JP7293679B2 - 保持具、保持装置及び保持方法 - Google Patents
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Description
まず、受光素子200について説明する。図1及び図2には、受光素子200の構成が示されている。なお、受光素子200は、「素子」の一例である。
受光素子200は、端面202(X方向視)及びX方向の断面視が矩形状に形成されていたが、これに限られない。例えば、受光素子200としては、端面202(X方向視)及びX方向の断面視が、例えば、T字状やL字状(逆L字状含む)に形成されたものであってもよい。
次に、受光素子200を製造する素子製造装置300について説明する。図3には、素子製造装置300の構成が示されている。
図3に示されるように、台304は、トレイ401、402が載せられる台である。トレイ401、402は、上下方向を厚み方向とする板状(扁平状)であって、平面視にて略四角形状をしている。このトレイ401、402は、ウエハ14から切り出された複数の受光素子200が載せられる載せ部として機能する。トレイ401、402には、複数の受光素子200のそれぞれが載せられる凹部406が複数形成されている。なお、載せ部としては、トレイ401、402に限られず、箱状のケースなどであってもよい。
保持装置302は、受光素子200を保持する装置である。具体的には、保持装置302は、ウエハ14から切り出された複数の受光素子200を1つずつ保持して、トレイ401、402におけるピックオフ位置に位置する凹部406に搬送する。なお、複数の受光素子200は、後述するように、ウエハ14から切り出された状態において、粘着シート290(図4及び図12参照)の粘着面290Aに貼り付けられている。なお、粘着シート290は、「粘着材」の一例である。
図3に示されるように、支持部342は、ウエハ14を支持する機能を有する部分である。移動機構344は、支持部342をX方向及びY方向へ移動させる機構である。この移動機構344は、支持部342をX方向及びY方向へ移動させることで、ピックアップ位置を含む、予め定められたピックアップ領域(以下、単に「ピックアップ領域」という場合がある)に、受光素子200を移動させる。
突上機構320は、受光素子200を突き上げる機構であり、「突上部」の一例である。具体的には、突上機構320は、図4に示されるように、筒部330と、突上部材としてのニードル322と、吸引部324と、駆動部326(図3参照)と、を有している。
保持機構310は、受光素子200を保持する機構である。具体的には、保持機構310は、図3に示されるように、筐体311と、アーム312と、駆動部360と、保持具340と、を有している。
筐体311は、上部の-Y方向側の側面に開口313を有する箱状に形成されている。アーム312は、筐体311の開口313から-Y方向側へ突出している。
図3に示される保持具340は、受光素子200を保持する具である。具とは、手段を意味する。したがって、保持具340は、受光素子200を保持する保持手段ともいえる。保持具340は、具体的には、保持部370と、吸引機構318と、を有している。
図3に示される制御部359は、保持装置302の各部の動作を制御する機能を有している。カメラ350は、粘着シート290の粘着面290A上の受光素子200を撮像する撮像部である。具体的には、カメラ350は、ピックアップ領域に移動された受光素子200をピックアップ位置へ位置決めするために、当該受光素子200を認識する機能を有している。
本実施形態に係る受光素子200の製造方法は、準備工程と、形成工程と、位置決め工程と、保持工程と、剥離工程と、搬送工程と、を有している。保持工程における保持動作は、保持方法の一例を実行する動作に相当する。
準備工程では、保持具340を有する前述の素子製造装置300を準備する。
形成工程は、半導体基板としてのウエハ14から受光素子200を切り出すことで受光素子200を形成する工程である。形成工程では、例えば、以下のように、受光素子200を切り出す。
位置決め工程は、受光素子200をピックアップ位置に位置決めする工程である。なお、位置決め工程では、後述のように、カメラ350が受光素子200を撮像するため、撮像工程ともいえる。
保持工程は、保持具340で受光素子200を保持する工程である。この保持工程は、位置決め工程において位置決め動作が実行された後に実行される。具体的には、保持工程は、供給工程と、第一突当工程と、吸引工程と、第二突当工程と、を有している。
供給工程は、受光素子200の上面203に空気を供給する工程である。供給工程では、伸縮部315(図3参照)の伸長により、保持部370を-Z方向(下方)へ移動させることで、図14に示されるように、ピックアップ位置に位置決めされた受光素子200に保持部370を接近させる(矢印DO参照)。吸引機構318は、保持部370の受光素子200に対する接近動作中に、吸引管399、空洞377及び複数の吸引孔378を通じて、凹溝392内へ空気を供給する(図14の矢印EK参照)。
第一突当工程は、図15に示されるように、受光素子200の2つの稜線275に保持部370の一対の第一突当面375を突き当てる工程である。第一突当工程では、伸縮部315の伸長により、保持部370をさらに-Z方向(下方)へ移動させることで、ピックアップ位置に位置決めされた受光素子200の2つの稜線275に、保持部370の一対の第一突当面375を突き当てる。当該2つの稜線275に一対の第一突当面375に突き当てた状態は、第一突当工程の後の工程において維持される。
吸引工程は、保持具340の吸引機構318が一対の第一突当面375の間の空気を吸引する工程である。吸引工程では、図16に示されるように、具体的には、吸引機構318(図3参照)が、吸引管399、空洞377及び複数の吸引孔378を通じて、凹溝392内の空気を吸引する。これにより、吸引機構318は、一対の第一突当面375の間且つ、一対の第二突当面395の間の空気を吸引する。
第二突当工程は、受光素子200の2つの稜線295に保持部370の一対の第二突当面395を突き当てる工程である。第二突当工程は、吸引工程における吸引開始後に実行される工程である。なお、第二突当工程では、後述のように、受光素子200をニードル322で突き上げるため、第二突当工程は、受光素子200を突き上げる突上工程ともいえる。
剥離工程は、受光素子200を粘着シート290の粘着面290A上から剥離する工程である。この剥離工程では、保持部370が、受光素子200の上方に反った状態での保持を維持したまま、伸縮部315を縮めることで、図19及び図20に示されるように、保持部370を上昇させて、受光素子200を粘着シート290から剥離する。
搬送工程は、剥離工程にて粘着シート290から剥離された受光素子200をピックオフ位置へ搬送する工程である。なお、搬送工程では、剥離工程にて受光素子200が剥離されたか否かを検知するため、検知工程ともいえる。
廃棄動作では、受光素子200がピックアップ位置に存在するものとして、保持工程を実行し、且つ、保持部370を廃棄位置へ移動させて、吸引機構318による吸引を停止する。これにより、ピックアップ位置に受光素子200が存在する場合に、受光素子200が廃棄位置において、収容部としての廃棄トレイ(図示省略)に廃棄される。
素子製造工程では、形成工程後に、位置決め工程、突上工程、剥離工程及び検知工程が繰り返されることで、ウエハ14(粘着シート290)の一端から他端に向けて受光素子200の幅方向(Y方向)に順番に並んでいる各列の受光素子200を、トレイ401、402の凹部406に載せる。
本実施形態では、供給工程において、受光素子200に保持部370を接近させながら凹溝392内へ空気を供給することで、受光素子200の上面203に空気を供給する。これにより、受光素子200の上面203に載った異物が吹き飛ばされる。このため、空気の供給を行わず、空気の吸引のみを行う場合に比べ、受光素子200の上面203に載った異物による受光部218の損傷が抑制される。なお、受光素子200に保持部370を接近させながら凹溝392内へ空気を供給するため、受光素子200の上面203に当たる空気の量は、変化する(保持部370が受光素子200に近づくに連れ、上面203に当たる空気の量が増える)。このため、保持部370と受光素子200の上面203との間隔を一定にして凹溝392内へ空気を供給する場合に比べ、受光素子200の上面203に載った異物が吹き飛ばしやすい。
なお、本実施形態では、素子の一例として受光素子200を用いたが、これに限られない。素子の一例としては、例えば、発光素子であってもよい。発光素子の場合は、機能部が、発光部となる。
318 吸引機構(吸引部の一例、供給部の一例)
320 突上機構(突上部の一例)
340 保持具
375 第一突当面(第一面の一例)
378 吸引孔
392 凹溝
395 第二突当面(第二面の一例)
Claims (7)
- 一方向に延び上面に機能部を有する複数の素子が該一方向及び該一方向とは交差する幅方向に配置された粘着材を支持する支持部と、
該複数の素子の内の一の素子の該幅方向に沿う2つの稜線に突き当たる一対の第一面と、
該一対の第一面間の気体を吸引する吸引部と、
該一対の第一面が該2つの稜線に突き当たり、該吸引部が該気体を吸引した状態で、該素子及び該粘着材が該吸引部の吸引方向に反るように、該素子の下面を該粘着材ごと突き上げる突上部と、
該気体の吸引方向に反った該素子における該一方向に沿う他の2つの稜線に突き当たる一対の第二面を有する一対の突当部であって、該一対の第一面を該2つの稜線に突き当てたとき、下端が、該気体の吸引方向に反る前の該素子の該上面よりも上方に位置している一対の突当部と、
を有する保持装置。 - 底が平面である凹溝が形成され、該凹溝の周縁部に、前記一対の第一面及び前記一対の第二面が形成された請求項1に記載の保持装置。
- 前記底が鏡面加工されている請求項2に記載の保持装置。
- 前記吸引部が吸引を開始する前に、前記上面に気体を供給する供給部を備える請求項1~3のいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記吸引部は、前記一対の第一面の間に配置された吸引孔を通じて、前記一対の第一面間の気体を吸引し、
前記供給部は、前記吸引孔を通じて、前記上面に気体を供給する
請求項4に記載の保持装置。 - 請求項1~5のいずれか1項に記載の保持装置を準備する準備工程と、
前記2つの稜線に前記保持装置の一対の第一面を突き当てる第一突当工程と、
前記第一突当工程の後に、前記保持装置の吸引部が前記一対の第一面間の気体を吸引する吸引工程と、
前記吸引工程における吸引の開始後に、前記他の2つの稜線に前記保持装置の一対の第二面を突き当てる第二突当工程と、
を有する素子の保持方法。 - 前記準備工程は、請求項4又は5に記載の保持装置を準備し、
前記保持装置の供給部が、少なくとも前記吸引工程の前に、前記上面に気体を供給する供給工程
を有する請求項6に記載の素子の保持方法。
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