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JPH0131313B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0131313B2
JPH0131313B2 JP1250681A JP1250681A JPH0131313B2 JP H0131313 B2 JPH0131313 B2 JP H0131313B2 JP 1250681 A JP1250681 A JP 1250681A JP 1250681 A JP1250681 A JP 1250681A JP H0131313 B2 JPH0131313 B2 JP H0131313B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
switch
gate
terminal
state
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1250681A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS57128068A (en
Inventor
Koichi Yamada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP1250681A priority Critical patent/JPS57128068A/en
Publication of JPS57128068A publication Critical patent/JPS57128068A/en
Publication of JPH0131313B2 publication Critical patent/JPH0131313B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]

Landscapes

  • Storage Device Security (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電気的に消去及び再書き込み可能な半
導体記憶装置にかかり、特に誤書き込み及び誤消
去を防止するための機能を有する半導体記憶装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrically erasable and rewritable semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a function to prevent erroneous writing and erasing.

従来、半導体記憶装置、例えばプログラマブル
リードオンリー記憶装置(PROM)には、紫外
線消去型(UVEPROM)や電気消去型
(EEPROM)などがあるが、UVEPROMは消去
の際全bitが同時に消去されてしまい、さらに消
去にはある程度時間がかかる。又、消去、書き込
み時には、装置を止める必要がある。さらに別に
用意された消去器と書き込み器とを使用せねばな
らず、コスト、時間ともむだなことが多い。他
方、EEPROMでは電気的に書き込み消去が可能
な為、装置に組み込まれたままで書き込み消去が
比較的簡単に行なわれる。しかし、このために便
利さとは逆に、わずかな誤操作で該PROMに含
まれていた情報に別の情報が書き込まれたり、ま
た部分的あるいは全体の情報が失なわれるという
危険性を有している。
Conventionally, semiconductor memory devices, such as programmable read-only memory (PROM), include ultraviolet erasable type (UVEPROM) and electrically erased type (EEPROM), but when UVEPROM is erased, all bits are erased at the same time. Furthermore, erasing takes some time. Furthermore, during erasing and writing, it is necessary to stop the device. Furthermore, it is necessary to use a separately prepared eraser and writer, which is often a waste of cost and time. On the other hand, since EEPROM can be written and erased electrically, it is relatively easy to write and erase the EEPROM while it is still installed in the device. However, while this is convenient, there is a risk that a slight erroneous operation may cause other information to be written to the information contained in the PROM, or partial or complete information may be lost. There is.

本発明はこの上記せる欠点を除去した、誤書き
込み及び誤消去を防止できる半導体記憶装置を提
供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which eliminates the above-mentioned drawbacks and can prevent erroneous writing and erasing.

本発明の特徴は、電気的に消去及び再書き込み
可能な半導体記憶装置において、消去及び再書き
込みの機能を無効にすることによつてこの半導体
記憶装置を消去及び再書き込みの不可能なリード
オンリー記憶装置に変換できる半導体記憶装置に
ある。また本発明の他の特徴は、電気的に消去及
び再書き込みの可能な半導体記憶装置の、この消
去及び再書き込みの機能を無効にして、この半導
体記憶装置を消去及び再書き込みの不可能なリー
ドオンリー記憶装置に変換する方法にある。
A feature of the present invention is that in an electrically erasable and rewritable semiconductor memory device, by disabling the erase and rewrite function, the semiconductor memory device can be converted into a read-only memory that cannot be erased or rewritten. It is a semiconductor memory device that can be converted into a device. Another feature of the present invention is to disable the erasing and rewriting functions of an electrically erasable and rewritable semiconductor memory device, thereby rendering the semiconductor memory device readable and non-erasable. There is a method to convert to only storage device.

本発明によれば、例えば従来プログラム開発用
と製品用とに別の半導体記憶装置を使い分けてい
たのが一種類で済ませられるため、コストを下げ
ることが出来、また従来のEEPROMを製品に用
いたために誤消去などによつて不良が発生してい
たものを防ぐことが出来る。
According to the present invention, for example, the conventional method of using separate semiconductor memory devices for program development and product use can be reduced to just one type, thereby reducing costs. Also, since conventional EEPROMs can be used for products, costs can be reduced. It is possible to prevent defects from occurring due to erroneous erasure.

次に本発明の実施例(以下全てN−ch)につ
いて図面を参照して説明する。第1図は、ゲート
3とドレイン2、ソース1、それにフローテイン
グゲート4からなつている、Nch−PROMを示
す。初期状態又は消去後はフローテイングゲート
4は接地状態にある。この時ゲート3に高レベル
を印加するとソース1とドレイン2は導通状態に
なる。ここでゲート3とドレイン2もしくはソー
ス1に正の高電圧を一定時間印加するとフローテ
イングゲート4に電子が入り込む。ここでゲート
3に高レベルを印加しても、ソース1とドレイン
2は導通しない。この状態をデータが書き込まれ
た状態“1”とすれば、前者は“0”となる。こ
こまでの動作は、UVEPROM、EEPROMとも
に同じと考えてよい。EEPROMの消去は、ゲー
ト3に負の高電圧さらにソース1もしくはドレイ
ン2に正の高電圧を一定時間印加するとフローテ
イングゲート4に正孔が入り込み、実質的にフロ
ーテイングゲート4は初期状態又は消去後の接地
状態と同じになり、ゲート3に高レベルを印加す
るとソース1とドレイン2は再び導通状態とな
る。
Next, embodiments (hereinafter referred to as N-ch) of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an Nch-PROM consisting of a gate 3, a drain 2, a source 1, and a floating gate 4. In the initial state or after erasing, floating gate 4 is in a grounded state. At this time, when a high level is applied to the gate 3, the source 1 and the drain 2 become conductive. When a high positive voltage is applied to the gate 3 and the drain 2 or the source 1 for a certain period of time, electrons enter the floating gate 4. Here, even if a high level is applied to the gate 3, the source 1 and the drain 2 are not electrically connected. If this state is defined as a data-written state "1", the former becomes "0". The operation up to this point can be considered to be the same for both UVEPROM and EEPROM. EEPROM is erased by applying a negative high voltage to the gate 3 and a positive high voltage to the source 1 or drain 2 for a certain period of time. Holes enter the floating gate 4, and the floating gate 4 is effectively erased to its initial state. This becomes the same as the grounded state later, and when a high level is applied to the gate 3, the source 1 and drain 2 become conductive again.

第2図は、本発明の一実施例の半導体記憶装置
の部分回路図である。電源端子5より高レベルを
加える事により、ヒユーズ8、抵抗9を通してス
イツチ10のゲート12に高レベルが印加されス
イツチ10が導通する。その時、抵抗11を通し
て電源6より電流が流れ、端子13は低レベルに
なる。そして、これによりスイツチ15は導通し
スイツチ14が遮断され、電源6からの電圧の印
加は禁止される。そのため、端子16から記憶素
子、例えばEEPROMセル(図示せず)のゲー
ト、ソースもしくはドレインに加えられる正の高
電圧もしくは負の高電圧は、そのまま端子17に
出力されることになり、この記憶装置は通常の
EEPROMとして何回でも書き込み、消去ができ
る。次に、電源端子5に高電圧を印加してヒユー
ズ8に過電流を流すと、ヒユーズ8は溶断しスイ
ツチ10のゲート12には低レベルが印加されつ
づけるようになる。そのため、端子13は高レベ
ルになりスイツチ15は遮断されスイツチ14は
導通する。したがつて、端子16から加えられる
電圧は、スイツチ15において負の高電圧に対し
ても正の高電圧に対しても遮断される。よつて端
子17からEEPROMセル(図示せず)のゲー
ト、ソースもしくはドレインに加えられる電圧
は、電源6より通常の読出し電圧のみが加えら
れ、読出し状態に固定される。このように、上記
の回路を接続することにによりEEPROM内の記
憶素子の情報は、書き込み、消去の操作が行なわ
れても実際はそれ以前の情報がそのまま保持され
る。
FIG. 2 is a partial circuit diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. By applying a higher level to the power supply terminal 5, a higher level is applied to the gate 12 of the switch 10 through the fuse 8 and the resistor 9, making the switch 10 conductive. At that time, current flows from the power supply 6 through the resistor 11, and the terminal 13 becomes low level. As a result, the switch 15 becomes conductive, the switch 14 is cut off, and the application of voltage from the power source 6 is prohibited. Therefore, a positive high voltage or a negative high voltage applied from the terminal 16 to the gate, source, or drain of a storage element, such as an EEPROM cell (not shown), is output as is to the terminal 17, and this storage device is normal
It can be written and erased as many times as EEPROM. Next, when a high voltage is applied to the power supply terminal 5 to cause an overcurrent to flow through the fuse 8, the fuse 8 is blown and a low level continues to be applied to the gate 12 of the switch 10. Therefore, the terminal 13 becomes high level, the switch 15 is cut off, and the switch 14 becomes conductive. Therefore, the voltage applied from the terminal 16 is cut off at the switch 15 against both negative high voltages and positive high voltages. Therefore, the voltage applied from the terminal 17 to the gate, source, or drain of the EEPROM cell (not shown) is only the normal read voltage from the power supply 6, and the EEPROM cell (not shown) is fixed in the read state. In this way, by connecting the above-mentioned circuit, the information in the memory element in the EEPROM actually retains the previous information as it is even if a writing or erasing operation is performed.

第3図は、本発明の他の実施例である。スイツ
チ27、スイツチ28は、第2図と同じ動作をす
る。抵抗19、コンデンサー24は遅延回路を構
成する。第3図では、第2図のヒユーズ8の代り
にEEPROM又はUVEPROM記憶素子を使うも
のである。動作は、フローテイングゲート22に
書き込まれた状態ではスイツチ28は遮断状態と
なり、スイツチ27は導通する。特に第3図の例
によれば、フローテイングゲート28は
UVEPROMならば書き込みだけに有効であり、
消去に対しては無効である。
FIG. 3 is another embodiment of the invention. Switch 27 and switch 28 operate in the same manner as in FIG. Resistor 19 and capacitor 24 constitute a delay circuit. In FIG. 3, the fuse 8 of FIG. 2 is replaced by an EEPROM or UVEPROM storage element. In operation, when the floating gate 22 is written, the switch 28 is cut off and the switch 27 is turned on. In particular, according to the example of FIG.
UVEPROM is effective only for writing,
Not valid for erasure.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はEEPROM又はUVEPROMの記憶素
子の概略図、第2図は本発明の一実施例の部分回
路図、第3図は本発明の他の実施例の部分回路図
である。 なお図において、1……ソース、2……ドレイ
ン、3……ゲート、4……フローテイングゲー
ト、5……電源端子、6……電源、7……電源、
8……ヒユーズ、9……抵抗、10……スイツ
チ、11……抵抗、12……ゲート、13……端
子、14……スイツチ、15……スイツチ、16
……端子、17……端子、18……抵抗、19…
…抵抗、20……端子、21……ゲート、22…
…フローテイングゲート、23……ドレイン、2
4……コンデンサー、25……端子、26……イ
ンバーター、27……スイツチ、28……スイツ
チ、29……端子、30……電源、31……端
子、である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an EEPROM or UVEPROM storage element, FIG. 2 is a partial circuit diagram of one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a partial circuit diagram of another embodiment of the present invention. In the figure, 1... source, 2... drain, 3... gate, 4... floating gate, 5... power supply terminal, 6... power supply, 7... power supply,
8... Fuse, 9... Resistor, 10... Switch, 11... Resistor, 12... Gate, 13... Terminal, 14... Switch, 15... Switch, 16
...Terminal, 17...Terminal, 18...Resistor, 19...
...Resistance, 20...Terminal, 21...Gate, 22...
...Floating gate, 23...Drain, 2
4...Capacitor, 25...Terminal, 26...Inverter, 27...Switch, 28...Switch, 29...Terminal, 30...Power supply, 31...Terminal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 PROMセルと、該PROMへの書込み電圧を
印加する第1のスイツチと、読み出し電圧を印加
する第2のスイツチと、状態設定手段と、該状態
設定手段が第1の状態のときには、前記第1のス
イツチを導通状態、前記第2のスイツチを非導通
状態として前記PROMセルへの書込み電圧の印
加を可能とし、前記状態設定手段が第2の状態の
ときには、第1のスイツチを非導通状態、第2の
スイツチを導通状態として、前記PROMセルに
読出し電圧のみを印加する制御手段とを有するこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
1 A PROM cell, a first switch that applies a write voltage to the PROM, a second switch that applies a read voltage, a state setting means, and when the state setting means is in the first state, A write voltage can be applied to the PROM cell by setting the first switch in a conductive state and the second switch in a non-conducting state, and when the state setting means is in the second state, the first switch is in a non-conducting state. . A semiconductor memory device comprising: control means for turning on a second switch and applying only a read voltage to the PROM cell.
JP1250681A 1981-01-30 1981-01-30 Semiconductor memory storage Granted JPS57128068A (en)

Priority Applications (1)

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JP1250681A JPS57128068A (en) 1981-01-30 1981-01-30 Semiconductor memory storage

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JPS57128068A JPS57128068A (en) 1982-08-09
JPH0131313B2 true JPH0131313B2 (en) 1989-06-26

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JPS57128068A (en) 1982-08-09

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