JPH01261243A - Production of optical waveguide - Google Patents
Production of optical waveguideInfo
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- JPH01261243A JPH01261243A JP63087789A JP8778988A JPH01261243A JP H01261243 A JPH01261243 A JP H01261243A JP 63087789 A JP63087789 A JP 63087789A JP 8778988 A JP8778988 A JP 8778988A JP H01261243 A JPH01261243 A JP H01261243A
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- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/134—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はガラス体に光導波路を形成する光導波路製造
方法に関し、特にイオン交換の最適温度としイオン交換
後におけるガラス体冷却処理を円滑に行なうことのでき
る光導波路製遣方1法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to an optical waveguide manufacturing method for forming an optical waveguide in a glass body, and in particular, to an optimum temperature for ion exchange and smooth cooling of the glass body after ion exchange. This invention relates to a first method for fabricating an optical waveguide.
(従来の技術〕
従来のこの種の製造方法は交換イオンを含む化合物、例
えばT℃NO,等単体にて構成される溶融塩に光導波路
を形成するガラス基板を浸漬し、光導波路を形成する部
分にTJ2イオンを拡散し、この拡散した部分がガラス
基板に比べ高屈折率を有することとなり、光導波路を形
成する。(Prior art) In the conventional manufacturing method of this type, a glass substrate for forming an optical waveguide is immersed in a molten salt composed of a compound containing exchanged ions, such as T°CNO, etc., to form an optical waveguide. TJ2 ions are diffused into the portion, and this diffused portion has a higher refractive index than the glass substrate, forming an optical waveguide.
また、他の従来製造方法は特公昭56−18924号公
報に示されるものがある。この他の従来製造方法はアル
カリ金属イオンを含むガラス基板の表面のうち所要の光
導波路に対応する細長い表面部分に、タリウムを含む溶
融塩を接触させてタリウムイオンをガラス基板内部に拡
散させることにより屈折率の高い光導波路を有するガラ
ス体を製造する方法において、前記溶融塩としてTl1
2504が10ないし80モル%、Na2SO4及びに
2SO4のうち一方又は両方の合計が0ないし45モル
%、ZnSO4が5ないし75モル%からなる混合塩を
用いる構成である。Another conventional manufacturing method is disclosed in Japanese Patent Publication No. 18924/1983. Another conventional manufacturing method is to bring molten salt containing thallium into contact with a long and narrow surface portion of the glass substrate surface containing alkali metal ions corresponding to the required optical waveguide, thereby diffusing thallium ions into the glass substrate. In the method for manufacturing a glass body having an optical waveguide with a high refractive index, Tl1 as the molten salt
The composition uses a mixed salt consisting of 10 to 80 mol% of 2504, 0 to 45 mol% of one or both of Na2SO4 and 2SO4, and 5 to 75 mol% of ZnSO4.
上記ガラス基板はアルカリ金属イオンが含まれていなけ
ればならず、に20及びNa2Oのいずれか一方あるい
は両者の総量が少なくとも1モル%、好ましくは2モル
%以上台まれているものとされるが、通常の光学ガラス
はほとんどの条件を満足しており、市販の光学ガラスを
基板材料として用いることができる。The glass substrate must contain alkali metal ions, and the total amount of one or both of Na2O and NaO is at least 1 mol%, preferably 2 mol% or more, Ordinary optical glass satisfies most of the conditions, and commercially available optical glasses can be used as the substrate material.
ガラス基板の表面のうちのタリウムを含む塩と接触させ
るべき所要の光導波路に対応する細長い表面部分は、例
えば光回路を陰画に反転したパターンを有するマスクを
基板上に設けることにより形成される。基板のこの細長
い表面部分にタリウムを含む溶融塩を接触させてタリウ
ムイオンをガラス内部に拡散させて塩中のタリウムイオ
ンと基板中のアルカリ金属イオンとをイオン交換させる
ことにより、基板の前記細長い表面部分の内部にタリウ
ムリッチの屈折率の高い光導波路を有するガラス体(光
回路)が得られる。The elongated surface portion of the surface of the glass substrate corresponding to the required optical waveguide to be brought into contact with the thallium-containing salt is formed, for example, by providing on the substrate a mask having a negative pattern of the optical circuit. The elongated surface of the substrate is brought into contact with a molten salt containing thallium to diffuse thallium ions into the glass, thereby causing ion exchange between the thallium ions in the salt and the alkali metal ions in the substrate. A glass body (optical circuit) having a thallium-rich optical waveguide with a high refractive index inside the portion is obtained.
従来の光導波路製造方法は以上のように構成されていた
ので、交換イオンを含む化合物(例えばTJI NO3
等)単体で構成される溶融塩の場合にはイオン交換の有
効温度領域で発揮性が高くまた分解し易いことから(例
えばTJ2 NO3の融点は350℃前後)、最適条件
下でイオン交換ができないという課題を有していた。ま
た、前記他の従来光導波路製造方法は溶融塩をTλ、S
O4とZnSO4との混合塩にて構成したことから、溶
融塩の液体粘性が高く、ガラス基板(特にパイレックス
ガラス等の場合)冷却時にマスク境界面にクラック(亀
裂)が生じるという課題を有していた。Since the conventional optical waveguide manufacturing method was configured as described above, a compound containing exchanged ions (for example, TJI NO3
etc.) In the case of a molten salt composed of a single substance, it has high performance in the effective temperature range for ion exchange and is easily decomposed (for example, the melting point of TJ2 NO3 is around 350°C), so ion exchange cannot be performed under optimal conditions. There was a problem with this. In addition, in the other conventional optical waveguide manufacturing method, the molten salt is
Since it is composed of a mixed salt of O4 and ZnSO4, the liquid viscosity of the molten salt is high, and there is a problem that cracks occur at the mask boundary surface when the glass substrate (especially in the case of Pyrex glass, etc.) is cooled. Ta.
この発明は上記課題を解決するためになされたもので、
最適温度条件下でイオン交換を行ない得ると共に、イオ
ン交換後のガラス基板冷却時にマスク境界面等にクラッ
ク(亀裂)が生じることなく光導波路を製造することの
できる光導波路製造方法を得ること目的とする。This invention was made to solve the above problems,
An object of the present invention is to obtain a method for manufacturing an optical waveguide that can perform ion exchange under optimal temperature conditions and can manufacture an optical waveguide without causing cracks on the mask boundary surface, etc. when cooling the glass substrate after ion exchange. do.
(課題を解決するための手段)
この発明に係る光導波路製造方法は、Tl12SOaが
IOないし80モル%、Na2SO4およびに、SO4
のうち一方または両方の合計が0ないし45モル%、H
gSO4、NiSO4またはCdSO4のいずれかが5
ないし90モル%からなる混合塩にて溶融塩を形成し、
この溶融塩にアルカリ金属イオンを含むガラス基板の表
面の所要の光導波路に対応する表面部分を接触させ、こ
の接触した表面部分から溶融塩中のタリウムイオンをガ
ラス内部に拡散させて屈折率の高い部分を形成し、この
屈折率の高い部分を導波路とする光導波路を製造するも
のである。(Means for Solving the Problems) In the optical waveguide manufacturing method according to the present invention, Tl12SOa is IO to 80 mol%, Na2SO4 and SO4
The total of one or both of them is 0 to 45 mol%, H
Either gSO4, NiSO4 or CdSO4 is 5
to form a molten salt with a mixed salt consisting of 90 mol%,
A surface portion of the glass substrate containing alkali metal ions corresponding to the required optical waveguide is brought into contact with this molten salt, and the thallium ions in the molten salt are diffused into the glass from this contacted surface portion to create a high refractive index. This method manufactures an optical waveguide using the high refractive index portion as a waveguide.
(作用)
この発明における溶融塩は、ガラスイオン交換の最適温
度条件で安定した混合塩液体状態を保持して有効なイオ
ン交換を行なうと共に、イオン交換後の溶融塩からのガ
ラス基板引上−に際してガラス基板表面、特に光導波路
対応部分とマスクとの境界部分に溶融塩の付着を極力抑
制してガラス体冷却処理を円滑に行ない、マスク境界部
分にクラック(亀裂)を発生させることがない。この溶
融塩によって高精度な光導波路を製造できる。(Function) The molten salt of the present invention maintains a stable mixed salt liquid state under the optimum temperature conditions for glass ion exchange, and performs effective ion exchange. By suppressing the adhesion of molten salt to the surface of the glass substrate, especially at the boundary between the optical waveguide corresponding portion and the mask, the glass body cooling process is performed smoothly, and no cracks are generated at the mask boundary. High-precision optical waveguides can be manufactured using this molten salt.
(実施例〕
以下、この発明の一実施例を第1図及び第2図に基づき
説明する。第1図(A) 、 (B) 、 (C) 、
(D)は光導波路の各製造工程を示す工程態様図、第
2図はガラス基板表面の透過型の干渉顕微鏡写真を示す
。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be explained based on Fig. 1 and Fig. 2. Fig. 1 (A), (B), (C),
(D) is a process diagram showing each manufacturing process of the optical waveguide, and FIG. 2 is a transmission type interference micrograph of the surface of the glass substrate.
上記各図において本実施例に係る光導波路製造方法は、
7422504が50モル%、HgSO4が50モル
%とする混合塩を混融して溶融塩を形成し、この溶融塩
を500°に昇温してイオン交換最適温度とし、アルカ
リ金属イオンを含むガラス基板(1)表面の所要の光導
波路に対応する開口部(21)を上記昇温した溶融塩
(3)に接触させ、この接触した開口部(21)から溶
融塩 (3)中のタリウムイオンをガラス基板 (3)
のガラス内部に拡散させて屈折率の高い部分を形成し、
この屈折率の高い部分を光導波路(12)として製造す
る構成である。In each of the above figures, the optical waveguide manufacturing method according to this example is as follows:
A mixed salt containing 50 mol% of 7422504 and 50 mol% of HgSO4 is mixed to form a molten salt, the molten salt is heated to 500° to reach the optimum temperature for ion exchange, and a glass substrate containing alkali metal ions is prepared. (1) Openings (21) corresponding to the required optical waveguides on the surface of the molten salt heated above
(3), and the thallium ions in the molten salt (3) are transferred to the glass substrate (3) through the contact opening (21).
diffused inside the glass to form a part with a high refractive index.
The structure is such that this portion with a high refractive index is manufactured as an optical waveguide (12).
次に上記構成に基づく本実施例方法の光導波路製造工程
を詳細に説明する。まず、ガラス基板(1)の表面全面
にイオン交換を阻止するためのマスフ部 (2)をスパ
ッタリングにて真空蒸看する(第1図(A))。このガ
ラス基板(1)の全面に蒸看されたマスク部 (2)は
周知の光露光技術にて所要の光導波路パターンがパター
ニングされ、このパターニングされた光導波路パターン
がドライエツチング技術にて開口部(21)として形成
される(第1図(B))。Next, the optical waveguide manufacturing process of this embodiment method based on the above configuration will be explained in detail. First, a mass part (2) for preventing ion exchange is formed on the entire surface of the glass substrate (1) by sputtering (FIG. 1(A)). The mask portion (2) vaporized on the entire surface of the glass substrate (1) is patterned with a desired optical waveguide pattern using well-known light exposure technology, and the patterned optical waveguide pattern is etched into openings using dry etching technology. (21) (FIG. 1(B)).
さらに、Tj22So4とHgSO4とを各50モル%
の割合で混融して形成される溶融塩 (3)を500℃
に昇温する。この溶融塩 (3)は少し茶褐色を呈する
透明液となる。Furthermore, 50 mol% each of Tj22So4 and HgSO4
Molten salt (3) formed by mixing at a ratio of 500℃
The temperature rises to This molten salt (3) becomes a transparent liquid with a slightly brownish color.
この昇温した溶融塩 (3)を容器(4)に収容し、上
記開口部(21)が形成されたガラス基板(1)を溶融
塩 (3)に浸漬して電解Eを印加する(第1図(C)
)。この電解已により溶融塩 (3)中のタリウムイオ
ンが開口部(21)を介してガラス基板(1)のガラス
内部に拡散されて屈折率の高い部分となり、この部分が
光導波路(12)となる(第1図(C)。上記ガラス基
板(1)を溶融塩 (3)中に浸漬する時間は、求める
光導波路(12)の特性、ガラス基板(1)の物性(例
えばBK−7、低融点ガラス等)に依存し、この特性に
応じて適宜設定されることとなる。This heated molten salt (3) is placed in a container (4), and the glass substrate (1) in which the opening (21) is formed is immersed in the molten salt (3), and electrolysis E is applied (the second Figure 1 (C)
). Due to this electrolysis, thallium ions in the molten salt (3) are diffused into the glass of the glass substrate (1) through the opening (21) and become a portion with a high refractive index, and this portion becomes an optical waveguide (12). (Figure 1 (C). The time for immersing the glass substrate (1) in the molten salt (3) depends on the desired characteristics of the optical waveguide (12), the physical properties of the glass substrate (1) (for example, BK-7, (low melting point glass, etc.), and will be set appropriately according to its characteristics.
次に上記イオン交換の終ったガラス基板(1)は、溶融
塩 (3)から引上げられ、徐冷する。この引上げに際
して溶融塩 (3)の粘度が極めて低いためガラス基板
(1)表面に溶融塩 (3)が付着することを極力低減
することとなる。この溶融塩 (3)がガラス基板(1
)表面に付着することが少ないため、徐冷工程において
ガラス基板 (3)が受けるストレスを減少させること
ができる。Next, the glass substrate (1) that has been subjected to the ion exchange is pulled up from the molten salt (3) and slowly cooled. During this pulling, since the viscosity of the molten salt (3) is extremely low, adhesion of the molten salt (3) to the surface of the glass substrate (1) is minimized. This molten salt (3) is attached to the glass substrate (1
) Since it is less likely to adhere to the surface, the stress applied to the glass substrate (3) during the slow cooling process can be reduced.
さらに、徐冷により冷却されたガラス基板は水洗いされ
た後にマスク部 (2)がエツチングにより除去される
(第1図(D))。Further, the glass substrate cooled by slow cooling is washed with water, and then the mask portion (2) is removed by etching (FIG. 1(D)).
上記各工程により製造された光導波路(12)を透過型
の干渉顕微鏡にて観察した状態を第2図に干渉顕微鏡写
真として示す。同図において40〜50μmの巾に亘り
高屈折率領域が形成され、この高屈折率領域の中央部2
0μmが特に高屈折率の部分として形成されている状態
が確認される。なお同図において縦方向の縞は干渉縞で
ある。FIG. 2 shows interference micrographs of the optical waveguide (12) manufactured through each of the above steps observed with a transmission type interference microscope. In the same figure, a high refractive index region is formed over a width of 40 to 50 μm, and the central part 2 of this high refractive index region
It is confirmed that 0 μm is formed as a part with a particularly high refractive index. Note that in the figure, the vertical fringes are interference fringes.
本実施例の場合は、光導波路(12)をガラス基板(1
)表面に形成する必要がある光導波路型センサ等に適用
される。In the case of this example, the optical waveguide (12) is connected to the glass substrate (1
) Applicable to optical waveguide type sensors etc. that need to be formed on the surface.
なお、上記実施例においては光導波路(12)をガラス
基板(1)表面に形成する構成としたが、上記実施例の
最終工程の後にさらに電界印加イオン交換法により高屈
折率部分である光導波路(12)をガラス基板(1)内
部に円形の屈折率プロファイルを有する光導波路を形成
する構成とすることもできる。この場合には光導波路の
導波特性について低損失化を図ることができる作用を有
する。In the above example, the optical waveguide (12) was formed on the surface of the glass substrate (1), but after the final step of the above example, the optical waveguide, which is a high refractive index portion, was further formed by an electric field application ion exchange method. (12) can also be configured such that an optical waveguide having a circular refractive index profile is formed inside the glass substrate (1). In this case, it has the effect of reducing the loss in the waveguide characteristics of the optical waveguide.
また、上記実施例において溶融塩を500℃に昇温して
イオン交換を行なう構成としたが、求める光導波路の特
性等に応じて最適温度(例えば400〜600℃)とす
ることができる。Further, in the above embodiment, the temperature of the molten salt is raised to 500° C. to perform ion exchange, but the temperature can be set to an optimum temperature (for example, 400 to 600° C.) depending on the desired characteristics of the optical waveguide.
さらに、上記実施例においてはNa2SO4およびK2
SO4のうち一方または両方の合計が0モル%として溶
融塩を形成したがJ rx 2504がIQないし8
0モル%、Na2SO4およびK2SO4のうち一方ま
たは両方がOないし45モル%、Hg5o4、)115
04またCdSO4のいずれかが5ないし90モル%と
なる混合塩であればいずれの組合わせによっても溶融塩
を形成することができる。この組合せの態様は求める光
導波路の特性、ガラス基板の特性に基づいて適宜選択的
に設定する。Furthermore, in the above example, Na2SO4 and K2
The sum of one or both of SO4 was 0 mol% to form a molten salt, but J rx 2504 was IQ to 8
0 mol%, one or both of Na2SO4 and K2SO4 is O to 45 mol%, Hg5o4, )115
A molten salt can be formed by any combination of CdSO4 and CdSO4 as long as it is a mixed salt containing 5 to 90 mol%. The aspect of this combination is selectively set as appropriate based on the desired characteristics of the optical waveguide and the characteristics of the glass substrate.
(発明の効果)
以上説明したように、この発明はガラス基板に光導波路
を形成するイオン交換の溶融塩を特有な構成を謀ったこ
とから、最適温度条件下でイオン交換を行ない得ると共
に、イオン交換後のガラス基板引上げに際してガラス基
板表面、特に光導波路対応部分とマスクとの境界部分に
溶融塩の付着を極力抑制できることとなり、ガラス基板
冷却処理に際してマスク境界部分にクラック(亀裂)の
発生を有効に防止して高精度な光導波路を製造できる効
果を奏する。(Effects of the Invention) As explained above, the present invention has designed a unique structure for the ion exchange molten salt that forms the optical waveguide on the glass substrate. When pulling up the glass substrate after replacement, it is possible to minimize the adhesion of molten salt to the surface of the glass substrate, especially at the boundary between the optical waveguide corresponding part and the mask, which effectively prevents cracks from forming at the mask boundary during the glass substrate cooling process. This has the effect that a highly accurate optical waveguide can be manufactured by preventing the above.
第1図はこの発明の一実施例に係る光導波路製造方法の
製造工程を示す態様図、第1図(A)はガラス基板にマ
スクを蒸着する工程説明図、第1図(B)は光導波路パ
ターンに対応する開口部を形成するパターニング・ドラ
イエツチング工程態様図、第1図(C)はイオン交換工
程説明図、第1図(D)はマスク部除去工程説明図、第
2図は干渉縞で表した光導波路の結晶構造の干渉顕微鏡
写真である。
(1)ニガラス基板、(2):マスク部、(3):溶融
塩、 (4):容器、
(11):固定部、 (12) :光導波路、(21)
:開口部、 E;電界。
なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
特許出願人 株式会社島津製作所
π6
51、
鵡あ シハFIG. 1 is a mode diagram showing the manufacturing process of an optical waveguide manufacturing method according to an embodiment of the present invention, FIG. 1(A) is an explanatory diagram of the process of vapor depositing a mask on a glass substrate, and FIG. A diagram of the patterning/dry etching process for forming openings corresponding to the wave path pattern, Figure 1 (C) is an explanatory diagram of the ion exchange process, Figure 1 (D) is an explanatory diagram of the mask part removal process, and Figure 2 is an illustration of the interference process. This is an interference micrograph of the crystal structure of an optical waveguide represented by stripes. (1) Glass substrate, (2): Mask part, (3): Molten salt, (4): Container, (11): Fixing part, (12): Optical waveguide, (21)
: opening, E; electric field. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts. Patent applicant: Shimadzu Corporation π6 51, Shiha Ua
Claims (1)
の光導波路に対応する表面部分にタリウムを含む溶融塩
を接触させてタリウムイオンをガラス内部に拡散させる
ことにより屈折率の高い部分を形成して光導波路を製造
する光導波路製造方法において、上記溶融塩としてTl
_2SO_4が10ないし80モル%、Na_2SO_
4およびK_2SO_4のうち一方または両方の合計が
0ないし45モル%、HgSO_4、NiSO_4また
はCdSO_4のいずれかが5ないし90モル%からな
る混合塩を用いることを特徴とする光導波路製造方法。A molten salt containing thallium is brought into contact with a portion of the surface of the glass substrate containing alkali metal ions that corresponds to the desired optical waveguide, and the thallium ions are diffused into the glass, forming a portion with a high refractive index and forming a light guide. In the method for manufacturing an optical waveguide, Tl is used as the molten salt.
_2SO_4 is 10 to 80 mol%, Na_2SO_
A method for manufacturing an optical waveguide, characterized in that a mixed salt is used in which a total of one or both of HgSO_4 and K_2SO_4 is 0 to 45 mol%, and any of HgSO_4, NiSO_4, or CdSO_4 is 5 to 90 mol%.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63087789A JPH01261243A (en) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | Production of optical waveguide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63087789A JPH01261243A (en) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | Production of optical waveguide |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01261243A true JPH01261243A (en) | 1989-10-18 |
| JPH0511054B2 JPH0511054B2 (en) | 1993-02-12 |
Family
ID=13924748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63087789A Granted JPH01261243A (en) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | Production of optical waveguide |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01261243A (en) |
-
1988
- 1988-04-08 JP JP63087789A patent/JPH01261243A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0511054B2 (en) | 1993-02-12 |
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