JPH01165544A - 一部フッ素化されたカルボン酸及びその誘導体並びにその製造方法 - Google Patents
一部フッ素化されたカルボン酸及びその誘導体並びにその製造方法Info
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- JPH01165544A JPH01165544A JP63293755A JP29375588A JPH01165544A JP H01165544 A JPH01165544 A JP H01165544A JP 63293755 A JP63293755 A JP 63293755A JP 29375588 A JP29375588 A JP 29375588A JP H01165544 A JPH01165544 A JP H01165544A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/33—Polycyclic acids
- C07C63/331—Polycyclic acids with all carboxyl groups bound to non-condensed rings
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- C07C65/00—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C65/21—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups
- C07C65/24—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups polycyclic
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
- C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
- C07C51/255—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting
- C07C51/265—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting having alkyl side chains which are oxidised to carboxyl groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一部フッ素化されたカルボン酸、特に一部フン
素化されたカルボン酸並びにその酸ハロゲニド及び種々
のフッ素含有物を有する一部フッ素化されたテトラカル
ボン酸及びその無水物、その製造方法及びその使用法に
関する。
素化されたカルボン酸並びにその酸ハロゲニド及び種々
のフッ素含有物を有する一部フッ素化されたテトラカル
ボン酸及びその無水物、その製造方法及びその使用法に
関する。
対応する1、2−ジメチルフェニル化合物から1.l−
ビス−C4−(1,2−ジカルボキシフェニル) )
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタンを
製造することは、知られテイル(CA 107 : 9
7277j(1987)、NASA、 Techn、
Memory 87113(1985)) 、酸化を過
マンガン酸カリウムを用いて実施し、低い収量及び汚染
された極めて吸湿性生成物(3F−テトラカルボン酸)
を生じる。
ビス−C4−(1,2−ジカルボキシフェニル) )
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタンを
製造することは、知られテイル(CA 107 : 9
7277j(1987)、NASA、 Techn、
Memory 87113(1985)) 、酸化を過
マンガン酸カリウムを用いて実施し、低い収量及び汚染
された極めて吸湿性生成物(3F−テトラカルボン酸)
を生じる。
ジキシリルへキサフルオロプロパン(DX−F6)及び
これと過マンガン酸カリウムを、ピリジンと水とから成
る混合物中で酸化して2.3−ビス−(3,4−ジカル
ボキシフェニル)−へキサフルオロプロパン(6F−テ
トラカルボン酸)のカリウム塩となすことは、米国特許
第3,310.573号明細書中に記載されている。こ
のタイプの酸化は化学物質の多くの必要量を要求し、テ
トラカルボン酸の単離もこの場合極めて煩雑であり、使
用された溶剤系並びに酸化マンガンを後処理しなければ
ならない。
これと過マンガン酸カリウムを、ピリジンと水とから成
る混合物中で酸化して2.3−ビス−(3,4−ジカル
ボキシフェニル)−へキサフルオロプロパン(6F−テ
トラカルボン酸)のカリウム塩となすことは、米国特許
第3,310.573号明細書中に記載されている。こ
のタイプの酸化は化学物質の多くの必要量を要求し、テ
トラカルボン酸の単離もこの場合極めて煩雑であり、使
用された溶剤系並びに酸化マンガンを後処理しなければ
ならない。
2.2−ビス(4−メチルフェニル)へキサフルオロプ
ロパンを、空気酸素で酢酸酸性媒体中でコバルト−及び
臭素イオンから成る触媒の存在下に酸化することは公知
である(ドイツ特許第644777号明細書=CA工:
P168310K(1979))。しかしこの反応を
2個のへキサフルオロイソプロピリデン架橋及び付加的
に1個のジフェニルエーテル架橋を有するフッ素含有化
合物に転用することは、全く予想されなかった。という
のはエーテル架橋が一般に反応挙動を酸化反応の間に変
化させるからである。しかしこの反応を3,4−ジメチ
ルフェニル立体配置を有するフッ素含有化合物に転用す
ることにも、失敗している。というのは得られた化合物
の収量及び純度が不満足なものであるからである。
ロパンを、空気酸素で酢酸酸性媒体中でコバルト−及び
臭素イオンから成る触媒の存在下に酸化することは公知
である(ドイツ特許第644777号明細書=CA工:
P168310K(1979))。しかしこの反応を
2個のへキサフルオロイソプロピリデン架橋及び付加的
に1個のジフェニルエーテル架橋を有するフッ素含有化
合物に転用することは、全く予想されなかった。という
のはエーテル架橋が一般に反応挙動を酸化反応の間に変
化させるからである。しかしこの反応を3,4−ジメチ
ルフェニル立体配置を有するフッ素含有化合物に転用す
ることにも、失敗している。というのは得られた化合物
の収量及び純度が不満足なものであるからである。
更にペンゾールテトラカルボン酸及びその無水物を、テ
トラアルキル−置換されたペンゾールを酸素又は遊離酸
素を含有するガスで重金属化合物及び臭素化合物の存在
下に高められた温度で酸化して製造することは知られて
いる(ドイツ特許公開第2112009号公報)。この
刊行物から、2個の隣接するメチル基の酸化は著しい問
題を生しることが分る。
トラアルキル−置換されたペンゾールを酸素又は遊離酸
素を含有するガスで重金属化合物及び臭素化合物の存在
下に高められた温度で酸化して製造することは知られて
いる(ドイツ特許公開第2112009号公報)。この
刊行物から、2個の隣接するメチル基の酸化は著しい問
題を生しることが分る。
酸化反応の終了後、反応生成物中に酸化されないメチル
基、C1(〇−及びCI(20H−基がある。CIl□
OH−基は隣接カルボキシル基とフタリド環を形成する
。
基、C1(〇−及びCI(20H−基がある。CIl□
OH−基は隣接カルボキシル基とフタリド環を形成する
。
更に加えて、隣接カルボキシ基が重金属と安定な化合物
を形成し、金属塩として沈澱させることができることは
困難である。これは常に触媒の触媒作用活性を著しく減
少させる。この金属塩形成はフタル酸でも、ピロメリッ
ト酸でも認められる。
を形成し、金属塩として沈澱させることができることは
困難である。これは常に触媒の触媒作用活性を著しく減
少させる。この金属塩形成はフタル酸でも、ピロメリッ
ト酸でも認められる。
触媒の触媒作用活性の低下を妨害するために及び特に第
4アルキル基の酸化を助けるために、反応に於て多量の
臭素イオンが存在しなければならない。この方法をフッ
素含有化合物に転用することはできない。というのは記
載された実施条件下での臭素化反応で高い臭素含有率を
有する生成物が得られ、この生成物は分離が困難であり
、最終生成物が十分な純度及び収率で得られないからで
ある。更に一部フッ素化されたポリカルボン酸は反応溶
液から全く品出しない又は不完全にしか晶出せず、その
上一部その重金属塩−これは精製を著しく困難にするー
と;n3されろことが確こ2さ按。
4アルキル基の酸化を助けるために、反応に於て多量の
臭素イオンが存在しなければならない。この方法をフッ
素含有化合物に転用することはできない。というのは記
載された実施条件下での臭素化反応で高い臭素含有率を
有する生成物が得られ、この生成物は分離が困難であり
、最終生成物が十分な純度及び収率で得られないからで
ある。更に一部フッ素化されたポリカルボン酸は反応溶
液から全く品出しない又は不完全にしか晶出せず、その
上一部その重金属塩−これは精製を著しく困難にするー
と;n3されろことが確こ2さ按。
ている。
この挙動は、ポリカルボン酸、たとえばテレフタル酸、
フタル酸又はピロメリット酸が直ちにかつ良好な結晶形
で反応媒体、たとえば酢酸から晶出するのでますます驚
異的である。
フタル酸又はピロメリット酸が直ちにかつ良好な結晶形
で反応媒体、たとえば酢酸から晶出するのでますます驚
異的である。
12個のフッ素原子を有する一部フッ素化されたテトラ
カルボン酸(12F−テトラカルボン酸)は、今まで知
られていない。
カルボン酸(12F−テトラカルボン酸)は、今まで知
られていない。
したがって得られる生成物の高い収率及び高い純度を達
成できる、一部フッ素化されたカルボン酸に関する方法
を提供することが課題となる。−部フッ素化されたテト
ラカルボン酸及びその二無水物はたとえば工業的に重要
な目的に、たとえば航空建設又はマイクロエレクトロニ
クス分野に於て高温の熱にさらされる被覆及び接着に使
用されるポリイミドに関する構成成分である。したがっ
てこの使用分野の多くにとって使用される物質の高い純
度、たとえば99%又はそれ以上の高い純度を要求する
のが望ましい。本発明による方法に従って製造された化
合物のマイクロエレクトロエックスでの使用は、触媒か
ら由来する又は反応工程の間引き込まれるすべての金属
イオンがppm−範囲内の濃度に除去されることも必要
とする。
成できる、一部フッ素化されたカルボン酸に関する方法
を提供することが課題となる。−部フッ素化されたテト
ラカルボン酸及びその二無水物はたとえば工業的に重要
な目的に、たとえば航空建設又はマイクロエレクトロニ
クス分野に於て高温の熱にさらされる被覆及び接着に使
用されるポリイミドに関する構成成分である。したがっ
てこの使用分野の多くにとって使用される物質の高い純
度、たとえば99%又はそれ以上の高い純度を要求する
のが望ましい。本発明による方法に従って製造された化
合物のマイクロエレクトロエックスでの使用は、触媒か
ら由来する又は反応工程の間引き込まれるすべての金属
イオンがppm−範囲内の濃度に除去されることも必要
とする。
高い選択的酸化は、メチル化合物のすべてのメチル基の
可能な限りの完全な酸化及び副反応、たとえば脱カルボ
キシル化及び縮合の妨害から成り立たなければならない
。この目的を達成するために、′特別の酸化条件を見い
出さなければならない。
可能な限りの完全な酸化及び副反応、たとえば脱カルボ
キシル化及び縮合の妨害から成り立たなければならない
。この目的を達成するために、′特別の酸化条件を見い
出さなければならない。
本発明の対象は式
なる化合物であり、したがって式(1)(式中Rは水素
原子又は−COO11である。但しRが水素原子である
場合、酸クロライド、Rが残基〜C00IIである場合
二無水物である。)なる化合物を形成する。
原子又は−COO11である。但しRが水素原子である
場合、酸クロライド、Rが残基〜C00IIである場合
二無水物である。)なる化合物を形成する。
本発明の対象は、
a)式(If)
(式中Xは
を示し、
Rは水素原子又は−COOHである。但しRが水素原子
である場合Xは12F−残基した示さない。)なる化合
物、又は b)Rが水素原子でない場合その無水物、又はc)Rが
水素原子、Xが12F−残基である場合、その酸クロラ
イドを酸性媒体中で高められた圧力及び高められた温度
で触媒混合物の存在下に空気酸化して製造するにあたり
、対応するメチル化合物を酸性有機媒体中で空気酸素の
導入によって120〜220℃の温度で5〜40バール
の圧力で少なくとも2個の重金属化合物並びに臭化物イ
オンの存在下に酸化し、そのまま単離する又は得られた
反応生成物を式(II)なる化合物の二無水物b)又は
酸クロライドC)に変えることを特徴とする上記化合物
の製造方法にもある。
である場合Xは12F−残基した示さない。)なる化合
物、又は b)Rが水素原子でない場合その無水物、又はc)Rが
水素原子、Xが12F−残基である場合、その酸クロラ
イドを酸性媒体中で高められた圧力及び高められた温度
で触媒混合物の存在下に空気酸化して製造するにあたり
、対応するメチル化合物を酸性有機媒体中で空気酸素の
導入によって120〜220℃の温度で5〜40バール
の圧力で少なくとも2個の重金属化合物並びに臭化物イ
オンの存在下に酸化し、そのまま単離する又は得られた
反応生成物を式(II)なる化合物の二無水物b)又は
酸クロライドC)に変えることを特徴とする上記化合物
の製造方法にもある。
本発明の課題は、メチル化合物の酸化に対する特別な条
件を固守することによって解決される。
件を固守することによって解決される。
対応するテトラカルボン酸の場合、90%以上の変換率
が得られる。
が得られる。
その際次の処理が有利である二
1)触媒:
a)触媒、特にCo” 、Mn” 、Ce” 、Br−
に対する成分の選択。
に対する成分の選択。
b)金属イオン総合の最適な割合。
C)反応溶液中の高い全金属濃度。
d)金属イオン:臭化イオンの高い濃度割合。
2)反応条件:
a)高い酸素分圧
b)調節された水含有率
酸化は酸性有機媒体中で行われ、その媒体中でメチルフ
ェニル化合物を分子酸素で酸化する。この場合酸性媒体
は少なくとも40%がモノカルボン酸、たとえば酢酸又
はプロピオン酸又はその混合物から成る。酢酸が、酸化
分解に対するその比較的大きい安定性のために好ましく
い。酸性媒体と使用される出発化合物の割合は、全反応
重量にたいして40 : 60重量%の割合まで使用す
ることができる。
ェニル化合物を分子酸素で酸化する。この場合酸性媒体
は少なくとも40%がモノカルボン酸、たとえば酢酸又
はプロピオン酸又はその混合物から成る。酢酸が、酸化
分解に対するその比較的大きい安定性のために好ましく
い。酸性媒体と使用される出発化合物の割合は、全反応
重量にたいして40 : 60重量%の割合まで使用す
ることができる。
12F−残基を有するジー又はテトラカルボン酸の製造
に使用されるジフェニルエーテル、4,4゛−ビス(2
−(4−メチルフェニル)へキサフルオロイソプロピル
クジフェニルエーテル及び4.4′−ビス(2−(3,
4−ジメチルフェニル)へキサフルオロイソプロピルク
ジフェニルエーテルを、同日に出願され、ドイツ特許出
願第3739795.8号明細書に相当する特許明細書
中に記載された方法、発明の名称“一部フッ素化された
ジフェニルエーテル、その製造方法及びその使用法”に
従って得ることができる。
に使用されるジフェニルエーテル、4,4゛−ビス(2
−(4−メチルフェニル)へキサフルオロイソプロピル
クジフェニルエーテル及び4.4′−ビス(2−(3,
4−ジメチルフェニル)へキサフルオロイソプロピルク
ジフェニルエーテルを、同日に出願され、ドイツ特許出
願第3739795.8号明細書に相当する特許明細書
中に記載された方法、発明の名称“一部フッ素化された
ジフェニルエーテル、その製造方法及びその使用法”に
従って得ることができる。
触媒混合物は少なくとも2個の重金属塩並びに臭化物イ
オンから成る。重金属としてたとえばコバルト、マンガ
ン又はセリウムを使用し、この場合コバルトの存在が常
に必要である。ジカルボン酸の製造でたとえばコバルト
及びマンガンイオンの混合物を使用し、これは付加的に
セリウムイオンを含有することができる。金属塩の混合
物によって全金属濃度をコバルトしか単独で使用しない
場合に比してより低く保つことができる。
オンから成る。重金属としてたとえばコバルト、マンガ
ン又はセリウムを使用し、この場合コバルトの存在が常
に必要である。ジカルボン酸の製造でたとえばコバルト
及びマンガンイオンの混合物を使用し、これは付加的に
セリウムイオンを含有することができる。金属塩の混合
物によって全金属濃度をコバルトしか単独で使用しない
場合に比してより低く保つことができる。
臭化物イオンは酸化の完全な経過に絶対に不可欠である
。金属成分としてコバルト及びマンガンイオンの混合物
を使用する場合、金属を一般に3:1〜1:3、好まし
くは1:1のモル割合で使用する。2つの元素の濃度合
計は、一般に0.01〜0.2、好ましくは0゜02〜
0.12、特に0.04〜0.08グラム原子/kg全
重量である。コバルト及びマンガンと臭素の合計のモル
−割合は一般に1:(0,01〜0.8)、好ましくは
1:(0,05〜0.4)である。ジカルボン酸の製造
に於て一般に1:(0,01〜2)、好ましくは1:(
0,025〜1)及び特に1:(0,05〜0.2)で
ある。前述の様に、触媒の2つの金属イオンに加えてセ
リウムイオンも使用することができる。これは不完全に
酸化された中間段階の酸化を触媒作用する。その存在は
一部フッ素化されたカルボン酸の純度及び収率を増加さ
せる。セリウムを触媒にコバルL及びマンガンイオンと
セリウムイオンの合計のモル−割合−1:(0,02〜
1.2)、好ましくは1:(0,05〜0,6)で加え
る。ジカルボン酸の場合、割合は1:(0,02〜2)
、好ましくは1:(0,05〜1)、特に1:(0,2
〜0.6)である。コバルトとセリウムの金属イオン混
合物を使用する場合、2つの金属のモル割合は一般に1
:(0,02〜1.2)である。この場合金属と臭素と
の割合は前述の通りである。モル割合は、常に全重量に
、すなわち酸化すべき化合物、溶剤及び触媒の合計に関
係する。金属イオンをその酢酸塩の形で使用するのが好
ましい。
。金属成分としてコバルト及びマンガンイオンの混合物
を使用する場合、金属を一般に3:1〜1:3、好まし
くは1:1のモル割合で使用する。2つの元素の濃度合
計は、一般に0.01〜0.2、好ましくは0゜02〜
0.12、特に0.04〜0.08グラム原子/kg全
重量である。コバルト及びマンガンと臭素の合計のモル
−割合は一般に1:(0,01〜0.8)、好ましくは
1:(0,05〜0.4)である。ジカルボン酸の製造
に於て一般に1:(0,01〜2)、好ましくは1:(
0,025〜1)及び特に1:(0,05〜0.2)で
ある。前述の様に、触媒の2つの金属イオンに加えてセ
リウムイオンも使用することができる。これは不完全に
酸化された中間段階の酸化を触媒作用する。その存在は
一部フッ素化されたカルボン酸の純度及び収率を増加さ
せる。セリウムを触媒にコバルL及びマンガンイオンと
セリウムイオンの合計のモル−割合−1:(0,02〜
1.2)、好ましくは1:(0,05〜0,6)で加え
る。ジカルボン酸の場合、割合は1:(0,02〜2)
、好ましくは1:(0,05〜1)、特に1:(0,2
〜0.6)である。コバルトとセリウムの金属イオン混
合物を使用する場合、2つの金属のモル割合は一般に1
:(0,02〜1.2)である。この場合金属と臭素と
の割合は前述の通りである。モル割合は、常に全重量に
、すなわち酸化すべき化合物、溶剤及び触媒の合計に関
係する。金属イオンをその酢酸塩の形で使用するのが好
ましい。
臭素を臭化物、たとえば臭化アンモニウムを含めたアル
カリ金属の臭化物及び金属コバルト、マンガン及びセリ
ウムの臭化物又は水又は氷酢酸中に臭化水素を有する溶
液として使用することができる。更に臭素含有有機化合
物を使用することもできる。これは酸化の間に分解し、
臭素イオン、たとえばテトラブロモエタンを遊離する。
カリ金属の臭化物及び金属コバルト、マンガン及びセリ
ウムの臭化物又は水又は氷酢酸中に臭化水素を有する溶
液として使用することができる。更に臭素含有有機化合
物を使用することもできる。これは酸化の間に分解し、
臭素イオン、たとえばテトラブロモエタンを遊離する。
反応溶液中の臭化物イオン−濃度を極めて著しく一モル
割合ΣM’ :Br(金属イオンと臭素イオンの合計)
に対して約20の値まで一下げることができ、その際反
応速度の顕著な低下はない。同時に反応溶液中でテトラ
メチル化合物:Brの割合も増加するこの処理によって
、所望されない核臭素化を著しく減少させる。
割合ΣM’ :Br(金属イオンと臭素イオンの合計)
に対して約20の値まで一下げることができ、その際反
応速度の顕著な低下はない。同時に反応溶液中でテトラ
メチル化合物:Brの割合も増加するこの処理によって
、所望されない核臭素化を著しく減少させる。
酸化を一般に120〜220℃、好ましくは140〜1
90℃、特に155〜180℃の温度で実施する。反応
容器中での圧力は一般に5〜40、好ましくは10〜3
0、特に14〜20バールである。
90℃、特に155〜180℃の温度で実施する。反応
容器中での圧力は一般に5〜40、好ましくは10〜3
0、特に14〜20バールである。
処理法に関して酸化に必要な空気は反応容器の底近くの
液相中に導入し、激しく攪拌して又は特別な噴射管を通
して液相中に微分散するのが有利である。特にその酸素
含有率が純粋な酸素の混合によって21容量%以上の割
合に増加した酸化混合物を導入するのが有利である。こ
の処理によって高い酸素分圧が液相中に生じるガス泡中
に得られる。酸素分圧が導入装置の排出箇所で少なくと
も1バール、好ましくは2〜15、特に3〜10バール
である場合が好ましい。
液相中に導入し、激しく攪拌して又は特別な噴射管を通
して液相中に微分散するのが有利である。特にその酸素
含有率が純粋な酸素の混合によって21容量%以上の割
合に増加した酸化混合物を導入するのが有利である。こ
の処理によって高い酸素分圧が液相中に生じるガス泡中
に得られる。酸素分圧が導入装置の排出箇所で少なくと
も1バール、好ましくは2〜15、特に3〜10バール
である場合が好ましい。
更に排ガスの残存酸素含有率が一定の値を下回らないの
が、この処理の実施にあたり好都合である。酸素−分圧
を式 %式%) によって定義する。すなわちこれは残存酸素含有量及び
当該反応温度で全圧と酢酸蒸気圧(ac−蒸気圧)との
差から成る数学的生成物である。反応溶液上部のガス相
中のこの酸素分圧は0.2バールを下回らず、好ましく
は0.35〜2.8、特に0.45〜1.3バールでな
ければならない。
が、この処理の実施にあたり好都合である。酸素−分圧
を式 %式%) によって定義する。すなわちこれは残存酸素含有量及び
当該反応温度で全圧と酢酸蒸気圧(ac−蒸気圧)との
差から成る数学的生成物である。反応溶液上部のガス相
中のこの酸素分圧は0.2バールを下回らず、好ましく
は0.35〜2.8、特に0.45〜1.3バールでな
ければならない。
著しい発熱反応の終了後、すべてのメチル基の酸化を完
了するために反応容器を1〜3時間、好ましくは2時間
、150〜190℃、好ましくは160〜180℃に酸
素分圧0.4〜2バール、好ましくは0.5〜1.3バ
ールで保つのが好都合である。
了するために反応容器を1〜3時間、好ましくは2時間
、150〜190℃、好ましくは160〜180℃に酸
素分圧0.4〜2バール、好ましくは0.5〜1.3バ
ールで保つのが好都合である。
本発明による方法の実施は反応が実施される酸性媒体の
水濃度によってかなり左右される。テトラメチル化合物
をたとえば水濃度15%及びそれ以上を有する酢酸中で
酸化することもできるが、その際収率は減少し、特に得
られた生成物の純度及び4個のメチル基すべての酸化は
不完全にしか進行しない。一方無水酢酸中で触媒の金属
イオンをテトラカルボン酸によって沈澱させ、それによ
って不活性化することが認められた。金属イオンを溶解
残存し、酸化が十分に完全に進行する水濃度に対する範
囲はモノカルボン酸、たとえば酢酸中に2〜12、好ま
しくは2〜7、特に3〜5%水である。
水濃度によってかなり左右される。テトラメチル化合物
をたとえば水濃度15%及びそれ以上を有する酢酸中で
酸化することもできるが、その際収率は減少し、特に得
られた生成物の純度及び4個のメチル基すべての酸化は
不完全にしか進行しない。一方無水酢酸中で触媒の金属
イオンをテトラカルボン酸によって沈澱させ、それによ
って不活性化することが認められた。金属イオンを溶解
残存し、酸化が十分に完全に進行する水濃度に対する範
囲はモノカルボン酸、たとえば酢酸中に2〜12、好ま
しくは2〜7、特に3〜5%水である。
驚くべきことに適当な方法によって水を反応溶液から除
去し、テトラカルボン酸をその無水物に変えた場合、テ
トラカルボン酸の二無水物は氷酢酸又は氷酢酸と無水酢
酸との混合物中に僅かに可溶性であることが分った。こ
の変換を蒸留によって及び(又は)無水酢酸の添加によ
って行うことができる。二無水物を高い収率で及び十分
に濾過しうる形で晶出し、氷酢酸、好ましくは氷酢酸及
び無水酢酸から成る混合物で洗浄して金属塩及び可溶性
副生成物を除く。氷酢酸と無水酢酸から成る混合物での
洗滌が特に適する。というのは混合物が濾過ケーキの固
化を防げるからである。二無水物は純度94〜97%で
生じる。
去し、テトラカルボン酸をその無水物に変えた場合、テ
トラカルボン酸の二無水物は氷酢酸又は氷酢酸と無水酢
酸との混合物中に僅かに可溶性であることが分った。こ
の変換を蒸留によって及び(又は)無水酢酸の添加によ
って行うことができる。二無水物を高い収率で及び十分
に濾過しうる形で晶出し、氷酢酸、好ましくは氷酢酸及
び無水酢酸から成る混合物で洗浄して金属塩及び可溶性
副生成物を除く。氷酢酸と無水酢酸から成る混合物での
洗滌が特に適する。というのは混合物が濾過ケーキの固
化を防げるからである。二無水物は純度94〜97%で
生じる。
驚くべきことに金属塩が無水物形成の間にも溶解するの
で、この最初の精製処理の後すでにすべての金属イオン
の含有量は50〜1100ppである。
で、この最初の精製処理の後すでにすべての金属イオン
の含有量は50〜1100ppである。
テトラカルボン酸の変換を、反応溶液から酢酸と水の混
合物を留去し、次いで加熱下に少過剰の無水酢酸を計算
量の無水酢酸(溶液中で約3〜12%無水酢酸)上に加
える様に実施するのが好ましい。
合物を留去し、次いで加熱下に少過剰の無水酢酸を計算
量の無水酢酸(溶液中で約3〜12%無水酢酸)上に加
える様に実施するのが好ましい。
特別な処理変法は、高められた温度で及び加圧下で反応
溶液からカラムを介して水を5留去することにある。こ
の条件下で同様にテトラカルボン酸の二無水物が水の離
脱下に生じる。同時に金属塩も再び溶解する。二無水物
への変換を完了するために、最後に溶液が約3〜12%
無水酢酸を含有する量で加える。
溶液からカラムを介して水を5留去することにある。こ
の条件下で同様にテトラカルボン酸の二無水物が水の離
脱下に生じる。同時に金属塩も再び溶解する。二無水物
への変換を完了するために、最後に溶液が約3〜12%
無水酢酸を含有する量で加える。
水の蒸留による除去によって二無水物を形成することは
、好ましくは140℃以上の温度で、必要な場合不活性
ガスの付加的な加圧下で実施する。
、好ましくは140℃以上の温度で、必要な場合不活性
ガスの付加的な加圧下で実施する。
酢酸を全部又は一部他の脂肪族カルボン酸、たとえばプ
ロピオン酸、ヘキサン酸又は2−エチルヘキサン酸に代
えることもできる。
ロピオン酸、ヘキサン酸又は2−エチルヘキサン酸に代
えることもできる。
一般に濾過された及び洗滌された二無水物を空気流中で
、好ましくは減圧下に高められた温度で乾燥する。
、好ましくは減圧下に高められた温度で乾燥する。
テトラカルボン酸として単離した場合、無機又は有機酸
、たとえば塩酸の存在下に処理するのが好ましい。低濃
度の酢酸、好ましくは6〜12重量%酢酸を水に溶解し
た場合、テトラカルボン酸を十分に濾過しうる形で水か
ら有利に晶出することができる。その際一般に酸化の終
了後、反応溶液から酢酸を底部温度が約130〜155
°Cであり、溶融物がまだ十分に撹拌できるまで留去す
る様に処理する。熱溶融物中に熱水及び場合により駿を
添加し、溶液をもう一度好ましくは加圧下2時間まで1
30〜150℃に加熱する。
、たとえば塩酸の存在下に処理するのが好ましい。低濃
度の酢酸、好ましくは6〜12重量%酢酸を水に溶解し
た場合、テトラカルボン酸を十分に濾過しうる形で水か
ら有利に晶出することができる。その際一般に酸化の終
了後、反応溶液から酢酸を底部温度が約130〜155
°Cであり、溶融物がまだ十分に撹拌できるまで留去す
る様に処理する。熱溶融物中に熱水及び場合により駿を
添加し、溶液をもう一度好ましくは加圧下2時間まで1
30〜150℃に加熱する。
テトラカルボン酸を水和物として晶出させ、慎重に乾燥
して室温で六水和物として単離することができる。ガス
流中で50〜80℃に加熱して、これをテトラカルボン
酸に及び減圧下180〜190℃に加熱して二無水物に
変える。
して室温で六水和物として単離することができる。ガス
流中で50〜80℃に加熱して、これをテトラカルボン
酸に及び減圧下180〜190℃に加熱して二無水物に
変える。
まだ水湿潤性テトラカルボン酸を溶剤中で懸濁し、水を
留去した場合、特に純粋な生成物が得られる。その際先
ず水和物不含のテトラカルボン酸を生じる。これから更
に温度を高めることによって二無水物が生じる。
留去した場合、特に純粋な生成物が得られる。その際先
ず水和物不含のテトラカルボン酸を生じる。これから更
に温度を高めることによって二無水物が生じる。
芳香族溶剤、たとえばトリオール、0−キジロール、テ
トラヒドロナフタリン、アセトフェノン又はフェニルエ
ーテルが特に適する。
トラヒドロナフタリン、アセトフェノン又はフェニルエ
ーテルが特に適する。
芳香族溶剤中で無水物を形成することは、触媒量のカル
ボン酸、たとえば脂肪族カルボン酸、たとえば酢酸、2
−エチルヘキサン酸又は他の酸、たとえばドルオールス
ルホン酸の添加によって著しく促進することができる。
ボン酸、たとえば脂肪族カルボン酸、たとえば酢酸、2
−エチルヘキサン酸又は他の酸、たとえばドルオールス
ルホン酸の添加によって著しく促進することができる。
酸クロライドに変えるために、零発朋による方法に従っ
て得られるジカルボン酸を公知方法で、たとえばチオニ
ルクロライドで処理し、公知方法に従って反応溶液から
得られる。ジカルボン酸及びその酸クロライドを線状ポ
リカルボン酸アミド及び−カルボン酸エステルの製造に
使用することができる。これは成形体、フィルム及び繊
維として高い熱安定性、優れた機械的性質、良好な透明
度、防汚れ性質及び耐放射線性を有する。
て得られるジカルボン酸を公知方法で、たとえばチオニ
ルクロライドで処理し、公知方法に従って反応溶液から
得られる。ジカルボン酸及びその酸クロライドを線状ポ
リカルボン酸アミド及び−カルボン酸エステルの製造に
使用することができる。これは成形体、フィルム及び繊
維として高い熱安定性、優れた機械的性質、良好な透明
度、防汚れ性質及び耐放射線性を有する。
テトラカルボン酸を重縮合物、たとえばポリイミド、ポ
リカルボン酸アミド、ポリアミドカルボン酸エステル、
ポリアミド及びイミドオリゴマーの製造に使用すること
ができる。これは特に低沸点、高い溶解度、低い誘電率
及び高められた熱安定性を有する。
リカルボン酸アミド、ポリアミドカルボン酸エステル、
ポリアミド及びイミドオリゴマーの製造に使用すること
ができる。これは特に低沸点、高い溶解度、低い誘電率
及び高められた熱安定性を有する。
次の例中「%」は常に「重量パーセント」である。
例
1)1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン(3F
−テトラカルボン酸) 1.1−ビス−(3,4−ジメチルフェニル)−1−フ
ェニル−2,2,2−)リフルオロエタン148.3g
、 Co(OAc)z ・4HzO2,49g、、 M
n(OAc)z ’ 4Hz02.45g、氷酢酸中1
0%HBr−溶液4.1gに相当するHBr 0.41
g及び氷酢酸550gから成る混合物を酸素圧7.5バ
ール下で180〜185℃に加熱する。約100℃から
発熱反応が開始し、約85分間続ける。次いで温度をも
う1時間176℃に保つ。溶液784gが生じる。下降
コンデンサーを介して反応溶液から攪拌下に酢酸−水約
530gを留去する。その際底部温度は145℃に上が
る。熱溶融物に80゛Cの水150gを加え、混合物に
濃塩酸50ydを加え、1時間沸騰加熱する。激しい攪
拌下に冷却し、バッチに3F−テトラカルボン酸の結晶
を注入する。結晶懸濁液を吸引濾取し、4回2n塩酸5
0滅で、2回水25m1で洗滌する。湿性結晶を50℃
/64ミリバールで空気流中で乾燥する。
1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン(3F
−テトラカルボン酸) 1.1−ビス−(3,4−ジメチルフェニル)−1−フ
ェニル−2,2,2−)リフルオロエタン148.3g
、 Co(OAc)z ・4HzO2,49g、、 M
n(OAc)z ’ 4Hz02.45g、氷酢酸中1
0%HBr−溶液4.1gに相当するHBr 0.41
g及び氷酢酸550gから成る混合物を酸素圧7.5バ
ール下で180〜185℃に加熱する。約100℃から
発熱反応が開始し、約85分間続ける。次いで温度をも
う1時間176℃に保つ。溶液784gが生じる。下降
コンデンサーを介して反応溶液から攪拌下に酢酸−水約
530gを留去する。その際底部温度は145℃に上が
る。熱溶融物に80゛Cの水150gを加え、混合物に
濃塩酸50ydを加え、1時間沸騰加熱する。激しい攪
拌下に冷却し、バッチに3F−テトラカルボン酸の結晶
を注入する。結晶懸濁液を吸引濾取し、4回2n塩酸5
0滅で、2回水25m1で洗滌する。湿性結晶を50℃
/64ミリバールで空気流中で乾燥する。
収ffi : 33F−テトラカルボン酸190.4g
(理論値の96.8%)、融点210〜213℃、水
離脱;カルボキシル基含有量: 8.08ミリ当量C0
0II/g (gi算値8.20)。
(理論値の96.8%)、融点210〜213℃、水
離脱;カルボキシル基含有量: 8.08ミリ当量C0
0II/g (gi算値8.20)。
2) 1.1−ビス−(3,4−ジカルボキシルフェニ
ル)−1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエタン
−二無水物(3F−二無水物) 例1に於けると同一の酸化バッチの反応溶液から攪拌下
に下降コンデンサーを介して酢酸−水一混合物400g
を留去する。次いで沸騰温度で無水酢酸122.4g及
び氷酢酸120gから成る混合物を30分かけて滴下し
、1時間還流煮沸する。攪拌下に冷却すると、結晶化が
85℃以下で始まる。4時間後、吸引濾取し、3回氷酢
酸と5%無水酢酸から成る混合物夫々25−で洗滌する
。結晶を80℃/65ミリバールで弱い空気流中で乾燥
する。収(l:3F−二無水物119.0g (理論値
の65.3%)、帯黄色結晶;融点;204〜205.
5℃。
ル)−1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエタン
−二無水物(3F−二無水物) 例1に於けると同一の酸化バッチの反応溶液から攪拌下
に下降コンデンサーを介して酢酸−水一混合物400g
を留去する。次いで沸騰温度で無水酢酸122.4g及
び氷酢酸120gから成る混合物を30分かけて滴下し
、1時間還流煮沸する。攪拌下に冷却すると、結晶化が
85℃以下で始まる。4時間後、吸引濾取し、3回氷酢
酸と5%無水酢酸から成る混合物夫々25−で洗滌する
。結晶を80℃/65ミリバールで弱い空気流中で乾燥
する。収(l:3F−二無水物119.0g (理論値
の65.3%)、帯黄色結晶;融点;204〜205.
5℃。
更に一緒にされた濾液から、融点201〜204°Cを
有する3F−二無水物36.6g(理論値の20.1%
)が得られる。
有する3F−二無水物36.6g(理論値の20.1%
)が得られる。
3)2.2−ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)
−へキサフルオロプロパン(6F−テトラカルボン酸)
定量ポンプ、温度計、攪拌器及び還流冷却器を備えた1
1−ガラスオートクレーブ中で氷酢酸311g中に酢酸
コバルト四水和物2.5g、酢酸マンガン四水和物2.
45g及び臭化水素0.44gを有する溶液を導入する
。これと平行して、無水酢酸102g及び氷酢酸60g
を有する混合物中にジキシリルへキサフルオロプロパン
180.2gを有する溶液を定量添加装置中で調製する
。オートクレーブを酸素の導入して全圧カフ、5バール
下に置き、排気値3ON1/h(N1=normal
1iter)を調整し、内容物を加熱する。約160℃
でジキシリルへキサフルオロプロパンの定量添加を開始
し、100分以内に全量を加える。発熱反応の温度を1
70〜175℃で保ち、バッチを定量添加の終了後にも
う1時間175℃で加熱して保つ。反応混合物(約79
0〜800g)から常圧で酢酸−水一混合物約500g
を留去する。残留物の温度が145℃に上昇するやいな
や、オートクレーブを窒素の導入によって4バールの圧
力下に置き、蒸留水500gを加え、混合物を1時間1
45℃で保つ。次いで室温に冷却し、形成された結晶薄
片を吸引濾取する。母液は6〜lO%酢酸を含有する。
−へキサフルオロプロパン(6F−テトラカルボン酸)
定量ポンプ、温度計、攪拌器及び還流冷却器を備えた1
1−ガラスオートクレーブ中で氷酢酸311g中に酢酸
コバルト四水和物2.5g、酢酸マンガン四水和物2.
45g及び臭化水素0.44gを有する溶液を導入する
。これと平行して、無水酢酸102g及び氷酢酸60g
を有する混合物中にジキシリルへキサフルオロプロパン
180.2gを有する溶液を定量添加装置中で調製する
。オートクレーブを酸素の導入して全圧カフ、5バール
下に置き、排気値3ON1/h(N1=normal
1iter)を調整し、内容物を加熱する。約160℃
でジキシリルへキサフルオロプロパンの定量添加を開始
し、100分以内に全量を加える。発熱反応の温度を1
70〜175℃で保ち、バッチを定量添加の終了後にも
う1時間175℃で加熱して保つ。反応混合物(約79
0〜800g)から常圧で酢酸−水一混合物約500g
を留去する。残留物の温度が145℃に上昇するやいな
や、オートクレーブを窒素の導入によって4バールの圧
力下に置き、蒸留水500gを加え、混合物を1時間1
45℃で保つ。次いで室温に冷却し、形成された結晶薄
片を吸引濾取する。母液は6〜lO%酢酸を含有する。
濾過ケーキを8回夫々氷水5Mで洗滌する。6F−テト
ラカルボン酸六水和物及び付着する水から成る湿性生成
物を8時間40〜50℃150ミリバールで空気流中で
乾燥する。次いで温度を80℃に高め、固体を更に12
時間乾燥する。収ffi 6F−テトラカルボン酸21
2.3g (理論値の88.4%)、融点:231〜2
34℃ (水離脱)、カルボキシル基含有:8.45ミ
リ当量C00I/g (計算値8.33) 、かさ密度
0.30g/cm”、金属イオン含有率(マイクログラ
ム/g):コバルト11マンガン1、臭素189゜ 4)2.2−ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)
−へキサフルオロプロパン−二無水物 例3に於ける処理法に従って、酢酸コバルト四水和物2
.24g 、酢酸マンガン四水和物2.21g及び臭化
水素0.365gを氷酢酸302g中で、氷酢酸125
g中にジキシリルへキサフルオロプロパン142.6g
を有する溶液と反応さはる。酸素圧は8バールであり、
酸化の間の反応温度を165〜175°Cの範囲に保つ
。
ラカルボン酸六水和物及び付着する水から成る湿性生成
物を8時間40〜50℃150ミリバールで空気流中で
乾燥する。次いで温度を80℃に高め、固体を更に12
時間乾燥する。収ffi 6F−テトラカルボン酸21
2.3g (理論値の88.4%)、融点:231〜2
34℃ (水離脱)、カルボキシル基含有:8.45ミ
リ当量C00I/g (計算値8.33) 、かさ密度
0.30g/cm”、金属イオン含有率(マイクログラ
ム/g):コバルト11マンガン1、臭素189゜ 4)2.2−ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)
−へキサフルオロプロパン−二無水物 例3に於ける処理法に従って、酢酸コバルト四水和物2
.24g 、酢酸マンガン四水和物2.21g及び臭化
水素0.365gを氷酢酸302g中で、氷酢酸125
g中にジキシリルへキサフルオロプロパン142.6g
を有する溶液と反応さはる。酸素圧は8バールであり、
酸化の間の反応温度を165〜175°Cの範囲に保つ
。
得られた反応溶液から攪拌下に130°Cの底部温度に
達するまで酢酸及び水を留去する。次いでこの温度で2
0分以内で無水酢酸92g及び氷酢酸200gから成る
混合物を加える。約5重量%無水酢酸を含有する液体を
1時間還流煮沸し、20℃に冷却し、し、この温度で2
I72時間攪拌する。吸引濾取後、濾過ケーキを8回氷
酢酸と無水酢酸(95:5)から成る混合物50gで洗
滌し、得られた結晶を100℃及び60ミリバールで弱
い空気流中で乾燥する。収量:無色結晶165.5g
(94,7%)、半融開始237“C1融点;242〜
243℃、純度95.8%6F−二無水物、痕跡程度の
触媒による汚染: 10ppmコバルト、6ppmマン
ガン、215ppm臭素。
達するまで酢酸及び水を留去する。次いでこの温度で2
0分以内で無水酢酸92g及び氷酢酸200gから成る
混合物を加える。約5重量%無水酢酸を含有する液体を
1時間還流煮沸し、20℃に冷却し、し、この温度で2
I72時間攪拌する。吸引濾取後、濾過ケーキを8回氷
酢酸と無水酢酸(95:5)から成る混合物50gで洗
滌し、得られた結晶を100℃及び60ミリバールで弱
い空気流中で乾燥する。収量:無色結晶165.5g
(94,7%)、半融開始237“C1融点;242〜
243℃、純度95.8%6F−二無水物、痕跡程度の
触媒による汚染: 10ppmコバルト、6ppmマン
ガン、215ppm臭素。
5)6F−テトラカルボン酸から6F−二無水物6F−
テトラカルボン酸212.3gを回転窯発器のフラスコ
中で油浴して190℃で揺動する。形成された水蒸気を
弱い空気流によってフラスコから除く。
テトラカルボン酸212.3gを回転窯発器のフラスコ
中で油浴して190℃で揺動する。形成された水蒸気を
弱い空気流によってフラスコから除く。
冷トラップ中に水15.1gを集める。収l:6F−二
無水物198.5g、融点242〜243.5℃、無水
物グループ4.51バール(計算値4.50)。
無水物198.5g、融点242〜243.5℃、無水
物グループ4.51バール(計算値4.50)。
6)水湿潤性6F−テトラカルボン酸から6F−二無水
物 例3により得られた水湿潤性6F−テトラカルボン酸3
42.2gを、攪拌器及び水分離器を備えたフラスコ中
でテトラヒドロナフタリン700g中に懸濁する。バッ
チを激しい攪拌下に加熱し、水約125gを留去する。
物 例3により得られた水湿潤性6F−テトラカルボン酸3
42.2gを、攪拌器及び水分離器を備えたフラスコ中
でテトラヒドロナフタリン700g中に懸濁する。バッ
チを激しい攪拌下に加熱し、水約125gを留去する。
次いで温度を沸点に上げ、徐々にテトラヒドロナフタリ
ン−これはまだ残存する、離脱される水を有する−を留
去する。もはや水を分離しなくなった時、無水物の形成
が終了する。析出する結晶を20℃でテトラヒドロナフ
タリンで洗滌し、100℃で減圧下で乾燥する。収量2
06.4g (理論値の85.9%)、純度99.9%
、融点:243〜245℃。
ン−これはまだ残存する、離脱される水を有する−を留
去する。もはや水を分離しなくなった時、無水物の形成
が終了する。析出する結晶を20℃でテトラヒドロナフ
タリンで洗滌し、100℃で減圧下で乾燥する。収量2
06.4g (理論値の85.9%)、純度99.9%
、融点:243〜245℃。
例4の条件及び処理法下に実施した次の例7〜31に於
て、本発明による方法の優位性を明らかに証明する。し
たがって例7〜13(表1)生触媒組成の影響が明らか
である。本発明による条件下で高純度の生成物が良好な
収率で得られる。
て、本発明による方法の優位性を明らかに証明する。し
たがって例7〜13(表1)生触媒組成の影響が明らか
である。本発明による条件下で高純度の生成物が良好な
収率で得られる。
例14〜20 (表2)に於て、イオン濃度の及びコバ
ルトとマンガンの割合の影響を証明する。低い全金属濃
度の場合臭素イオン濃度の増加が収量を増加させるが、
これは本発明の処理によって得られる水準に到達しない
ことが認められる。例2l−25(表3)はもう−変臭
化物イオン濃度の影響を示す。
ルトとマンガンの割合の影響を証明する。低い全金属濃
度の場合臭素イオン濃度の増加が収量を増加させるが、
これは本発明の処理によって得られる水準に到達しない
ことが認められる。例2l−25(表3)はもう−変臭
化物イオン濃度の影響を示す。
これが増加すればするほど、最終生成物中に有機的に結
合された臭素の割合はますまず大きくなる。
合された臭素の割合はますまず大きくなる。
金属イオンと臭素イオンとの合計の割合が極めて大きい
場合、収量は著しく低下する。例26〜31(表4)に
於て、水濃度が水含有率15%ですでに収率を明らかに
低下させることを示す。
場合、収量は著しく低下する。例26〜31(表4)に
於て、水濃度が水含有率15%ですでに収率を明らかに
低下させることを示す。
反応に必要な物質量を、バッチの全重量及び表中に記載
した濃度から得ることができる。物質のこの濃度は〔モ
ル/kg )であり、これは使用されるすべての反応成
分(0゜以外)の全重量に基づく。
した濃度から得ることができる。物質のこの濃度は〔モ
ル/kg )であり、これは使用されるすべての反応成
分(0゜以外)の全重量に基づく。
その際酢酸は残存量として得られ、全重量を構成・する
。たとえば0.396モル又は142.7gのジキシリ
ルへキサフルオロプロパン(DX−F6) −量は、全
重量0.6kgで表中の値CDXF6=0.66モル/
kgに相当する。例4に於ける様にDX−F6を反応の
量定量的に添加する。この溶液を調整するために、酢酸
全量の173を使用する。
。たとえば0.396モル又は142.7gのジキシリ
ルへキサフルオロプロパン(DX−F6) −量は、全
重量0.6kgで表中の値CDXF6=0.66モル/
kgに相当する。例4に於ける様にDX−F6を反応の
量定量的に添加する。この溶液を調整するために、酢酸
全量の173を使用する。
例7〜13
触媒組成の影響
生成物品質は化合物の半融点及び融点に関係する。これ
らの値が高ければ高いほど、化合物はより一層純粋であ
る。
らの値が高ければ高いほど、化合物はより一層純粋であ
る。
32) 4.4’−ビス〔2−(カルボキシフェニル)
へキサフルオロイソプロピルクージフェニルエーテル4
.4′−ビス(2−(4−メチルフェニル)へキサフル
オロイソプロピルクージフェニルエーテル250g。
へキサフルオロイソプロピルクージフェニルエーテル4
.4′−ビス(2−(4−メチルフェニル)へキサフル
オロイソプロピルクージフェニルエーテル250g。
Co(OAc)z ・4tlz02.49g、 Mn(
OAc)z ・4Hz02.45g、HBr 0.41
g(=木酢酸中10%HBr−溶液4.1g)及び氷酢
酸550gを攪拌器、ガラス導入管、温度計及び還流冷
却器を備えた11−ガラスオートクレーブ中に導入する
。酸素圧7.5バール下で最高180’Cにまで加熱す
る。発熱性反応が酸素吸収下に約130℃で開始し、4
0分間続ける。最終温度175℃をもう1時間保つ。1
00℃に冷却された反応溶液から酢酸300gを留去し
、蒸留残留物を攪拌下20”Cに冷却する。形成された
結晶懸濁液を吸引漏斗で吸引濾取する。濾過ケーキを7
0”C155ミリバールで弱い空気流中で乾燥する。収
量: 211.8g (理論値の77.6%)、融点:
238−240℃、無色結晶、カルボキシル基含有量
: 2.84ミリ当量C0OH/g (計算値2.82
)。母液から洗滌水の添加によって付加的な生成物が沈
澱する。57.3g(理論値の21.0%)、融点:
227−232℃。
OAc)z ・4Hz02.45g、HBr 0.41
g(=木酢酸中10%HBr−溶液4.1g)及び氷酢
酸550gを攪拌器、ガラス導入管、温度計及び還流冷
却器を備えた11−ガラスオートクレーブ中に導入する
。酸素圧7.5バール下で最高180’Cにまで加熱す
る。発熱性反応が酸素吸収下に約130℃で開始し、4
0分間続ける。最終温度175℃をもう1時間保つ。1
00℃に冷却された反応溶液から酢酸300gを留去し
、蒸留残留物を攪拌下20”Cに冷却する。形成された
結晶懸濁液を吸引漏斗で吸引濾取する。濾過ケーキを7
0”C155ミリバールで弱い空気流中で乾燥する。収
量: 211.8g (理論値の77.6%)、融点:
238−240℃、無色結晶、カルボキシル基含有量
: 2.84ミリ当量C0OH/g (計算値2.82
)。母液から洗滌水の添加によって付加的な生成物が沈
澱する。57.3g(理論値の21.0%)、融点:
227−232℃。
分析: C3zH+eF+zOs
計算値: C54,08% H2,53% F 32.
11%測定値: C54,00% 112.60% F
32.00%33) 4.4’−ビス(2−(4−ク
ロロカルボニルフェニル)へキサフルオロイソプロピル
クージフェニルエーテル チオニルクロライド中に4,4゛−ビス(2−(4−カ
ルボキシフェニル)−へキサフルオロイソプロピルフジ
フェニルエーテルを有する懸濁液に、2〜3滴のジメチ
ルホルムアミドを加え、混合物を塩化水素の発生が終了
するまで還流条件下に加熱する。
11%測定値: C54,00% 112.60% F
32.00%33) 4.4’−ビス(2−(4−ク
ロロカルボニルフェニル)へキサフルオロイソプロピル
クージフェニルエーテル チオニルクロライド中に4,4゛−ビス(2−(4−カ
ルボキシフェニル)−へキサフルオロイソプロピルフジ
フェニルエーテルを有する懸濁液に、2〜3滴のジメチ
ルホルムアミドを加え、混合物を塩化水素の発生が終了
するまで還流条件下に加熱する。
過剰のチオニルクロライドを除去し、ドルオールを加え
て、残存するチオニルクロライドを蒸留によって分離す
る。ドルオールを除去した後、粗生成物をn−へキサン
から再結晶する。
て、残存するチオニルクロライドを蒸留によって分離す
る。ドルオールを除去した後、粗生成物をn−へキサン
から再結晶する。
融点: 144−145℃
34) a) 4.4’−ビス(2−(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)へキサフルオロイソプロピルクージ
フェニルエーテル(12F−テトラカルボン酸)4.4
”−ビス(2−(3,4−ジメチルフェニル)へキサフ
ルオロイソプロピルクージフェニルエーテル200.3
g、、 C0(OAC)2 ・ 4)1go 2.
49g、 Mn(0八c)z ・ 41102.4
5g 、氷酢酸中10%llBr−溶液4.1gに相当
する1lBr0.41g及び氷酢酸550gを、攪拌器
、ガラス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた11−
ガラスオートクレーブ中に導入する。酸素圧7.5バー
ル下で最高188℃にまで加熱する。発熱反応は酸素吸
収下に90〜100℃で開始し、65分間続ける。最終
温度177℃を更に1174時間保つ。溶液816gを
単離する。
ルボキシフェニル)へキサフルオロイソプロピルクージ
フェニルエーテル(12F−テトラカルボン酸)4.4
”−ビス(2−(3,4−ジメチルフェニル)へキサフ
ルオロイソプロピルクージフェニルエーテル200.3
g、、 C0(OAC)2 ・ 4)1go 2.
49g、 Mn(0八c)z ・ 41102.4
5g 、氷酢酸中10%llBr−溶液4.1gに相当
する1lBr0.41g及び氷酢酸550gを、攪拌器
、ガラス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた11−
ガラスオートクレーブ中に導入する。酸素圧7.5バー
ル下で最高188℃にまで加熱する。発熱反応は酸素吸
収下に90〜100℃で開始し、65分間続ける。最終
温度177℃を更に1174時間保つ。溶液816gを
単離する。
b)90℃に冷却された反応溶液を濾過し、濾液を攪拌
器を有する21−口頚フラスコ中に移し、酢酸を底部温
度が140℃になるまで留去する。紫色溶融物に95°
Cの水11を加え、その後エマルジョンが生じる。急速
攪拌下で80°Cで濃塩酸を加える。
器を有する21−口頚フラスコ中に移し、酢酸を底部温
度が140℃になるまで留去する。紫色溶融物に95°
Cの水11を加え、その後エマルジョンが生じる。急速
攪拌下で80°Cで濃塩酸を加える。
エマルジョンに75℃で12F−テトラカルボン酸の結
晶を注入し、その後冷却すると結晶懸濁液が生じる。
晶を注入し、その後冷却すると結晶懸濁液が生じる。
結晶懸濁液を22℃で吸引漏斗で吸引濾取し、2回夫々
2n−塩酸200m1.1回水200mfで洗滌し、水
湿潤性物質を60℃/65ミリバールで弱い空気流中で
乾燥する。
2n−塩酸200m1.1回水200mfで洗滌し、水
湿潤性物質を60℃/65ミリバールで弱い空気流中で
乾燥する。
収量:12F−テトラカルボン酸227.2g (96
,4%)、無色結晶、融点:水の離脱下に163〜16
5°C、カルボキシル基含有量75.06ミリ当Ic0
OII/g(計算値5.01)。
,4%)、無色結晶、融点:水の離脱下に163〜16
5°C、カルボキシル基含有量75.06ミリ当Ic0
OII/g(計算値5.01)。
分析: C3J+aF+zOq
計算値: C5L13% II 2,26% F 28
.57%測定値: C51,00% )I 2,20%
F 28.35%35) 12F−テトラカルボン酸
二無水物例34a)からの反応溶液に95°Cで酢酸3
0m1中にシュウ酸二水和物3.02gを有する溶液を
攪拌下に滴下する。2時間還流した後、100°Cの熱
溶液を濾過し、濾液を熱い酢酸200+++4!で洗滌
する。濾液から酢酸590g及び水を留去する。残留物
に急速攪拌下で80℃以上で30分かけて無水酢酸72
.3gを滴下する。温度は120℃に上界し、1時間こ
の値で保つ(酢酸中で12%無水酢酸)。冷却すると結
晶化が60℃以下で始まる。温度を6時間かけて再び2
0℃に下げる。得られた結晶懸濁液を吸引漏斗で吸引濾
取し、3回夫々25rn1の90%酢酸及び10%無水
酢酸から成る混合物で洗滌し、濾過ケーキを60℃/6
5ミリバールで弱い空気流中で乾燥する。収量=12F
−二無水物179.2g (理論値の79.6%)、溶
融特性:相転移:融解下及び新たな固化下に115〜1
20℃、融点: 168−170℃、n/10苛性ソー
ダ溶液/n/10塩酸で滴定した後、無水物含有量:
2.625ミリ当@C0OH/g (計算値2.625
)。
.57%測定値: C51,00% )I 2,20%
F 28.35%35) 12F−テトラカルボン酸
二無水物例34a)からの反応溶液に95°Cで酢酸3
0m1中にシュウ酸二水和物3.02gを有する溶液を
攪拌下に滴下する。2時間還流した後、100°Cの熱
溶液を濾過し、濾液を熱い酢酸200+++4!で洗滌
する。濾液から酢酸590g及び水を留去する。残留物
に急速攪拌下で80℃以上で30分かけて無水酢酸72
.3gを滴下する。温度は120℃に上界し、1時間こ
の値で保つ(酢酸中で12%無水酢酸)。冷却すると結
晶化が60℃以下で始まる。温度を6時間かけて再び2
0℃に下げる。得られた結晶懸濁液を吸引漏斗で吸引濾
取し、3回夫々25rn1の90%酢酸及び10%無水
酢酸から成る混合物で洗滌し、濾過ケーキを60℃/6
5ミリバールで弱い空気流中で乾燥する。収量=12F
−二無水物179.2g (理論値の79.6%)、溶
融特性:相転移:融解下及び新たな固化下に115〜1
20℃、融点: 168−170℃、n/10苛性ソー
ダ溶液/n/10塩酸で滴定した後、無水物含有量:
2.625ミリ当@C0OH/g (計算値2.625
)。
分析: C:+J+aF+zOt
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子又は−COOHである。但しRが水
素原子である場合、酸クロライド、Rが残基−COOH
である場合二無水物である。)なる化合物。 2)a)式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中Xは ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ を示し、 Rは水素原子又は−COOHである。但しRが水素原子
である場合Xは12F−残基しか示さない。)なる化合
物、又は b)Rが水素原子でない場合その無水物、又はc)Rが
水素原子、Xが12F−残基である場合、その酸クロラ
イドを酸性媒体中で高められた圧力及び高められた温度
で触媒混合物の存在下に空気酸化して製造するにあたり
、対応するメチル化合物を酸性有機媒体中で空気酸素の
導入によって120〜220℃の温度で5〜40バール
の圧力で少なくとも2個の重金属化合物並びに臭化物イ
オンの存在下に酸化し、そのまま単離する又は得られた
反応生成物を式(II)なる化合物の二無水物b)又は酸
クロライドc)に変えることを特徴とする上記化合物の
製造方法。 3)酢酸及び(又は)プロピオン酸を使用する請求項2
記載の方法。 4)反応温度は140〜190、特に155〜180℃
である請求項2〜3のいずれかに記載した方法。 5)圧力を10〜30、特に14〜20バールで処理す
る請求項2〜4のいずれかに記載した方法。 6)酸化に使用される空気酸素は21容量%以上の酸素
含有率を有し、酸素の導入箇所での酸素分圧は少なくと
も1バール、好ましくは2〜15、特に3〜10バール
である請求項2ないし5のいずれかに記載した方法。 7)式Po_2=O_2容量%(P全体−P酢酸蒸気圧
)によって表わされる反応体上のガス相中の酸素分圧は
少なくとも0.2バール、好ましくは0.35〜2.8
特に0.45〜1.3バールである請求項2ないし6の
いずれかに記載した方法。 8)重金属イオンとしてコバルト、マンガン及び(又は
)セリウムを使用し、これを酢酸塩化合物の形で添加す
る請求項2ないし7のいずれかに記載した方法。 9)臭素を臭化物の形で又は水又は氷酢酸中に臭化水素
を有する溶液として使用する請求項2ないし8のいずれ
かに記載した方法。 10)コバルトとマンガンのモル割合は、3:1〜1:
3であり、この際2つの元素コバルトとマンガンの濃度
合計は0.01〜0.20グラム原子/kg全反応重量
、好ましくは0.02〜0.12、特に0.04〜0.
08グラム原子/kgである請求項2ないし9のいずれ
かに記載した方法。 11)コバルト及びマンガンと臭素の合計のモル−割合
は1:(0.01〜0.8)、好ましくは1:(0.0
5〜0.4)、あるいは式(II)に於てRは水素原子、
Xは12F−残基である場合、モル割合1:(0.01
〜2)、好ましくは1:(0.025〜1)、特に1:
(0.05〜0.2)である請求項2ないし10に記載
された方法。 12)付加的な金属イオンとしてセリウムを触媒中にコ
バルト及びマンガンとセリウムの合計のモル−割合=1
:(0.02〜1.2)、好ましくは1:(0.05〜
0.6)であるいはRが水素原子、Xが12F−残基で
ある場合1:(0.02〜2)、好ましくは1:(0.
05〜1)、特に1:(0.2〜0.6)のモル割合で
含有する請求項2ないし10のいずれかに記載した方法
。 13)コバルトとセリウムのモル割合は、Rが式(II)
に於て基−COOHである場合1:(0.02〜1.2
)である請求項2ないし11のいずれかに記載した方法
。 14)反応バッチを、式(II)に於てRが基−COOH
である場合発熱反応の終了後1〜3時間、150〜19
0℃に酸素分圧0.4〜2バールで保つ請求項13のい
ずれかに記載した方法。 15)反応を、式(II)に於てRが基−COOHである
場合モノカルボン酸の水濃度2〜12、好ましくは2〜
7、特に3〜5%で実施する請求項2ないし14のいず
れかに記載した方法。 16)二無水物を少過剰の無水酢酸の使用下に形成する
請求項2ないし15のいずれかに記載した方法。 17)無水物を反応溶液から140℃以上の温度で、場
合により加圧下水の蒸留除去によって形成する請求項2
ないし16のいずれかに記載した方法。 18)反応を完了するために、無水酢酸を溶液中で3〜
12%の含有率になるまで添加する請求項17記載の方
法。 19)二無水物を、180〜190℃に減圧下でテトラ
カルボン酸を加熱することによって製造する請求項2な
いし15のいずれかに記載した方法。 20)二無水物を、水と混和し得ない溶剤中に懸濁され
た水湿潤性テトラカルボン酸から水を蒸留除去して形成
する請求項2ないし15のいずれかに記載した方法。 21)溶剤としてトルオール、o−キシロール、テトラ
ヒドロナフタリン、アセトフェノン又はジフェニルエー
テルを使用する請求項20記載の方法。 22)重縮合物、特にポリイミド、ポリカルボン酸アミ
ド、ポリアミドカルボン酸エステル、ポリアミド及びイ
ミドオリゴマーの製造に請求項1記載の化合物(R=C
OOH)を使用する方法。 23)線状ポリカルボン酸アミド及び−カルボン酸エス
テル、特にこれから成る成形体、フィルム及び繊維の製
造に請求項1記載の化合物(R=H)を使用する方法。
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---|---|---|---|
DE19873739796 DE3739796A1 (de) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | Teilfluorierte tetracarbonsaeure sowie deren dianhydrid, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung |
DE3739796.6 | 1987-11-24 | ||
DE3739797.4 | 1987-11-24 | ||
DE3739800.8 | 1987-11-24 | ||
DE19873739800 DE3739800A1 (de) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | Verfahren zur herstellung teilfluorierter tetracarbonsaeuren |
DE19873739797 DE3739797A1 (de) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | Teilfluorierte dicarbonsaeure sowie deren saeurechlorid, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung |
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JPH01165544A true JPH01165544A (ja) | 1989-06-29 |
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JP63293755A Expired - Fee Related JP2744971B2 (ja) | 1987-11-24 | 1988-11-22 | 一部フッ素化されたカルボン酸及びその誘導体並びにその製造方法 |
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KR (1) | KR890008070A (ja) |
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JP2010006735A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Air Water Inc | 芳香族エーテルテトラカルボン酸二無水物および芳香族エーテルテトラカルボン酸の製造方法 |
WO2023145758A1 (ja) * | 2022-01-27 | 2023-08-03 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素フタル酸誘導体の製造方法及び組成物 |
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DE4020186A1 (de) * | 1990-06-25 | 1992-01-02 | Hoechst Ag | Teilfluorierte tetracarbonsaeure sowie deren dianhydrid, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
US5274126A (en) * | 1990-06-25 | 1993-12-28 | Hoechst Ag | Partially fluorinated tetracarboxylic acid and the dianhydride thereof, a process for their preparation and their use |
AU2001282964A1 (en) * | 2000-07-27 | 2002-02-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Transformation of polymers to useful chemicals by oxidation |
AU2004282162B2 (en) * | 2003-10-14 | 2012-01-19 | X-Ceptor Therapeutics, Inc. | Bridged ring structures as pharmaceutical agents |
CN104529965B (zh) * | 2014-12-03 | 2017-05-24 | 江苏尚莱特医药化工材料有限公司 | 六氟二酐的制备方法 |
CN105061186B (zh) * | 2015-07-20 | 2017-10-20 | 常州大学 | 4,4′‑(六氟异丙烯)二酞酸的制备方法 |
CN111333601A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-06-26 | 山东冠森高分子材料科技股份有限公司 | 一种制备4,4’-(六氟异丙烯基)二酞酸酐的方法 |
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US4196277A (en) * | 1976-07-19 | 1980-04-01 | Trw Inc. | Perfluoroisopropylidene dianhydride and polyimides prepared therefrom |
EP0034413A1 (en) * | 1980-02-12 | 1981-08-26 | Imperial Chemical Industries Plc | Process for the preparation of diphenylether carboxylic acids |
US4650850A (en) * | 1985-09-27 | 1987-03-17 | General Electric Company | Bis(dialkyl aromatic ether anhydride) and polymers obtained therefrom |
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