JPH01227129A - 画像表示装置 - Google Patents
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- JPH01227129A JPH01227129A JP63054254A JP5425488A JPH01227129A JP H01227129 A JPH01227129 A JP H01227129A JP 63054254 A JP63054254 A JP 63054254A JP 5425488 A JP5425488 A JP 5425488A JP H01227129 A JPH01227129 A JP H01227129A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、画像表示装置特に液晶を用いた画像表示装置
に関するものである。
に関するものである。
従来の技術
近年、液晶を用いた画像表示装置は、薄型、低消費電力
等、多くの特徴を有し、現在普及しているC RT (
Cathode−Ray−Tube )型画像表示装置
に代わる装置として非常に注目を集めている。
等、多くの特徴を有し、現在普及しているC RT (
Cathode−Ray−Tube )型画像表示装置
に代わる装置として非常に注目を集めている。
以下、図面を参照しながら、上述したような従来の液晶
を用いた画像表示装置について説明する。
を用いた画像表示装置について説明する。
第6図は従来の液晶を用いた画像表示装置の単位画素の
平面図、第7図はそのx−yにおける断面図である。第
6図および第7図において、1は石英基板、2はソース
領域、3はチャネル領域、4はドレイン領域、6はゲー
ト酸化膜、6はゲート電極、9はゲートライン、10は
リースコンタクト、11はドレインコンタクト、12は
SiO2膜、13はSiN膜、14は液晶、16は共通
電極、16はガラス板、17は画素電極、18は信号線
である。このような構造は、アクティブマトリックス方
式の画像表示装置と呼ばれるが、画素電極17、共通電
極16および液晶14で容量が構成されている。そして
走査パルスの印加によって、ソース領域2.チャネル領
域3.ドレイン領域4からなるMOSトランジスタをO
Nし、液晶に電圧を印加し続けて単位画素の容量に充電
される。
平面図、第7図はそのx−yにおける断面図である。第
6図および第7図において、1は石英基板、2はソース
領域、3はチャネル領域、4はドレイン領域、6はゲー
ト酸化膜、6はゲート電極、9はゲートライン、10は
リースコンタクト、11はドレインコンタクト、12は
SiO2膜、13はSiN膜、14は液晶、16は共通
電極、16はガラス板、17は画素電極、18は信号線
である。このような構造は、アクティブマトリックス方
式の画像表示装置と呼ばれるが、画素電極17、共通電
極16および液晶14で容量が構成されている。そして
走査パルスの印加によって、ソース領域2.チャネル領
域3.ドレイン領域4からなるMOSトランジスタをO
Nし、液晶に電圧を印加し続けて単位画素の容量に充電
される。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記のような構成では、液晶表示装置の
高精細度化を実現するために、単位画素面積の微細化を
進めていく時、単位画素の面積の減少に従って単位画素
の容量は減少する。この単位画素の容量減少により、液
晶保持時間が減少する。まだ、容量が減少することによ
り、微小なリーク電流により液晶が誤動作する危険性が
高まる。
高精細度化を実現するために、単位画素面積の微細化を
進めていく時、単位画素の面積の減少に従って単位画素
の容量は減少する。この単位画素の容量減少により、液
晶保持時間が減少する。まだ、容量が減少することによ
り、微小なリーク電流により液晶が誤動作する危険性が
高まる。
この結果画質が悪くなるという欠点を有していた。
本発明は上記欠点に鑑み、液晶自身による容量と並列に
付加容量を接続し、高品質の画質を得ることのできる画
像表示装置を提供するものである。
付加容量を接続し、高品質の画質を得ることのできる画
像表示装置を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために、本発明の画像表示装置は、
次段のMOS l−ランジスタのゲートラインの下部に
絶縁膜を介して導電層が設けられて構成されている。
次段のMOS l−ランジスタのゲートラインの下部に
絶縁膜を介して導電層が設けられて構成されている。
作用
この構成によれば、ゲートラインの下部に絶縁膜を介し
て形成する導電層が設けられることにより付加容量が形
成されて、この導電層の面積を変化させることにより、
付加容量の大きさを自由に変化させることができ、画素
単位における容量を自由に設計できる。
て形成する導電層が設けられることにより付加容量が形
成されて、この導電層の面積を変化させることにより、
付加容量の大きさを自由に変化させることができ、画素
単位における容量を自由に設計できる。
また、付加容量を液晶自身による容量と並列に接続し、
大きな容量をもたせる本構成により、液晶保持時間を十
分大きくでき、また、リーク電流の蓄積による液晶の誤
動作を防ぎ、さらに、液晶駆動用MO8トランジスタの
ON 、OFF時の電荷の移動に伴なう液晶印加電圧の
ゆらぎを抑えることができ、この結果、画像表示装置の
画質を大きく向上させることができる。
大きな容量をもたせる本構成により、液晶保持時間を十
分大きくでき、また、リーク電流の蓄積による液晶の誤
動作を防ぎ、さらに、液晶駆動用MO8トランジスタの
ON 、OFF時の電荷の移動に伴なう液晶印加電圧の
ゆらぎを抑えることができ、この結果、画像表示装置の
画質を大きく向上させることができる。
実施例
以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第1図は、本発明の一実施例におけるアクティブマトリ
ックス方式の液晶表示装置の単位画素の平面図、また、
第2図は第1図のムー已における断面図を示すものであ
る。
ックス方式の液晶表示装置の単位画素の平面図、また、
第2図は第1図のムー已における断面図を示すものであ
る。
第1図、第2図において、1は石英基板、2はソース領
域、3はチャネル領域、4はドレイン領域、5はゲート
酸化膜、6はゲート電極、7は付加容量下部電極、8は
絶縁酸化膜、9はゲートライン、10はソースコンタク
ト、11はドレインコンタクト、12は5i02膜、1
3はSiN膜、14は液晶、16は共通電極、16はガ
ラス板、17は画素電極、18は信号線である。したが
って、付加容量はゲートライン9と下部電極7と酸化膜
8から形成される。
域、3はチャネル領域、4はドレイン領域、5はゲート
酸化膜、6はゲート電極、7は付加容量下部電極、8は
絶縁酸化膜、9はゲートライン、10はソースコンタク
ト、11はドレインコンタクト、12は5i02膜、1
3はSiN膜、14は液晶、16は共通電極、16はガ
ラス板、17は画素電極、18は信号線である。したが
って、付加容量はゲートライン9と下部電極7と酸化膜
8から形成される。
本発明の一実施例のアクティブマトリックス方式の液晶
表示装置の製造方法について説明する。
表示装置の製造方法について説明する。
第3図は製造プロセスの概略も示す。
(2L)石英基板1上に例えば減圧CVD法により、厚
さ2oOo〜6000人のポリシリコン膜を形成する。
さ2oOo〜6000人のポリシリコン膜を形成する。
(b)ホトリングラフィによりMOS トランジスタお
よび付加容量下部電極7を形成する領域を形成する。(
C)そして下部電極領域の抵抗を下げるためレジストマ
スクを用いて付加容量下部電極領域7だけにリンまたは
砒素を2X10”〜1014 のドーズ量注入してn
−影領域を形成する。(d)次に、ポリシリコン表面を
0□雰囲気で熱酸化して厚さ600〜1600人のSi
O2膜6.8を形成する。
よび付加容量下部電極7を形成する領域を形成する。(
C)そして下部電極領域の抵抗を下げるためレジストマ
スクを用いて付加容量下部電極領域7だけにリンまたは
砒素を2X10”〜1014 のドーズ量注入してn
−影領域を形成する。(d)次に、ポリシリコン表面を
0□雰囲気で熱酸化して厚さ600〜1600人のSi
O2膜6.8を形成する。
さらに厚さ2000〜4000人のポリシリコンにより
トランジスタのゲート電極6とゲートライン9を形成す
る。そして、ソース領域2およびドレイン領域4にリン
または砒素を1〜3 X 10”のドーズ量注入してn
+形低抵抗領域を形成する。
トランジスタのゲート電極6とゲートライン9を形成す
る。そして、ソース領域2およびドレイン領域4にリン
または砒素を1〜3 X 10”のドーズ量注入してn
+形低抵抗領域を形成する。
(el)それらの上に厚さ7000〜9000Åのノン
ビーフS10□膜12を形成し、レジストマスクを用い
てソースコンタクト1oおよびドレインコンタクト11
の窓を形成する。(0ドレイン領域4はI T O(I
ndium Tin 0xide )をスパッタするこ
とで画素電極17と接続され、またソース領域2はム1
−3iをスパッタすることで信号線18と接続される。
ビーフS10□膜12を形成し、レジストマスクを用い
てソースコンタクト1oおよびドレインコンタクト11
の窓を形成する。(0ドレイン領域4はI T O(I
ndium Tin 0xide )をスパッタするこ
とで画素電極17と接続され、またソース領域2はム1
−3iをスパッタすることで信号線18と接続される。
(りそしてプラズマCvDによる厚さ7oOo〜900
0人t7) S iN保護膜13を形成する。(h)最
後に、液晶14.共通電極16.ガラス板16の順に積
み重ねられて、液晶を用いた画像表示装置が製造される
。
0人t7) S iN保護膜13を形成する。(h)最
後に、液晶14.共通電極16.ガラス板16の順に積
み重ねられて、液晶を用いた画像表示装置が製造される
。
以上のように、次段ゲートライン9の下部に絶縁酸化膜
8を隔てて付加容量下部電極7を設け、これをドレイン
領域4と接続することにより、液晶14および画素電極
17.共通電極16で形成される液晶自身の容量に並列
に付加容量を接続する。これにより、求める画像表示装
置の規格を満たす最適な容量を単位画素に接たせること
かでき、微小リーク電流では誤動作せず、かつ、適当な
液晶保持時間を持った優れた画質を得ることができる。
8を隔てて付加容量下部電極7を設け、これをドレイン
領域4と接続することにより、液晶14および画素電極
17.共通電極16で形成される液晶自身の容量に並列
に付加容量を接続する。これにより、求める画像表示装
置の規格を満たす最適な容量を単位画素に接たせること
かでき、微小リーク電流では誤動作せず、かつ、適当な
液晶保持時間を持った優れた画質を得ることができる。
なお、この実施例では、nチャネルMOS トランジス
タを用いる場合を例にして説明したが、pチャネルMO
3トランジスタにおいても同様の効果が得られることは
言うまでもない。
タを用いる場合を例にして説明したが、pチャネルMO
3トランジスタにおいても同様の効果が得られることは
言うまでもない。
また、本発明による付加容量は、ゲートラインを上部電
極として用いるため、従来のMOS トランジスタのプ
ロセスで同時に形成され製造上非常に有利であるばかり
でなく、付加容量は次段MOSトランジスタのゲートラ
インの下部に形成されるため、その存在が画素面積を減
少させることはなく、液晶を用いた画像表示装置に高輝
度を持たせる上でも非常に有利である。
極として用いるため、従来のMOS トランジスタのプ
ロセスで同時に形成され製造上非常に有利であるばかり
でなく、付加容量は次段MOSトランジスタのゲートラ
インの下部に形成されるため、その存在が画素面積を減
少させることはなく、液晶を用いた画像表示装置に高輝
度を持たせる上でも非常に有利である。
以下、本発明の第2の実施例について、図面を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
第4図は、本発明の第2の実施例におけるアクティブマ
トリックス方式の液晶表示装置の単位画素の平面図、ま
た、第6図は第4図のO−Dにおける断面図を示すもの
である。第1図、第2図の構成と異なるのは、付加容量
をゲートライン9の下部ではなく、ゲートライン9とは
別の位置に形成している点である。
トリックス方式の液晶表示装置の単位画素の平面図、ま
た、第6図は第4図のO−Dにおける断面図を示すもの
である。第1図、第2図の構成と異なるのは、付加容量
をゲートライン9の下部ではなく、ゲートライン9とは
別の位置に形成している点である。
製造方法は第1の実施例と同じである。
このように、ゲートライン9を付加容量の上部電極とし
て用いるのではなく、別に専用の付加容量上部電極9′
を設け、酸化膜8.付加容量下部電極7とで付加容量を
形成することにより、付加容量上部電極9′の電位をゲ
ート電位とは独立にできる。そこで付加容量上部電極9
′を上部共通電極16と同じ電位にしてコモン反転方式
の駆動が可動となり、液晶印加平均電圧を零として液晶
の劣化を防ぎ、長寿命の液晶画像表示装置を製造するこ
とができる。
て用いるのではなく、別に専用の付加容量上部電極9′
を設け、酸化膜8.付加容量下部電極7とで付加容量を
形成することにより、付加容量上部電極9′の電位をゲ
ート電位とは独立にできる。そこで付加容量上部電極9
′を上部共通電極16と同じ電位にしてコモン反転方式
の駆動が可動となり、液晶印加平均電圧を零として液晶
の劣化を防ぎ、長寿命の液晶画像表示装置を製造するこ
とができる。
また、第2の実施例についても第1の実施例と同様に単
位画素に十分大きな容量を持たせることができるため優
れた画質を得ることができる。
位画素に十分大きな容量を持たせることができるため優
れた画質を得ることができる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、液晶自身による容量と並
列に付加容量を形成すれば、微小リーク電流による誤動
作がなく、最適な液晶保持時間を持つ優れた画質を持っ
た液晶画像装置を得ることができ、その実用的効果は大
なるものがある。
列に付加容量を形成すれば、微小リーク電流による誤動
作がなく、最適な液晶保持時間を持つ優れた画質を持っ
た液晶画像装置を得ることができ、その実用的効果は大
なるものがある。
第1図は本発明の第1の実施例における液晶を用いた画
像表示装置の単位画素の平面図、第2図はその断面図、
第3図は製造プロセスの概略図、第4図は本発明の第2
の実施例における液晶を用いた画像表示装置単位画素の
平面図、第S図はその断面図、第6図は従来の液晶を用
いた画像表示装置の単位画素の平面図、第7図はそのE
F線での断面図である。 1・・・・・石英基板、3・・・・・チャネル領域、6
,8・・・・・・絶縁酸化膜、7−・・・・付加容量下
部電極、9・・・・・ゲートライン、12.13・・・
・・・絶縁膜、17・・・・・・画素電極、14・・・
・液晶、15・・・・・・共通電極、16・・・・・・
ガラス板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名2−
゛ソース44zへ ←“kルイJズ≧輯濱 針−ゲーレを碕 1(L−・す、2 コンタクY 11″°ビレイJコシ々りY 第3図 j
像表示装置の単位画素の平面図、第2図はその断面図、
第3図は製造プロセスの概略図、第4図は本発明の第2
の実施例における液晶を用いた画像表示装置単位画素の
平面図、第S図はその断面図、第6図は従来の液晶を用
いた画像表示装置の単位画素の平面図、第7図はそのE
F線での断面図である。 1・・・・・石英基板、3・・・・・チャネル領域、6
,8・・・・・・絶縁酸化膜、7−・・・・付加容量下
部電極、9・・・・・ゲートライン、12.13・・・
・・・絶縁膜、17・・・・・・画素電極、14・・・
・液晶、15・・・・・・共通電極、16・・・・・・
ガラス板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名2−
゛ソース44zへ ←“kルイJズ≧輯濱 針−ゲーレを碕 1(L−・す、2 コンタクY 11″°ビレイJコシ々りY 第3図 j
Claims (2)
- (1)スイッチング素子としてのMOSトランジスタが
マトリックス状に配列され、液晶を用いるアクティブマ
トリックス駆動方式の画像表示装置であって、各単位画
素の前記MOSトランジスタのドレイン領域に接続され
て導電領域が形成され、前記導電領域の上に絶縁膜と電
極が積層されて容量素子が形成されていることを特徴と
する画像表示装置。 - (2)絶縁膜の上の電極が、ゲート電極を共通接続する
ゲートラインであることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63054254A JPH01227129A (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | 画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63054254A JPH01227129A (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | 画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01227129A true JPH01227129A (ja) | 1989-09-11 |
Family
ID=12965420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63054254A Pending JPH01227129A (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | 画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01227129A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6370832A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
-
1988
- 1988-03-08 JP JP63054254A patent/JPH01227129A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6370832A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
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