, and especially those in which at least one and preferably most of such bonds are carbon-carbon dicarbonyl. Included are those conjugated with double-bonded carbons, including double bonds and carbon-heteroatom (eg nitrogen, oxygen and sulfur) double bonds.
Preference is given to such materials in which ethylenically unsaturated groups, especially vinylidene groups, are conjugated to ester or amide structures. Examples of such compounds include unsaturated amides, especially amides of α-methylenecarboxylic acid and especially α,ω-diamines and oxygen-interrupted ω-diamines, such as methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylenebismethacrylamide. , 1,6-hexamethylenebisacrylamide, diethylenetriamine trismethacrylamide, bis(methacrylamidopropoxy)ethane, β-methacrylamidoethyl methacrylate, N-(β-hydroxyethyl)-
β-(methacrylamido)ethyl acrylate and N,N-bis(β-methacryloxyethyl)acrylamide, vinyl esters such as divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate, divinyl terephthalate, divinylbenzene-1,3-disulfonate and divinyl Examples include butane-1,4-disulfonate, diallyl fumarate, and others. Other ethylenically unsaturated compounds that may be used include sterene and its derivatives, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,3,5-triisopropenylbenzene, an adduct of itaconic anhydride and hydroxyethyl acrylate (1 :1),
Adducts of itaconic anhydride with liquid butadiene/acrylonitrile polymers having terminal amino groups, and adducts of itaconic anhydride with diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers as described in U.S. Pat. No. 3,661,576. , polybutadiene and butadiene/acrylonitrile copolymers containing terminal and pendant vinyl groups, and unsaturated aldehydes such as sorbaldehyde (2,4-hexadienal). When aqueous base developable systems are involved, ethylenically unsaturated compounds that are water soluble or contain carboxyl or other alkali-reactive groups are particularly suitable. Additionally, U.S. Patent No.
The polymerizable ethylenically unsaturated polymers described in 3043805 and 2929710 and similar materials can be used alone or in admixture with other materials. Also useful are acrylic and methacrylic esters of adducts of ethylene oxide and polyhydric hydroxy compounds, such as those described in US Pat. No. 3,380,831. Optical crosslinking polymers disclosed in US Pat. Nos. 3,418,295 and 3,448,089 can also be used. All of these patent specifications are incorporated herein by reference. The amount of unsaturated compound added should range from about 2 to about 40% by weight, based on the total weight of the composition. Specific amounts for optimal results will vary depending on the particular polymer used. Preferably the amount of unsaturated compounds ranges from about 5% to about 25%. Preferably, the ethylenically unsaturated compound has a boiling point of about 100° C. or higher at normal pressure. The most preferred ethylenically unsaturated compounds are triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate and hexamethylene glycol diacrylate. The photosensitive compositions of the invention do not substantially scatter actinic radiation when in the form of thin layers as described above. The butadiene copolymer and polymer components should be compatible with the ethylenically unsaturated compound in the proportions used to ensure a substantially transparent mixture, i.e., a non-radiative scattering mixture;
and preferably should be soluble therein. "Compatible" means that the two or more components can remain dispersed with each other without scattering significant amounts of actinic radiation. Compatibility is often limited by the relative proportions of the components, and incompatibility is evidenced by the formation of haze in the photosensitive composition. In the production of printed reliefs, some slight haze before or during exposure can be tolerated. However, if fine detail is desired, haze should be completely removed. The amount of ethylenically unsaturated compound or any other component used is therefore limited to a concentration that does not cause undesirable light scattering or clouding. Other essential components of the photosensitive composition of the invention
(c) is an organic radiation-sensitive free radical generating system.
Practically any organic radiation-sensitive free radical-generating system that initiates and does not excessively terminate the polymerization of unsaturated compounds can be used in the photosensitive compositions of the present invention. The expression “organic” is
Used herein to refer to compounds containing carbon and one or more of oxygen, hydrogen, nitrogen, sulfur and halogens, but no metals. Since process transparencies transfer heat generated from conventional sources of active radiation and photosensitive compositions are typically prepared under conditions that provide elevated temperatures, the preferred free radical-generating compounds are below 85°C. and more preferably
It is thermally inactive below 185°C. They should be dispersible in the composition to the extent necessary to initiate the desired polymerization or cross-linking under the influence of the amount of radiation absorbed in relatively short exposures. These initiators are useful in amounts of from about 0.001 to about 10% by weight, and preferably from about 0.1 to about 5%, based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition. This free radical generating system absorbs radiation in the range of about 2000 to about 8000 Å, which ranges from about 2500 to about
It has at least one component having an active radiation absorption band with a molecular extinction coefficient of at least about 50 in the range of 8000 Å and preferably in the range of about 2500-5000 Å. The expression "active radiation absorption band" refers to a radiation band active in generating the free radicals necessary to initiate polymerization or cross-linking of unsaturated materials. A free radical generating system may include one or more components that directly provide free radicals when activated by radiation. It may also include compounds, one of which generates free radicals after being activated by a radiation-activated sensitizer. A number of such free radical-generating compounds can be used in the practice of this invention, and include aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone [4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone], 4,4-bis(diethylaminobenzophenone, 4-acryloxy-4'-dimethylaminobezophenone, 4-
Acryloxy-4'-diethylaminobezophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2-phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone, 2-ethylanthraquinone, phenanthraquinone, 2-ethylaminobenzophenone, tertiary butylatraquinone,
1,2-benzathraquinone, 2,3-benzathraquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone,
Benzyl dimethyl acetal and other aromatic ketones, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin phenyl ether, methylbenzoin, ethylbenzoin and other benzoins, and 2,4,5- Triarylimidazole dimers such as 2-(o-chlorophenyl)-
4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-
(o-chlorophenyl)-4,5-di(m-methoxyphenyl)imidazolyl dimer, (2-(o
-fluorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(o-methoxyphenyl)
-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-
(p-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2,4-di(p-methoxyphenyl)-5-phenylimidazolyl dimer,
2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-
Diphenylimidazolyl dimer, 2-(p-methylmercaptophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, U.S. Patent Nos. 3479185 and 3784557, British Patent No. 997396 and
Other examples include those described in each specification of No. 1047569. These patents are incorporated herein by reference. The imidazolyl dimer is a free radical-generating electron donor such as 2-mercaptobenzoxazole,
Leuco crystal violet or avian (4-
Can be used with diethylamino-2-methylphenyl)methane. Sensitizers such as Michler's ketones can be added. Various energy transfer dyes such as Rose Bengal and Eosin Y may also be used. Other examples of suitable initiators are disclosed in US Pat. No. 2,760,863, which is incorporated herein by reference. The photosensitive composition may also contain a thermal addition polymerization inhibitor in small amounts, for example from 0.001 to 2.0%, based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition. Suitable inhibitors include hydroquinone and alkyl and aryl substituted hydroquinones, 2,6-ditertiary butyl 4
-Methylphenol, p-methoxyphenol,
Tertiary butylpyrocatechol, pyrogallol, β
-naphthol, 2,6-ditert-butyl-p-cresol, phenothiazine, pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene and the nitrosodimer inhibitor system described in U.S. Pat. No. 4,168,982, incorporated herein by reference. can be given. Other useful inhibitors include p-torquinone, chloranil, and thiazine dyes such as thionine blue G (CI 52025), methylene blue B (CI 52015).
and toluidine blue (CI 52040). Such compositions can be photopolymerized or photocrosslinked without removing the inhibitor. A preferred inhibitor is 2,6-di-tert-butyl-
4-methylphenol and p-methoxyphenol. The oxygen and ozone resistance of the photosensitive compositions of the present invention and printed reliefs made therefrom is achieved by the inclusion in the photosensitive compositions of appropriate amounts of compatible, well-known antioxidants and/or antiozonants. It can be improved by Antioxidants useful in this invention include alkylated phenols such as 2,6-ditertiary-butyl-4-methylphenol, alkylated bisphenols such as 2,2-methylene-bis-(4-methyl-6-methylphenol), tertiary butylphenol), 1,3,5-trimethyl-2,4,
6-tris(3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, 2-(4-hydroxy-3,5-ditert-butylanilino)-4,6
-bis(n-octylthio)-1,3,5-triazine, polymerized trimethyldihydroquinone and dilaurylthiopropionate. Ozone separation inhibitors useful in the present invention include microcrystalline waxes, paraffin waxes, dibutylthiourea, 1,1,3,3-tetramethyl-2-
Thiourea, "Antiozonant" AFD (product of Nafton), norbornene such as di-5-norbornene-2-methyl adipate, di-5-norbornene-2-methyl terephthalate, "Ozone Protector" 80 (product of Reichhld Chem.) ), N-phenyl-2-naphthylamine, unsaturated vegetable oils such as rapeseed oil, linseed oil, safflower oil, polymers and resins such as ethylene/vinyl acetate copolymer resins, chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated ethylene /methacrylic acid copolymer, polyurethane, polypentadiene, polybutadiene, furfural derivative resin, ethylene/propylene/diene rubber, diethylene glycol ester of rosin, and α-methylstyrene/vinyltoluene copolymer. The ozone resistance of the printed relief produced can also be improved by annealing it at high temperatures before use. Optionally, the photosensitive composition includes an immiscible polymeric or non-polymeric organic or inorganic filler that is essentially transparent at the wavelength used for exposing the photosensitizer and does not scatter actinic radiation; Reinforcing agents such as polystyrene, organophilic silica, bentonite, silica, powdered glass, colloidal carbon and various types of dyes and pigments may also be included. Such materials are used in varying amounts depending on the desired properties of the elastomeric composition. Fillers are useful in improving the strength of the elastomer layer, reducing tack, and even as colorants. The photosensitive layer preferably contains a compatible plasticizer to lower the glass transition temperature of the binder and facilitate selective development. The plasticizer can be any common plasticizer that is compatible with the polymeric binder. Among the common plasticizers are dialkyl phthalates, alkyl phosphates, polyethylene glycols, polyethylene glycol esters and polyethylene glycol ethers.
Other useful plasticizers include oleic acid, lauric acid, and others. Polyesters such as polyethylene sebacate and others are preferred plasticizers. Plasticizers are generally present in an amount of 1 to 15% by weight, based on the total solids weight of the photosensitive composition. The photosensitive compositions of the present invention can be prepared by mixing the components (a) the high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer, (b) the compatible ethylenically unsaturated compound, and (c) the free radical generating system in any suitable manner. It can be manufactured by For example, flowable compositions may contain these and other desired additives in any order and optionally solvents such as chlorinated hydrocarbons such as chloroform, chlorobenzene, trichloroethylene and chlorotoluene, ketones such as methyl ethyl ketone, diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic It can be prepared by mixing with the aid of group hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and tetrahydrofuran. The solvent includes acetone as a diluent,
It may contain low molecular weight alcohols such as methyl, ethyl and propyl alcohol and esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate. The solvent can later be removed by heating the mixture or extruded layer. Conventional milling, mixing and solution techniques can be used in making these compositions. Specific techniques will vary due to differences in the properties of each component. The homogeneous, substantially non-radiative scattering composition is formed into a sheet in any desired manner. For example, solvent casting, hot pressing, calendering or extrusion are suitable methods for producing layers of the desired thickness. The photosensitive elements of the present invention are prepared by forming the photosensitive composition into a layer or self-supporting sheet on a suitable forming wheel, belt or platen by solvent casting or extrusion, calendering or pressing at elevated temperatures. It can be manufactured by This layer or sheet can be laminated onto the flexible support surface and adhered by the adhesive blend described below. If a solution is used, the coating is created on an adhesive-bearing support. The thickness of the photosensitive layer is a direct function of the thickness desired in the relief image, and this depends on the object being replicated and the end use of the relief. For example, thick soft relief is useful for flexographic printing and thin hard relief is useful for planographic printing. Generally, the thickness of this photopolymerizable layer is about 0.250 inch or less. For example, it is about 0.0005 to about 0.250 inch (0.00127 to
0.635 cm), and layers in this thickness range are used for the majority of printing plates. Between the photosensitive layer and the flexible support is a layer of an adhesive blend, which includes at least two polymers from the following four polymer groups: . (1) Polyester resin, which is a condensation polymer of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of about 6:2:1:3, with - M n 19000 and - M n 37000. (2) Polyether polyurethane resin, which was prepared at 15% solids in methyl ethyl ketone and at 12 rpm using a #3 Bruckfield spindle.
It is a crystalline thermoplastic resin with a Bruckfield viscosity of 100-1200 centipoise and an adhesive activation temperature ranging from 54-63°C. This polyether polyurethane has a yield elongation of 15%,
615% elongation at break, 600psi (42.18Kg/cm 2 )
It has a modulus at 400% elongation and a decrystallization temperature of about 49°C. (3) Polyamide resin, which has a translucent light amber color, a ball-and-ring softening point of 132-145°C, a melt viscosity of 40-60 poise at 210°C, an ignition point of over 299°C, and a water resistance of 1 day. Absorption% 0.7, 7-day water absorption% 1.6, tensile yield strength of 460 psi (32.34 Kg/cm 2 ), tensile breaking strength of 450 psi (31.64 Kg/cm 2 ) and elongation degree of 560% (tensile Yield strength, tensile strength at break and elongation are measured at 24°C by ASTM method D-1708). (4) Polyamide resin, which has a translucent light amber color, a ball-and-ring softening point of 150-160°C, a viscosity of 28-38 poise at 210°C,
The 1st day water absorption% is 1.5, the 7th day water absorption% is 2.8,
and
【表】
(引張り降伏強度、引張り破断強度および伸
長度は記載の温度でASTM法D―1708により
測定される)を有している。
樹脂の数平均分子量(n)は当業者には周知
のように既知の標品例えばポリブタジエを使用し
たゲル透過クロマトグラフイーにより測定するこ
とができる。樹脂の重量平均分子量(w)は当
業者には既知のように既知の標準試料例えばポリ
スチレン、ポリメタクリル酸、ポリメチルメタク
リレートその他を使用した光散乱技術を使用して
測定することができる。
特定の重合体は接着剤組成物中の全樹脂重量基
準で次の範囲で接着剤ブレンド中に存在させるこ
とができる。(1)0〜78重量%、(2)0〜78重量%、
(3)0〜94重量%および(4)0〜97重量%。4種、3
種および2種の樹脂成分を含有する好ましい接着
剤ブレンドは以下に記載されているが、ここに%
は全樹脂含量基準の重量基準である。
4成分接着剤ブレンドに対する好ましい範囲は
以下のとおりである。
(1) 25〜31%、好ましくは25%
(2) 25〜31%、好ましくは25%
(3) 25〜19%、好ましくは25%
(4) 25〜19%、好ましくは25%
2個の3成分接着剤ブレンドAおよびBに対す
る好ましい範囲は次のとおりである。
A (1) 1〜78%、好ましくは1〜65%
(2) 1〜78%、好ましくは1〜65%
(3) 1〜94%、好ましくは1〜90%
B (1) 1〜63%、好ましくは1〜45%
(3) 1〜93%、好ましくは1〜85%
(4) 1〜97%、好ましくは1〜90%
5個の2成分接着剤ブレンドC〜Gに対する好
ましい範囲は次のとおりである。
C (1) 7〜77%、好ましくは15〜50%、最も好
ましくは30%、および
(3) 93〜23%、好ましくは85〜50%、最も好ま
しくは70%
(この接着剤ブレンドは特に好ましい)。
D (1) 3〜60%、より好ましくは5〜30%、そ
して
(4) 97〜40%、より好ましくは95〜70%。
E (1) 23〜77%、より好ましくは35〜45%、そ
して
(2) 77〜23%、より好ましくは65〜55%。
F (2) 10〜16%、好ましくは25〜30%そして
(4) 90〜40%、好ましくは75〜70%。
G (2) 7〜72%、好ましくは15〜50%、および
(3) 93〜28%、好ましくは85〜50%。
本発明の接着剤ブレンドは少くとも3ポンド/
インチ(53.57Kg/m)そして一般にははかるか
にこれより大なる、例えば8ポンド/インチ
(142.86Kg/m)またはそれ以上の接着範囲の接
着値を支持体に対する光感受性層に対して与え
る。これら接着値は本発明のエレメントを印刷プ
レート特にフレクソグラフイー印刷プレートとし
て使用する場合には充分である。
この接着剤ブレンドは、好ましくは添加剤例え
ばブロツキング防止剤、着色剤例えば染料その他
を含有している。有用なブロツキング防止剤とし
ては好ましくはポリオレフイン粒子またはビーズ
があげられるが、しかしまたその他の硬質の例え
ば二酸化珪素その他の粒子またはビーズがあげら
れる。ジオクチルナトリウムスルホサクシネート
表面活性剤を使用できる。好ましいポリオレフイ
ン物質は実施例中に記載されている。ブロツキン
グ防止剤のビーズサイズは接着剤層の厚さより大
なるものであつて、接着剤ブレンドの層からビー
ズが一部突出するようにすることができる。その
ような構造は接着程度にはほとんどかまたは全く
影響を有しないようである。多くのタイプの着色
剤または染料もまた接着剤層中で有用である。好
ましい染料はデユポンミリングブルーBL(CIアシ
ツドブルー59)である。その他の有用な染料とし
ては、メチレンバイオレツト(CIベーシツクバ
イオレツト5)、「ラクソール」フアストブルー
MBSN(CIソルベントブルー38)、「ポンタシル」
ウールブルーBL(CIアシツドブルー59または
CI50315)、「ポンタシル」ウールブルーGL(CIア
シツドブルー102またはCI50320)、ビクトリアピ
ユアブルーBO(CIベーシツクブルー7または
CI42595)、ローダミン3GO(CIベーシツクレツド
4)、ローダミン6GDN(CIベーシツクレツド1ま
たはCI54/60)、フクシン染料(CI42510)、カル
コシドグリーンS(CI44090)およびアントラキ
ノンブルー2GA(CIアシツドブルー58)があげら
れる。
接着剤溶液は一般に連続的に撹拌しつつ溶媒に
次の順序で各成分すなわち重合体、ポリオレフイ
ンブロツキング防止剤、着色剤を加えることによ
り製造される。有用な溶媒としては、例えばメチ
レンクロリド/酢酸エチル、メチレンクロリド/
n―ブチルアセテート、メチレンクロリド/シク
ロヘキサノン、メチレンクロリド/メタノール/
セロソルブ
その他の混合物および好ましくはメ
チレンクロリド/セロソルブ
の90/10混合物が
あげられる。追加の溶媒を加えてすべての失われ
た重量を補填することができる。溶媒の選択はコ
ーテイングにブリスターを形成させることなく、
そして少量の溶媒を残存させることなく最も速や
かな実用的乾燥速度を与えるという要求により支
配される。溶媒はまた、存在させうる染料に対し
て可溶化効果を有しているべきである。
次いでこの接着剤溶液を既知の方法によつて可
撓性支持体に適用する。例えばこれはドクターブ
レードの使用により、または市場的に入手可能な
連続ウエブコータードライヤー中でコーテイング
して約80〜500mg/dm2好ましくは約260〜300
mg/dm2の範囲の乾燥コーテイング重量を生成せ
しめる。最も好ましいこの接着剤層のコーテイン
グ重量は約260mg/dm2である。一般に接着剤層
は0.0008〜0.001インチ(0.020〜0.025mm)の乾燥
厚さを有している。連続コーテイングにおいては
ウエブ速度は例えば15〜150フイート/分(4.57
〜45.72m/分)に変動させることができる。乾
燥温度は60〜130℃、好ましくは80〜90℃の範囲
である。
好ましい可撓性支持体は0.001〜0.007インチ
(0.025〜0.178mm)厚さ、好ましくは0.005インチ
(0.13mm)厚さの火炎処理ポリエチレンテレフタ
レートである。ここに参照として包含されている
米国特許第3145242号、同第3360029号および同第
3391912号各明細書は重合体フイルムの火炎処理
に有用な方法および装置を記載している。可燃性
ガス混合物の燃料当量(fuel equivalence)比φ
は1.4であり、これは5(プロパン流速)/〔(酸
素流速)+(0.21空気流速)〕に等しい。すべての
流速は標準立方フイートまたは標準立方メート
ル/分である。ウエブ速度は175直線フイート/
分(53.34m/分)である。
乾燥せしめられた接着剤コーテイングされた支
持体は直ちに光感受性層に接着させることができ
るしまたはこれは以後の接着のために保存するこ
とができる。この接着剤をコーテイングした支持
体はプレス中で例えば140〜160℃において約3分
間までの間20000〜30000psi(1406〜2109Kg/cm2)
の圧力で光感受性層に積層させそして次いでプレ
ス中で60℃以下まで冷却させることができる。好
ましくは、この光感受性エレメントは以下の例8
に記載のようにしてカレンダー処理により製造さ
れる。ダイを通しての押出成形により製造された
光感受性層には、接着剤層に隣接する側とは遠い
方の側に、以後保護カバーシートとして働く
0.005インチ(0.13mm)厚さのポリエチレンテレ
フタレートフイルムを存在させるのが好ましい。
その他のフイルム例えばポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリプロピレンまたはその他の剥離性物質
を使用することができる。好ましくは光感受性層
とフイルムカバーシートとの間に薄い硬質で可撓
性の溶媒可溶性層例えば可撓性重合体フイルムま
たは層例えばポリアミドまたはエチレン/ビニル
アセテート共重合体が存在せしめられる。この可
撓性重合体フイルムは前記フイルムカバーシート
の除去後には光感受性層上に残る。可撓性重合体
フイルムは再使用のために像含有陰画またはその
上に重ねた透明画を保護し、あるいは光感受性表
面との接触または整合を改善する。以下に記載の
光源を使用して像様露光させる前に、エレメント
を、支持体を通して露光させて、接着支持体に隣
接する光感受性層の前以つて定めた厚さを重合さ
せる。この光感受性層の重合部分はフロアと称さ
れる。フロアの厚さは露光時間、光源その他によ
り変化する。露光は一般には1〜30分である。
印刷レリーフは、本発明によつて、例えばプロ
セス透明画すなわち活性線放射に対して実質的に
透明なそして実質的に均一の光学濃度の部分と、
活性線放射に対して不透明なそして実質的に均一
な光学濃度の部分を有する像担持透明画またはス
テンシルを通して、実質的付加重合または光交叉
結合が生ずるまで、光感受性層の選ばれた部分を
活性線放射に露光させることによつて製造するこ
とができる。付加重合または交叉結合形成の間に
ブタジエン重合体/エチレン性不飽和化合物組成
物は層の放射に露光された部分では不溶性の状態
に変換され、その際層の未露光部分では有意の重
合または交叉結合は生じない。層の未露光部分は
高分子量ブタジエン重合体に対する溶媒により除
去される。プロセス透明画はセルロースアセテー
トフイルムおよび配向ポリエステルフイルムを含
む任意の適当な材料から製造することができる。
任意の光源からのそして任意のタイプの活性線
放射をこの光重合過程において使用することがで
きる。この放射は点光源から発生するものであり
うるしまたはこれは平行光線または発散ビームの
形のものでありうる。比較的像担持透明画に近い
ところでの広い放射源を使用することによつて、
透明画の透明部分を通過する放射は発散ビームと
して入りそして従つて透明画の透明部分の下の光
感受性層における連続的発散部分を照射する。こ
のことは光感受性層の底部で最大幅を有するすな
わち台形の重合体レリーフを与える結果となる。
レリーフの上側表面は透明部分の寸法である。
活性線放射により活性化可能な遊離ラジカル生
成系が一般に紫外部分にその最大感受性を示す限
り、放射源はこの好ましくは約2500Å〜5000Åの
波長範囲を有する放射の有効量を与えるべきであ
る。太陽光線以外のそのような放射の適当な光源
としては、カーボンアーク、水銀蒸気アーク紫外
線放射発生蛍光体を有する蛍光燈、アルゴングロ
ーランプ、電子フラツシユユニツトおよび写真用
フラツドランプがあげられる。電子加速機および
適当なマスクを通しての電子ビーム源もまた使用
しうる。これらの中で水銀蒸気ランプ、特に太陽
燈または「黒色光」タイプおよび蛍光太陽燈は最
も適当である。
放射露光時間は放射の強度およびスペクトルエ
ネルギー分布、その組成物からの距離および利用
できる組成物の性質および量によつて、数分の1
秒から数分に変動せしめうる。通常は、光感受性
組成物から約1.5〜約60インチ(3.8cm〜153cm)
の距離で水銀蒸気アークまたは太陽燈が使用され
る。露光温度は特に臨界的ではない。しかしなが
ら大体、常温ないしそれよりわずかにより高い温
度すなわち約20゜〜約35℃で操作するのが好まし
い。
露光後適当な溶媒で洗うことによつて現像する
ことができる。溶媒液体はブタジエン重合体/エ
チレン性不飽和化合物組成物に対して良好な溶媒
または膨潤作用を有しているが、非重合または非
交叉結合部分を除去させる必要な時間期間では不
溶化された像または支持体または接着剤層にはほ
とんど作用を有していないものであるべきであ
る。適当な有機溶媒としては、2―ブタノン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、メチルクロロホルム、
テトラクロロエチレンおよび例えばテトラクロロ
エチレン/n―ブタノールその他の溶媒混合物が
あげられる。高分子量ブタジエン重合体成分がカ
ルボキシル基を含有している場合には適当な溶媒
としては水溶性有機溶媒が添加されていてもよい
水性塩基があげられる。適当な具体的溶媒混合物
としては、水酸化ナトリウム/イソプロピルアル
コール/水、炭酸ナトリウム/水、炭酸ナトリウ
ム/2―ブトキシエタノール/水、硼酸ナトリウ
ム/2―ブトキシエタノール/水、珪酸ナトリウ
ム/2―ブトキシエタノール/グリセロール/
水、炭酸ナトリウム/2―(2―ブトキシエトキ
シ)エタノール/水、および水中16容量%の2―
(2―ブトキシエトキシ)エタノール中の水酸化
ナトリウム(0.5重量%)があげられる。この最
後のものが好ましい。選ばれる特定の溶媒組合せ
は光感受性組成物のカルボキシル含量および使用
される結合剤の性質および量に依存する。使用し
うるその他の水性溶媒組合せは米国特許第
3796602号明細書に記載されている。これら水性
塩基/水溶性有機溶媒組合せはある場合にはそれ
らの低コスト、不燃性および低毒性の故に好まし
いであろう。
溶媒現像は約25℃で実施しうる。しかしながら
最良の結果は時には溶媒が温かい例えば30〜60℃
の場合に得られる。現像時間は変化させしめうる
がしかし5〜25分の範囲内であるのが好ましい。
レリーフが形成される現像段階においては、溶
媒は任意の便利な方法で例えば注入、含浸、スプ
レーまたはローラー適用により適用されうる。組
成物の非重合または非交叉結合部分の除去におい
ては、ブラシだけが役立つ。
液体現像後、プレートは室温で、場合により強
制熱風ドライヤーまたはその他の適当なドライヤ
ー中で加熱空気中で乾燥され、そしてこれは室温
〜約125℃好ましくは60℃で1時間乾燥せしめら
れる。次いでこの乾燥プレートを水性次亜塩素酸
塩溶液例えば900部の水、90部の「クロロクス
(Clorox
)」および10部の濃HClで処理するこ
とによつて粘着性除去し、そして乾燥させる。像
様露光に対して使用された光源を使用して5〜15
分後露光させた後にはプレートは使用できる状態
となつている。
本発明の光感受性フレクソグラフイーエレメン
トから製造された印刷レリーフはすべての種類の
印刷に使用することができるがしかしこれは印刷
部分および非印刷部分の高さの明白な差が要求さ
れる種類の印刷、そして特に、例えば変形可能な
印刷表面上に印刷するために弾撥性印刷部分が要
求される種類のフレクソグラフイー印刷に対して
最も適用可能である。これらの種類としては、ド
ライオフセツト印刷、通常の凸版印刷(これは印
刷部分および非印刷部分の間により大なる高さの
差が要求される)におけるようにインクがレリー
フの扛起部分により運ばれるもの、および例えば
凹版印刷例えば線および逆ハーフトーンにおける
ようにインクがレリーフの凹部により運ばれるも
のがあげられる。このプレートはまた多色印刷に
対しても有用である。
得られるレリーフおよび印刷画像は円筒形支持
体上でエレメントを像様露光させた場合でさえも
細部の詳細および全体的寸法の両方において原画
に忠実性を示す。このレリーフは高い衝撃強度を
有し、強靭でしかも磨耗抵抗性でありそして広い
インク相容性を有している。すなわちこれは広範
囲のインク、例えば水ベースのインク、炭化水素
インクおよびアルコールベースのインクに対して
良好な相容性を有している。
次の実施例は本発明を説明するためのものであ
るが、ここに部および%は重量基準である。実施
例中の接着値は次のピール試験法により測定され
る。
試料を1インチ×6インチ(2.54×15.24cm)
のサイズに切る。支持体を通しての適当な露光お
よび活性線放射への像様露光を与えた後(そうで
ないと記載していない限りは)支持体の一隅を光
感受性層からつまんでゆるめ、そして手で約1.5
インチ(3.81cm)の距離だけ剥離させる。この操
作の間1対のプライヤーを使用して剥離された光
感受性層を把持しておくことが必要な場合があ
る。
準備された試料をインストロン・ユニバーサル
テステイング・インストルメント型式TTC〔イン
ストロン・エンジニアリング社製品〕のジヨーに
挿入する。その際光感受性層は上側のジヨーに、
そして剥離させた支持体は下側のジヨーに挿入す
る。試験は10インチ/分(25.4cm/分)のクロス
ヘツド分離速度で実施される。引張り負荷セルC
が使用されるがそれに対しては最大許容負荷は50
ポンド(22.68Kg)であり初期ジヨー分離は3/8イ
ンチ(0.95cm)であり、初期剥離角度は支持体―
支持体で90゜そして最後剥離角度は45〜60である。
試料剥離のための応力は機械上でリコーダーから
読みとられる。これを1.0インチ(2.54cm)(試料
幅)で除して適当な単位を得る。接着強度(接
着)が8ポンド/インチ(142.86Kg/m)以上の
場合には光感受性層は試験の間に剥離することな
く破壊または切断される。
接着剤ブレンド中に存在する重合体は前述のよ
うに数字記号(1),(2),(3)または(4)で表わされる。
例 1
次の成分から接着剤溶液を製造する。成 分
量(部)
ポリアミド樹脂(3)ロツトNo.OF5237 63.1
ポリエステル樹脂(1) 27.0
ポリオレフイン 9.8
デユポンミリングブルーBL染料 0.1
(CIアシツドブルー59)
ポリアミド樹脂(3)は「マクロメルト
(Macromelt
)」6238(ヘンケル・アドヒシブ
ス・コンパニー製品)でこのものは半透明の明る
い琥珀色であり、132〜145℃のボール・アンド・
リング軟化点、210℃で40〜60ポアズの溶融粘度、
299℃以上の発火点、0.7の1日間水吸収%、1.6
の7日間水吸収%、460psi(32.34Kg/cm2)の引張
り降伏強度、450psi(31.64Kg/cm2)の引張り破断
強度および560%の伸長度を有している(引張り
降伏強度、引張り破断強度および伸長度は
ASTM法D―1708によつて24℃で測定)。
上記のポリエステル樹脂はMn19000およびM
w37000を有するエチレングリコール、テレフタ
ル酸、イソフタル酸およびアゼライン酸(モル比
6:2:1:3)の反応生成物である。
またポリオレフインは「ベストフアイン
(Vestofine
)」SF―616〔ドウラ・コモデイテイ
ズ社製品〕であつて色は雪白色であり、約1600の
分子量、20℃で約0.96の密度、25℃で0.5〜1.0の
針入硬度および約118〜128℃の融点を有しそして
その約85%は10μまたはそれ以下そして約15%は
10〜20μの粒子サイズを有している。
前記成分を順にメチレンクロリド/セロソルブ
(90/10)の混合物に加えて約16%固体分の溶液
を生成させる。ポリオレフインビーズは溶解しな
い。この混合物をこの成分添加の間およびその後
も連続的に撹拌して溶解を行なう。混合の間のす
べての重量損失はメチレンクロリドの添加によつ
て補填される。
連続ウエブコータードライヤーを使用して、厚
さ0.005インチ(0.13mm)のポリエチレンテレフ
タレートフイルム支持体の火炎処理表面にこの接
着剤溶液を適用して約260mg/dm2の乾燥コーテ
イング重量を与える。ウエブ速度は45フイート/
分(13.72m/分)であり、そして乾燥温度は86
℃(205〓)である。
接着剤をコーテイングしたポリエチレンテレフ
タレート支持体を接着剤側を上にして最終印刷プ
レートの厚さである0.080インチ(2.03mm)厚さ
のダイを付したスチールプラテン中に置く。この
接着剤コーテイングした支持体およびプラテンを
プレス上に置き、そしてこの上に0.005インチ
(0.13mm)厚さのポリエチレンテレフタレート支
持体で支持された0.090インチ(約2.29mm)厚さ
の光重合性組成物の押出シートを支持体側を上に
しておき、そしてスチールプレートで覆う。光重
合性組成物の押出シートは次の成分から製造され
る。これらをブレンドしそしてそのブレンドをダ
イを通して170℃で押出す。成 分
量(部)
アクリロニトリル(27)/ブタジエン(70)/
アクリル酸(3)の高分子量共重合体(平均ムーニ
ー粘度45.0、「ハイカー」1472×26) 81.59
ヘキサメチレンジアクリレート 10.0
ポリエチレンセバケート 5.0
ジブチル錫―3,S′―ビス―イソオクチルメル
カプトアセテート 2.0
2―フエニル―2,2―ジメトキシアセトフエ
ノン 1.25
2,6ジ第3級ブチル―4―メチルフエノール
0.10
1,4,4―トリメチル―2,3―ジアザビシ
クロ(3,2,2)―ノナ―2―エン―2,3
―ジオキシド 0.05
デユポン・ミリング・ブルーBL染料(CIアシ
ツドブルー59、エチレングリコール中 0.01
10%分散液) (乾燥)
上記ポリエチレンセバケートは商品名「パラプ
レツクス(Paraplex
)」G―30を有する低分子
量ポリエステル樹脂でローム・アンド・ハース社
から入手できる。
温度を上昇させそして圧力を徐々に適用する。
こうすることによつて光重合性シートはプラテン
のダイで囲つた部分全体に拡がる。シートが均一
に分布せしめられた後、温度を160℃に上昇させ、
そして20000〜30000psi(1406〜2109Kg/cm2)の範
囲の圧力を適用しそして3分間保持する。プレス
プラテンを通して水を流すことによつて、集成体
をプレス中で60℃以下まで冷却する。形成された
積層エレメントをプレスから除去しそしてこれを
支持体側を上にして1列の黒色蛍光灯例えばシル
バニアBLランプの下に置く。エレメントを4分
間支持体を通して露光させて、接着した支持体に
隣接する光重合性層の予定の厚さを重合せしめ
る。エレメントの重合部分はフロア(floor)と
称される。
次いでこのエレメントをシルバニア(BL―
VHO蛍光灯を付した「シレル(Cyrel
)」3040
露光ユニツト(デユポン社製品)中に置く。光重
合性表面を像担持透明画(陰画)で覆い、そして
このエレメントを真空下に15分間露光させる。露
光の継続は使用される光重合体シート厚さ、重合
フロアの厚さおよび像担持透明画のタイプの函数
である。
露光後、透明画を除去し、そして露光エレメン
トを回転ドラムブラシ型式「シレル
」3040プロ
セサー中に置く。水中16容量%の2―(2―ブト
キシエトキシ)エタノール中0.5重量%の水酸化
ナトリウムで15分間洗うことにより、エレメント
の非重合部分をプロセサー中で除去する。0.035
インチ(0.83mm)のレリーフ画像が得られる。こ
の現像されたエレメント(印刷プレート)を強制
熱風ドライヤーまたはその他の適当なドライヤー
中に入れ、そして60℃で1時間乾燥させる。次い
でこの乾燥プレートを水性次亜塩素酸塩溶液
(900部の水、90部のクロロクス
および10部の濃
HCl)中で1〜3分間粘着性除去し、そして再び
乾燥させる。乾燥プレートを前記像様露光に対し
て使用されたものと同一露光光源を使用して空気
中で10分間後露光させる。このプレートは50〜60
の範囲のシヨアA2硬度(ASTM試験法D2240)
を有している。
ここでこのプレートを市場的に入手可能な両面
テープを使用してフレクソグラフイープレスシリ
ンダー上に載置し、そして標準フレクソグラフイ
ーインクを使用して印刷することができる。印刷
品質は同様にして印刷されたラバープレートを使
用して生成されたものと同等かまたはこれより良
好である。支持体に対する光重合体層の接着は8
ポンド/インチ(142.86Kg/m)よりも大であ
る。
例 2
例1に記載のようにして接着剤溶液を製造す
る。この溶液を0.005インチ(0.127mm)厚さのポ
リイミド可撓性フイルム支持体たるカプトン
ポ
リイミドフイルム(デユポン社製品)上の扁平な
表面に適用する。計量した接着剤溶液をこの支持
体表面に注ぎそして0.006インチ(0.15mm)ドク
ターナイフによつて拡げる。この接着剤コーテイ
ングを風乾する。例1記載の0.001インチ(0.025
mm)以下の厚さの押出された光感受性層を例1記
載の操作によつて接着剤コーテイングした支持体
上に押圧する。最終プレス温度は160℃であり、
そして圧力は約25000psi(1757.5Kg/cm2)である。
プレスしたプレートを例1記載のようにして冷却
した後、プレスから除去する。プレートを1.0イ
ンチ×60インチ(2.54cm×15.28cm)幅のストリ
ツプに切断し、そして支持体側から3分間そして
光感受性側から30分間例1記載の露光装置中で全
体的に露光させる。光感受性層を剥離する試みは
失敗した。光感受性層は接着状態で切断された。
このことは8.0ポンド/インチ(142.86Kg/m)
以上の接着値を示している。
例 3
例2をくりかえしたがただし接着剤溶液は次の
成分から調製される。成 分
量(g)
例1記載のポリエステル樹脂 10772.0
ポリエーテルポリウレタン樹脂 16204.0
例1記載のポリオレフイン 2996.0
デユポン・ミリング・ブルーBL染料(CIアシ
ツドブルー59) 28.0
このポリエーテルポリウレタン樹脂はケイ・ジ
エー・クイン・カンパニーの製品「Q―Thane
」P250―1であつて、メチルエチルケトン中
15%固体分および#3ブルツクフイールドスピン
ドルを使用して12rpmで100〜1200センチポアズ
のブルツクフイールド粘度、および54〜63℃の範
囲の接着剤活性化温度、および約49℃の結晶状態
破壊温度を有する結晶性熱可塑性樹脂である。
例2におけるように、この光感受性層は接着状
態で破壊され、8.0ポンド/インチ(142.86Kg/
m)以上の接着値を示す。
例 4〜6
例1記載のようにして数種の接着剤溶液を調製
する。この溶液を次の表1記載の可撓性支持体の
扁平な表面に適用する。計量した接着剤溶液をこ
の支持体表面に注ぎ、そしてNo.65ワイヤ巻きステ
ンレススチールロツドで拡げる。接着剤コーテイ
ングを風乾させる。
例2記載の押出された光感受性層を例2記載の
方法で接着剤コーテイングした支持体上に押圧す
る。押圧したプレートを例1記載のようにして冷
却した後、プレスから除去する。このプレートを
例2記載のようにして切断し、そして例1記載の
露光装置中で25分間全体的に露光させる。測定さ
れた接着値は表1に記載されている。(Tensile yield strength, tensile breaking strength and degree of elongation are determined by ASTM method D-1708 at the indicated temperatures). The number average molecular weight (n) of the resin can be determined by gel permeation chromatography using known standards such as polybutadiene, as is well known to those skilled in the art. The weight average molecular weight (w) of a resin can be determined using light scattering techniques using known standards such as polystyrene, polymethacrylic acid, polymethyl methacrylate, etc., as is known to those skilled in the art. Certain polymers can be present in the adhesive blend in the following ranges, based on the total resin weight in the adhesive composition: (1) 0-78% by weight, (2) 0-78% by weight,
(3) 0-94% by weight and (4) 0-97% by weight. 4 types, 3
Preferred adhesive blends containing seeds and two resin components are described below, where %
is on a weight basis based on total resin content. Preferred ranges for four-component adhesive blends are as follows. (1) 25-31%, preferably 25% (2) 25-31%, preferably 25% (3) 25-19%, preferably 25% (4) 25-19%, preferably 25% 2 pieces The preferred ranges for three-component adhesive blends A and B are as follows: A (1) 1-78%, preferably 1-65% (2) 1-78%, preferably 1-65% (3) 1-94%, preferably 1-90% B (1) 1-63 %, preferably 1-45% (3) 1-93%, preferably 1-85% (4) 1-97%, preferably 1-90% Preferred ranges for the five two-component adhesive blends C-G is as follows. (1) 7-77%, preferably 15-50%, most preferably 30%; and (3) 93-23%, preferably 85-50%, most preferably 70% (this adhesive blend is particularly preferable). D (1) 3-60%, more preferably 5-30%, and (4) 97-40%, more preferably 95-70%. E (1) 23-77%, more preferably 35-45%, and (2) 77-23%, more preferably 65-55%. F (2) 10-16%, preferably 25-30% and (4) 90-40%, preferably 75-70%. G (2) 7-72%, preferably 15-50%, and (3) 93-28%, preferably 85-50%. The adhesive blend of the present invention has at least 3 lbs.
It provides adhesion values for the photosensitive layer to the support in the adhesion range of 8 pounds/inch (53.57 Kg/m) and generally much greater, such as 8 pounds/inch (142.86 Kg/m) or more. These adhesion values are sufficient if the elements of the invention are used as printing plates, especially flexographic printing plates. The adhesive blend preferably contains additives such as antiblocking agents, colorants such as dyes, and the like. Useful antiblocking agents preferably include polyolefin particles or beads, but also other hard particles or beads, such as silicon dioxide and the like. Dioctyl sodium sulfosuccinate surfactant can be used. Preferred polyolefin materials are described in the Examples. The bead size of the antiblocking agent can be greater than the thickness of the adhesive layer so that some of the beads protrude from the layer of adhesive blend. Such structures appear to have little or no effect on the extent of adhesion. Many types of colorants or dyes are also useful in the adhesive layer. A preferred dye is Dupont Milling Blue BL (CI Acid Blue 59). Other useful dyes include methylene violet (CI Basic Violet 5), "Laxol" Fast Blue
MBSN (CI Solvent Blue 38), "Pontasil"
Wool Blue BL (CI Acid Blue 59 or
CI50315), "Pontasil" Wool Blue GL (CI Assisted Blue 102 or CI50320), Victoria Pure Blue BO (CI Basic Blue 7 or
CI42595), Rhodamine 3GO (CI Basic Cred 4), Rhodamine 6GDN (CI Basic Cred 1 or CI54/60), Fuchsin Dye (CI42510), Chalcoside Green S (CI44090) and Anthraquinone Blue 2GA (CI Acid Blue 58). The adhesive solution is generally prepared by adding the following components to the solvent in the following order with continuous stirring: polymer, polyolefin antiblocking agent, and colorant. Useful solvents include, for example, methylene chloride/ethyl acetate, methylene chloride/
n-butyl acetate, methylene chloride/cyclohexanone, methylene chloride/methanol/
Cellosolve and other mixtures and preferably a 90/10 methylene chloride/Cellosolve mixture. Additional solvent can be added to make up for any lost weight. The choice of solvent ensures that the coating does not form blisters.
and is governed by the desire to provide the fastest practical drying rates without leaving behind small amounts of solvent. The solvent should also have a solubilizing effect on the dyes that may be present. This adhesive solution is then applied to the flexible support by known methods. For example, this can be achieved by coating by the use of a doctor blade or in a commercially available continuous web coater dryer at a concentration of about 80-500 mg/dm2, preferably about 260-300 mg/ dm2 .
Producing dry coating weights in the range of mg/dm 2 . The most preferred coating weight for this adhesive layer is about 260 mg/dm 2 . Generally, the adhesive layer has a dry thickness of 0.0008 to 0.001 inch (0.020 to 0.025 mm). For continuous coating, web speeds may range from 15 to 150 ft/min (4.57
~45.72 m/min). The drying temperature ranges from 60 to 130°C, preferably from 80 to 90°C. A preferred flexible support is flame treated polyethylene terephthalate 0.001 to 0.007 inches (0.025 to 0.178 mm) thick, preferably 0.005 inches (0.13 mm) thick. No. 3,145,242, US Pat. No. 3,360,029, and US Pat. No. 3,360,029, incorporated herein by reference.
No. 3,391,912 describes methods and apparatus useful for flame treating polymeric films. Fuel equivalence ratio of combustible gas mixture φ
is 1.4, which is equal to 5 (propane flow rate)/[(oxygen flow rate) + (0.21 air flow rate)]. All flow rates are standard cubic feet or standard cubic meters per minute. Web speed is 175 linear feet/
minute (53.34 m/min). The dried adhesive coated support can be adhered immediately to the photosensitive layer or it can be saved for subsequent adhesion. The adhesive-coated support is heated in a press at e.g.
The photosensitive layer can be laminated to the photosensitive layer at a pressure of 100° C. and then cooled to below 60° C. in a press. Preferably, the photosensitive element is as described in Example 8 below.
Manufactured by calendering as described in . The photosensitive layer, produced by extrusion through a die, has a layer on the side adjacent to the adhesive layer and on the side remote from it, which subsequently acts as a protective cover sheet.
Preferably, a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film is present.
Other films such as polystyrene, polyethylene, polypropylene or other release materials can be used. Preferably, between the photosensitive layer and the film cover sheet there is present a thin, rigid, flexible, solvent-soluble layer, such as a flexible polymeric film or layer, such as polyamide or ethylene/vinyl acetate copolymer. This flexible polymeric film remains on the photosensitive layer after removal of the film cover sheet. The flexible polymeric film protects the image-containing negative or overlying transparency for reuse, or improves contact or registration with the light-sensitive surface. Prior to imagewise exposure using the light source described below, the element is exposed through the support to polymerize a predetermined thickness of the photosensitive layer adjacent the adhesive support. This polymerized portion of the photosensitive layer is called the floor. Floor thickness varies depending on exposure time, light source, etc. Exposure is generally 1 to 30 minutes. The printed relief can, for example, be a process transparency, i.e. a portion of actinic radiation substantially transparent and of substantially uniform optical density, according to the invention;
Activating selected portions of the photosensitive layer through an image-bearing transparency or stencil having portions opaque to actinic radiation and of substantially uniform optical density until substantial addition polymerization or optical cross-linking occurs. It can be produced by exposure to line radiation. During addition polymerization or crosslink formation, the butadiene polymer/ethylenically unsaturated compound composition is converted to an insoluble state in the radiation-exposed parts of the layer, with no significant polymerization or crosslinking occurring in the unexposed parts of the layer. No binding occurs. The unexposed portions of the layer are removed with a solvent for high molecular weight butadiene polymer. Process transparencies can be made from any suitable material, including cellulose acetate film and oriented polyester film. Actinic radiation from any light source and of any type can be used in this photopolymerization process. This radiation may originate from a point source or it may be in the form of parallel rays or a diverging beam. By using a wide radiation source relatively close to the image-bearing transparency,
Radiation passing through the transparent portion of the transparency enters as a diverging beam and thus illuminates a continuous diverging portion of the photosensitive layer below the transparent portion of the transparency. This results in a ie trapezoidal polymer relief with the widest width at the bottom of the photosensitive layer.
The upper surface of the relief is the dimension of the transparent part. Insofar as free radical generating systems activatable by actinic radiation generally exhibit their maximum sensitivity in the ultraviolet region, the radiation source should provide an effective amount of radiation having this preferably wavelength range of about 2500 Å to 5000 Å. Suitable sources of such radiation other than solar radiation include carbon arcs, mercury vapor arcs, fluorescent lamps with ultraviolet radiation generating phosphors, argon glow lamps, electronic flash units and photographic flood lamps. Electron accelerators and electron beam sources through a suitable mask may also be used. Among these, mercury vapor lamps, especially the sunlamp or "black light" type and fluorescent sunlamps are the most suitable. The radiation exposure time depends on the intensity and spectral energy distribution of the radiation, its distance from the composition and the nature and amount of composition available.
It can vary from seconds to minutes. Typically about 1.5 to about 60 inches (3.8cm to 153cm) from the photosensitive composition
A mercury vapor arc or a solar lamp is used at a distance of . Exposure temperature is not particularly critical. However, it is generally preferred to operate at ambient or slightly higher temperatures, ie from about 20 DEG to about 35 DEG C. After exposure, it can be developed by washing with a suitable solvent. Although the solvent liquid has a good solvent or swelling effect on the butadiene polymer/ethylenically unsaturated compound composition, it does not result in insolubilized images or The support or adhesive layer should have little effect. Suitable organic solvents include 2-butanone, benzene, toluene, xylene, trichloroethane, trichloroethylene, methylchloroform,
Mention may be made of tetrachlorethylene and other solvent mixtures such as tetrachlorethylene/n-butanol. When the high molecular weight butadiene polymer component contains carboxyl groups, suitable solvents include aqueous bases to which a water-soluble organic solvent may be added. Specific suitable solvent mixtures include sodium hydroxide/isopropyl alcohol/water, sodium carbonate/water, sodium carbonate/2-butoxyethanol/water, sodium borate/2-butoxyethanol/water, sodium silicate/2-butoxyethanol. /Glycerol/
water, sodium carbonate/2-(2-butoxyethoxy)ethanol/water, and 16% by volume of 2-
(2-Butoxyethoxy) Sodium hydroxide (0.5% by weight) in ethanol. This last one is preferred. The particular solvent combination chosen will depend on the carboxyl content of the photosensitive composition and the nature and amount of binder used. Other aqueous solvent combinations that may be used are described in U.S. Pat.
It is described in the specification of No. 3796602. These aqueous base/water-soluble organic solvent combinations may be preferred in some cases because of their low cost, nonflammability, and low toxicity. Solvent development may be carried out at about 25°C. However, best results are sometimes achieved when the solvent is warm, e.g. 30-60°C.
obtained in the case of . Development times may vary, but are preferably within the range of 5 to 25 minutes. In the development step where the relief is formed, the solvent may be applied in any convenient manner, for example by injection, impregnation, spraying or roller application. Only brushes are useful in removing non-polymerized or non-crosslinked portions of the composition. After liquid development, the plate is dried in heated air at room temperature, optionally in a forced hot air dryer or other suitable dryer, and allowed to dry at room temperature to about 125°C, preferably 60°C, for 1 hour. The dried plate is then detackified by treatment with an aqueous hypochlorite solution such as 900 parts water, 90 parts Clorox and 10 parts concentrated HCl and dried. 5-15 using the light source used for imagewise exposure
After a minute of exposure, the plate is ready for use. Printed reliefs produced from the light-sensitive flexographic elements of the invention can be used for all types of printing, but only those where a clear difference in height between the printed and non-printed parts is required. The present invention is most applicable to flexographic printing, and in particular to flexographic printing of the type where a resilient printing part is required, for example for printing on a deformable printing surface. These types include dry offset printing, where the ink is carried by the raised part of the relief, as in regular letterpress printing (which requires a greater height difference between printed and non-printed areas). and those in which the ink is carried by recesses in relief, as in intaglio printing, for example in lines and reverse halftones. This plate is also useful for multicolor printing. The resulting relief and printed images exhibit fidelity to the original both in fine detail and overall dimensions even when the element is imagewise exposed on a cylindrical support. This relief has high impact strength, is tough yet abrasion resistant and has wide ink compatibility. Thus, it has good compatibility with a wide range of inks, such as water-based inks, hydrocarbon inks and alcohol-based inks. The following examples serve to illustrate the invention, in which parts and percentages are by weight. The adhesion values in the examples are measured by the following peel test method. Sample 1 inch x 6 inches (2.54 x 15.24 cm)
Cut into size. After providing appropriate exposure through the support and imagewise exposure to actinic radiation (unless stated otherwise), one corner of the support is pinched loose from the photosensitive layer and removed by hand for approximately 1.5
Peel off a distance of 1 inch (3.81 cm). It may be necessary to use a pair of pliers to grip the stripped photosensitive layer during this operation. Insert the prepared sample into the jaw of the Instron Universal Testing Instrument Model TTC (manufactured by Instron Engineering). At that time, the photosensitive layer is placed on the upper layer,
The peeled support is then inserted into the lower jaw. The test is conducted at a crosshead separation speed of 10 inches/minute (25.4 cm/minute). Tensile load cell C
is used, for which the maximum allowable load is 50
lb (22.68Kg), the initial separation is 3/8 inch (0.95cm), and the initial peel angle is -
90° at the support and the final peel angle is 45-60°.
The stress for sample peeling is read from a recorder on the machine. Divide this by 1.0 inch (2.54 cm) (sample width) to obtain the appropriate unit. If the adhesive strength (adhesion) is greater than or equal to 8 pounds/inch (142.86 Kg/m), the photosensitive layer will break or break without peeling during testing. The polymers present in the adhesive blend are designated by the numerical symbols (1), (2), (3) or (4) as previously described. Example 1 An adhesive solution is prepared from the following ingredients. Component amount (parts) Polyamide resin (3) Lot No.OF5237 63.1 Polyester resin (1) 27.0 Polyolefin 9.8 Dupont Milling Blue BL dye 0.1 (CI Acid Blue 59) Polyamide resin (3) is "Macromelt" 6238 ( Henkel Adhesives Company Products) This is a translucent light amber color and is heated to 132-145 degrees Celsius.
Ring softening point, melt viscosity of 40-60 poise at 210℃,
Ignition point above 299℃, 1 day water absorption% of 0.7, 1.6
It has a 7 - day water absorption% of Strength and elongation are
(measured at 24°C by ASTM method D-1708). The above polyester resins are M n19000 and M
It is a reaction product of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid (molar ratio 6:2:1:3) with w37000. The polyolefin is "Vestofine" SF-616 (manufactured by Doula Commodities), which is snow white in color, has a molecular weight of about 1600, a density of about 0.96 at 20°C, and a density of 0.5 to 1.0 at 25°C. and a melting point of about 118-128℃, of which about 85% is 10μ or less and about 15% is
It has a particle size of 10-20μ. The above components are added in sequence to a methylene chloride/cellosolve (90/10) mixture to produce a solution of about 16% solids. Polyolefin beads do not dissolve. The mixture is continuously stirred during and after the addition of the ingredients to effect dissolution. Any weight loss during mixing is compensated by the addition of methylene chloride. This adhesive solution is applied to the flame treated surface of a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film support using a continuous web coater dryer to give a dry coating weight of about 260 mg/dm 2 . Web speed is 45 feet/
min (13.72 m/min), and the drying temperature is 86 m/min.
℃ (205〓). The adhesive coated polyethylene terephthalate support is placed adhesive side up in a steel platen fitted with a die 0.080 inch (2.03 mm) thick, the thickness of the final printing plate. The adhesive coated support and platen were placed on a press and a 0.090 inch (approximately 2.29 mm) thick photopolymerizable composition supported by a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate support. The extruded sheet of material is kept support side up and covered with a steel plate. Extruded sheets of photopolymerizable compositions are manufactured from the following ingredients. Blend these and extrude the blend through a die at 170°C. Ingredient amount (parts) Acrylonitrile (27) / Butadiene (70) /
High molecular weight copolymer of acrylic acid (3) (average Mooney viscosity 45.0, “Hiker” 1472×26) 81.59 Hexamethylene diacrylate 10.0 Polyethylene sebacate 5.0 Dibutyltin-3,S′-bis-isooctylmercaptoacetate 2.0 2 -Phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone 1.25 2,6-ditertiary-butyl-4-methylphenol
0.10 1,4,4-trimethyl-2,3-diazabicyclo(3,2,2)-nonar-2-ene-2,3
- Dioxide 0.05 Dupont Milling Blue BL dye (CI Acid Blue 59, 0.01 10% dispersion in ethylene glycol) (dry) The above polyethylene sebacate is a low molecular weight polyester resin with the trade name "Paraplex" G-30. Available from Rohm and Haas. Increase temperature and apply pressure gradually.
This causes the photopolymerizable sheet to spread over the entire area of the platen surrounded by the die. After the sheets are evenly distributed, the temperature is increased to 160℃,
A pressure in the range of 20,000-30,000 psi (1406-2109 Kg/cm 2 ) is then applied and held for 3 minutes. The assembly is cooled in the press to below 60°C by flowing water through the press platen. The formed laminated element is removed from the press and placed, support side up, under a row of black fluorescent lamps, such as Sylvania BL lamps. The element is exposed through the support for 4 minutes to polymerize the intended thickness of the photopolymerizable layer adjacent to the adhered support. The overlapping portion of the elements is called the floor. Next, add this element to Sylvania (BL-
"Cyrel" 3040 with VHO fluorescent light
Place it in the exposure unit (DuPont product). The photopolymerizable surface is covered with an image-bearing transparency (negative) and the element is exposed under vacuum for 15 minutes. The duration of exposure is a function of the photopolymer sheet thickness, polymeric floor thickness and type of image-bearing transparency used. After exposure, the transparency is removed and the exposed element is placed in a rotating drum brush type "Shillel" 3040 processor. The unpolymerized portion of the element is removed in the processor by washing with 0.5% by weight sodium hydroxide in 16% by volume 2-(2-butoxyethoxy)ethanol in water for 15 minutes. 0.035
An inch (0.83mm) relief image is obtained. The developed element (printing plate) is placed in a forced hot air dryer or other suitable dryer and dried for 1 hour at 60°C. The dry plate was then mixed with an aqueous hypochlorite solution (900 parts water, 90 parts Clorox and 10 parts concentrated water).
Detack for 1-3 minutes in HCl) and dry again. The dried plate is post-exposed for 10 minutes in air using the same exposure light source used for the imagewise exposure. This plate is 50-60
Shore A2 hardness in the range (ASTM test method D2240)
have. The plate can now be mounted onto a flexographic press cylinder using commercially available double-sided tape and printed using standard flexographic inks. Print quality is comparable or better than that produced using similarly printed rubber plates. The adhesion of the photopolymer layer to the support is 8
It is greater than pounds per inch (142.86Kg/m). Example 2 An adhesive solution is prepared as described in Example 1. This solution is applied to a flat surface on a 0.005 inch (0.127 mm) thick polyimide flexible film support, Kapton Polyimide Film (manufactured by DuPont). A measured amount of adhesive solution is poured onto the surface of the support and spread with a 0.006 inch (0.15 mm) doctor knife. Allow this adhesive coating to air dry. 0.001 inch (0.025
The extruded photosensitive layer with a thickness of up to 1 mm) is pressed onto the adhesive-coated support by the procedure described in Example 1. The final pressing temperature is 160℃,
And the pressure is about 25000psi (1757.5Kg/cm 2 ).
After the pressed plate has cooled as described in Example 1, it is removed from the press. The plate is cut into 1.0 inch by 60 inch (2.54 cm by 15.28 cm) wide strips and exposed entirely in the exposure apparatus of Example 1 for 3 minutes on the support side and 30 minutes on the light sensitive side. Attempts to peel off the photosensitive layer were unsuccessful. The photosensitive layer was cut in the adhesive state.
This is 8.0 lb/in (142.86 Kg/m)
The above adhesive values are shown. Example 3 Example 2 is repeated except that the adhesive solution is prepared from the following ingredients. Component Amount (g) Polyester resin described in Example 1 10772.0 Polyether polyurethane resin 16204.0 Polyolefin described in Example 1 2996.0 Dupont Milling Blue BL dye (CI Acid Blue 59) 28.0 This polyether polyurethane resin was manufactured by K.G. Quinn Company. 's product "Q-Thane
”P250-1 in methyl ethyl ketone
Bruckfield viscosity of 100 to 1200 centipoise at 12 rpm using 15% solids and #3 Bruckfield spindle, and adhesive activation temperature ranging from 54 to 63 °C, and crystalline state breakdown temperature of approximately 49 °C It is a crystalline thermoplastic resin with As in Example 2, the photosensitive layer was adhesively destroyed and
m) or higher. Examples 4-6 Several adhesive solutions are prepared as described in Example 1. This solution is applied to the flat surface of the flexible support described in Table 1 below. A measured amount of adhesive solution is poured onto the surface of the support and spread with a No. 65 wire-wound stainless steel rod. Allow the adhesive coating to air dry. The extruded photosensitive layer described in Example 2 is pressed onto an adhesive-coated support in the manner described in Example 2. After the pressed plate has cooled as described in Example 1, it is removed from the press. The plate is cut as described in Example 2 and exposed overall for 25 minutes in the exposure apparatus described in Example 1. The measured adhesion values are listed in Table 1.
【表】
例 7
次の成分から例1記載のようにして接着剤溶液
を調製する。成 分
量
2〜4種の樹脂の混合物 タイプおよび樹脂の
(接着剤溶液中90重 全重量基準の%に
量%以上の固体分) 関しては表2参照
例1記載のブロツキング防止剤 9.2*
例1記載の染料 0.1*
(注)*接着剤溶液中の固体分全重量基準。
試料7,25〜28および40〜70を例1記載のよう
にして記載の大約のコーテイング重量で塗布す
る。試料1〜6,8〜24,29〜39および71〜87は
例2の記載のようにして記載の大約のコーテイン
グ重量で塗布する。接着剤溶液をコーテイングす
る支持体は試料1〜40,42〜49,52〜67,69およ
び74〜87に対しては火炎処理ポリエチレンテレフ
タレートであり、試料41,68,70および71〜73に
対しては例1記載の未処理ポリエチレンテレフタ
レートであり、試料50および51に対しては電子放
電処理ポリエチレンテレフタレート〔1.0〜6.0ジ
ユール/インチ(0.39〜2.36ジユール/cm)〕で
ある。
例1記載の光感受性層を例1記載の操作によつ
て表2に記載の接着剤コーテイングした支持体上
に積層する。プレスから除去した後、積層エレメ
ントを以下に記載のようにして処理する。バツク
露光源露光ユニツト、処理機およびドライヤーは
例1に記載されている。
〔A〕 支持体を通しての露光4分、像様露光15
分、例1記載の溶媒洗去10分、乾燥60分。後処
理は例1記載のとおり、空気中での後露光10
分。試料1〜7に適用。
〔B〕 支持体を通しての露光4分、像様露光15
分、溶媒洗去なし、乾燥なし、例1記載の後処
理なし、空気中での後露光15分。試料8〜13に
適用。
〔C〕 支持体を通しての露光4分、像様露光30
分、溶媒洗去、乾燥、後処理、後露光すべてな
し。試料14〜34に適用。
〔D〕 試料35〜39に対しては処理なし。試料44
〜77および試料82〜85は、プレスから積層エレ
メントを除去した後に試験される。
〔E〕 前記〔C〕と同様の処理。ただし支持体
を通しての露光は3分。試料40〜43に適用。
〔F〕 前記〔C〕と同様の処理。ただし像様露
光は25分。試料78〜81に適用。
〔G〕 支持体を通しての露光4分、像様露光15
分、溶媒洗去、乾燥、後処理すべてなし。空気
中での後露光10分。試料86〜87に適用。Table: Example 7 An adhesive solution is prepared as described in Example 1 from the following ingredients: Component Amount : Mixture of 2 to 4 Resin Types and Resin (Solid content of 90% by weight or more based on total weight in adhesive solution), refer to Table 2 for the antiblocking agent described in Example 1 9.2 * Dye described in Example 1 0.1 * (Note) *Based on the total weight of solids in the adhesive solution. Samples 7, 25-28 and 40-70 are coated as described in Example 1 at the approximate coating weights indicated. Samples 1-6, 8-24, 29-39 and 71-87 are coated as described in Example 2 at the approximate coating weights listed. The support coated with the adhesive solution was flame treated polyethylene terephthalate for samples 1-40, 42-49, 52-67, 69 and 74-87 and for samples 41, 68, 70 and 71-73. and for Samples 50 and 51, electron discharge treated polyethylene terephthalate (1.0-6.0 joules/inch (0.39-2.36 joules/cm)). The photosensitive layer described in Example 1 is laminated by the procedure described in Example 1 onto the adhesive coated support described in Table 2. After removal from the press, the laminated element is processed as described below. The back exposure source exposure unit, processor and dryer are described in Example 1. [A] 4 minutes of exposure through the support, 15 minutes of imagewise exposure
minutes, solvent washing as described in Example 1 for 10 minutes, drying for 60 minutes. Post-processing was as described in Example 1, with post-exposure in air 10
Minutes. Applicable to samples 1 to 7. [B] 4 minutes of exposure through the support, 15 minutes of imagewise exposure
minutes, no solvent wash, no drying, no post-treatment as described in Example 1, 15 minutes post-exposure in air. Applicable to samples 8 to 13. [C] 4 minutes of exposure through the support, 30 minutes of imagewise exposure
minutes, solvent wash, drying, post-processing, and post-exposure. Applicable to samples 14-34. [D] No treatment for samples 35-39. sample 44
~77 and samples 82-85 are tested after removing the laminated elements from the press. [E] Same process as [C] above. However, exposure through the support is 3 minutes. Applicable to samples 40-43. [F] Same process as [C] above. However, imagewise exposure is 25 minutes. Applicable to samples 78-81. [G] 4 minutes of exposure through the support, 15 minutes of imagewise exposure
minutes, solvent washing, drying, and post-processing. Post-exposure 10 minutes in air. Applicable to samples 86-87.
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】
上記において試料10ではブロツキング防止剤と
して「Eftofine
」を使用した。このものは融点
235〜245〓(113〜118℃)、凍結点
(ASTM0938)206〜210〓(97〜99℃)、77〓
(25℃)における針入値(ASTM D1321)0.9〜
1.4(mm/10)、平均粒子サイズ2μ、重量の99%に
対する最大粒子サイズ10μの合成炭化水素ワツク
スである。
例 8
フレクソグラフイー印刷プレートを例1記載の
光重合性組成物および接着剤コーテイングした支
持体、および0.00017インチ(0.004mm)乾時厚さ
を有するポリアミド樹脂層を有する0.005インチ
(0.127mm)厚さのポリエチレンテレフタレートカ
バーシートを使用して製造する。ポリアミド層を
有するこのカバーシートは、押出しダイコーター
を使用して次の溶液でポリエチレンテレフタレー
トフイルムをコーテイングすることによつて製造
される。成 分
量(%)
メチレンクロリド 81.0
メタノール 2.0
N―メチルピロリドン 10.0
ポリアミド樹脂 7.0
このポリアミド樹脂「Macromelt
」6900は
本質的に無色であり、266〜302〓のボール・アン
ド・リング軟化点、347〓で5〜15g/10分の溶
融指数、570〓の発火点、0.2の1日水吸収%、
0.5の7日吸収%、1200psiの引張り降伏点、
3500psiの引張り破壊点および540%の伸長度を有
している。引張り降伏点、引張り破壊点および伸
長度はASTM法D―1708により24℃で測定され
る。
光重合性組成物の成分をツインスクリユー押出
機に供給し、固体導入口を通して結合剤成分を加
え、そして残りのブレンドされた成分を液体導入
口から入れる。押出機は164〜166℃で押出ダイに
送る前にこの光重合性組成物の溶融、混合、揮発
成分除去および過の機能を果す。押出された光
重合性組成物は2本ロールカレンダー中の回転バ
ンク中に入り、そして前記のコーテイングされた
支持体の接着剤側とカバーシートのポリアミド層
側との間でカレンダー処理される。カレンダーニ
ツプを調節して例えば0.112インチ(〜285mm)の
広範囲の厚さにわたる光重合性層を生成させるこ
とができる。
0.112インチ(〜2.85mm)の光重合性層厚さを
有する光重合性エレメントを送風により冷却さ
せ、そして移動通路に横方向に置かれた黒色光蛍
光灯例えばシルバニアBLランプのバンクの下を
通過させてその支持体を通してエレメントを連続
的に露光して支持体に接する光重合性層の予定さ
れた厚さを重合させる。エレメントを便利な長さ
例えば40インチ(101.60cm)に切断する。
この光感受性エレメントを以下に記載のように
露光ユニツト中に置き、そして空気中で支持体を
通して所定の時間長さの間全体的露光を与える
〔例えば層の0.080インチ(2.03mm)部分の重合を
必要とする0.112インチ(〜2.85mm)厚さの光重
合性層は光源強度に応じて約3分間露光される〕。
ポリアミド層の表面上のポリエチレンテレフタ
レートフイルムをそれから剥離させる。ポリアミ
ド層は光重合性層に接着残留する。硬質で可撓性
の平滑ポリアミド表面を像担持透明画で覆い、そ
して平重合性層を5分間真空下にシルバニアBL
―VHO蛍光灯を付したシレル
3040露光ユニツ
ト(デユポン社製品)中で像様露光させる。
露光後透明画を除去し、そして露光エレメント
を回転ドラムブラシ形式のシレル
3040プロセサ
ー中に置く。エレメントの未重合部分はプロセサ
ー中で、水中16容量%2―(2―ブトキシエトキ
シ)エタノール中の0.5重量%NaOHで洗うこと
により除去される。現像エレメント(印刷プレー
ト)を強制熱風ドライヤーまたは他の適当なドラ
イヤー中に置く。そしてプレートがその最初の厚
さを達成するまで60℃で乾燥させる。次いで乾燥
プレートを1〜3分間水性酸性次亜塩素酸塩溶液
(900部の水、90部のクロロクス
、10部の濃
HCl)中で粘着性除去する。プレートを湿つたま
ま放置することができるしまたは再び乾燥させる
ことができる。次いでプレートを10分間前記の像
様露光に使用されたものと同一の露光源を使用し
て後露光させる。印刷プレートは56〜60の範囲の
シヨアA2硬度(ASTM試験法D2240)を有して
いる。
この印刷プレートを例1記載のようにして印刷
に使用して比肩しうる結果を達成することができ
る。支持体に対するこの光重合体の接着値は8ポ
ンド/インチ(142.86Kg/m)以上である。[Table] In the above sample 10, "Eftofine" was used as an anti-blocking agent. This thing has a melting point
235~245〓(113~118℃), Freezing point (ASTM0938) 206~210〓(97~99℃), 77〓
Penetration value at (25℃) (ASTM D1321) 0.9~
1.4 (mm/10), average particle size 2μ, maximum particle size 10μ for 99% of the weight, synthetic hydrocarbon wax. Example 8 A flexographic printing plate was prepared with a photopolymerizable composition and adhesive coated support as described in Example 1, and a 0.005 inch (0.127 mm) polyamide resin layer having a dry thickness of 0.00017 inch (0.004 mm). Manufactured using thick polyethylene terephthalate cover sheet. This cover sheet with a polyamide layer is produced by coating a polyethylene terephthalate film using an extrusion die coater with the following solution: Ingredients (%) Methylene chloride 81.0 Methanol 2.0 N-Methylpyrrolidone 10.0 Polyamide resin 7.0 This polyamide resin "Macromelt" 6900 is essentially colorless, with a ball-and-ring softening point of 266-302〓, and a ball-and-ring softening point of 347〓. Melting index of 5-15g/10min, ignition point of 570〓, daily water absorption% of 0.2,
7-day absorption% of 0.5, tensile yield point of 1200psi,
It has a tensile failure point of 3500psi and an elongation of 540%. Tensile yield point, tensile break point and degree of elongation are determined by ASTM method D-1708 at 24°C. The components of the photopolymerizable composition are fed into a twin screw extruder, the binder component is added through the solids inlet, and the remaining blended components are introduced through the liquid inlet. The extruder functions to melt, mix, devolatilize, and evaporate the photopolymerizable composition at 164-166° C. before sending it to the extrusion die. The extruded photopolymerizable composition enters a rotating bank in a two roll calender and is calendered between the adhesive side of the coated support and the polyamide layer side of the cover sheet. The calender nip can be adjusted to produce photopolymerizable layers over a wide range of thicknesses, for example 0.112 inches (~285 mm). A photopolymerizable element with a photopolymerizable layer thickness of 0.112 inches (~2.85 mm) is cooled by blowing air and passed under a bank of black-light fluorescent lamps, e.g., Sylvania BL lamps, placed laterally in a travel path. The element is sequentially exposed to light through the support to polymerize a predetermined thickness of the photopolymerizable layer on the support. Cut the element to a convenient length, such as 40 inches (101.60 cm). The photosensitive element is placed in an exposure unit as described below and subjected to general exposure through the support in air for a predetermined length of time (e.g. polymerization of a 0.080 inch (2.03 mm) portion of the layer). The required 0.112 inch (~2.85 mm) thick photopolymerizable layer is exposed for about 3 minutes depending on the light source intensity]. The polyethylene terephthalate film on the surface of the polyamide layer is then peeled off. The polyamide layer remains adhesive to the photopolymerizable layer. The hard, flexible, smooth polyamide surface is covered with an image-bearing transparency, and the flat polymerizable layer is coated with Sylvania BL under vacuum for 5 minutes.
- Imagewise exposure in a Schiller 3040 exposure unit (DuPont) with VHO fluorescent lamp. After exposure, the transparency is removed and the exposed element is placed in a Schiller 3040 processor in the form of a rotating drum brush. The unpolymerized portion of the element is removed in the processor by washing with 0.5% by weight NaOH in 16% by volume 2-(2-butoxyethoxy)ethanol in water. Place the developer element (printing plate) in a forced hot air dryer or other suitable dryer. and dry at 60 °C until the plate achieves its initial thickness. The dry plate is then soaked in an aqueous acidic hypochlorite solution (900 parts water, 90 parts Clorox, 10 parts concentrated water) for 1-3 minutes.
Remove stickiness in HCl). The plate can be left wet or allowed to dry again. The plate is then post-exposed for 10 minutes using the same exposure source used for the imagewise exposure above. The printing plate has a shore A2 hardness (ASTM test method D2240) in the range 56-60. This printing plate can be used for printing as described in Example 1 with comparable results. The adhesion value of this photopolymer to the substrate is greater than 8 pounds per inch (142.86 kg/m).
Claims (1)
重量%のアクリロニトリル含量と0〜15重量
%のカルボキシル含量を有する高分子量ブタ
ジエン/アクリロニトリル共重合体55〜90重
量%、 (b) 少くとも1個の末端エチレン性基を含有す
る遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合により
高分子量重合体を形成できそして(a)の重合体
と相容性の非気体状エチレン性不飽和化合物
2〜40重量%、および (c) 不飽和化合物の重合を開始させる活性線放
射によつて活性化可能な有機放射感受性遊離
ラジカル生成系0.001〜10重量%、 を包含する光感受性弾性組成物の層 を包含しており、そして層(A)と層(B)との間に下記
すなわち (1) 約6:2:1:3のモル比のエチレングリコ
ール、テレフタル酸、イソフタル酸およびアゼ
ライン酸の縮合重合体でありそして約19000の
数平均分子量および約37000の重量平均分子量
を有しそして接着剤組成物中の全樹脂重量基準
で0〜78重量%の量のポリエステル樹脂、 (2) メチルエチルケトン中5重量%の固体分およ
びブルツクフイールドスピンドル#3を12rpm
で使用して100〜1200のブルツクフイールド粘
度を有しそして54〜63℃範囲の接着剤活性化温
度を有しそして接着剤組成物の全樹脂重量基準
で0〜78重量%の量の結晶性熱可塑性樹脂であ
るポリウレタン樹脂、 (3) 132〜145℃のボール・アンド・リング軟化
点、210℃で40〜60ポアズの粘度、ASTM D
―1708で−18℃で測定して130,24℃で測定し
て560そして60℃で測定して100の伸長%、
ASTM D―1708で−18℃で測定して4000psi、
24℃で測定して450psiそして60℃で測定して
170psiの引張り破断を有しそして接着剤組成物
の全樹脂重量基準で0〜94重量%の量である熱
可塑性二量体酸ポリアミド樹脂であるポリアミ
ド、および (4) 150〜160℃のボール・アンド・リング軟化
点、210℃で28〜38ポアズの粘度、ASTM D
―1708で−18℃で測定して350,24℃で測定し
て250そして60℃で測定して40の伸長%、
ASTM D―1708で−18℃で測定して2200psi、
24℃で測定して360psiそして60℃で測定して
50psiの引張り破断強度を有しそして接着剤組
成物の樹脂全重量基準で0〜97重量%の量であ
る熱可塑性二量体酸ポリアミド樹脂であるポリ
アミド よりなる群からとられた少くとも2種の重合体の
ブレンドを包含する接着剤組成物の層 を包含する、光感受性フレクソグラフイーエレメ
ント。 2 接着剤ブレンド組成物が接着剤組成物中の樹
脂の全重量基準で25〜31重量%のポリエステル樹
脂(1)、25〜31重量%のポリエーテルポリウレタン
樹脂(2)、25〜19重量%のポリアミド樹脂(3)および
25〜19重量%のポリアミド樹脂(4)を含有してい
る、前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソグ
ラフイーエレメント。 3 接着剤組成物が接着剤組成物中の樹脂の全重
量基準で1〜78重量%のポリエステル樹脂(1)、1
〜78重量%のポリエーテルポリウレタン樹脂(2)、
および1〜94重量%のポリアミド樹脂(3)を含有し
ている、前記特許請求の範囲第1項記載のフレク
ソグラフイーエレメント。 4 接着剤組成物が接着剤組成物中の樹脂の全重
量基準で1〜78重量%のポリエステル樹脂(1)、1
〜93重量%のポリアミド樹脂(3)、および1〜97重
量%のポリアミド樹脂(4)を含有している、前記特
許請求の範囲第1項記載のフレクソグラフイーエ
レメント。 5 接着剤組成物が接着剤組成物中の樹脂の全重
量基準で20〜50重量%のポリエステル樹脂(1)およ
び80〜50重量%のポリアミド樹脂(3)を含有してい
る、前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソグ
ラフイーエレメント。 6 接着剤組成物が接着剤組成物中の樹脂の全重
量基準で3〜70重量%のポリエステル樹脂(1)およ
び97〜30重量%のポリアミド樹脂(4)を含有してい
る、前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソグ
ラフイーエレメント。 7 接着剤ブレンド組成物が接着剤組成物中の樹
脂の全重量基準で25〜75重量%のポリエステル樹
脂(1)および75〜25重量%のポリエーテルポリウレ
タン樹脂(2)を含有している、前記特許請求の範囲
第1項記載のフレクソグラフイーエレメント。 8 接着剤組成物が着色剤を含有している、前記
特許請求の範囲第1項記載のフレクソグラフイー
エレメント。 9 接着剤組成物がブロツキング防止剤を含有し
ている、前記特許請求の範囲第1項記載のフレク
ソグラフイーエレメント。 10 ブロツキング防止剤が約120〜128℃の範囲
で溶融し且つ約1600の分子量を有する強靭な硬質
ポリオレフインの粒子である、前記特許請求の範
囲第8項記載のフレクソグラフイーエレメント。 11 可撓性支持体が火炎処理ポリエチレンテレ
フタレートフイルムである、前記特許請求の範囲
第1項記載のフレクソグラフイーエレメント。 12 可撓性支持体がアルミニウムである、前記
特許請求の範囲第1項記載のフレクソグラフイー
エレメント。 13 可撓性支持体がポリイミドフイルムであ
る、前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソグ
ラフイーエレメント。 14 可撓性支持体が錫めつきスチールである、
前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソグラフ
イーエレメント。 15 光感受性層が厚さ0.0005〜0.250インチで
ある、前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソ
グラフイーエレメント。 16 光感受性弾性組成物が可塑剤を含有してい
る、前記特許請求の範囲第1項記載のフレクソグ
ラフイーエレメント。 17 可塑剤がポリエチレンセバセートである、
前記特許請求の範囲第16項記載のフレクソグラ
フイーエレメント。[Scope of Claims] 1 (A) a flexible support and (B) the following components based on the weight of the total composition: (a) a number average molecular weight of 20,000 to 75,000 and a number average molecular weight of 10 to 50;
55-90% by weight of a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having an acrylonitrile content of % and a carboxyl content of 0-15% by weight; (b) free radical initiated chain extension containing at least one terminal ethylenic group; 2 to 40% by weight of a non-gaseous ethylenically unsaturated compound capable of forming a high molecular weight polymer by addition polymerization and compatible with the polymer of (a); and (c) active radiation for initiating polymerization of the unsaturated compound. 0.001 to 10% by weight of an organic radiation-sensitive free radical-generating system activatable by radiation; and between layer (A) and layer (B); (1) a condensation polymer of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of about 6:2:1:3 and having a number average molecular weight of about 19,000 and a weight average molecular weight of about 37,000; (2) 5% solids by weight in methyl ethyl ketone and a Bruckfield spindle #3 at 12 rpm;
Crystals having a Bruckfield viscosity of 100 to 1200 and having an adhesive activation temperature in the range of 54 to 63°C and in an amount of 0 to 78% by weight based on the total resin weight of the adhesive composition. (3) Ball-and-ring softening point of 132-145°C, viscosity of 40-60 poise at 210°C, ASTM D
-1708 % elongation of 130 measured at -18°C, 560 measured at 24°C and 100 measured at 60°C;
4000psi measured at -18°C with ASTM D-1708,
Measured at 24℃ and 450psi and measured at 60℃
(4) a thermoplastic dimer acid polyamide resin having a tensile rupture of 170 psi and in an amount of 0 to 94% by weight based on the total resin weight of the adhesive composition; Andring softening point, viscosity 28-38 poise at 210°C, ASTM D
-1708 % elongation of 350 measured at -18°C, 250 measured at 24°C and 40 measured at 60°C;
2200 psi measured at -18°C with ASTM D-1708,
Measured at 24℃ and 360psi and measured at 60℃
At least two members taken from the group consisting of polyamides that are thermoplastic dimer acid polyamide resins having a tensile breaking strength of 50 psi and in an amount of 0 to 97% by weight based on the total weight of resin of the adhesive composition. A photosensitive flexographic element comprising a layer of an adhesive composition comprising a blend of polymers. 2. The adhesive blend composition contains 25-31% by weight polyester resin (1), 25-31% by weight polyether polyurethane resin (2), 25-19% by weight based on the total weight of resin in the adhesive composition. polyamide resin (3) and
Flexographic element according to claim 1, containing from 25 to 19% by weight of polyamide resin (4). 3. The adhesive composition contains 1 to 78% by weight of polyester resin (1) based on the total weight of resin in the adhesive composition.
~78% by weight polyether polyurethane resin (2),
and 1 to 94% by weight of polyamide resin (3). 4 The adhesive composition contains 1 to 78% by weight of polyester resin (1) based on the total weight of resin in the adhesive composition, 1
Flexographic element according to claim 1, containing from 1 to 93% by weight of polyamide resin (3) and from 1 to 97% by weight of polyamide resin (4). 5. The above-mentioned patent claim, wherein the adhesive composition contains 20 to 50% by weight of polyester resin (1) and 80 to 50% by weight of polyamide resin (3), based on the total weight of resins in the adhesive composition. The flexographic element according to item 1. 6. The above-mentioned patent claim, wherein the adhesive composition contains 3 to 70% by weight of polyester resin (1) and 97 to 30% by weight of polyamide resin (4), based on the total weight of resins in the adhesive composition. The flexographic element according to item 1. 7. The adhesive blend composition contains 25-75% by weight polyester resin (1) and 75-25% by weight polyether polyurethane resin (2) based on the total weight of resins in the adhesive composition. A flexographic element according to claim 1. 8. The flexographic element according to claim 1, wherein the adhesive composition contains a colorant. 9. The flexographic element according to claim 1, wherein the adhesive composition contains an antiblocking agent. 10. The flexographic element of claim 8, wherein the antiblocking agent is particles of tough, rigid polyolefin that melts in the range of about 120-128°C and has a molecular weight of about 1600. 11. The flexographic element of claim 1, wherein the flexible support is a flame-treated polyethylene terephthalate film. 12. A flexographic element according to claim 1, wherein the flexible support is aluminum. 13. The flexographic element according to claim 1, wherein the flexible support is a polyimide film. 14. The flexible support is tinned steel;
A flexographic element according to claim 1. 15. The flexographic element of claim 1, wherein the photosensitive layer is 0.0005 to 0.250 inches thick. 16. The flexographic element according to claim 1, wherein the photosensitive elastic composition contains a plasticizer. 17 The plasticizer is polyethylene sebacate,
A flexographic element according to claim 16.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23786181A | 1981-02-25 | 1981-02-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57157237A JPS57157237A (en) | 1982-09-28 |
JPH0145902B2 true JPH0145902B2 (en) | 1989-10-05 |
Family
ID=22895534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2754582A Granted JPS57157237A (en) | 1981-02-25 | 1982-02-24 | Flexo printing element |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57157237A (en) |
CA (1) | CA1178476A (en) |
NL (1) | NL178723C (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63285551A (en) * | 1987-05-18 | 1988-11-22 | Nippon Paint Co Ltd | Water developable printing plate material |
-
1982
- 1982-02-23 CA CA000396870A patent/CA1178476A/en not_active Expired
- 1982-02-24 JP JP2754582A patent/JPS57157237A/en active Granted
- 1982-02-24 NL NL8200739A patent/NL178723C/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL8200739A (en) | 1982-09-16 |
NL178723C (en) | 1986-05-01 |
JPS57157237A (en) | 1982-09-28 |
NL178723B (en) | 1985-12-02 |
CA1178476A (en) | 1984-11-27 |
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