JP6879219B2

JP6879219B2 - 液晶組成物、及び単層塗布型水平配向フィルム

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Publication number: JP6879219B2
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Inventors: ダニエルアントニオ櫻葉汀
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Filing date: 2017-02-07
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Description

本発明は、液晶組成物、及び単層塗布型水平配向フィルムに関する。詳しくは、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有し、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板及び位相差板等の光学補償フィルム作製に好適に利用できる液晶組成物、及び該組成物から得られる単層塗布型水平配向フィルムに関する。

液晶表示装置の表示品位の向上や軽量化等の要求から、偏光板や位相差板等の光学補償フィルムとして、内部の分子配向構造が制御された高分子フィルムの要求が高まっている。この要求に応えるべく、重合性液晶化合物が有する光学異方性を利用したフィルムの開発がなされている。ここで用いられる重合性液晶化合物は、一般に、重合性基と液晶構造部位（スペーサ部とメソゲン部とを有する構造部位）とを有する液晶化合物であり、この重合性基としてアクリル基が広く用いられている。

このような重合性液晶化合物は、一般的に、紫外線等の放射線を照射して重合する方法で重合体（フィルム）とされる。例えば、アクリル基を有する特定の重合性液晶化合物を支持体間に担持し、この化合物を液晶状態に保持しつつ放射線を照射して重合体を得る方法（特許文献１）や、アクリル基を有する２種類の重合性液晶化合物の混合物又はこの混合物にカイラル液晶を混合した組成物に光重合開始剤を添加し、紫外線を照射して重合体を得る方法（特許文献２）が知られている。

また、液晶配向膜を必要としない重合性液晶化合物や重合体を用いた配向フィルム（特許文献３、４）、又は光架橋部位を含有した重合体を用いた配向フィルム（特許文献５、６）等、様々な単層塗布型配向フィルムが報告されてきた。

本発明者らは、簡単なプロセスによって高い屈折率異方性（Δｎ）を有する単層塗布型水平配向フィルム作製を可能とするための材料を報告している（特許文献７）。しかし、更に高い屈折率異方性（Δｎ）を有するフィルムが求められている。

特開昭６２−７０４０７号公報特開平９−２０８９５７号公報欧州特許出願公開第１０９０３２５号明細書国際公開第２００８／０３１２４３号特開２００８−１６４９２５号公報特開平１１−１８９６６５号公報国際公開第２０１３／１３３０７８号

本発明は、前記問題に鑑みなされたものであり、より高い屈折率異方性（Δｎ）を有する単層塗布型水平配向フィルム作製を可能とする液晶組成物、及び該液晶組成物から得られる単層塗布型水平配向フィルムを提供することを目的とする。

本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、γ−ブチロラクトン骨格を主鎖に含有するとともに、ラクトン環のγ位から延びる側鎖上にケイ皮酸エステル構造を有する重合体、所定の液晶性を示さない化合物、及び有機溶媒を含む組成物から得られるフィルムが、低温処理が可能であり、これによってより高い屈折率異方性（Δｎ）を有する水平配向フィルムが得られることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、下記液晶組成物、及び単層塗布型水平配向フィルムを提供する。
１．（Ａ）下記式［１ａ］、［１ｂ］及び［１ｃ］で表される繰り返し単位を含む重合体、
（Ｂ）下記式［７ａ］、［７ｂ］又は［７ｃ］で表される液晶性を示さない化合物、及び
（Ｃ）有機溶媒
を含む液晶組成物。

［式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、下記式［２］又は［３］で表される基であり、

（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基であり、破線は、結合手である。）
Ｍ¹は、下記式［４］で表される基であり、Ｍ²は、下記式［５］又は［６］で表される基であり、

（式中、ｓ１、ｓ２、ｓ３、ｓ４、ｓ５及びｓ６は、それぞれ独立に、１又は２であり、Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｒ⁴は、炭素数１〜３のアルキル基であり、破線は結合手である。）
Ａは、炭素数２〜１５の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、
ｍ、ｎ及びｐは、それぞれ０＜ｍ＜１、０＜ｎ＜１、０≦ｐ≦０.５、かつ、ｍ＋ｎ＋ｐ≦１を満たす数であり、
ｑ及びｒは、それぞれ独立に、２〜９の整数である。］

（式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃又は−ＯＣ(＝Ｏ)ＣＨ₃であり、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃又は−ＯＣ(＝Ｏ)ＣＨ₃であり、Ｇ³は、単結合、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−又は−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−であり、Ｇ⁴は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。）
２．１の液晶組成物を用いて作製された単層塗布型水平配向フィルム。
３．２の単層塗布型水平配向フィルムを備える光学部材。
４．１の液晶組成物を基板に塗布する工程、偏光を照射する工程、及びポストベークをする工程を含む、単層塗布型水平配向フィルムの製造方法。
５．前記偏光が、直線偏光紫外線である４の単層塗布型水平配向フィルムの製造方法。

本発明の液晶組成物を塗布し、室温にて直線偏光を照射し、低温でのポストベークを行うプロセスにより、高いΔｎを示す単層塗布型水平配向フィルムを作製することが可能である。

比較例１及び実施例１〜５で得られた各フィルムのリタデーション値角度依存性を示す図である。比較例１及び実施例６〜９で得られた各フィルムのリタデーション値角度依存性を示す図である。比較例２〜３及び実施例１０〜１１で得られた各フィルムのリタデーション値角度依存性を示す図である。

［液晶組成物］
本発明の液晶組成物は、（Ａ）所定の重合体、（Ｂ）所定の液晶性を示さない化合物、及び（Ｃ）有機溶媒を含むものである。

［（Ａ）重合体］
（Ａ）成分の重合体は、下記式［１ａ］及び［１ｂ］で表される繰り返し単位を含み、必要に応じて、更に下記式［１ｃ］で表される繰り返し単位を含むものである。

式［１ａ］及び［１ｃ］中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、下記式［２］又は［３］で表される基である。

式［３］中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基である。破線は、結合手である（以下同じ）。これらのうち、Ｘ及びＹとしては、ともに式［３］で表される基が好ましい。

式［１ａ］中、Ｍ¹は、下記式［４］で表される基である。式［１ｂ］中、Ｍ²は、下記式［５］又は［６］で表される基である。

式［４］〜［６］中、ｓ１、ｓ２、ｓ３、ｓ４、ｓ５及びｓ６は、それぞれ独立に、１又は２であり、Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基である。Ｒ⁴は、炭素数１〜３のアルキル基である。

前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、本発明においては、フッ素原子が好ましい。

Ｒ²及びＲ³で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよいが、本発明においては、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基が好ましい。前記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。これらのうち、炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましく、特にメチル基、エチル基等が好ましい。Ｒ⁴で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状のいずれでもよいが、本発明においては、炭素数１〜３の直鎖状アルキル基が好ましい。

前記アルコキシ基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよいが、本発明においては、炭素数１〜１０の直鎖状アルコキシ基が好ましい。前記アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、特にメトキシ基、エトキシ基等が好ましい。なお、前記アルキル基及びアルコキシ基において、その水素原子の一部又は全部がフッ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ｒ²又はＲ³としてより好ましくは、水素原子、フッ素原子、シアノ基、メチル基、メトキシ基である。Ｒ⁴としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

Ｇ¹としては、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−が好ましく、Ｇ²としては、単結合が好ましい。

式［１ｃ］中、Ａは、直鎖状又は分岐状の炭素数２〜１５のアルキル基である。前記アルキル基として具体的には、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１,１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１,２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２,２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−ｎ−ペンチル基、４−メチル−ｎ−ペンチル基、１,１−ジメチル−ｎ−ブチル基、１,２−ジメチル−ｎ−ブチル基、１,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、２,２−ジメチル−ｎ−ブチル基、２,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、３,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ブチル基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチル−ｎ−ヘキシル基、２−メチル−ｎ−ヘキシル基、３−メチル−ｎ−ヘキシル基、１,１−ジメチル−ｎ−ペンチル基、１,２−ジメチル−ｎ−ペンチル基、１,３−ジメチル−ｎ−ペンチル基、２,２−ジメチル−ｎ−ペンチル基、２,３−ジメチル−ｎ−ペンチル基、３,３−ジメチル−ｎ−ペンチル基、１−エチル−ｎ−ペンチル基、２−エチル−ｎ−ペンチル基、３−エチル−ｎ−ペンチル基、１−メチル−１−エチル−ｎ−ブチル基、１−メチル−２−エチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−２−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−３−メチル−ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、１−メチル−ｎ−ヘプチル基、２−メチル−ｎ−ヘプチル基、３−メチル−ｎ−ヘプチル基、１,１−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、１,２−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、１,３−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、２,２−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、２,３−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、３,３−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、１−エチル−ｎ−ヘキシル基、２−エチル−ｎ−ヘキシル基、３−エチル−ｎ−ヘキシル基、１−メチル−１−エチル−ｎ−ペンチル基、１−メチル−２−エチル−ｎ−ペンチル基、１−メチル−３−エチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−２−エチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−３−エチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−３−エチル−ｎ−ペンチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基等が挙げられる。

これらのうち、得られる重合体の有機溶媒に対する溶解性等を考慮すると、炭素数４〜１５、特に４〜１２のアルキル基が好ましく、ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−ドデシル基等がより好ましい。

式［１ａ］〜［１ｃ］中、ｍ、ｎ及びｐは、それぞれ０＜ｍ＜１、０＜ｎ＜１、０≦ｐ≦０.５、かつ、ｍ＋ｎ＋ｐ≦１を満たす数である。Δｎの向上や重合体の溶解性の向上等の点から、ｍ、ｎ及びｐは、それぞれ０.２≦ｍ≦０.９、０.１≦ｎ≦０.８、０≦ｐ≦０.４を満たす数であることが好ましく、０.２≦ｍ≦０.８、０.１≦ｎ≦０.５、０.１≦ｐ≦０.３を満たす数であることが更に好ましい。ただし、Ｍ²が式［６］で表される基の場合、ｐ＝０であって、０＜ｍ＜１、０＜ｎ＜１、かつ、ｍ＋ｎ≦１を満たすことが好ましく、０.２≦ｍ≦０.９、０.１≦ｎ≦０.８を満たすことがより好ましく、０.５≦ｍ≦０.８、０.２≦ｎ≦０.５を満たすことが更に好ましい。

また、式［１ａ］及び［１ｂ］中、ｑ及びｒは、それぞれ独立に、２〜９の整数であるが、３〜６が好ましく、特にｑとしては５又は６がより好ましい。

（Ａ）成分の重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が３,０００〜２００,０００であることが好ましく、４,０００〜１５０,０００であることがより好ましく、５,０００〜１００,０００であることが更に好ましい。Ｍｗが２００,０００を超えると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、Ｍｗが３,０００未満であると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性及び耐熱性が低下する場合がある。なお、Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算測定値である。

また、（Ａ）成分の重合体は、本発明の効果を損なわない限り、式［１ａ］〜［１ｃ］以外の他の繰り返し単位を含んでもよい。前記他の繰り返し単位を与える重合性化合物としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物等が挙げられる。

他の繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位１００モル％中、０〜１０モル％が好ましい。他の繰り返し単位の含有率が大きすぎると、前記重合体の特性、例えば液晶性等の特性が低下する場合がある。

（Ａ）成分の重合体が前記他の繰り返し単位を含む場合、その合成方法としては、前記重合の際に、前記他の繰り返し単位を与える重合性化合物を共存させて重合すればよい。

なお、（Ａ）成分の重合体は、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。また、前記重合体は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

（Ａ）成分の重合体を合成する方法としては、例えば、国際公開第２０１３／１３３０７８号や国際公開第２０１５／０２５７９４号に記載の方法が挙げられるが、これらに限定されない。

［（Ｂ）液晶性を示さない化合物］
（Ｂ）成分である液晶性を示さない化合物は、下記式［７ａ］、［７ｂ］又は［７ｃ］で表されるものである。

式［７ａ］中、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃又は−ＯＣ(＝Ｏ)ＣＨ₃である。これらのうち、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃又は−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃が好ましく、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃がより好ましい。

式［７ｂ］中、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃又は−ＯＣ(＝Ｏ)ＣＨ₃である。これらのうち、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃又は−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃が好ましく、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃がより好ましい。

式［７ｂ］中、Ｇ³は、単結合、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−又は−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−である。これらのうち、単結合又は−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−が好ましく、単結合がより好ましい。

式［７ｃ］中、Ｇ⁴は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。これらのうち、単結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−が好ましく、単結合がより好ましい。

式［７ａ］で表される化合物としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。

式［７ｂ］で表される化合物としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。

式［７ｃ］で表される化合物としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。

式［７ａ］〜［７ｃ］で表される化合物は、公知の方法（例えば、エステル化反応）を利用して合成することができ、又は市販品として入手することもできる。

（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分の重合体１００質量部に対して１〜１０質量部が好ましく、１〜５質量部がより好ましい。（Ｂ）成分の含有量が前記範囲であれば、リタデーション向上の効果を示す。（Ｂ）成分の化合物は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

［（Ｃ）有機溶媒］
（Ｃ）成分の有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等の極性溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル等のアルコキシエステル類；エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコールジアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のジグリコールジアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル等のジグリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート、エチルセロソルブアセテート等のグリコールモノアルキルエーテルエステル類；シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類が挙げられる。これらの有機溶媒は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

これらの中でも、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、シクロヘキサノン等が好ましい。有機溶媒の使用量は、組成物中、６０〜９５質量％程度とすることが好適である。

［その他の成分］
本発明の組成物には、基板との親和性を向上させる目的で、界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、特に限定されず、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられるが、基板との親和性改善効果の高いフッ素系界面活性剤が好ましい。

フッ素系界面活性剤の具体例としては（以下、商品名）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（(株)トーケムプロダクツ製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０、Ｒ−３０Ｎ（ＤＩＣ(株)製）、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム(株)製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子(株)製）等が挙げられるが、これらに限定されない。なお、界面活性剤は、１種単独でも複数種を組み合わせて用いることもでき、その添加量は、重合体１００質量部に対して５質量部以下が好ましい。

更に、本発明の組成物には、基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を添加してもよい。密着促進剤としては、トリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類；トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類；ヘキサメチルジシラザン、Ｎ,Ｎ'−ビス(トリメチルシリル)ウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール等のシラザン類；ビニルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(Ｎ−ピペリジニル)プロピルトリメトキシシラン等のシラン類；ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物；１,１−ジメチルウレア、１,３−ジメチルウレア等の尿素化合物；チオ尿素化合物等が挙げられる。

密着促進剤は、１種単独でも２種以上を組み合わせて用いることもでき、その添加量は、重合体１００質量部に対して１質量部以下が好ましい。

［単層塗布型水平配向フィルム］
本発明の組成物を基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ＩＴＯ基板等）やフィルム（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム）等の上に、バーコート、スピンコート、フローコート、ロールコート、スリットコート、スリットコートに続いたスピンコート、インクジェット法、印刷法等の方法によって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレート又はオーブン等で加熱乾燥することにより、フィルムを形成することができる。

加熱乾燥の条件としては、例えば、５０〜１００℃、０.１〜６０分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度及び加熱時間が採用される。前記加熱温度及び加熱時間は、好ましくは５０〜８０℃、０.１〜２分間である。

このようにして形成されたフィルムは、直線偏光照射を行い、ポストベークを行うことにより、単層塗布型水平配向フィルムが得られる。直線偏光の照射方法としては、通常１５０〜４５０ｎｍの波長の紫外線乃至は可視光線が用いられ、室温又は加熱した状態で、直線偏光を照射することによって行われる。

また、ポストベークは、ホットプレート又はオーブン等で加熱すればよく、その温度及び時間は、好ましくは９０〜１５０℃、２〜２０分間であり、より好ましくは９５〜１２０℃、５〜２０分間である。

本発明の単層塗布型水平配向フィルムの膜厚は、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができ、例えば、０.１〜３μｍが好適である。

このようにして得られた本発明の単層塗布型水平配向フィルムは、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料であり、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板及び位相差板等の光学補償フィルムとして好適である。

以下、合成例、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されない。なお、実施例における各物性の測定方法及び測定条件は、以下のとおりである。
［ＮＭＲ］
化合物を重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ₃）に溶解し、核磁気共鳴装置（３００ＭＨｚ、ジオール社製）を用いて¹Ｈ−ＮＭＲを測定した。
［平均分子量測定］
昭和電工(株)製Shodex GPC-101（溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、検量線：標準ポリスチレン）を用いて、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）を測定した。
［フィルムのリタデーション値］
リタデーション測定装置（RETS-100、大塚電子(株)製）を用いて波長５５０ｎｍのリタデーション値角度依存性を測定した。

［１］化合物の合成
［合成例１］重合性化合物（Ｍ１）の合成

４−(６−アクリロイルオキシ−１−ヘキシルオキシ)安息香酸（SYNTHON Chemicals社製）２９.２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシビフェニル１７.０ｇ（１００ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０.６ｇ、及び少量のジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を室温にて攪拌下、塩化メチレン２００ｍＬに懸濁させ、それに塩化メチレン１００ｍＬにＮ,Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）２４.０ｇ（１１６ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を、０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸１５０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｍＬ、飽和食塩水１５０ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶で精製し、目的の重合性化合物（Ｍ１）３９.６ｇを得た（収率８９％）。ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR(CDCl₃) δ: 1.57(m, 4H), 1.70(m, 2H), 1.86(m, 2H), 4.00(m, 2H), 4.19(m, 2H), 5.82(m, 1H), 6.12(m, 1H), 6.39(m, 1H), 6.97(d, 2H), 7.29(m, 2H), 7.36(m, 1H), 7.47(m, 2H), 7.62(m, 4H), 8.18(m, 2H)

［合成例２］重合性化合物（Ｍ２）の合成
（１）中間体化合物（Ｑ２）の合成

冷却管付き５００ｍＬナスフラスコに、ビフェノール１８.６ｇ（１００ｍｍｏｌ）、２−(４−ブロモ−１−ブチル)−１,３−ジオキソラン１０.０ｇ（４８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１３.８ｇ（１００ｍｍｏｌ）、及びアセトン２００ｍＬを加えて混合物とし、６４℃で２４時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を純水５００ｍＬに注ぎ、白色の固体を得た。この固体をメタノールと混合し、ろ過を行い、溶媒を留去したところ、白色の固体を得た。次に、この固体をクロロホルムと混合し、ろ過を行い、溶媒を留去して、白色の固体７.２ｇを得た。この固体をＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が、中間体化合物（Ｑ２）であることが確認された（収率４８％）。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.62(m, 2H), 1.76(m, 2H), 1.87(m, 2H), 3.85(m, 2H), 4.00(m, 4H), 4.90(m, 1H), 6.87(m, 4H), 7.42(m, 4H)

（２）中間体化合物（Ｚ２）の合成

次に、冷却管付き３００ｍＬナスフラスコに、中間体化合物（Ｑ２）７.２ｇ（２３ｍｍｏｌ）、２−(ブロモメチル)アクリル酸４.１ｇ（２５ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ６０ｍＬ、塩化スズ(II)４.７ｇ（２５ｍｍｏｌ）、及び１０質量％塩酸１９ｍＬを加えて混合物とし、７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を純水２００ｍＬに注ぎ、白色固体６.１gを得た。この固体をＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が、中間体化合物（Ｚ２）であることが確認された（収率７８％）。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.60-1.95(m, 6H), 2.64(m, 1H), 3.11(s, 1H), 4.02(t, 2H), 4.60(m, 1H), 4.82(s, 1H), 5.64(s, 1H), 6.24(s, 1H), 6.88(d, 2H), 6.94(d, 2H), 7.44(m, 4H)

（３）重合性化合物（Ｍ２）の合成

中間体化合物（Ｚ２）３.４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、４−メトキシケイ皮酸１.８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０.０８ｇ、及び少量のＢＨＴを室温にて攪拌下、塩化メチレン３０ｍＬに懸濁させ、それに塩化メチレン１５ｍＬにＤＣＣ２.６ｇ（１３ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を、０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬ、飽和食塩水５０ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶で精製し、目的の重合性化合物（Ｍ２）４.３ｇを得た（収率８６％）。ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR(CDCl₃) δ: 1.60-1.90(m, 6H), 2.63(m, 1H), 3.09(m, 1H), 3.87(s, 3H), 4.03(m, 2H), 4.57(m, 1H), 5.64(m, 1H), 6.24(d, 1H), 6.54(d, 1H), 6.95(m, 4H), 7.26(m, 2H), 7.44(m, 2H), 7.57(m, 4H), 7.86(d, 1H)

［合成例３］重合性化合物（Ｍ３）の合成
（１）中間体化合物（Ａ３）の合成

冷却管付き２００ｍＬナスフラスコに、４−ヒドロキシ安息香酸メチル７.６１ｇ（５０.０ｍｍｏｌ）、６−ブロモ−１−ヘキサノール９.１ｇ（５０.０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１３.８ｇ（１００ｍｍｏｌ）、及びアセトン７０ｍＬを加えて混合物とし、温度６４℃で２４時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過して減圧下で溶媒を留去し、黄色の湿潤固体を得た。この固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（カラム：シリカゲル６０、０.０６３−０.２００ｍｍ、メルク社製、溶出液：へキサン／酢酸エチル＝１／１）により精製した。得られた溶液から溶媒を留去し、白色の固体１１.３ｇを得た。この固体をＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が、中間体化合物（Ａ３）であることが確認された（収率９０％）。
¹H-NMR(CDCl₃) δ: 1.3-1.7(m, 8H), 3.67(m, 2H), 3.88(s, 3H), 4.03(t, 2H), 6.91(d, 2H), 7.99(d, 2H).

（２）中間体化合物（Ｂ３）の合成

次に、冷却管付き１００ｍＬ三口フラスコに、ピリジニウムクロロクロマート２.２ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）、及び塩化メチレン１５.０ｍＬを入れて攪拌混合した状態で、中間体化合物（Ａ３）２.５ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１５.０ｍＬに溶解した溶液を滴下し、室温で６時間更に攪拌した。その後、フラスコの壁に付着したオイル状物を除いた溶液に、ジエチルエーテル９０ｍＬを加えて減圧濾過した後、減圧下で溶媒を留去して、濃緑色の湿潤な固体を得た。
この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（カラム：シリカゲル６０、０.０６３−０.２００ｍｍ、メルク社製、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製した。得られた溶液の溶媒を留去して、無色の固体１.３ｇを得た。この固体をＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色の固体が、中間体化合物（Ｂ３）であることが確認された（収率５０％）。
¹H-NMR(CDCl₃) δ: 1.3-1.8(m, 6H), 2.49(t, 2H), 3.88(s, 3H), 3.99(t, 2H), 6.87(d, 2H), 7.99(d, 2H), 9.78(s, 1H).

（３）中間体化合物（Ｃ３）の合成

次に、冷却管付き５０ｍＬナスフラスコに、中間体化合物（Ｂ３）１.２５ｇ（５.０ｍｍｏｌ）、２−(ブロモメチル)アクリル酸０.８３ｇ（５.０ｍｍｏｌ）、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ（登録商標）１５（ロームエンドハース社製）０.８ｇ、ＴＨＦ８.０ｍＬ、塩化スズ(II)０.９５ｇ（５.０ｍｍｏｌ）、及び純水２.０ｍＬを加えて混合物とし、温度７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過して純水４０ｍＬと混合し、そこにジエチルエーテル５０ｍＬを加えて抽出した。抽出は３回行った。
抽出後の有機層に、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、減圧濾過した後の溶液から溶媒を留去し、無色固体１.５ｇを得た。この固体をＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色固体が、中間体化合物（Ｃ３）であることが確認された（収率９４％）。
¹H-NMR(DMSO-d6) δ: 1.3-1.8(m, 8H), 2.62(m, 1H), 3.04(s, 1H), 3.81(s, 3H), 4.05(t, 2H), 4.54(m, 1H), 5.70(s, 1H), 6.01(s, 1H), 7.03(d, 2H), 7.89(d, 2H).

（４）中間体化合物（Ｄ３）の合成

冷却管付き１００ｍＬナスフラスコに、エタノール３５ｍＬ、中間体化合物（Ｃ３）１.５ｇ（４.７ｍｍｏｌ）、及び１０質量％水酸化ナトリウム水溶液５ｍＬを加えて混合物とし、温度８５℃で３時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、５００ｍＬのビーカーに水３００ｍＬと反応液とを加えて、３０分間室温で攪拌した後、１０質量％塩酸５ｍＬを滴下した後、ろ過して白色固体１.３ｇを得た。
次に、冷却管付き５０ｍＬナスフラスコに、得られた白色固体１.１ｇ、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ（登録商標）１５（ロームエンドハース社）１.０ｇ、及びＴＨＦ２０.０ｍＬを加えて混合物とし、温度７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧濾過した後の溶液から溶媒を留去し黄色固体を得た。この黄色固体を再結晶（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製した後、白色固体０.９ｇを得た。この固体をＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が、中間体化合物（Ｄ３）であることが確認された（収率７１％）。
¹H-NMR(DMSO-d6) δ: 1.2-1.8(m, 8H), 2.60(m, 1H), 3.09(m, 1H), 4.04(m, 2H), 4.55(m, 1H), 5.69(s, 1H), 6.02(s, 1H), 6.99(d, 2H), 7.88(d, 2H), 12.5(s, broad, 1H).

（５）重合性化合物（Ｍ３）の合成

中間体化合物（Ｄ３）３.０ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）、メチル４−ヒドロキシシナメート１.８ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０.０５ｇ、及び少量のＢＨＴを室温にて攪拌下、塩化メチレン６０ｍＬに懸濁させ、それにＤＣＣ２.７ｇ（１３.０ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を、０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬ、飽和食塩水１００ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、黄色固体を得た。この固体を再結晶（エタノール）で精製した。目的の重合性化合物（Ｍ３）２.６ｇを得た（収率５６％）。
¹H-NMR(CDCl₃) δ: 1.40-1.90(m, 8H), 2.58(m, 1H), 3.08(m, 1H), 3.80(s, 3H), 4.05(t, 2H), 4.55(m, 1H), 5.64(s, 1H), 6.22(s, 1H), 6.42(d, 1H), 6.97(d, 2H), 7.22(d, 2H), 7.60(d, 2H), 7.70(d, 1H), 8.15(d, 2H).

［合成例４］重合体（Ｐ１）の合成

冷却管を備えたフラスコに、重合性化合物（Ｍ１）２.１６ｇ（４.８ｍｍｏｌ）、重合性化合物（Ｍ２）１.８０ｇ（３.６ｍｍｏｌ）、ｎ−ドデシルアクリレート０.８４ｇ（３.６ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ４８.０ｇ、及びアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０.１０ｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を４００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿させた。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（Ｐ１）を３.６０ｇ得た（収率７５％）。重合体（Ｐ１）のＭｎは、１３,２５８であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝２.０）。

［合成例５］重合体（Ｐ２）の合成

冷却管を備えたフラスコに、重合性化合物（Ｍ１）０.３６ｇ（０.８ｍｍｏｌ）、重合性化合物（Ｍ２）０.６０ｇ（１.２ｍｍｏｌ）、ｎ−ドデシルアクリレート０.４８ｇ（２.０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ１６.０ｇ、及びＡＩＢＮ０.０３４ｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を２００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿させた。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（Ｐ３）を０.９５ｇ得た（収率６６％）。重合体（Ｐ２）のＭｎは、１３,６４７であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝２.０）。

［合成例６］重合体（Ｐ３）の合成

冷却管を備えたフラスコに、合成例１で得られた重合性化合物（Ｍ１）０.２０ｇ（０.４ｍｍｏｌ）、合成例３で得られた重合性化合物（Ｍ３）０.４４ｇ（１.０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ５.８ｇ、ＡＩＢＮ１２ｍｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、温度６０℃で２０時間撹拌して反応した。得られた反応溶液を２００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿した。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（Ｐ３）を０.５ｇ得た（収率７８％）。得られた重合体（Ｐ３）のＭｎは、１５,８７７であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝３.２６）。

［２］液晶組成物の調製及びフィルム作製・評価
下記例で使用した化合物（１）〜（９）の構造を以下に示す。

化合物（２）は、４−(４−ヒドロキシフェニル)安息香酸（東京化成工業(株)製）とエタノールとの硫酸を用いたエステル化反応より合成した。

化合物（６）は、ｐ−アニス酸（東京化成工業(株)製）と化合物（１）とのＤＭＡＰを用いたエステル化反応より合成した。

［実施例１］
重合体（Ｐ１）１５０ｍｇ及び化合物（１）（東京化成工業(株)製）７.５ｍｇを、界面活性剤であるＲ−３０Ｎ（ＤＩＣ(株)製）を０.０２質量％含むトルエン／シクロヘキサノン（７５／２５、ｗ／ｗ）０.８５０ｇに溶解し、液晶組成物を調製した。
得られた組成物を、ガラス基板にスピンコート（３００ｒｐｍ／５秒、５００ｒｐｍ／２０秒）により塗布し、温度５５℃のホットプレート上で３０秒間プリベークした後、室温まで放冷した。
次に、ガラス基板に形成された塗膜に、直線偏光紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ²（波長３１３ｎｍで照度測定）垂直に照射した後、ホットプレート上で１００℃、１５分間ポストベークし、フィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.８μｍであり、リタデーション値（Δｎｄ）は２１２ｎｍであり、Δｎは０.１１８であった。

［実施例２］
化合物（１）のかわりに化合物（２）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.９μｍであり、リタデーション値は２７５ｎｍであり、Δｎは０.１４５であった。

［実施例３］
化合物（１）のかわりに化合物（３）（東京化成工業(株)製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.８μｍであり、リタデーション値は２３５ｎｍであり、Δｎは０.１２７であった。

［実施例４］
化合物（１）７.５ｍｇのかわりに化合物（４）（東京化成工業(株)製）３.０ｍｇを用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.９μｍであり、リタデーション値は２１１ｎｍであり、Δｎは０.１１１であった。

［実施例５］
化合物（１）のかわりに化合物（５）（東京化成工業(株)製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が２.０μｍであり、リタデーション値は２４２ｎｍであり、Δｎは０.１２０であった。

［実施例６］
化合物（１）のかわりに化合物（６）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.８μｍであり、リタデーション値は２５５ｎｍであり、Δｎは０.１４２であった。

［実施例７］
化合物（１）のかわりに化合物（７）（ALDRICH社製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.８μｍであり、リタデーション値は２４０ｎｍであり、Δｎは０.１３３であった。

［実施例８］
化合物（１）のかわりに化合物（８）（ALDRICH社製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が２.０μｍであり、リタデーション値は２０７ｎｍであり、Δｎは０.１０３であった。

［実施例９］
化合物（１）のかわりに化合物（９）（和光純薬工業(株)製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.７μｍであり、リタデーション値は１８２ｎｍであり、Δｎは０.１０７であった。

［実施例１０］
重合体（Ｐ２）１５０ｍｇ及び化合物（２）７.５ｍｇを、界面活性剤であるＲ−３０（ＤＩＣ(株)製）を０.０２質量％含むトルエン／シクロヘキサノン（７５／２５、ｗ／ｗ）０.８５０ｇに溶解し、液晶組成物を調製した。
得られた組成物を、ガラス基板にスピンコート（３００ｒｐｍ／５秒、９００ｒｐｍ／２０秒）により塗布し、温度５５℃のホットプレート上で３０秒間プリベークした後、室温まで放冷した。
次に、ガラス基板に形成された塗膜に、直線偏光紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ²（波長３１３ｎｍで照度測定）垂直に照射した後、ホットプレート上で１００℃、１５分間ポストベークし、フィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.７μｍであり、リタデーション値（Δｎｄ）は１１０ｎｍであり、Δｎは０.０６５であった。

［実施例１１］
重合体（Ｐ３）１５０ｍｇ及び化合物（２）７.５ｍｇを、界面活性剤であるＲ−３０（ＤＩＣ(株)製）を０.０２質量％含むシクロヘキサノン０.８５０ｇに溶解し、液晶組成物を調製した。
得られた組成物を、ガラス基板にスピンコート（３００ｒｐｍ／５秒、５００ｒｐｍ／２０秒）により塗布し、温度５５℃のホットプレート上で３０秒間プリベークした後、室温まで放冷した。
次に、ガラス基板に形成された塗膜に、直線偏光紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ²（波長３１３ｎｍで照度測定）垂直に照射した後、ホットプレート上で１００℃、１５分間ポストベークし、フィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.５μｍであり、リタデーション値（Δｎｄ）は３５ｎｍであり、Δｎは０.０２３であった。

［比較例１］
化合物（１）を用いなかった以外は、実施例１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.８μｍであり、リタデーション値は１７５ｎｍであり、Δｎは０.０９９であった。

［比較例２］
化合物（２）を用いなかった以外は、実施例１０と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.６μｍであり、リタデーション値は８７ｎｍであり、Δｎは０.０５４であった。

［比較例３］
化合物（２）を用いなかった以外は、実施例１１と同様の方法で液晶組成物及びフィルムを得た。得られたフィルムは、膜厚が１.５μｍであり、リタデーション値は２６ｎｍであり、Δｎは０.０１８であった。

以上の結果をまとめて、表１に示す。

図１〜３に、実施例１〜１１及び比較例１〜３のフィルムのリタデーション値の角度依存性を示す。これにより、水平配向フィルムが得られることがわかった。

Claims

（Ａ）下記式［１ａ］、［１ｂ］及び［１ｃ］で表される繰り返し単位を含む重合体、
（Ｂ）下記式［７ａ］、［７ｂ］又は［７ｃ］で表される液晶性を示さない化合物、及び
（Ｃ）有機溶媒
を含む液晶組成物。

［式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、下記式［２］又は［３］で表される基であり、

（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基であり、破線は、結合手である。）
Ｍ¹は、下記式［４］で表される基であり、Ｍ²は、下記式［５］又は［６］で表される基であり、

（式中、ｓ１、ｓ２、ｓ３、ｓ４、ｓ５及びｓ６は、それぞれ独立に、１又は２であり、Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｒ⁴は、炭素数１〜３のアルキル基であり、破線は結合手である。）
Ａは、炭素数２〜１５の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、
ｍ、ｎ及びｐは、それぞれ０＜ｍ＜１、０＜ｎ＜１、０≦ｐ≦０.５、かつ、ｍ＋ｎ＋ｐ≦１を満たす数であり、
ｑ及びｒは、それぞれ独立に、２〜９の整数である。］

（式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃又は−ＯＣ(＝Ｏ)ＣＨ₃であり、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₃、−Ｃ(＝Ｏ)ＯＣＨ₂ＣＨ₃又は−ＯＣ(＝Ｏ)ＣＨ₃であり、Ｇ³は、単結合、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−又は−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−であり、Ｇ⁴は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。）
請求項１記載の液晶組成物を用いて作製された単層塗布型水平配向フィルム。
請求項２記載の単層塗布型水平配向フィルムを備える光学部材。
請求項１記載の液晶組成物を基板に塗布する工程、偏光を照射する工程、及びポストベークをする工程を含む、単層塗布型水平配向フィルムの製造方法。
前記偏光が、直線偏光紫外線である請求項４記載の単層塗布型水平配向フィルムの製造方法。