JP6983602B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、回転する基板に処理液を供給して基板処理を行う、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

半導体ウェーハやフォトマスク用ガラス基板の表面処理装置としては、表面処理の均一性、再現性の向上の点から、基板を１枚ずつ処理する枚葉方式を採用する傾向がある。枚葉方式の基板処理装置では、水平に保持した基板をその中心軸周りに回転（スピン）させながら、例えば薬液などの処理液を基板の表面の中央に供給する。基板に供給された処理液は、遠心力で基板の表面の全面に広がる。これにより、基板全体の処理が行われる。所定の薬液処理が終了すると、基板表面に残った薬液をリンス液で洗い流すためのリンス処理が行われる。リンス処理は、上記同様に回転する基板に対して行われ、リンス処理の終了後には、基板を高速に回転させて、基板の乾燥処理が行われる。

上記した枚葉方式の基板処理装置では、回転する基板上の処理液（薬液やリンス液など）は、基板端（基板の外周縁）又は基板を保持する回転体の回転体端から遠心力により基板外に飛散する。飛散した処理液は、処理槽内の所定領域に集められて廃液されるか、又は再利用のために回収される（例えば、特許文献１参照）。

実用新案登録第２５３３３３９号公報

特許文献１に記載の基板の回転処理装置では、スピンチャックの周囲を覆うように設けられた内容器の底部に排液口が形成され、その排液口に対向する位置に、回転可能に桶部材が設置され、この桶部材を回転させて、桶部材の下部にある１つの排液流出口を外容器に設けた複数のドレン口（回収路）の１つに選択的に対向させることで、複数種の処理液の分離回収を可能としている。

しかしながら、特許文献１に記載の基板の回転処理装置では、処理液の切り替えに伴い、桶部材を回転させて、排液流出口を所定のドレン口と対向する位置に位置付ける際、排液流出口が、別のドレン口の上方を通過することがある。桶部材には今まで使用していた処理液が残留しているから、この残留液が、本来のドレン口以外に浸入してしまう危険性を有している。処理液が混入すると、分離回収による処理液の再利用に支障が生じてしまう。

本発明は、複数種の処理液の分離回収を効率的に行うことができる基板処理装置及び基板処理方法の提供を目的とする。

上記課題を解決するために、本発明に係る基板処理装置は、基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理装置において、前記基板を保持して回転する基板回転手段と、前記基板回転手段により回転する前記基板に処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板の周囲に設けられ、前記基板から飛散する前記処理液を受け入れるカップ体と、前記カップ体が受け入れた処理液の種類に応じて、前記カップ体から前記処理液を流す各種の回収路と、前記カップ体を水平回動させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が位置する方向に切り替える回動手段と、前記カップ体を上下方向に昇降させて、前記回動手段による前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路と連通する第１の高さ位置と、前記カップ体が受け入れた前記処理液を廃液路に流す第２の高さ位置とに切り替える昇降手段と、を有する構成である。

また、本発明に係る基板処理方法は、基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理方法であって、前記基板を基板回転手段により回転させるステップと、前記基板回転手段により回転する前記基板に前記処理液を供給するステップと、前記基板から飛散する前記処理液をカップ体によって受けるステップと、前記カップ体を水平回動させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が位置する方向に切り替えるステップと、
前記カップ体を上下方向に昇降させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が連通する第１の高さに移動させるステップと、前記カップ体が受け入れた前記処理液を廃液路に流す第２の高さ位置に移動させるステップと、を有する構成である。

本発明によれば、複数種の処理液の分離回収を効率的に行うことができる。

本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の縦断面図である（カップ体が上昇した高位置（第１の高さ位置））。 本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の縦断面図である（カップ体が下降した低位置（第２の高さ位置））。 図１のＡ−Ａ断面図である。 図２のＢ−Ｂ断面図である。 カップ体を上昇させた高位置（第１の高さ位置）における流出孔部から回収配管への処理液の流出を示す一部断面図である（その１）。 カップ体を上昇させた高位置（第１の高さ位置）における流出孔部から回収配管への処理液の流出を示す一部断面図である（その２）。 カップ体を上昇させた高位置（第１の高さ位置）における流出孔部から回収配管への処理液の流出を示す一部断面図である（その３）。 カップ体の排気隙間から排気配管への処理液を含む排気の流出を示す一部断面図である（その１）。 カップ体の排気隙間から排気配管への処理液を含む排気の流出を示す一部断面図である（その２）。 カップ体の排気隙間から排気配管への処理液を含む排気の流出を示す一部断面図である（その３）。 カップ体を下降させた低位置（第２の高さ位置）における流出孔部から廃液経路６１への処理液の流出を示す一部断面図である（その１）。 カップ体を下降させた低位置（第２の高さ位置）における流出孔部から廃液経路６１への処理液の流出を示す一部断面図である（その２）。 カップ体を下降させた低位置（第２の高さ位置）における流出孔部から廃液経路６１への処理液の流出を示す一部断面図である（その３）。 図１のＣ−Ｃ断面図である。 本発明の第１実施形態に係る基板処理装置における回収配管の一部斜視図である。 本発明の第１実施形態に係る基板処理装置における排気配管の一部斜視図である。 本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の横断面図である。 カップ体の変形例１を示す縦断面図である。 カップ体の変形例２を示す縦断面図である。

（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態について図面を用いて説明する。

本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の基本的な構造が、図１〜図４に示される。

本実施形態に係る基板処理装置の縦断面図である図１において、基板処理装置１１は、外部装置である搬送ロボット（不図示）により搬送された半導体ウェーハなどの基板１２を回転させるための円板形状の回転体１３と、回転体１３を覆うようにその上部に設けられた円板形状のカバー部１５を有する。カバー部１５の外周側表面内での周方向には、６０度間隔で所定位置に６個の回転板１７（図１では２個のみ図示）が配置される。各回転板１７の上面には、回転板１７の中心軸Ｔから偏心した位置に、回転体１３に載置された基板１２を保持及び開放するクランプピン１８（図１では４個のみ図示）が設けられる。基板１２の上方には、基板１２の表面（上面）に処理液（例えば、エッチング液、リンス液等）を供給するノズル２０（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ）が配置される。回転体１３には、回転軸である円筒部材の動力伝動体２１が一体に設けられ、その動力伝達体２１は、駆動モータ２２によって回転駆動される。

駆動モータ２２は、回転子２６ａと固定子２６ｂを有して構成される。回転子２６ａは、下部のベース板２３に形成された円形の通孔２５を貫通して設けられ、固定子２６ｂは、ベース板２３の下で回転子２６ａの周囲に設けられる。円筒部材である回転子２６ａの上端が、円筒部材である動力伝動体２１と一体となるように接続される。これにより、駆動モータ２２の回転子２６ａが動力伝動体２１を通じて回転体１３を回転させることで、クランプピン１８により保持された基板１２を回転させる構造となっている。なお、駆動モータ２２は、制御部１００に電気的に接続され、その駆動を制御部１００に記憶された基板処理情報や各種プログラムに基づいて制御される。

回転子２６ａ及び動力伝動体２１の中空内部には、非回転の保持筒２７が、回転子２６ａ及び動力伝動体２１と同軸に設けられる。この保持筒２７の上端部には、円錐形状の凹部を有するノズルヘッド２８が取り付けられ、このノズルヘッド２８に、基板１２の裏面に処理液等を噴射する複数のノズル２９が設けられる。各ノズル２９は、処理液供給部（不図示）に接続されている。各ノズル２９から噴射された処理液等を排出するために、保持筒２７内には中空の管体３１が設けられ、その一端はノズルヘッド２８を貫通して、ノズルヘッド２８に形成される凹部の底部に接続され、他端は廃液タンク等（不図示）に接続される。また、カバー部１５の中央には、ノズル２９から基板１２の裏面に向けて噴射される処理液を通過させるための開口部１５ａが形成されている。ノズル２０とノズル２９は、処理液供給手段を構成する。なお、ノズル２９は、基板１２の裏面（図１では下面）を処理するために設けられているが、基板１２の表面（図１では上面）のみを処理する場合には、なくてもよい。なお、ノズル２０及びノズル２９からの処理液の供給は、制御部１００に記憶された基板処理情報や各種プログラムに基づいて制御される。

各クランプピン１８が支持される回転板１７の下面には、ピン回転体３５が、そしてピン回転体３５の下端には、子歯車３６が、同軸（Ｔ）に結合されている（図１には、２つの、ピン回転体３５、子歯車３６のみ図示）。子歯車３６は、回転体１３と同軸（図１の基板回転軸Ｓ）となるように設けられている親歯車３７に噛合する。この親歯車３７は、動力伝動体２１の外周に親歯車軸受け３８を介して設けられている。各ピン回転体３５は、円板形状の回転体１３内に周方向６０度間隔で設けられている円筒形状の支持筒部４１により回転可能に位置決めされている（図１には、２つの支持筒部４１のみ図示）。この構成により、回転体１３と親歯車３７とが相対回転すると、子歯車３６とピン回転体３５と回転板１７とが一体回転する。回転板１７が回転するとクランクピン１８が偏心回転するから、回転板１７の回転方向により、クランクピン１８は、基板１２を保持または開放する。

親歯車３７には付勢手段としてのクランプばね（捩じりコイルばね）４２が装着されている。このクランプばね４２は一端を回転体１３に係合させ、他端を親歯車３７に係合させることで、親歯車３７を回転方向（平面視で反時計方向）に付勢している。これによって、子歯車３６は時計方向に付勢され、この子歯車３６の回転にピン回転体３５及び回転板１７が連動し、クランプピン１８が回転体１３の中心方向へ偏心回転して基板１２の外周面に当接して保持（ロック状態）するようになる。

また、クランプピン１８による基板１２のロック状態の解除のために、チャック開放シリンダ４３が、ベース板２３の所定位置に設けられている。チャック開放シリンダ４３は、シリンダロッド４３ａが伸長して親歯車３７に接し、親歯車３７の回転を阻止することが可能とされる。

チャック開放シリンダ４３によって親歯車３７の回転が阻止された状態で、駆動モータ２２により回転子２６ａ及び動力伝動体２１を反時計方向へ回転させると、回転体１３も反時計方向に回転する。それによって、親歯車３７に噛合した子歯車３６は反時計方向に回転する。その結果、クランプピン１８は基板１２の外周面から離れる方向へ偏心回転するから、クランプピン１８による基板１２の保持状態が解除されることになる。

次に、基板１２から飛散する処理液を受け入れるカップ体５１について説明する。回転体１３及びカバー部１５の外周には、下方に向けて伸びる側壁部１３ａが設けられており、この側壁部１３ａの先端は、上部を開口部とする環状の容器であるカップ体５１の内部に挿入された位置に保たれている。カップ体５１は後述するように昇降手段により上下移動するが、側壁部１３ａの先端は常にカップ体５１の内部に位置している。回転体１３の外周側には、回転体１３から所定の間隙をおいた位置に昇降可能な環状の可動液受け部材５３が設けられている。可動液受け部材５３は、上部が回転体１３の回転軸Ｓ側に向けて傾斜する傾斜周壁と垂直周壁とから成る液受け部５３ａ、下部が内側壁部５３ｂと外側壁部５３ｃからなる二重壁部とで形成されており、昇降駆動機構（不図示）により昇降動作が可能となっている。なお、基板１２から飛散した処理液が外部に飛び散らないように、可動液受け部材５３の内側壁部５３ｂは、常にカップ体５１の内部に所定の隙間を有した状態で挿入された状態となっている。なお、内側壁部５３ｂと側壁部１３ａがカップ体５１の内部に挿入することで、基板１２の端部から飛散する処理液をカップ体５１内に案内することが可能となっている。可動液受け部材５３は、上昇した位置にあるときに、回転する基板１２から飛散した処理液を液受け部で受けてカップ体５１に滴下させ、下降した位置では搬送ロボットのフォーク（不図示）との接触を避け、基板１２の交換等が可能となる配置となっている。

環状の容器であるカップ体５１は、内周壁部５１ａ、外周壁部５１ｂ及び周底部５１ｃから成る容器であり、周底部５１ｃは内周壁部５１ａから外周壁部５１ｂに向けて下向きに傾斜した構造となっている。カップ体５１は、全体或いは少なくとも処理液が流入する部分に撥水性および耐薬液性を備えた材料、例えば、フッ素樹脂などによって形成されるか、処理液に接する表面がフッ素樹脂でコーティングされていても良い。カップ体５１は、後述する昇降手段５４によって昇降可能とされる。外周壁部５１ｂと周底部５１ｃとの接点である最下部の一部分には、流出孔部（開口部）５８が形成されている。カップ体５１が、図１に示される第１の高さ位置（上昇端位置）に位置付けられるとき、この流出孔部５８は、基板１２から流入した処理液を回収する回収配管５５（回収路）に接続される。また、カップ体５１が、図２に示される第２の高さ位置（下降端位置）に位置付けられるとき、流出孔部５８は、基板１２から流入した処理液を廃液するための廃液経路６１に接続される。

回収配管５５（５５ａ〜５５ｃ）は、図３に示されるように、端部の開口をカップ体５１側に向けて、廃液経路６１の外周壁部６１ｂに挿入されて支持される。回収配管５５は、分離回収する処理液の種類数だけ設けられ、本実施の形態では、カップ体５１の周方向に３本の配管５５ａ、５５ｂ、５５ｃが開口を同一高さに位置付けられる状態で設けられる。後述するように、カップ体５１を、中心軸Ｓを中心として水平回動させることで、カップ体５１の流出孔部５８を処理液の種類に応じた、1つの回収配管５５ａ（５５ｂ、５５ｃ）の開口端部の位置に位置付けることができ、処理液の種類に応じた回収が可能となる。

図１において、カップ体５１の下には環状容器とされる廃液経路６１が設けられている。廃液経路６１は、基板回転軸Ｓを中心とする環状の内周壁部６１ａ、外周壁部６１ｂ及び周底部６１ｃから成る容器であり、周底部６１ｃには、処理液を廃液として外部に流出させる廃液配管６２が接続されている。廃液経路６１は廃液を貯留するためのものではなく、流出孔部５８から流入した廃液を廃液配管６２に導くための容器である。廃液経路６１及び廃液配管６２で廃液路を構成する。なお、廃液経路６１は、全体或いは少なくとも処理液が流入する部分が撥水性および耐薬液性の材料で形成されるか、処理液に接する表面がフッ素樹脂でコーティングされていても良い。

基板１２に供給された処理液の他に、当該処理液により発生した気体（当該処理液のミストを含む気体）は、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂとカップ体５１の外周壁部５１ｂとの隙間を通り、カップ体５１の外周面に形成された凹部の排気隙間６３（図1、図９Ｂ参照）の外側に位置する排気配管６５を介して排気されるようになっている。

図３に示すように、第１実施形態において、排気配管６５（６５ａ〜６５ｃ）は、３本の排気配管６５ａ、６５ｂ、６５ｃを有する。各排気配管６５ａ〜６５ｃは、一端が、排液通路の６１の外周壁部６１ｂの内面に開口し、他端は吸引装置（不図示）に接続される。外周壁部６１ｂにおいて、排気配管６５ａの開口は、平面視で、先に述べた回収配管５５ａの挿入部（接続部）と対向する位置に配置される。同様に、排気配管６５ｂの開口は、回収配管５５ｂの挿入部（接続部）と対向する位置、排気配管６５ｃの開口は、回収配管５５ｃの挿入部（接続部）と対向する位置にそれぞれ配置されている。カップ体５１が昇降手段５４により上下方向における高位置（第１の高さ位置）にあるとき、カップ体５１を後述する回動手段により水平回動させて、流出孔部５８を回収配管５５ａの開口端部に向けると、流出孔部５８の対称となる位置、つまり、１８０度反対側に形成された排気隙間６３が排気配管６５ａの開口端部に向けられる配置となっている。また、カップ体５１を水平回動させ、流出孔部５８を回収配管５５ｂの開口端部に向けると、排気隙間６３が排気配管６５ｂの開口端部に向けられ、更に流出孔部５８を回収配管５５ｃの開口端部に向けると、排気隙間６３が排気配管６５ｃの開口端部に向けられる配置となっている。これにより、カップ体５１に流入した処理液を、流出孔部５８から回収配管５５（５５ａ〜５５ｃ）を介して回収すると共に、ミスト状の処理液を含む気体を排気隙間６３より排気配管６５（６５ａ〜６５ｃ）を介して外部へ排気することができるので、処理液の分別回収、処理液を含む気体の分別排気が可能となるように形成されている。

図９Ａに示すように、回収配管５５（５５ａ〜５５ｃ）の開口端部は、カップ体５１の外周壁部５１ｂに当接しており、カップ体５１は、回収配管５５の端部開口に摺動可能となっている。図９Ａにおいては、カップ体５１の流出孔部５８（破線で示す）から回収配管５５ａに処理液が流れるようになる。また、図９Ｂに示すように、排気配管６５（６５ａ〜６５ｃ）の開口端部は、廃液経路６１の外周壁部６１ｂに挿入されており、カップ体５１に流入した気体が外周壁部５１ｂと廃液経路６１の外周壁部６１ｂとの間に形成される排気隙間６３（破線で示す）を通じて排気配管６５に流れるようになっている。なお、排気隙間６３は上下方向に所定長さで形成されており、カップ体５１が上下に昇降して高位置（第１の高さ位置）、低位置（第２の高さ位置）のいずれとなっても選択した同じ排気配管６５（６５ａ〜６５ｃ）に気体が流れることになる。

また、図２、図４に示すように、カップ体５１が上下方向の低位置（第２の高さ位置）にあるとき、カップ体５１を後述する回動手段により水平回動させて、平面視で、流出孔部５８を回収配管５５ａの開口端部に向けると、流出孔部５８の１８０度反対側に形成された排気隙間６３が排気配管６５ａの開口端部に向けられる配置となるように形成されている。このとき、流出孔部５８は廃液経路６１の内部に位置するので、カップ体５１が受け入れた処理液は、流出孔部５８を通じて廃液経路６１へと流れ、更に廃液経路６１から廃液配管６２を通じて外部へと送られるようになっている。ミスト状となった当該処理液を含む気体は、可動液受け部５３材の内周壁部５３ｂとカップ体５１の外周壁部５１ｂとの隙間を通り、カップ体５１に形成される排気隙間６３から、その外側に位置する排気配管６５ａの開口端を通じて排気配管６５ａに流出して外部に排気されることになる。また、流出孔部５８を、平面視で、回収配管５５ｂの開口端部に向けると、排気隙間６３が排気配管６５ｂの開口端部に向けられ、更に流出孔部５８を回収配管５５ｃの開口端部に向けると、排気隙間６３が排気配管６５ｃの開口端部に向けられる。これにより、低位置にあるカップ体５１に流入した処理液を、流出孔部５８から廃液経路６１に流すと共に、低位置にあるカップ体５１を水平回動させることで処理液により生じた気体を排気隙間６３より排気配管６５ａ〜６５ｃのいずれかにで回収して外部へ排気することができるようになっているので、処理液の廃液と、処理液により生じた気体の分別排気とが可能となる。

カップ体５１の昇降手段５４について、図１に図８を加えて説明する。カップ体５１の周底部５１ｃの外側表面には、ベース板２３に対して垂直方向に設けられた昇降軸６７の上端が接続し、下端が回動リング６８（回動部）に接続されている。昇降軸６７は、カップ体５１の周方向１２０度間隔で設けられた３本の棒状部材である。昇降軸６７は、ベース板２３、廃液経路６１の周底部６１ｃに設けた周方向の円弧状の溝２３ａに沿って移動可能（所定の角度Ｒ:図８参照）に貫通されている。回動リング６８は、板状のリング部材であり、内周側に周方向６０度間隔で回動可能に６個のローラ７１が設けられ、回動リング６８の外周側に設けたモータ６９（駆動部）により、ローラ７１が断面Ｌ型のリング部材である昇降ユニット７２上を水平回動する構造となっている。モータ６９は、回動リング６８を介して、カップ体５１を所定の角度Ｒの範囲で移動するように回動駆動する。また、上記した回動リング６８の水平回動を支えるべく、周方向６０度間隔でかつ隣接するローラ７１、７１間において、ガイドローラ７３が昇降ユニット７２に設けられる。昇降ユニット７２は、伸縮シリンダ７５の駆動により、昇降ユニット７２に接続される昇降ガイド７６が上下方向に起立する柱部材７７のレール７７ａに沿って移動することにより、昇降可能とされる。昇降ユニット７２の昇降動は、回動リング６８、昇降軸６７を介してカップ体５１を上下方向に昇降させることになる。昇降軸６７、回動リング６８、モータ６９及びローラ７１は、カップ体５１の回動手段７４を構成する。また、昇降軸６７、昇降ユニット７２、伸縮シリンダ７５、昇降ガイド７６、柱部材７７及びレール７７ａは、カップ体５１の昇降手段５４を構成する。なお、モータ６９と伸縮シリンダ７５は、制御部１００に電気的に接続されており、その駆動を制御部１００に記憶された基板処理情報や各種プログラムに基づいて制御される。

次に、本実施形態に係る基板処理装置１１を用いた基板１２の処理の手順について以下に説明する。基板処理装置１１では、使用する処理液として、処理液Ａ（エッチング液：リン酸溶液）、処理液Ｂ（アルカリ洗浄液：ＡＰＭ（アンモニアと過酸化水素水の混合液））、処理液Ｃ（有機溶剤：ＩＰＡ（イソプロピルアルコール））が順に用いられる。基板処理装置１１の可動液受け部材５３を基板搬送ロボット（不図示）との接触を防止するために、予め不図示の昇降駆動機構により所定位置まで降下させる。そして、搬送ロボットにより未処理の基板１２が基板処理装置１１に搬入され、クランプピン１８によって保持される。基板１２が搬入された後、搬送ロボットが退避すると、基板１２の回転による処理液の装置外への飛散防止のために、可動液受け部材５３が上昇位置に戻される。

搬送ロボットにより基板１２を基板処理装置１１に供給する前は、クランプピン１８は開放状態になっている。クランプピン１８が開放状態にあるとき、未処理の基板１２が図示しない搬送ロボットによってクランプピン１８の肩部に載置される。基板１２がクランプピン１８に供給、配置されたなら、既に述べた動作により、基板１２がクランプピン１２によって保持されることになる。

次に、カップ体５１が第２の高さ位置に位置している状態で、カップ体５１をモータ６９の作動により水平回動させ、流出孔部５８を回収配管５５ａの端部開口の真下の位置に移動させる。伸縮シリンダ７５の作動によりカップ体５１を上昇させて、処理液Ａを回収する位置、すなわちカップ体５１の流出孔部５８を、処理液Ａを回収する回収配管５５ａの端部開口と連通する高位置（第１の高さ位置）に配置する（図５Ａ参照）。カップ体５１が上記した処理液Ａを回収する位置に配置された後、駆動モータ２２を作動させて回転体１３と共に基板１２を処理液Ａによる処理に最適な回転数に回転させる。

処理液Ａを供給するノズル２０ａが、待機位置から基板１２の表面中心（基板回転軸Ｓ上）の上方に移動して、処理液Ａを基板１２の表面に予め設定した処理時間だけ供給する。基板１２に供給された処理液Ａは、回転する基板１２上を遠心力により基板１２の中心から周囲に広がり、基板１２の端部から飛散する。飛散した処理液Ａは、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂに当たり、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂと回転体１３の側壁部１３ａとの間を落下してカップ体５１に流れ込む。カップ体５１の流出孔部５８が、回収配管５５ａの端部の開口に連通する高位置にあるので、カップ体５１内の処理液Ａは流出孔部５８から回収配管５５ａに流れ込み（図５Ａ参照）、回収配管５５ａが接続する処理液Ａの回収槽（不図示）へと回収される（処理液Ａの回収）。

カップ体５１の流出孔部５８が回収配管５５ａの開口端部の開口に連通する位置にあるときは、カップ体５１の外周壁部５１ｂに形成される隙間空間６３が排気配管６５ａの開口端部の開口（排気配管６５ａの一端）と連通する位置にあり（図６Ａ参照）、処理液Ａのミストを含む気体（処理液Ａの排気）が隙間空間６３を経由して排気配管６５ａに流れ、排気配管６５ａが接続する処理液Ａの回収槽（不図示）へ流れ、排気回収される（処理液Ａの排気回収）。なお、流出孔部５８が回収配管５５ａの開口に連通する高位置にあるカップ体５１が、水平回動せずにそのまま降下した低位置（第２の高さ位置）にあるときも隙間空間６３は排気配管６５ａの開口端部の開口と連通する位置にある。

次に、処理液Ａによる基板１２の処理が終了すると、ノズル２０ａから処理液Ａの供給が停止され、ノズル２０ａを基板１２の中心から待機位置へと退避させる。伸縮シリンダ７５を作動させてロッド７５ａを縮めることで昇降ガイド７６を降下させると、昇降軸６７によりカップ体５１の位置が低位置（第２の高さ位置）に下降する（図２参照）。これにより、カップ体５１の流出孔部５８は、廃液経路６１の内部に面する位置に位置づけられる。そして、ノズル２０ｄを待機位置から基板１２の中心の上方へと移動させ、ノズル２０ｄから基板１２の洗浄用のリンス液として純水が回転する基板１２の表面に予め設定した時間だけ供給される。なお、基板１２の回転数は、予め純水による洗浄に適した回転数に設定されている。基板１２に供給された純水は、遠心力により基板１２上を中央から端部に向けて広がり、基板１２上に残留した処理液Ａと共に基板１２の端部から飛散して、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂに当たり、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂと回転体１３の側壁部１３ａとの間を落下してカップ体５１に流入する。カップ体５１に流入した処理液Ａを含む純水は、カップ体５１内に残留する処理液Ａを含んで流出孔部５８から廃液経路６１に流出し、廃液経路６１に接続する廃液配管６２を通じて廃液槽（不図示）へと流れ込み、廃液される。したがって、カップ体５１内に残留する処理液Ａを純水によって洗い流されることになる。なお、純水が供給される時間は、後述するカップ体５１内に残留する処理液Ａを純水によって廃液することが可能な時間に設定されている。さらに、隙間空間６３は排気配管６５ａの開口端部の開口と連通する位置にあるので、処理液Ａの排気は排気配管６５ａに流出し、処理液Ａの回収槽（不図示）へ流れる。なお、カップ体５１内に純水が流入する時、純水のミストが発生し、純水のミストを含む気体が排気配管６５ａに流出することになるが、処理液Ａの排気を薄める程度のものであり、処理液Ａの排気を回収するのに支障をきたさないものである。

純水による洗浄が所定時間行われた後に、ノズル２０ｄからの純水の供給が停止される。そして、カップ体５１は、モータ６９の作動により回動リング６８に設けられたローラ７１がリング状の昇降ユニット７２上を水平回動して、流出孔部５８を処理液Ｂの回収配管５５ｂの端部開口の真下の位置に移動させる。そして、待機位置にあった処理液Ｂを供給するノズル２０ｂが、基板１２の表面中心の上方に移動して、処理液Ｂを基板１２の表面に予め設定した時間だけ供給する。供給された処理液Ｂは、回転する基板１２上を残留した純水と共に遠心力により基板１２の中央から周囲に広がり、そして基板１２の端部から飛散する。飛散した純水を含む処理液Ｂは落下してカップ体５１に流れ込み、そしてカップ体５１内に残留する純水を含めて流出孔部５８から廃液経路６１に流出し、廃液配管６２を通じて廃液槽（不図示）へと流れ込み、廃液される。なお、隙間空間６３は排気配管６５ｂの開口端部の開口と連通する位置にあるので、処理液Ｂの排気は排気配管６５ｂに流出し、処理液Ｂの回収槽（不図示）へ流れる。

処理液Ｂの供給開始から予め設定した所定時間が経過すると、カップ体５１内に残留する純水は、既に処理液Ｂによって押し流され、カップ体５１内には処理液Ｂだけが存在することになる。伸縮シリンダ７５のシリンダロッド７５ａの伸長により、低位置にあるカップ体５１が上昇し、流出孔部５８が、回収配管５５ｂの端部の開口に連通する高位置（第１の高さ位置）へと移動する。この第１実施形態では、カップ体５１が第２の高さ位置から第１の高さ位置に上昇する間、基板１２に対するノズル２０ｂからの処理液Ｂの供給は継続される。なお、カップ体５１の上昇する間だけ、ノズル２０ｂからの処理液Ｂの供給を一時的に停止させても良いが、基板に対する均一処理の観点からは、カップ体５１の上昇する間も処理液を基板１２に対して供給し続ける方が好ましい。カップ体５１が第１の高さ位置で、流出孔部５８が、回収配管５５ｂの端部の開口に連通すると、カップ体５１内の処理液Ｂは流出孔部５８より回収配管５５ｂに流れ込み（図５Ｂ参照）、回収配管５５ｂが接続する処理液Ｂの回収槽（不図示）へと回収される（処理液Ｂの回収）。このとき、カップ体５１の外周壁部５１ｂに形成される隙間空間６３は排気配管６５ｂの端部の開口と連通する位置にあり（図６Ｂ参照）、処理液Ｂのミストを含む気体（処理液Ｂの排気）が隙間空間６３を経由して排気配管６５ｂに流れ、排気配管６５ｂが接続する処理液Ｂの回収槽（不図示）へ流れ、排気回収される（処理液Ｂの排気回収）。

処理液Ｂによる基板１２の処理が終了すると、ノズル２０ｂから処理液Ｂの供給が停止され、ノズル２０ｂを基板１２の中心上部から待機位置へと退避させる。伸縮シリンダ７５を作動させてシリンダロッド７５ａを縮めることで、昇降ガイド７６を降下させると、昇降軸６７と共にカップ体５１の位置が低位置に下降する。低位置となったカップ体５１の流出孔部５８は、廃液経路６１の内部に面する位置に位置づけられる。そして、再度ノズル２０ｄを待機位置から基板１２の中心上方へと移動させ、ノズル２０ｄから純水が基板１２の表面に予め設定した時間だけ供給される。回転する基板１２に供給された純水は、遠心力により基板１２上を中心から端部に向けて広がり、基板１２上に残留した処理液Ｂと共に基板１２の端部から飛散して、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂに当たり、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂと回転体１３の側壁部１３ａとの間を落下してカップ体５１に流入する。カップ体５１に流入した、処理液Ｂを含む純水は、更にカップ体５１内に残留する処理液Ｂを含んでカップ体５１の流出孔部５８から廃液経路６１に流出し、廃液経路６１に接続する廃液配管６２を通じて廃液槽（不図示）へと流れ込み、廃液される。したがって、カップ体５１内に残留する処理液Ｂが純水によって洗い流されることになる。なお、純水が供給される時間は、後述するカップ体５１内に残留する処理液Ｂを純水によって廃液することが可能な時間に設定されている。さらに、隙間空間６３は排気配管６５ｂの開口端部の開口と連通する位置にあるので、処理液Ｂの排気は排気配管６５ｂに流出し、処理液Ｂの回収槽（不図示）へ流れる。なお、カップ体５１内に純水が流入する時、純水のミストが発生し、純水のミストを含む気体が排気配管６５ｂに流出することになるが、処理液Ｂの排気を薄める程度でのものであり、処理液Ｂの排気を回収するのに支障をきたさないものである。

純水による洗浄が所定時間行われた後に、ノズル２０ｄからの純水の供給が停止される。そして、カップ体５１は、モータ６９の作動により回動リング６８に設けられたローラ７１がリング状の昇降ユニット７２上を水平回動して、流出孔部５８を処理液Ｃの回収配管５５ｃの端部開口の真下の位置に移動する。そして、処理液Ｃを供給するノズル２０ｃが、待機位置から基板１２の表面中心の上方に移動して、処理液Ｃを基板１２に予め設定した処理時間だけ供給する。供給された処理液Ｃは、回転する基板１２上を残留した純水と共に遠心力により基板１２の中心から周囲に広がり、そして基板１２の端部から飛散し、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂに当たり、可動液受け部材５３の内周壁部５３ｂと回転体１３の側壁部１３ａとの間を落下してカップ体５１に流れ込み、そしてカップ体５１内に残留する純水を含めて流出孔部５８から廃液経路６１に流出し、廃液配管６２を通じて廃液槽（不図示）へと流れ込み、廃液される。なお、隙間空間６３は排気配管６５ｃの開口端部の開口と連通する位置にあるので、処理液Ｃの排気は排気配管６５ｃに流出し、処理液Ｃの回収槽（不図示）へ流れる。

処理液Ｃの供給開始から予め設定した所定時間が経過すると、カップ体５１内に残留する純水は、既に処理液Ｃによって押し流され、カップ体５１内には処理液Ｃだけが存在ことになる。伸縮シリンダ７５のシリンダロッド７５ａの伸長により、低位置にあるカップ体５１が上昇し、流出孔部５８が、回収配管５５ｃの端部の開口に連通する高位置へと移動する。この移動の間、基板１２に対するノズル２０ｃからの処理液Ｃの供給は継続される。なお、一時的に処理液Ｃの供給を停止させるようにしても良い。流出孔部５８が、回収配管５５ｃの端部の開口に連通すると、カップ体５１内の処理液Ｃは流出孔部５８より回収配管５５ｃに流れ込み（図５Ｃ参照）、回収配管５５ｃが接続する処理液Ｃの回収槽（不図示）へと回収される（処理液Ｃの回収）。このとき、カップ体５１の外周壁面に形成される隙間空間６３は排気配管６５ｃの端部の開口と連通する位置にあり（図６Ｃ参照）、処理液Ｃのミストを含む気体が隙間空間６３を経由して排気配管６５ｃに流れ、排気配管６５ｃが接続する処理液Ｃの回収槽（不図示）へ流れ、排気回収される（処理液Ｃの排気回収）。

処理液Ｃによる基板１２の処理が終了すると、ノズル２０ｃから処理液Ｃの供給が停止され、ノズル２０ｃを基板１２の中心から待機位置へと退避させる。伸縮シリンダ７５を作動させてロッド７５ａを縮めることで、昇降ガイド７６を降下させると、昇降軸６７と共にカップ体５１の位置が低位置（第２の高さ位置）に下降する。低位置となったカップ体５１の流出孔部５８は、廃液経路６１の内部の位置となる。駆動モータ２２、回転体１３等により基板１２を高速回転させ、基板１２上から処理液Ｃを飛散させて基板１２を乾燥させる。

予め設定した所定時間が経過後、乾燥処理が終了したならば、回転体１３の回転を停止し、クランプピン１８による基板１２の保持を開放する。基板１２の保持状態が解除された後、可動液受け部材５３が降下し、搬送ロボット（不図示）により処理済みの基板１２が外部へ搬送される。

次の基板処理では、カップ体５１が水平回動して処理液Ａの回収配管５５ａの端部開口の真下の位置に移動した位置から開始する。上述したように、搬送された処理前の基板１２をクランプピン１８で保持して回転させ、更にノズル２０ａが待機位置から基板１２の中心上方に移動し、処理液Ａを回転する基板１２に供給する。このとき、基板１２からカップ体５１に流入した処理液Ａは、カップ体５１に残留する処理液Ｃと共に、流出孔部５８から廃液経路６１に流出し、廃液配管６２を通じて廃液槽（不図示）へと流れ込み、廃液される。処理液Ａの供給開始から予め設定した所定時間経過すると、伸縮シリンダ７５のシリンダロッド７５ａの伸長により、廃液位置である低位置にあるカップ体５１が上昇し、流出孔部５８が、処理液Ａの回収配管５５ａの端部の開口に連通する高位置へと移動して、処理液Ａの回収を行う。以下は、上述した手順の工程により同様に基板１２を処理液Ｂ、Ｃ及び純水で処理を行う。

なお、処理液Ａを基板１２に供給する前に、基板１２にノズル２０ｄから純水を供給し、カップ体５１に残留する処理液Ｃを純水と共に、流出孔部５８から流出させて、廃液させてもよい。これにより、処理液Ａによるカップ体５１に残留する処理液Ｃを洗浄させることがなくなり、処理液Ａと処理液Ｃの混合液を廃液させずに済み、処理液Ａを無駄なく回収することができる。

本実施形態において、処理液の切り替え回収に際しては、カップ体５１の流出孔部５８を廃液経路６１の内部の位置（第２の高さ位置）に位置づけるように下降させて、混合した処理液を廃液させてから、流出孔部を処理液ごとの回収配管の端部の開口に連通する位置（第１の高さ位置）へと移動させるので、カップ体５１の水平回動により流出孔部５８が、回収する処理液以外の回収配管の開口上を通過することがないので、他の処理液が混入せずに目的の回収する処理液を回収することが可能となる。さらに、カップ体５１の外周壁部５１ｂに形成した排気隙間６３を各処理液毎の排気配管に連通させたので、ミスト化された処理液の排気を各処理液毎に分離回収することができる。本実施形態では、処理液Ａ、Ｂ、Ｃの３種類を分離回収しているが、これに限定するものではない。回収配管及び排気配管の数を増減させることで、３種類よりも多く、又は少なくして回収することができる。さらに、廃液経路の数を増やすことで、各処理液の混合液毎に廃液することもできる。また、カップ体５１を、処理液の供給開始から所定時間経過後に上昇させるようにしたが、これに限らず、例えば、廃液経路６１に濃度計を設け、廃液経路６１に流出する処理液の濃度を測定し、処理液の濃度が所定の濃度以上に達したときに、カップ体５１を上昇させるようにしてもよい。

上記した本実施形態の基板１２の処理手順では、基板１２の表面にノズル２０（２０ａ〜２０ｄ）から処理液を供給して基板処理を行っているが、ノズル２９（２９ａ〜２９ｄ）により基板１２に処理液を噴射して基板の裏面処理を行う、両面処理も可能である。基板１２の裏面処理では、各処理液は中空の管体３１を通じて廃液槽へ送られる。

（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置１１ａについて、図１０を参照して説明する。なお、第１の実施形態との相違点を説明し、共通点については適宜簡略する。また、第１の実施形態と共通する構成要素については、共通の名称、符号を使用して説明する。

本実施形態では、カップ体５１ａに２個の流出孔部５８ａ、５８ｂを設け、更に２個の排気隙間６３ａ、６３ｂを設けたものである。流出孔部５８ａと流出孔部５８ｂは、中心Ａ（図１０に示す）を軸にして対称の位置となるように配置されている。つまり、流出孔部５８ａの１８０度反対側に流出孔部５８ｂが配置される。また、排気隙間６３ａと排気隙間６３ｂは、中心Ａを軸にして対称の位置になるように配置されている。つまり、排気隙間６３ａの１８０度反対側に排気隙間６３ｂが配置される。また、カップ体の周方向に、９０度毎に流出孔部５８（５８ａ、５８ｂ）と排気隙間６３（６３ａ、６３ｂ）が交互に設けられている。そして、この流出孔部５８ａに対応するように、回収配管５５ａ１、５５ｂ１、５５ｃ１が設けられ、流出孔部５８ｂに対応するように、回収配管５５ａ２、５５ｂ２、５５ｃ２を設けられている。更に、排気隙間６３ａに対応するように、排気配管６５ａ１、６５ｂ１、６５ｃ１が設けられ、排気隙間６３ｂに対応するように、排気配管６５ａ２、６５ｂ２、６５ｃ２が設けられている。カップ体５１ａを低位置（第２の位置）に下降させて、流出孔部５８から廃液経路６１に流出し、廃液配管６２を通じて廃液槽（不図示）へと流れ込み、廃液させる点は、第１の実施形態と同様である。

第１の実施形態と同様に、回収する処理液が処理液Ａ、処理液Ｂ及び処理液Ｃとすると、カップ体５１ａを、流出孔部５８ａ、５８ｂをそれぞれ処理液Ａの回収配管５５ａ１、５５ａ２の端部の開口の真下の位置に水平回動させ、更に、カップ体５１を高位置（第１の高さ位置）に上昇させ、流出孔部５８ａ、５８ｂをそれぞれ処理液Ａの回収配管５５ａ１、５５ａ２の端部の開口に連通する位置に移動させて処理液Ａを回収する。また、このとき排気隙間６３ａ、６３ｂはそれぞれ処理液Ａの排気を回収する排気配管６５ａ１、６５ａ２の端部の開口に連通する位置になり、ミスト化した処理液Ａの排気を回収することができる。同様に、処理液Ｂの回収についても、カップ体５１ａを、流出孔部５８ａ、５８ｂをそれぞれ処理液Ｂの回収配管５５ｂ１、５５ｂ２の端部の開口の真下の位置に水平回動させ、更に、カップ体５１を高位置（第１の高さ位置）に上昇させ、流出孔部５８ａ、５８ｂをそれぞれ処理液Ｂの回収配管５５ｂ１、５５ｂ２の端部の開口に連通する位置に移動させて処理液Ｂを回収する。このとき、排気隙間６３ａ、６３ｂはそれぞれ処理液Ｂの排気を回収する排気配管６５ｂ１、６５ｂ２の端部の開口に連通する位置になり、ミスト化した処理液Ｂの排気を回収することができる。同様に、処理液Ｃの回収についても、カップ体５１ａを、流出孔部５８ａ、５８ｂをそれぞれ処理液Ｃの回収配管５５ｃ１、５５ｃ２の端部の開口の真下の位置に水平回動させ、更に、カップ体５１を高位置（第１の高さ位置）に上昇させ、流出孔部５８ａ、５８ｂをそれぞれ処理液Ｃの回収配管５５ｃ１、５５ｃ２の端部の開口に連通する位置に移動させて処理液Ｃを回収する。このとき、排気隙間６３ａ、６３ｂはそれぞれ処理液Ｃの排気を回収する排気配管６５ｃ１、６５ｃ２の端部の開口に連通する位置になり、ミスト化した処理液Ｃの排気を回収する。

本実施形態によれば、各処理液の回収と、各処理液により生じる気体とをそれぞれ複数の配管で回収、排気ができるので、分離回収、分離排気とする本来の目的に加えて、回収配管および排気配管を増やすことで、迅速に回収及び排気することが可能となる。特に、処理液を大量に供給して基板処理を行う際、カップ体５１ａから処理液が溢れるおそれを解消することができる。

（変形例１）
次に、本発明の第１、第２の実施形態に係る基板処理装置１１、１１ａにおけるカップ体５１の変形例１について、図１１を参照して説明する。カップ体５１の縦断面図である図１１に示すように、カップ体５５の外周壁部５１ｂの周底部５１ｃとの接点である最下部に形成される流出孔部５８の下端には、回収配管５５側に向けて傾斜した突出部５７が設けられている。回収配管５５の流出孔部５８側の開口端部には、突出部５７と係合するように形状対応した、傾斜形状の切欠部５９が形成されている。カップ体５５を所定の回収配管５５と連通させたときに、突出部５７と切欠部５９とが形状対応により係合することで、流出孔部５８と回収配管５５とが接合する部分の下部が係合することで隙間を少なくできるので、カップ体５１から回収配管５５に流れる処理液（図１１では鎖線で示す）の液漏れを抑制することができる。

流出孔部５８に設ける突出部５７と、突出部５７に係合するように形状対応する切欠部５９の形状は、上記した傾斜形状とこれに形状対応したものに限定されず、例えば双方が係合する段差形状としても良い。また、カップ体５１の回動動作及び昇降動作に支障がない限り、突出部５７は流出孔部５８の下端に限定されず、流出孔部５８の周囲に設けてもよい。さらに、流出孔部５８の周囲にシーリングする部材を設けてもよい。

（変形例２）
次に、本発明の第１、第２の実施形態に係る基板処理装置１１、１１ａにおけるカップ体５１の変形例２について、図１２を参照して説明する。本変形例では、カップ体５１の内部を洗浄する洗浄機構６０が設けられている。カップ体５１の縦断面図である図１２に示すように、カップ体５１内を洗浄する洗浄機構６０のパイプ配管６１がカップ体５１の外周壁部５１ｂの上にリング状に配置されている。リング状のパイプ配管６１には、カップ体５１の内部に所定角度で向けたノズル６１ａが、所定角度間隔で複数個設けられている。パイプ配管６１には、洗浄水供給部（不図示）から洗浄水（純水）を導入する洗浄水供給管（不図示）が接続されている。パイプ配管６１、ノズル６１ａ、洗浄水供給配管及び洗浄水供給部により洗浄機構６０が構成される。リング状のパイプ配管６１に供給された洗浄水は、各ノズル６１ａからカップ体５１の内部に向けて噴射され、カップ体５１内を洗浄することができるように設定されている（図１２では噴射される洗浄水を鎖線で示す）。洗浄機構６０は、制御部１００に電気的に接続され、その駆動を制御部１００に記憶された基板処理情報や各種プログラムに基づいて制御される。

洗浄機構６０によるカップ体５１の洗浄は、上述した処理液Ａと処理液Ｂによる基板１２の処理の間における基板１２への純水供給時、及び処理液Ｂと処理液Ｃによる基板１２の処理の間における基板１２への純水供給時に行われる。洗浄機構６０を設ける前は、基板１２へ供給された純水がカップ体５１に流れ込んで、カップ体５１の洗浄を行っていたため、基板１２に供給される純水は、カップ体５１を洗浄するに要する供給時間が必要であった。本変形例においては、洗浄機構６０を設けることで、直接カップ体５１を純水で洗浄するため、基板１２に供給する純水は、カップ体５１の洗浄に要する供給時間を考慮する必要がなくなる。そのため、基板１２の洗浄に必要な供給時間だけ供給することができるので、基板処理の時間を短縮することができる。また、これまでは、次の基板の処理を開始する際には、前の基板の処理でカップ体５１に残留した処理液を、新たに処理する処理液で一定時間流す必要があり、所定量の混合した処理液を廃液としていた。しかしながら、本変形例によれば、次の基板１２の処理の前に、洗浄機構６０によりカップ体５１を純水で洗浄するように設定することで、新たな処理液を無駄に排出することなく、回収が可能となる。なお、洗浄機構６０によるカップ体５１の洗浄は、純水の使用に限らず、気体（例えば、不活性ガスである窒素ガス等）の噴射により残留した処理液を廃液路に吹き飛ばすことも可能である。

以上、本発明のいくつかの実施形態及び各部の変形例を説明したが、この実施形態や各部の変形例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上述したこれら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明に含まれる。

１１、１１ａ 基板処理装置
１２ 基板
１３ 回転体
１５ カバー部
１８ クランプピン
２０（２０ａ〜２０ｄ） ノズル
２１ 動力伝動体
２２ 駆動モータ
２６ａ 回転子
２６ｂ 固定子
３３ 回転板
３５ ピン回転体
３６ 子歯車
３７ 親歯車
５１、５１ａ カップ体
５５（５５ａ〜５５ｃ） 回収配管
５８ 流出孔部
６１ 廃液経路
６２ 廃液配管
６３ 排気隙間
６５（６５ａ〜６５ｃ） 排気配管
６７ 昇降軸
６８ 回動リング
６９ モータ
ローラ ７１
昇降ユニット ７２
伸縮シリンダ ７５
昇降ガイド ７６
柱部材 ７７

Claims (14)

1. 基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理装置において、
   前記基板を保持して回転する基板回転手段と、
   前記基板回転手段により回転する前記基板に処理液を供給する処理液供給手段と、
   前記基板の周囲に設けられ、前記基板から飛散する前記処理液を受け入れるカップ体と、
   前記カップ体が受け入れた処理液の種類に応じて、前記カップ体から前記処理液を流す各種の回収路と、
   前記カップ体を水平回動させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が位置する方向に切り替える回動手段と、
   前記カップ体を上下方向に昇降させて、前記回動手段による前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路と連通する第１の高さ位置と、前記カップ体が受け入れた前記処理液を廃液路に流す第２の高さ位置とに切り替える昇降手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。
2. 前記カップ体は、上部を開口する環状の容器で、前記カップ体の下部に、前記処理液を前記回収路または前記廃液路に流すための流出孔部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記カップ体は、前記流出孔部から前記回収路に向けて突出する突出部が設けられ、前記回収路の前記流出孔部側の端部には前記突出部と係合するように形状対応する切欠部が形成される請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記カップ体の前記開口に、前記基板回転手段の外周壁部と、前記基板回転手段の外周側に配置される液受け部の内周壁部とが所定長さ挿入されてなることを特徴とする請求項２又は３に記載の基板処理装置。
5. 前記回収路は、前記基板の周方向側に配置された端部開口を有する複数の回収配管であることを特徴とする請求項１乃至４に記載の基板処理装置。
6. 前記処理液を含む気体を、前記処理液の種類に応じて、前記カップ体から外部へ流す各種の排気路を更に有し、
   前記回動手段により前記カップ体を前記処理液の種類に応じた前記回収路が位置する方向に切り替えた際に、前記カップ体の外周面に形成された凹部形状の排気隙間と前記処理液の種類に応じた排気路とが連通することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の基板処理装置。
7. 前記排気路は、前記基板の周方向側に配置された端部開口を有する複数の排気配管であることを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
8. 前記廃液路は、前記処理液を外部へ廃液する廃液配管であり、前記昇降手段により第２の高さ位置に配置された前記カップ体の前記流出孔部から処理液が流れることを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
9. 前記回動手段は、前記カップ体を支持する支持部と、前記支持部を前記基板回転手段の回転軸の周囲を水平回動する回動部と、前記回動部を駆動させる駆動部と、を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の基板処理装置。
10. 前記昇降手段は、前記回動手段を昇降させる伸縮シリンダであることを特徴とする請求項１乃至９に記載の基板処理装置。
11. 前記カップ体の内部を洗浄する洗浄機構を更に有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の基板処理装置。
12. 基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理方法であって、
    前記基板を基板回転手段により回転させるステップと、
    前記基板回転手段により回転する前記基板に前記処理液を供給するステップと、
    前記基板から飛散する前記処理液をカップ体によって受けるステップと、
    前記カップ体を水平回動させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が位置する方向に切り替えるステップと、
    前記カップ体を上下方向に昇降させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が連通する第１の高さに移動させるステップと、
    前記カップ体が受け入れた前記処理液を廃液路に流す第２の高さ位置に移動させるステップと、を有することを特徴とする基板処理方法。
13. 前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が連通する際、前記処理液を含む気体を、前記処理液の種類に応じて、前記カップ体から外部へ流す各種の排気路に排気されることを特徴とする請求項１２に記載の基板処理方法。
14. 前記カップ体を洗浄する洗浄機構によりカップ体を洗浄するステップを更に有し、前記基板の洗浄時に併せて前記カップ体を洗浄するステップを実行することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の基板処理方法。

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