JP7187227B2 - 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 - Google Patents
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Description
このようなプリント配線板の製造方法において、昨今の電子機器の高機能化・小型軽量化に伴い、導体回路の高密度化も進み、層間絶縁層にはより小径のビアホール用開口を形成する必要があった。しかしながら、従来の炭酸ガスレーザー加工では、直径40μm以下の開口形成が難しく、一方で、より小径の開口形成が可能なUVレーザー加工も考えられるが、加工時間が長く、生産性に問題があった。
本発明の硬化性樹脂組成物は(A)アルカリ可溶性樹脂を含む。このアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基、チオール基、スルホニル基およびカルボキシル基のうちから選ばれる少なくとも1種の官能基を含有し、アルカリ溶液に可溶な樹脂であれば用いることができ、好ましくはフェノール性水酸基を2個以上有する化合物、カルボキシル基含有樹脂、フェノール性水酸基およびカルボキシル基を有する化合物、チオール基を2個以上有する化合物、スルホ基を有する化合物を用いることができる。特に、アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基含有樹脂がより好ましい。
このカルボキシル基含有樹脂は、光硬化性や耐現像性の観点から、カルボキシル基の他に、分子内にエチレン性不飽和基を有することが好ましい。エチレン性不飽和基としては、(メタ)アクリロイル基が好ましい。本明細書において、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基、メタクリロイル基およびそれらの混合物を総称する用語であり、他の類似の表現についても同様である。
(式(a1)および(a2)中、それぞれ、Rは1価の有機基であり、H、CF3またはCH3であることが好ましく、Xは直接結合または2価の有機基であり、直接結合、CH2またはC(CH3)2等のアルキレン基であることが好ましい。)で表される構造を有する樹脂が、引張強度や伸度等の物性および寸法安定性に優れるため好ましい。溶解性や機械物性の観点から、式(a)の構造を有するアミドイミド樹脂として、式(a1)および(a2)の構造を10~100質量%有する樹脂を好適に用いることができる。より好ましくは20~80質量%である。
(式(b1)および(b2)中、それぞれ、Rは1価の有機基であり、H、CF3またはCH3であることが好ましく、Xは直接結合または2価の有機基であり、直接結合、CH2またはC(CH3)2などのアルキレン基であることが好ましい。)で表される構造を有する樹脂が、引張強度や伸度等の機械的物性に優れる硬化物が得られることから好ましい。溶解性や機械物性の観点から、式(b)の構造を有するアミドイミド樹脂として、式(b1)および(b2)の構造を10~100質量%有する樹脂を好適に用いることができる。より好ましくは20~80質量%である。
このようなアルカリ可溶性樹脂は、その酸価は、20~120mgKOH/gの範囲にあることが好ましく、より好ましくは30~100mgKOH/gの範囲である。アルカリ可溶性樹脂の酸価を上記範囲とすることで、良好にアルカリ現像が可能となり、正常な硬化物のパターンを形成することができる。
また、このようなアルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子量は、その樹脂骨格により異なるが、一般的には1,500~150,000であることが好ましい。その重量平均分子量が1,500以上であると、乾燥塗膜のタックフリー性、露光後の塗膜の耐湿性が良好であり、解像性もより良好となる。一方、重量平均分子量が150,000以下であると、現像性と、貯蔵安定性が良好である。より好ましくは1,500~50,000である。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)成分に加えて、エチレン性不飽和基を有する化合物を含有することができる。なお、本明細書において、(A)成分を含む他の成分がエチレン性不飽和基を有する場合、このような成分は「エチレン性不飽和基を有する化合物」から除くこととする。
光重合性オリゴマーとしては、例えば、不飽和ポリエステル系オリゴマー、(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、フェノールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。
光重合開始剤としては、公知慣用の光重合開始剤であれば、いずれのものを用いることもできる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)成分、(B)成分に加えて、光重合禁止剤を含有することが好ましく、露光時の光の散乱(いわゆるハレーション)を抑制し、解像性を向上させることができる。
具体的には、p-ベンゾキノン、ナフトキノン、ジ-t-ブチル・パラクレゾール、ヒドロキノンモノメチルエーテル、α-ナフトール、4-メトキシ-1-ナフトール、アセトアミジンアセテート、ヒドラジン塩酸塩、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、キノンジオキシム、ピロガロール、タンニン酸、レゾルジン、クペロン、フェノチアジンなどが挙げられる。なかでもp-ベンゾキノン、ナフトキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、キノンジオキシムなどのキノン系光重合禁止剤、α-ナフトール、4-メトキシ-1-ナフトールのナフトール系光重合禁止剤が好ましい。光重合禁止剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(C)熱硬化性化合物を含有する。この熱硬化性化合物は、光硬化された組成物を更に熱硬化することにより、硬化物の耐熱性や絶縁信頼性等の諸特性を向上させることができる。このような熱硬化性化合物としては、アミノ樹脂、メラミン樹脂、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン樹脂、カルボジイミド樹脂、シクロカーボネート化合物、エポキシ化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂等の公知慣用の熱硬化性化合物を用いることができる。なかでも、エポキシ化合物、オキセタン化合物およびマレイミド化合物が好適に用いられ、これらは併用してもよい。
多官能脂肪族/脂環族マレイミドとしては、例えば、N,N’-メチレンビスマレイミド、N,N’-エチレンビスマレイミド、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートと脂肪族/脂環族マレイミドカルボン酸とを脱水エステル化して得られるイソシアヌレート骨格のマレイミドエステル化合物;トリス(カーバメートヘキシル)イソシアヌレートと脂肪族/脂環族マレイミドアルコールとをウレタン化して得られるイソシアヌレート骨格のマレイミドウレタン化合物等のイソシアヌル骨格ポリマレイミド類;イソホロンビスウレタンビス(N-エチルマレイミド)、トリエチレングリコールビス(マレイミドエチルカーボネート)、脂肪族/脂環族マレイミドカルボン酸と各種脂肪族/脂環族ポリオールとを脱水エステル化、又は脂肪族/脂環族マレイミドカルボン酸エステルと各種脂肪族/脂環族ポリオールとをエステル交換反応して得られる脂肪族/脂環族ポリマレイミドエステル化合物類;脂肪族/脂環族マレイミドカルボン酸と各種脂肪族/脂環族ポリエポキシドとをエーテル開環反応して得られる脂肪族/脂環族ポリマレイミドエステル化合物類;脂肪族/脂環族マレイミドアルコールと各種脂肪族/脂環族ポリイソシアネートとをウレタン化反応して得られる脂肪族/脂環族ポリマレイミドウレタン化合物類等がある。
このような多官能芳香族マレイミドの中でも、液状の多官能芳香族マレイミドは、伸び率がより良好となる点でより好ましい。ここで、液状の多官能芳香族マレイミドとは、60℃、5rpmにおける粘度をコーンプレート型粘度計(東機産業社製TVH-33H)にて測定し、50,000cp以下である多官能芳香族マレイミドをいう。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(C)熱硬化性化合物に加えて、熱硬化触媒を含有することができる。この熱硬化触媒としては、例えば、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、4-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体;ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4-(ジメチルアミノ)-N,N-ジメチルベンジルアミン、4-メトキシ-N,N-ジメチルベンジルアミン、4-メチル-N,N-ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド等のヒドラジン化合物;トリフェニルホスフィン等のリン化合物などを使用することができる。
本発明の硬化性樹脂組成物は(D-1)粗化剤により分解または溶解する平均粒子径が0.5~6μmの無機フィラーを含む。本明細書において、粗化剤としては、酸、アルカリ、酸化剤、および、有機溶剤の中から選ばれた少なくとも1種が用いられる。また、粗面化処理がデスミア処理を兼ねてもよい。ここで、酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。酸化剤としては、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、重クロム酸カリウム、オゾン等が挙げられる。有機溶剤としては、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メトキシプロパノール、ジメチルホルムアミド(DMF)等が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物は(D-2)粗化剤により分解または溶解しない球状の無機フィラーを含む。
本発明の硬化性樹脂組成物は、カップリング剤を含有することができる。カップリング剤としては、シラン系カップリング剤やチタン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等を用いることができる。中でも、シラン系カップリング剤が好ましい。カップリング剤が有する有機反応基としては、ビニル基、(メタ)アクリル基等のエチレン性不飽和基(不飽和炭化水素基)、アルコシキ基、エポキシ基、アミノ基、チオウレア基、メルカプト基、イソシアネート基、イミダゾール基、チアゾール基、トリアゾール基等が挙げられるが、特に、チオウレア基、および、ビニル基、(メタ)アクリル基等のエチレン性不飽和基(不飽和炭化水素基)が好ましい。カップリング剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、公知慣用の添加剤を配合することができる。この添加剤としては、(D-1)および(D-2)以外の無機フィラー、有機フィラー、密着性付与剤、アクリル系やシリコーン系のレベリング剤、消泡剤、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、チキソ性付与剤等が挙げられる。また、必要に応じて、酸化チタンや金属酸化物、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物を、光反射性や難燃性の付与を目的に、体質顔料として配合することができる。さらに、赤、青、緑、黄、白、黒などの公知慣用の着色剤を配合することができる。この着色剤としては、顔料、染料、色素のいずれでもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、組成物の調製や、支持フィルムに塗布して樹脂層を形成する際の粘度調整等の目的で、有機溶剤を含有させることができる。
この有機溶剤としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン等のエステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤など、公知慣用の有機溶剤が使用できる。これらの有機溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、支持(キャリア)フィルムと、この支持フィルム上に形成された上記硬化性樹脂組成物からなる乾燥した樹脂層とを備えたドライフィルムの形態とすることもできる。
まず、本発明のドライフィルムを構成する前述した硬化性樹脂組成物を、有機溶剤で希釈して適切な粘度に調整した上で、コンマコーター、ブレードコーター、リップコーター、ロッドコーター、スクイズコーター、リバースコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、スプレーコーター等により、支持フィルム上に均一な厚さに塗布する。
次いで、支持フィルム上に塗布された硬化性樹脂組成物の塗膜を、50~130℃の温度で1~30分間乾燥することで、乾燥塗膜からなる樹脂層を支持フィルム上に形成したドライフィルムを製造することができる。ここで、塗布膜厚については特に制限はないが、一般に、乾燥後の膜厚で10~150μm、好ましくは15~60μmの範囲で適宜選択される。
この剥離可能な保護フィルムとしては、樹脂層と支持フィルムとの接着力よりも小さいものであればよく、例えば、ポリエチレンフィルムやポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等を用いることができる。
本発明の硬化物は、本発明の硬化性樹脂組成物、または、上記本発明のドライフィルムの樹脂層を硬化して得られるものである。
本発明のプリント配線板は、本発明の硬化性樹脂組成物、または、本発明のドライフィルム樹脂層の硬化物を有するものである。本発明のプリント配線板は、例えば、以下のようにして製造することができる。
まず、本発明のドライフィルムを、回路が形成された配線基板上に、ラミネーター等を用いて樹脂層が基板側になるように貼り合わせる。なお、この工程では、本発明のドライフィルムを積層する代わりに、本発明の硬化性樹脂組成物を回路が形成された配線基板上に塗布し、乾燥してタックフリーの樹脂層を形成してもよい。
ここで、配線基板としては、ガラス布エポキシや不織布エポキシなどの各種基材に予め銅等の回路が形成されたプリント配線板やフレキシブルプリント配線板等を挙げることができる。
ここで、活性エネルギー線の照射に用いられる露光機としては、光源として、高圧水銀灯ランプやメタルハライドランプ等を搭載し、350~450nmの範囲で紫外線を照射する装置であればよく、直接描画(ダイレクトイメージング露光)装置も用いることができる。また、露光量は、膜厚等によって異なるが、一般には10~1000mJ/cm2、好ましくは20~800mJ/cm2の範囲内とする。
ここで、現像方法としては、ディッピング法やシャワー法、スプレー法等を用いることができ、現像液としては、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水溶液を使用することができる。
ここで、加熱硬化等の加熱処理は、熱風循環式乾燥炉やIR炉等を用いて行うことができる。
(合成例1:アルカリ可溶性アクリレート付加アミドイミド樹脂(アルカリ可溶性樹脂A-1))
攪拌装置、温度計、コンデンサーを付けた4口フラスコに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート103.5gとイソホロンジイソシアネート222.0g、トリメリット酸無水物192.0gを仕込み、攪拌を行いながら120℃まで昇温した。60℃付近から激しく発泡しはじめ、フラスコ内容物は徐々に透明となった。120℃で5時間反応を行い系内のNCO%が9.0質量%になった点で40℃まで冷却した。さらにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート166.4g、メチルハイドロキノン1.0gを加え、その中に、アロニックスM-305(東亜合成社製、OH当量:467.5)234.7gを加え、発熱に注意しながら80℃に昇温した。80℃で9時間反応させた後、赤外線吸収スペクトルにて2270cm-1のイソシアネートの吸収が消失している事を確認し薄黄色透明液体のアルカリ可溶性樹脂A-1の樹脂溶液を得た。不揮発分は42%、固形分の酸価は68.4mgKOH/g、重量平均分子量は約1,524(ポリスチレン換算)であった。
温度計、窒素導入装置兼アルキレンオキシド導入装置および撹拌装置を備えたオートクレーブに、ノボラック型クレゾール樹脂(昭和電工社製ショウノールCRG951、OH当量:119.4)119.4g、水酸化カリウム1.19gおよびトルエン119.4gを仕込み、撹拌しつつ系内を窒素置換し、加熱昇温した。次に、プロピレンオキシド63.8gを徐々に滴下し、125~132℃、0~4.8kg/cm2で16時間反応させた。その後、室温まで冷却し、この反応溶液に89%リン酸1.56gを添加混合して水酸化カリウムを中和し、不揮発分62.1%、水酸基価が182.2g/eq.であるノボラック型クレゾール樹脂のプロピレンオキシド反応溶液を得た。これは、フェノール性水酸基1当量当りアルキレンオキシドが平均1.08モル付加しているものであった。
次いで、得られたノボラック型クレゾール樹脂のアルキレンオキシド反応溶液293.0g、アクリル酸43.2g、メタンスルホン酸11.53g、メチルハイドロキノン0.18gおよびトルエン252.9gを、撹拌機、温度計および空気吹き込み管を備えた反応器に仕込み、空気を10ml/分の速度で吹き込み、撹拌しながら、110℃で12時間反応させた。反応により生成した水は、トルエンとの共沸混合物として、12.6gの水が留出した。その後、室温まで冷却し、得られた反応溶液を15%水酸化ナトリウム水溶液35.35gで中和し、次いで水洗した。その後、エバポレーターにてトルエンをジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート118.1gで置換しつつ留去し、ノボラック型アクリレート樹脂溶液を得た。次に、得られたノボラック型アクリレート樹脂溶液332.5gおよびトリフェニルホスフィン1.22gを、撹拌器、温度計および空気吹き込み管を備えた反応器に仕込み、空気を10ml/分の速度で吹き込み、撹拌しながら、テトラヒドロフタル酸無水物60.8gを徐々に加え、95~101℃で6時間反応させ、カルボキシル基含有感光性樹脂A-2の樹脂溶液を得た。不揮発分は65%、固形分の酸価は88mgKOH/g、重量平均分子量は約8,000(ポリスチレン換算)であった。
撹拌機及び還流冷却器の付いた四つ口フラスコに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業社製、エピクロンN-695、エポキシ当量:220)220gを入れ、カルビトールアセテート214gを加え、加熱溶解した。次に、重合禁止剤としてハイドロキノン0.1gと、反応触媒としてジメチルベンジルアミン2.0gを加えた。この混合物を95~105℃に加熱し、アクリル酸72gを徐々に滴下し、16時間反応させた。この反応生成物を80~90℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物106gを加え、8時間反応させ、冷却後、取り出した。
このようにして得られたカルボキシル基含有感光性樹脂A-3の樹脂溶液を得た。不揮発分は65%、固形分の酸価は100mgKOH/g、重量平均分子量は約3,500(ポリスチレン換算)であった。
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた2リットル容セパラブルフラスコに、ジエチレングリコールジメチルエーテル900g、およびt-ブチルパーオキシ2-エチルヘキサノエート(日油社製パーブチルO)21.4gを仕込み、90℃に昇温後、メタクリル酸309.9g、メタクリル酸メチル116.4g、及びラクトン変性2-ヒドロキシエチルメタクリレート(ダイセル化学工業社製プラクセルFM1)109.8gをビス(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(日油社製パーロイルTCP)21.4gと共にジエチレングリコールジメチルエーテル中に3時間かけて滴下し、さらに6時間熟成することによってカルボキシル基含有共重合樹脂溶液を得た。反応は、窒素雰囲気下で行った。
次に上記カルボキシル基含有共重合樹脂溶液に、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート(ダイセル化学社製サイクロマーA200)363.9g、ジメチルベンジルアミン3.6g、ハイドロキノンモノメチルエーテル1.80gを加え、100℃に昇温し、撹拌することによってエポキシの開環付加反応を行った。16時間後、カルボキシル基含有共重合感光性樹脂A-4の樹脂溶液を得た。不揮発分は53.8%、固形分の酸価は108.9mgKOH/g、重量平均分子量は25,000(ポリスチレン換算)であった。
下記の表1、2に示す配合に従い、各成分を配合し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールミルで混練して分散させ、実施例1~4、6~12、参考例5、比較例1~4の硬化性樹脂組成物を調製した。なお、表中の配合量は、質量部を示す。
*2:上記合成例1で合成したアルカリ可溶性樹脂A-2
*3:上記合成例1で合成したアルカリ可溶性樹脂A-3
*4:上記合成例1で合成したアルカリ可溶性樹脂A-4
*5:IGM社製Omnirad TPO(アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤)
*6:DIC社製HP-7200(ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂)
*7:白石カルシウム社製ブリリアント1500(平均粒子径0.15μm)
*8:白石カルシウム社製ソフトン3200(平均粒子径0.70μm)
*9:白石カルシウム社製ソフトン2600(平均粒子径0.85μm)
*10:白石カルシウム社製ソフトン2200(平均粒子径1.0μm)
*11:白石カルシウム社製BF-100(平均粒子径3.6μm)
*12:白石カルシウム社製BF-200(平均粒子径5.0μm)
*13:白石カルシウム社製BF-300(平均粒子径8.0μm)
*14:アドマテックス社製SO-E2(平均粒子径0.55μm)
*15:アドマテックス社製SO-E6(平均粒子径2.0μm)
*16:デンカ社製DAW-03(平均粒子径4.0μm)
*17:龍森社製ヒューズレックスWX(平均粒子径1.0μm)
*18:信越化学工業社製X-12-1116(チオウレア骨格含有シランカップリング剤)
*19:信越化学工業社製KBM-503(3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)
*20:川崎化成工業社製QS-30(4-メトキシ-1-ナフトール)
得られた各実施例、参考例および各比較例の光硬化性樹脂組成物を、支持フィルム(PETフィルム 東洋紡社製コスモシャインA4100 厚み50μm)上に塗布し、80℃で20分間乾燥し、厚さ20μmの光硬化性樹脂組成物からなる樹脂層を形成した。次いで、この樹脂層上に、保護フィルムを貼り合わせて評価試験用ドライフィルムを作製した。
各実施例、参考例および各比較例で得られた評価試験用ドライフィルムの保護フィルムを剥離し、銅べた基板上に、ニッコー・マテリアル社製CVP-300を用いて、温度70℃でラミネートし、評価試験基板を作製した。
この評価試験基板に対し、高圧水銀灯を搭載したダイレクトイメージング露光装置を用い、開口径25μmφのパターンを露光量170mJ/cm2で露光し、次いで、支持フィルムを剥離した後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液の現像液を用いてスプレー圧0.2MPaの条件で100秒間現像した。その後、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射し、さらに180℃で60分間加熱硬化することで、解像性評価用基板を作製した。
このようにして開口径25μmφのパターンを有する樹脂層を形成した解像性評価用基板について、開口部のトップ径とボトム径をSEMにより角度45度にて観察、計測し、解像性を評価した。この評価基準は以下の通りである。
◎:(ボトム径÷トップ径)が0.8以上0.9未満。
〇:(ボトム径÷トップ径)が0.7以上0.8未満。
△:(ボトム径÷トップ径)が0.6以上0.7未満。
×:(ボトム径÷トップ径)が0.6未満。
前記解像性の評価にて作製した解像性評価用基板に対し、さらに後述する粗面化処理を行うことで、ビア周辺のクラック評価用基板を作製した。このビア周辺のクラック評価用基板の粗面化処理された開口径25μmφのパターンをSEMにより角度45度にて観察し、開口部周辺のクラック(亀裂)の有無を評価した。この評価基準は以下の通りである。
◎:開口部のクラックが無い。
〇:開口部に僅かにクラックが確認される。
×:開口部周辺に多くのクラックが確認される。
前記解像性の評価にて作製した評価試験基板に対し、高圧水銀灯を搭載したダイレクトイメージング露光装置を用い、露光量170mJ/cm2で全面露光し、次いで、支持フィルムを剥離した後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液の現像液を用いてスプレー圧0.2MPaの条件で100秒間現像した。その後、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射し、さらに180℃で60分間加熱硬化した。
このようにして硬化樹脂層を全面に形成した配線基板(硬化樹脂層形成基板)に対し、さらに後述する粗化処理をしてから導体層を形成し、ピール強度測定用基板(銅めっき基板)を作製し、次いで、このピール強度測定用基板の導体層に幅10mm、長さ100mmの形状で切込みをいれ、この切込みの一端を一部剥がし、引張試験機(島津製作所社製AGS-G100W)を用いて、JISK7127に準拠して、引張速度1.0mm/分、23℃の条件にて測定した時の荷重(kgf/cm)をピール強度とし、密着性を評価した。この評価基準は以下の通りである。
○:ピール強度が0.3kgf/cm以上のもの。
△:ピール強度が0.15kgf/cm以上0.3kgf/cm未満のもの。
×:ピール強度が0.15kgf/cm未満のもの。
上記硬化樹脂層形成基板を、膨潤液であるアトテックジャパン社製のジエチレングリコールモノブチルエーテル含有のスウェリング・ディップ・セキュリガンスP(グリコールエーテル類、水酸化ナトリウムの水溶液)に、60℃で5分間浸漬した。次に、粗化液として、アトテックジャパン社製のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)を用い、60℃で10分間浸漬した。最後に、中和液として、アトテックジャパン社製のリダクションショリューシン・セキュリガントP(硫酸の水溶液)を用い、60℃で5分間浸漬した。その後、80℃で30分乾燥を行った。
まず、粗化処理を終えた硬化樹脂層形成基板に対し、下記1~6の工程(アトテックジャパン社製の薬液を使用した銅めっき工程)にて、無電解銅めっきを施した。形成された無電解銅めっき層の厚さは1μmであった。次いで、無電解銅めっき層を形成した評価試験基板に対し、150℃にて30分間の加熱処理を行った後に、硫酸銅電解めっきを行い、厚さ25μmの導体層を形成した。最後に、アニール処理を180℃にて60分間行い、密着性の評価に供した。
1.アルカリクリーニング(絶縁層の表面の洗浄と電荷調整)工程
Cleaning Cleaner Securiganth 902(商品名)を用いて、60℃で5分間洗浄した。
2.ソフトエッチング工程
硫酸酸性ペルオキソ二硫酸ナトリウム水溶液を用いて、30℃で1分間処理した。
3.プレディップ(Pd付与のための絶縁層の表面の電荷の調整)工程
Pre. Dip Neoganth B(商品名)を用い、室温で1分間処理した。4.アクティヴェーター付与(絶縁層の表面へのPdの付与)工程
Activator Neoganth 834(商品名)を用い、35℃で5分間処理した。
5.還元(絶縁層に付与されたPdを還元)工程
Reducer Neoganth WA(商品名)とReducer Acceralator 810 mod.(商品名)との混合液を用い、30℃で5分間処理した。6.無電解銅めっき(Cuを絶縁層の表面(Pd表面)に析出)工程
Basic Solution Printganth MSK-DK(商品名)と、Copper solution Printganth MSK(商品名)と、Stabilizer Printganth MSK-DK(商品名)と、Reducer Cu(商品名)との混合液を用いて、35℃で20分間処理した。
各実施例、参考例および各比較例で得られた評価試験用ドライフィルムの保護フィルムを剥離し、クシ型電極(ライン/スペース=12μm/13μm)が形成されたBT基板に、ニッコー・マテリアル社製CVP-300を用いて、温度70℃でラミネートした後、高圧水銀灯を搭載したダイレクトイメージング露光装置を用い、露光量170mJ/cm2で電極端子部以外を露光し、次いで、支持フィルムを剥離した後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液の現像液を用いてスプレー圧0.2MPaの条件で100秒間現像した。その後、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射し、さらに180℃で60分間加熱硬化することで、B-HAST耐性評価基板を作製した。このB-HAST耐性評価基板の電極端子から電圧5Vをかけ、130℃、湿度85%の雰囲気下の高温高湿槽に入れ、槽内HAST試験を行った。槽内絶縁抵抗値が106Ω未満になった際の経過時間を、下記の判断基準に従い評価した。
◎:400時間超
〇:200~400時間
×:200時間未満
Claims (6)
- (A)アルカリ可溶性樹脂と、
(B)光重合開始剤と、
(C)熱硬化性化合物と、
(D-1)粗化剤により分解または溶解する平均粒子径が0.5~3.6μmの無機フィラーと、
(D-2)粗化剤により分解または溶解しない球状の無機フィラーと、
を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 - 前記(D-2)粗化剤により分解または溶解しない球状の無機フィラーが、シリカおよび/またはアルミナであることを特徴とする請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。
- 前記(D-2)粗化剤により分解または溶解しない球状の無機フィラーの平均粒子径が、4μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の硬化性樹脂組成物。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の硬化性樹脂組成物から得られる樹脂層を有することを特徴とするドライフィルム。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の硬化性樹脂組成物または請求項4記載のドライフィルムの樹脂層を、硬化して得られることを特徴とする硬化物。
- 請求項5に記載の硬化物を有することを特徴とするプリント配線板。
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