JPH01308404A - 光重合開始剤 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はα−位が置換された芳香−脂肪族ケトンから成
る不飽和化合物の光重合開始剤に関するつ (従来の技術及び発明が解決しようとする課題)光化学
重合法は例えばラッカー塗膜の硬化や印刷インキの乾燥
のような特に短時間内で硬化させねばならない薄層の場
合に、工業上可成りの重要性が生じてきている0通常の
硬化法と比較して、光重合開始剤の存在下での紫外線照
射は多くの利点を有し、最も重要な利点はおそらく光硬
化の高速性にある。硬化速度は光重合開始剤に非常に依
存することから、従来の開始剤を常に優れたそして更に
有効な化合物でaI!換える多くの試みがなされてき几
。最も有効な光重合開始剤としては、ベンゾイン誘導体
特に例えばドイツ特許(DT−PS)第1,694,1
49号、明細書に記載されているようなベンゾイン−エ
ーテル類、ドイツ特許公開(DT−O5)第1.92へ
266号公報で記載されているようなα−ヒドロキシメ
チルベンゾイン誘導体、ならびにDT−O5第2.26
1,585号または同第2,252,565号で記載さ
れているようなジアルコキシアセトフェノン及びベンジ
ル−モノケタールである。ατアミノアセトフェノン及
びα−ジアミノアセトフェノンが米国特許第4.04a
034号明細書に最近提案され、そしてα−ヒドロキシ
−α−アルキロールアセトフェノン及びそのエーテルが
DT−O5第2.557.866号明細書中に光重合開
始剤として記載されている。
る不飽和化合物の光重合開始剤に関するつ (従来の技術及び発明が解決しようとする課題)光化学
重合法は例えばラッカー塗膜の硬化や印刷インキの乾燥
のような特に短時間内で硬化させねばならない薄層の場
合に、工業上可成りの重要性が生じてきている0通常の
硬化法と比較して、光重合開始剤の存在下での紫外線照
射は多くの利点を有し、最も重要な利点はおそらく光硬
化の高速性にある。硬化速度は光重合開始剤に非常に依
存することから、従来の開始剤を常に優れたそして更に
有効な化合物でaI!換える多くの試みがなされてき几
。最も有効な光重合開始剤としては、ベンゾイン誘導体
特に例えばドイツ特許(DT−PS)第1,694,1
49号、明細書に記載されているようなベンゾイン−エ
ーテル類、ドイツ特許公開(DT−O5)第1.92へ
266号公報で記載されているようなα−ヒドロキシメ
チルベンゾイン誘導体、ならびにDT−O5第2.26
1,585号または同第2,252,565号で記載さ
れているようなジアルコキシアセトフェノン及びベンジ
ル−モノケタールである。ατアミノアセトフェノン及
びα−ジアミノアセトフェノンが米国特許第4.04a
034号明細書に最近提案され、そしてα−ヒドロキシ
−α−アルキロールアセトフェノン及びそのエーテルが
DT−O5第2.557.866号明細書中に光重合開
始剤として記載されている。
これらの公知の光重合開始剤の欠点は、成る場合にこの
ような開始剤と混合した光重合し得る系の暗所における
不適当な貯蔵安定性を含む問題にある。成る種のベンゾ
イン誘導体は硬化させた組成物を黄色にする傾向がある
。他の開始剤は、比較的長い硬化時間になる不適当な反
応性を有し友り或いは光重合性系への溶解性が不十分で
あったりまたはこれら開始剤は突気中の酸素によって急
速に失活する。それ数基質に容易に溶解し、一方暗所で
良好な貯蔵安定性を有し、公知の重合開始剤よりもより
急速な光重合t−開始しそして単位時間当りのより高い
重合体の収量を与える光重合開始剤の工業上の必要性が
あう念、このような改良された光重合開始剤を使用すれ
ば、高価な工業上の紫外線照射装置をより有効に利用で
きる。
ような開始剤と混合した光重合し得る系の暗所における
不適当な貯蔵安定性を含む問題にある。成る種のベンゾ
イン誘導体は硬化させた組成物を黄色にする傾向がある
。他の開始剤は、比較的長い硬化時間になる不適当な反
応性を有し友り或いは光重合性系への溶解性が不十分で
あったりまたはこれら開始剤は突気中の酸素によって急
速に失活する。それ数基質に容易に溶解し、一方暗所で
良好な貯蔵安定性を有し、公知の重合開始剤よりもより
急速な光重合t−開始しそして単位時間当りのより高い
重合体の収量を与える光重合開始剤の工業上の必要性が
あう念、このような改良された光重合開始剤を使用すれ
ば、高価な工業上の紫外線照射装置をより有効に利用で
きる。
(課題を解決するための手段)
ここにおいて下記の式で表わされる化合物が光重合開始
剤として必要な性質を有し、とりわけ急速な光重合を起
こし、そして上述の欠点を全く有さないかもしくは公知
光重合開始剤に比べ著しく低い程度で上記欠点を持って
いることを見い出し几。更に該化合物はポリオレフィン
の光化学架橋反応にも適している。
剤として必要な性質を有し、とりわけ急速な光重合を起
こし、そして上述の欠点を全く有さないかもしくは公知
光重合開始剤に比べ著しく低い程度で上記欠点を持って
いることを見い出し几。更に該化合物はポリオレフィン
の光化学架橋反応にも適している。
本発明は次式
で表わされる2−ヒドロキシ−2−メチル−p−クロロ
プロピオフェノンから成る不飽和化合物の光重合開始剤
に関する。
プロピオフェノンから成る不飽和化合物の光重合開始剤
に関する。
本発明と同様の用途に利用できる化合物として、下記の
式1.n、Iま友は■で表わされる化合物がある。
式1.n、Iま友は■で表わされる化合物がある。
本発明による上記化合物は、式■で表わされる化合物に
包含される。
包含される。
式中、
nは1ま友は2であり、
Arは、il m 1のとき未置換もしくは一個以上の
以下の基: (、#、 or、 CN、 OH,炭A
原子数1ないし12のアルキル、−0A#に、 −Q−
フェニル、−SA #k 、 −S CHmCHsO
H、−S−フェニル、−SO鵞人#に、−5Ow−フェ
ニル、−Coo−A#k。
以下の基: (、#、 or、 CN、 OH,炭A
原子数1ないし12のアルキル、−0A#に、 −Q−
フェニル、−SA #k 、 −S CHmCHsO
H、−S−フェニル、−SO鵞人#に、−5Ow−フェ
ニル、−Coo−A#k。
−5O!NH,、−’30.NHA#に、 −5O,
N(AJk)。
N(AJk)。
−NHA#に、 −N(A#k)!、 または−N)(
Co−フェニルで置換された炭素原子fi6ないし14
のアリール基、チエニル基、ピリジル基、フリル基、イ
ンダニル基、またはテトラヒドロナフチル基を表わし、
セしてAlkは炭素原子数1ないし4の低級アルキル基
金意味し、そして nm2のとき、炭素原子数6ないし12のアリーレン基
、−フェニレン−T−フェニレン−基もしくは二価の9
.10−ジヒドロアントラセン基を表わし、 XFI −NR’R’ 、 −OR’、 −05iR
’(R’)z 、’l 九ハR1と一緒になって一〇−
CI((R’)−、−0−C)I(R”)−0−(CH
,)□−2−0もしくは一〇−炭素原子数1ないし4の
アルキレン−基ヲ表わし、 (R”)−、−0−、−0−R”−0−、−0−5iR
’R’−0−もしくは−〇−8iR’R’−0−5iR
’R’−0−を表わし、Yは直接結合または−CH2−
を表わし、2は一〇−,−3−、−5o、−、−CH,
−もしくは−C(CI(*h−金表わし、 Tは−0−+ −8−* −502−、−CH’2−、
−CH2Cl2−0− C)I、0CR2−もしくは−
Cl(= CH−を表わし、RIは式!中nm1でX
−−OR’ のとき、未置換もしくは炭素原子数2ない
し8のアシルオキシ、−NR’Rう、−COOAAkも
しくはCNで置換された炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、炭素原子数3ないし5のアルケニル基、炭素原子
数5ないし6のシクロアルキル基もしくは炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基金表わし、そしてその他
の場合には未置換もしくは−OH。
Co−フェニルで置換された炭素原子fi6ないし14
のアリール基、チエニル基、ピリジル基、フリル基、イ
ンダニル基、またはテトラヒドロナフチル基を表わし、
セしてAlkは炭素原子数1ないし4の低級アルキル基
金意味し、そして nm2のとき、炭素原子数6ないし12のアリーレン基
、−フェニレン−T−フェニレン−基もしくは二価の9
.10−ジヒドロアントラセン基を表わし、 XFI −NR’R’ 、 −OR’、 −05iR
’(R’)z 、’l 九ハR1と一緒になって一〇−
CI((R’)−、−0−C)I(R”)−0−(CH
,)□−2−0もしくは一〇−炭素原子数1ないし4の
アルキレン−基ヲ表わし、 (R”)−、−0−、−0−R”−0−、−0−5iR
’R’−0−もしくは−〇−8iR’R’−0−5iR
’R’−0−を表わし、Yは直接結合または−CH2−
を表わし、2は一〇−,−3−、−5o、−、−CH,
−もしくは−C(CI(*h−金表わし、 Tは−0−+ −8−* −502−、−CH’2−、
−CH2Cl2−0− C)I、0CR2−もしくは−
Cl(= CH−を表わし、RIは式!中nm1でX
−−OR’ のとき、未置換もしくは炭素原子数2ない
し8のアシルオキシ、−NR’Rう、−COOAAkも
しくはCNで置換された炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、炭素原子数3ないし5のアルケニル基、炭素原子
数5ないし6のシクロアルキル基もしくは炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基金表わし、そしてその他
の場合には未置換もしくは−OH。
OA#k 、 炭素原子数2ないし8のアシルオキシ
、−NR’R’、 −COOAAk もしくは−CN
で置換さ扛た炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素
原子数3ないし4のアルケニル基、炭素原子数5ないし
6のシクロアルキル基もしくは炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基を表わし、 R1はR1で与えられた意味を有するかもしくは−CH
鵞C)I雪R13であり、またはR1と一緒に炭素原子
数2ないし8のアルキレン基または炭素原子数3ないし
9のオキサ−もしくはアザアルキレン基を表わし・ R1は直接結合、炭素原子数1ないし6のアルキレン基
、炭素原子数2ないし6のオキサアルキレン基、炭素原
子数2ないし6のチア−1S−オキンチアーもしくはS
−ジオキンチアアルキレン基、フェニレン基、ジフェニ
レンs−t*n−フェニレン−T−フェニレン−基を表
わすかまたは両方の置換基R2と該置換基が結合してい
る両方の炭素原子と一緒にシクロアルキル、シクロヘキ
セン−、エントメチレンシクロヘキテンもしくはシクロ
ヘキサン環を形成し、 R4は炭素原子数1ないし12のアルキル基、−OH,
−OA#にもしくは−CNで置換された炭素原子数2な
いし4のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケニ
ル基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし9の7エ
ニルアルキル基、フェニル基またはCJ、 Ark、
OH。
、−NR’R’、 −COOAAk もしくは−CN
で置換さ扛た炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素
原子数3ないし4のアルケニル基、炭素原子数5ないし
6のシクロアルキル基もしくは炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基を表わし、 R1はR1で与えられた意味を有するかもしくは−CH
鵞C)I雪R13であり、またはR1と一緒に炭素原子
数2ないし8のアルキレン基または炭素原子数3ないし
9のオキサ−もしくはアザアルキレン基を表わし・ R1は直接結合、炭素原子数1ないし6のアルキレン基
、炭素原子数2ないし6のオキサアルキレン基、炭素原
子数2ないし6のチア−1S−オキンチアーもしくはS
−ジオキンチアアルキレン基、フェニレン基、ジフェニ
レンs−t*n−フェニレン−T−フェニレン−基を表
わすかまたは両方の置換基R2と該置換基が結合してい
る両方の炭素原子と一緒にシクロアルキル、シクロヘキ
セン−、エントメチレンシクロヘキテンもしくはシクロ
ヘキサン環を形成し、 R4は炭素原子数1ないし12のアルキル基、−OH,
−OA#にもしくは−CNで置換された炭素原子数2な
いし4のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケニ
ル基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし9の7エ
ニルアルキル基、フェニル基またはCJ、 Ark、
OH。
OA#にもしくは−COOAAkで置換されたフェニル
基を表わし、 R5は炭素原子数1ないし12のアルキル基、−OH,
−0AAkもしくはCNで置換された炭素原子数2ない
し4のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケニル
基、シクロヘキシル基もしくは炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基金表わし、またはR4と一緒に炭素
原子数4ないし5のアルキレン基金表わし、これらは−
〇−もしくは−NRI4−で中断されてもよく、また式
!で表わされる化合物の場合R1と一緒に炭素原子数1
ないし9のアルキレンモジ<はフェニルアルキレン基、
または炭素原子数2ないし3のオキサ−もしくはアザア
ルキレン基を表わし、 R6は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基
、以下の基: CJ、Br、 OH,0AAk。
基を表わし、 R5は炭素原子数1ないし12のアルキル基、−OH,
−0AAkもしくはCNで置換された炭素原子数2ない
し4のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケニル
基、シクロヘキシル基もしくは炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基金表わし、またはR4と一緒に炭素
原子数4ないし5のアルキレン基金表わし、これらは−
〇−もしくは−NRI4−で中断されてもよく、また式
!で表わされる化合物の場合R1と一緒に炭素原子数1
ないし9のアルキレンモジ<はフェニルアルキレン基、
または炭素原子数2ないし3のオキサ−もしくはアザア
ルキレン基を表わし、 R6は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基
、以下の基: CJ、Br、 OH,0AAk。
SA#k 、 炭素原子数2ないし8のアシルオキシ
、−COOA#に、 −CONHAAk、 −CON(
AJk)、 もしくはCNで置換された炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケ
ニル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、未置換もしく
はCJもしくはAAkで置換され友フェニル基、または
2−テトラヒドロピラニル基金表わし、 R7及びR1は同一もしくは異なって炭素原子数1ない
し4のアルキル基ま几はフェニル基を表わし、 Roは水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基ま
たは炭素原子数6ないし14の713−ル基を表わし、 RIGは炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘ
キシル基もしくはベンジル基金表わし、R11は炭素原
子数2ないし8のアルキレン基、キシリレン基、フェニ
レン基もしくバーフェニレン−T−フェニレン基金表わ
し、 RI!は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、炭素原
子数4ないし6のオキサアルキレン基もしくはキシリレ
ン基を表わし、 R” バーC0NHz 、−CONHA#に、 −CO
N(AAk)z 。
、−COOA#に、 −CONHAAk、 −CON(
AJk)、 もしくはCNで置換された炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケ
ニル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、未置換もしく
はCJもしくはAAkで置換され友フェニル基、または
2−テトラヒドロピラニル基金表わし、 R7及びR1は同一もしくは異なって炭素原子数1ない
し4のアルキル基ま几はフェニル基を表わし、 Roは水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基ま
たは炭素原子数6ないし14の713−ル基を表わし、 RIGは炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘ
キシル基もしくはベンジル基金表わし、R11は炭素原
子数2ないし8のアルキレン基、キシリレン基、フェニ
レン基もしくバーフェニレン−T−フェニレン基金表わ
し、 RI!は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、炭素原
子数4ないし6のオキサアルキレン基もしくはキシリレ
ン基を表わし、 R” バーC0NHz 、−CONHA#に、 −CO
N(AAk)z 。
−P(0)(OA#k)、、 2−ピリジルもしくは
2−オキソ−1−ピロリジニル基金表わし、R14は炭
素原子数1ないし4のアルキル基、−CH,CH,CN
基または−CH1CHtCOOAJk基を表わす、) これらの化合物においてFi、特に芳香−脂肪族ケトン
で、α位の炭素原子が第三級であり、そしてヒドロキシ
もしくはアミノ基またはエーテル化性もしくはシリル化
性生成物で置換されているものが好ましい。その際脂肪
族基はま友脂環式もしくは芳香脂肪族であってもよく、
または環化により芳香族基と結合して弐Vで表わされる
ベンゾ環式ケトンに相当するものにしてもよい。
2−オキソ−1−ピロリジニル基金表わし、R14は炭
素原子数1ないし4のアルキル基、−CH,CH,CN
基または−CH1CHtCOOAJk基を表わす、) これらの化合物においてFi、特に芳香−脂肪族ケトン
で、α位の炭素原子が第三級であり、そしてヒドロキシ
もしくはアミノ基またはエーテル化性もしくはシリル化
性生成物で置換されているものが好ましい。その際脂肪
族基はま友脂環式もしくは芳香脂肪族であってもよく、
または環化により芳香族基と結合して弐Vで表わされる
ベンゾ環式ケトンに相当するものにしてもよい。
上記記載のIt喚基R1,R”、R・及びRIG は炭
素原子数1ないし8のアルキル基であり、例えばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルもしくはオクチ
ル基が好ましい。アルキル基としてのR4,R’及びR
6は枝分れしていないもしくは枝分かnした炭素原子a
1ないし12のアルキル基、例えばメチル、エチル、イ
ソプロピル、第三ブチル、イソアミル、n−ヘキシル、
2−エチルヘキシル、n−デシルもしくはn−ドデシル
基である。人jkは炭素原子数1ないし4の低級アルキ
ル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−ブチ
ルもしくは第三ブチル基である。
素原子数1ないし8のアルキル基であり、例えばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルもしくはオクチ
ル基が好ましい。アルキル基としてのR4,R’及びR
6は枝分れしていないもしくは枝分かnした炭素原子a
1ないし12のアルキル基、例えばメチル、エチル、イ
ソプロピル、第三ブチル、イソアミル、n−ヘキシル、
2−エチルヘキシル、n−デシルもしくはn−ドデシル
基である。人jkは炭素原子数1ないし4の低級アルキ
ル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−ブチ
ルもしくは第三ブチル基である。
ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキ−4しくけアシ
ルオキシアルキルの意味でのR1、R1゜R’ハ例えば
ヒドロキシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロ
キシエチル、2−インプロポキシエチル、1−ヒトミキ
シイソブチル、1−アセチルオキシブチル、1−アクリ
ロイルオキシヘキシル、1−ヒドロキシエチル金表−ベ
ンゾイルオキシプロビル、メトキシメチルもしくはイン
ブチルオキシメチルである。アシル基はその際脂肪族も
しくは芳香族カルボン酸の基であり得る。好ましくは1
−ヒドロキシアルキル基及びそのエーテル並びにエステ
ルである。
ルオキシアルキルの意味でのR1、R1゜R’ハ例えば
ヒドロキシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロ
キシエチル、2−インプロポキシエチル、1−ヒトミキ
シイソブチル、1−アセチルオキシブチル、1−アクリ
ロイルオキシヘキシル、1−ヒドロキシエチル金表−ベ
ンゾイルオキシプロビル、メトキシメチルもしくはイン
ブチルオキシメチルである。アシル基はその際脂肪族も
しくは芳香族カルボン酸の基であり得る。好ましくは1
−ヒドロキシアルキル基及びそのエーテル並びにエステ
ルである。
ヒドロキシアルキルもしくはアルコキシアルキル基とし
てのR4及びR1は例えば2−ヒドロキシエチル、2−
ブトキシエチル、2−メトキシメチル、3−ヒドロキク
プロピルもしくは2−℃トキシブチル基である。好まし
くは2−ヒドロキシアルキル基及びそのエーテルである
。
てのR4及びR1は例えば2−ヒドロキシエチル、2−
ブトキシエチル、2−メトキシメチル、3−ヒドロキク
プロピルもしくは2−℃トキシブチル基である。好まし
くは2−ヒドロキシアルキル基及びそのエーテルである
。
−NR’R’で置換されたアルキル基としてのR1゜R
2は例えばジブチルアミノメチル、2−ピペリジノエチ
ルもしくは2−ジメチルアミノプロピル基である。
2は例えばジブチルアミノメチル、2−ピペリジノエチ
ルもしくは2−ジメチルアミノプロピル基である。
−CNで置換され九アルキル基は、R1、R1、R4゜
R11ま念はR6の場合例えば2−シアノエチル、2−
シアノプロピルもしくは4−シアノブチル基でよく、R
1、R1及びR4の場合にはまた例えばシアノメチル、
2−シア/ヘキシルもしくは4−シアノオクチル基であ
る。好ましくは2−シアノエチル基である。
R11ま念はR6の場合例えば2−シアノエチル、2−
シアノプロピルもしくは4−シアノブチル基でよく、R
1、R1及びR4の場合にはまた例えばシアノメチル、
2−シア/ヘキシルもしくは4−シアノオクチル基であ
る。好ましくは2−シアノエチル基である。
−COOA#にで置換されたアルキル基は、R1゜R1
及びR・の場合には例えば−CHzCOOCtH%。
及びR・の場合には例えば−CHzCOOCtH%。
−CHzCHzCOOCHs、−(CHz)s−COO
CI(s、 もしくは−CH2−CH(C!l11)
−COOC4F(Iである。−CONf(AAkまたは
一〇〇NI(CAAk)、で置換され友アルキル基とし
てのR6は、例えば−CH雪CONHCHg 。
CI(s、 もしくは−CH2−CH(C!l11)
−COOC4F(Iである。−CONf(AAkまたは
一〇〇NI(CAAk)、で置換され友アルキル基とし
てのR6は、例えば−CH雪CONHCHg 。
−CHzCHzCON (CHs ) xもしくは−C
HtCH(C1(3) −CONHC,H,である。
HtCH(C1(3) −CONHC,H,である。
アルケニル基としてのR1、R1、R4、R1及びR6
は例えばアリル、メタリルもしくは2−ブテニル基であ
る。
は例えばアリル、メタリルもしくは2−ブテニル基であ
る。
シクロアルキル基の意味でのR1及びR2はシクロペン
チルもしくはシクロヘキシル基である。
チルもしくはシクロヘキシル基である。
フェニルアルキル基としてのR1、R2、R4及びRm
は例えばベンジル、フエニ9エチルもしくはジメチルベ
ンジル基である。
は例えばベンジル、フエニ9エチルもしくはジメチルベ
ンジル基である。
アリールもしくは置換フェニル基としての人rは、例え
ばフェニル、ナフチル、フエナントリlし、アントラシ
ル、ジフェニリル、クロルフェニル、フロムフェニル、
ジクロルフェニル、メシチル、イングロビルフェニル、
フェノキシフェニル、シアノフェニル、p−7ニルフエ
ニル、ヒドロキシフェニル、トリル、第E7’チルフェ
ニル、キシリル、イングロビルークロルフェニル、メト
キシフェニル、エトキシフェール、フェノキシフェニル
、りoyトリル、ブロムキシリル、メチルチオフェニル
、フェニルチオフェニル、−/fフルルホフェニル、フ
ェニルスルホフェニル、エトキシカルボニルフェニル、
第E7”トキシカルボニルフェニル、メチルアミ/スル
ホフェニnp、シフロヒlレアミノスルホフェニル、ジ
メチルアミノフェニル、ベンゾイルアミノフェニルもし
くはアセテジアミノフェニル基である。
ばフェニル、ナフチル、フエナントリlし、アントラシ
ル、ジフェニリル、クロルフェニル、フロムフェニル、
ジクロルフェニル、メシチル、イングロビルフェニル、
フェノキシフェニル、シアノフェニル、p−7ニルフエ
ニル、ヒドロキシフェニル、トリル、第E7’チルフェ
ニル、キシリル、イングロビルークロルフェニル、メト
キシフェニル、エトキシフェール、フェノキシフェニル
、りoyトリル、ブロムキシリル、メチルチオフェニル
、フェニルチオフェニル、−/fフルルホフェニル、フ
ェニルスルホフェニル、エトキシカルボニルフェニル、
第E7”トキシカルボニルフェニル、メチルアミ/スル
ホフェニnp、シフロヒlレアミノスルホフェニル、ジ
メチルアミノフェニル、ベンゾイルアミノフェニルもし
くはアセテジアミノフェニル基である。
アリール基としてのR9は例えばフェニル、トリル、ナ
フチル、ジフェニルもしくはフエナントリル基である。
フチル、ジフェニルもしくはフエナントリル基である。
R1とR2は一緒になってアルキレン基ま友はオキサ−
もしくはアザアルキノン基であり得る。
もしくはアザアルキノン基であり得る。
これらの場合R1とR2はそ1らが結合している炭素原
子と一緒になってシクロプロノくンー、シクロフタンー
、シクロペンタン−、シクロヘキプンー、シフaへブタ
ン−、テトラヒドロフラン−、テトラヒドロピラン−、
ピロリジン−もしくはピペリジン環を形成する。
子と一緒になってシクロプロノくンー、シクロフタンー
、シクロペンタン−、シクロヘキプンー、シフaへブタ
ン−、テトラヒドロフラン−、テトラヒドロピラン−、
ピロリジン−もしくはピペリジン環を形成する。
1zとRsは一緒になって炭素原子数1ないし9のアル
キレンもしくはフェニルアルキレン基またはオキサ−も
しくはアザアルキレン基を表わす。これらの場合% R
”とRsはR2が結合している炭素原子とHaが結合し
ているN原子と一緒になって3−ないし6−員環、例え
ばアジリジン−、アゼチジン−、ピロリジン−、イミダ
ゾリジン−、ピペラジン−もしくはモルフォリン環を形
成する。
キレンもしくはフェニルアルキレン基またはオキサ−も
しくはアザアルキレン基を表わす。これらの場合% R
”とRsはR2が結合している炭素原子とHaが結合し
ているN原子と一緒になって3−ないし6−員環、例え
ばアジリジン−、アゼチジン−、ピロリジン−、イミダ
ゾリジン−、ピペラジン−もしくはモルフォリン環を形
成する。
R4とR11は一緒になって炭素原子数4ないし5のア
ルキレン基を表わし、これは−〇−もしくは−N R1
4−で中断されてもよい。これらの場合、R4とR5は
これらが結合しているN−原子と一緒になってピロリジ
ン−、ピペリジン−、モルフォI)y−14−フルキル
ピペラジン−14−シアンエチルピペラジンもしくFi
4−フルコキシカルボニルエチルピベラジン環を形成す
る。
ルキレン基を表わし、これは−〇−もしくは−N R1
4−で中断されてもよい。これらの場合、R4とR5は
これらが結合しているN−原子と一緒になってピロリジ
ン−、ピペリジン−、モルフォI)y−14−フルキル
ピペラジン−14−シアンエチルピペラジンもしくFi
4−フルコキシカルボニルエチルピベラジン環を形成す
る。
X 、!:vttは一緒になって一〇−CH(R・)−
1−O−CH(R”)−0−(CH鵞)、−2−または
−〇−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−t−表
わす。
1−O−CH(R”)−0−(CH鵞)、−2−または
−〇−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−t−表
わす。
この場合 R1とXはこれらが結合している炭素原子と
一緒になってオキシラン−、オキセタン−、オキソラン
−、テトラヒドロピラン−11,5−ジオキソラン−も
しくは1,3−ジオキソン環を形成し、該環はアルキル
もしくはアリール基で置換され℃もよい。
一緒になってオキシラン−、オキセタン−、オキソラン
−、テトラヒドロピラン−11,5−ジオキソラン−も
しくは1,3−ジオキソン環を形成し、該環はアルキル
もしくはアリール基で置換され℃もよい。
R3は炭素原子数1ないし6のアルキル基であり Rl
mとR12は炭素原子数2ないし8のアルキレン基であ
る6例えば上記炭素原子の数の範囲内で、メチレン、1
.2−エチレン、1.5−7’ロピレン、1.4−ブチ
ン/、2.2−ジメチル−1゜5−プロピレン、1.6
−ヘキシレン、2−メチル−3−エチル−1,4−ブチ
レンもしくは1.8−オクチレン基である。、R3はま
t炭素原子数2ないし6のオキ丈アルキレン、チアアル
キレン及ヒモノもしくはジオキソチアアルキレン基であ
り、例えば2−オキf−1,5−プロピレン、3−オキ
サ−2,4−ペンチレン、3−オキサ−1,5−ペンチ
レン、−CR2S CR2−*−CI(鵞CH,5OC
H鵞CI(鵞−もしくは−(CH冨)s−5Oz−(C
H! ) s−基である。
mとR12は炭素原子数2ないし8のアルキレン基であ
る6例えば上記炭素原子の数の範囲内で、メチレン、1
.2−エチレン、1.5−7’ロピレン、1.4−ブチ
ン/、2.2−ジメチル−1゜5−プロピレン、1.6
−ヘキシレン、2−メチル−3−エチル−1,4−ブチ
レンもしくは1.8−オクチレン基である。、R3はま
t炭素原子数2ないし6のオキ丈アルキレン、チアアル
キレン及ヒモノもしくはジオキソチアアルキレン基であ
り、例えば2−オキf−1,5−プロピレン、3−オキ
サ−2,4−ペンチレン、3−オキサ−1,5−ペンチ
レン、−CR2S CR2−*−CI(鵞CH,5OC
H鵞CI(鵞−もしくは−(CH冨)s−5Oz−(C
H! ) s−基である。
Arは炭素原子数6ないし12の7リーレン基、例t
tfフェニレン、ナフチレンもしくハシフェニレン基を
表わす。
tfフェニレン、ナフチレンもしくハシフェニレン基を
表わす。
式■で表わされる化合物は、Yが直接結合の場合インダ
ノン、クマラノンもしくはチオクロマノン誘導体を表わ
す、Yが一〇H,−の場合にはテトラロン、クロマノン
もしくはチオクロマノン誘導体が好ましい。
ノン、クマラノンもしくはチオクロマノン誘導体を表わ
す、Yが一〇H,−の場合にはテトラロン、クロマノン
もしくはチオクロマノン誘導体が好ましい。
特に好ましい目的物は、式I又は■中Xが−NR’R’
で表わさnる化合物から成る開始剤である。この化
合物はα−炭素原子にて枝分れしそしてアミノ基で置換
されたアリール−アシキル−ケトン全表わす。
で表わさnる化合物から成る開始剤である。この化
合物はα−炭素原子にて枝分れしそしてアミノ基で置換
されたアリール−アシキル−ケトン全表わす。
更に好ましい目的物は、式!父は■中Xが−0R6で表
わされる化合物から成る目的物である。この化合物はα
−位で枝分nしそしてヒドロキシ−もしくはエーテル基
で置換されたアリール−アルキル−ケトンを表ワス。
わされる化合物から成る目的物である。この化合物はα
−位で枝分nしそしてヒドロキシ−もしくはエーテル基
で置換されたアリール−アルキル−ケトンを表ワス。
更に好ましい目的物は式lまたは■中、Xが−O’3
iR’ (R’)1を表わす化合物から成る開始剤であ
る。これらの化合物はα−位が枝分れしそしてシロキシ
基で置換され友アリールーアルキルーケトン1!″表わ
す。−OS i R’ (Rδ)鵞 の例は例えばトリ
メチルシロキシ、ジメチルフェニルシロキシ、メチルジ
フェニルシロキシもしくハトリフェニルシロキシ基?表
f)f。
iR’ (R’)1を表わす化合物から成る開始剤であ
る。これらの化合物はα−位が枝分れしそしてシロキシ
基で置換され友アリールーアルキルーケトン1!″表わ
す。−OS i R’ (Rδ)鵞 の例は例えばトリ
メチルシロキシ、ジメチルフェニルシロキシ、メチルジ
フェニルシロキシもしくハトリフェニルシロキシ基?表
f)f。
式1. Il、 DIま之は■中、nは1もしくハ
2であり、 Arは、n=1のとき、未置換もしくは1以上の(#、
Br、炭素原子数1ないし12のアルキル、−0AA
k、−Q−フェニル、−COOA#に、 −N(Ark
)、もしくは−NT(COA#k で置換された炭素
原子数6ないし14のアリール基、インダニル基または
テトラヒドロナフチル基金表わし、Arkは炭素原子数
1ないし4の低級アルキル基を表わし、そして nac2のとき、炭素原子数6ないし12のアリーレン
基マたは一フェニレンーT−7エ二しンー基全表わし、 友は一〇−R”O−基を表わし、 Yは直接結合ま友は−CH,−を表わし、2は一〇−,
−cu、−4タは一〇(CHs)t−金表わし、Tは−
0−、−Cl(冨−ま雷は−CH,CH!−@表わし、
R1は式1中n−1でX −−OR” のとき、未置換
もしくは−COOA#kまたは−CNで置換されt炭素
原子数1ないし8のアルキル基、または炭素原子数7な
いし9のフェニルアルキル基を表わし、その他の場合に
は未置換もしくは−OH,−0AAk、 −COOA
#に、 または−CNで置換された炭素原子数1ない
し8のアルキル基または炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基を表わし、 R3はR1で与えられた意味を有し、ま几は炭素原子数
3ないし4のアルケニル基ま友は −C)I暑CHzR” Ts金全表し、またはR1と一
緒になって炭素原子数2ないしるのアルキレン基ま友は
炭素原子数5ないし40オキテもしくはアザアルキレン
基を表わし、 R3は直接結合ま之は炭素原子数1ないし6のアルキレ
ン基を表わし、または両方の置換基R2と、これらの置
換基が接続している両方の炭素原子と一緒にシクロペン
タン−もしくはシクロヘキサン環を形成し、 R4は炭素]a子数1ないし12のアルキル基、−0)
1.−OA#にもしくは−CNで置換され之炭素原子数
2ないし4のアルキル基、tfcは炭素原子数3ないし
5のアルケニル基′I!−表わし、R1は炭素原子数1
ないし12のアルキル基、−01(、−OA#にもしく
は−CN でlit換された炭素原子数2ないし4の
アルキル基、または炭素原子数5ない1−5のアルケニ
ル基を表わし、またはR4と一緒になって炭素原子数4
ないし5のアルキレン基金表わし、これは−〇−もしく
は−NR14−で中断されてもよく、R’Vi水素原子
、炭素原子数1ないし12のアルキル基、CA Br、
OH,OA#に、 −COOA#k もしくは−CN
で置換さnた炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素
原子数5ないし5のアルケニル基、ベンジル基、フェニ
ル基、モしくはR1と一緒になって炭素原子数5ないし
4のアルキレン基または−CI(暑−0−C)I冨−會
表わし、 R11lは炭素原子数1ないし8のアルキル基金衣わ踵 R11は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、R1雪
は炭素原子数1ないし8のアルキレン基、炭素原子数4
ないし6のオキサアルキレン基ま友はキシリレン基を表
わし・ Htsは−CONHz 、 −CONHA#に、 −C
ON(Ark )、。
2であり、 Arは、n=1のとき、未置換もしくは1以上の(#、
Br、炭素原子数1ないし12のアルキル、−0AA
k、−Q−フェニル、−COOA#に、 −N(Ark
)、もしくは−NT(COA#k で置換された炭素
原子数6ないし14のアリール基、インダニル基または
テトラヒドロナフチル基金表わし、Arkは炭素原子数
1ないし4の低級アルキル基を表わし、そして nac2のとき、炭素原子数6ないし12のアリーレン
基マたは一フェニレンーT−7エ二しンー基全表わし、 友は一〇−R”O−基を表わし、 Yは直接結合ま友は−CH,−を表わし、2は一〇−,
−cu、−4タは一〇(CHs)t−金表わし、Tは−
0−、−Cl(冨−ま雷は−CH,CH!−@表わし、
R1は式1中n−1でX −−OR” のとき、未置換
もしくは−COOA#kまたは−CNで置換されt炭素
原子数1ないし8のアルキル基、または炭素原子数7な
いし9のフェニルアルキル基を表わし、その他の場合に
は未置換もしくは−OH,−0AAk、 −COOA
#に、 または−CNで置換された炭素原子数1ない
し8のアルキル基または炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基を表わし、 R3はR1で与えられた意味を有し、ま几は炭素原子数
3ないし4のアルケニル基ま友は −C)I暑CHzR” Ts金全表し、またはR1と一
緒になって炭素原子数2ないしるのアルキレン基ま友は
炭素原子数5ないし40オキテもしくはアザアルキレン
基を表わし、 R3は直接結合ま之は炭素原子数1ないし6のアルキレ
ン基を表わし、または両方の置換基R2と、これらの置
換基が接続している両方の炭素原子と一緒にシクロペン
タン−もしくはシクロヘキサン環を形成し、 R4は炭素]a子数1ないし12のアルキル基、−0)
1.−OA#にもしくは−CNで置換され之炭素原子数
2ないし4のアルキル基、tfcは炭素原子数3ないし
5のアルケニル基′I!−表わし、R1は炭素原子数1
ないし12のアルキル基、−01(、−OA#にもしく
は−CN でlit換された炭素原子数2ないし4の
アルキル基、または炭素原子数5ない1−5のアルケニ
ル基を表わし、またはR4と一緒になって炭素原子数4
ないし5のアルキレン基金表わし、これは−〇−もしく
は−NR14−で中断されてもよく、R’Vi水素原子
、炭素原子数1ないし12のアルキル基、CA Br、
OH,OA#に、 −COOA#k もしくは−CN
で置換さnた炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素
原子数5ないし5のアルケニル基、ベンジル基、フェニ
ル基、モしくはR1と一緒になって炭素原子数5ないし
4のアルキレン基または−CI(暑−0−C)I冨−會
表わし、 R11lは炭素原子数1ないし8のアルキル基金衣わ踵 R11は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、R1雪
は炭素原子数1ないし8のアルキレン基、炭素原子数4
ないし6のオキサアルキレン基ま友はキシリレン基を表
わし・ Htsは−CONHz 、 −CONHA#に、 −C
ON(Ark )、。
−p(o) (o人”)z 、または2−ピリ・2ル基
を表わし、 RI4は炭素原子数1ないし4のアルキル基、−CH鵞
C)I、CNもしくは−CM鵞CH,C00AAk
を表わす化合物からなる開始剤である。
を表わし、 RI4は炭素原子数1ないし4のアルキル基、−CH鵞
C)I、CNもしくは−CM鵞CH,C00AAk
を表わす化合物からなる開始剤である。
これらの化合物において特に式I中nが1であり、Xが
OHであり、R1とR2が一緒になって炭素原子数2な
いし5のアルキレン基金表わす化合物が好ましい。
OHであり、R1とR2が一緒になって炭素原子数2な
いし5のアルキレン基金表わす化合物が好ましい。
特に好ましくは式!、■ま友はm中、n=1もしくは2
であり、人rはnxlのとき未置換もしくはハロゲン、
炭素原子数1ないし12のアルキル基または一0AAk
で置換され几炭素原子数6ないし14のアリール基、イ
ンダニル基もしくはテトラヒドロナフチル基を表わし、
A#には炭素原子数1ないし4の低級アルキル基を表わ
し、セしてnm2のとき炭素原子数6ないし12(2)
71J−Vン基マたは−フエニレンーT−フエRI2−
〇−を表わし、Tは一〇−,−CN冨−もしくは−CH
,CH,−を表わし、R1は炭素原子数1ないし8のア
ルキル基を表わし、Rzは炭素原子数1ないし8のアル
キル基または炭素原子数5ないし4のアルケニル基を表
わし Hgは直接結合ま念は炭素原子数1ないし6のア
ルキレン基金表わし R4は炭素原子数1ないし12の
アルキル基を表わし、R1は炭素原子数1ないし12の
アルキル基またはR4と一緒になって炭素原子数4ない
し5のアルキレン基金表わし、これは−〇−もしくは−
NR”−で中断されていてもよく、R6は水素原子、炭
素原子数1ないし12のアルキル基、−OH,−0AA
k、−COOAJk もしくは−CNで置換されt炭
素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数3ないし
5のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基またはRt
と一緒になって一〇H,−0−CH,−を表わし、R1
1は炭素原子数2ないし8のアルキレン基を表わし、セ
してR14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す化合物から成る開始剤である。
であり、人rはnxlのとき未置換もしくはハロゲン、
炭素原子数1ないし12のアルキル基または一0AAk
で置換され几炭素原子数6ないし14のアリール基、イ
ンダニル基もしくはテトラヒドロナフチル基を表わし、
A#には炭素原子数1ないし4の低級アルキル基を表わ
し、セしてnm2のとき炭素原子数6ないし12(2)
71J−Vン基マたは−フエニレンーT−フエRI2−
〇−を表わし、Tは一〇−,−CN冨−もしくは−CH
,CH,−を表わし、R1は炭素原子数1ないし8のア
ルキル基を表わし、Rzは炭素原子数1ないし8のアル
キル基または炭素原子数5ないし4のアルケニル基を表
わし Hgは直接結合ま念は炭素原子数1ないし6のア
ルキレン基金表わし R4は炭素原子数1ないし12の
アルキル基を表わし、R1は炭素原子数1ないし12の
アルキル基またはR4と一緒になって炭素原子数4ない
し5のアルキレン基金表わし、これは−〇−もしくは−
NR”−で中断されていてもよく、R6は水素原子、炭
素原子数1ないし12のアルキル基、−OH,−0AA
k、−COOAJk もしくは−CNで置換されt炭
素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数3ないし
5のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基またはRt
と一緒になって一〇H,−0−CH,−を表わし、R1
1は炭素原子数2ないし8のアルキレン基を表わし、セ
してR14は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す化合物から成る開始剤である。
これらの化合物において、式!もしくは■中xIIi炭
素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数1な
いし6のとドロキシもしくはアルコキシアルコキー/i
、−0CI(、CH,CN。
素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数1な
いし6のとドロキシもしくはアルコキシアルコキー/i
、−0CI(、CH,CN。
−OCH鵞CHzCOOA#k 、ベンジルオキシ基、
ま九はフェニルオキシ基金表わすか、またはR1と一緒
になって一〇−CH,−0−を表わす化合物、式I。
ま九はフェニルオキシ基金表わすか、またはR1と一緒
になって一〇−CH,−0−を表わす化合物、式I。
■もしく 17 [1中Arがp−フェノキシフェニル
基、または2または5個OCA、Br%炭素原子数1な
いし12のアルキル、もしくは炭素原子a1ないし4の
アルコキシ基で置換されたフェニル基、またはテトラヒ
ドロナフタリン基である。、区に式中R1及び/またt
iR”が炭素原子数5ないし8のアルキル基である化合
物が好ましい。
基、または2または5個OCA、Br%炭素原子数1な
いし12のアルキル、もしくは炭素原子a1ないし4の
アルコキシ基で置換されたフェニル基、またはテトラヒ
ドロナフタリン基である。、区に式中R1及び/またt
iR”が炭素原子数5ないし8のアルキル基である化合
物が好ましい。
式!(式中n−1)で表わされる使用化合物は以下のも
のである: 2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−エチル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−プチルーズロビオフエノン 2−メトキシ−2−メチル−プロピオフェノ2−ヒドロ
キシ−2−メチル−(1)−クロログロピオフエノン)
〔本発明化合物〕 2−ヒドロキシ−2−メチル−(44−ジクロログロピ
オフエ7)) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−メトキシプロピオ
フェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(2,4−ジメトキシプ
ロピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(1)−フェノキシプロ
ピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(9−アセチルアミノプ
ロピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−1)−メチルプロピオフ
ェノン) 2−メトキシ−2−メチル−(0−メチルプロピオフェ
ノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(m−メチルプロピオフ
ェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(2,4−ジメチルグロ
ビオフエノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(へ4−ジメチルグロピ
オフエ/ン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(9−メチルプロピオフ
ェノン) 2−ヒドロキク−2−メチル−(p−第三メチルプロピ
オフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−イングロビルプロ
ビオフエノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−オクチルメロビオ
フェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−ラウリルプロピオ
フェノン) 2−メトキシ−2−メチル−(0−りaロプロビオフエ
ノン) 2−メトキシ−2−メチル−(0−メチルプロピオフェ
ノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル=(p−メチルチオ−プロ
ピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−ジメチルアミノプ
ロピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−1)−カルボエトキシ−
プロピオフェノン) 2−フェノキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−メチルチオメトキシ−2−メチル−プロピオフェノ
ン 2−アリルオキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ベンジルオキシ−2−メチル−プロビオフェノン 2−(2−メトキシカルボニルエトキシ)−2−メチル
−プロピオフェノン 2−(2−シアノエトキシ)−2−メチル−プロピオフ
ェノン 2−エトキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−メトキシエトキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−プロビオフェノ
ン 2−ヒドロキシエトキシ−2−メチルプロピオフェノン 2−アセトキシメトキシ−2−メチル−プロピオフェノ
ン 2−ベンジルオキシメト印シー2−メチル−プロピオフ
ェノン 2−(o−ヒドロキシフェノキシ)−2−メチル−プロ
ピオフェノン 3−ベンゾイル−3−ヒドロキシ−へブタン3−ベンゾ
イル−3−ヒドロキシ−へブタン2−(2−カルボエト
キシ)−2−メチル−プロピオフェノン 2−メfルー2−ピペリジノー3−フェニル−3−ヒド
ロキシ−プロピオフェノン 2−メチル−2−モルフオリノー5−フェニルー3−ヒ
ドロキシープロビオフエ/ン2−メチル−2−ジメチル
アミノ−3−7二二ルー5−ヒドロキク−プロピオフェ
ノン α−ヒドロキシ−α、α−ビスー(シアノエチル)−ア
セトフェノン r−ヒドロキシ−r−ベンゾイルピメリン醒−ジエチル
エステル 2−ヒトaキシ−2−メチル−3−フェニル−5−ジメ
チルアミノプロピオフェノン2−1>−(2−ヒドロキ
シエチル)−アミノ−2−メチル−3−フェニル−プロ
ピオフェノン 2−メチル−2,5−ジピペリジノー3−フェニループ
ロピオフェノン 2.3−ビス−(ジメチルアミノ)−3−フェニル−プ
ロピオフェノン −2−ヒドロキシ−2,3−ジメチル−3−フェニル−
3−ジメチルアミノ−プロピオフェノン 2−ジメチルアミノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ジエチルアミノ−2−メチループロビオフエノン 2−ジブチルアミノ−2−メチループロピオフエ7ノ 2−ジ−ヒドロキシエチルアミノ−2−メチル−プロピ
オフェノン 2−ピペリジノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−(2−メチルピペリジノ)−2−メチル−プロピオ
フェノン 2−モルフォリノ−2−メチループロピオフエ7ノ 2−ピペリジノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−(4−メチルピペリジノ)−2−メチル−プロピオ
フェノン 2−(4−カルボエトキシエチルピペリジノ)−2−メ
チルプロピオフェノン 2−ピロリジノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−メチルフェニルアミノ−2−メチループ、 ロビ
オフエノ/ 1−ペンソイル−シクロヘキサノール 1−ベンゾイル−シクロペンタノール 1−ペンゾイルーシクログロパノール 3−p−メトキシベンゾイル−3−ジメチルアミノヘプ
タン 6−(2−ヒドロキシインブチリル)−テトラリン 5−(2−ヒドロキシインブチリル)−インダン 6−(2−ジメチルアミノ−イソブチリル)−テトラリ
ン 6−(2−モルフォリノ−イソブチリル)−テトラリン 6−(2−ピペリジノ−インブチリル)−テトラリ/ 6−(2−ピペラジノーインブチリル)−テト ラ
リ ン 2−(2−メトキシベンゾイル)−2−ジアリルアミノ
プロパン 2−(2−テノイル)−2−ピペリジノプロパン 2−(2−ナフトイル)−2−アセトキシブタン 2−p−フェニルベンゾイル−2−ジー(2−ヒドロキ
シエチル)−アミツブaパン1−メチル−2−〇−クロ
ルベンシイルーピペリジン 1−ベンジル−2−ベンゾイル−5−フェニルアジリジ
ン 1−シクロへキシル−2−ペンソイル−5−フェニルア
ジリジン 2−0−)シイルー2−(トリメチルシロキシ)−プロ
パン 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−イソプロビルプロ
ピオフェノン) 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−プロピオフェノ
ン 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−(2゜5−ジメ
チルプロピオフェノン) 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−(p−イソプロ
ビルプロビオフェノン) 5−メチル−5−ベンゾイル−1,3−ジオキソラン 2.5−ジメチル−5−ベンゾイル−1,3−ジオキソ
ラン 2−フェニル−5−メチル−5−ペンソイル−1,5−
ジオキソラン 5−メチル−5−(p−イソプロピルベンゾイル) −
1,3−ジオキソラン 2.3−エポキシ−2−メチル−5−フェニル−プロピ
オフェノン 2−アセトキシメトキシ−2−プロピオフェノン 2−ベンゾイルオキ7メトキシー2−メチル−プロピオ
フェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−3−ジメチルアミノ−プ
ロピオフェノン 2−メトキシ−2−メチル−3−ジメチルアミノ−プロ
ピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−5−モルフォリノープa
ビオフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−N、N−ジエチルカ
ルパモイループチロフエ/ン2−モルフォリノ−2−メ
チル−4−N、N−ジエチルカルバモイル−ブチロフェ
ノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−(2−ピリジルコ−
ブチロフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−ジエチルホスホノ−
ブチロフェノン 2−ヒドロキシ−2−ベンジル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−(p−メチルベンジル)−プロピ
オフェノン 2−ヒドロキシ−2−シクロへキシル−プロピオフェノ
/ 2−ヒトaキシ−2−シクロペンチルーグロピオフエノ
ン 2−(2−1?、 )’ロキシエチル)−2−メチル−
プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−アリル−プロビオフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−(2−オキソ−1−
ピロリジニル)−ブチロフェノン 式!中n+s+2Q表わす化合物の例は以下のものであ
る: 4.4′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−
ジフェニルオキシド 44′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−ジ
フェニル 44′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−ジ
フェニルスルフィド 4.4′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−
ジフェニルメタン 4.41−ビス−(α−ピペリジノーインプチリル)−
ジフェニルオキシド 44′−ビス−〔α−(インプロピルアミノ)−イソプ
チリル〕−ジフェニル 4.4’−ヒス−(α−ベンゾイルオキシ−イソブチリ
ル)−ジフェニルオキシド 4.4′−ビス−(α−ヒドロキシ−イソブチリル)−
ジフェニルエタン 式■で表わされる化合物の例は以下のものである: 1.4−ジフェニル−2,3−ジメチル−2,3−ジヒ
ドaキシ−ブタンジオン−1,4 2,4−ジベンゾイル−2,4−ジヒドロキシ−ペンタ
ン 2.9−ジベンゾイル−2,9−ジメチル−へ8−ジオ
キサデカン 2.7−ジベンゾイル−2,フーシメチルー46−シオ
キサオクタン 1.6−ジフェニル−2,5−ジメチル−2,5−ジヒ
ドロキシ−ヘキサンジオン−1161,4−ジフェニル
−2,5−ジメチル−λ3−ビスー(ジメチルアミノ)
−ブタンジオン−1,4 1,4−ジフェニル−2,5−ジメチル−2,3−ジフ
ェニルエタン−1,4 1,2−ヒス−ヒドロキシ−1,2−ビス−ベンゾイル
−7りロヘキ丈ン 1.2−ビス−ジメチルアミノ−t2−ビス−ベンソイ
ル−シクロヘキサン 1.2−ビス−モル7オリノー1.2−ビス−ベンゾイ
ル−シクロヘキサン ビス−(3−ヒドロキシ−3−ペンソイルブチル)−ス
ルホン 弐■で表わされる化合物の例は以下のものである: 1.4−ビス−(1−ベンゾイル−インプロピル)−ピ
ペラジン 2.7−ジベンゾイル−2,フーシメチルー46−シオ
キサオクタン 2.9−ジベンゾイル−2,9−ジメチル−へ8−ジオ
キサデカン 2.6−ジペンゾイル−2,6−シメチルーへ5−ジオ
キサヘプタン N、N−ビス−(α−ペンゾイルーイングロビル)−ブ
チルアミン N、N’−ジメチル−N、N’−ビス−(α−ベンゾイ
ル−インプロピル)−エチレンジアミン 式■で表わされる化合物の例は以下のものである: 1−オキソ−2−ジメチルアミノ−2−メチル−1,2
,3,4−テトラヒドロナフタリン1−オキソ−2−ヒ
ドロキク−2−メチル−1、2,44−テトラヒドロナ
フタリン1−オキソ−2−ヒドロキク−2−メチリンダ
ン 式1.n、III及び■で表わされる化合物は一部公知
であ)、一部は新規化合物である。
のである: 2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−エチル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−プチルーズロビオフエノン 2−メトキシ−2−メチル−プロピオフェノ2−ヒドロ
キシ−2−メチル−(1)−クロログロピオフエノン)
〔本発明化合物〕 2−ヒドロキシ−2−メチル−(44−ジクロログロピ
オフエ7)) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−メトキシプロピオ
フェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(2,4−ジメトキシプ
ロピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(1)−フェノキシプロ
ピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(9−アセチルアミノプ
ロピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−1)−メチルプロピオフ
ェノン) 2−メトキシ−2−メチル−(0−メチルプロピオフェ
ノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(m−メチルプロピオフ
ェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(2,4−ジメチルグロ
ビオフエノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(へ4−ジメチルグロピ
オフエ/ン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(9−メチルプロピオフ
ェノン) 2−ヒドロキク−2−メチル−(p−第三メチルプロピ
オフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−イングロビルプロ
ビオフエノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−オクチルメロビオ
フェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−ラウリルプロピオ
フェノン) 2−メトキシ−2−メチル−(0−りaロプロビオフエ
ノン) 2−メトキシ−2−メチル−(0−メチルプロピオフェ
ノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル=(p−メチルチオ−プロ
ピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−ジメチルアミノプ
ロピオフェノン) 2−ヒドロキシ−2−メチル−1)−カルボエトキシ−
プロピオフェノン) 2−フェノキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−メチルチオメトキシ−2−メチル−プロピオフェノ
ン 2−アリルオキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ベンジルオキシ−2−メチル−プロビオフェノン 2−(2−メトキシカルボニルエトキシ)−2−メチル
−プロピオフェノン 2−(2−シアノエトキシ)−2−メチル−プロピオフ
ェノン 2−エトキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−メトキシエトキシ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−プロビオフェノ
ン 2−ヒドロキシエトキシ−2−メチルプロピオフェノン 2−アセトキシメトキシ−2−メチル−プロピオフェノ
ン 2−ベンジルオキシメト印シー2−メチル−プロピオフ
ェノン 2−(o−ヒドロキシフェノキシ)−2−メチル−プロ
ピオフェノン 3−ベンゾイル−3−ヒドロキシ−へブタン3−ベンゾ
イル−3−ヒドロキシ−へブタン2−(2−カルボエト
キシ)−2−メチル−プロピオフェノン 2−メfルー2−ピペリジノー3−フェニル−3−ヒド
ロキシ−プロピオフェノン 2−メチル−2−モルフオリノー5−フェニルー3−ヒ
ドロキシープロビオフエ/ン2−メチル−2−ジメチル
アミノ−3−7二二ルー5−ヒドロキク−プロピオフェ
ノン α−ヒドロキシ−α、α−ビスー(シアノエチル)−ア
セトフェノン r−ヒドロキシ−r−ベンゾイルピメリン醒−ジエチル
エステル 2−ヒトaキシ−2−メチル−3−フェニル−5−ジメ
チルアミノプロピオフェノン2−1>−(2−ヒドロキ
シエチル)−アミノ−2−メチル−3−フェニル−プロ
ピオフェノン 2−メチル−2,5−ジピペリジノー3−フェニループ
ロピオフェノン 2.3−ビス−(ジメチルアミノ)−3−フェニル−プ
ロピオフェノン −2−ヒドロキシ−2,3−ジメチル−3−フェニル−
3−ジメチルアミノ−プロピオフェノン 2−ジメチルアミノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−ジエチルアミノ−2−メチループロビオフエノン 2−ジブチルアミノ−2−メチループロピオフエ7ノ 2−ジ−ヒドロキシエチルアミノ−2−メチル−プロピ
オフェノン 2−ピペリジノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−(2−メチルピペリジノ)−2−メチル−プロピオ
フェノン 2−モルフォリノ−2−メチループロピオフエ7ノ 2−ピペリジノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−(4−メチルピペリジノ)−2−メチル−プロピオ
フェノン 2−(4−カルボエトキシエチルピペリジノ)−2−メ
チルプロピオフェノン 2−ピロリジノ−2−メチル−プロピオフェノン 2−メチルフェニルアミノ−2−メチループ、 ロビ
オフエノ/ 1−ペンソイル−シクロヘキサノール 1−ベンゾイル−シクロペンタノール 1−ペンゾイルーシクログロパノール 3−p−メトキシベンゾイル−3−ジメチルアミノヘプ
タン 6−(2−ヒドロキシインブチリル)−テトラリン 5−(2−ヒドロキシインブチリル)−インダン 6−(2−ジメチルアミノ−イソブチリル)−テトラリ
ン 6−(2−モルフォリノ−イソブチリル)−テトラリン 6−(2−ピペリジノ−インブチリル)−テトラリ/ 6−(2−ピペラジノーインブチリル)−テト ラ
リ ン 2−(2−メトキシベンゾイル)−2−ジアリルアミノ
プロパン 2−(2−テノイル)−2−ピペリジノプロパン 2−(2−ナフトイル)−2−アセトキシブタン 2−p−フェニルベンゾイル−2−ジー(2−ヒドロキ
シエチル)−アミツブaパン1−メチル−2−〇−クロ
ルベンシイルーピペリジン 1−ベンジル−2−ベンゾイル−5−フェニルアジリジ
ン 1−シクロへキシル−2−ペンソイル−5−フェニルア
ジリジン 2−0−)シイルー2−(トリメチルシロキシ)−プロ
パン 2−ヒドロキシ−2−メチル−(p−イソプロビルプロ
ピオフェノン) 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−プロピオフェノ
ン 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−(2゜5−ジメ
チルプロピオフェノン) 2−ヒドロキシメトキシ−2−メチル−(p−イソプロ
ビルプロビオフェノン) 5−メチル−5−ベンゾイル−1,3−ジオキソラン 2.5−ジメチル−5−ベンゾイル−1,3−ジオキソ
ラン 2−フェニル−5−メチル−5−ペンソイル−1,5−
ジオキソラン 5−メチル−5−(p−イソプロピルベンゾイル) −
1,3−ジオキソラン 2.3−エポキシ−2−メチル−5−フェニル−プロピ
オフェノン 2−アセトキシメトキシ−2−プロピオフェノン 2−ベンゾイルオキ7メトキシー2−メチル−プロピオ
フェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−3−ジメチルアミノ−プ
ロピオフェノン 2−メトキシ−2−メチル−3−ジメチルアミノ−プロ
ピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−5−モルフォリノープa
ビオフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−N、N−ジエチルカ
ルパモイループチロフエ/ン2−モルフォリノ−2−メ
チル−4−N、N−ジエチルカルバモイル−ブチロフェ
ノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−(2−ピリジルコ−
ブチロフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−ジエチルホスホノ−
ブチロフェノン 2−ヒドロキシ−2−ベンジル−プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−(p−メチルベンジル)−プロピ
オフェノン 2−ヒドロキシ−2−シクロへキシル−プロピオフェノ
/ 2−ヒトaキシ−2−シクロペンチルーグロピオフエノ
ン 2−(2−1?、 )’ロキシエチル)−2−メチル−
プロピオフェノン 2−ヒドロキシ−2−アリル−プロビオフェノン 2−ヒドロキシ−2−メチル−4−(2−オキソ−1−
ピロリジニル)−ブチロフェノン 式!中n+s+2Q表わす化合物の例は以下のものであ
る: 4.4′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−
ジフェニルオキシド 44′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−ジ
フェニル 44′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−ジ
フェニルスルフィド 4.4′−ビス−(α−ヒドロキシ−インブチリル)−
ジフェニルメタン 4.41−ビス−(α−ピペリジノーインプチリル)−
ジフェニルオキシド 44′−ビス−〔α−(インプロピルアミノ)−イソプ
チリル〕−ジフェニル 4.4’−ヒス−(α−ベンゾイルオキシ−イソブチリ
ル)−ジフェニルオキシド 4.4′−ビス−(α−ヒドロキシ−イソブチリル)−
ジフェニルエタン 式■で表わされる化合物の例は以下のものである: 1.4−ジフェニル−2,3−ジメチル−2,3−ジヒ
ドaキシ−ブタンジオン−1,4 2,4−ジベンゾイル−2,4−ジヒドロキシ−ペンタ
ン 2.9−ジベンゾイル−2,9−ジメチル−へ8−ジオ
キサデカン 2.7−ジベンゾイル−2,フーシメチルー46−シオ
キサオクタン 1.6−ジフェニル−2,5−ジメチル−2,5−ジヒ
ドロキシ−ヘキサンジオン−1161,4−ジフェニル
−2,5−ジメチル−λ3−ビスー(ジメチルアミノ)
−ブタンジオン−1,4 1,4−ジフェニル−2,5−ジメチル−2,3−ジフ
ェニルエタン−1,4 1,2−ヒス−ヒドロキシ−1,2−ビス−ベンゾイル
−7りロヘキ丈ン 1.2−ビス−ジメチルアミノ−t2−ビス−ベンソイ
ル−シクロヘキサン 1.2−ビス−モル7オリノー1.2−ビス−ベンゾイ
ル−シクロヘキサン ビス−(3−ヒドロキシ−3−ペンソイルブチル)−ス
ルホン 弐■で表わされる化合物の例は以下のものである: 1.4−ビス−(1−ベンゾイル−インプロピル)−ピ
ペラジン 2.7−ジベンゾイル−2,フーシメチルー46−シオ
キサオクタン 2.9−ジベンゾイル−2,9−ジメチル−へ8−ジオ
キサデカン 2.6−ジペンゾイル−2,6−シメチルーへ5−ジオ
キサヘプタン N、N−ビス−(α−ペンゾイルーイングロビル)−ブ
チルアミン N、N’−ジメチル−N、N’−ビス−(α−ベンゾイ
ル−インプロピル)−エチレンジアミン 式■で表わされる化合物の例は以下のものである: 1−オキソ−2−ジメチルアミノ−2−メチル−1,2
,3,4−テトラヒドロナフタリン1−オキソ−2−ヒ
ドロキク−2−メチル−1、2,44−テトラヒドロナ
フタリン1−オキソ−2−ヒドロキク−2−メチリンダ
ン 式1.n、III及び■で表わされる化合物は一部公知
であ)、一部は新規化合物である。
式1中、n−1で、Arがフェニル基、メチルもしくは
メトキシ基で4換されたフェニル基またはフリル基であ
り、R1とR1はメチル基でありもしくFiRlとR1
が一緒になってアルキレン基金表わし、セしてXは水酸
基、メトキシ基もしくはニトロフェノキシ基である化合
物は公知である。
メトキシ基で4換されたフェニル基またはフリル基であ
り、R1とR1はメチル基でありもしくFiRlとR1
が一緒になってアルキレン基金表わし、セしてXは水酸
基、メトキシ基もしくはニトロフェノキシ基である化合
物は公知である。
式!中、n−1であり、Arはフェニル基、クロルフェ
ニル基ま念はジフェニル基でアロ 、R1とR1はメチ
ル基またはモルホリノメチル基でありもしくはR1とR
2が一緒になってアルキレン基を表わしセしてXは−N
R’R・であり、その際R6とR6はアルキル基もしく
はベンジル基であり、またはR1とR6が一緒になって
アルキレンもしくはオキ丈アルキレン基を表わす化合物
は公知である。
ニル基ま念はジフェニル基でアロ 、R1とR1はメチ
ル基またはモルホリノメチル基でありもしくはR1とR
2が一緒になってアルキレン基を表わしセしてXは−N
R’R・であり、その際R6とR6はアルキル基もしく
はベンジル基であり、またはR1とR6が一緒になって
アルキレンもしくはオキ丈アルキレン基を表わす化合物
は公知である。
更に式■中、Arがフェニル基であり、R1がメチル基
であり、Xが水酸基であり、セしてR1が直接結合であ
る化合物が公知である。
であり、Xが水酸基であり、セしてR1が直接結合であ
る化合物が公知である。
公知化合物は従来光重合開始剤として知られていなかっ
た。
た。
式!ないし式■のうちの新規化合物は公知化合物と類似
の方法で製造され、これに関して種々の方法が重要でち
る。
の方法で製造され、これに関して種々の方法が重要でち
る。
式■で表わされる化合物は芳香−脂肪族ケトンから以下
の反応工程によって製造され得る:その際HXとしては
アミンが用いられる〔シーエル、ステイーブンス(C,
L、 5tevens)、チエ。
の反応工程によって製造され得る:その際HXとしては
アミンが用いられる〔シーエル、ステイーブンス(C,
L、 5tevens)、チエ。
ハン・チ’r y (Ch、 Hung Chang)
、 J、 Org、 (hem。
、 J、 Org、 (hem。
27(1962)、 4392”l かまたは水が用い
られる〔シー、エル、ステイーブンス、イー7アーカス
(E、 Farkas)、 J、 Am、 (hem、
5oc、 74(1952)。
られる〔シー、エル、ステイーブンス、イー7アーカス
(E、 Farkas)、 J、 Am、 (hem、
5oc、 74(1952)。
618及びシー、エル、ステイーブンス、ニス。
ジュー。デイクストラ(S−J、 Dykstra)、
J。
J。
Am、 Chem、 Soc、 75(1953)、
5976 )。
5976 )。
多くの場合には、例えばアミン、アルカリ水酸化物まt
はアルカリフェノキシトをα−ブロムケトンに直接反応
式せて式■で表わされる化合物にすることもできる。
はアルカリフェノキシトをα−ブロムケトンに直接反応
式せて式■で表わされる化合物にすることもできる。
ブロム化合物に代えてま几相当するクロル化合物を用い
ることも可能である。
ることも可能である。
得られた式!で表わされるヒドロキシケトン(X−OH
)は通常の方法によジエーテル化もしくは0−シリル化
される。
)は通常の方法によジエーテル化もしくは0−シリル化
される。
上記記載の反応において一官能価化合物)IXの代わり
に二官能価化合物H−X’−HQ用いれば、弐■で表わ
される化合物が得られる。
に二官能価化合物H−X’−HQ用いれば、弐■で表わ
される化合物が得られる。
式■で表わされる化合物は、次式:
Ar−Co−CHR” CH−Co−Arで表わされ
るジケトンを出発物質として用いることにより式Iと同
様な方法で製造され・る。同様に相当する方法で出発物
質として次式:で茂わされる環状ケトンから式Vで表わ
される化合物が得られる。
るジケトンを出発物質として用いることにより式Iと同
様な方法で製造され・る。同様に相当する方法で出発物
質として次式:で茂わされる環状ケトンから式Vで表わ
される化合物が得られる。
式I中R重が置換され九アルキル基である化合物は、次
式: Ar(−Co−CH(R”)−X)(1で表わさ
れる化合物にアルデヒド(R1、−ヒドロキシアルキル
基)t−反応させることにより得、または付加性ビニル
化合物例えばアクリル酸エステルもしくはアクリミニト
リルを反応させることにより得られる。同一の方法にお
いてR1とじて−CH,CH,−R13を導入すること
ができるがその際Ar+C0−CH(R’ )−X ]
nから出発する。R1及びR2の両方が置換され次ア
ルキル基である場合、両方の置換基はAr(−Co−C
H鵞−X)1mで表わされる化合物に少なくとも2モル
のアルデヒドもしくはビニル化合物を反応させることに
より同時に得られる。ヒドロキシアルキル基R1及び/
またはR”t−エーテル化もしくはエステル化すること
により相当するアルコキシアルキル−及びアシルオキシ
アルキル基が得られる。同様にR1もしくはR1とじて
置換され次アルキル基金有する式■。
式: Ar(−Co−CH(R”)−X)(1で表わさ
れる化合物にアルデヒド(R1、−ヒドロキシアルキル
基)t−反応させることにより得、または付加性ビニル
化合物例えばアクリル酸エステルもしくはアクリミニト
リルを反応させることにより得られる。同一の方法にお
いてR1とじて−CH,CH,−R13を導入すること
ができるがその際Ar+C0−CH(R’ )−X ]
nから出発する。R1及びR2の両方が置換され次ア
ルキル基である場合、両方の置換基はAr(−Co−C
H鵞−X)1mで表わされる化合物に少なくとも2モル
のアルデヒドもしくはビニル化合物を反応させることに
より同時に得られる。ヒドロキシアルキル基R1及び/
またはR”t−エーテル化もしくはエステル化すること
により相当するアルコキシアルキル−及びアシルオキシ
アルキル基が得られる。同様にR1もしくはR1とじて
置換され次アルキル基金有する式■。
■及び■の化合物が製造される。
XがR1と一緒になって一〇−CT((Rリ−を表わす
化合物はα−オキシドケトンを表わし、そしてエポキシ
化により相当するα−ビニルケトンを製造する。オキク
ドケトンt−第ニアミンと反応させることにより、式中
X−OHでありR1がアミノアルキル基である化合物ま
たは式中X−NR’R5でありRIがヒドロキシアルキ
ル基である化合物を得ることができる。
化合物はα−オキシドケトンを表わし、そしてエポキシ
化により相当するα−ビニルケトンを製造する。オキク
ドケトンt−第ニアミンと反応させることにより、式中
X−OHでありR1がアミノアルキル基である化合物ま
たは式中X−NR’R5でありRIがヒドロキシアルキ
ル基である化合物を得ることができる。
α−ビニルケトンにブロムを付加させるとα。
β−ジブロムケトンλr (−Co−CBr (R’
) −CBrxAk ’) nが得られる。
) −CBrxAk ’) nが得られる。
ジブロムケトンに第一アミン1モルを反応させることに
より相当するα−アジリジノケトンが得られCJ、 A
m、 Chem、 SOC,65(1943)。
より相当するα−アジリジノケトンが得られCJ、 A
m、 Chem、 SOC,65(1943)。
512〕、第二アミン2モル全反応させることにより式
I中X−NR’R’であり、R匂tアミノアルキル基で
ある化合物が得られる( J −Am、 Chem。
I中X−NR’R’であり、R匂tアミノアルキル基で
ある化合物が得られる( J −Am、 Chem。
Soc、 74(1952)、 1886]。
R1及び/またFiR”としてのアミノアルキル基はま
たいわゆるマンニッヒ反応によって得られ、その際式:
Ar(−Co−CHR” −X ) 、、またはAt
+Co−CシーX〕、で表わされるケトンに1ま九は2
モルのホルムアルデヒド及び第二アミンを反応させる。
たいわゆるマンニッヒ反応によって得られ、その際式:
Ar(−Co−CHR” −X ) 、、またはAt
+Co−CシーX〕、で表わされるケトンに1ま九は2
モルのホルムアルデヒド及び第二アミンを反応させる。
上記に挙げた全ての合成方法力り4なった方法で置換基
Xを導入する芳香−脂肪族ケトンから出発するのに際し
、ある場合には下記反応式で示すようにフリーデル−ク
ラフッによるケトン合成の間に予め置換基x6導入する
こともできる。
Xを導入する芳香−脂肪族ケトンから出発するのに際し
、ある場合には下記反応式で示すようにフリーデル−ク
ラフッによるケトン合成の間に予め置換基x6導入する
こともできる。
このときフリーデル−クラフッ反応の反応条件下で置換
基Xが攻撃されないことが前提条件である。
基Xが攻撃されないことが前提条件である。
この場合には例えば複素環式カルボン酸塩化物を用いて
式■中X及びR1とそれが結合している炭素原子が一緒
になって複素環を形成する化合物が製造される。
式■中X及びR1とそれが結合している炭素原子が一緒
になって複素環を形成する化合物が製造される。
式1.n、m及び■で表わされる化合物は不飽和化合物
の光重合開始剤としてそれらの化合物を含む光重合開始
系に用いることができる。
の光重合開始剤としてそれらの化合物を含む光重合開始
系に用いることができる。
このような不飽和化合物としては例えば次の不飽和モノ
マーが挙げられる。
マーが挙げられる。
アクリル酸またはメタクリル酸のエステル、例えばメチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、n−または第三
ブチルアクリレート、インオクチルアクリレートまたは
ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート
まtはエチルアクリレート、エチレンジアクリレート、
ネオペンチルジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリス−アクリレート、ペンタエリドリフトテトラアク
リレートまたはペンタエリトリットトリス−アクリレー
ト:アクリロニトリル、メタクリレートiJル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド及びN−M換(メタ)アク
リルアミド;例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
アクリル酸ビニルまたはコハク酸ビニルのヨウナビニル
エステル:ピニルエーデル、スチレン、アルキルスチレ
ン、ハロゲノスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフ
タレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化
ビニリデンのようなその他のビニル化合物;及びジアリ
ルフタレート、ジアリルマレート、トリアリルイソシア
ヌレート、トリアリルホスフェートま7tはエチレング
リコールジアリルエーテルのようなアリル化合物;並び
にこのような不飽和モノマーの混合物。
ルアクリレート、エチルアクリレート、n−または第三
ブチルアクリレート、インオクチルアクリレートまたは
ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート
まtはエチルアクリレート、エチレンジアクリレート、
ネオペンチルジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリス−アクリレート、ペンタエリドリフトテトラアク
リレートまたはペンタエリトリットトリス−アクリレー
ト:アクリロニトリル、メタクリレートiJル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド及びN−M換(メタ)アク
リルアミド;例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
アクリル酸ビニルまたはコハク酸ビニルのヨウナビニル
エステル:ピニルエーデル、スチレン、アルキルスチレ
ン、ハロゲノスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフ
タレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化
ビニリデンのようなその他のビニル化合物;及びジアリ
ルフタレート、ジアリルマレート、トリアリルイソシア
ヌレート、トリアリルホスフェートま7tはエチレング
リコールジアリルエーテルのようなアリル化合物;並び
にこのような不飽和モノマーの混合物。
更に光重合し得る化合物としては不飽和オリゴマー1友
はポリマー及びこれらと不飽和モノマーとの混合物が挙
げられる。これらにはフマル酸エステルまたはアリル基
ま友はアクリレ−)またはメタクリレート基のような不
飽和基金含有する熱可塑性樹脂がある。多くの場合には
これら不飽和基は官能基によってこれら線状重合体の主
鎖に結合されている。モノ不飽和及びポリ不飽和モノマ
ーとオリゴマーとの混合物は非常に重要である。このよ
うなオリゴマーとしては例えば不飽和ポリエステル、不
飽和アクリル樹脂及びインシアネート変性またはエポキ
シド変性アクリレートオリゴマー及びポリエーテルアク
リレートが挙げられる。ポリ不飽和化合物としては例え
ば特にジオール及びポリオールのアクリレート例えばヘ
キサメチレンジアクリレートまたはペンタエリトリット
テトラアクリレートが挙げられる。例えばブチルアクリ
レート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート
、2−エチルへキシルアクリレ−)t7tは2−ヒドロ
キシプロピルアクリレートのようなアクリレートもモノ
不飽和モノマーとして好ましい。未重合混合物の粘稠度
及び重合した樹脂の可塑性を変化させるには5つの成分
を種々例示し友ものから選択することによって与えられ
る。
はポリマー及びこれらと不飽和モノマーとの混合物が挙
げられる。これらにはフマル酸エステルまたはアリル基
ま友はアクリレ−)またはメタクリレート基のような不
飽和基金含有する熱可塑性樹脂がある。多くの場合には
これら不飽和基は官能基によってこれら線状重合体の主
鎖に結合されている。モノ不飽和及びポリ不飽和モノマ
ーとオリゴマーとの混合物は非常に重要である。このよ
うなオリゴマーとしては例えば不飽和ポリエステル、不
飽和アクリル樹脂及びインシアネート変性またはエポキ
シド変性アクリレートオリゴマー及びポリエーテルアク
リレートが挙げられる。ポリ不飽和化合物としては例え
ば特にジオール及びポリオールのアクリレート例えばヘ
キサメチレンジアクリレートまたはペンタエリトリット
テトラアクリレートが挙げられる。例えばブチルアクリ
レート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート
、2−エチルへキシルアクリレ−)t7tは2−ヒドロ
キシプロピルアクリレートのようなアクリレートもモノ
不飽和モノマーとして好ましい。未重合混合物の粘稠度
及び重合した樹脂の可塑性を変化させるには5つの成分
を種々例示し友ものから選択することによって与えられ
る。
これら三成分混合物に加えて、二成分混合物が特にポリ
エステル樹脂において重要な役會する。多(の場合にこ
れら混合物は不飽和ポリエステル及びビニル化合物から
なる。不飽和ポリエステルは例えばマレイン酸、フマル
酸またはシトラコン酸のような少くとも1個の不飽和ジ
カルボン酸及び多くの場合には例えばフタル酸、コハク
酸、セバシン酸ま九はイソフタル酸のような少くとも1
個の飽和ジカルボン酸と例えばエチレングリコール、フ
ロパン−1,2−シt −ル、ジーま友はトリーエチレ
ングリコールま九はテトラメチレングリコールのような
グリコールとのオリゴマーのエステル化生成物であり、
そして多くの場合にはモノカルボン酸及びモノアルコー
ルも更に変性の為に使用される。これら不飽和ポリエス
テルは通常ビニルまたはアリル化合物に溶解され、そし
てこの目的にはスチレンl−使用するのが好ましい、 種々の目的に使用される光重合し得る系は、多くの場合
光重合性化合物及び光重合開始剤に加えて多くの他の添
加剤を含有する。通常はしばしば特に成分を混合して系
t−製造するときに早期重合するのに対して保護する究
め熱重合禁止剤が添加される。この目的に使用する化合
物としては例えばハイドロキノン、ハイドロキノンFf
i導体、p−メトキシフェール、β−す7チルアミンま
たはβ−ナフトールが挙げられる。
エステル樹脂において重要な役會する。多(の場合にこ
れら混合物は不飽和ポリエステル及びビニル化合物から
なる。不飽和ポリエステルは例えばマレイン酸、フマル
酸またはシトラコン酸のような少くとも1個の不飽和ジ
カルボン酸及び多くの場合には例えばフタル酸、コハク
酸、セバシン酸ま九はイソフタル酸のような少くとも1
個の飽和ジカルボン酸と例えばエチレングリコール、フ
ロパン−1,2−シt −ル、ジーま友はトリーエチレ
ングリコールま九はテトラメチレングリコールのような
グリコールとのオリゴマーのエステル化生成物であり、
そして多くの場合にはモノカルボン酸及びモノアルコー
ルも更に変性の為に使用される。これら不飽和ポリエス
テルは通常ビニルまたはアリル化合物に溶解され、そし
てこの目的にはスチレンl−使用するのが好ましい、 種々の目的に使用される光重合し得る系は、多くの場合
光重合性化合物及び光重合開始剤に加えて多くの他の添
加剤を含有する。通常はしばしば特に成分を混合して系
t−製造するときに早期重合するのに対して保護する究
め熱重合禁止剤が添加される。この目的に使用する化合
物としては例えばハイドロキノン、ハイドロキノンFf
i導体、p−メトキシフェール、β−す7チルアミンま
たはβ−ナフトールが挙げられる。
更に例えばベンゾトリアゾールまtはベンゾフェノy型
の化合物のような少量の紫外線吸収剤を加えることがで
きる。
の化合物のような少量の紫外線吸収剤を加えることがで
きる。
本発明による光重合開始剤及びその他の式Iないし式W
の光重合開始剤に加えて更に他の会知の光重合開始剤も
使用することができる。このような混合物の使用は成る
種の利点例えば相乗作用を引き起こし得る。
の光重合開始剤に加えて更に他の会知の光重合開始剤も
使用することができる。このような混合物の使用は成る
種の利点例えば相乗作用を引き起こし得る。
ナフテン酸銅、ステアリン酸鋼またはナフテン酸銅のよ
うな銅化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホス
ファイトま几はトリベンジルホスフエートのような燐化
合物、テトラメチルアンモニウムクロライドまたはトリ
メチルベンジルアンモニウムクロライドのような第四級
アンモニウム化合物または例えばN−ジエチルヒドロキ
シルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導体全暗所で
の貯蔵安定性を増加させる九めに加えることができる。
うな銅化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホス
ファイトま几はトリベンジルホスフエートのような燐化
合物、テトラメチルアンモニウムクロライドまたはトリ
メチルベンジルアンモニウムクロライドのような第四級
アンモニウム化合物または例えばN−ジエチルヒドロキ
シルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導体全暗所で
の貯蔵安定性を増加させる九めに加えることができる。
更に光重合し得る系は例えばN−メチル−ジェタノール
アミン、トリエタノールアミンま九はシクロヘキセンの
ような連鎖生長剤を含有することができる。
アミン、トリエタノールアミンま九はシクロヘキセンの
ような連鎖生長剤を含有することができる。
空気中の酸素の重合禁止作用を排除する几めに、パラフ
ィンま念は類似のワックスのような物質がしばしば光重
合し得る系に加えられる。
ィンま念は類似のワックスのような物質がしばしば光重
合し得る系に加えられる。
これらは重合体への溶解性が不足しているために、重合
の開始時には上に浮かびそして空気のはいりこむのを防
ぐ透明な表面層を形成する。
の開始時には上に浮かびそして空気のはいりこむのを防
ぐ透明な表面層を形成する。
硬化されるべ@樹脂中に例えばアリル基のような酸化防
止作用を有する基金導入することによっても空気中の酸
素を失活させることができる。
止作用を有する基金導入することによっても空気中の酸
素を失活させることができる。
光重合開始剤はラジカルな開始剤、例えばパーオキシド
、ハイドロパーオキシド、ケトン−パーオキシドまたは
過炭酸エステルとともに使用され得る。
、ハイドロパーオキシド、ケトン−パーオキシドまたは
過炭酸エステルとともに使用され得る。
これらの意図する使用によっては、光重合し得る系は、
シリカ、タルク、石膏、顔料、染料、繊維、チキソトロ
ープ性を付与する物質または流動助剤のような充填材を
も含有する。
シリカ、タルク、石膏、顔料、染料、繊維、チキソトロ
ープ性を付与する物質または流動助剤のような充填材を
も含有する。
更に公知の光重合開始剤、例えばベンゾインエーテル、
ジアルコキシアセトフェノンま念ハペンジルケタールと
の組合せも用いられ得る。
ジアルコキシアセトフェノンま念ハペンジルケタールと
の組合せも用いられ得る。
特に薄層及び印刷インキの光重合の几めに、本発明によ
る光重合開始剤等をアミン及び/または芳香族ケトンと
組合せて用いることができる。アミンの例としては、ト
リエチルアミン、N−メチルジェタノールアミン、N−
ジメチルエタノールアミンまたはp−ジメチルアミノ安
息香酸エステルである。ケトンの例としては、置換され
たベンゾフェノン誘導体、ミヒラーケトン、アントラキ
ノン及びアントラキノン誘導体とチオキサントンとその
誘導体である。
る光重合開始剤等をアミン及び/または芳香族ケトンと
組合せて用いることができる。アミンの例としては、ト
リエチルアミン、N−メチルジェタノールアミン、N−
ジメチルエタノールアミンまたはp−ジメチルアミノ安
息香酸エステルである。ケトンの例としては、置換され
たベンゾフェノン誘導体、ミヒラーケトン、アントラキ
ノン及びアントラキノン誘導体とチオキサントンとその
誘導体である。
光硬化は印刷インキの場合には結合剤の乾燥時間が印刷
製品の生産速度を決定する決定的要因であり、そして−
秒の何分の−のオーダーであるべきなので非常に重要で
ある。本発明による開始剤等は印刷版製造用の光硬化し
得る系にも非常に適している。この場合においては溶解
性線状ポリアミドと光重合性モノマー例えばアクリルア
ミド及び光重合開始剤との混合物が一般的に使用される
。これら系から製造されたフィルムま之はプレートは、
印刷原画のネガ(またはポジ)にあ℃で照射され、その
後そして未硬化部分は溶媒で溶出される。
製品の生産速度を決定する決定的要因であり、そして−
秒の何分の−のオーダーであるべきなので非常に重要で
ある。本発明による開始剤等は印刷版製造用の光硬化し
得る系にも非常に適している。この場合においては溶解
性線状ポリアミドと光重合性モノマー例えばアクリルア
ミド及び光重合開始剤との混合物が一般的に使用される
。これら系から製造されたフィルムま之はプレートは、
印刷原画のネガ(またはポジ)にあ℃で照射され、その
後そして未硬化部分は溶媒で溶出される。
紫外線硬化の他の応用分野としては、金属被覆例えば管
、ブリキ@ま念はビンのクロージヤーのラッカー塗布シ
ート金属があり、並びに合成樹脂被覆、例えばPvC基
材から成る床張り材または檀面材の紫外線硬化である。
、ブリキ@ま念はビンのクロージヤーのラッカー塗布シ
ート金属があり、並びに合成樹脂被覆、例えばPvC基
材から成る床張り材または檀面材の紫外線硬化である。
紙への撒布の紫外線硬化としては例えばラベル、レコー
ド入れまたは本の表紙の無色ラブカー被覆がある。
ド入れまたは本の表紙の無色ラブカー被覆がある。
式1. Il、 IIl之は■で表わされる化合物
はまたポリオレフィンの光化学架橋開始剤としても固相
できる。こnについては例えばポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリイソブチレンならびにエチレン−プロピレン
−コポリマーのような共通合体が重要であり、特に低圧
、中圧もしくは高圧ポリエチレンが好ましい。
はまたポリオレフィンの光化学架橋開始剤としても固相
できる。こnについては例えばポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリイソブチレンならびにエチレン−プロピレン
−コポリマーのような共通合体が重要であり、特に低圧
、中圧もしくは高圧ポリエチレンが好ましい。
上記利用分野において光重合開始剤は、光重合し得るも
しくは架橋し得る系に対し0.1ないし20重量%の量
でそして好ましくは約(L5ないし5tlt%の量で使
用するのが適している。
しくは架橋し得る系に対し0.1ないし20重量%の量
でそして好ましくは約(L5ないし5tlt%の量で使
用するのが適している。
この明+M8蓄中の系とは光重合性化合吻、光重合開始
剤及び特殊な適用において使用される他の充てん剤及び
添加剤の混合物を意味する。
剤及び特殊な適用において使用される他の充てん剤及び
添加剤の混合物を意味する。
光重合し得る系への光重合開始剤の添加は、多(のこn
ら系が液体であったりまたは直ちに@解するので一般的
には単に攪拌することによって行なわれる。多くの場合
には、本発明による開始剤の溶液が得られ、これによっ
て重合体の均質分布及び透明性が確保される。
ら系が液体であったりまたは直ちに@解するので一般的
には単に攪拌することによって行なわれる。多くの場合
には、本発明による開始剤の溶液が得られ、これによっ
て重合体の均質分布及び透明性が確保される。
重合は短波輻射線に富んだ光で照射することによる公知
の光遭合方法によって行なわれる。
の光遭合方法によって行なわれる。
適当な光源としては例えば250ないし400nmの範
囲内に最大の放射を有する中圧、高圧及び低圧水銀灯並
びにスーパー化学線螢光灯がある。
囲内に最大の放射を有する中圧、高圧及び低圧水銀灯並
びにスーパー化学線螢光灯がある。
本発明の光重合開始剤並びにその他の式!ないし式■の
光重合開始剤の製造及び使用は以下の実施例及び参考例
中で説明する。ここにおいて部は重量部で、パーセント
は重址パーセントで、温度は摂氏度で表わされる。
光重合開始剤の製造及び使用は以下の実施例及び参考例
中で説明する。ここにおいて部は重量部で、パーセント
は重址パーセントで、温度は摂氏度で表わされる。
実施例1及び参考例1−4で使用される化合物の製造及
び性質 第1表で挙げた化合物の製造を方法^lないしくL)の
1つ又はそれ以上に従って行う。
び性質 第1表で挙げた化合物の製造を方法^lないしくL)の
1つ又はそれ以上に従って行う。
方法(4)芳香−脂肪族ケトンの塩素化Ar+Co−C
R’R”HII + nc#、→hr+C0−CR’
R”CI 〕n +n)(CA実施のためにケトンを不
活性溶媒、例えばテトラクロロメタン中に溶解し、そし
て40−80℃にて理論量の塩素全上記溶液中に導入す
る。それから溶解したHCA t−除去するために窒素
を導入する。最後に溶媒を留去する。
R’R”HII + nc#、→hr+C0−CR’
R”CI 〕n +n)(CA実施のためにケトンを不
活性溶媒、例えばテトラクロロメタン中に溶解し、そし
て40−80℃にて理論量の塩素全上記溶液中に導入す
る。それから溶解したHCA t−除去するために窒素
を導入する。最後に溶媒を留去する。
得られたクロルケトンの精製は常に必要ではなく、生成
物を続いて方法り、F又はHによって反応させることも
できる。
物を続いて方法り、F又はHによって反応させることも
できる。
方法(Bl 芳香−脂肪族ケトンの臭素化Ar+Co
−CR’R”H″lrl+nBr2−+At−E−Co
−CRIR”Br ]n+nHBr実施のためにケトン
の溶液、例えばCCZ。
−CR’R”H″lrl+nBr2−+At−E−Co
−CRIR”Br ]n+nHBr実施のためにケトン
の溶液、例えばCCZ。
中に理論量の臭素と室温にて加える。処理及び続く操作
を方法人と同様に行う。
を方法人と同様に行う。
方法C) 塩化スルフリルによる塩素化Ar(7CO
−CR’R”H″+11 + nso、C#、−+Ar
−E−Co−CR”R”−CI11n+ n5O1+
nHcA 塩化スルフリルを40℃にてケトンのCCV。
−CR’R”H″+11 + nso、C#、−+Ar
−E−Co−CR”R”−CI11n+ n5O1+
nHcA 塩化スルフリルを40℃にてケトンのCCV。
溶液へ滴加する。方法Aと同様に操作及びそれに続く処
理を行う。
理を行う。
方法[01エポキシド−中間生成物の製造hrfco−
CR’R”Hat)n+nNa0CH,−+0CT(3 (flaI/−CL又t’1Br) ハロゲンケトンをメタノール中に溶解しメタ/ −A/
中に化学量論的量のナトリウムメトキシドが溶解して
いる溶液へ還流温度にて追加する。そしてメタノールを
留去し氷水上に注入し、エーテルで抽出する。エーテル
溶液を水で洗浄し、Na、SO2上で乾燥しそして濃縮
する。残渣を再結晶又は減圧蒸留により精製する。エポ
キシドを引き続き方f&E又FiGにより反応しうる。
CR’R”Hat)n+nNa0CH,−+0CT(3 (flaI/−CL又t’1Br) ハロゲンケトンをメタノール中に溶解しメタ/ −A/
中に化学量論的量のナトリウムメトキシドが溶解して
いる溶液へ還流温度にて追加する。そしてメタノールを
留去し氷水上に注入し、エーテルで抽出する。エーテル
溶液を水で洗浄し、Na、SO2上で乾燥しそして濃縮
する。残渣を再結晶又は減圧蒸留により精製する。エポ
キシドを引き続き方f&E又FiGにより反応しうる。
方法上) エポキシドの加水分解
Ar(−Co−CR’R”OH”ln + n CH3
0Hエポキシドに2−5倍量(重りの水全注ぎ、触媒量
の鉱酸を添加し還流下で1−2時間加熱する。今後エー
テルで抽出し、エーテル溶液を水で洗い% Na1SO
4上で乾燥し、濃縮する。残渣(粗ヒドロキシケトン)
を蒸留又は結晶化又はカラムクロマトグラフィーにより
精製する。
0Hエポキシドに2−5倍量(重りの水全注ぎ、触媒量
の鉱酸を添加し還流下で1−2時間加熱する。今後エー
テルで抽出し、エーテル溶液を水で洗い% Na1SO
4上で乾燥し、濃縮する。残渣(粗ヒドロキシケトン)
を蒸留又は結晶化又はカラムクロマトグラフィーにより
精製する。
精製α−ヒトaキシケトンの性賀を第1表に示す。
方mF) α−ハロゲンケトンからのα−ヒドロキシ
ケトン Ar−1−Co−CR’R”HaA 〕n+nNa0)
1−+Ar(−Co−CR’R”OH″)n+nNAn
aAα−ハロゲンケトンを希−もしくは濃苛性ソーダ液
(NaOH204過量)中速流下で加熱する。加水分解
終了(クロマトグラフィーによる管理)後、Eで記載し
良ように粗ヒドロキシケトンを単離し精製する。I製ヒ
ドロキ7ヶトンを第1表に挙げる。
ケトン Ar−1−Co−CR’R”HaA 〕n+nNa0)
1−+Ar(−Co−CR’R”OH″)n+nNAn
aAα−ハロゲンケトンを希−もしくは濃苛性ソーダ液
(NaOH204過量)中速流下で加熱する。加水分解
終了(クロマトグラフィーによる管理)後、Eで記載し
良ように粗ヒドロキシケトンを単離し精製する。I製ヒ
ドロキ7ヶトンを第1表に挙げる。
方法G+ エポキシドからのα−アミノケトン駆
CHs
−+ Ar (−Co −CR’R” −NR’R’
) n + fl CHsOHエポキシドを溶媒なしか
又は少量のトルエン又はキシレンを添加して化学量論量
のアミンで架橋させ、そして約10−20時間、100
−200℃にて反応させる。低沸点アミン、例えばジメ
チルアミン又はジエチルアミンにより反応をオートクレ
ーブ中で行う。反応混合物音ベンゼンで希釈し、希塩酸
で抽出する。
) n + fl CHsOHエポキシドを溶媒なしか
又は少量のトルエン又はキシレンを添加して化学量論量
のアミンで架橋させ、そして約10−20時間、100
−200℃にて反応させる。低沸点アミン、例えばジメ
チルアミン又はジエチルアミンにより反応をオートクレ
ーブ中で行う。反応混合物音ベンゼンで希釈し、希塩酸
で抽出する。
水性酸溶液t−NaOHでアルカリ性とし、エーテルで
抽出し、エーテル溶液を水で洗い、NazsOa 上
で乾燥し濃縮する。得られる粗生成物を蒸留または結晶
により種層する。α−アミ7ケトンを第1表に示す。
抽出し、エーテル溶液を水で洗い、NazsOa 上
で乾燥し濃縮する。得られる粗生成物を蒸留または結晶
により種層する。α−アミ7ケトンを第1表に示す。
方法凹 α−ハロゲンケトンからのα−7ミノケトン
hr (−Co−CR’R”HaA]n + 2 n
R’R’NH−Ar+C0−CR’R1−NR’R’
1n−1−nR’R’NH1HaAα−ハロゲンケトン
を希釈しないかもしくはトルエンで希釈し、アミン2モ
ル当量と混合し、10−20時間100−200℃に加
温する。
R’R’NH−Ar+C0−CR’R1−NR’R’
1n−1−nR’R’NH1HaAα−ハロゲンケトン
を希釈しないかもしくはトルエンで希釈し、アミン2モ
ル当量と混合し、10−20時間100−200℃に加
温する。
低沸点アミン例えばジメチルアミンま友はジエチルアミ
ンの場合には、反応はオートクレーブ中で行われる。単
離及び精製を方法GOように行う。
ンの場合には、反応はオートクレーブ中で行われる。単
離及び精製を方法GOように行う。
方法tX+ カルボアルコキシエチル基の導入AT−
E−co−CUR”−X]n+nCH1=C)I−C0
0AAkCH鵞CH冨C00AJk →人r−E−co−cRt −X ) nケ
トンをジメチルスルホキシド中に溶解し該溶液へ4N−
苛性ソーダ液の形でNaOH1,1モル当量を加え、そ
して冷却しながら室温にてアクリルエステル1.1モル
当量ヲ滴加する1反応混合物を氷水で希釈し、トルエン
で抽出する。トルエン溶液を水で中性になるまで洗い、
Na@SQ4上で乾燥させ濃縮する。
E−co−CUR”−X]n+nCH1=C)I−C0
0AAkCH鵞CH冨C00AJk →人r−E−co−cRt −X ) nケ
トンをジメチルスルホキシド中に溶解し該溶液へ4N−
苛性ソーダ液の形でNaOH1,1モル当量を加え、そ
して冷却しながら室温にてアクリルエステル1.1モル
当量ヲ滴加する1反応混合物を氷水で希釈し、トルエン
で抽出する。トルエン溶液を水で中性になるまで洗い、
Na@SQ4上で乾燥させ濃縮する。
粗生成物をカラムクロマトグラフィーまたは結晶により
精製する。
精製する。
方法犯 ヒドロキシケトンのエーテル化人r−E−Co
−CR’R”−OH″ln+nR’Ha#+nNaOH
−+ Ar−E−Co−CR’R”−OR’ ] n
+ n Navalα−ヒドロキシケトン金約4倍量(
重量)のジメチルスルホキシド中にIIL、10−20
℃まで冷却し攪拌しながら、2本の滴加ロートより同時
に、アルキルハaグニドR’HaA 1モル当量及び
濃苛性ソーダ液1モル当量を滴下する。続いて3時間室
温にて攪拌し、沈澱したナトリウムハaグニドを濾別し
、濾液をエーテルで希釈し、水で洗浄し、Na、SO,
上で乾燥濃縮する。その結果得られた粗生成物をカラム
クロマトグラフィー、結晶化又は減圧蒸留により精製す
る。使用可能なハロゲン化合物の例としては、ヨウ化メ
チル、臭化イソプロピル、臭化アリル、臭化シクロヘキ
シル、塩化ベンジル又はクロル酢酸エチルエステルであ
る。アルキルハロゲニドの代わりにまたジアルキルスル
フェート又ハアルキルーアリールスルホネートがエーテ
ル化剤として使用され得る。
−CR’R”−OH″ln+nR’Ha#+nNaOH
−+ Ar−E−Co−CR’R”−OR’ ] n
+ n Navalα−ヒドロキシケトン金約4倍量(
重量)のジメチルスルホキシド中にIIL、10−20
℃まで冷却し攪拌しながら、2本の滴加ロートより同時
に、アルキルハaグニドR’HaA 1モル当量及び
濃苛性ソーダ液1モル当量を滴下する。続いて3時間室
温にて攪拌し、沈澱したナトリウムハaグニドを濾別し
、濾液をエーテルで希釈し、水で洗浄し、Na、SO,
上で乾燥濃縮する。その結果得られた粗生成物をカラム
クロマトグラフィー、結晶化又は減圧蒸留により精製す
る。使用可能なハロゲン化合物の例としては、ヨウ化メ
チル、臭化イソプロピル、臭化アリル、臭化シクロヘキ
シル、塩化ベンジル又はクロル酢酸エチルエステルであ
る。アルキルハロゲニドの代わりにまたジアルキルスル
フェート又ハアルキルーアリールスルホネートがエーテ
ル化剤として使用され得る。
方法LI XとR1の環化
A r −CO−CHHa I −R”+ ([、Q−
+ Ar −Co −CR” HaA−CI(IOH品 パラホルムアルデヒドt−20倍量(重りのメタノール
中に溶解する。該溶液ヘナトリウムメトキシド(少量の
メタノール中に溶解)1そル当量を加える。0:5℃に
冷却下、濃α−ハロゲンケトン溶液を滴加する。続いて
5−10℃にて1時間、そして室温にで1時間攪拌する
0反応混合物をエーテルで2−3倍量(容量)になるま
で希釈し、氷水中へ注入する。水相を3@エーテルで抽
出し、集め九エーテル抽出液を水で洗浄し、N a z
SOa上で乾燥する。その結果得られ九徂生成物を蒸
留又はカラムクロマトグラフィーにより精製する。
+ Ar −Co −CR” HaA−CI(IOH品 パラホルムアルデヒドt−20倍量(重りのメタノール
中に溶解する。該溶液ヘナトリウムメトキシド(少量の
メタノール中に溶解)1そル当量を加える。0:5℃に
冷却下、濃α−ハロゲンケトン溶液を滴加する。続いて
5−10℃にて1時間、そして室温にで1時間攪拌する
0反応混合物をエーテルで2−3倍量(容量)になるま
で希釈し、氷水中へ注入する。水相を3@エーテルで抽
出し、集め九エーテル抽出液を水で洗浄し、N a z
SOa上で乾燥する。その結果得られ九徂生成物を蒸
留又はカラムクロマトグラフィーにより精製する。
参考例 1
プレックス(Flex) 6616 (7クリレート
樹脂、ローム社(IjQhm )製、ダルムシスタット
380部、)サメチロールプロパン−トリス−アクリレ
ート20部と光重合開始剤2部から成る樹脂混合物を、
フィルム塗布装置ヲ用いてガラス板上に厚さ40μmに
塗布する。これらのフィルムを約20秒間空気に曝し、
続いて■クー中圧ランプ〔ハノピア装fit (Han
OVia−Qerat ) fi45080]i用いて
照射する。その際コンベア上の試料は有効照射時間が1
回の通過にり90.16秒となるような速度でランプ下
を移動させる。
樹脂、ローム社(IjQhm )製、ダルムシスタット
380部、)サメチロールプロパン−トリス−アクリレ
ート20部と光重合開始剤2部から成る樹脂混合物を、
フィルム塗布装置ヲ用いてガラス板上に厚さ40μmに
塗布する。これらのフィルムを約20秒間空気に曝し、
続いて■クー中圧ランプ〔ハノピア装fit (Han
OVia−Qerat ) fi45080]i用いて
照射する。その際コンベア上の試料は有効照射時間が1
回の通過にり90.16秒となるような速度でランプ下
を移動させる。
以下の第2表において2横目には粘着しないフィルムを
得るのに必要な通過回数CD)を示す。
得るのに必要な通過回数CD)を示す。
第54tlKは異なった通過回数後のケーニッヒ根子型
装置で測定し友フィルムの硬度を示す。
装置で測定し友フィルムの硬度を示す。
最右欄には60℃における暗所での樹脂−光重合開始剤
混合物の貯蔵安定性を表わす。
混合物の貯蔵安定性を表わす。
第 2 表
参考例 2
ウビ? −(Uvimer )DV−530[ホ!J
りOA(polycbrom )社製ウレタンアクリレ
ート]60部、ヘキサンジオールジアクリレート37部
及び光重合開始剤3部から成る樹脂混合物をガラス板上
にフィルム厚さ30μmに塗布し、実施例1で記載のよ
うに照射する。
りOA(polycbrom )社製ウレタンアクリレ
ート]60部、ヘキサンジオールジアクリレート37部
及び光重合開始剤3部から成る樹脂混合物をガラス板上
にフィルム厚さ30μmに塗布し、実施例1で記載のよ
うに照射する。
以下の結果が得られる。
第 5 表
参考例 3
光重合開始剤2チを不飽和ポリエステル樹脂〔クリステ
イック(Cryst ic ) PKE 506、メー
ダー(Maeder )社、スイス国キルヴアンゲン〕
中に溶解する。これらの樹脂混合物をガラス板上に60
μmのフィルム厚に塗布する。これらのフィルムに実施
例1で記載のように照射する。
イック(Cryst ic ) PKE 506、メー
ダー(Maeder )社、スイス国キルヴアンゲン〕
中に溶解する。これらの樹脂混合物をガラス板上に60
μmのフィルム厚に塗布する。これらのフィルムに実施
例1で記載のように照射する。
以下第4表にフィルムが耐ふき取り性となるまでの照射
装置による通過回数並びにDによる振子型硬度會表わす
。
装置による通過回数並びにDによる振子型硬度會表わす
。
第 4 表
参考例 4
ラロメール(Laromer )LR8496(ドイツ
連邦共和国、BASF社製のアクリル酸樹脂、〕990
部ヘキサンジオールジアクリレート10部、BYK 3
0o Cドイツ連邦共和国、ByK−マリンクロード(
Mal l 1nckrodt )社製の均展助剤〕1
5部及び大気中の硬化用光重合開始剤α5部ま友は窒素
中の硬化用光重合開始剤15部からなる樹脂混合物をボ
ール箱上に電気により15μの渦巻状に塗布する。短期
間空気に曝した後80ワツト/(至)の紫外線電球t−
有する紫外線照射装置(PPG−QC−プaツエツンー
ル型)で硬化する。以下の第5表に大気下でもしくは窒
素化で接着しないフィルムが得られ友ときの最大移転速
度(m/分)を示す。
連邦共和国、BASF社製のアクリル酸樹脂、〕990
部ヘキサンジオールジアクリレート10部、BYK 3
0o Cドイツ連邦共和国、ByK−マリンクロード(
Mal l 1nckrodt )社製の均展助剤〕1
5部及び大気中の硬化用光重合開始剤α5部ま友は窒素
中の硬化用光重合開始剤15部からなる樹脂混合物をボ
ール箱上に電気により15μの渦巻状に塗布する。短期
間空気に曝した後80ワツト/(至)の紫外線電球t−
有する紫外線照射装置(PPG−QC−プaツエツンー
ル型)で硬化する。以下の第5表に大気下でもしくは窒
素化で接着しないフィルムが得られ友ときの最大移転速
度(m/分)を示す。
第 5 表
実施例 1
エベクリル(gbecryl )595 (ベルギー。
UCB 社製のポリエステルアクリレート370部、
トリメテロールプa ハントリスアクリレート50部、
Byk 500 (ドイツ連邦共和国、Byk−マリン
クロード社製加工助剤)115部及び光直合開始剤3部
からなる樹脂混合物を成形枠を用いてガラス板上に層厚
さ30−40μに塗布する。短時間空気に曝した後、8
0ワツト/lの紫外線ランプt−有する紫外線照射実、
験用装置1!(PPG/Q−C−プロツエッンール屋)
で硬化する。紫外線硬化の後通常の天候で%時間保存し
、続いてケー二岬との振子屋硬度を測定する。
トリメテロールプa ハントリスアクリレート50部、
Byk 500 (ドイツ連邦共和国、Byk−マリン
クロード社製加工助剤)115部及び光直合開始剤3部
からなる樹脂混合物を成形枠を用いてガラス板上に層厚
さ30−40μに塗布する。短時間空気に曝した後、8
0ワツト/lの紫外線ランプt−有する紫外線照射実、
験用装置1!(PPG/Q−C−プロツエッンール屋)
で硬化する。紫外線硬化の後通常の天候で%時間保存し
、続いてケー二岬との振子屋硬度を測定する。
以下の第6表に照射下の移転速度による測定された振子
減硬度を記す。
減硬度を記す。
第 6 表
Claims (1)
- (1)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる2−ヒドロキシ−2−メチル−p−クロロ
プロピオフェノンからなることを特徴とする不飽和化合
物のための光重合開始剤。
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---|---|---|---|
CH1588477 | 1977-12-22 | ||
CH15884/77 | 1977-12-22 | ||
CH251878 | 1978-03-08 | ||
CH2518/78 | 1978-03-08 | ||
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CH972378 | 1978-09-18 |
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---|---|
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JPH0257081B2 JPH0257081B2 (ja) | 1990-12-04 |
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JP63250739A Granted JPH01139554A (ja) | 1977-12-22 | 1988-10-04 | 芳香族α−アミノケトン |
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AR (1) | AR226169A1 (ja) |
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AU (1) | AU529495B2 (ja) |
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DK (1) | DK157083C (ja) |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006276640A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン |
JP2006525399A (ja) * | 2003-05-06 | 2006-11-09 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 新規三官能性光開始剤 |
JP2010024276A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | 水性インク組成物、インクジェット記録用水性インク組成物およびインクジェット記録方法 |
JP2010024296A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | 光硬化性組成物、インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法 |
Families Citing this family (330)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
DE3107087A1 (de) * | 1980-02-29 | 1981-12-24 | CIBA-GEIGY AG, 4002 Basel | "photopolymerisierbare gemische und verfahren zur photopolymerisation von kationisch polymerisierbaren verbindungen" |
DE3008411A1 (de) * | 1980-03-05 | 1981-09-10 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone |
US4368253A (en) * | 1981-01-28 | 1983-01-11 | Ciba-Geigy Corporation | Image formation process |
DE3203096A1 (de) * | 1982-01-30 | 1983-08-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen |
EP0088050B1 (de) * | 1982-02-26 | 1986-09-03 | Ciba-Geigy Ag | Photohärtbare gefärbte Massen |
US4504372A (en) * | 1982-03-12 | 1985-03-12 | Ciba-Geigy Corporation | Acid-curable composition containing a masked curing catalyst, and a process for its preparation |
DE3360384D1 (en) * | 1982-05-07 | 1985-08-14 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of 1-hydroxyketones |
US4498964A (en) * | 1982-06-15 | 1985-02-12 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photopolymerization of unsaturated compounds |
US4518676A (en) * | 1982-09-18 | 1985-05-21 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts |
EP0108037B1 (de) * | 1982-10-01 | 1989-06-07 | Ciba-Geigy Ag | Propiophenonderivate als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation |
US4649062A (en) * | 1983-01-05 | 1987-03-10 | Ciba-Geigy Corporation | Ultraviolet radiation curable vehicle for ceramic colors, composition and method |
DE3465636D1 (en) * | 1983-02-18 | 1987-10-01 | Ciba Geigy Ag | Coloured photo-curable mouldings |
US4524221A (en) * | 1983-02-22 | 1985-06-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for the production of acyloins |
EP0117578A3 (en) * | 1983-02-23 | 1985-01-30 | Shionogi & Co., Ltd. | Azole-substituted alcohol derivatives |
US4563438A (en) * | 1983-05-06 | 1986-01-07 | Ciba Geigy Corporation | Liquid mixture of photoinitiators |
US5145885A (en) * | 1983-08-15 | 1992-09-08 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing aminoaryl ketone photoinitiators |
EP0138754B1 (de) * | 1983-08-15 | 1988-05-25 | Ciba-Geigy Ag | Photohärtbare Gemische |
US4780486A (en) * | 1983-10-26 | 1988-10-25 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
US4946874A (en) * | 1983-10-26 | 1990-08-07 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers |
US5124212A (en) * | 1983-10-26 | 1992-06-23 | Dow Corning Corporation | Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
US5162389A (en) * | 1983-10-26 | 1992-11-10 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index |
US5169879A (en) * | 1983-10-26 | 1992-12-08 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
IT1176018B (it) * | 1984-04-12 | 1987-08-12 | Lamberti Flli Spa | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
JPS6121104A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 光重合開始剤 |
IT1208494B (it) * | 1985-01-28 | 1989-07-10 | Lamberti Flli Spa | Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di |
US4666953A (en) * | 1985-03-28 | 1987-05-19 | Loctite Corporation | Silicone polyphotoinitiators |
DE3512179A1 (de) * | 1985-04-03 | 1986-12-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen |
FR2583759B1 (fr) * | 1985-06-20 | 1988-01-15 | Atochem | Films de polyolefines photoreticulables et leur procede de fabrication |
US4741981A (en) * | 1985-07-30 | 1988-05-03 | Ricoh Co., Ltd. | Photosensitive material for electrophotography contains organic phosphite compounds |
US4691059A (en) * | 1985-08-30 | 1987-09-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Copolymerizable UV stabilizers |
US5529728A (en) * | 1986-01-28 | 1996-06-25 | Q2100, Inc. | Process for lens curing and coating |
US6730244B1 (en) | 1986-01-28 | 2004-05-04 | Q2100, Inc. | Plastic lens and method for the production thereof |
US4879318A (en) * | 1986-01-28 | 1989-11-07 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Plastic lens composition and method for the production thereof |
US6201037B1 (en) | 1986-01-28 | 2001-03-13 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Plastic lens composition and method for the production thereof |
US5415816A (en) | 1986-01-28 | 1995-05-16 | Q2100, Inc. | Method for the production of plastic lenses |
US5364256A (en) * | 1986-01-28 | 1994-11-15 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Apparatus for the production of plastic lenses |
US4906675A (en) * | 1986-02-12 | 1990-03-06 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Active energy ray-curable composition |
US5288917A (en) * | 1986-04-15 | 1994-02-22 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid photoinitiator mixtures |
EP0269573B1 (de) * | 1986-11-26 | 1991-03-27 | Ciba-Geigy Ag | Flüssige Photoinitiatorgemische |
US5238782A (en) * | 1986-12-26 | 1993-08-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
DE3880868D1 (en) * | 1987-03-26 | 1993-06-17 | Ciba Geigy Ag | Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren. |
GB8715435D0 (en) * | 1987-07-01 | 1987-08-05 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
EP0302831B1 (en) * | 1987-08-05 | 1993-05-12 | Ciba-Geigy Ag | Compounds |
US4824875A (en) * | 1987-11-06 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | UV curable conformal coating with moisture shadow cure |
US4956221A (en) * | 1987-11-06 | 1990-09-11 | Dow Corning Corporation | UV curable conformal coating with moisture shadow cure |
US4791045A (en) * | 1988-01-25 | 1988-12-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts |
FR2626880B1 (fr) * | 1988-02-10 | 1990-06-08 | Lafon Labor | Derives n-substitues de 2-amino-1-phenylpropanone, procede de preparation et utilisation en therapeutique |
DE3816304A1 (de) * | 1988-05-13 | 1989-11-23 | Merck Patent Gmbh | Fotoinitiator-copolymere |
DE3826947A1 (de) * | 1988-08-09 | 1990-02-22 | Merck Patent Gmbh | Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung |
US5081308A (en) * | 1988-12-15 | 1992-01-14 | Ici Americas Inc. | Ultraviolet radiation absorbing compositions of bis-1,3-diketone derivatives of cyclohexane |
JPH03115267A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-16 | Maruho Kk | プロピオフエノン誘導体、その製造方法、それを含む中枢性筋弛緩剤および抗痙攣剤 |
US4987159A (en) * | 1990-04-11 | 1991-01-22 | Fratelli Lamberti S.P.A. | Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use |
DE4022234A1 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-16 | Herberts Gmbh | Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen |
JPH0453573U (ja) * | 1990-09-10 | 1992-05-07 | ||
US5160868A (en) * | 1990-10-19 | 1992-11-03 | Yang Tai Her | Adjustable brush ac/dc servo motor |
US5252694A (en) * | 1992-01-22 | 1993-10-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-polymerization adhesive, coating, film and process for making the same |
US5262232A (en) * | 1992-01-22 | 1993-11-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials |
US6492413B2 (en) * | 1993-01-15 | 2002-12-10 | G.D. Searle & Co. | 3.4-diaryl thiophenes and analogs thereof having use as antiinflammatory agents |
DE4302123A1 (de) * | 1993-01-27 | 1994-07-28 | Herberts Gmbh | Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern |
DE69406278T3 (de) † | 1993-04-01 | 2001-09-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Verfahren zur herstellung von hoch-glänzend, strahlunghärtbaren beschichtungen |
WO1994029355A1 (en) * | 1993-06-04 | 1994-12-22 | Henkel Corporation | Citral acetal ethers of alpha-hydroxy phenyl ketones and polymerizable compositions |
US5474995A (en) * | 1993-06-24 | 1995-12-12 | Merck Frosst Canada, Inc. | Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors |
US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
CA2120838A1 (en) | 1993-08-05 | 1995-02-06 | Ronald Sinclair Nohr | Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation |
US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
US5700850A (en) | 1993-08-05 | 1997-12-23 | Kimberly-Clark Worldwide | Colorant compositions and colorant stabilizers |
US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
US5643356A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-01 | Kimberly-Clark Corporation | Ink for ink jet printers |
US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
US5514214A (en) * | 1993-09-20 | 1996-05-07 | Q2100, Inc. | Eyeglass lens and mold spin coater |
US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
US5739175A (en) | 1995-06-05 | 1998-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer |
US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5849411A (en) | 1995-06-05 | 1998-12-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition |
US5811199A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-22 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Adhesive compositions containing a photoreactor composition |
US5798015A (en) | 1995-06-05 | 1998-08-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition |
US5747550A (en) | 1995-06-05 | 1998-05-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material |
US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
ATE195815T1 (de) | 1995-06-05 | 2000-09-15 | Kimberly Clark Co | Farbstoffvorläufer und diese enthaltende zusammensetzungen |
MX9710016A (es) | 1995-06-28 | 1998-07-31 | Kimberly Clark Co | Colorantes novedosos y modificadores de colorante. |
DE69513692T2 (de) * | 1995-09-11 | 2000-03-16 | Lamberti S.P.A. | Betaketosulfonsäure-derivate geeignet als polymerisations photoinitiatoren und photopolymerisierbare systeme die diese enthalten |
US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
DE69620428T2 (de) | 1995-11-28 | 2002-11-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Lichtstabilisierte fabstoffzusammensetzungen |
DE19546899C1 (de) * | 1995-12-15 | 1997-01-09 | Herberts Gmbh | Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels |
US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6022498A (en) | 1996-04-19 | 2000-02-08 | Q2100, Inc. | Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
US5712401A (en) * | 1996-04-29 | 1998-01-27 | First Chemical Corporation | Processes for preparing thioxanthone and derivatives thereof |
US6280171B1 (en) | 1996-06-14 | 2001-08-28 | Q2100, Inc. | El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
SG53043A1 (en) * | 1996-08-28 | 1998-09-28 | Ciba Geigy Ag | Molecular complex compounds as photoinitiators |
DE19635447C1 (de) * | 1996-08-31 | 1997-11-20 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung |
EP0980393A1 (en) * | 1997-05-05 | 2000-02-23 | First Chemical Corporation | Biradical photoinitiators |
US5989462A (en) | 1997-07-31 | 1999-11-23 | Q2100, Inc. | Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses |
US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
US6150420A (en) * | 1998-06-01 | 2000-11-21 | Theramax, Inc. | Method for enhanced brain delivery of bupropion |
AU4818299A (en) | 1998-06-03 | 1999-12-20 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
EP1062285A2 (en) | 1998-06-03 | 2000-12-27 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing |
BR9912003A (pt) | 1998-07-20 | 2001-04-10 | Kimberly Clark Co | Composições de tinta para jato de tinta aperfeiçoadas |
US6416307B1 (en) | 1998-09-25 | 2002-07-09 | Q2100, Inc. | Plastic lens systems, compositions, and methods |
ES2263291T3 (es) | 1998-09-28 | 2006-12-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Quelatos que comprenden grupos quinoides como fotoiniciadores. |
WO2000024711A1 (en) * | 1998-10-27 | 2000-05-04 | Merck & Co., Inc. | Synthesis of methylthiophenyl hydroxyketones |
WO2000041990A1 (de) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Benzophenone und ihre verwendung als photoinitiatoren |
WO2000042110A1 (en) | 1999-01-19 | 2000-07-20 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
US6419873B1 (en) | 1999-03-19 | 2002-07-16 | Q2100, Inc. | Plastic lens systems, compositions, and methods |
US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
US6716375B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-04-06 | Q2100, Inc. | Apparatus and method for heating a polymerizable composition |
US6723260B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-04-20 | Q2100, Inc. | Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder |
US6960312B2 (en) | 2000-03-30 | 2005-11-01 | Q2100, Inc. | Methods for the production of plastic lenses |
US6698708B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-03-02 | Q2100, Inc. | Gasket and mold assembly for producing plastic lenses |
US6632535B1 (en) | 2000-06-08 | 2003-10-14 | Q2100, Inc. | Method of forming antireflective coatings |
WO2002000735A1 (en) | 2000-06-19 | 2002-01-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
US7001644B2 (en) | 2000-12-13 | 2006-02-21 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Surface-active photoinitiators |
US6676398B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-01-13 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader |
US6702564B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-09 | Q2100, Inc. | System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders |
US6758663B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-07-06 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit |
US6875005B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-04-05 | Q1200, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a gating device |
US6752613B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-06-22 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing |
US7124995B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-10-24 | Q2100, Inc. | Holder for mold assemblies and molds |
US6712331B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-30 | Q2100, Inc. | Holder for mold assemblies with indicia |
US6676399B1 (en) | 2001-02-20 | 2004-01-13 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies |
US7074352B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-07-11 | Q2100, Inc. | Graphical interface for monitoring usage of components of a lens forming apparatus |
US7004740B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-02-28 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a heating system |
US7060208B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-06-13 | Q2100, Inc. | Method of preparing an eyeglass lens with a controller |
US7037449B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-02 | Q2100, Inc. | Method for automatically shutting down a lens forming apparatus |
US7011773B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-03-14 | Q2100, Inc. | Graphical interface to display mold assembly position in a lens forming apparatus |
US7051290B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-23 | Q2100, Inc. | Graphical interface for receiving eyeglass prescription information |
US6808381B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-10-26 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller |
US6790024B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-09-14 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems |
US7139636B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-11-21 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglass lenses with bar code reader |
US6790022B1 (en) | 2001-02-20 | 2004-09-14 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount |
US7045081B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-16 | Q2100, Inc. | Method of monitoring components of a lens forming apparatus |
US6726463B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-04-27 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller |
US7083404B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-08-01 | Q2100, Inc. | System for preparing an eyeglass lens using a mold holder |
US6655946B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-12-02 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units |
US6709257B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-23 | Q2100, Inc. | Eyeglass lens forming apparatus with sensor |
US6612828B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-09-02 | Q2100, Inc. | Fill system with controller for monitoring use |
US6840752B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-01-11 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses |
US6893245B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-05-17 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a computer system controller |
US6962669B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-11-08 | Q2100, Inc. | Computerized controller for an eyeglass lens curing apparatus |
US6863518B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-03-08 | Q2100, Inc. | Mold filing apparatus having multiple fill stations |
US7025910B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-04-11 | Q2100, Inc | Method of entering prescription information |
US7052262B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-30 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglasses lens with filling station |
US6899831B1 (en) | 2001-02-20 | 2005-05-31 | Q2100, Inc. | Method of preparing an eyeglass lens by delayed entry of mold assemblies into a curing apparatus |
ITMI20010733A1 (it) | 2001-04-05 | 2002-10-05 | Recordati Chem Pharm | Uso di inibitori dell'isoenzina cox-2 per il trattamento dell'incontinenza urinaria |
GB0118936D0 (en) * | 2001-08-02 | 2001-09-26 | Unilever Plc | Improvements relating to colour-safe fabric treatment compositions |
TWI312786B (en) | 2001-11-08 | 2009-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Novel difunctional photoinitiators |
WO2003053218A2 (en) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | The University Of Texas Health Science Center At San Antonio | Implant coatings |
GB0205276D0 (en) * | 2002-03-06 | 2002-04-17 | Unilever Plc | Bleaching composition |
US7044429B1 (en) | 2002-03-15 | 2006-05-16 | Q2100, Inc. | Methods and systems for coating eyeglass lens molds |
US6464484B1 (en) | 2002-03-30 | 2002-10-15 | Q2100, Inc. | Apparatus and system for the production of plastic lenses |
JP2004043433A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-02-12 | Kitai Kagi Kofun Yugenkoshi | モルフォリノケトン誘導体及びその用途 |
US20030225179A1 (en) * | 2002-04-26 | 2003-12-04 | Chiu Chingfan Chris | Novel morpholinoketone derivatives, and preparation process and uses of the same |
NZ537094A (en) * | 2002-07-19 | 2006-09-29 | Ciba Sc Holding Ag | Compositions containing difunctional photoinitiators and aminoacrylates |
JP2006524731A (ja) * | 2003-04-16 | 2006-11-02 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 光開始剤としてアルファヒドロキシケトンを含有する照射硬化性インクジェットインク |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
ITVA20030028A1 (it) * | 2003-08-07 | 2005-02-08 | Lamberti Spa | Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore. |
JP4348253B2 (ja) | 2003-08-20 | 2009-10-21 | 富士フイルム株式会社 | 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法 |
ITVA20030040A1 (it) * | 2003-10-27 | 2005-04-28 | Lamberti Spa | Fotoiniziatore solido bianco in polvere e procedimento per la sua preparazione. |
US7732504B2 (en) * | 2004-02-02 | 2010-06-08 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Functionalized photoinitiators |
JP3968089B2 (ja) * | 2004-05-25 | 2007-08-29 | シャープ株式会社 | 電子写真感光体およびそれを備える画像形成装置 |
EP1930309B1 (en) | 2004-07-08 | 2009-10-21 | Basf Se | Preparation of alpha-hydroxyketones |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
EP1799638B1 (en) * | 2004-09-29 | 2008-07-30 | Ciba Holding Inc. | Process for preparing aromatic thiophenyl ketones |
US8217095B2 (en) * | 2004-10-29 | 2012-07-10 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Active energy ray-curable ink-jet printing ink |
JP4967378B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物 |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
ITVA20050032A1 (it) * | 2005-05-13 | 2006-11-14 | Lamberti Spa | Esteri fenilgliossilici generanti residui a bassa migrabilita' e odore |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
CA2578626C (en) | 2005-06-27 | 2011-07-19 | Biovail Laboratories International S.R.L. | Modified-release formulations of a bupropion salt |
JP4317853B2 (ja) * | 2006-01-12 | 2009-08-19 | シャープ株式会社 | 電子写真感光体、その製造方法およびそれを用いた画像形成装置 |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
EP1927633A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-04 | Seiko Epson Corporation | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
US7985785B2 (en) * | 2007-01-15 | 2011-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
JP5472670B2 (ja) | 2007-01-29 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法及び記録物 |
US8541063B2 (en) | 2007-02-06 | 2013-09-24 | Fujifilm Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
EP1955850B1 (en) | 2007-02-07 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet recording device having ink-jet head maintenance device and ink-jet head maintenance method |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
US8894197B2 (en) * | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
JP5098397B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-12-12 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェットインク、及びインクジェット記録方法 |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
JP4601009B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2010-12-22 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法 |
EP2129659B1 (en) * | 2007-04-04 | 2013-05-29 | Basf Se | Alpha-hydroxyketones |
JP4816976B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2011-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化型インク組成物 |
EP2028241A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-25 | Seiko Epson Corporation | Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter |
TW200925214A (en) | 2007-09-06 | 2009-06-16 | Fujifilm Corp | Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element |
JP4766281B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物 |
JP5255369B2 (ja) * | 2007-09-25 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法 |
US9442372B2 (en) | 2007-09-26 | 2016-09-13 | Fujifilm Corporation | Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
US8129447B2 (en) * | 2007-09-28 | 2012-03-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
CN101842444B (zh) | 2007-11-01 | 2013-06-05 | 富士胶片株式会社 | 颜料分散组合物、着色固化性组合物、滤色器及其制造方法 |
GB0724863D0 (en) | 2007-12-21 | 2008-01-30 | Unilever Plc | Fabric treatment active |
JP5457636B2 (ja) * | 2008-01-22 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
JP5147499B2 (ja) | 2008-02-13 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP2009269397A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-11-19 | Seiko Epson Corp | 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
US8362140B2 (en) | 2008-03-17 | 2013-01-29 | Fujifilm Corporation | Pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, photocurable composition, color filter, liquid crystal display device, and solid-state image pickup device |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
JP5155920B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター |
JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
ATE541865T1 (de) | 2008-06-06 | 2012-02-15 | Basf Se | Fotoinitiatormischungen |
JP2010024277A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | インクジェット用インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5106285B2 (ja) * | 2008-07-16 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
US8507726B2 (en) | 2008-11-03 | 2013-08-13 | Basf Se | Photoinitiator mixtures |
JP5344892B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法 |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5340198B2 (ja) | 2009-02-26 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物 |
JP2010209183A (ja) | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
WO2010119924A1 (ja) | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子 |
CN101923282B (zh) * | 2009-06-09 | 2012-01-25 | 清华大学 | 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法 |
CA2769210A1 (en) | 2009-06-29 | 2011-01-06 | Dic Corporation | Michael addition reaction product and active energy ray-curable composition |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5692490B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP2011152747A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Seiko Epson Corp | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP5554114B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法 |
US8573765B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-11-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter |
CN102336081A (zh) | 2010-05-19 | 2012-02-01 | 富士胶片株式会社 | 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物 |
JP5878528B2 (ja) * | 2010-06-28 | 2016-03-08 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 金属を含まない漂白用組成物 |
JP5606817B2 (ja) | 2010-07-27 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法 |
EP2423277A3 (en) | 2010-08-27 | 2012-05-09 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article |
CN103601629B (zh) * | 2010-11-12 | 2015-08-26 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 对位或间位官能团化芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂 |
US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
EP2682438B1 (en) | 2011-02-28 | 2017-04-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image forming method |
JP2012201874A (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び画像形成方法 |
JP5300904B2 (ja) | 2011-03-31 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
JP5764416B2 (ja) | 2011-07-08 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
WO2013046679A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition and inkjet recording method |
CN102504054B (zh) * | 2011-11-01 | 2014-07-02 | 长沙新宇高分子科技有限公司 | 降低直至消除voc排放的多官能团羟基酮光引发剂 |
CA2859134A1 (en) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | The University Of Akron | Substituted phenacyl molecules and photoresponsive polymers |
WO2013133123A1 (ja) | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法 |
EP2644664B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
JP5606567B2 (ja) | 2012-04-19 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
JPWO2014041940A1 (ja) | 2012-09-14 | 2016-08-18 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物および画像形成方法 |
WO2014050993A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
EP2902097B1 (en) | 2012-09-28 | 2017-11-29 | FUJIFILM Corporation | Functional polymer membrane and method for its production |
WO2014060450A1 (en) * | 2012-10-19 | 2014-04-24 | Basf Se | Hybrid photoinitiators |
CN103012317B (zh) * | 2012-12-23 | 2014-10-15 | 惠州市华泓新材料有限公司 | 烷基苯基衍生物和其作为光引发剂的应用 |
JP6126498B2 (ja) | 2013-02-15 | 2017-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
ES2731827T3 (es) | 2013-03-07 | 2019-11-19 | Fujifilm Corp | Membrana polimérica funcional y método de fabricación de la misma |
JP6004971B2 (ja) | 2013-03-12 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法 |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
CN103709036B (zh) * | 2013-12-03 | 2015-07-29 | 天津久日化学股份有限公司 | 双官能团苯甲酰基甲酸羟基酮酯类化合物及含该类化合物的光引发剂 |
WO2015140541A1 (en) * | 2014-03-20 | 2015-09-24 | Fujifilm Speciality Ink Systems Limited | Printing ink |
JP6066960B2 (ja) | 2014-05-30 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法 |
US10005851B2 (en) * | 2014-08-01 | 2018-06-26 | Adeka Corporation | Polymerization initiator and radically polymerizable composition containing same |
CN104151267B (zh) * | 2014-08-08 | 2016-04-27 | 广东鑫钰新材料股份有限公司 | 芳基上含氮杂环取代的1-羟基环己基苯甲酮的制备方法 |
CN107075000B (zh) | 2014-09-04 | 2020-01-31 | Igm集团公司 | 多环光引发剂 |
EP3342792B1 (en) | 2015-08-27 | 2020-04-15 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin and film |
EP3412727B1 (en) | 2016-02-05 | 2021-12-08 | FUJIFILM Corporation | Aqueous dispersion, method for manufacturing the same, and image forming method |
CN108602931B (zh) | 2016-02-05 | 2021-03-09 | 富士胶片株式会社 | 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法 |
EP3412730B1 (en) | 2016-02-05 | 2025-03-19 | FUJIFILM Corporation | Aqueous dispersion, production method therefor, and image formation method |
WO2017138434A1 (ja) | 2016-02-10 | 2017-08-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
WO2018139658A1 (ja) | 2017-01-30 | 2018-08-02 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法 |
EP3587512B1 (en) | 2017-02-24 | 2023-11-29 | FUJIFILM Corporation | Photocurable ink composition and image forming method |
CN110366584B (zh) | 2017-02-24 | 2022-08-23 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
WO2018179947A1 (ja) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
WO2018186225A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN110475830B (zh) | 2017-04-03 | 2022-03-25 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
EP3395793B9 (en) * | 2017-04-24 | 2021-09-29 | IGM Group B.V. | Process for the preparation of alpha-functionalized ketones |
JP6924260B2 (ja) | 2017-04-26 | 2021-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
CN110753731B (zh) | 2017-06-20 | 2022-10-28 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
CN111032794B (zh) | 2017-07-26 | 2022-09-06 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
CN111051440B (zh) | 2017-08-29 | 2022-09-06 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
EP3689981B1 (en) | 2017-09-27 | 2024-07-10 | FUJIFILM Corporation | Actinic-ray-curable ink-jet ink, light-shielding film, and production method for light-shielding film |
WO2019188481A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
EP3778791A4 (en) | 2018-03-27 | 2021-05-19 | FUJIFILM Corporation | Photocurable ink composition and image forming method |
GB201815405D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
GB201815407D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions |
CN113518805B (zh) * | 2018-12-28 | 2023-08-08 | 意大利艾坚蒙树脂有限公司 | 光引发剂 |
JP7256592B2 (ja) | 2019-03-06 | 2023-04-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
EP3950856B1 (en) | 2019-03-29 | 2024-04-17 | FUJIFILM Corporation | Photocurable ink composition and image recording method |
GB201904581D0 (en) | 2019-04-02 | 2019-05-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes and processes for their preparation |
GB201917710D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
WO2022014292A1 (ja) | 2020-07-15 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物 |
GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
GB202015379D0 (en) | 2020-09-29 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202015546D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202015436D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compositions and polymer films |
GB202015440D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compounds, compositions and polymer films |
GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
GB202101153D0 (en) | 2021-01-28 | 2021-03-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer films |
GB202104403D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer Film |
GB202104408D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Cationically charged membranes |
WO2023026884A1 (ja) * | 2021-08-26 | 2023-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物の製造方法、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤 |
GB202113997D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202113996D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Films and their uses |
GB202114000D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202113999D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
CN113861010B (zh) * | 2021-10-13 | 2024-09-03 | 湖南勤润新材料有限公司 | 单取代及多取代官能团芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂 |
CN116283520A (zh) * | 2021-12-20 | 2023-06-23 | 安庆莱霆光电科技有限公司 | 芳酮、α-羟基酮及α-胺基酮的制备方法 |
GB202201759D0 (en) | 2022-02-11 | 2022-03-30 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202204625D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
GB202204631D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202204633D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
GB202207568D0 (en) | 2022-05-24 | 2022-07-06 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
KR20250088519A (ko) | 2022-09-29 | 2025-06-17 | 후지필름 매뉴팩츄어링 유럽 비.브이. | 멤브레인 |
CN119968423A (zh) | 2022-09-29 | 2025-05-09 | 富士胶片制造欧洲有限公司 | 膜 |
WO2024068601A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
CN119968424A (zh) | 2022-12-22 | 2025-05-09 | 富士胶片制造欧洲有限公司 | 膜 |
WO2024132502A1 (en) | 2022-12-22 | 2024-06-27 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
IT202300004737A1 (it) | 2023-03-14 | 2024-09-14 | Igm Resins Italia Srl | Uso di fotoiniziatori specifici in un processo di fotopolimerizzazione utilizzando lunghezze d’onda combinate di luce a led |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53144539A (en) * | 1977-05-17 | 1978-12-15 | Merck Patent Gmbh | Hydroxyalkylphenones and application to optical sensitozer |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE651543C (de) * | 1936-03-21 | 1937-10-16 | Chemische Werke Vorm H & E Alb | Verfahren zur Herstellung von ªÏ-Dimethylaminoalkylarylketonen |
DE671786C (de) * | 1937-11-16 | 1939-02-13 | Albert Ag Chem Werke | Verfahren zur Herstellung von N-[(Benzoylphenyl)-methyl]-tetrahydro-p-oxazin |
US2588123A (en) * | 1946-11-13 | 1952-03-04 | Gen Electric | Preparation of vinyltetrahydronaphthalenes |
US2722512A (en) * | 1952-10-23 | 1955-11-01 | Du Pont | Photopolymerization process |
BE565446A (ja) * | 1957-03-06 | |||
CH365381A (fr) * | 1957-03-29 | 1962-11-15 | Morren Henri | Procédé pour la préparation de dérivés de la pipérazine |
NL246399A (ja) * | 1958-12-19 | |||
DE1164388B (de) * | 1959-03-02 | 1964-03-05 | Temmler Werke | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Aryl-alkylbromketonen |
NL283329A (ja) * | 1961-09-18 | |||
US3465039A (en) * | 1962-09-17 | 1969-09-02 | Andreas J Rottendorf Chem Fab | Therapeutically active secondary and tertiary 1 - halogenphenyl - 2 - amino-alkanones (1) |
US3171858A (en) * | 1963-08-30 | 1965-03-02 | Parke Davis & Co | alpha-ethylamino-o-methylisobutyrophenone |
NL125868C (ja) * | 1964-01-29 | |||
DE1694149C2 (de) * | 1967-05-06 | 1976-01-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Polyester-Form- und Überzugsmassen |
DE1769854C3 (de) * | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
DE1807301A1 (de) * | 1968-11-06 | 1970-06-04 | Bayer Ag | Neue Buttersaeurederivate |
DE1902051A1 (de) * | 1969-01-16 | 1970-08-13 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung alpha-substituierter Benzoine und Benzoinäther |
US3578682A (en) * | 1969-03-20 | 1971-05-11 | Ash Stevens Inc | 2,5-bis-(2-n-lower alkyl amino isopropyl)-1,3,4-trithiolanes and process for the preparation thereof |
DE1923266B2 (de) * | 1969-05-07 | 1977-09-29 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Alpha-hydroxymethylbenzoinaether |
BE759838A (fr) * | 1969-12-04 | 1971-06-03 | Wellcome Found | Cetones a activite biologique |
US3657088A (en) * | 1969-12-17 | 1972-04-18 | Bayer Ag | Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation |
GB1408265A (en) * | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
DE2161085A1 (de) * | 1971-12-09 | 1973-06-14 | Basf Ag | Bindemittel fuer lichthaertende druckfarben |
US3715293A (en) * | 1971-12-17 | 1973-02-06 | Union Carbide Corp | Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings |
DE2232365C2 (de) * | 1972-07-01 | 1982-06-09 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische |
US3829467A (en) * | 1972-07-03 | 1974-08-13 | Rorer Inc William H | Tetrahydronaphthylalkanoic acids and their derivatives |
DE2357866A1 (de) * | 1972-12-06 | 1974-06-12 | Sun Chemical Corp | Unter strahlungseinwirkung haertbare massen |
US3900478A (en) * | 1973-01-29 | 1975-08-19 | Squibb & Sons Inc | 2-methyl-2-piperidino-3'-(trifluoromethyl) propiophenone |
JPS5314041B2 (ja) * | 1973-03-31 | 1978-05-15 | ||
GB1469643A (en) * | 1973-11-19 | 1977-04-06 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
US4048038A (en) * | 1974-07-08 | 1977-09-13 | J. M. Huber Corporation | Electroflocculation cell |
US4017652A (en) * | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
US4024324A (en) * | 1975-07-17 | 1977-05-17 | Uop Inc. | Novel polyolefin composition of matter |
US3988228A (en) * | 1975-08-29 | 1976-10-26 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones |
US4040923A (en) * | 1976-06-03 | 1977-08-09 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones |
US4101584A (en) * | 1976-12-10 | 1978-07-18 | Napp Chemicals Inc. | Bisbenzoin ethers and method of producing benzoin ethers |
US4141807A (en) * | 1977-03-01 | 1979-02-27 | Stauffer Chemical Company | Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds |
DE2808459A1 (de) * | 1977-05-17 | 1979-08-30 | Merck Patent Gmbh | Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren |
DE2962442D1 (de) * | 1978-07-13 | 1982-05-19 | Ciba Geigy Ag | Compositions photodurcissables |
US4279720A (en) * | 1978-07-13 | 1981-07-21 | Ciba-Geigy Corporation | Photocurable composition |
-
1978
- 1978-12-18 US US05/970,016 patent/US4318791A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-12-18 EP EP78810031A patent/EP0003002B1/de not_active Expired
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-
1979
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-
1980
- 1980-01-24 AR AR279736A patent/AR226169A1/es active
-
1988
- 1988-10-04 JP JP63250739A patent/JPH01139554A/ja active Granted
-
1989
- 1989-03-15 JP JP1061101A patent/JPH01308404A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53144539A (en) * | 1977-05-17 | 1978-12-15 | Merck Patent Gmbh | Hydroxyalkylphenones and application to optical sensitozer |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006525399A (ja) * | 2003-05-06 | 2006-11-09 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 新規三官能性光開始剤 |
JP2006276640A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン |
JP2010024276A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | 水性インク組成物、インクジェット記録用水性インク組成物およびインクジェット記録方法 |
JP2010024296A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | 光硬化性組成物、インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0003002A2 (de) | 1979-07-11 |
AR226169A1 (es) | 1982-06-15 |
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