JP7187229B2 - 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents
電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7187229B2 JP7187229B2 JP2018176217A JP2018176217A JP7187229B2 JP 7187229 B2 JP7187229 B2 JP 7187229B2 JP 2018176217 A JP2018176217 A JP 2018176217A JP 2018176217 A JP2018176217 A JP 2018176217A JP 7187229 B2 JP7187229 B2 JP 7187229B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrophotographic photoreceptor
- general formula
- evaluation
- charge
- surface layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 title claims description 146
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 53
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 227
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 171
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 161
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 161
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 147
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 131
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 131
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 128
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 91
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 55
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 55
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 38
- -1 acryloyloxy group Chemical group 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 23
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 21
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 256
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 60
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 47
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 46
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 15
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 14
- 229920006361 Polyflon Polymers 0.000 description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 12
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 10
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 10
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 8
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 6
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 6
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 4
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 4
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical class C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- PEVRKKOYEFPFMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,3-hexafluoroprop-1-ene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F.FC(F)=C(F)C(F)(F)F PEVRKKOYEFPFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 1lambda4,2lambda4-dimolybdacyclopropa-1,2,3-triene Chemical compound [Mo]=C=[Mo] QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical class C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 239000004420 Iupilon Substances 0.000 description 1
- 229910039444 MoC Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical class N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- XGQGTPFASZJKCD-UHFFFAOYSA-N fluorocyclopentane Chemical compound FC1[CH]CCC1 XGQGTPFASZJKCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M molport-000-691-708 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[Ga](Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003967 siloles Chemical class 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14717—Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/1473—Polyvinylalcohol, polyallylalcohol; Derivatives thereof, e.g. polyvinylesters, polyvinylethers, polyvinylamines
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0578—Polycondensates comprising silicon atoms in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/04—Exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G13/045—Charging or discharging distinct portions of the charge pattern on the recording material, e.g. discharging non-image areas, contrast enhancement
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/06—Developing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/047—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure characterised by the charge-generation layers or charge transport layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0539—Halogenated polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0546—Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/056—Polyesters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14717—Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14726—Halogenated polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14717—Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14734—Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14747—Macromolecular material obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14752—Polyesters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14747—Macromolecular material obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14773—Polycondensates comprising silicon atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14791—Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/442—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
特許文献2には、フッ素原子を含む樹脂粒子の分散性を改良するために、特定の分散剤を用いる技術が開示されている。
特許文献3には、フッ素原子を含む樹脂粒子および特定の分散剤から得られる分散液を、硬化性樹脂からなる表面層に適用した例が記載されている。
下記一般式(2)で示される構造および下記一般式(3)で示される構造を有する樹脂と、
を含有する組成物の共重合物を含有し、電荷輸送性化合物が有する重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選択され、上記組成物中の、一般式(1)で示される化合物の含有量が、0.10質量%以上であることを特徴とする。
本発明に係る電子写真感光体は、支持体と、感光層と、を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の表面層が、フッ素原子を含む樹脂粒子と、重合性官能基を2つ以上有する電荷輸送性化合物と、下記一般式(1)で示される化合物と、
下記一般式(2)で示される構造および下記一般式(3)で示される構造を有する樹脂と、
を含有する組成物の共重合物を含有し、電荷輸送性化合物が有する重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選択され、上記組成物中の、下記一般式(1)で示される化合物の含有量が、0.10質量%以上であることを特徴とする。
本発明で用いられるフッ素原子を含む樹脂粒子(フッ素原子含有樹脂粒子)としては、例えば、四フッ化エチレン樹脂粒子、三フッ化エチレン樹脂粒子、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂粒子、フッ化ビニル樹脂粒子、フッ化ビニリデン樹脂粒子、二フッ化二塩化エチレン樹脂粒子などが挙げられる。また、それら樹脂の共重合体の粒子も挙げられる。これらの中でも、四フッ化エチレン樹脂粒子が好ましい。
以上40.0質量%以下であることが好ましい。
本発明において、重合性官能基を2つ以上有する電荷輸送性化合物としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物などが挙げられる。
以下に電荷輸送性化合物の具体例として、例示化合物(C-1)~(C-20)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらは複数種類用いてもよい。
一般式(1)で示される化合物について説明する。一般式(1)中、R1は、水素原子またはメチル基であり、R2は、炭素原子数3以上6以下のアルキル基である。本発明において、以下に一般式(1)で示される化合物の具体例として、例示化合物(A-1)~(A-48)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらは複数種類用いてもよい。一般式(1)で示される化合物の中でも、本発明の効果が大きい点から、R2の炭素原子数は3であることが好ましい。より好ましくは、例示化合物(A-1)または例示化合物(A-25)である。
一般式(2)で示される構造および一般式(3)で示される構造を有する樹脂について説明する。一般式(2)中、R11は、水素原子またはメチル基であり、R12は炭素原子数1以上4以下のアルキレン基であり、aは、3~5のいずれかの整数である。本発明において、以下に一般式(2)で示される樹脂の原料となるモノマーの化合物の具体例として、例示化合物(F-1)~(F-16)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の効果がより高まる点で、上記組成物中にさらに下記一般式(6)で示される化合物を含有させることが好ましい。
次に、本発明の一態様に係る電子写真感光体の構成について述べる。図1(a)~(d)は、本発明の実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。
以下、各層について説明する。
図1(a)に示したように、本実施形態に係る電子写真感光体は、支持体101を有する。本実施形態において、支持体101は導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体101の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体101の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
また、樹脂やガラスには、導電性材料を混合または被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
図1(b)に示したように、本実施形態に係る電子写真感光体において、支持体101の上に、導電層102を設けてもよい。導電層102を設けることで、支持体101表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体101表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などを更に含有してもよい。
図1(b)に示したように、本実施形態に係る電子写真感光体において、支持体101または導電層102の上に、下引き層103を設けてもよい。下引き層103を設けることで、層間の接着機能が高まり、電荷注入阻止機能を付与することができる。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
また、下引き層は、添加剤を更に含有してもよい。
本実施形態に係る電子写真感光体の感光層は、主に、(1)積層型感光層と、(2)単層型感光層とに分類される。電子写真特性の観点からは積層型感光層が好ましい。
上述のように、積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、40質量%以上85質量%以下であることが好ましく、60質量%以上80質量%以下であることがより好ましい。
電荷輸送層は、電荷輸送性化合物と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷輸送層中の電荷輸送性化合物の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、25質量%以上70質量%以下であることが好ましく、30質量%以上55質量%以下であることがより好ましい。
電荷輸送性化合物と樹脂との含有量比(質量比)は、4:10~20:10が好ましく、5:10~12:10がより好ましい。
上述のように、単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送性化合物を共に含有する。単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送性化合物、樹脂および溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この感光層用塗布液の塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送性化合物および樹脂としては、上記「(1)積層型感光層」における材料の例示と同様である。
上述のように、本実施形態に係る電子写真感光体の表面層は、重合性官能基を2つ以上有する電荷輸送性化合物と、一般式(1)で示される化合物と、フッ素原子を含む樹脂粒子と、一般式(2)で示される構造および一般式(3)で示される構造を有する樹脂とを含有する組成物の共重合物を含有し、電荷輸送性化合物が有する重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選択され、上記組成物中の、一般式(1)で示される化合物の含有量が、0.10質量%以上である。
次に、本発明に用いられる電子写真感光体の表面加工について説明する。
表面層の表面には、研磨シート、形状転写型部材(モールド)、ガラスビーズ、ジルコニアビーズなど用いて表面加工を施してもよい。また、塗布液の構成材料を使って表面に凹凸を形成させてもよい。電子写真感光体に接触させるクリーニング手段(クリーニングブレード)の挙動をより安定化させる目的で、電子写真感光体の表面層に凹部または凸部を設けることができる。
形成するべき凹部に対応した凸部を有するモールドを電子写真感光体の周面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の周面に凹部を形成することができる。
図4に示す圧接形状転写加工装置400によれば、被加工物である電子写真感光体401を回転させながら、その周面に連続的にモールド402を接触させ、加圧することにより、電子写真感光体401の周面に凹部や平坦部を形成することができる。加圧時の圧力は特に限定されるものではないが、例えば、3.0~10.0MPaの圧力で電子写真感光体と加圧部材をモールドに押し付けながら、電子写真感光体を周方向に回転させて、電子写真感光体の表面層(周面)の全面に凹部を形成することができる。
電子写真感光体の表面層を研磨し粗さを付与する場合は、電子写真感光体に研磨具を当接させ、いずれか一方あるいは両方を相対的に移動させて電子写真感光体の表面を研磨することにより、粗さを付与することができる。研磨具としては、基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなる研磨部材などが挙げられる。
本実施形態に係る電子写真感光体を研磨する研磨装置の一例について説明する。図5は、研磨シートを用いて円筒状の電子写真感光体を研磨する装置である。図5中、研磨シート501は中空の軸506に巻かれており、軸506に研磨シート501が送られる方向と逆方向に、研磨シート501に張力が与えられるようモーター(不図示)が配置されている。研磨シート501は矢印方向に送られ、ガイドローラー502a,502bを介してバックアップローラー503を通り、研磨後の研磨シート501はガイドローラー502c,502dを介してモーター(不図示)により巻き取り手段505に巻き取られる。研磨は、研磨シート501を被処理体(研磨を行う前の電子写真感光体)504に常時圧接して行われる。研磨シート501は絶縁性であることが多いため、研磨シート501の接する部位には、アースに接地されたものまたは導電性を有するものを用いることが好ましい。
本発明の一態様に係るプロセスカートリッジは、上述した電子写真感光体と、帯電手段、現像手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
(製造例1)
特許第4436456号明細書の「合成例(E-3)」に記載の方法により、例示化合物(F-10)で示される化合物が主成分である生成物を得た。
式(7)で示される化合物 70部
例示化合物(F-10)で示される化合物が主成分である生成物 30部
トリフルオロトルエン 270部
アゾビスイソブチロニトリル 0.35部
上記各成分を導入した上記フラスコに窒素ガスを導入し、還流下(約100℃に加熱)に、14時間反応させた。この反応液を10倍量のメタノール中に投入、沈澱させ、濾過を行った。
直径30mm、長さ357.5mm、肉厚0.7mmのアルミニウムシリンダーを支持体(導電性支持体)とした。
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間160℃で乾燥させることによって、膜厚が18μmの下引き層を形成した。
分散処理後、酢酸エチル100部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
この電荷発生層用塗布液を上記下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を10分間90℃で乾燥させることによって、膜厚が0.19μmの電荷発生層を形成した。
この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を60分間120℃で乾燥させることによって、膜厚18μmの電荷輸送層を形成した。
評価用の電子写真装置として、キヤノン株式会社製の複写機(商品名:imageRUNNER iR-ADVC5051)の改造機を使用した。
各実施例および比較例の電子写真感光体を上記複写機とともに温度15℃/湿度10%RHの環境下で3日間放置した後、使用した。
初期の画像は、各実施例の電子写真感光体をブラック用のプロセスカートリッジに装着し、これを本体のブラックのステーションにセットし、その画像比率5%の画像をA4縦サイズ紙にて20万枚出力した。20万枚の画像出力前後の感光層の膜厚変化分を摩耗量として評価した。評価結果を表1に示す。なお、摩耗量が2.0μm以下の場合、耐摩耗性が良好であると判断できる。
評価用の電子写真装置として、キヤノン株式会社製の複写機(商品名:imageRUNNER iR-ADVC5051)の改造機を使用した。
各実施例および比較例の電子写真感光体を上記複写機とともに温度15℃/湿度10%RHの環境下で3日間放置した後、使用した。
初期の画像は、各実施例の電子写真感光体をブラック用のプロセスカートリッジに装着し、これを本体のブラックのステーションにセットし、その画像比率5%の画像をA4縦サイズ紙にて20万枚出力した。目視にて、1万枚ごとの、電子写真感光体の表面の傷の発生に起因する画像欠陥(傷画像)の有無を確認した。評価結果を表1に示す。なお、20万枚の通紙を通して傷画像が発生しない場合、耐キズ性が良好であると判断できる。
評価用の電子写真装置として、キヤノン株式会社製の複写機(商品名:imageRUNNER iR-ADVC5051)の改造機を使用した。
各実施例および比較例の電子写真感光体を上記複写機とともに温度15℃/湿度10%RHの環境下で3日間放置した後、使用した。
初期の画像は、各実施例の電子写真感光体をブラック用のプロセスカートリッジに装着し、これを本体のブラックのステーションにセットし、その画像比率5%の画像をA4縦サイズ紙にて20万枚出力した。次に、17階調の画像形成を行い、得られたA4全面の画像を以下の判断基準で画像ランク評価した。
A:縦スジが無く、画像再現性が良好である。
B:わずかに縦スジが見られるが、その他の部分については画像再現性が良好である。
C:拡大観察した際にやや不良が見られるが、画像再現性が良好である。
D:明確な縦スジが発生しており、画像再現性が低い。
評価結果を表1に示す。なお、画像ランクA~Bの場合、クリーニング性が良好であると判断できる。
電子写真感光体の表面電位の測定は、評価装置から現像用カートリッジを抜き取り、そこに電位測定装置を挿入することで行った。電位測定装置は、現像用カートリッジの現像位置に電位測定プローブを配置することで構成されており、電位測定プローブの位置は、電子写真感光体の母線方向の中央とした。
電位の測定は、まず、初期暗部電位が-700Vとなるように印加電圧を調整した。一定の露光量にて780nmレーザー露光照射を行い、初期明部電位(「初期VL」と表記する。)を測定した。
続いて、現像用カートリッジを上記評価装置に取り付け、1000枚の画像出力を行った。1000枚の画像出力後、5分間放置し、現像用カートリッジを電位測定装置に付け替え、繰り返し使用後における各電子写真感光体の明部電位(「耐久後VL」と表記する。)を測定した。「耐久後VL」と「初期VL」との電位差の絶対値を電位変動量として算出した。評価結果を表1に示す。なお、電変動量が25V以下の場合、電位変動量が良好であると判断できる。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物を、例示化合物(C-4)に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A2の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物を、例示化合物(C-17)に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A3の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)で示される化合物を、例示化合物(A-25)に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A4の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
表面層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
本実施例における研磨は、概ね図5に示す研磨装置を用い、以下の条件で行った。
研磨シートの送りスピード;400mm/分
電子写真感光体の回転数;450rpm
電子写真感光体のバックアップローラーへの押し込み;3.5mm
研磨シートと電子写真感光体の回転方向;ウィズ
バックアップローラー;外径100mm、アスカーC硬度25
研磨装置に装着する研磨シートは理研コランダム株式会社製の研磨シートGC3000(研磨シート表面粗さRa0.83μm)を用いた。
上記条件にて表面研磨を10秒間行い、研磨粗面化された表面を有する実施例A8の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
表面層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
次に、電子写真感光体の表面を加工した。
概ね図4に示す構成の圧接形状転写加工装置に、モールドとして概ね図3に示す形状のモールド(本例においては、最大幅X:30μm、最大長さY:75μm、面積率60%、高さH:1.6μmの凸部)を設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体の周面に対して加工形成を行った。
以上のようにして、凹部が加工形成された表面を有する実施例A9の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を68.9部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を1.00部に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A10の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
次に、実施例A1と同様にしてフッ素原子を含む樹脂粒子の分散液を得た。
続いて、例示化合物(C-2)で示される電荷輸送性化合物58.0部、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA、東京化成工業株式会社製)10.9部、例示化合物(A-1)で示される化合物1.00部、シロキサン変性アクリル樹脂(商品名:サイマックUS-270、東亞合成株式会社製)0.10部、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン52部および1-プロパノール70部を上記分散液に加えた。そして、ポリフロンフィルター(商品名:PF-040、アドバンテック東洋株式会社製)で濾過を行うことによって、表面層用塗布液を調製した。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
このようにして、支持体上に下引き層、電荷発生層、電荷輸送層および表面層を有する実施例A11の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A11において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を1.9部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を10.00部に変更した以外は、実施例A11と同様にして、実施例A12の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)で示される化合物を、例示化合物(A-2)に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A13の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)で示される化合物を、例示化合物(A-14)に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A14の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を58.0部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を11.90部に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A15の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
続いて、例示化合物(C-2)で示される電荷輸送性化合物69.7部、例示化合物(A-1)で示される化合物0.10部、下記式(14)で示される化合物0.10部、シロキサン変性アクリル樹脂(商品名:サイマックUS-270、東亞合成株式会社製)0.10部、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン52部および1-プロパノール70部を上記分散液に加えた。そして、ポリフロンフィルター(商品名:PF-040、アドバンテック東洋株式会社製)で濾過を行うことによって、表面層用塗布液を調製した。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を68.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂の量を1.00部に変更した以外は、実施例A1と同様にして、実施例A17の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A17において、表面層用塗布液に用いたシロキサン変性アクリル樹脂をシロキサン変性アクリル樹脂(商品名:BYK-3550、ビックケミー・ジャパン株式会社製)に変更した以外は、実施例A17と同様にして、実施例A18の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A1と同様にして、実施例B1の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A2において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-4))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A2と同様にして、実施例B2の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A3において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-17))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A3と同様にして、実施例B3の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A4において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A4と同様にして、実施例B4の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A5において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を93.5部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A5と同様にして、実施例B5の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A6において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を70.4部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A6と同様にして、実施例B6の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A7において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を68.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A7と同様にして、実施例B7の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A8において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A8と同様にして、実施例B8の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A9において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A9と同様にして、実施例B9の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A10において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.0部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A10と同様にして、実施例B10の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A11において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を11.0部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A11と同様にして、実施例B11の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A12において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を2.0部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A12と同様にして、実施例B12の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A13において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A13と同様にして、実施例B13の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A14において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A14と同様にして、実施例B14の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A15において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)の量を12.00部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A15と同様にして、実施例B15の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
実施例A16において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を69.8部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例A16と同様にして、実施例B16の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表1に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
続いて、例示化合物(C-2)で示される電荷輸送性化合物57.8部、トリメチロールプロパントリアクリレート12.0部、例示化合物(A-1)で示される化合物0.10部、シロキサン変性アクリル樹脂(商品名:サイマックUS-270、東亞合成株式会社製)0.10部、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン52部および1-プロパノール70部を上記分散液に加えた。そして、ポリフロンフィルター(商品名:PF-040、アドバンテック東洋株式会社製)で濾過を行うことによって、表面層用塗布液を調製した。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物を、例示化合物(C-4)に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C2の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物を、例示化合物(C-17)に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C3の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)で示される化合物を、例示化合物(A-25)に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C4の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
表面層の形成までは、実施例C1と同様に行った。
研磨シートの送りスピード;400mm/分
電子写真感光体の回転数;450rpm
電子写真感光体のバックアップローラーへの押し込み;3.5mm
研磨シートと電子写真感光体の回転方向;ウィズ
バックアップローラー;外径100mm、アスカーC硬度25
研磨装置に装着する研磨シートは理研コランダム株式会社製の研磨シートGC3000(研磨シート表面粗さRa0.83μm)を用いた。
表面層の形成までは、実施例C1と同様に行った。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を11.1部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を1.00部に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C10の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を2.1部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を10.00部に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C11の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)で示される化合物を、例示化合物(A-2)に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C12の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)で示される化合物を、例示化合物(A-14)に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C13の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を0.2部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を11.90部に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C14の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
続いて、例示化合物(C-2)で示される電荷輸送性化合物57.8部、トリメチロールプロパントリアクリレート11.9部、例示化合物(A-1)で示される化合物0.10部、式(13)で示される化合物0.10部、シロキサン変性アクリル樹脂(商品名:サイマックUS-270、東亞合成株式会社製)0.10部、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン52部および1-プロパノール70部を上記分散液に加えた。そして、ポリフロンフィルター(商品名:PF-040、アドバンテック東洋株式会社製)で濾過を行うことによって、表面層用塗布液を調製した。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を11.1部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂の量を1.00部に変更した以外は、実施例C1と同様にして、実施例C16の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C16において、表面層用塗布液に用いたシロキサン変性アクリル樹脂をシロキサン変性アクリル樹脂(商品名:BYK-3550、ビックケミー・ジャパン株式会社製)に変更した以外は、実施例C16と同様にして、実施例C17の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C1において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C1と同様にして、実施例D1の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C2において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-4))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C2と同様にして、実施例D2の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C3において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-17))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C3と同様にして、実施例D3の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C4において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C4と同様にして、実施例D4の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C5において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C5と同様にして、実施例D5の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C6において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C6と同様にして、実施例D6の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C7において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C7と同様にして、実施例D7の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C8において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C8と同様にして、実施例D8の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C9において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C9と同様にして、実施例D9の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C10において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C10と同様にして、実施例D10の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C11において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C11と同様にして、実施例D11の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C12において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C12と同様にして、実施例D12の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C13において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C13と同様にして、実施例D13の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C14において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C14と同様にして、実施例D14の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例C15において、表面層用塗布液に用いた電荷輸送性化合物(例示化合物(C-2))の量を57.9部に変更し、さらに、シロキサン変性アクリル樹脂を用いなかった以外は、実施例C15と同様にして、実施例D15の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例D1において、表面層用塗布液に用いたトリメチロールプロパントリアクリレートの量を12.05部に変更し、さらに、例示化合物(A-1)の量を0.05部に変更した以外は、実施例D1と同様にして、比較例E1の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
実施例D1において、表面層用塗布液に用いた例示化合物(A-1)を下記式(15)で示される化合物に変更した以外は、実施例D1と同様にして、比較例E2の電子写真感光体を作製し、磨耗量評価、傷画像評価、17階調画像評価、および電位変動量評価を行った。結果を表2に示す。
電荷輸送層の形成までは、実施例A1と同様に行った。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、実施例A1と同様にして膜厚5μmの表面層を形成した。
102…導電層
103…下引き層
104…感光層
1041…電荷発生層
1042…電荷輸送層
105…表面層
200…電子写真装置
201…電子写真感光体
202…軸
203…帯電手段
204…露光光
205…現像手段
206…転写手段
207…転写材
208…定着手段
209…クリーニング手段
210…前露光光
211…プロセスカートリッジ
212…案内手段
400…圧接形状転写加工装置
401 電子写真感光体
402 モールド
403 加圧部材
404 支持部材
500…研磨装置
501…研磨シート
502a~502d…ガイドローラー
503…バックアップローラー
504…被処理体
505…巻き取り手段
506…中空の軸
Claims (10)
- 支持体と、感光層と、を有する電子写真感光体であって、
該電子写真感光体の表面層が、
フッ素原子を含む樹脂粒子と、
重合性官能基を2つ以上有する電荷輸送性化合物と、
下記一般式(1)で示される化合物と、
下記一般式(2)で示される構造および下記一般式(3)で示される構造を有する樹脂と、
を含有する組成物の共重合物を含有し、
前記電荷輸送性化合物が有する前記重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選択され、
前記組成物中の、前記一般式(1)で示される化合物の含有量が、0.10質量%以上であることを特徴とする電子写真感光体。 - 前記組成物中の、前記電荷輸送性化合物の含有量が、58.0質量%以上99.0質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記組成物が、さらにシロキサン変性アクリル樹脂を含有し、前記組成物中の、前記シロキサン変性アクリル樹脂の含有量が、0.10質量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記組成物中の、前記一般式(1)で示される化合物の含有量が、0.10質量%以上10.0質量%以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記一般式(1)中、R2が、炭素原子数3のアルキル基であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記一般式(1)中、R2が、n-プロピル基であることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 電子写真感光体の製造方法であって、
該製造方法が、
表面層用塗布液を調製する工程、
該表面層用塗布液の塗膜を形成する工程、ならびに、
該塗膜を硬化させることによって該電子写真感光体の表面層を形成する工程
を有し、
該表面層用塗布液が、
フッ素原子を含む樹脂粒子と、
重合性官能基を2つ以上有する電荷輸送性化合物と、
下記一般式(1)で示される化合物と、
下記一般式(2)で示される構造および下記一般式(3)で示される構造を有する樹脂と、
を含有する組成物を含有し、
前記電荷輸送性化合物が有する前記重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選択され、
前記組成物中の、前記一般式(1)で示される化合物の含有量が、0.10質量%以上であり、
前記電子写真感光体の表面層が、前記組成物の共重合物を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 請求項1~7のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018176217A JP7187229B2 (ja) | 2018-09-20 | 2018-09-20 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
US16/552,271 US11175599B2 (en) | 2018-09-20 | 2019-08-27 | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
DE102019125021.8A DE102019125021B4 (de) | 2018-09-20 | 2019-09-17 | Elektrofotografischer fotorezeptor, herstellungsverfahren des elektrofotografischen fotorezeptors, prozesskartusche und elektrofotografisches gerät |
CN201910873182.6A CN110928150B (zh) | 2018-09-20 | 2019-09-17 | 电子照相感光体、电子照相感光体的制造方法、处理盒、和电子照相装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018176217A JP7187229B2 (ja) | 2018-09-20 | 2018-09-20 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020046575A JP2020046575A (ja) | 2020-03-26 |
JP7187229B2 true JP7187229B2 (ja) | 2022-12-12 |
Family
ID=69725600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018176217A Active JP7187229B2 (ja) | 2018-09-20 | 2018-09-20 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11175599B2 (ja) |
JP (1) | JP7187229B2 (ja) |
CN (1) | CN110928150B (ja) |
DE (1) | DE102019125021B4 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7404981B2 (ja) * | 2020-04-08 | 2023-12-26 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体、電子写真画像形成装置及び電子写真画像形成方法 |
JP7444691B2 (ja) * | 2020-04-21 | 2024-03-06 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
EP4155824A1 (en) * | 2021-09-28 | 2023-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus, and method of producing electrophotographic photosensitive member |
JP2023074422A (ja) * | 2021-11-17 | 2023-05-29 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009104145A (ja) | 2006-10-31 | 2009-05-14 | Canon Inc | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP2011070023A (ja) | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、および画像形成装置。 |
JP2013088714A (ja) | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2016184059A (ja) | 2015-03-26 | 2016-10-20 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4174384B2 (ja) | 2003-07-25 | 2008-10-29 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP4702447B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2011-06-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP5659643B2 (ja) * | 2010-09-10 | 2015-01-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
JP6226714B2 (ja) * | 2013-11-22 | 2017-11-08 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP6433238B2 (ja) | 2014-10-29 | 2018-12-05 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP6674270B2 (ja) | 2016-02-09 | 2020-04-01 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP6987542B2 (ja) | 2016-10-31 | 2022-01-05 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
-
2018
- 2018-09-20 JP JP2018176217A patent/JP7187229B2/ja active Active
-
2019
- 2019-08-27 US US16/552,271 patent/US11175599B2/en active Active
- 2019-09-17 DE DE102019125021.8A patent/DE102019125021B4/de active Active
- 2019-09-17 CN CN201910873182.6A patent/CN110928150B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009104145A (ja) | 2006-10-31 | 2009-05-14 | Canon Inc | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP2011070023A (ja) | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、および画像形成装置。 |
JP2013088714A (ja) | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2016184059A (ja) | 2015-03-26 | 2016-10-20 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020046575A (ja) | 2020-03-26 |
CN110928150A (zh) | 2020-03-27 |
US11175599B2 (en) | 2021-11-16 |
US20200096883A1 (en) | 2020-03-26 |
CN110928150B (zh) | 2023-07-18 |
DE102019125021A1 (de) | 2020-03-26 |
DE102019125021B4 (de) | 2022-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6887928B2 (ja) | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP7187229B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
CN108732877B (zh) | 电子照相感光构件、处理盒、和电子照相设备 | |
JP7034829B2 (ja) | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置 | |
JP6433238B2 (ja) | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP6704739B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP7222670B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
US20200159136A1 (en) | Electrophotographic photosensitive member, production method therefor, process cartridge, and electrophotographic image-forming apparatus | |
JP2014038138A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP7449151B2 (ja) | 電子写真感光ドラム | |
JP6639402B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP7346243B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真画像形成装置および電子写真感光体の製造方法 | |
JP2010026240A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP6987544B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP7146459B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP7413115B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
US20200133145A1 (en) | Electrophotographic photoconductor, process cartridge, and electrophotographic apparatus | |
JP6526286B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2010175894A (ja) | 電子写真感光体の感光層の表面研磨方法 | |
JP4250487B2 (ja) | 電子写真装置、プロセスカートリッジ及びファクシミリ装置 | |
JP2023117821A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置、および電子写真感光体の製造方法 | |
JP2023117819A (ja) | 電子写真感光体、電子写真装置、プロセスカートリッジおよび電子写真感光体の製造方法 | |
JP2023048960A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置、並びに電子写真感光体の製造方法 | |
JP2023117807A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置、および電子写真感光体の製造方法 | |
JP7080739B2 (ja) | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210916 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20220630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220901 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221101 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221130 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7187229 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |