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JPH0259978B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0259978B2
JPH0259978B2 JP10184783A JP10184783A JPH0259978B2 JP H0259978 B2 JPH0259978 B2 JP H0259978B2 JP 10184783 A JP10184783 A JP 10184783A JP 10184783 A JP10184783 A JP 10184783A JP H0259978 B2 JPH0259978 B2 JP H0259978B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
weight
aqueous
photosensitive
halogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10184783A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS592045A (en
Inventor
Guren Fuitsukesu Maikuru
Rakotsui Boodan
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS592045A publication Critical patent/JPS592045A/en
Publication of JPH0259978B2 publication Critical patent/JPH0259978B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明はブタジエン/アクリロニトリル共重合
体含有の光感受性層を有するフレクソグラフイー
印刷プレートのハロゲンによる表面処理に関す
る。更に特定的には本発明はブタジエン/アクリ
ロニトリル共重合体を含有する光感受性層の臭素
または沃素およびそれに続く塩素による表面処理
およびそれにより生成される生成物に関する。 光感受性フレクソグラフイー印刷プレートは印
刷産業においてかなりの重要性を達成している。
そのようなフレクソグラフイー印刷プレートの製
造に特に有用な組成物としては、付加重合性エチ
レン性不飽和化合物、光開始剤および重合体結合
剤としてのブロツク共重合体例えばスチレン―ブ
タジエン―スチレンおよびスチレン―イソプレン
―スチレン共重合体または場合によりカルボキシ
ル基を含有するブタジエン/アクリロニトリル重
合体を含有した組成物があげられる。前記のブロ
ツク共重合体を含有する組成物を使用した印刷プ
レートは一般にアルコールまたはアルコール―ア
セテートベースのインクとのみ相容性である。一
方、場合によりカルボキシル基を含有するブタジ
エン/アクリロニトリル重合体は一般に炭化水素
ベースのインクとのみ相容性である。 スチレン―ブタジエン―スチレンまたはスチレ
ン―イソプレン―スチレンブロツク共重合体結合
剤を含有するフレクソグラフイー印刷プレートは
例えばプロセス透明画を通しての像様露光および
現像後、一般に酸性次亜塩素酸塩溶液で処理して
層の粘着性を減少せしめられる。粘着性の減少は
また臭素溶液の使用によつても達成できる。しか
しながら塩素処理または臭素処理のいずれもこれ
らブロツク共重合体ベースの印刷プレートを炭化
水素ベースインクと相容性にはしない。 しかしながら、場合によりカルボキシル基を含
有するブタジエン/アクリロニトリル重合体を含
有するフレクソグラフイー印刷プレートは粘着性
であるのみならず、ある印刷インク中に存在する
ある種の溶媒およびその他の成分例えばアルコー
ル、アセテートその他により攻撃されやすい。従
つてこれらのプレートの使用は実質量の炭化水素
溶媒を含有する制限された群のインクに限定され
る。塩素含有溶液例えば次亜塩素溶液の使用は粘
着性を軽減しうるがしかし印刷プレートの印刷表
面がアルコールおよび種々のその他の溶媒を含有
するインクにより攻撃されるのを阻止しない。ブ
タジエン/アクリロニトリル重合体含有フレクソ
グラフイー印刷プレートは後露光(像様露光の後
で行われる全体的非像様露光)の前または後に遊
離臭素濃度を有する水性溶液で処理した場合すべ
てのインクに対する溶媒耐性の増大を示し、そし
て最も顕著にはアルコール含有インクおよび種々
のその他の非炭化水素溶媒に対する耐性の上昇を
示す。しかしながらこの改善はアルコール含有イ
ンクが高水準のアセテートエステルまたはその他
の攻撃的共溶媒をも含有している場合の実際的使
用には不充分のものである。タツク(tack)減
少のために導入され塩素処理は抵抗性を上昇せず
そしてそれを低下させうる。この改善はまたスチ
レン―イソプレン―スチレンまたはスチレン―ブ
タジエン―スチレンブロツク共重合体含有印刷プ
レートの塩素または臭素処理によつては観察され
ない。 スチレン―イソプレン―スチレン、スチレン―
ブタジエン―スチレンブロツク共重合体含有フレ
クソグラフイー印刷プレートおよび場合によりカ
ルボキシル基を含有するブタジエン/アクリロニ
トリル共重合体含有フレクソグラフイー印刷プレ
ートは沃素処理により粘着性除去されそして「光
に由来する後硬化」に対する増大した抵抗性を与
えられる。沃素処理が溶媒耐性を改善させるかど
うかは知られていない。 場合によりカルボキシル基を含有するブタジエ
ン/アクリロニトリル共重合を含有する光感受性
組成物から製造された印刷プレートに対してその
プレートを現在当業者に入手可能なインク、イン
ク溶媒および共溶媒スペクトル(例えばアルコー
ル、アルコール―アセテート、炭化水素、アルコ
ール―炭化水素、アルコール―水その他)と相溶
性ならしめるような改善された2―ハロゲン処理
法に対する要求が存在している。 また2種のハロゲン処理すなわち臭素と塩素ま
たは沃素と塩素とを順次に適用しそして後露光の
前または後で実施できる方法に対する要求もまた
存在している。 更に、水性現像された前記印刷プレートの乾燥
の必要なしに直ちに2―ハロゲン処理方法に対す
る要求が存在している。 本発明によれば、20000〜75000の数平均分子量
を有し、そのアクリロニトリル含量が10〜50重量
%でありそしてカルボキシル含量が0〜15重量%
である高分子量ブタジエン/アクリロニトリル共
重合体および少くとも1個の末端エチレン基を含
有する非ガス状エチレン性不飽和化合物を包含す
る光感受性弾性体状組成物層の活性線放射による
像様露光およびその未露光部分の液体現像により
レリーフ部分が生成されているレリーフ光感受性
フレクソグラフイー印刷プレートに改善された溶
媒耐性表面を与えるための方法が提供されるもの
であり、而してその方法は場合によりレリーフ中
の部分を乾燥させた後、任意の順序で(1)現像表面
を活性線放射源に後露光させること、そして(2)こ
の現像表面を連続的に、2種の水性ハロゲン溶液
すなわち0.01〜3.5重量%の遊離臭素濃度を有す
る約15秒〜20分の接触を伴なう水性溶液または
0.2〜10重量%の遊離沃素濃度を有する約1.0〜10
分の接触を伴なう水性溶液のいずれかである第1
ハロゲン溶液およびそれに続く0.01〜1.0モル濃
度のMaOClおよび0.012〜1.2モル濃度のHClの水
性溶液により与えられるものに相当する塩素当量
の約15秒〜5分の接触時間の第2ハロゲン溶液に
接触させることを包含する。 本発明の方法に使用される光感受性組成物は高分
子量ブタジエン/アクリロニトリル共重合体、非
ガス状エチレン性不飽和化合物、有機放射感受性
遊離ラジカル生成性光開始剤または光開始剤系な
らびに以下に論じられるその他の添加剤を包含す
る。この組成物は層の形態で使用されうるし、あ
るいは組成物の層が可撓性支持体に接着せしめら
れうるしまたは一時的支持体が使用されうる。有
用な可撓性支持体としてはプラスチツクフイルム
および金属シート、開放または密閉セルフオー
ム、可撓性ゴム層、またはフオームおよびゴム層
とプラスチツクフイルムとの組合せ物があげられ
る。 組合せ支持体が使用される場合には、プラスチ
ツクフイルムは一般に光感受性層に隣接せしめら
れる。そのような支持体の例としては、重合体フ
イルム例えばポリエチレンテレフタレート、炎処
理ポリエチレンテレフタレート、電子放電処理ポ
リエチレンテレフタレート、ポリイミド例えばこ
こに参照として包含されている米国特許第
3179634号明細書に開示のフイルムその他、およ
び薄い金属シート例えばアルミニウム、錫めつき
スチール(つや消しまたは光沢性)があげられ
る。重合体支持体は一般に0.001インチ〜0.007イ
ンチ(0.025〜0.18mm)の範囲の厚さを有してい
る。金属支持体は一般にはアルミニウムに対して
は0.010〜0.0115インチ(0.25〜0.29mm)、そして
錫めつきスチールに対しては0.008〜0.010インチ
(0.20〜0.25mm)の範囲の厚さを有している。フ
オーム支持体の例としては開放および閉鎖セルフ
オーム例えばポリ塩化ビニル、ポリウレタン、エ
チレンポリエンジエンゴム、ネオプレンその他が
あげられる。圧縮性ゴムの例としてはスチレン/
イソプレンブロツク共重合体、ブタジエン/アク
リロニトリル共重合体、天然ゴムその他があげら
れる。 本明細書に開示の光感受性組成物はそれらの未
露光状態においては光感受性組成物の重合体結合
剤成分のカルボキシル含量によつて水性、半水性
塩基性または溶媒溶液中で現像可能である。この
光感受性層は0.005〜0.250インチ(約0.13〜6.35
mm)の範囲またはそれ以上の厚さである。 光感受性弾性体状組成物の一つの本質的成分
は、約20000〜約75000の範囲、好ましくは約
25000〜約50000の範囲の数平均分子量(n)を
有する高分子量ブタジエン/アクリロニトリル共
重合体(a)である。本明細書記載の重合体に対する
Mnはポリブタジエン標準を使用したゲル透過ク
ロマトグラフイーにより測定することができる。
この重合体のアクリロニトリル含量は約10〜約50
重量%、好ましくは約15〜約40%に変動する。場
合によりこの共重合体はまた0〜約15重量%のカ
ルボキシル含量を有している。この共重合体がカ
ルボキシル基を含有してる場合にはそのカルボキ
シル含量は好ましくは約1〜約15重量%、最も好
ましくは約2〜約10重量%の範囲である。この共
重合体は全組成物重量基準で約55〜90重量%、そ
して好ましく約60〜約75重量%量で存在せしめ
る。特にフレクソグラフイープレート用の光感受
性エレメントに充分な可撓性と物理的一体性を与
えるためには少くとも約55重量%の共重合体が必
要である。 カルボキシル基はカルボキシル含有単量体例え
ばアクリルまたはメタクリル酸またはカルボキシ
ル含有群に変換可能な単量体例えばマレイン酸無
水物またはメチルメタクリレートを重合過程に加
えることによつて高分子量共重合体中に包含させ
ることができる。そのような重合体はいくつかの
源から例えばB.F.Goodrich Chemical社から
「ハイカー(Hycar )」の商品名で市場的に入手
可能である。 本発明の光感受性組成物のその他の本質的成分
は少くとも1個の末端エチレン基を含有する非ガ
ス状エチレン性不飽和化合物(b)である。この化合
物は遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合によつて
高分子量重合体を生成させうるものでありかつ前
記高分子量重合体(a)と相容性のものであるべきで
ある。適当なエチレン性不飽和化合物の一つの群
としてはアルコールの不飽和エステル特にα―メ
チレンカルボキシル基および置換α―メチレンカ
ルボン酸とそのようなエステル、より特別にはア
ルキレンポリオールとポリアルキレンポリオール
のそのようなエステル、そして最も特別には2〜
15個の炭素原子を含有するアルキレンポリオール
または1〜10個のエーテル結合を含有するポリア
ルキレンエーテルポリオールまたはグリコールか
ら製造されたアルキレンポリオールおよびトリア
クリレートおよびポリアルキレンポリオールジお
よびトリアクリレートがあげられる。 次の特定の化合物がこの群のその他の例であ
る。第三級ブチルアクリレートおよびメタクリレ
ート、1,5―ペンタジオールジアクリレートお
よびジメタクリレート、N,N―ジエチルアミノ
エチルアクリレートおよびメタクリレート、エチ
レングリコールジアクリレートおよびジメタクリ
レート、1,4―ブタンジオールジアクリレート
およびジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレートおよびジメタクリレート、ヘキサ
メチレングリコールジアクリレートおよびジメタ
クリレート、1,3―プロパンジオールジアクリ
レートおよびジメタクリレート、デカメチレング
リコールジアクリレートおよびジメタクリレー
ト、1,4―シクロヘキサンジオールジアクリレ
ートおよびジメタクリレート、2,2―ジメチロ
ールプロパンジアクリレートおよびジメタクリレ
ート、グリセロールジアクリレートおよびジメタ
クリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レートおよびジメタクリレート、グリセロールト
リアクリレートおよびトリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレートおよびトリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートおよびトリメタクリレート、ポリオキシ
エチル化トリメチロールプロパントリアクリレー
トおよびトリメタクリレート、および米国特許第
3380831号明細書開示の同様の化合物、2,2―
ジ(p―ヒドロキシフエニル)プロパンジアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
トおよびテトラメタクリレート、2,2―ジ―
(p―ヒドロキシフエニル)プロパンジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリオキシエチル―2,2―ジ―(p―ヒド
ロキシフエニル)プロパンジメタクリレート、ビ
スフエノールAのジ(3―メタクリルオキシ―2
―ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフエノー
ルAのジ(2―メタクリルオキシエチル)エーテ
ル、ビスフエノールAのジ(3―アクリルオキシ
―2―ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフエ
ノールAのジ(2―アクリルオキシエチル)エー
テル、テトラクロロビスフエノールAのジ(3―
メタクリルオキシ―2―ヒドロキシプロピル)エ
ーテル、テトラクロロ―ビスフエノールAのジ
(2―メタクリルオキシエチル)エーテル、テト
ラブロモビスフエノールAのジ(3―メタクリル
オキシ―2―ヒドロキシプロピル)エーテル、テ
トラブロモビスフエノールAのジ(2―メタクリ
ルオキシエチル)エーテル、1,4―ブタンジオ
ールのジ(3―メタクリルオキシ―2―ヒドロキ
シプロピル)エーテル、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ブチレングリ
コールジアクリレートおよびジメタクリレート、
1,2,4―ブタントリオールトリアクリレート
およびトリメタクリレート、2,2,4―トリメ
チル―1,3―ペンタンジオールジアクリレート
およびジメタクリレート、1―フエニルエチレン
―1,2―ジメタクリレート、ジアリルフマレー
ト、スチレン、1,4―ベンゼンジオールジメタ
クリレート、1,4―ジイソプロペニルベンゼン
および1,3,5―トリイソプロペニルベンゼ
ン。 芳香族ポリヒドロキシ化合物例えばビスフエノ
ール、ノボラツクおよび同様の化合物例えばここ
に参考として包含されている米国特許第3661576
号明細書記載のものから導かれたジエポキシポリ
エーテルのジアクリレートおよびジメタクリレー
トエステル例えば分子量200〜500のポリエチレン
グリコールのビスアクリレートおよびメタクリレ
ートその他もまた有用である。 適当なエチレン性不飽和化合物のその他の群と
してはここに参考として包含されている米国特許
第2927022号明細書開示の化合物例えば特に末端
結合として存在している場合の複数個の付加重合
性エチレン結合を有するもの、そして特にそのよ
うな結合の少くとも1個そして好ましくはそのほ
とんどが炭素―炭素二重結合および炭素をヘテロ
原子(例えば窒素、酸素および硫黄)との二重結
合を含む二重結合炭素と共役しているものがあげ
られる。好ましいものはエチレン性不飽和基特に
ビニリデン基がエステルまたはアミド構造と共役
しているものである。そのような化合物の特定例
としては不飽和アミド特にα―メチレルカルボン
酸と特にα,ω―ジアミンおよび酸素中断ω―ジ
アミンとのアミド例えばメチレンビスアクリルア
ミド、メチレンビスメタクリルアミド、エチレン
ビスメタクリルアミド、1,6―ヘキサメチレン
ビス―アクリルアミド、ジエチレントリアミント
リスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミド
プロポキシ)エタン、β―メタクリルアミドエチ
ルメタクリレート、N―(β―ヒドロキシエチ
ル)―β―(メタクリルアミド)エチルアクリレ
ート、およびN,N―ビス(β―メタクリルオキ
シエチル)アクリルアミド、ビニルエステル例え
ばジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、
ジビニルフタレート、ジビニルテレフタレート、
ジビニルベンゼン―1,3―ジスルホネート、お
よびジビニルブタン―1,4―ジスルホネート、
ジアリルフマレートその他があげられる。 使用しうるその他のエチレン性不飽和化合物と
しては、スチレンおよびその誘導体、1,4―ジ
イソプロペニルベンゼン、1,3,5―トリイソ
プロペニルベンゼン、イタコン酸無水物のヒドロ
キシエチルアクリレートとのアダクト(付加物)
(1:1)、イタコン酸無水物と末端アミノ基を含
有する液体ブタジエン/アクリロニトリル重合体
のアダクト、およびイタコン酸無水物とジエポキ
シポリエーテルのジアクリレートおよびジメタク
リレートエステルとの米国特許第3661576号明細
書記載のアダクト、末端および懸垂ビニル基を含
有するポリブタジエンおよびブタジエン/アクリ
ロニトリル共重合体および不飽和アルデヒド例え
ばソルブアルデヒド(2,4―ヘキサジエナー
ル)があげられる。 水性塩基性現像性系が包含される場合には、水
浴性すなわちカルボキシルまたはその他のアルカ
リ反応性基を含有するエチレン性不飽和化合物や
特に適当である。更に米国特許第3043805号およ
び同第2929710号各明細書の重合性エチレン性不
飽和重合体および同様の物質を単独かまたはその
他の物質と混合して使用しうる。 エチレンオキシドおよび多価ヒドロキシ化合物
のアダクトのアクリルおよびメタクリルエステル
例えば米国特許第3380831号明細書記載のものも
また有用である。米国特許第3418295号および同
第3448089号各明細書に開示の光交叉結合性重合
体もまた使用しうる。これら米国特許のすべては
ここに参考として包含されている。 添加される不飽和化合物の量は組成物の全重量
基準で約2〜約40重量%の範囲にあるべきであ
る。最適結果のための特定の量は使用される特定
の重合体により変動する。好ましくは不飽和化合
物の量は約5〜約25重量%の範囲にある。 エチレン性不飽和化合物は好ましくは通常の圧
力で約100℃以上の沸点を有している。最も好ま
しいエチレン性不飽和化合物はトリエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
メタクリレートおよびヘキサメチレングリコール
ジアクリレートである。 本発明の光感受性組成物は前記の薄層の形態の
場合には実質的に活性線放射を散乱させない。実
質的に透明な混合物すなわち非放射散乱性混合物
を確実にさせるためには、ブタジエン共重合体お
よび重合体成分は使用される比率においてエチレ
ン性不飽和化合物と相容性であるべきでありそし
て好ましくはこの中に可溶性であるべきである。 「相容性」とは2種またはそれ以上の成分が相
互に有意量の活性線放射散乱を生ぜしめることな
く分散状態に留まる能力を意味している。相容性
は往々にして成分の相対比により限定され、そし
て非相容性は光感受性組成物中のくもり(haze)
の形成により証明される。若干のわずかなくもり
は印刷レリーフの製造においては、露光の前また
は露光の間はそのような組成物から許容されう
る。しかしながら微細な細部が所望される場合に
は、くもりは完全に除外されるべきである。エチ
レン性不飽和化合物の量または使用されるすべて
のその他の成分の量は従つて望ましくない光散乱
またはくもりを生成させない濃度に限定される。 本発明の光感受性組成物のその他の本質的成分
は有機放射感受性遊離ラジカル生成性開始剤また
は開始剤系(c)である。実際には不飽和化合物の重
合を開始させそして重合を過度に停止させないす
べての有機放射感受性遊離ラジカル生成性開始剤
系を本発明の光感受性組成物中に使用することが
できる。「有機」なる表現は本明細書においては、
炭素、および酸素、水素、窒素、硫黄およびハロ
ゲンの1種またはそれ以上を含有するがしかし金
属は含有しない化合物を意味して使用されてい
る。像様露光に使用されるプロセス透明画は通常
の活性線放射源から生ずる熱を伝達しそして光感
受性組成物は高温結果を生ぜしめる条件下に通常
製造されるのであるから、好ましい遊離ラジカル
生成性開始剤化合物は85℃以下、そしてより好ま
しは185℃以下では熱的に不活性である。それら
は比較的短時間の露光で吸収される放射量の影響
下に所望の重合または交叉結合を開始させるに必
要な程度に組成物中に分散可能であるべきであ
る。これら開始剤は溶媒不含光感受性組成物の全
重量基準で約0.001〜約10重量%、そして好まし
くは約0.1〜約5重量%の量で有用である。 この遊離ラジカル生成性開始剤系は約2000〜約
8000Åの範囲の放射を吸収し、そして約2500〜約
8000Åそして好ましくは約2500〜約5000Åの範囲
内に少くとも約50の分子吸光係数を有する活性線
放射吸収バンドを有する少くとも1種の成分を有
している。「活性線放射吸収バンド」とは不飽和
物質の重合または交叉結合を開始させるに必要な
遊離ラジカルを生成させるべく活性な放射バンド
を意味している。 遊離ラジカル生成性開始剤系は放射により活性
化された場合直接遊離ラジカルを与える1種また
はそれ以上の化合物を包含しうる。それはまた放
射により活性化された増感剤によつてそうされた
後でその一つが遊離ラジカルを生成するような複
数の化合物をも包含しうる。 本発明の実施にあたつては、多数のそのような
遊離ラジカル生成性化合物を使用でき、そしてそ
れらとしては芳香族ケトン例えばベンゾフエノ
ン、ミヒラーのケトン、〔4,4′―ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノン〕、4,4′―ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフエノン、4―アクリルオ
キシ―4′―ジメチルアミノベンゾフエノン、4―
アクリルオキシ―4′―ジエチルアミノベンゾフエ
ノン、4―メトキシ―4′―ジメチルアミノベンゾ
フエノン、2―フエニル―2,2―ジメトキシア
セトフエノン(2,2―ジメトキシ―1,2―ジ
フエニルエタノン)、2―エチルアントラキノン、
フエナントラキノン、2―第3級ブチルアントラ
キノン、1,2―ベンズアントルキノン、2,3
―ベンズアントラキノン、2,3―ジクロロナフ
トキノン、ベンジルジメチルアセタールおよびそ
の他の芳香族ケトン、ベンゾイン、ベンゾインエ
ーテル例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエー
テルおよびベンゾインフエニルエーテル、メチル
ベンゾイン、エチルベンゾインおよびその他のベ
ンゾインおよび2,4,5―トリアリールイミダ
ゾリル二量体例えば2―(o―クロロフエニル)
―4,5―ジフエニルイミダゾリル二量体、2―
(o―クロロフエニル―4,5―ジ(m―メトキ
シフエニル)イミダゾリル二量体、2―(o―フ
ルオロフエニル)―4,5―ジフエニルイミダゾ
リル二量体、2―(o―メトキシフエニル)―
4,5―ジフエニルイミダゾイル二量体、2―
(p―メトキシフエニル)―4,5―ジフエニル
イミダゾリル二量体、2,4―ジ(p―メトキシ
フエニル)―5―フエニルイミダゾリル二量体、
2―(2,4―ジメトキシフエニル)―4,5―
ジフエニルイミダゾリル二量体、2―(p―メチ
ルメルカプトフエニル)―4,5―ジフエニルイ
ミダゾリル一量体、その他の米国特許第3479185
号および同第3784557号および英国特許第997396
号および同第1047569号各明細書に開示のものが
あげられる。これらの特許はここに参考として包
含される。 イミダゾリル二量体は遊離ラジカル生成性電子
ドナー(供与体)例えば2―メルカプトベンズイ
ソキサゾール、ロイコクリスタルバイオレツトま
たはトリ(4―ジエチルアミノ―2―メチルフエ
ニル)メタンと共に使用することができる。ミヒ
ラーのケトンのような増感剤を加えることができ
る。種々のエネルギー伝達染料例えばローズベン
ガルおよびエオジンYもまた使用しうる。適当な
開示剤のその他の例は、ここに参考として包含さ
れている米国特許第2760863号明細書に開示され
ている。 この光感受性組成物にはまた小量例えば溶媒不
含光感受性組成物の全重量基準で例えば0.001〜
2.0重量%の熱付加重合阻害剤を含有させること
ができる。適当な阻害剤としてはヒドロキノンお
よびアルキルおよびアリール置換ヒドロキノン、
2,6―ジ第3級ブチル―4―メチルフエノー
ル、p―メトキシフエノール、第3級ブチルピロ
カテコール、ピロガロール、β―ナフトール、
2,6―ジ第3級ブチル―p―クレゾール、フエ
ノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニト
ロベンゼン、およびここに参照として包含されて
いる米国特許第4168982号明細書に記載のニトロ
ソ二量体阻害剤系があげられる。その他の有用な
阻害剤としてはp―トルキノン、クロラニルおよ
びチアジン染料例えばチオニンブルーG
(CI52025)、メチレンブルーB(CI52015)および
トルイジンブルー(CI52040)があげられる。そ
のような光感受性組成物は阻害剤を除去させるこ
となく光重合または光交叉結合させることができ
る。好ましい阻害剤は2,6―ジ第3級ブチル―
4―メチルフエノールおよびp―メトキシフエノ
ールである。 本発明の光感受性組成物およびそれから製造さ
れた印刷レリーフの酸素およびオゾン耐性は適当
量の相容性の周知の酸化防止剤および/またはオ
ゾン化防止剤を混入させることによつて改善でき
る。本発明に有用な酸化防止剤としてはアルキル
化フエノール例えば2,6―ジ第3級ブチル―4
―メチルフエノール、アルキル化ビスフエノール
例えば2,2―メチレンビス―(4―メチル―6
―第3級ブチルフエノール)、1,3,5―トリ
メチル―2,4,6―トリス(3,5―ジ第3級
ブチル―4―ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2
―(4―ヒドロキシ―3,5―ジ第3級ブチルア
ニリノ)―4,6―ビス(n―オクチルチオ)―
1,3,5―トリアジン、重合トリメチルヒドロ
キノンおよびジラウリルチオプロピオネートがあ
げられる。 本発明に有用なオゾン化防止剤としては微晶性
ワツクスおよびパラフインワツクス、ジブチルチ
オ尿素、1,1,3,3―テトラメチル―2―チ
オ尿素、オゾン化防止剤AFD(ナフトン社の製
品)、ノルボルネン例えばジ―5―ノルボルネン
―2―メチルアジペート、ジ―5―ノルボルネン
―2―メチルテレフタレート、オゾンプロテクタ
ー80(ライヒホールド・ケミカル社製品)、N―フ
エニル―2―ナフチルアミン、不飽和植物油例え
ばなたね油、あまに油、サフラワー油、重合体お
よび樹脂例えばエチレン/ビニルアセテート共重
合体樹脂、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン
化ポリエチレン、塩素化エチレン/メタクリル酸
共重合体、ポリウレタン、ポリペンタジエン、ポ
リブタジエン、フルフラール誘導体樹脂、エチレ
ン/プロピレン/ジエンゴム、ロジンのジエチレ
ングリコールエステルおよびα―メチルスチレ
ン/ビニルトルエン共重合体があげられる。生成
された印刷レリーフのオゾン耐性はまた使用前に
高温でそれをやきなましさせることによつて改善
しうる。 所望により、光感受性物質の露光に使用される
波長では実質的に透明なそして活性線放射を散乱
させない非混和性の重合体状または非重合体状の
有機または無機充填剤または補強剤例えばポリス
チレン、親有機性シリカ、ベントナイト、シリ
カ、粉末ガラス、コロイドカーボンならびに種々
のタイプの染料および顔料をこの光感受性組成物
は含有しうる。そのような物質は弾性体状組性物
の所望の性質によつて種々の量で使用される。充
填剤は弾性体層の強度の改善、タツクの減少およ
び更に着色剤としても有用である。 この光感受性組成物は好ましくは結合剤のガラ
ス転移温度を低下させそして選択的現像を容易な
らしめるための相容性可塑剤を含有する。可塑剤
は重合体結合剤と相容性の一般的可塑剤のいずれ
かでありうる。一般的可塑剤の中にはジアルキル
フタレート、アルキルホスフエート、ポリエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコールエステル
およびポリエチレングリコールエーテルがある。
その他の有用な可塑剤としてはオレイン酸、ラウ
リン酸その他があげられる。ポリエステル例えば
ポリエチレンセバケートその他は好ましい可塑剤
である。可塑剤は一般には光感受性組成物の全固
体分の重量基準で1〜15重量%で存在する。 本発明の光感受性組成物は任意の適当な方法で
各成分すなわち(a)高分子量ブタジエン/アクリロ
ニトリル共重合体、(b)相容性エチレン性不飽和化
合物および(c)遊離ラジカル生成性開始剤系を混合
することにより製造することができる。例えば流
動性組成物はそれらおよびその他の所望の添加剤
を任意の順序でそして所望により溶媒例えば塩素
化炭化水素例えばメチレンクロリド、クロロホル
ム、メチルクロロホルム、クロロベンゼン、トリ
クロロエチレン、テトラクロロエチレンおよびク
ロロトルエン、ケトン例えばメチルエチルケト
ン、ジエチルケトンおよびメチルイソブチルケト
ン、芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエンお
よびキシレンおよびテトラヒドロフランの助けを
かりて混合することにより製造しうる。前記溶媒
は希釈剤としてアセトン、低分子量アルコール例
えばメチル、エチルおよびプロピルアルコールお
よびエステル例えば酢酸メチル、酢酸エチルおよ
び酢酸プロピルを含有することができる。この溶
媒は後で混合物または押出し層を加熱することに
より除去することができる。 これら組成物の製造においては、通常のミル処
理、混合および溶液技術を使用することができ
る。特定の技術はそれぞれの成分の性質の違いに
より変動する。均質な実質的に非放射散乱性の組
成物を任意の所望方法で層またはシートに成形せ
しめる。例えば溶媒キヤスチング、熱プレス、カ
レンダーがけまたは押出しは所望の厚さの層の製
造に適当な方法である。 本発明の光感受性エレメントは光感受性組成物
を溶媒キヤスチングまたは押出し、カレンダー処
理または高温プレスによつて適当な成形ホイー
ル、ベルトまたはプラテン上の光感受性層または
自己支持性シートの形態とすることができる。こ
の層またはシートは次いで前記可撓性支持体表面
上に積層させることができ、そしてこれは以下に
記載の接着剤ブレンドで接着させることができ
る。溶液が使用される場合には、コーテイングを
接着剤含有支持体上に生成させることができる。 形成される光感受性層の厚さはレリーフ像中に
所望される厚さの直接の函数であり、そしてこれ
は複写されるべき主題およびレリーフの最終的用
途に依存する。例えば厚い軟質のレリーフはフレ
クソグラフイー印刷に対して有用であり、そして
薄い硬質レリーフは平版印刷に対して有用であ
る。一般に光感受性層の厚さは約0.250インチ以
下である。例えばそれは約0.005〜約0.250インチ
(0.13〜0.635cm)に変動しそしてこの厚さ範囲の
層が大多数の印刷プレートに使用される。 前記の光感受性層と可撓性支持体との間には好
ましくは接着剤ブレンドの層を置くが、これは次
の4種の重合体群から選ばれた少くとも2種の重
合体を包含する。 (1) ポリエステル樹脂。約6:2:1:3のモル
比のエチレングリコール、テルフタル酸、イソ
フタル酸およびアゼライン酸の縮合重合体で
19000のnおよび37000のwを有している。 (2) ポリエステルポリウレタン樹脂。15重量%固
体分のメチルエチルケトン中でそして12rpmで
ブルツクフイールドスピンドル#3を使用して
100〜1200センチポアズのブルツクフイールド
粘度および54〜53℃範囲の接着剤活性化温度を
有する結晶性熱可塑性樹脂である。このポリエ
ステルポリウレタン樹脂は15%の降伏点伸長、
615%の破断点伸長、600psi(42.18Kg/cm2)の
400%伸長モジユラス、約49℃の結晶性消失温
度を有している。 (3) ポリアミド樹脂。半透明の明るいコハク色。
132〜145℃の環球(ボール・アンド・リング)
軟化点、210℃で40〜60ポアズの溶融粘度、299
℃以上の発火点、1日で0.7%そして7日で1.6
%の水吸収、460psi(32.34Kg/cm2)の降伏点引
張り強度、450psi(31.64Kg/cm2)の破断点引張
り強度および560%の伸長を有する(降伏点引
張り強度、波断点引張り強度および伸長は
ASTM法D―1708に従つて24℃で測定され
る。) (4) ポリアミド樹脂。半透明の明るいコハク色。
150〜160℃の環球軟化点、210℃で28〜38ポア
ズの粘度、1日で1.5%そして7日で2.8%の水
吸収、および
The present invention relates to halogen surface treatment of flexographic printing plates having a photosensitive layer containing a butadiene/acrylonitrile copolymer. More particularly, the invention relates to the surface treatment of photosensitive layers containing butadiene/acrylonitrile copolymers with bromine or iodine followed by chlorine and the products produced thereby. Photosensitive flexographic printing plates have achieved considerable importance in the printing industry.
Compositions particularly useful in the production of such flexographic printing plates include addition polymerizable ethylenically unsaturated compounds, photoinitiators and block copolymers such as styrene-butadiene-styrene and as polymer binders. Examples include compositions containing a styrene-isoprene-styrene copolymer or a butadiene/acrylonitrile polymer optionally containing carboxyl groups. Printing plates using compositions containing the block copolymers described above are generally compatible only with alcohol or alcohol-acetate based inks. On the other hand, butadiene/acrylonitrile polymers, which optionally contain carboxyl groups, are generally only compatible with hydrocarbon-based inks. Flexographic printing plates containing styrene-butadiene-styrene or styrene-isoprene-styrene block copolymer binders are generally treated with an acidic hypochlorite solution after imagewise exposure and development, for example through a process transparency. to reduce the tackiness of the layer. Reduction of tack can also be achieved by the use of bromine solutions. However, neither chlorination nor bromine treatment makes these block copolymer-based printing plates compatible with hydrocarbon-based inks. However, flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile polymers, which optionally contain carboxyl groups, are not only sticky but also contain certain solvents and other components present in some printing inks, such as alcohols, Easily attacked by acetate and others. The use of these plates is therefore limited to a limited group of inks containing substantial amounts of hydrocarbon solvents. The use of chlorine-containing solutions, such as hypochlorite solutions, may reduce tackiness but does not prevent the printing surface of the printing plate from being attacked by inks containing alcohol and various other solvents. When flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile polymers are treated with an aqueous solution having a free bromine concentration before or after post-exposure (total non-imagewise exposure performed after imagewise exposure), all inks It shows increased resistance to solvents, and most notably to alcohol-containing inks and various other non-hydrocarbon solvents. However, this improvement is insufficient for practical use when the alcohol-containing ink also contains high levels of acetate esters or other aggressive co-solvents. Chlorination, introduced for tack reduction, does not increase resistance and may reduce it. This improvement is also not observed upon chlorine or bromine treatment of printing plates containing styrene-isoprene-styrene or styrene-butadiene-styrene block copolymers. Styrene - Isoprene - Styrene, Styrene -
Flexographic printing plates containing butadiene-styrene block copolymers and flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile copolymers, optionally containing carboxyl groups, are detackified by iodine treatment and are detackified by iodine treatment. given increased resistance to "curing". It is not known whether iodine treatment improves solvent resistance. For printing plates made from photosensitive compositions containing a butadiene/acrylonitrile copolymer, optionally containing carboxyl groups, the plates can be prepared using the inks, ink solvents and co-solvent spectra currently available to those skilled in the art (e.g. alcohol, There is a need for improved 2-halogen processing methods to make them compatible with alcohols (alcohol-acetates, hydrocarbons, alcohol-hydrocarbons, alcohol-water, etc.). There also exists a need for a process in which two halogen treatments, bromine and chlorine or iodine and chlorine, are applied sequentially and can be carried out before or after post-exposure. Furthermore, there is a need for a process for the immediate 2-halogen treatment of aqueous developed printing plates without the need for drying. According to the invention, it has a number average molecular weight of 20000-75000, its acrylonitrile content is 10-50% by weight and its carboxyl content is 0-15% by weight.
imagewise exposure with actinic radiation of a photosensitive elastomeric composition layer comprising a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group; A method is provided for providing an improved solvent-resistant surface to a relief photosensitive flexographic printing plate, the relief areas of which have been created by liquid development of unexposed areas thereof, the method comprising: Optionally after drying the area in relief, in any order (1) post-exposure of the developed surface to a source of actinic radiation; and (2) sequentially exposing the developed surface to two aqueous halogen solutions. i.e. an aqueous solution with a contact time of about 15 seconds to 20 minutes with a free bromine concentration of 0.01 to 3.5% by weight or
Approximately 1.0-10 with a free iodine concentration of 0.2-10% by weight
The first, which is either an aqueous solution with contact with
contact with a second halogen solution for a contact time of about 15 seconds to 5 minutes of chlorine equivalents equivalent to that provided by an aqueous solution of halogen solution and 0.01 to 1.0 molar MaOCl and 0.012 to 1.2 molar HCl. It includes things. The photosensitive compositions used in the method of the invention include a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer, a non-gaseous ethylenically unsaturated compound, an organic radiation-sensitive free radical-generating photoinitiator or photoinitiator system and as discussed below. and other additives. The composition can be used in the form of a layer, or a layer of the composition can be adhered to a flexible support or a temporary support can be used. Useful flexible supports include plastic films and metal sheets, open or closed cell ohms, flexible rubber layers, or combinations of foam and rubber layers with plastic films. When a combination support is used, the plastic film is generally adjacent to the photosensitive layer. Examples of such supports include polymeric films such as polyethylene terephthalate, flame treated polyethylene terephthalate, electron discharge treated polyethylene terephthalate, polyimides such as those described in US Pat.
3179634 and others, and thin metal sheets such as aluminum, tinned steel (brushed or polished). The polymeric support generally has a thickness in the range of 0.001 inch to 0.007 inch (0.025 to 0.18 mm). The metal support generally has a thickness in the range of 0.010 to 0.0115 inches (0.25 to 0.29 mm) for aluminum and 0.008 to 0.010 inches (0.20 to 0.25 mm) for tinned steel. There is. Examples of foam supports include open and closed self-containing foams such as polyvinyl chloride, polyurethane, ethylene polyene diene rubber, neoprene, and the like. Examples of compressible rubber include styrene/
Examples include isoprene block copolymers, butadiene/acrylonitrile copolymers, natural rubber, and others. In their unexposed state, the photosensitive compositions disclosed herein are developable in aqueous, semi-aqueous basic or solvent solutions depending on the carboxyl content of the polymeric binder component of the photosensitive composition. This photosensitive layer is 0.005 to 0.250 inches (approximately 0.13 to 6.35 inches)
mm) or thicker. One essential component of the photosensitive elastomeric composition ranges from about 20,000 to about 75,000, preferably about
High molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer (a) having a number average molecular weight (n) ranging from 25,000 to about 50,000. Mn for the polymers described herein can be determined by gel permeation chromatography using polybutadiene standards.
The acrylonitrile content of this polymer ranges from about 10 to about 50
The weight percent varies preferably from about 15 to about 40%. Optionally, the copolymer also has a carboxyl content of 0 to about 15% by weight. If the copolymer contains carboxyl groups, the carboxyl content preferably ranges from about 1 to about 15% by weight, most preferably from about 2 to about 10% by weight. The copolymer is present in an amount of about 55 to 90% by weight, and preferably about 60 to about 75% by weight, based on the weight of the total composition. At least about 55% by weight copolymer is required to provide sufficient flexibility and physical integrity to the photosensitive element, particularly for flexographic plates. Carboxyl groups are incorporated into the high molecular weight copolymers by adding to the polymerization process a carboxyl-containing monomer, such as acrylic or methacrylic acid, or a monomer convertible to a carboxyl-containing group, such as maleic anhydride or methyl methacrylate. be able to. Such polymers are commercially available from several sources, such as from BF Goodrich Chemical Company under the tradename "Hycar". The other essential component of the photosensitive compositions of the invention is a non-gaseous ethylenically unsaturated compound (b) containing at least one terminal ethylenic group. The compound should be capable of forming high molecular weight polymers by free radical initiated chain extension addition polymerization and be compatible with the high molecular weight polymer (a). One group of suitable ethylenically unsaturated compounds includes unsaturated esters of alcohols, in particular α-methylene carboxyl groups and substituted α-methylene carboxylic acids and such esters, more particularly alkylene polyols and such esters of polyalkylene polyols. esters, and most especially 2~
Mention may be made of alkylene polyols and triacrylates and polyalkylene polyols di- and triacrylates made from alkylene polyols containing 15 carbon atoms or polyalkylene ether polyols or glycols containing from 1 to 10 ether bonds. The following specific compounds are other examples of this group. Tertiary butyl acrylate and methacrylate, 1,5-pentadiol diacrylate and dimethacrylate, N,N-diethylaminoethyl acrylate and methacrylate, ethylene glycol diacrylate and dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate and dimethacrylate, Diethylene glycol diacrylate and dimethacrylate, hexamethylene glycol diacrylate and dimethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate and dimethacrylate, decamethylene glycol diacrylate and dimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate and dimethacrylate, 2 , 2-dimethylolpropane diacrylate and dimethacrylate, glycerol diacrylate and dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate and dimethacrylate, glycerol triacrylate and trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate and trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate and trimethacrylate. Methacrylate, Polyoxyethylated Trimethylolpropane Triacrylate and Trimethacrylate, and U.S. Pat.
Similar compounds disclosed in No. 3380831, 2,2-
Di(p-hydroxyphenyl)propane diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate and tetramethacrylate, 2,2-di-
(p-hydroxyphenyl) propane dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxyethyl-2,2-di-(p-hydroxyphenyl) propane dimethacrylate, bisphenol A di(3-methacryloxy-2
-hydroxypropyl) ether, bisphenol A di(2-methacryloxyethyl) ether, bisphenol A di(3-acryloxy-2-hydroxypropyl) ether, bisphenol A di(2-acryloxyethyl) Ether, di(3-
Methacryloxy-2-hydroxypropyl) ether, di(2-methacryloxyethyl) ether of tetrachloro-bisphenol A, di(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) ether of tetrabromobisphenol A, tetrabromobis Di(2-methacryloxyethyl) ether of phenol A, di(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) ether of 1,4-butanediol, triethylene glycol dimethacrylate, polyoxypropyltrimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate and dimethacrylate,
1,2,4-butanetriol triacrylate and trimethacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diacrylate and dimethacrylate, 1-phenylethylene-1,2-dimethacrylate, diallyl fumarate , styrene, 1,4-benzenediol dimethacrylate, 1,4-diisopropenylbenzene and 1,3,5-triisopropenylbenzene. Aromatic polyhydroxy compounds such as bisphenols, novolaks and similar compounds such as U.S. Pat. No. 3,661,576, incorporated herein by reference.
Also useful are diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers, such as bisacrylates and methacrylates of polyethylene glycols having molecular weights from 200 to 500, and others derived from those described in the present specification. Other groups of suitable ethylenically unsaturated compounds include the compounds disclosed in U.S. Pat. No. 2,927,022, which is hereby incorporated by reference; for example, a plurality of addition-polymerizable ethylene bonds, especially when present as terminal bonds; and especially double bonds in which at least one and preferably most of such bonds include carbon-carbon double bonds and double bonds of carbon with heteroatoms (e.g. nitrogen, oxygen and sulfur). Examples include those conjugated with carbon. Preferred are those in which an ethylenically unsaturated group, especially a vinylidene group, is conjugated with an ester or amide structure. Particular examples of such compounds include unsaturated amides, especially amides of α-methylelcarboxylic acid and especially α,ω-diamines and oxygen-interrupted ω-diamines, such as methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylenebismethacrylamide, 1, 6-hexamethylene bis-acrylamide, diethylenetriamine tris-methacrylamide, bis(methacrylamidopropoxy)ethane, β-methacrylamidoethyl methacrylate, N-(β-hydroxyethyl)-β-(methacrylamido)ethyl acrylate, and N,N -bis(β-methacryloxyethyl)acrylamide, vinyl esters such as divinyl succinate, divinyl adipate,
divinyl phthalate, divinyl terephthalate,
divinylbenzene-1,3-disulfonate, and divinylbutane-1,4-disulfonate,
Examples include diallyl fumarate and others. Other ethylenically unsaturated compounds that may be used include styrene and its derivatives, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,3,5-triisopropenylbenzene, adducts of itaconic anhydride with hydroxyethyl acrylate ( adducts)
(1:1), adducts of itaconic anhydride and liquid butadiene/acrylonitrile polymers containing terminal amino groups, and itaconic anhydride with diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers, US Pat. No. 3,661,576 Mention may be made of the adducts described herein, polybutadiene and butadiene/acrylonitrile copolymers containing terminal and pendant vinyl groups, and unsaturated aldehydes such as sorbaldehyde (2,4-hexadienal). When aqueous basic developable systems are involved, water-bathable or ethylenically unsaturated compounds containing carboxyl or other alkali-reactive groups are particularly suitable. Additionally, the polymerizable ethylenically unsaturated polymers of US Pat. Nos. 3,043,805 and 2,929,710 and similar materials may be used alone or in admixture with other materials. Also useful are acrylic and methacrylic esters of ethylene oxide and adducts of polyhydric hydroxy compounds, such as those described in US Pat. No. 3,380,831. Optical crosslinking polymers disclosed in US Pat. Nos. 3,418,295 and 3,448,089 may also be used. All of these US patents are incorporated herein by reference. The amount of unsaturated compound added should range from about 2 to about 40% by weight, based on the total weight of the composition. The specific amount for optimal results will vary depending on the particular polymer used. Preferably the amount of unsaturated compounds ranges from about 5% to about 25% by weight. The ethylenically unsaturated compound preferably has a boiling point of about 100° C. or higher at normal pressures. The most preferred ethylenically unsaturated compounds are triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate and hexamethylene glycol diacrylate. The photosensitive compositions of the present invention do not substantially scatter actinic radiation when in the form of a thin layer as described above. In order to ensure a substantially transparent mixture, i.e. a non-radiative scattering mixture, the butadiene copolymer and polymer components should and are preferably compatible with the ethylenically unsaturated compound in the proportions used. should be soluble in this. "Compatibility" refers to the ability of two or more components to remain dispersed without causing significant amounts of actinic radiation scattering from each other. Compatibility is often limited by the relative proportions of ingredients, and incompatibility is limited by haze in the photosensitive composition.
This is evidenced by the formation of Some slight haze can be tolerated from such compositions before or during exposure in the production of printed reliefs. However, if fine details are desired, haze should be completely excluded. The amount of ethylenically unsaturated compound, or any other ingredients used, is therefore limited to concentrations that do not produce undesirable light scattering or clouding. Another essential component of the photosensitive compositions of the invention is an organic radiation-sensitive free radical-generating initiator or initiator system (c). Virtually any organic radiation-sensitive free radical-generating initiator system that initiates and does not unduly terminate the polymerization of unsaturated compounds can be used in the photosensitive compositions of the present invention. In this specification, the expression "organic" means:
It is used to refer to compounds containing carbon and one or more of oxygen, hydrogen, nitrogen, sulfur and halogens, but no metals. Process transparencies used in imagewise exposure transfer heat generated from conventional sources of actinic radiation, and since photosensitive compositions are typically manufactured under conditions that produce high temperature results, free radical generation is preferred. The initiator compound is thermally inert below 85°C, and more preferably below 185°C. They should be dispersible in the composition to the extent necessary to initiate the desired polymerization or cross-linking under the influence of the amount of radiation absorbed in a relatively short exposure. These initiators are useful in amounts of from about 0.001 to about 10% by weight, and preferably from about 0.1 to about 5% by weight, based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition. This free radical-generating initiator system has a
absorbs radiation in the range of 8000 Å, and about 2500 to ca.
It has at least one component having an actinic radiation absorption band with a molecular extinction coefficient of at least about 50 in the range of 8000 Å and preferably from about 2500 to about 5000 Å. By "actinic radiation absorption band" is meant a band of radiation active to generate the free radicals necessary to initiate polymerization or cross-linking of unsaturated materials. A free radical-generating initiator system may include one or more compounds that directly provide free radicals when activated by radiation. It may also include multiple compounds, one of which generates free radicals after doing so with a radiation-activated sensitizer. A large number of such free radical-generating compounds can be used in the practice of this invention, including aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone, [4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone] ], 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, 4-acryloxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4-
Acryloxy-4'-diethylaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2-phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone (2,2-dimethoxy-1,2-diphenyletha) non), 2-ethylanthraquinone,
Phenanthraquinone, 2-tertiary butylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3
-Benzanthraquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, benzyl dimethyl acetal and other aromatic ketones, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin phenyl ether, methylbenzoin, ethylbenzoin and others benzoin and 2,4,5-triarylimidazolyl dimers such as 2-(o-chlorophenyl)
-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-
(o-chlorophenyl-4,5-di(m-methoxyphenyl)imidazolyl dimer, 2-(o-fluorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(o-methoxyphenyl) Enil) -
4,5-diphenylimidazoyl dimer, 2-
(p-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2,4-di(p-methoxyphenyl)-5-phenylimidazolyl dimer,
2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-
Diphenylimidazolyl dimer, 2-(p-methylmercaptophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl monomer, and other U.S. Patent No. 3479185
No. 3784557 and British Patent No. 997396
No. 1047569 and each specification of the same No. 1047569. These patents are incorporated herein by reference. The imidazolyl dimer can be used with free radical-generating electron donors such as 2-mercaptobenzisoxazole, leucocrystal violet or tri(4-diethylamino-2-methylphenyl)methane. Sensitizers such as Michler's ketones can be added. Various energy transfer dyes such as Rose Bengal and Eosin Y may also be used. Other examples of suitable disclosing agents are disclosed in US Pat. No. 2,760,863, which is incorporated herein by reference. The photosensitive composition may also have a small amount, e.g.
2.0% by weight of a thermal addition polymerization inhibitor can be included. Suitable inhibitors include hydroquinone and alkyl and aryl substituted hydroquinones;
2,6-ditertiary-butyl-4-methylphenol, p-methoxyphenol, tertiary-butylpyrocatechol, pyrogallol, β-naphthol,
2,6-ditert-butyl-p-cresol, phenothiazine, pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene, and the nitrosodimer inhibitor system described in U.S. Pat. No. 4,168,982, incorporated herein by reference. can give. Other useful inhibitors include p-torquinone, chloranil and thiazine dyes such as thionin blue G.
(CI52025), methylene blue B (CI52015) and toluidine blue (CI52040). Such photosensitive compositions can be photopolymerized or photocrosslinked without removing the inhibitor. A preferred inhibitor is 2,6-di-tert-butyl-
4-methylphenol and p-methoxyphenol. The oxygen and ozone resistance of the photosensitive compositions of the invention and of the printed reliefs produced therefrom can be improved by incorporating appropriate amounts of compatible, well-known antioxidants and/or antiozonants. Antioxidants useful in this invention include alkylated phenols such as 2,6-di-tert-butyl-4
-Methylphenol, alkylated bisphenols such as 2,2-methylenebis-(4-methyl-6
-tertiary butylphenol), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-ditertiary-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, 2
-(4-hydroxy-3,5-ditertiarybutylanilino)-4,6-bis(n-octylthio)-
Mention may be made of 1,3,5-triazine, polymerized trimethylhydroquinone and dilaurylthiopropionate. Antiozonants useful in the present invention include microcrystalline and paraffin waxes, dibutylthiourea, 1,1,3,3-tetramethyl-2-thiourea, and antiozonant AFD (product of Nafton). , norbornene such as di-5-norbornene-2-methyl adipate, di-5-norbornene-2-methyl terephthalate, Ozone Protector 80 (a product of Reichhold Chemical Co.), N-phenyl-2-naphthylamine, unsaturated vegetable oils such as rapeseed oil. , linseed oil, safflower oil, polymers and resins such as ethylene/vinyl acetate copolymer resins, chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated ethylene/methacrylic acid copolymers, polyurethanes, polypentadiene, polybutadiene, furfural Examples include derivative resins, ethylene/propylene/diene rubbers, diethylene glycol esters of rosin, and α-methylstyrene/vinyltoluene copolymers. The ozone resistance of the printed relief produced can also be improved by annealing it at high temperatures before use. Optionally, an immiscible polymeric or non-polymeric organic or inorganic filler or reinforcing agent that is substantially transparent at the wavelength used for exposing the photosensitizer and that does not scatter actinic radiation, such as polystyrene, The photosensitive compositions may contain organophilic silica, bentonite, silica, powdered glass, colloidal carbon, and various types of dyes and pigments. Such materials are used in varying amounts depending on the desired properties of the elastomer. Fillers are useful in improving the strength of the elastomer layer, reducing tack, and even as colorants. The photosensitive composition preferably contains a compatible plasticizer to lower the glass transition temperature of the binder and to facilitate selective development. The plasticizer can be any common plasticizer that is compatible with the polymeric binder. Among the common plasticizers are dialkyl phthalates, alkyl phosphates, polyethylene glycols, polyethylene glycol esters and polyethylene glycol ethers.
Other useful plasticizers include oleic acid, lauric acid, and others. Polyesters such as polyethylene sebacate and others are preferred plasticizers. Plasticizers are generally present in an amount of 1 to 15% by weight, based on the total solids weight of the photosensitive composition. The photosensitive compositions of the present invention may be prepared in any suitable manner to contain each of the components: (a) a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer, (b) a compatible ethylenically unsaturated compound, and (c) a free radical-generating initiator. It can be manufactured by mixing systems. For example, flowable compositions may contain these and other desired additives in any order and optionally solvents such as chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, methylchloroform, chlorobenzene, trichloroethylene, tetrachloroethylene and chlorotoluene, ketones such as methyl ethyl ketone, It can be prepared by mixing diethyl ketone and methyl isobutyl ketone with the aid of aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene and tetrahydrofuran. The solvent may contain as diluent acetone, low molecular weight alcohols such as methyl, ethyl and propyl alcohol and esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate. This solvent can later be removed by heating the mixture or extrusion layer. Conventional milling, mixing and solution techniques can be used in the manufacture of these compositions. Specific techniques will vary due to differences in the properties of each component. The homogeneous substantially non-radiative scattering composition is formed into layers or sheets in any desired manner. For example, solvent casting, hot pressing, calendering or extrusion are suitable methods for producing layers of desired thickness. The photosensitive elements of the present invention can be in the form of a photosensitive layer or self-supporting sheet on a suitable forming wheel, belt or platen by solvent casting or extrusion, calendering or hot pressing of the photosensitive composition. . This layer or sheet can then be laminated onto the flexible support surface, and it can be adhered with the adhesive blend described below. If a solution is used, the coating can be formed on the adhesive-containing support. The thickness of the photosensitive layer formed is a direct function of the thickness desired in the relief image, and this depends on the subject matter to be reproduced and the final use of the relief. For example, thick soft relief is useful for flexographic printing, and thin hard relief is useful for lithographic printing. Generally, the thickness of the photosensitive layer is about 0.250 inch or less. For example, it varies from about 0.005 to about 0.250 inches (0.13 to 0.635 cm) and layers in this thickness range are used for the majority of printing plates. Between said photosensitive layer and the flexible support there is preferably a layer of an adhesive blend comprising at least two polymers selected from the following four polymer groups: do. (1) Polyester resin. A condensation polymer of ethylene glycol, terphthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of about 6:2:1:3.
It has an n of 19,000 and a w of 37,000. (2) Polyester polyurethane resin. in methyl ethyl ketone at 15% solids by weight and using a Bruckfield spindle #3 at 12 rpm.
It is a crystalline thermoplastic resin with a Bruckfield viscosity of 100-1200 centipoise and an adhesive activation temperature in the range of 54-53°C. This polyester polyurethane resin has a yield point elongation of 15%,
615% elongation at break, 600psi (42.18Kg/cm 2 )
It has a 400% elongation modulus and a crystallinity loss temperature of approximately 49°C. (3) Polyamide resin. Translucent bright amber color.
Ball and ring at 132-145℃
Softening point, melt viscosity of 40-60 poise at 210°C, 299
ignition point above ℃, 0.7% in 1 day and 1.6 in 7 days
% water absorption, tensile strength at yield of 460 psi (32.34 Kg/cm 2 ), tensile strength at break of 450 psi (31.64 Kg/cm 2 ) and elongation of 560% (tensile strength at yield, tensile strength at wave break) and the elongation is
Measured at 24°C according to ASTM method D-1708. ) (4) Polyamide resin. Translucent bright amber color.
Ring and ball softening point of 150-160°C, viscosity of 28-38 poise at 210°C, water absorption of 1.5% in 1 day and 2.8% in 7 days, and

【表】 (テンシル降伏、テンシル破断および伸長は
ASTM法D―1708に従つて、記載の温度で測
定される。) 樹脂の数平均分子量(n)は既知の標準例え
ば当業者には既知のポリブタジエンを使用したゲ
ル透過クロマトグラフイー(GPC)により測定
することができる。樹脂の重量平均分子量(
w)は当業者には既知のようにして既知の標準例
えばポリスチレン、ポリメタクリル酸、ポリメチ
ルメタクリレートその他を使用した光散乱技術の
使用により測定することができる。 この特定の重合体は接着剤組成物中の樹脂の全
重量基準で次の範囲すなわち (1) 0〜78重量%、 (2) 0〜78重量%、 (3) 0〜94重量%、 (4) 0.97重量%、 の範囲で接着剤ブレンド中に存在させることがで
きる。4種、3種および2種の樹脂成分を含有す
る好ましい接着剤ブレンドは以下に記載されてい
るがここに%は全樹脂成分の重量基準である。 4成分接着剤ブレンドの%範囲は次の通りであ
る。 (1) 25〜31重量%、好ましくは25%、 (2) 25〜31重量%、好ましくは25%、 (3) 25〜19重量%、好ましくは25%、そして (4) 25〜19重量%、好ましくは25%。 2種の3成分接着剤ブレンドAおよびBの%範
囲は次の通りである。 A (1) 1〜78重量%、好ましくは1〜65%、 (2) 1〜78重量%、好ましくは1〜65%、 (3) 1〜94重量%、好ましくは1〜90%。 B (1) 1〜63重量%、好ましくは1〜45%、 (3) 1〜93重量%、好ましくは1〜85%、 (4) 1〜97重量%、好ましくは1〜90%。 5種の2成分接着剤ブレンドC〜Gの%範囲は
次の通りである。Cの接着剤ブレンドが特に好ま
しいものである。 C (1) 7〜77%、好ましくは15〜30%最も好ま
しくは30%および (3) 93〜23%、好ましくは85〜50%最も好まし
くは70%。 D (1) 3〜60%、より好ましくは5〜30%およ
び (4) 97〜40%、より好ましくは95〜70%。 E (1) 23〜77%、より好ましくは35〜45%およ
び (2) 77〜23%、より好ましくは65〜55%。 F (2) 10〜60%、好ましくは25〜30%および (4) 90〜40%、好ましくは75〜70%。 G (2) 7〜72%、好ましくは15〜50%および (3) 93〜28%、好ましくは85〜50%。 本発明の接着剤ブレンドは少くとも3ポンド/
インチ(53.57Kg/m)、そして一般には例えば8
ポンド/インチ(142.86Kg/m)またはそれ以上
の範囲のより大なる接着性の支持体/光感受性層
接着値を与える。これら接着値は本発明のエレメ
ントが印刷プレート特にフレクソグラフイー印刷
プレートとして使用される場合に充分である。 接着剤ブレンドは好ましくは添加剤例えばブロ
ツク形成阻害剤、着色剤例えば染料その他を含有
する。有用なブロツク形成阻害剤としては好まし
くはポリオレフイン粒子またはビーズまたその他
の硬質粒子またはビーズ例えば二酸化珪素その他
があげられる。表面活性剤のジオクチルナトリウ
ムスルホサクシネートを使用しうる。好ましいポ
リオレフイン物質は実施例中に記載されている。
ブロツク形成阻害剤のビーズサイズは接着剤層の
厚さより大でありうる。その結果ビーズは接着剤
ブレンドの層の外に一部突出する。そのような構
造は接着度にはほとんどかまたは全く影響しない
と考えられる。多くのタイプの着色剤または染料
もまた接着剤層中で有用である。好ましい染料は
デユポンミリングブルーBL(CIアシツドブルー
59)である。その他の有用な染料としてはメチレ
ンバイオレツト(CIベーシツクバイオレツト
5)、「ラクソル」フアストブルーMBSN(CIソル
ベントブルー38)、「ポンタシル」ウールブルー
BL(CIアシツドブルー59またはCI 50315)、「ポ
ンタシウル」ウールブルーGL(CIアシツドブルー
102またはCI 50320)、ビクトリアビユアブルー
BO(CIベーシツクブルー7またはCI 42595)、CI
109レツドダイ、ローダミン3 GO(CIベーシツ
クレツド4)、ローダミン6 GDN(CIベーシツ
クレツド1またはCI 45160)、フクシン染料(CI
42510)、カルコシツドグリーンS(CI 44090)お
よびアントラキノンブルー2GA(CIアシツドブル
ー58)があげられる。 接着剤溶液は一般に次の順序で各成分(すなわ
ち重合体、ポリオレフインブロツク阻害剤、着色
剤)を連続的に撹拌しつつ溶媒に加えることによ
り製造される。有用な溶媒としては混合物例えば
メチレンクロリド/酢酸エチル、メチレンクロリ
ド/n―ブチルアセテート、メチレンクロリド/
シクロヘキサノン、メチレンクロリド/メタノー
ル/セロソルブ など、そして好ましくはメチレ
ンクロリド/セロソルブ (90/10部)混合物が
あげられる。すべての重量損失を補償するために
追加の溶媒を加えることができる。溶媒の選択は
コーテイングにブリスター形成させることなく、
そして少量の溶媒を残留させることなく最も早い
実用的乾燥速度を与えるという要求により支配さ
れる。溶媒はまた存在させる染料により溶解効果
を有しているべきである。 次いで接着剤溶液を既知の手段によつて可撓性
支持体に適用し、例えばドクターブレードを使用
するかまたは市場的に入手可能な連続ウエブコー
タードライヤー中でコーテイングして約80〜500
mg/dm2好ましくは約260〜300mg/dm2の範囲の
乾燥コーテイング重量を生成させる。接着剤層の
最も好ましいコーテイング重量は約260mg/dm2
である。一般に接着剤は0.0008〜0.001インチ
(0.020〜0.025mm)の乾燥厚さを有している。連
続コーテイングにおいてはウエブ速度は例えば15
〜150フイート/分(4.57〜45.72m/分)に変動
させうる。乾燥温度は60〜130℃、好ましくは80
〜90℃の範囲である。 好ましい可撓性支持体は厚さ0.001〜0.007イン
チ(0.025〜0.18mm)、好ましくは0.005インチ
(0.13mm)厚さの火炎処理ポリエチレンテレフタ
レートである。重合体フイルムの火炎処理は既知
である。ここに参照として包含されている米国特
許第3145242号、同第3360029号および同第
3391912号各明細書は重合体フイルムの火焔処理
に有用な方法および装置を記載している。燃焼ガ
ス混合物の燃料当量比φは1.4であり、これは5
(プロパン流速)/〔(酸素流速)+(0.21空気流
速)〕に等しい。すべての流速は標準立方フイー
トまたは/分である。ウエブ速度は175直線フ
イート/分(53.34m/分)である。 乾燥させた接着剤コーテイングした支持体は直
ちに光感受性層に接着させることができるしまた
は以後の接着のために保存することができる。光
感受性エレメントを形成させるためには接着剤コ
ーテイングした支持体を光感受性層にプレス中で
例えば140〜160℃において20000〜30000psi(1406
〜2109Kg/cm2)の圧力で約3分まで、次いでプレ
ス中で60℃以下まで冷却させることによつて積層
させることができる。好ましくは光感受性エレメ
ントはカレンダー処理により製造される。好まし
くはダイを通して押出しにより製造されたエレメ
ントの光感受性層は接着剤層に隣接する側からは
遠い方に0.005インチ(0.13mm)厚さのポリエチ
レンテレフタレートフイルムを存在させているが
これは以後保護カバーシートとして作用する。そ
の他のフイルム例えばポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンまたはその他の剥離性物質を
使用しうる。好ましくは光感受性層とフイルムカ
バーシートとの間に薄い硬質で可撓性の溶媒可溶
性層例えば可撓性重合体フイルムまたは層例えば
ポリアミドまたはエチレンとビニルアセテートと
の共重合体を存在せしめる。可撓性重合体フイル
ムは前記フイルムカバーシートの除去後、光感受
性層上に残る。この可撓性重合体フイルムはその
上に重ねる像含有陰画または透明画を再使用のた
めに保護しあるいは光感受性表面との接触または
整台を改善させる。以下に記載の光源を使用した
像様露光の前に、光感受性エレメントを支持体を
通して露光させて接着支持体に隣接する光感受性
層の前もつて定めた厚さを重合させる。光感受性
層のこの重合部分はフロアと称される。フロアの
厚さは露光時間、露光源その他により変動する。
この露光は一般に1〜30分間である。 本発明によつて前記エレメントの光感受性層の
選ばれた部分を例えばプロセス透明画すなわち活
性線放射に対して実質的に透明なそして実質的に
均一の光学濃度部分と活性線放射に不透明なそし
て実質的に均一の光学濃度の部分を有する像含有
透明画またはステンシルを通して実質的付加重合
または光交叉結合が生ずるまで露光させることに
より印刷レリーフを製造することができる。付加
重合または交叉結合形成の間に、ブタジエン/ア
クリロニトリル共重合体/エチレン性不飽和化合
物組成物は層の放射露光部分において不溶状態に
変換され層の未露光部分または面積においては有
意の重合または交叉結合は生じない。層の未露光
部分は高分子量ブタジエン/アクリロニトリル共
重合体用液体現像液により除去される。 光重合工程においてはいずれかのタイプの任意
の光源からの活性線放射を使用しうる。放射は点
光源から発生するものでありうるし又は平行光線
または発散するビームの形でありうる。像含有透
明画の比較的近くで幅広い放射源を使用すること
によつて透明画の透明部分を通る放射は発散光線
として入りそして透明画の透明部分の下の光感受
性層中の発散部分を連続的に照射する。これは光
感受性層の底部にその最大幅を有するすなわち台
形の重合体レリーフを与える結果となる。このレ
リーフの上側表面は透明部分のジメンシヨンであ
る。 活性線放射により活性化可能な遊離ラジカル生
成性開始剤系が紫外線範囲にその最大感度を示す
限り、その放射源は好ましくは約2500Å〜5000Å
の波長範囲を有する放射の有効量を与えるべきで
ある。適当なそのような放射源としては太陽光線
に加えてカーボンアーク、水銀蒸気アーク、紫外
線放射発光燐光体を有する螢光ランプ、アルゴン
グローランプ、電子フラツシユユニツトおよび写
真フラツドランプがあげられる。電子加速装置お
よび適当なマスクを介した電子ビーム源もまた使
用しうる。これらの中で水銀蒸気ランプ、特に太
陽燈または「ブラツクライト」タイプおよび螢光
太陽燈が最も適当である。 放射露光時間は放射の強度およびスペクトルエ
ネルギー分布、その組成物からの距離および利用
可能な組成物の性質および量によつて数分の1秒
から数分に変動させうる。通常、光感受性組成物
から約1.5〜約60インチ(3.8cm〜152cm)の距離
で水銀蒸気アーク、太陽燈または高紫外線出力螢
光チユーブが使用される。露光温度は特に臨界的
ではないがしかし大約常温ないしわずかにより高
温すなわち約20゜〜約35℃で操作することが好ま
しい。 像様露光の後、適当な現像液で洗うことにより
像を現出させることができる。現像液はブタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体/エチレン性不飽
和化合物組成物に良好な溶媒または膨潤作用を有
しておりそして未重合または未交叉結合部分の必
要とされる期間中には、不溶化画像または支持体
または接着剤層にはほとんど作用を有していない
ものであるべきである。現像液は好ましくは存在
させる場合の重合体フイルム層もまた除去する。
適当な現像液としては有機溶媒例えば2―ブタノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリクロロ
エタン、トリクロロエチレン、メチルクロロホル
ム、テトラクロロエチレンおよび溶媒混合物例え
ばテトラクロロエチレン/n―ブタノールその他
があげられる。高分子量ブタジエン/アクリロニ
トリル共重合体成分がカルボキシル基を含有して
いる場合には、適当な溶媒としては水溶性有機溶
媒を加えたものでありうる水性塩基があげられ
る。適当な特定の現像液混合物としては水酸化ナ
トリウム/イソプロピルアルコール/水、炭酸ナ
トリウム/水、炭酸ナトリウム/2―ブトキシエ
タノール/水、硼酸ナトリウム/2―ブトキシエ
タノール/水、硅酸ナトリウム/2―ブトキシエ
タノール/グリセロール/水、炭酸ナトリウム/
2―(2―ブトキシエトキシ)エタノール/水、
および水中16.6容量%の2―(2―ブトキシエト
キシ)エタノール中の水酸化ナトリウム(0.5重
量%)があげられる。これが好ましい。選ばれる
特定の現像液組合せは光感受性組成物のカルボキ
シル含量および使用される結合剤の性質および量
に依存する。使用しうるその他の水性現像液組合
せはここに参考として包含されている米国特許第
3796602号明細書に記載されている。これらの水
性塩基/水溶性有機溶媒組合せはある場合にはそ
れらの低いコスト、不燃性および低い毒性の故に
好ましいものでありうる。 現像は約25℃で実施しうるがしかし時には最良
の結果は溶媒の温時例えば30°〜60℃の場合に得
られる。現像時間は1〜120分、好ましくは1〜
25分の範囲でありうる。 レリーフの形成される現像段階においては、現
像液はいずれかの便利な方法例えば注加、含浸、
スプレーまたはローラー適用により適用すること
ができる。ブラシがけは組成物の未重合または未
交叉結合形成部分の除去を助ける。印刷プレート
を水性現像する場合には例えば約5〜300秒の間
の水性をその後でこの現像プレートに適用してプ
レートの表面から痕跡量の現像液を除去させる。
「水性現像」なる表現は水洗を包含する。 溶媒現像の後、印刷プレートを室温〜約125℃
の範囲好ましくは60℃の温度で1時間乾燥させ
る。水性現像後に印刷プレートを乾燥させてもよ
いがしかし洗浄した水性現像プレートはまだ濡れ
ている間に水性臭素含有または沃素含有溶液と接
触させることができる。任意的な熱風乾燥は強制
熱風ドライヤーまたはその他の適当なドライヤー
の使用により達成することができる。 プレートは最初に0.01〜3.5重量%の遊離臭素
濃度および0.7〜8.7のPHを有する水性溶液に約15
秒〜20分間、または0.2〜10重量%の遊離沃素濃
度を有する水性溶液に約1.0〜10分間接触せしめ
られる。これらハロゲン処理のどちらかの後で例
えば0.001〜1.0モル濃度のNaOClおよび0.012〜
1.2モル濃度のHClの水性溶液により供給される
ものに等しい遊離塩素濃度を有する溶液による約
15秒〜5分間の塩素処理を行う。 プレートに水性臭素溶液を溢れさせることがで
きるしまたは臭素溶液中に浸漬させることができ
るが後者が好ましい。臭素溶液を15秒〜20分、よ
り好ましくは30秒〜5分間印刷プレートに接触保
持させておくことが好ましい。臭素溶液は好まし
くは常温で使用されるがしかしこれは約35℃まで
加熱させることができる。この臭素含有溶液は(1)
臭素、(2)臭素酸塩―臭化物―物系(臭素酸塩およ
び臭化物はアルカリ金属、好ましくはナトリウム
またはカリウムの塩でありそして酸は塩酸、臭化
水素酸、スルフアミン酸またはその他の強プロト
ン酸でありうる)、(3)例えばドイツ特許第2823300
号明細書記載の臭素含有コンプレツクス、または
(4)モノ過硫酸塩―臭化物系(そのモノ過硫酸塩お
よび臭化物はアルカリ金属好ましくは前記のナト
リウムまたはカリウムの塩でありそしてここに参
考として包含されている米国特許出願第375975号
明細書に開示されている)を水に添加することに
より製造しうる。好ましくは臭素含有溶液は混合
しつつ1800mlの水道水に20mlの濃HClを加えるこ
とにより製造しうる。この溶液に混合しつつ、
200mlの水道水、10gの臭化カリウムおよび2.8g
の臭素酸カリウムの混合物を加える(90.56%
H2O/8.81%HCl/0.49%KBrおよび0.14%
KBrO3)。遊離臭素濃度は0.4%である。 水性臭素溶液の代りに印刷プレートには水性沃
素溶液を溢れさせることができるしまたはこの溶
液中に浸漬させることができる。後者が好まし
い。好ましくは沃素溶液は1.5〜2.5分間印刷プレ
ートと接触保持される。沃素溶液は好ましくは常
温で使用されるがしかしこれらは約35℃まで加熱
されることができる。好ましくは沃素含有溶液は
例えば6.4gの沃化カリウムおよび例えば12.7g
の沃素を200mlの水に加えることにより製造でき
る。 前記ハロゲン処理の一つを実施した後、印刷プ
レートを水性塩素溶液で溢れさせまたはこの中に
浸漬させることができる。好ましくはこの塩素溶
液を0.5〜1.0分間印刷プレートと接触保持させ
る。塩素溶液は好ましくは常温で使用されるがし
かしこれは約35℃まで加熱することができる。塩
素含有溶液は90mlの「クロロツクス(Clorox
)」および濃厚すなわち39%の塩酸10mlを水900
mlに加えることにより製造しうる。 像様露光および現像の後、印刷プレートを前記
ハロゲン処理の前またはその後で活性線放射源に
後露光させることができる。後露光は一般に好ま
しくは像様露光に使用された活性線放射源に対し
て5〜15分間継続される。両処理の後、印刷プレ
ートは使用可能に準備されている。好ましい態様
は例1に説明されている。 本発明の光感受性フレクソグラフイーエレメン
トから製造された印刷レリーフはすべての種類の
印刷に使用されうるがしかしこれは印刷部分およ
び非印刷部分に明白な高さの差が要求されるよう
な種類の印刷、そして特に弾性印刷部分が例えば
変形可能な印刷表面上での印刷に対して要求され
るようなフレクソグラフイー印刷に対して最も適
用可能である。これらの種類のものとしては例え
ばドライオフセツト印刷、印刷部分および非印刷
部分の間により大なる高さの差を要求する通常の
凸版印刷におけるようにインクがレリーフの盛り
上つた部分によつて運ばれるもの、および例えば
凹版印刷例えばラインおよび反転ハーフトーンに
おけるようにインクがレリーフの凹部により運ば
れるものがあげられる。このプレートは多色印刷
に対して特に有用である。 得られたレリーフおよび印刷画像はエレメント
をシリンダー支持体上で像様露光された場合でさ
えも微小細部および全体的ジメンシヨンの両方に
おいて原図透明画に忠実性を示す。このレリーフ
は高い衝撃強度を有し強靭かつ磨擦抵抗性であり
そして広汎なインク相容性を有しそして改善され
た溶媒耐性を有している。 次の例は本発明を説明するがここに部および%
は重量基準である。次の試験は印刷プレートの評
価に有用なものである。 タツク(粘着性)試験 本発明の露光現像印刷プレートは次のようにし
てそのタツク性を試験することができる。 (1) 表面をイソプロパノールできれいにふく。 (2) テイツシユ例えばスコツト ブランド510ト
イレツトテイツシユを500gの錘によつてプレ
ート表面(1インチ×2インチ、2.54cm×5.08
cm)に30秒間押しつける。 (3) テイツシユを除去しそして結果を次の基準に
より記録する。 (A) タツクなし―粘着なし (B) わずかなタツク―粘着するがしかし表面か
ら剥離する (C) 粘着性―はがれるがしかしプレート上に数
本の繊維を残す (D) 非常に粘着性―粘着しそしてテイツシユを
剥離させる際それはちぎれる 当業者は手を触れること、すなわち指触法によ
つて非粘着性すなわち(A)級印刷プレート表面を固
定しうる。両方の方法が使用されている。以下の
すべての処理された試料はタツクなしである。 インク/溶媒相容性試験 次の方法を使用して本明細書記載の光感受性弾
性組成物層を有するフレクソグラフイー印刷プレ
ートに関する印刷インクおよび溶媒の相容性およ
び有用性を判定する。扁平露光され現像された印
刷プレートをその厚さ、シヨア A硬度
(ANSI/ASTM D 2240〜75)および重量を測
定した後、特定の溶媒またはインク中に24時間浸
漬させる。溶媒またはインクから除去しそして綿
玉でパツトして乾燥させた後、その厚さ、シヨア
A硬度および重量を測定する。インチ(mm)で
表わした厚さ変化(△T)、シヨア A硬度変化
(△H)および重量変化(△%W)を表わす生ま
(raw)データが次の標準のすべてを満足してい
る場合には印刷プレートは溶媒および/またはイ
ンクに関して相容性でありすなわち優れている
(E)と考えられる。 △Traw:0.003インチ(0.076mm) △Hraw:−5シヨア A単位 △%Wraw:3.5% 次の標準のいずれかが満足されるかあるいはそ
れ以上である場合には印刷プレートは溶媒およ
び/またはインクに関して非相容性または不満足
なもの(U)であると考えられる。 △Traw:0.012インチ(0.305mm) △Hraw:−20シヨア A単位 △%Wraw:7.0% 前記二つの標準の中間の範囲においては、処理
印刷プレートは溶媒および/またはインクに関し
ては種々の中間()有用性のものである。 単一ハロゲン処理に関して有用な前記の評価に
加えて、これら3個の物理的測定値を組合せて本
明細書では以後「F」と称されている単一のメリ
ツト数(single Figure of Merit)とすることも
望ましい。別々の個々の処理に対るF値を次いで
一緒に加えて処理の組合せに対して期待されるF
の発見的予想を与えることができる。 Fは次式を使用して得られる。 F=23.60−(0.152△Traw−0.231△Hraw+0.4△%Wr
aw
)/23.60 種々の生まデータに対する数字的係数は、以下
に記載のハロゲン処理を与えずそしてイソプロパ
ノール/酢酸エチル(80/20容量比)中で試験さ
れた対照プレートの性能から導かれた標準化フア
クターそして当業者によつて印刷性能の予測にお
けるデータの相対的重要性を示すべく推定されて
いる重点化フアクター得られている。 重点化フアクター(Wf)は次の通りである。 △T に対して0.35 △H 〃 0.25 △%W 〃 0.40 ノルマル化フアクター(nf)は次のように対照
プレート生まデータから得られる。
[Table] (Tensile yield, tensile breakage and elongation are
Measured according to ASTM method D-1708 at the indicated temperatures. ) The number average molecular weight (n) of the resin can be determined by gel permeation chromatography (GPC) using known standards such as polybutadiene, which are known to those skilled in the art. Weight average molecular weight of resin (
w) can be determined by the use of light scattering techniques using known standards such as polystyrene, polymethacrylic acid, polymethyl methacrylate, etc., in a manner known to those skilled in the art. This particular polymer may be present in the following ranges based on the total weight of resin in the adhesive composition: (1) 0-78% by weight; (2) 0-78% by weight; (3) 0-94% by weight; 4) 0.97% by weight, which can be present in the adhesive blend. Preferred adhesive blends containing four, three and two resin components are described below, where percentages are based on the weight of all resin components. The percentage ranges for the four-component adhesive blend are as follows: (1) 25-31% by weight, preferably 25%, (2) 25-31% by weight, preferably 25%, (3) 25-19% by weight, preferably 25%, and (4) 25-19% by weight. %, preferably 25%. The percentage ranges for the two three-component adhesive blends A and B are as follows: A (1) 1 to 78% by weight, preferably 1 to 65%, (2) 1 to 78% by weight, preferably 1 to 65%, (3) 1 to 94% by weight, preferably 1 to 90%. B (1) 1 to 63% by weight, preferably 1 to 45%, (3) 1 to 93% by weight, preferably 1 to 85%, (4) 1 to 97% by weight, preferably 1 to 90%. The percentage ranges for the five two-component adhesive blends C-G are as follows: C. adhesive blends are particularly preferred. C (1) 7-77%, preferably 15-30% most preferably 30% and (3) 93-23%, preferably 85-50% most preferably 70%. D (1) 3-60%, more preferably 5-30% and (4) 97-40%, more preferably 95-70%. E (1) 23-77%, more preferably 35-45% and (2) 77-23%, more preferably 65-55%. F (2) 10-60%, preferably 25-30% and (4) 90-40%, preferably 75-70%. G (2) 7-72%, preferably 15-50% and (3) 93-28%, preferably 85-50%. The adhesive blend of the present invention has at least 3 lbs.
inch (53.57Kg/m), and generally e.g.
Provides greater adhesive support/photosensitive layer adhesion values in the range of pounds per inch (142.86 Kg/m) or more. These adhesion values are sufficient if the elements of the invention are used as printing plates, especially flexographic printing plates. The adhesive blend preferably contains additives such as blocking inhibitors, colorants such as dyes, and the like. Useful block formation inhibitors preferably include polyolefin particles or beads or other hard particles or beads such as silicon dioxide and the like. The surfactant dioctyl sodium sulfosuccinate may be used. Preferred polyolefin materials are described in the Examples.
The bead size of the blocking inhibitor can be larger than the thickness of the adhesive layer. As a result, the beads partially protrude outside the layer of adhesive blend. It is believed that such a structure has little or no effect on the degree of adhesion. Many types of colorants or dyes are also useful in the adhesive layer. The preferred dye is Dupont Milling Blue BL (CI Acid Blue).
59). Other useful dyes include methylene violet (CI Basic Violet 5), "Laxol" Fast Blue MBSN (CI Solvent Blue 38), and "Pontasil" Wool Blue.
BL (CI Assisted Blue 59 or CI 50315), "Pontashiur" Wool Blue GL (CI Assisted Blue
102 or CI 50320), Victoria Be Your Blue
BO (CI Basic Blue 7 or CI 42595), CI
109 Red dye, Rhodamine 3 GO (CI Basic Cred 4), Rhodamine 6 GDN (CI Basic Cred 1 or CI 45160), Fuchsin dye (CI
42510), Calcoside Green S (CI 44090) and Anthraquinone Blue 2GA (CI Acid Blue 58). The adhesive solution is generally prepared by adding the components (i.e., polymer, polyolefin block inhibitor, colorant) to the solvent in the following order with continuous stirring. Useful solvents include mixtures such as methylene chloride/ethyl acetate, methylene chloride/n-butyl acetate, methylene chloride/
Examples include cyclohexanone, methylene chloride/methanol/cellosolve, etc., and preferably a methylene chloride/cellosolve (90/10 parts) mixture. Additional solvent can be added to compensate for any weight loss. The choice of solvent will help ensure that the coating does not blister.
and is governed by the desire to provide the fastest practical drying rates without leaving small amounts of solvent behind. The solvent should also have a solubilizing effect on the dye present. The adhesive solution is then applied to the flexible support by known means, e.g. using a doctor blade or coated in a commercially available continuous web coater dryer to a coating thickness of about 80 to 500
mg/dm 2 , preferably in the range of about 260 to 300 mg/dm 2 . The most preferred coating weight of the adhesive layer is approximately 260 mg/dm 2
It is. Generally, the adhesive has a dry thickness of 0.0008 to 0.001 inch (0.020 to 0.025 mm). For continuous coating the web speed is e.g.
~150 ft/min (4.57-45.72 m/min). Drying temperature is 60-130℃, preferably 80℃
In the range of ~90℃. A preferred flexible support is flame treated polyethylene terephthalate having a thickness of 0.001 to 0.007 inches (0.025 to 0.18 mm), preferably 0.005 inches (0.13 mm). Flame treatment of polymeric films is known. No. 3,145,242, US Pat. No. 3,360,029, and US Pat. No. 3,360,029, incorporated herein by reference.
No. 3,391,912 describes methods and apparatus useful for flame treating polymeric films. The fuel equivalence ratio φ of the combustion gas mixture is 1.4, which is 5
Equal to (propane flow rate) / [(oxygen flow rate) + (0.21 air flow rate)]. All flow rates are standard cubic feet or minutes. Web speed is 175 linear feet/min (53.34 m/min). The dried adhesive coated support can be adhered immediately to the photosensitive layer or can be saved for subsequent adhesion. To form the photosensitive element, the adhesive-coated support is pressed onto the photosensitive layer at e.g. 20,000-30,000 psi (1406
Lamination can be carried out at a pressure of ~2109 Kg/cm 2 for up to about 3 minutes, followed by cooling in a press to below 60°C. Preferably the photosensitive element is produced by calendering. The photosensitive layer of the element, preferably made by extrusion through a die, has a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film disposed away from the side adjacent to the adhesive layer, which is hereafter referred to as a protective cover. Acts as a sheet. Other films such as polystyrene, polyethylene, polypropylene or other releasable materials may be used. Preferably, between the photosensitive layer and the film cover sheet there is present a thin, rigid, flexible, solvent-soluble layer, such as a flexible polymeric film or layer, such as polyamide or a copolymer of ethylene and vinyl acetate. A flexible polymeric film remains on the photosensitive layer after removal of the film cover sheet. The flexible polymeric film protects the overlying image-containing negative or transparency for reuse or improves contact or alignment with light-sensitive surfaces. Prior to imagewise exposure using the light source described below, the photosensitive element is exposed through the support to polymerize a predetermined thickness of the photosensitive layer adjacent the adhesive support. This polymerized portion of the photosensitive layer is called the floor. Floor thickness varies depending on exposure time, exposure source, etc.
This exposure is generally for 1 to 30 minutes. In accordance with the present invention, selected portions of the photosensitive layer of said element may be formed, for example, in a process transparency, i.e., a portion of optical density substantially transparent to actinic radiation and of substantially uniform optical density, and a portion opaque to actinic radiation and Printed reliefs can be produced by exposure through an image-containing transparency or stencil having areas of substantially uniform optical density until substantial addition polymerization or optical cross-linking occurs. During addition polymerization or crosslink formation, the butadiene/acrylonitrile copolymer/ethylenically unsaturated compound composition is converted to an insoluble state in the radiation-exposed portions of the layer and no significant polymerization or crosslinking occurs in the unexposed portions or areas of the layer. No binding occurs. The unexposed portions of the layer are removed with a liquid developer for high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymers. Actinic radiation from any light source of any type may be used in the photopolymerization process. The radiation may originate from a point source or may be in the form of parallel rays or diverging beams. By using a broad radiation source relatively close to the image-containing transparency, radiation passing through the transparent portion of the transparency enters as a diverging ray and continues through the diverging portion in the light-sensitive layer below the transparent portion of the transparency. irradiate the target. This results in a ie trapezoidal polymer relief with its greatest width at the bottom of the photosensitive layer. The upper surface of this relief is the dimension of the transparent part. As long as the free radical-generating initiator system activatable by actinic radiation exhibits its maximum sensitivity in the ultraviolet range, the radiation source is preferably between about 2500 Å and 5000 Å.
should provide an effective amount of radiation having a wavelength range of . Suitable such radiation sources include, in addition to sunlight, carbon arcs, mercury vapor arcs, fluorescent lamps with ultraviolet emitting phosphors, argon glow lamps, electronic flash units and photographic flood lamps. Electron accelerators and electron beam sources via suitable masks may also be used. Among these, mercury vapor lamps, especially the sunlamp or "blacklight" type and fluorescent sunlamps are most suitable. The radiation exposure time can vary from a fraction of a second to several minutes depending on the intensity and spectral energy distribution of the radiation, its distance from the composition and the nature and amount of the composition available. Typically, a mercury vapor arc, solar lamp, or high ultraviolet output fluorescent tube is used at a distance of about 1.5 to about 60 inches (3.8 cm to 152 cm) from the photosensitive composition. The exposure temperature is not particularly critical, but it is preferred to operate at about room temperature to slightly higher temperatures, ie, from about 20 DEG to about 35 DEG C. After imagewise exposure, the image can be developed by washing with a suitable developer. The developer has a good solvent or swelling effect on the butadiene/acrylonitrile copolymer/ethylenically unsaturated compound composition and, during the required period of time, of the unpolymerized or uncrosslinked parts, the insolubilized image or The support or adhesive layer should have little effect. The developer preferably also removes the polymer film layer, if present.
Suitable developers include organic solvents such as 2-butanone, benzene, toluene, xylene, trichloroethane, trichloroethylene, methylchloroform, tetrachloroethylene and solvent mixtures such as tetrachloroethylene/n-butanol and others. When the high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer component contains carboxyl groups, suitable solvents include aqueous bases, which may be supplemented with water-soluble organic solvents. Suitable specific developer mixtures include sodium hydroxide/isopropyl alcohol/water, sodium carbonate/water, sodium carbonate/2-butoxyethanol/water, sodium borate/2-butoxyethanol/water, sodium silicate/2-butoxy Ethanol/glycerol/water, sodium carbonate/
2-(2-butoxyethoxy)ethanol/water,
and sodium hydroxide (0.5% by weight) in 2-(2-butoxyethoxy)ethanol, 16.6% by volume in water. This is preferred. The particular developer combination chosen will depend on the carboxyl content of the photosensitive composition and the nature and amount of binder used. Other aqueous developer combinations that may be used are described in U.S. Pat.
It is described in the specification of No. 3796602. These aqueous base/water-soluble organic solvent combinations may be preferred in some cases because of their low cost, nonflammability, and low toxicity. Development may be carried out at about 25°C, but sometimes the best results are obtained when the temperature of the solvent is between 30° and 60°C. Development time is 1 to 120 minutes, preferably 1 to 120 minutes.
It can be in the range of 25 minutes. In the development step in which the relief is formed, the developer solution can be applied in any convenient manner such as pouring, impregnating,
It can be applied by spray or roller application. Brushing helps remove unpolymerized or uncrosslinked portions of the composition. When a printing plate is aqueous developed, for example, an aqueous solution for about 5 to 300 seconds is then applied to the developer plate to remove any traces of developer from the surface of the plate.
The expression "aqueous development" includes washing with water. After solvent development, the printing plate is heated to room temperature to approximately 125°C.
Dry for 1 hour at a temperature preferably in the range of 60°C. The printing plate may be dried after aqueous development, but the washed aqueous developer plate can be contacted with an aqueous bromine- or iodine-containing solution while still wet. Optional hot air drying can be accomplished through the use of a forced hot air dryer or other suitable dryer. The plates are first injected into an aqueous solution with a free bromine concentration of 0.01-3.5% by weight and a PH of 0.7-8.7.
seconds to 20 minutes, or about 1.0 to 10 minutes to an aqueous solution having a free iodine concentration of 0.2 to 10% by weight. After either of these halogen treatments e.g. 0.001-1.0 molar NaOCl and 0.012-
by a solution with a free chlorine concentration equal to that provided by an aqueous solution of 1.2 molar HCl.
Perform chlorine treatment for 15 seconds to 5 minutes. The plate can be flooded with an aqueous bromine solution or immersed in a bromine solution, the latter being preferred. It is preferred to keep the bromine solution in contact with the printing plate for 15 seconds to 20 minutes, more preferably 30 seconds to 5 minutes. The bromine solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated to about 35°C. This bromine-containing solution is (1)
Bromine, (2) bromate-bromide-system (bromate and bromide are salts of alkali metals, preferably sodium or potassium, and acids are hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfamic acid or other strong protic acids) (3) For example, German Patent No. 2823300
the bromine-containing complex described in the specification, or
(4) Monopersulfate-bromide systems in which the monopersulfate and bromide are salts of alkali metals, preferably sodium or potassium, and as described in U.S. Patent Application No. 375,975, herein incorporated by reference. (disclosed) to water. Preferably, the bromine-containing solution may be prepared by adding 20 ml of concentrated HCl to 1800 ml of tap water while mixing. While mixing in this solution,
200ml tap water, 10g potassium bromide and 2.8g
Add a mixture of potassium bromate (90.56%
H2O /8.81% HCl/0.49% KBr and 0.14%
KBrO3 ). Free bromine concentration is 0.4%. Instead of an aqueous bromine solution, the printing plate can be flooded with or immersed in an aqueous iodine solution. The latter is preferred. Preferably the iodine solution is held in contact with the printing plate for 1.5 to 2.5 minutes. Iodine solutions are preferably used at ambient temperature, but they can be heated to about 35°C. Preferably the iodine-containing solution contains e.g. 6.4 g potassium iodide and e.g. 12.7 g
It can be prepared by adding 200ml of iodine to 200ml of water. After carrying out one of the aforementioned halogen treatments, the printing plate can be flooded or immersed in an aqueous chlorine solution. Preferably, the chlorine solution is held in contact with the printing plate for 0.5 to 1.0 minutes. The chlorine solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated to about 35°C. The chlorine-containing solution is 90 ml of "Clorox".
)' and 10ml of concentrated i.e. 39% hydrochloric acid to 900ml of water
It can be produced by adding to ml. After imagewise exposure and development, the printing plate can be post-exposed to a source of actinic radiation either before or after said halogen treatment. Post-exposure generally preferably lasts from 5 to 15 minutes to the actinic radiation source used for imagewise exposure. After both treatments, the printing plate is ready for use. A preferred embodiment is illustrated in Example 1. Printed reliefs produced from the light-sensitive flexographic elements of the invention can be used for all types of printing, but only those where a distinct height difference between the printed and non-printed parts is required. and especially for flexographic printing where elastic printed parts are required for example for printing on deformable printing surfaces. These types include, for example, dry offset printing, where the ink is carried by the raised areas of the relief, as in conventional letterpress printing, which requires a greater height difference between printed and non-printed areas. and those in which the ink is carried by recesses in the relief, as in intaglio printing, for example in line and inverted halftones. This plate is particularly useful for multicolor printing. The resulting relief and printed images exhibit fidelity to the original transparency in both minute detail and overall dimension even when the elements are imagewise exposed on a cylindrical support. The relief is tough and abrasion resistant with high impact strength and has broad ink compatibility and improved solvent resistance. The following example illustrates the invention, but where parts and %
is based on weight. The following tests are useful in evaluating printing plates. Tackiness Test The exposure and development printing plate of the present invention can be tested for its tackiness as follows. (1) Clean the surface with isopropanol. (2) For example, use Scotto Brand 510 toilet tissue on the plate surface (1 inch x 2 inches, 2.54 cm x 5.08 cm) using a 500 g weight.
cm) for 30 seconds. (3) Remove the tissue and record the results according to the following criteria. (A) No tack - no stickiness (B) Slight tack - sticks but peels off from the surface (C) Sticky - peels off but leaves a few fibers on the plate (D) Very tack - sticks A person skilled in the art can fix a non-adhesive or Grade (A) printing plate surface by touch, i.e., by finger-touching. Both methods have been used. All processed samples below are without tack. Ink/Solvent Compatibility Testing The following method is used to determine the compatibility and usefulness of printing inks and solvents for flexographic printing plates having a photosensitive elastic composition layer as described herein. After measuring the flat exposed and developed printing plate for its thickness, shore A hardness (ANSI/ASTM D 2240-75) and weight, it is immersed in a specific solvent or ink for 24 hours. After removal from the solvent or ink and pat dry with a cotton ball, its thickness, Shore A hardness and weight are determined. If raw data representing thickness change (△T), shore A hardness change (△H) and weight change (△%W) in inches (mm) meets all of the following standards: In this case, the printing plate is considered to be compatible (E) with respect to solvents and/or inks. △T raw : 0.003 inches (0.076 mm) △H raw : -5 shore A unit △%W raw : 3.5% Printing plates are free of solvent and and/or considered incompatible or unsatisfactory (U) with respect to the ink. △T raw : 0.012 inches (0.305 mm) △H raw : -20 shore A units △%W raw : 7.0% In the range intermediate between the above two standards, treated printing plates can be used in various ways with respect to solvents and/or inks. Intermediate() is of usefulness. In addition to the above evaluations useful for single halogen treatments, these three physical measurements are combined into a single figure of merit, hereinafter referred to as "F". It is also desirable to do so. The F values for the separate individual treatments are then added together to give the expected F for the combination of treatments.
It is possible to give a heuristic prediction. F is obtained using the following equation. F=23.60−(0.152△T raw −0.231△H raw +0.4△%W r
aw
)/23.60 Numerical factors for various raw data are normalized factors derived from the performance of control plates without halogen treatment and tested in isopropanol/ethyl acetate (80/20 volume ratio) as described below. Weighting factors are then estimated by those skilled in the art to indicate the relative importance of the data in predicting print performance. The weighting factor (Wf) is as follows. 0.35 for ΔT ΔH 〃 0.25 Δ%W 〃 0.40 The normalization factor (nf) is obtained from the control plate data as follows.

【表】 従つて数字係数すなわち積である(wf)i×(nf)
iは次のようになる。 △Traw に対して 0.152 △Hraw 〃 −0.231 △%Wraw 〃 0.400 すべてのデータを同一スケールすなわち0〜1
に標準化させるためには△Hrawに対する係数は
負でなくてはならない。その理由は△Hrawが負
だからである。 Fの表現における定数に対る△%Wranたる
23.60の選択は△%Wの測定がこれら3個の中で
最も重要度のかかるものであるという結論を反映
している。 フレクソグラフイー光重合性印刷プレートに対
する1.0のF値は優れたプレートのための実質的
に完全な上の値を表わしている。すなわち溶媒含
浸(ソーキング)は3個の測定された特性のいず
れに対しても変化を生ぜしめない。Fの決定のた
めに前記の式を使用すると、前記の定性的標準は
次のようになる。 優 秀(E) =0.88〜1.0 中等度(I) >=0.62〜0.88 不満足(U) =0.0〜0.62 すなわち(1)印刷プレートが選ばれた溶媒による
攻撃に対してより感受性であるかまたは(2)相容性
試験においてより強い溶媒が使用された場合に
は、Fは負の値すなわち0.0をとりうる。更に
(3)ある種の個々の処理または非発明的組合せ処理
は実際に処理プレートの溶媒耐性を未処理プレー
トのそれより低下させる。例えば以下の表2にお
ける溶媒2,3および4に対する処理iおよびj
を処理gに対比して参照されたい。表8において
試料2および3、8および9および14および15に
対するF値を比較されたい。前記(1)および(2)の場
合に対してはF combination=F1+F2を予想す
る。これまた前記の(3)はF combination=F1
(F2−F未処理)を予想する。これらの式は以下
で使用されている。予想値は処理の順序とは無関
係である。 種々のインク/溶媒組合せに露出されたフレク
ソグラフイー印刷プレート上での種々の処理の組
合せの結果の相互比較を単純化することに加え
て、F値は特定のF値を有する印刷プレートを使
用した印刷において得られるべき良好な印刷の数
を予想するに有用である。 印刷実施データおよびF値の両方が入手可能な
場合には次の相関が存在している。 良好な印刷の数 0.94 2000000枚 0.88 200000枚 0.69 5000枚 接着剤溶液は次の成分から製造される。
[Table] Therefore, it is a numerical coefficient, that is, a product (wf) i × (nf)
i becomes as follows. For △T raw 0.152 △H raw 〃 −0.231 △%W raw 〃 0.400 All data are on the same scale, that is, 0 to 1
In order to standardize to △H raw, the coefficient for △H raw must be negative. The reason is that △H raw is negative. △%W ran for a constant in the expression of F
The selection of 23.60 reflects the conclusion that the Δ%W measurement is the most important of these three. An F value of 1.0 for a flexographic photopolymerizable printing plate represents a substantially perfect upper value for a superior plate. That is, solvent impregnation (soaking) produces no change in any of the three measured properties. Using the above formula for determining F, the above qualitative standard becomes: Excellent (E) = 0.88 to 1.0 Moderate (I) > = 0.62 to 0.88 Unsatisfactory (U) = 0.0 to 0.62, i.e. (1) the printing plate is more susceptible to attack by the chosen solvent or ( 2) If a stronger solvent is used in the compatibility test, F can take a negative value, i.e. 0.0. Furthermore
(3) Certain individual treatments or non-inventive combinations of treatments actually reduce the solvent tolerance of treated plates relative to that of untreated plates. For example, treatments i and j for solvents 2, 3 and 4 in Table 2 below
Please refer to the comparison with processing g. Compare the F values for samples 2 and 3, 8 and 9, and 14 and 15 in Table 8. For cases (1) and (2) above, F combination=F 1 +F 2 is expected. Again, the above (3) is F combination=F 1 +
Predict (F 2 −F untreated). These formulas are used below. Expected values are independent of processing order. In addition to simplifying the intercomparison of the results of various treatment combinations on flexographic printing plates exposed to various ink/solvent combinations, the F-value provides a Useful for predicting the number of good prints to be obtained in the prints used. The following correlation exists when both print run data and F-number are available. F Number of good prints 0.94 2000000 sheets 0.88 200000 sheets 0.69 5000 sheets The adhesive solution is prepared from the following ingredients.

【表】 上記のポリアミド樹脂(3)は「マクロメルト
(Macromelt )」6238〔ヘンケル・アドヘシーブ
社の製品〕であつて半透明の明るいコハク色であ
り、132〜145℃の環球軟化点、210℃で40〜60ポ
アズの溶融粘度、299℃以上の発火点、1日で0.7
%そして7日で1.6%の水分吸収、460psi(32.34
Kg/cm2)の引張り降伏強度、450psi(31.64Kg/
cm2)の引張り破断強度および560%の伸長を有し
ている(引張り降伏強度、引張り破断強度および
伸長はASTM法D―1708に従つて24℃で測定さ
れる)。 ポリエステル樹脂はエチレングリコール、テレ
フタル酸、イソフタル酸およびアゼライン酸
(6:2:1:3のモル比)の反応生成物であり、
19000のnおよび37000のwを有している。 ポリオレフインは「ベストフアイン(Vesto―
fine )」SF―616(ドウラ・コモデイテイース社
の製品)であつて、色は雪白色であり、約1600の
分子量、20℃で約0.96の密度、25℃で0.5〜1.0の
針入硬度、約118〜128℃の融点、約85%が10μま
たはそれ以下でありそして約15%が10〜20μであ
るような粒子サイズを有している。 前記成分を順にメチレンクロリド/セロソルブ
(90/10)混合物に加えて約16%固体分の溶液
を生成させるる。ポリオレフインビーズは溶解し
ない。成分の添加の間およびその後でこの混合物
を連続的に撹拌して溶解を生ぜしめる。混合の間
のすべての重量損失をメチレンクロリドの添加に
より補償する。 この接着剤溶液を連続ウエブコーター/ドライ
ヤーを使用して0.005インチ(〜0.13mm)厚さの
ポリエチレンテレフタレートフイルム支持体の火
炎処理表面に適用して約260mg/dm2の乾燥コー
テイング重量を生成させる。ウエブ速度は45フイ
ート/分(〜13.72m/分)でありそして乾燥温
度は86℃(186.7〓)である。 接着剤コーテイングしたポリエチレンテレフタ
レート支持体を接着剤側を上にして仕上げ印刷プ
レートの厚さの0.080インチ(2.03mm)厚さのダ
ムとしたスチールプラテン中に置く。接着剤でコ
ーテイングした支持体とプラテンをプレス上に置
き、そして0.00017インチ(0.004mm)の乾燥厚さ
を有するポリアミド樹脂層を有する0.005インチ
(0.13mm)厚さのポリエチレンテレフタレートカ
バーシート上の光重合性組成物の0.090インチ
(約2.29mm)厚さの押出しシートをカバーシート
側を上にしてその上に載せ、そしてスチールプレ
ートで覆う。 ポリアミド層を有するカバーシートはポリエチ
レンテレフタレートフイルムを、押出しダイコー
ターを使用して次の溶液をコーテイングすること
により製造される。 成 分 量(%) メチレンクロリド 81.0 メタノール 2.0 N―メチルピロリドン 10.0 ポリアミド樹脂 7.0 ここで使用したポリアミド樹脂は「マクロメル
ト(Macromelt )」6900(ヘンケル・アドヘシ
ーブ社製品)であつて266〜302〓の環球軟化点、
5〜15g/10分の347〓の溶融指数、570〓の発火
点、1日で0.2%そして7日で0.5%の水吸収、
1200psiの引張り降伏強度、3500psiの引張り破断
強度および540%の伸長を有している(引張り降
伏強度、引張り破断強度および伸長は24℃で
ASTM D―1708の方法により測定)。 次の成分をブレンドしそしてダイを通して170
℃で押出すことによつて光重合性組成物の押出し
シートを製造する。
[Table] The above polyamide resin (3) is "Macromelt" 6238 (a product of Henkel Adhesive), which is translucent and bright amber in color, with a ring and ball softening point of 132-145°C and a ring and ball softening point of 210°C. Melt viscosity of 40 to 60 poise, ignition point of 299℃ or higher, 0.7 in one day
% and 1.6% moisture absorption in 7 days, 460psi (32.34
Kg/cm 2 ) tensile yield strength, 450psi (31.64Kg/
cm 2 ) and an elongation of 560% (Tensile yield strength, tensile strength and elongation are measured at 24° C. according to ASTM method D-1708). The polyester resin is a reaction product of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid (in a molar ratio of 6:2:1:3);
It has an n of 19,000 and a w of 37,000. Polyolefin is known as ``Vesto''.
SF-616 (a product of Doula Commodities), is snow white in color, has a molecular weight of approximately 1600, a density of approximately 0.96 at 20℃, a penetration hardness of 0.5 to 1.0 at 25℃, and a It has a melting point of 118-128°C, a particle size such that about 85% are 10μ or less and about 15% are 10-20μ. The above ingredients are added in sequence to a methylene chloride/cellosolve (90/10) mixture to produce a solution of about 16% solids. Polyolefin beads do not dissolve. The mixture is continuously stirred during and after the addition of the ingredients to effect dissolution. Any weight loss during mixing is compensated by addition of methylene chloride. This adhesive solution is applied to the flame treated surface of a 0.005 inch (~0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film support using a continuous web coater/dryer to produce a dry coating weight of about 260 mg/dm 2 . The web speed is 45 ft/min (~13.72 m/min) and the drying temperature is 86°C (186.7°). The adhesive coated polyethylene terephthalate support is placed adhesive side up in a dammed steel platen 0.080 inch (2.03 mm) thick, the thickness of the finished printing plate. Place the adhesive-coated support and platen on a press and photopolymerize on a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate cover sheet with a polyamide resin layer having a dry thickness of 0.00017 inch (0.004 mm). A 0.090 inch thick extruded sheet of the adhesive composition is placed thereon, cover sheet side up, and covered with a steel plate. A cover sheet with a polyamide layer is produced by coating a polyethylene terephthalate film using an extrusion die coater with the following solution: Ingredient amount (%) Methylene chloride 81.0 Methanol 2.0 N-methylpyrrolidone 10.0 Polyamide resin 7.0 The polyamide resin used here is "Macromelt" 6900 (product of Henkel Adhesive), with a ring and ball size of 266 to 302㎜. softening point,
Melt index of 5-15g/347/10〓, ignition point of 570〓, water absorption of 0.2% in 1 day and 0.5% in 7 days,
It has a tensile yield strength of 1200psi, a tensile breaking strength of 3500psi and an elongation of 540% (tensile yield strength, tensile breaking strength and elongation at 24℃
(Measured by ASTM D-1708 method). Blend the following ingredients and pass through the die 170
An extruded sheet of the photopolymerizable composition is produced by extrusion at <0>C.

【表】 温度を上昇させそして圧力を徐々に適用する。
これは光重合性シートをプラテンのダムとした部
分全体にひろげる。シートを均一に分散させた後
温度を160℃に上昇させそして20000〜30000psi
(1406〜2109Kg/cm2)の範囲の圧力を適用しそし
て3分間保持させる。プレスプラテンに水を流す
ことによつてこの集成体をプレス中で60℃以下ま
で冷却させる。形成された積層エレメントをプレ
スから除去しそして支持体側を上にして露光ユニ
ツト中に置く。このエレメントに空気中で大気圧
下で4分間支持体を通しての全体的露光を与えて
接着支持体に隣接する光重合性層の予め所定の厚
さを重合させる。このエレメントの重合部分はフ
ロアと称される。 カバーシートの除去後、このエレメントをシル
バニアBL―VHO―螢光ランプを付した「シレル
(Cyrel )」露光ユニツト(デユポン社製品)中
に置く。像含有透明画(陰画)およびエレメント
を真空下で15分露光させる。露光の継続時間は重
合体シート長さ、重合フロアの厚さおよび使用さ
れる像含有透明画のタイプの函数である。 露光透明画を除去しそして露光エレメントをロ
ータリードラムブラツシユタイプ「シレル 」
3040プロセツサー中に置く。このエレメントの未
重合部分および全ポリアミド樹脂層をプロセツサ
ー中で15分間16.6容量%2―(2―ブトキシエト
キシ)エタノール/水中の0.5重量%水酸化ナト
リウムで洗い次いで2分間水洗するかまたはテト
ラクロロエチレン/ブタノール(80/20)混合物
で洗うことにより除去する。0.035インチ(0.89
mm)のレリーフ画像が得られる。現像エレメント
(印刷プレート)を強制熱風ドライヤーまたはそ
の他の適当なドライヤー中に置きそして60℃で15
分乾燥させる。 後記の実施例においては次のハロゲン処理溶液
が使用される。 臭素 混合しつつ1800mlの水道水に20mlの濃HCl
を加える。この溶液に混合しつつ200mlの水道水、
10gの臭化カリウムおよび2.8gの臭素酸カリウ
ムを加える(遊離臭素濃度0.4%)。 沃素 6.4gの沃化カリウムおよび12.7gの沃素
を200mlの水に加える。 塩素 90mlのクロロクス(Clorox )および10
mlの濃(37%)HClを900mlの水に加える
(NaOCl〜0.06モル濃度そしてHCl〜0.12モル濃
度)。 例 1 像様露光に対して使用されたものと同一の露光
源を使用して空気中で10分間前記の露光現像フレ
クソグラフイー印刷プレートを後露光させる。プ
レートは56〜60の範囲のシヨア A2硬度を有し
ている。このプレートを以下に記載のようにして
ハロゲン処理(対照である1個はハロゲン処理し
ない)しそして24時間種々の溶媒混合物および
100%2―プロパノール中に浸漬させる。溶媒の
強度はより多量の酢酸エチルを2―プロパノール
に加えることにより上昇する。このプレートの溶
媒耐性をインク/溶媒相容性試験に記載のように
して吟味する。得られた生まデータ値は以下の表
1に記載されている。計算されたF値は以下の表
2に記載されている。 表中の記号は次の通りである。 溶 媒1:2―プロパノール 〃 2:2―プロパノール(95)/酢酸エチ
ル(5) 〃 3:2―プロパノール(90)/酢酸エチ
ル(10) 〃 4:2―プロパノール(85)/酢酸エチ
ル(15) 〃 5:2―プロパノール(80)/酢酸エチ
ル(20) 処理a:Br2 10分、Cl2 0.5分 〃 b:Br2 2分、Cl2 0.5分 〃 c:Br2 10分、Cl2 0.5分(計算値) 〃 d:Br2 2分、Cl2 0.5分(計算値) 〃 e:Br2 10分、Cl2 なし 〃 f:Br2 2分、Cl2 なし 〃 g:Br2 なし、Cl2 なし 〃 h:Cl2 0.5分、Br2 10分 〃 i:Cl2 0.5分、Br2 2分 〃 j:Cl2 0.5分、Br2 なし
Table: Increase temperature and apply pressure gradually.
This spreads the photopolymerizable sheet over the dammed portion of the platen. After uniformly dispersing the sheet, increase the temperature to 160℃ and 20000~30000psi
A pressure in the range (1406-2109 Kg/cm 2 ) is applied and held for 3 minutes. The assembly is cooled in the press to below 60°C by flowing water through the press platen. The formed laminated element is removed from the press and placed support side up in an exposure unit. The element is given a general exposure through the support in air at atmospheric pressure for 4 minutes to polymerize the predetermined thickness of the photopolymerizable layer adjacent to the adhesive support. This overlapping portion of the element is called the floor. After removal of the cover sheet, the element was placed in a "Cyrel" exposure unit (manufactured by DuPont) equipped with a Sylvania BL-VHO-fluorescent lamp. The image-containing transparency (negative) and the element are exposed under vacuum for 15 minutes. The duration of exposure is a function of the polymer sheet length, the thickness of the polymeric floor, and the type of image-containing transparency used. Remove the exposed transparency and replace the exposure element with a rotary drum brush type "Shillel"
Place it in the 3040 processor. The unpolymerized portion of the element and the entire polyamide resin layer were washed in a processor for 15 minutes with 0.5% by weight sodium hydroxide in 16.6% 2-(2-butoxyethoxy)ethanol/water by volume followed by a 2-minute water rinse or with tetrachloroethylene/butanol. Remove by washing with (80/20) mixture. 0.035 inch (0.89
mm) relief image is obtained. Place the developer element (printing plate) in a forced hot air dryer or other suitable dryer and dry at 60°C for 15 minutes.
Let dry for a minute. In the examples below, the following halogen treatment solution is used. Bromine 20ml concentrated HCl in 1800ml tap water while mixing
Add. 200ml tap water while mixing into this solution,
Add 10 g potassium bromide and 2.8 g potassium bromate (free bromine concentration 0.4%). Iodine Add 6.4 g potassium iodide and 12.7 g iodine to 200 ml water. Chlorine 90ml Clorox and 10
Add ml of concentrated (37%) HCl to 900 ml of water (NaOCl ~ 0.06 molar and HCl ~ 0.12 molar). Example 1 Post-expose the above exposure-development flexographic printing plate for 10 minutes in air using the same exposure source as used for the imagewise exposure. The plates have a shore A2 hardness ranging from 56 to 60. The plates were halogenated (one control was not halogenated) as described below and exposed to various solvent mixtures and
Soak in 100% 2-propanol. The strength of the solvent is increased by adding more ethyl acetate to 2-propanol. The plate is tested for solvent resistance as described in Ink/Solvent Compatibility Testing. The raw data values obtained are listed in Table 1 below. The calculated F values are listed in Table 2 below. The symbols in the table are as follows. Solvent 1: 2-propanol 2: 2-propanol (95)/ethyl acetate (5) 3: 2-propanol (90)/ethyl acetate (10) 4: 2-propanol (85)/ethyl acetate ( 15) 〃 5: 2-propanol (80) / ethyl acetate (20) Treatment a: Br 2 10 minutes, Cl 2 0.5 minutes〃 b: Br 2 2 minutes, Cl 2 0.5 minutes〃 c: Br 2 10 minutes, Cl 2 0.5 minutes (calculated value) 〃 d: Br 2 2 minutes, Cl 2 0.5 minutes (calculated value) 〃 e: Br 2 10 minutes, no Cl 2〃 f: Br 2 2 minutes, no Cl 2〃 g: Br 2 None, no Cl 2 h: Cl 2 0.5 min, Br 2 10 min i: Cl 2 0.5 min, Br 2 2 min j: Cl 2 0.5 min, no Br 2

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 表2の値からわかるように本発明により処理さ
れた印刷プレートaおよびbは本発明ではない処
理により処理された同様の印刷プレートe〜jに
比べて特に溶媒が1〜5により強くなる場合に溶
媒耐性において優れている。このプレートはまた
計算された処理eおよびdよりもまた優れてい
る。非常に弱い溶媒の2―プロパノール中におい
ては計算されたF値は基本的にはいずれかの順序
の2種のハロゲン処理に対するものと同一であ
る。 次の表3は表2のデータすなわち溶媒1〜5にお
けるa,b,c,d,hおよびiの値から構成さ
れておりこれは本発明のハロゲン処理と逆の順序
の処理の間のF値の差を示すものである。
[Table] As can be seen from the values in Table 2, the printing plates a and b treated according to the invention are particularly strong in solvents 1 to 5 compared to similar printing plates e to j treated by a process not according to the invention. It has excellent solvent resistance. This plate also outperforms calculated treatments e and d. In the very weak solvent 2-propanol, the calculated F values are essentially the same for the two halogen treatments in either order. The following Table 3 consists of the data in Table 2, i.e. the values of a, b, c, d, h and i for solvents 1 to 5, which represent the F during the halogen treatment of the present invention and the reverse order of treatment. It shows the difference in value.

【表】 a―cおよびb―dの差に対する表3で観察さ
れる正の値は本発明の処理に対する相乗効果
(superadditivity)を示すものである。h―cお
よびi―dの差に対して表3で観察される一般に
負の値は塩素処理を臭素処理に先行させた場合に
得られる劣つた結果を示している。 例 2 例1記載のようにして露光させ、現像させ、後
露光させそして以下に記載のようにしてハロゲン
処理したフレクソグラフイー印刷プレートを例1
の溶媒5よりも強いn―ブタノール/n―プロピ
ルアセテート(80/20)溶液中に入れる。このプ
レートの溶媒耐性をインク/溶媒相容性試験に記
載のようにして試験する。得られた△T,△Hお
よび△%Wの生まデータ値を使用してF値を計算
するがこれは表4に記載されている。この処理の
記号は例1の記載のものと同一である。
TABLE The positive values observed in Table 3 for the differences between a-c and b-d indicate a superadditivity to the treatment of the present invention. The generally negative values observed in Table 3 for the differences in h-c and i-d indicate the inferior results obtained when chlorination precedes bromine treatment. Example 2 A flexographic printing plate was exposed, developed, post-exposed as described in Example 1 and halogen treated as described below.
into an n-butanol/n-propyl acetate (80/20) solution that is stronger than solvent 5. The plate is tested for solvent resistance as described in Ink/Solvent Compatibility Testing. The raw data values of ΔT, ΔH, and Δ%W obtained are used to calculate the F value, which is listed in Table 4. The symbols for this process are the same as those described in Example 1.

【表】【table】

【表】 明の優秀性
F+F=1.04 〃
前記のデータからわかるように、本発明の処理
は、個々の処理の和から予想される結果よりも優
れており、そしてこれは逆の順序の処理よりはは
るかに優れている。 例 3 例1記載の後露光フレクソグラフイー印刷プレ
ートを4.5分間臭素処理し次いで30秒間塩素処理
し、水洗しそして乾燥させる。このプレートを両
面接着テープを使用してガルス―スタンフオード
型式A160印刷プレス(フエルドルーチ・マシー
ネンフアブリーク・プリンタース・アンド・エン
ジニアス社製品)の印刷シリンダー上に載置させ
る。 ポリエチレン基材およびn―プロパノール/n
―プロピルアセテート(80/20)溶媒ベースのイ
ンク(クラーク・グラフイクス社製品、シアンブ
ルー#SPX―10833、バツチ5279)を使用して毎
分300枚で12時間の印刷操作は全体で合計約
200000の良好な印刷に対して良好な品質のプリン
トを与える。臭素中のみで10分間処理された対照
プレートは約10000枚の刷り以下の後または15〜
30分の印刷時間の後では満足できない品質の画像
を与える。 例 4 例1記載のようにしてその他の印刷プレートを
製造し、処理しそしてインク/溶媒相容性試験に
記載のようにして試験する。次の表5に示されて
いるように、例1記載の後露光段階は2種のハロ
ゲン処理の前、その中間またはその後で実施され
る。溶媒は例1の溶媒3すなわち2―プロパノー
ル/酢酸エチル(90/10)である。処理の記号a
〜jは例1記載のものと同一である。PEは後露
光である。この他の記号k〜uは以下の通りであ
る。 処理k:Br2 0.25分、Cl2 0.25分 〃 l:Br2 0.50分、Cl2 0.50分 〃 m:Br2 0.50分、PE、Cl2 0.50分 〃 n:Br2 0.50分、Cl2 なし 〃 o:Br2 0.25分、PE、Cl2 0.25分 〃 p:Br2 0.25分、Cl2 なし 〃 q:Cl2 0.25分、Br2 なし 〃 r:Br2 10.0分、PE、Cl2 0.50分 〃 s:Br2 10.0分、Cl2 0.50分、PE 〃 t:Br2 2.0分、PE、Cl2 0.50分 〃 u:Br2 2.0分、Cl2 0.50分、PE
[Table] Ming excellence
F b + F i =1.04 〃
As can be seen from the foregoing data, the process of the present invention is superior to the results expected from the sum of the individual processes, and this is significantly better than the reverse order of processes. Example 3 A post-exposed flexographic printing plate as described in Example 1 is brominated for 4.5 minutes, then chlorinated for 30 seconds, washed with water and dried. The plate is mounted using double-sided adhesive tape onto the printing cylinder of a Gallus-Stanford model A160 printing press (manufactured by Feldruch-Maschinenfabrik Printers and Engineers). Polyethylene base material and n-propanol/n
- A 12-hour print run at 300 pages per minute using a propyl acetate (80/20) solvent-based ink (Clark Graphics product, Cyan Blue #SPX-10833, Batch 5279) totals approx.
Gives good quality prints for 200000 good prints. Control plates treated for 10 minutes in bromine only after approximately 10,000 impressions or less
Gives images of unsatisfactory quality after 30 minutes of printing time. Example 4 Other printing plates are prepared as described in Example 1, processed and tested as described in Ink/Solvent Compatibility Testing. As shown in Table 5 below, the post-exposure step described in Example 1 is carried out before, during or after the two halogen treatments. The solvent is Solvent 3 of Example 1, 2-propanol/ethyl acetate (90/10). Processing symbol a
~j are the same as described in Example 1. PE is post-exposure. Other symbols k to u are as follows. Treatment k: Br 2 0.25 min, Cl 2 0.25 min l: Br 2 0.50 min, Cl 2 0.50 min m: Br 2 0.50 min, PE, Cl 2 0.50 min n: Br 2 0.50 min, no Cl 2 o: Br 2 0.25 min, PE, Cl 2 0.25 min〃 p: Br 2 0.25 min, no Cl 2〃 q: Cl 2 0.25 min, no Br 2〃 r: Br 2 10.0 min, PE, Cl 2 0.50 min〃 s: Br 2 10.0 min, Cl 2 0.50 min, PE 〃 t: Br 2 2.0 min, PE, Cl 2 0.50 min〃 u: Br 2 2.0 min, Cl 2 0.50 min, PE

【表】【table】

【表】 試料6,13および14は15秒間臭素および塩素処
理に対してPEの順序を変化させた場合のF値の
変動を示す。表6に示されているように、後露光
は最初に実施された場合に一層効果的であるがし
かしこれはどちらの順序でも有効である。
Table: Samples 6, 13 and 14 show the variation in F value when changing the order of PE for bromine and chlorine treatments for 15 seconds. As shown in Table 6, post-exposure is more effective when performed first, but it is effective in either order.

【表】 試料7.9および10は30秒間臭素および塩素処理
に対してPE順序を変化させた場合のF値の変動
を示す。表7に示されているように、PE順序の
変動にはほとんど影響は存在しない。
Table: Samples 7.9 and 10 show the variation in F values when varying the PE order for bromine and chlorine treatments for 30 seconds. As shown in Table 7, there is little effect of varying PE order.

【表】【table】

【表】 例 5 例1で製造された印刷プレートを以下に記載の
ようにしてハロゲン処理(沃素が臭素に置換)す
るがただし対照の一つはハロゲン処理なしであ
る。2―プロパノール/酢酸エチル(90/10)の
溶媒混合物に24時間浸漬させ、そしてたたいて乾
燥させた後、この印刷プレートの溶媒耐性を前記
インク/溶媒相容性試験に記載のようにして試験
する。各処理に対するF値は表8に示されてい
る。
TABLE EXAMPLE 5 The printing plate prepared in Example 1 is halogen treated (iodine replaced by bromine) as described below, with the exception of one control without halogen treatment. After soaking in a solvent mixture of 2-propanol/ethyl acetate (90/10) for 24 hours and tapping dry, the solvent resistance of the printing plate was determined as described in the Ink/Solvent Compatibility Test above. test. The F value for each treatment is shown in Table 8.

【表】【table】

【表】 から計算
18 16−17=△(測定値 − 0.27、相乗性
−計算値) を示す
表8の結果から、本発明により処理した場合に
は単一処理の相加的結果に比べてプレートの溶媒
耐性に改善が存在することが示される。処理4―
5、10―11および16―17の差の結果は沃素処理お
よびそれに続く塩素処理が相乗的改善を与えるこ
とを示す。 例 6 例1記載のようにして製造しそして例1および
4に記載の処理a,b,r,s,tおよびuによ
りハロゲン処理された印刷プレートをn―プロパ
ノール/n―プロピルアセテート(80/20)に24
時間含浸させそして前記のようにして評価する。
以下の表9に記載の結果は、2段ハロゲン処理に
続く後露光が前記攻撃的溶媒に含浸させた印刷プ
レートに対してその処理工程の他の時点での後露
光よりも有意に優れていることを示す。本例の結
果は、より攻撃性の少ない溶媒の2―プロパノー
ル/酢酸エチル(90/10)およびより穏和なハロ
ゲン処理を使用した例4で得られたものとは異つ
ている。
Calculated from [Table]
18 16−17=△(measured value − 0.27, synergy − calculated value)
The results in Table 8 show that there is an improvement in the solvent tolerance of the plates when treated according to the present invention compared to the additive results of a single treatment. Processing 4-
The difference results for 5, 10-11 and 16-17 indicate that iodine treatment followed by chlorine treatment provides a synergistic improvement. Example 6 Printing plates prepared as described in Example 1 and halogenated by treatments a, b, r, s, t and u as described in Examples 1 and 4 were mixed with n-propanol/n-propyl acetate (80/ 20) to 24
Soak for an hour and evaluate as described above.
The results set forth in Table 9 below demonstrate that post-exposure following two-stage halogen treatment is significantly superior to post-exposure at other points in the processing process for printing plates impregnated with the aggressive solvent. Show that. The results of this example differ from those obtained in Example 4, which used a less aggressive solvent, 2-propanol/ethyl acetate (90/10), and a milder halogen treatment.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 20000〜75000の数平均分子量を有し、そのア
クリロニトリル含量が10〜50重量%でありそして
カルボキシル含量が0〜15重量%である高分子量
ブタジエン/アクリロニトリル共重合体および少
くとも1個の末端エチレン基を含有する非ガス状
エチレン性不飽和化合物からなる光感受性弾性体
状組成物層を活性線放射に像露光しそしてその未
露光部分を液体現像することによつて形成された
レリーフ部分を有するフレキソ印刷プレートのレ
リーフ部分を必要により乾燥させた後、下記の(1)
および(2)を任意の順序で行い、 (1) 現像表面を活性線放射源に後露光させるこ
と、および (2) この現像表面を最初に下記の第1ハロゲン溶
液と次に下記の第2ハロゲン溶液と接触させる
こと 上記(2)において、第1ハロゲン溶液として0.01
〜3.5重量%の遊離臭素濃度を有する水溶液を用
いる場合には約15秒〜20分間接触させあるいは
0.2〜10重量%の遊離沃素濃度を有する水溶液を
用いる場合には約1.0〜10分間接触させそして第
2ハロゲン溶液として0.01〜1.0モルの水性
NaOCl溶液と0.012〜1.2モルの水性HCl溶液によ
つて与えられるものに等しい遊離塩素濃度を有す
る溶液を用いて約15秒〜5分間接触させることか
らなる、レリーフ光感受性フレキソ印刷プレート
に改良された耐溶剤表面を付与する方法。 2 印刷プレートを最初に水性臭素溶液次いで水
性塩素溶液と接触させる前記特許請求の範囲第1
項記載の方法。 3 印刷プレートを最初に水性沃素溶液次いで水
性塩素溶液と接触させる前記特許請求の範囲第1
項記載の方法。 4 水性臭素溶液が水中で臭素またはアルカリ臭
素酸塩―臭化物―酸混合物を混合することにより
調製される前記特許請求の範囲第1項記載の方
法。 5 フレキソ印刷プレートが下から上に向かつて
順次に (A) 可撓性支持体、 (B) 組成物の全重量基準で (a) 55〜90重量%の20000〜75000の数平均分子
量を有し、そのアクリロニトリル含量が10〜
50重量%でありそしてカルボキシル含量が0
〜15重量%である高分子量ブタジエン/アク
リトニトリル共重合体、 (b) 2〜40重量%の遊離ラジカル開始連鎖延長
付加重合により高分子重合体を形成可能でそ
して前記重合体(a)と相容性の少くとも1個の
末端エチレン基含有の非ガス状エチレン性不
飽和化合物、 (c) 0.001〜10重量%の活性線放射により活性
化可能な有機放射感受性遊離ラジカル生成系
および (d) 0〜15重量%の相容性可塑剤 からなる光感受性弾性体状組成物層、 (C) 可撓性重合体フイルム、 (D) 除去可能なカバーシート、および 場合により層(A)および層(B)の間に存在する接着
剤組成物層 で構成された光感受性弾性体状エレメントが像露
光および液体現像により作製される前記特許請求
の範囲第1項記載の方法。 6 現像表面が水性現像により形成されそしてハ
ロゲン処理が現像表面を乾燥せずに行われる前記
特許請求の範囲第1項記載の方法。
[Scope of Claims] 1. High molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymers having a number average molecular weight of 20,000 to 75,000, an acrylonitrile content of 10 to 50% by weight, and a carboxyl content of 0 to 15% by weight, and less. Formed by imagewise exposing a photosensitive elastomeric composition layer consisting of a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing one terminal ethylene group to actinic radiation and developing the unexposed portion with a liquid. After drying the relief part of the flexographic printing plate, if necessary, apply the following (1).
and (2) in any order, including (1) post-exposing the developed surface to a source of actinic radiation, and (2) exposing the developed surface first to the first halogen solution described below and then to the second halogen solution described below. Contact with a halogen solution In (2) above, as the first halogen solution, 0.01
When using an aqueous solution with a free bromine concentration of ~3.5% by weight, contact for approximately 15 seconds to 20 minutes or
When using an aqueous solution with a free iodine concentration of 0.2 to 10% by weight, contact for about 1.0 to 10 minutes and as a second halogen solution 0.01 to 1.0 molar aqueous solution.
An improved relief photosensitive flexographic printing plate consisting of contact for about 15 seconds to 5 minutes with a NaOCl solution and a solution having a free chlorine concentration equal to that given by an aqueous HCl solution of 0.012 to 1.2 molar. A method of imparting a solvent-resistant surface. 2. Contacting the printing plate first with an aqueous bromine solution and then with an aqueous chlorine solution
The method described in section. 3. Contacting the printing plate first with an aqueous iodine solution and then with an aqueous chlorine solution
The method described in section. 4. The method of claim 1, wherein the aqueous bromine solution is prepared by mixing bromine or an alkali bromate-bromide-acid mixture in water. 5. From bottom to top, the flexographic printing plate sequentially comprises (A) a flexible support, (B) based on the total weight of the composition: and its acrylonitrile content is 10~
50% by weight and carboxyl content is 0
~15% by weight of a high molecular weight butadiene/acrytonitrile copolymer; (b) 2 to 40% by weight of a high molecular weight butadiene/acrytonitrile copolymer capable of forming a high molecular weight polymer by free radical initiated chain extension addition polymerization; a compatible non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group; (c) 0.001 to 10% by weight of an organic radiation-sensitive free radical-generating system activatable by actinic radiation; and (d ) a photosensitive elastomeric composition layer consisting of 0 to 15% by weight of a compatible plasticizer, (C) a flexible polymeric film, (D) a removable cover sheet, and optionally layers (A) and 2. A method according to claim 1, wherein the photosensitive elastomer-like element constituted by the adhesive composition layer present between layers (B) is produced by imagewise exposure and liquid development. 6. The method of claim 1, wherein the developed surface is formed by aqueous development and the halogen treatment is carried out without drying the developed surface.
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