JP6833728B2 - 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタ - Google Patents

Description

本発明は、組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタに関する。

ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、近赤外線カットフィルタを使用して視感度補正を行うことがある。

近赤外線吸収化合物としては、ピロロピロール化合物やシアニン化合物などが知られている（例えば、特許文献１、２）。

特許文献２には、水溶性のシアニン化合物を２種類以上含む近赤外線吸収組成物を用いて近赤外線カットフィルタを製造することが記載されている。

特開２００９−２６３６１４号公報 特開２００９−１８５１６１号公報

近年、近赤外線カットフィルタなどの近赤外線吸収化合物を含む膜において、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽することが求められており、赤外線遮蔽性のさらなる向上が求められている。また、近赤外線カットフィルタなどの近赤外線吸収化合物を含む膜は、高温高湿の環境下で使用することもあり、高温高湿の環境に曝されても分光が変動しにくいことが求められている。

本発明の目的は、赤外線遮蔽性に優れ、分光変動が生じにくい膜を形成できる組成物を提供することにある。また、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタを提供することにある。

かかる状況のもと、本発明者らが鋭意検討を行った結果、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物を２種類以上用いることで、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞ 波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物を２種類以上含み、
２種類以上の近赤外線吸収化合物は、
波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収化合物と、
第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物とを含み、
第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が１〜１５０ｎｍである、組成物。
＜２＞ 第１の近赤外線吸収化合物および第２の近赤外線吸収化合物は、波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ１と極大吸収波長における吸光度Ａ２との比率Ａ１／Ａ２が、それぞれ０．０４以下である＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ 第１の近赤外線吸収化合物および第２の近赤外線吸収化合物の少なくとも一方が、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、およびリレン化合物から選ばれる少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ 第１の近赤外線吸収化合物が、ピロロピロール化合物である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞ 第１の近赤外線吸収化合物および第２の近赤外線吸収化合物の少なくとも一方が、下記式（Ｉ）で表される化合物を含む、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の組成物；

式（Ｉ）中、Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立にヘテロアリール基を表し、
Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。
＜６＞ 第１の近赤外線吸収化合物および第２の近赤外線吸収化合物の少なくとも一方が、下記式（ＩＩ）で表される化合物、および、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の組成物；

式（ＩＩ）中、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立にＯ、Ｓ、ＮＲ^X1またはＣＲ^X2Ｒ^X3を表し、Ｒ^X1〜Ｒ^X3はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
Ｒ³〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
Ｒ³とＲ⁴、またはＲ⁵とＲ⁶は互いに結合して環を形成してよく、
Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す；
式（ＩＩＩ）中、Ｙ¹〜Ｙ⁸はそれぞれ独立にＮまたはＣＲ^Y1を表し、Ｙ¹〜Ｙ⁴の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｙ⁵〜Ｙ⁸の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｒ^Y1は水素原子または置換基を表し、隣接するＲ^Y1同士は互いに結合して環を形成してよく、
Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。
＜７＞ 第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物が、共通の色素骨格を有する化合物である、＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８＞ 第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物とがいずれもピロロピロール化合物であるか、または、いずれもシアニン化合物である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜９＞ 第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が、１〜９０ｎｍである＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０＞ 更に、硬化性化合物を含む、＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１＞ 更に、樹脂および溶剤を含む＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２＞ 更に、有彩色着色剤を含む、＜１＞〜＜１１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３＞ ＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の組成物を含む膜。
＜１４＞ ＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の組成物を含む近赤外線カットフィルタ。
＜１５＞ 更に、銅を含む層を有する、＜１４＞に記載の近赤外線カットフィルタ。
＜１６＞ ＜１４＞または＜１５＞に記載の近赤外線カットフィルタと、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと、を有する積層体。
＜１７＞ ＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の組成物を含む組成物層を支持体上に形成する工程と、フォトリソグラフィ法またはドライエッチング法により、組成物層にパターンを形成する工程と、を含む、パターン形成方法。
＜１８＞ ＜１３＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１９＞ ＜１３＞に記載の膜を有する画像表示装置。
＜２０＞ ＜１３＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
＜２１＞ ＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の組成物を含む画素と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる画素とを有するカラーフィルタ。

本発明によれば、赤外線遮蔽性および耐湿性に優れた膜を形成できる組成物を提供することが可能になった。また、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタを提供することが可能となった。

赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。 パターンの形成工程を示す図（平面図）である。 図２のＡ−Ａ断面図である。 パターンの形成工程を示す図（平面図）である。 図４のＡ−Ａ断面図である。 パターンの形成工程を示す図（平面図）である。 図６のＡ−Ａ断面図である。 赤外線センサの他の実施形態を示す概略図である。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基（原子団）の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において光とは、活性光線または放射線を意味する。また、「活性光線」または「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等を意味する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、ＥＵＶ光などを用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ(Ｎ−メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めることができる。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
近赤外線とは、極大吸収波長領域が波長７００〜２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。

＜組成物＞
本発明の組成物は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物を２種類以上含み、
２種類以上の近赤外線吸収化合物は、
波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収化合物と、
第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物とを含み、
第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が１〜１５０ｎｍである。

なお、本明細書において、「波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する」とは、近赤外線吸収化合物の溶液での吸収スペクトルにおいて、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に最大の吸光度を示す波長を有することを意味する。近赤外線吸収化合物の溶液での吸収スペクトルの測定に用いる測定溶媒は、クロロホルム、メタノール、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。クロロホルムで溶解する化合物の場合は、クロロホルムを測定溶媒として用いる。クロロホルムで溶解しない化合物の場合は、メタノールを用いる。また、クロロホルムおよびメタノールのいずれにも溶解しない場合はジメチルスルホキシドを用いる。また、本明細書において、近赤外線吸収化合物の、２３℃の水に対する溶解度は、後述する実施例に示す方法で測定した値を意味する。

本発明の組成物は、上述の第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物とを含むので、赤外線遮蔽性に優れ、分光変動が生じにくい膜を形成できる。
すなわち、第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲において、異なる波長範囲に極大吸収波長を有し、かつ、両者の極大吸収波長の差が１〜１５０ｎｍであるので、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲における膜の吸収スペクトルの波形が、１種類の赤外線吸収化合物を使用した場合に比べて広がり、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽することができる。
また、近赤外線吸収化合物を２種類以上含む膜は、分光変動が生じやすいことが分かった。分光変動の発生は、検討したところ、膜中に含まれる近赤外線吸収化合物が、膜表面にブリードアウトしたり、近赤外線吸収化合物の会合状態が変化したりすることが原因であると推測される。
本発明では、近赤外線吸収化合物として、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下の化合物を用いるので、得られる膜の耐湿性が向上する。本発明の組成物を用いて得られた膜を高温高湿の環境下に置いても、近赤外線吸収化合物のブリードアウトや会合状態の変化などを抑制でき、分光変動を抑制することができる。
また、第１の近赤外線吸収化合物として、耐光性に優れる化合物（例えばピロロピロール化合物）を用いた場合、第２の近赤外線吸収化合物として、耐光性の劣る化合物を用いても、耐光性に優れた膜を製造することができる。このような効果が得られるメカニズムは、第１の近赤外線吸収化合物よりも短波長側に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物が吸収したエネルギーを、耐光性に優れる第１の近赤外線吸収化合物側に移動して、第２の近赤外線吸収化合物の分解などを抑制できたためであると推測する。
以下、組成物の各成分について説明する。

＜＜近赤外線吸収化合物＞＞
本発明の組成物は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物（以下、近赤外線吸収化合物Ａともいう）を２種類以上含む。

近赤外線吸収化合物Ａは、極大吸収波長を６６０〜１０００ｎｍの範囲に有することが好ましく、６７０〜１０００ｎｍの範囲に有することが更に好ましく、７１０〜１０００ｎｍの範囲に有することが特に好ましい。
近赤外線吸収化合物Ａの２３℃の水に対する溶解度は、０．１質量％以下であり、０．０５質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以下がさらに好ましい。この態様によれば、より分光変動が抑制された膜を製造できる。特に、高温高湿の環境に曝されても分光変動をより効果的に抑制できる。
近赤外線吸収化合物Ａは、波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ１と、極大吸収波長における吸光度Ａ２との比率Ａ１／Ａ２が、０．０８以下であることが好ましく、０．０４以下であることがさらに好ましい。この態様によれば、可視透明性と赤外線遮蔽性に優れた膜を製造できる。
なお、波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ１、および、極大吸収波長における吸光度Ａ２は、近赤外線吸収化合物の溶液での吸収スペクトルから求めた値である。

２種類以上の近赤外線吸収化合物Ａは、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収化合物と、第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物とを少なくとも含み、第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が１〜１５０ｎｍである。
第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物の好ましい組み合わせの一態様としては、第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が５〜１００ｎｍであることが好ましく、３０〜９０ｎｍであることがより好ましい。この態様によれば、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜などの製造に適している。
第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物の好ましい組み合わせの他の態様としては、第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が５〜１００ｎｍであることが好ましく、２０〜６０ｎｍであることがより好ましい。この態様によれば、特定の波長範囲の赤外線を選択的に遮蔽可能な膜などの製造に適している。
なお、上述の波長範囲に極大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物を３種類以上含んでいてもよい。この場合、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲において、最も長波長側に極大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物を第１の近赤外線吸収化合物とし、第１の近赤外線吸収化合物よりも短波長側に極大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物のすべてを第２の近赤外線吸収化合物とする。また、最も長波長側に極大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物が２種類以上存在する場合は、それらを第１の近赤外線吸収化合物とみなす。

近赤外線吸収化合物Ａは、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である化合物であれば、特に限定されない。例えば、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、リレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジインモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物などが挙げられる。なかでも、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびリレン化合物が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物がより好ましく、ピロロピロール化合物がさらに好ましい。

第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物は、共通の色素骨格を有する化合物であってもよく、異なる色素骨格を有する化合物であってもよい。なお、共通の色素骨格を有する化合物とは、同一の化合物種を意味する。例えば、第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物がいずれもピロロピロール化合物（ピロロピロール色素骨格を有する化合物）の場合、第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物は、共通の色素骨格を有する化合物に相当する。

第１の近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物であることが好ましい。第２の近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物であってもよく、ピロロピロール化合物以外の化合物であってもよい。ピロロピロール化合物以外の化合物としては、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびリレン化合物などが挙げられ、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物が好ましい。耐光性の観点から第２の近赤外線吸収化合物はピロロピロール化合物がより好ましい。すなわち、第１の近赤外線吸収化合物がピロロピロール化合物で、かつ、第２の近赤外線吸収化合物がピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である態様がより好ましい。この態様において、第２の近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物またはスクアリリウム化合物がより好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。ピロロピロール化合物は、耐光性に優れているため、前述したように、第１の近赤外線吸収化合物として、ピロロピロール化合物を用いた場合、第２の近赤外線吸収化合物として、ピロロピロール化合物よりも耐光性の劣る化合物を用いた場合でも、耐光性に優れた膜を製造することができる。なかでも、第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物の両方を、ピロロピロール化合物を用いた場合、特に耐光性に優れた膜を製造できる。

また、第１の近赤外線吸収化合物は、スクアリリウム化合物であることが好ましい。第２の近赤外線吸収化合物は、スクアリリウム化合物であってもよく、スクアリリウム化合物以外の化合物であってもよい。スクアリリウム化合物以外の化合物としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびリレン化合物などが挙げられ、ピロロピロール化合物およびシアニン化合物が好ましい。第２の近赤外線吸収化合物はピロロピロール化合物またはスクアリリウム化合物がより好ましい。すなわち、第１の近赤外線吸収化合物がスクアリリウム化合物で、かつ、第２の近赤外線吸収化合物がピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である態様がより好ましい。この態様において、第２の近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物またはスクアリリウム化合物がより好ましい。

また、第１の近赤外線吸収化合物は、シアニン化合物であることが好ましい。第２の近赤外線吸収化合物は、シアニン化合物であってもよく、シアニン化合物以外の化合物であってもよい。シアニン化合物以外の化合物としては、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびリレン化合物などが挙げられ、ピロロピロール化合物およびスクアリリウム化合物が好ましい。第２の近赤外線吸収化合物はピロロピロール化合物またはスクアリリウム化合物がより好ましい。すなわち、第１の近赤外線吸収化合物がシアニン化合物で、かつ、第２の近赤外線吸収化合物がピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である態様がより好ましい。この態様において、第２の近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物またはシアニン化合物がより好ましく、シアニン化合物がさらに好ましい。

組成物中の、近赤外線吸収化合物Ａの含有量（第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物との合計量）は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜６０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。この範囲内とすることで良好な近赤外線吸収能を付与することができる。
第１の近赤外線吸収化合物と第２の近赤外線吸収化合物との割合は、特に限定はない。第１の近赤外線吸収化合物の１００質量部に対して、第２の近赤外線吸収化合物を５〜５００質量部含有することが好ましく、１０〜３００質量部がより好ましく、３０〜２００質量部がさらに好ましい。
第１の近赤外線吸収化合物は、１種類のみであってもよく、２種類以上含んでいてもよい。第１の近赤外線吸収化合物および／または第２の近赤外線吸収化合物を２種類以上含む場合は、これらの合計が上記範囲であることが好ましい。
また、第２の近赤外線吸収化合物は、１種類のみであってもよく、２種類以上含んでいてもよい。分光の観点から、第２の近赤外線吸収化合物を２種類以上含むことが好ましい。第２の近赤外線吸収化合物を２種類以上のｎ個含む場合、ｎ個の第２の近赤外線吸収化合物のうち、極大吸収波長をａ番目に長波長側に有する化合物Ａ_aの極大吸収波長と、極大吸収波長を（ａ＋１）番目に長波長側に有する化合物Ａ_a+1の極大吸収波長の差が１〜９０ｎｍであることが好ましく、５〜６０ｎｍであることがより好ましい。ここで、ａは１〜ｎ−１の整数を表し、ｎは２以上の整数を表す。
また、例えば、第２の近赤外線吸収化合物を３種類含む場合、極大吸収波長が１番目に長波長側に有する化合物Ａ₁（極大吸収波長を最も長波長側に有する化合物）の極大吸収波長と、極大吸収波長を２番目に長波長側に有する化合物Ａ₂（化合物Ａ₁よりも短波長側に極大吸収波長を有する化合物）の極大吸収波長の差が１〜９０ｎｍであることが好ましく、５〜６０ｎｍであることがより好ましい。また、極大吸収波長を２番目に長波長側に有する化合物Ａ₂の極大吸収波長と、極大吸収波長を３番目に長波長側に有する化合物Ａ₃（化合物Ａ₂よりも短波長側に極大吸収波長を有する化合物）の極大吸収波長の差が１〜９０ｎｍであることが好ましく、５〜６０ｎｍであることがより好ましい。

第１の近赤外線吸収化合物および第２の近赤外線吸収化合物は、色素多量体として用いることも好ましい。色素多量体は、一分子中に、２以上の近赤外線吸収性色素構造を有するものであり、３以上の近赤外線吸収性色素構造を有することが好ましい。一分子中の近赤外線吸収性色素構造の数の上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。

（ピロロピロール化合物）
近赤外線吸収化合物Ａとして用いるピロロピロール化合物は、式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。

式（Ｉ）中、Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立にヘテロアリール基を表し、
Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。

式（Ｉ）において、Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立にヘテロアリール基を表す。Ａ¹とＡ²は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ａ¹とＡ²は、同一の基であることが好ましい。
ヘテロアリール基は、単環、または、縮合環が好ましく、単環、または、縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環、または、縮合数が２〜４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましく、３〜１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。

ヘテロアリール基は、下記式（Ａ−１）で表される基および（Ａ−２）で表される基が好ましい。

式（Ａ−１）において、Ｘ¹はそれぞれ独立にＯ、Ｓ、ＮＲ^X1またはＣＲ^X2Ｒ^X3を表し、Ｒ^X1〜Ｒ^X3はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ³とＲ⁴は互いに結合して環を形成してよい。＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。
Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ^X1〜Ｒ^X3が表す置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基などが挙げられ、アルキル基、アリール基およびハロゲン原子が好ましい。
アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、アリール基等が挙げられる。
アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。アリール基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、アルキル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

Ｒ³とＲ⁴が結合して形成する環は、芳香族環が好ましい。Ｒ³とＲ⁴とが環を形成する場合、（Ａ−１）は下記の（Ａ−１−１）で表される基、（Ａ−１−２）で表される基などが挙げられる。

式中、Ｘ¹はそれぞれ独立にＯ、Ｓ、ＮＲ^X1またはＣＲ^X2Ｒ^X3を表し、Ｒ^X1〜Ｒ^X3はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。

式（Ａ−２）において、Ｙ¹〜Ｙ⁴はそれぞれ独立にＮまたはＣＲ^Y1を表し、Ｙ¹〜Ｙ⁴の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｒ^Y1は水素原子または置換基を表し、隣接するＲ^Y1同士は互いに結合して環を形成してよい。＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。
Ｒ^Y1が表す置換基は、上述した置換基が挙げられ、アルキル基、アリール基およびハロゲン原子が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、アリール基等が挙げられる。
アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。アリール基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、アルキル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

Ｙ¹〜Ｙ⁴の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、隣接するＲ^Y1同士は互いに結合して環を形成してよい。隣接するＲ^Y1同士が結合して形成する環は、芳香族環が好ましい。隣接するＲ^Y1同士が環を形成する場合、（Ａ−２）は下記の（Ａ−２−１）〜（Ａ−２−５）で表される基などが挙げられる。

式中、Ｒ²⁰¹〜Ｒ²²⁷はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。

Ａ¹およびＡ²の具体例としては、以下が挙げられる。以下において、Ｂｕはブチル基を表す。＊は、式（Ｉ）における結合位置を表す。

式（Ｉ）において、Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表す。Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよい。置換基としては、上述したＡ¹およびＡ²で説明した基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、ハロゲン原子、アリール基またはヘテロアリール基がより好ましく、アリール基またはヘテロアリール基が更に好ましい。Ｒ¹とＲ²は同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ¹とＲ²は同一の基であることが好ましい。また、Ｂ¹とＢ²は同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ｂ¹とＢ²は同一の基であることが好ましい。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
アルキル基の炭素数は、１〜４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましい。上限は、例えば、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２〜４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アルコキシ基の炭素数は、１〜４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましい。上限は、例えば、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アリール基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。これらの詳細については、前述したものが挙げられる。
ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましく、３〜５が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。これらの詳細については、前述したものが挙げられる。

−ＢＲ¹Ｒ²基のＲ¹とＲ²は、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、下記（ｂ−１）〜（ｂ−４）に示す構造などが挙げられる。以下において、Ｒは置換基を表し、Ｒ^a1〜Ｒ^a4はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、ｍ１〜ｍ３はそれぞれ独立に０〜４の整数を表し、＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。ＲおよびＲ^a1〜Ｒ^a4が表す置換基としては、Ｒ¹およびＲ²で説明した置換基が挙げられ、ハロゲン原子およびアルキル基が好ましい。

Ｂ¹およびＢ²の具体例としては、以下が挙げられる。以下において、Ｍｅはメチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表す。＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。

式（Ｉ）において、Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。Ｃ¹とＣ²は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ｃ¹とＣ²は、同一の基であることが好ましい。Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアリール基、またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。
アルキル基の炭素数は、１〜４０が好ましく、１〜３０がより好ましく、１〜２５が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。
アリール基は、炭素数６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数６〜１２のアリール基がより好ましい。フェニル基またはナフチル基が特に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましい。

上述したアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基を有していることが好ましい。また、置換基を２個以上有していてもよい。例えば、Ｃ¹およびＣ²が、フェニル基の場合、ピロロピロール環に対して２か所のメタ位またはオルト位にそれぞれ置換基を有していてもよく、１か所のメタ位またはオルト位にのみ置換基を有していてもよい。また、メタ位またはオルト位のいずれか１か所と、パラ位とに置換基を有していてもよい。また、メタ位またはオルト位の２か所と、パラ位とに置換基を有していてもよい。
置換基としては、酸素原子を含んでもよい炭化水素基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基などが挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１〜４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の炭素数は、３〜４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２〜４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の炭素数は、３〜４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましい。
アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。
酸素原子を含む炭化水素基としては、−Ｌ−Ｒ^x1で表される基が挙げられる。
Ｌは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＯＲ^x2）_m−または−（Ｒ^x2Ｏ）_m−を表す。Ｒ^x1は、アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表す。Ｒ^x2は、アルキレン基またはアリーレン基を表す。ｍは２以上の整数を表し、ｍ個のＲ^x2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｌは、−Ｏ−、−（ＯＲ^x2）_m−または−（Ｒ^x2Ｏ）_m−が好ましく、−Ｏ−がより好ましい。
Ｒ^x1が表すアルキル基、アルケニル基、アリール基は上述したものと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ^x1は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
Ｒ^x2が表すアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜５が更に好ましい。アルキレン基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。Ｒ^x2が表すアリーレン基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましい。Ｒ^x2はアルキレン基が好ましい。
ｍは２以上の整数を表し、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。

アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基が有してもよい置換基は、分岐アルキル構造を有する基が好ましい。また、置換基は、酸素原子を含んでもよい炭化水素基が好ましく、酸素原子を含む炭化水素基がより好ましい。酸素原子を含む炭化水素基は、−Ｏ−Ｒ^x1で表される基が好ましい。Ｒ^x1は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましく、分岐のアルキル基が特に好ましい。すなわち、置換基は、アルコキシ基がより好ましく、分岐のアルコキシ基が特に好ましい。置換基が、アルコキシ基であることにより、耐熱性および耐光性にすぐれた膜が得られやすい。アルコキシ基の炭素数は、１〜４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルコキシ基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルコキシ基の炭素数は、３〜４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルコキシ基の分岐数は、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましい。

Ｃ¹およびＣ²の具体例としては、以下が挙げられる。以下において、Ｍｅはメチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表す。＊は、式（Ｉ）における結合位置を表す。また、以下の構造の光学異性体も好適に使用できる。

式（Ｉ）において、Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。Ｄ¹とＤ²は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ｄ¹とＤ²は、同一の基であることが好ましい。
置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基などが挙げられる。Ｄ¹およびＤ²は、電子求引性基が好ましい。

Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマパラ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。本発明においては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値が０．２以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σｐ値は、好ましくは０．２５以上であり、より好ましくは０．３以上であり、特に好ましくは０．３５以上である。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０である。電子求引性基の具体例としては、シアノ基（σｐ値＝０．６６）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ：σｐ値＝０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば、−ＣＯＯＭｅ：σｐ値＝０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば、−ＣＯＯＰｈ：σｐ値＝０．４４）、カルバモイル基（例えば、−ＣＯＮＨ₂：σｐ値＝０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば、−ＣＯＭｅ：σｐ値＝０．５０）、アリールカルボニル基（例えば、−ＣＯＰｈ：σｐ値＝０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば、−ＳＯ₂Ｍｅ：σｐ値＝０．７２）、アリールスルホニル基（例えば、−ＳＯ₂Ｐｈ：σｐ値＝０．６８）などが挙げられる。電子求引性基としては、シアノ基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基が好ましく、シアノ基がより好ましい。ここで、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値については、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００２４〜００２５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

Ｄ¹およびＤ²の具体例としては、以下が挙げられる。＊は式（Ｉ）における結合位置を表す。

ピロロピロール化合物は、下記式（ＩＩ）で表される化合物、または、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。この態様によれば、赤外線遮蔽性および耐光性に優れた膜を製造できる。

式（ＩＩ）中、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立にＯ、Ｓ、ＮＲ^X1またはＣＲ^X2Ｒ^X3を表し、Ｒ^X1〜Ｒ^X3はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
Ｒ³〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
Ｒ³とＲ⁴、またはＲ⁵とＲ⁶は互いに結合して環を形成してよく、
Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。

式（ＩＩ）のＢ¹、Ｂ²、Ｃ¹、Ｃ²、Ｄ¹およびＤ²は、式（Ｉ）のＢ¹、Ｂ²、Ｃ¹、Ｃ²、Ｄ¹およびＤ²と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＩＩ）のＸ¹およびＸ²は、上述した式（Ａ−１）のＸ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＩＩ）のＲ³〜Ｒ⁶は、上述した式（Ａ−１）のＲ³およびＲ⁴と同義であり、好ましい範囲も同様である。

式（ＩＩＩ）中、Ｙ¹〜Ｙ⁸はそれぞれ独立にＮまたはＣＲ^Y1を表し、Ｙ¹〜Ｙ⁴の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｙ⁵〜Ｙ⁸の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｒ^Y1は水素原子または置換基を表し、隣接するＲ^Y1同士は互いに結合して環を形成してよく、
Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。

式（ＩＩＩ）のＢ¹、Ｂ²、Ｃ¹、Ｃ²、Ｄ¹およびＤ²は、式（Ｉ）のＢ¹、Ｂ²、Ｃ¹、Ｃ²、Ｄ¹およびＤ²と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＩＩＩ）のＹ¹〜Ｙ⁸は、上述した式（Ａ−２）のＹ¹〜Ｙ⁴と同義であり、好ましい範囲も同様である。

ピロロピロール化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の表中のＢ¹、Ｂ²構造、Ｃ¹、Ｃ²構造に記載の記号は、上述した、Ｂ¹、Ｂ²、Ｃ¹、Ｃ²の具体例で示した基である。また、ピロロピロール化合物の具体例としては、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００４９〜００５８に記載の化合物も挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

（スクアリリウム化合物）
近赤外線吸収化合物Ａとして用いるスクアリリウム化合物は、式（ＳＱ）で表される化合物が好ましい。

式中、Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立にアリール基、ヘテロアリール基または下記式（２）で表される基を表す；

式（２）中、Ｚ¹は含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ²はアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは０または１を表し、波線は式（ＳＱ）における４員環との連結手を表す。

式（ＳＱ）におけるＡ¹およびＡ²はそれぞれ独立にアリール基、ヘテロアリール基または式（２）で表される基を表し、式（２）で表される基が好ましい。
Ａ¹およびＡ²が表すアリール基の炭素数は、６〜４８が好ましく、６〜２４がより好ましく、６〜１２が特に好ましい。具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。なお、アリール基が置換基を有する場合における上記アリール基の炭素数は、置換基の炭素数を除いた数を意味する。
Ａ¹およびＡ²が表すヘテロアリール基としては、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環が更に好ましく、単環または縮合数が２または３の縮合環が特に好ましい。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。ヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。具体的には、窒素原子、酸素原子および硫黄原子の少なくとも一つを含有する５員環または６員環等の単環、多環芳香族環から誘導されるヘテロアリール基などが挙げられる。

アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基およびヘテロアリール基が、置換基を２個以上有する場合、複数の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。

置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、−ＯＲ¹⁰、−ＣＯＲ¹¹、−ＣＯＯＲ¹²、−ＯＣＯＲ¹³、−ＮＲ¹⁴Ｒ¹⁵、−ＮＨＣＯＲ¹⁶、−ＣＯＮＲ¹⁷Ｒ¹⁸、−ＮＨＣＯＮＲ¹⁹Ｒ²⁰、−ＮＨＣＯＯＲ²¹、−ＳＲ²²、−ＳＯ₂Ｒ²³、−ＳＯ₂ＯＲ²⁴、−ＮＨＳＯ₂Ｒ²⁵または−ＳＯ₂ＮＲ²⁶Ｒ²⁷が挙げられる。Ｒ¹⁰〜Ｒ²⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、またはアラルキル基を表す。なお、−ＣＯＯＲ¹²のＲ¹²が水素の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、−ＳＯ₂ＯＲ²⁴のＲ²⁴が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がより好ましく、２〜８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルキニル基の炭素数は、２〜４０が好ましく、２〜３０がより好ましく、２〜２５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。
アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７〜４０が好ましく、７〜３０がより好ましく、７〜２５が更に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられる。

次に、Ａ¹およびＡ²が表す式（２）で表される基について説明する。

式（２）において、Ｒ²は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、アルキル基が好ましい。
アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１２が更に好ましく、２〜８が特に好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１２が更に好ましい。
アルキル基およびアルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アラルキル基の炭素数は７〜３０が好ましく、７〜２０がより好ましい。

式（２）において、Ｚ¹により形成される含窒素複素環としては、５員環または６員環が好ましい。また、含窒素複素環は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環が更に好ましく、縮合数が２または３の縮合環が特に好ましい。含窒素複素環は、窒素原子の他に、硫黄原子を含んでいてもよい。また、含窒素複素環は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられる。例えば、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子およびアルキル基がより好ましい。ハロゲン原子は、塩素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１２が更に好ましい。アルキル基は、直鎖または分岐が好ましい。

式（２）で表される基は、下記式（３）または式（４）で表される基であることが好ましい。

式（３）および式（４）中、Ｒ¹¹はアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、Ｒ¹²は置換基を表す。ｍは０〜４の整数を表し、ｍが２以上の場合、Ｒ¹²同士は連結して環を形成してもよい。Ｘは、窒素原子、または、ＣＲ¹³Ｒ¹⁴を表し、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。波線は式（ＳＱ）における４員環との連結手を表す。

式（３）および式（４）におけるＲ¹¹は、式（２）におけるＲ²と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（３）および式（４）におけるＲ¹²は、置換基を表す。置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。例えば、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基がより好ましい。ハロゲン原子は塩素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１２が更に好ましい。アルキル基は、直鎖または分岐が好ましい。
ｍが２以上の場合、Ｒ¹²同士は連結して環を形成してもよい。環としては、脂環（非芳香性の炭化水素環）、芳香環、複素環などが挙げられる。環は単環であってもよく、多環であってもよい。置換基同士が連結して環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、２価の脂肪族基、２価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基で連結することができる。例えば、Ｒ¹²同士が連結してベンゼン環を形成していることが好ましい。
式（３）におけるＸは、窒素原子、または、ＣＲ¹³Ｒ¹⁴を表し、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。例えば、アルキル基などが挙げられる。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜５が更に好ましく、１〜３が特に好ましく、１が最も好ましい。アルキル基は、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
ｍは、０〜４の整数を表し、０〜２が好ましい。

なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。

近赤外線吸収化合物Ａとして用いるスクアリリウム化合物は、式（ＳＱ−１）で表される化合物がより好ましい。
式（ＳＱ−１）

式（ＳＱ−１）中、環Ａおよび環Ｂはそれぞれ独立に芳香族環を表し、
Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
ｋＡは０〜ｎＡの整数を表し、ｋＢは０〜ｎＢの整数を表し、
ｎＡは環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い。

式（ＳＱ−１）において、Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表す。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＯＲ^c1、−ＣＯＲ^c2、−ＣＯＯＲ^c3、−ＯＣＯＲ^c4、−ＮＲ^c5Ｒ^c6、−ＮＨＣＯＲ^c7、−ＣＯＮＲ^c8Ｒ^c9、−ＮＨＣＯＮＲ^c10Ｒ^c11、−ＮＨＣＯＯＲ^c12、−ＳＲ^c13、−ＳＯ₂Ｒ^c14、−ＳＯ₂ＯＲ^c15、−ＮＨＳＯ₂Ｒ^c16または−ＳＯ₂ＮＲ^c17Ｒ^c18が挙げられる。Ｒ^c1〜Ｒ^c18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なお、−ＣＯＯＲ^c3のＲ^c3が水素原子の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、−ＳＯ₂ＯＲ^c15のＲ^c15が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましく、１〜８が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。
アルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましく、２〜８が特に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アルキニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましく、２〜８が特に好ましい。アルキニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１０が最も好ましい。
アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７〜４０が好ましく、７〜３０がより好ましく、７〜２５が更に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述したＧ^AおよびＧ^Bで挙げた置換基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。

式（ＳＱ−１）において、Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に置換基を表す。置換基は、活性水素を有する基が好ましく、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃Ｈ、−ＮＨＲ^x1、−ＮＲ^x1Ｒ^x2、−ＮＨＣＯＲ^x1、−ＣＯＮＲ^x1Ｒ^x2、−ＮＨＣＯＮＲ^x1Ｒ^x2、−ＮＨＣＯＯＲ^x1、−ＮＨＳＯ₂Ｒ^x1、−Ｂ（ＯＨ）₂、−ＰＯ（ＯＨ）₃および−ＮＨＢＲ^x1Ｒ^x2が好ましく、−ＯＨ、−ＮＨＣＯＲ^x1、−ＮＨＣＯＮＲ^x1Ｒ^x2、−ＮＨＣＯＯＲ^x1、−ＮＨＳＯ₂Ｒ^x1および−ＮＨＢＲ^x1Ｒ^x2がより好ましい。

Ｒ^x1およびＲ^x2はそれぞれ独立に置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられ、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましく、１〜５が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。アルキル基およびアリール基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよいが、置換基を有していることが好ましい。置換基としては、上述したＧ^AおよびＧ^Bで挙げた置換基が挙げられる。例えば、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基等が挙げられる。

式（ＳＱ−１）において、環Ａおよび環Ｂはそれぞれ独立に芳香族環を表す。芳香族環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環は、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフチレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、および、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましく、ナフタレン環がより好ましい。
芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、Ｇ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

式（ＳＱ−１）において、Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、Ｇ^A同士、または、Ｇ^B同士が互いに結合して環を形成していても良い。環としては、５員環または６員環が好ましい。環は単環であってもよく、多環であってもよい。Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^B、Ｇ^A同士またはＧ^B同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＢＲ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^B、Ｇ^A同士またはＧ^B同士が、−ＢＲ−を介して結合して環を形成することが好ましい。Ｒは、水素原子または置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、および、ヘテロアリール基の詳細については、Ｇ^AおよびＧ^Bで説明した範囲と同義である。

式（ＳＱ−１）において、ｋＡは０〜ｎＡの整数を表し、ｋＢは０〜ｎＢの整数を表し、ｎＡは環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡおよびｋＢはそれぞれ独立に０〜４が好ましく、０〜２がより好ましく、０〜１が特に好ましい。

スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ−Ａ）で表される化合物が好ましい。この化合物は、耐熱性および耐光性に優れている。
式（ＳＱ−Ａ）

式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、またはアルキル基を表し、
Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立に酸素原子、または−Ｎ（Ｒ⁵）−を表し、
Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
Ｙ¹〜Ｙ⁴はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｙ¹とＹ²、およびＹ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよく、
Ｙ¹〜Ｙ⁴は、それぞれ複数存在する場合、互いに結合して環を形成していてもよく、
ｐおよびｓはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、
ｑおよびｒはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。

式（ＳＱ−Ａ）において、Ｒ¹およびＲ²が表すアルキル基の炭素数は、１〜４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましい。
Ｒ¹およびＲ²が表すアルケニル基の炭素数は、２〜４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましい。
Ｒ¹およびＲ²が表すアリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。
Ｒ¹およびＲ²が表すヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましい。
Ｒ¹およびＲ²が表す、アルキル基、アルケニル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。アルコキシ基が好ましい。

式（ＳＱ−Ａ）において、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、または、アルキル基を表す。Ｒ³とＲ⁴は、同一であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ³とＲ⁴が同じ基であることがより好ましい。Ｒ³およびＲ⁴が表すアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜４が更に好ましく、１〜２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。

式（ＳＱ−Ａ）において、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立に酸素原子、または−Ｎ（Ｒ⁵）−を表す。Ｘ¹とＸ²は同一であってもよく、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましい。Ｒ⁵が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基の詳細は、Ｒ³およびＲ⁴で説明した範囲と同様である。Ｒ⁵が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

式（ＳＱ−Ａ）において、Ｙ¹〜Ｙ⁴はそれぞれ独立に置換基を表す。置換基としては、上述したＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

式（ＳＱ−Ａ）において、Ｙ¹とＹ²、およびＹ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、Ｙ¹とＹ²とが互いに結合して、Ｙ¹及びＹ²に直結しているナフタレン環と併せて、例えば、アセナフテン環、アセナフチレン環等の３環等となっていてもよい。
Ｙ¹〜Ｙ⁴は、それぞれ複数存在する場合、互いに結合して環構造を形成していてもよい。例えば、Ｙ¹が複数存在する場合、Ｙ¹同士が互いに結合し、Ｙ¹およびＹ²に直結しているナフタレン環と併せて、例えば、アントラセン環、フェナントレン環等の３環等となっていてもよい。なお、Ｙ¹同士が互いに結合して環構造を形成する場合、Ｙ¹以外の置換基であるＹ²〜Ｙ⁴は必ずしも複数存在する必要はない。また、Ｙ²〜Ｙ⁴は存在しなくてもよい。Ｙ²同士、Ｙ³同士およびＹ⁴同士が結合して環構造を形成する場合も同様である。
ｐおよびｓはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、好ましくはそれぞれ０〜１であり、特に好ましくは０である。
ｑおよびｒはそれぞれ独立に０〜２の整数を表し、好ましくはそれぞれ０〜１であり、特に好ましくは０である。

スクアリリウム化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落番号００４４〜００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

（シアニン化合物）
近赤外線吸収化合物Ａとして用いるシアニン化合物は、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ）

式（Ｃ）中、Ｚ¹およびＺ²はそれぞれ独立に縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
Ｌ¹は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
ａおよびｂはそれぞれ独立に０または１であり、
ａが０の場合、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。

式（Ｃ）において、Ｚ¹およびＺ²はそれぞれ独立に縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団を表す。含窒素複素環には、他の複素環、芳香族環または脂肪族環が縮合してもよい。含窒素複素環は、５員環が好ましい。５員の含窒素複素環に、ベンゼン環又はナフタレン環が縮合している構造がさらに好ましい。含窒素複素環の具体例としては、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、オキサゾロカルバゾール環、オキサゾロジベンゾフラン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロロピリジン環、フロピロール環、インドリジン環、イミダゾキノキサリン環、キノキサリン環等が挙げられ、キノリン環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましく、インドレニン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が特に好ましい。含窒素複素環及びそれに縮合している環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。

式（Ｃ）において、Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表す。
アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましく、１〜８が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましく、２〜８が特に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アルキニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましく、２〜８が特に好ましい。アルキニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１０が最も好ましい。アリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。
アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７〜４０が好ましく、７〜３０がより好ましく、７〜２５が更に好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。

式（Ｃ）において、Ｌ¹は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表す。Ｌ¹は、３、５または７のメチン基を有するメチン鎖が好ましい。
メチン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチン基は、中央の（メソ位の）メチン基であることが好ましい。置換基の具体例としては、Ｚ¹およびＺ²の含窒素複素環が有してもよい置換基、および、式（ａ）で表される基などが挙げられる。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して５または６員環を形成しても良い。

式（ａ）中、＊はメチン鎖との連結部を表し、Ａ¹は酸素原子または硫黄原子を表す。

式（Ｃ）において、ａおよびｂはそれぞれ独立に０または１である。ａが０の場合、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合する。ａおよびｂはともに０であることが好ましい。なお、ａおよびｂがともに０の場合、式（Ｃ）は以下のように表される。

式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-またはＣｌＯ₄ ^-、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₃Ｃ^-）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺など）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｂａ²⁺、Ｓｒ²⁺など）、遷移金属イオン（Ａｇ⁺、Ｆｅ²⁺、Ｃｏ²⁺、Ｎｉ²⁺、Ｃｕ²⁺、Ｚｎ²⁺など）、その他の金属イオン（Ａｌ³⁺など）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムなどが挙げられる。カチオンとしては、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺、ジアザビシクロウンデセニウムが好ましい。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ¹は存在しない。すなわち、ｃは０である。

シアニン化合物は、下記（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）で表される化合物であることも好ましい。

式中、Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bはそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
Ｌ^1AおよびＬ^1Bはそれぞれ独立に奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
Ｙ¹およびＹ²はそれぞれ独立に−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ^X1−または−ＣＲ^X2Ｒ^X3−を表し、
Ｒ^X1、Ｒ^X2およびＲ^X3はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、
Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０〜４を表し、
式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ¹は存在しない。

Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bが表す基は、式（Ｃ）のＲ¹⁰¹およびＲ¹⁰²で説明したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。これらの基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bがアルキル基を表す場合は、直鎖のアルキル基であることがより好ましい。

Ｙ¹およびＹ²はそれぞれ独立に−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ^X1−または−ＣＲ^X2Ｒ^X3−を表し、−ＮＲ^X1−が好ましい。Ｒ^X1、Ｒ^X2およびＲ^X3はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は、メチル基またはエチル基が特に好ましい。

Ｌ^1AおよびＬ^1Bは、式（Ｃ）のＬ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bが表す置換基は、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０〜４を表し、０〜２が好ましい。
Ｘ¹が表すアニオンおよびカチオンは、式（Ｃ）のＸ¹で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。

シアニン化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１５−１７２００４号公報及び、特開２０１５−１７２１０２号公報に記載の化合物が挙げられる。

＜＜他の近赤外線吸収化合物＞＞
組成物は、上述した近赤外線吸収化合物Ａ以外の近赤外線吸収化合物（他の近赤外線吸収化合物ともいう）をさらに含んでもよい。
他の近赤外線吸収化合物としては、例えば、銅化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、リレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジインモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物などが挙げられる。

銅化合物は、銅錯体が好ましい。銅錯体は、式（Ｃｕ−１）で表される銅錯体を用いることができる。この銅錯体は、中心金属の銅に配位子Ｌが配位した銅化合物であり、銅は、通常２価の銅である。例えば銅成分に対して、配位子Ｌとなる化合物またはその塩を混合や反応等させて得ることができる。
Ｃｕ（Ｌ）_n1・（Ｘ）_n2 式（Ｃｕ−１）
上記式中、Ｌは銅に配位する配位子を表し、Ｘは対イオンを表す。ｎ１は１〜４の整数を表す。ｎ２は０〜４の整数を表す。

Ｘは対イオンを表す。銅化合物は、電荷を持たない中性錯体のほか、カチオン錯体、アニオン錯体になることもある。この場合、銅化合物の電荷を中和するよう、必要に応じて対イオンが存在する。
対イオンが負の対イオン（対アニオン）の場合、例えば、無機陰イオンでも有機陰イオンでもよい。具体例としては、水酸化物イオン、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等）、置換または無置換のアルキルカルボン酸イオン（酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン等）、置換または無置換のアリールカルボン酸イオン（安息香酸イオン等）、置換もしくは無置換のアルキルスルホン酸イオン（メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等）、置換もしくは無置換のアリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン等）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン等）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン等）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン（Ｂ^-（Ｃ₆Ｆ₅）₄）、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドを含む）が挙げられ、ハロゲン陰イオン、置換もしくは無置換のアルキルカルボン酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドイオンを含む）が好ましい。
対アニオンは、低求核アニオンが好ましい。低求核アニオンとは、一般的に超酸（ｓｕｐｅｒ ａｃｉｄ）と呼ばれるｐＫａの低い酸がプロトンを解離してなるアニオンである。超酸の定義は、文献によっても異なるがメタンスルホン酸よりｐＫａが低い酸の総称であり、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，７６，３９１−３９５ Ｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ Ａｃｉｄｉｔｉｅｓ ｏｆ Ｓｕｐｅｒ ａｃｉｄｓに記載される構造が知られている。低求核アニオンのｐＫａは、例えば、−１１以下が好ましく、−１１〜−１８がより好ましい。ｐＫａは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，７６，３９１−３９５に記載の方法により測定することができる。本明細書におけるｐＫａ値は、特に断りがない場合、１，２−ジクロロエタン中でのｐＫａである。
低求核アニオンは、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン（アルキル基として、ハロゲン原子やフルオロアルキル基で置換されたアリール基を有するテトラアリールホウ酸イオンを含む）、ヘキサフルオロホスフェートイオン、イミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドイオンを含む）がより好ましく、テトラアリールホウ酸イオン、イミドイオン、メチドイオンが特に好ましい。
対イオンが正の対イオン（対カチオン）の場合、例えば、無機もしくは有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラブチルアンモニウムイオンなどのテトラアルキルアンモニウムイオン、トリエチルベンジルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等）、ホスホニウムイオン（例えば、テトラブチルホスホニウムイオンなどのテトラアルキルホスホニウムイオン、アルキルトリフェニルホスホニウムイオン、トリエチルフェニルホスホニウムイオン等）、アルカリ金属イオンまたはプロトンが挙げられる。
また、対イオンは金属錯体イオンであってもよく、特に対イオンが銅錯体、すなわち、カチオン性銅錯体とアニオン性銅錯体の塩であっても良い。

配位子Ｌは、銅に対する配位部位を有する化合物であり、銅に対しアニオンで配位する配位部位、および、銅に対し非共有電子対で配位する配位原子から選ばれる１種以上を有する化合物が挙げられる。アニオンで配位する配位部位は、解離していてもよく、非解離でも良い。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）が好ましい。また、配位子Ｌは、可視透明性を向上させるために、芳香族などのπ共役系が連続して複数結合していないことが好ましい。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を１個有する化合物（単座配位子）と、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）とを併用することもできる。単座配位子としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する単座配位子が挙げられる。アニオンで配位する配位子としては、ハライドアニオン、ヒドロキシドアニオン、アルコキシドアニオン、フェノキシドアニオン、アミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、イミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドを含む）、アニリドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアニリドを含む）、チオラートアニオン、炭酸水素アニオン、カルボン酸アニオン、チオカルボン酸アニオン、ジチオカルボン酸アニオン、硫酸水素アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸二水素アニオン、リン酸ジエステルアニオン、ホスホン酸モノエステルアニオン、ホスホン酸水素アニオン、ホスフィン酸アニオン、含窒素へテロ環アニオン、硝酸アニオン、次亜塩素酸アニオン、シアニドアニオン、シアナートアニオン、イソシアナートアニオン、チオシアナートアニオン、イソチオシアナートアニオン、アジドアニオンなどが挙げられる。非共有電子対で配位する単座配位子としては、水、アルコール、フェノール、エーテル、アミン、アニリン、アミド、イミド、イミン、ニトリル、イソニトリル、チオール、チオエーテル、カルボニル化合物、チオカルボニル化合物、スルホキシド、へテロ環、あるいは、炭酸、カルボン酸、硫酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、硝酸、または、そのエステルが挙げられる。

銅錯体は、少なくとも２つの配位部位を有する化合物（以下、化合物（Ａ）ともいう）を配位子として有することが好ましい。化合物（Ａ）は、配位部位を少なくとも３つ有することがより好ましく、３〜５個有することが更に好ましい。化合物（Ａ）は、銅成分に対し、キレート配位子として働く。すなわち、化合物（Ａ）が有する少なくとも２つの配位原子が、銅とキレート配位することにより、銅錯体の構造が歪んで、可視領域の高い透過性が得られ、赤外線の吸光能力を向上でき、色価も向上すると考えられる。銅錯体は、化合物（Ａ）を２つ以上有していてもよい。化合物（Ａ）を２つ以上有する場合は、それぞれの化合物（Ａ）は同一であってもよく、異なっていてもよい。化合物（Ａ）が有する配位部位としては、アニオンで配位する配位部位、非共有電子対で配位する配位部位が挙げられる。銅錯体は、４配位、５配位および６配位が例示され、４配位および５配位がより好ましく、５配位がさらに好ましい。また、銅錯体は、銅と配位子によって、５員環および／または６員環が形成されていることが好ましい。このような銅錯体は、形状が安定であり、錯体安定性に優れる。

銅錯体は、例えば銅成分（銅または銅を含む化合物）に対して、化合物（Ａ）を混合および／または反応等させて得ることができる。銅成分は、２価の銅を含む化合物が好ましい。銅成分は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

銅成分としては、例えば、酸化銅や銅塩を用いることができる。銅塩は、例えば、カルボン酸銅（例えば、酢酸銅、エチルアセト酢酸銅、ギ酸銅、安息香酸銅、ステアリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅、２−エチルヘキサン酸銅など）、スルホン酸銅（例えば、メタンスルホン酸銅など）、リン酸銅、リン酸エステル銅、ホスホン酸銅、ホスホン酸エステル銅、ホスフィン酸銅、アミド銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、メチド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、硫酸銅、硝酸銅、過塩素酸銅、フッ化銅、塩化銅、臭化銅が好ましく、カルボン酸銅、スルホン酸銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、フッ化銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅がより好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、フェノキシ銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅が更に好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、塩化銅、硫酸銅が特に好ましい。化合物（Ａ）と反応させる銅成分の量は、モル比率（化合物（Ａ）：銅成分）で１：０．５〜１：８とすることが好ましく、１：０．５〜１：４とすることがより好ましい。また、銅成分と化合物（Ａ）とを反応させる際の反応条件は、例えば、２０〜１００℃で、０．５時間以上とすることが好ましい。

銅錯体は、化合物（Ａ）以外の配位子を有していても良い。化合物（Ａ）以外の配位子としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する単座配位子が挙げられる。アニオンで配位する配位子としては、ハライドアニオン、ヒドロキシドアニオン、アルコキシドアニオン、フェノキシドアニオン、アミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、イミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドを含む）、アニリドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアニリドを含む）、チオラートアニオン、炭酸水素アニオン、カルボン酸アニオン、チオカルボン酸アニオン、ジチオカルボン酸アニオン、硫酸水素アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸二水素アニオン、リン酸ジエステルアニオン、ホスホン酸モノエステルアニオン、ホスホン酸水素アニオン、ホスフィン酸アニオン、含窒素へテロ環アニオン、硝酸アニオン、次亜塩素酸アニオン、シアニドアニオン、シアナートアニオン、イソシアナートアニオン、チオシアナートアニオン、イソチオシアナートアニオン、アジドアニオンなどが挙げられる。非共有電子対で配位する単座配位子としては、水、アルコール、フェノール、エーテル、アミン、アニリン、アミド、イミド、イミン、ニトリル、イソニトリル、チオール、チオエーテル、カルボニル化合物、チオカルボニル化合物、スルホキシド、へテロ環、あるいは、炭酸、カルボン酸、硫酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、硝酸、または、そのエステルが挙げられる。単座配位子の種類および数は、銅錯体に配位する化合物（Ａ）に応じて適宜選択することができる。

銅錯体は、アニオンで配位する配位部位の数に応じて、電荷を持たない中性錯体のほか、カチオン錯体、アニオン錯体になることもある。この場合、銅錯体の電荷を中和するよう、必要に応じて対イオンが存在する。対イオンが負の対イオンの場合、例えば、無機陰イオンでも有機陰イオンでもよい。具体例としては、水酸化物イオン、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等）、置換または無置換のアルキルカルボン酸イオン（酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン等）、置換または無置換のアリールカルボン酸イオン（安息香酸イオン等）、置換もしくは無置換のアルキルスルホン酸イオン（メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等）、置換もしくは無置換のアリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン等）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン等）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン等）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドを含む）が挙げられ、ハロゲン陰イオン、置換もしくは無置換のアルキルカルボン酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドを含む）が好ましい。対イオンが正の対イオンの場合、例えば、無機もしくは有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラブチルアンモニウムイオンなどのテトラアルキルアンモニウムイオン、トリエチルベンジルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等）、ホスホニウムイオン（例えば、テトラブチルホスホニウムイオンなどのテトラアルキルホスホニウムイオン、アルキルトリフェニルホスホニウムイオン、トリエチルフェニルホスホニウムイオン等）、アルカリ金属イオンまたはプロトンが挙げられる。また、対イオンは金属錯体イオンであってもよい。

銅錯体は、例えば、以下の（１）〜（５）の態様が好ましい一例として挙げられ、（２）〜（５）がより好ましく、（３）〜（５）が更に好ましく、（４）が一層好ましい。
（１）２つの配位部位を有する化合物の１つまたは２つを配位子として有する銅錯体
（２）３つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
（３）３つの配位部位を有する化合物と２つの配位部位を有する化合物とを配位子として有する銅錯体
（４）４つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
（５）５つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体

銅錯体の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、銅錯体は、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００１３〜００５６、特開２０１４−３２３８０号公報の段落番号００１２〜００３０に記載の銅錯体を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。

また、他の近赤外線吸収化合物として、無機粒子を用いることもできる。無機粒子は、赤外線遮蔽性がより優れる点で、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）粒子、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）粒子、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）粒子、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ₂）粒子、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ₂）粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀（Ａｇ）粒子、金（Ａｕ）粒子、銅（Ｃｕ）粒子、ニッケル（Ｎｉ）粒子など挙げられる。無機粒子の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。

また、無機粒子として、酸化タングステン系化合物が使用できる、具体的には、下記一般式（組成式）（Ｗ−１）で表される酸化タングステン系化合物であることがより好ましい。
Ｍ_xＷ_yＯ_z・・・（Ｗ−１）
Ｍは金属、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表す。
０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１
２．２≦ｚ／ｙ≦３．０
Ｍが表す金属としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉが挙げられ、アルカリ金属が好ましく、ＲｂまたはＣｓがより好ましく、Ｃｓが特に好ましい。Ｍの金属は１種でも２種以上でも良い。
ｘ／ｙが０．００１以上であることにより、赤外線を十分に遮蔽することができ、１．１以下であることにより、酸化タングステン系化合物中に不純物相が生成されることをより確実に回避することができる。
ｚ／ｙが２．２以上であることにより、材料としての化学的安定性をより向上させることができ、３．０以下であることにより赤外線を十分に遮蔽することができる。

酸化タングステン系化合物の具体例としては、Ｃｓ_0.33ＷＯ₃、Ｒｂ_0.33ＷＯ₃、Ｋ_0.33ＷＯ₃、Ｂａ_0.33ＷＯ₃などを挙げることができ、Ｃｓ_0.33ＷＯ₃又はＲｂ_0.33ＷＯ₃であることが好ましく、Ｃｓ_0.33ＷＯ₃であることが更に好ましい。
酸化タングステン系化合物は、例えば、住友金属鉱山株式会社製のＹＭＦ−０２などのタングステン微粒子の分散物として入手可能である。

無機粒子の平均粒子径は、８００ｎｍ以下が好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下が更に好ましい。無機粒子の平均粒子径がこのような範囲であることによって、可視領域における透光性をより確実にすることができる。光散乱を回避する観点からは、無機粒子の平均粒子径は小さいほど好ましい。製造時における取り扱い容易性などの理由から、無機粒子の平均粒子径は、通常、１ｎｍ以上である。

他の近赤外線吸収化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜５０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。

＜＜有彩色着色剤＞＞
組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する着色剤が好ましい。

有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料は、平均粒径（ｒ）が、好ましくは２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍ、より好ましくは２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍ、特に好ましくは３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍを満たすことが好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、（平均粒径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが好ましい。なお、二次粒子の粒径分布は、散乱強度分布を用いて測定することができる。なお、一次粒子の平均粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）あるいは透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分で粒子サイズを１００個計測し、平均値を算出することによって求めることができる。

顔料は、有機顔料であることが好ましく、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。

染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５−０２８１４４号公報、特開２０１５−３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。

組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１〜７０質量％とすることが好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
有彩色着色剤の含有量は、近赤外線吸収化合物Ａ１００質量部に対し、１０〜１０００質量部が好ましく、５０〜８００質量部がより好ましい。
また、有彩色着色剤と近赤外線吸収化合物Ａとの合計量は、組成物の全固形分中１〜８０質量％とすることが好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

＜＜赤外領域の光の少なくとも一部を透過し、かつ、可視領域の光を遮光する色材（可視光を遮光する色材）＞＞
組成物は、可視光を遮光する色材を含有することもできる。可視光を遮光する色材は、顔料の含有量が、可視光を遮光する色材の全質量に対して、９０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましく、９９質量％以上が更に好ましい。可視光を遮光する色材は、複数の色材の組み合わせにより、黒色、灰色、またはそれらに近い色を呈することが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長域の光を吸収する材料であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０〜６５０ｎｍの波長域の光を遮光する色材であることが好ましい。

可視光を遮光する色材は、以下の（１）および（２）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましく、（１）の要件を満たしていることが更に好ましい。
（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含む態様
（２）：有機系黒色着色剤を含む態様
なお、本発明において、可視光を遮光する色材としての有機系黒色着色剤は、可視領域の光を吸収するが、赤外領域の光の少なくとも一部を透過する材料を意味する。したがって、本発明において、可視光を遮光する色材としての有機系黒色着色剤は、赤外領域の光および可視領域の光の両方を吸収する黒色着色剤である、カーボンブラックやチタンブラックは含まない。

有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ系化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０−５３４７２６号公報、特表２０１２−５１５２３３号公報、特表２０１２−５１５２３４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１−１７０６０１号公報、特開平２−３４６６４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。

可視光を遮光する色材は、例えば、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ｂとの比であるＡ／Ｂが４．５以上であることが好ましい。
上記の特性は、１種類の素材で満たしていてもよく、複数の素材の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記（１）の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。

可視光を遮光する色材として２種以上の有彩色着色剤を含む場合、有彩色着色剤は、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤から選ばれる着色剤であることが好ましい。

２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで可視光を遮光する色材を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様

各着色剤の比率(質量比)としては例えば以下が挙げられる。

組成物が、可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、組成物の全固形分に対して３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。下限は、例えば、０．０１質量％以上とすることができ、０．５質量％以上とすることもできる。
また、組成物は、可視光を遮光する色材を実質的に含有しない態様とすることもできる。可視光を遮光する色材を実質的に含有しないとは、可視光を遮光する色材の含有量が、組成物の全固形分中、０．００５質量％以下が好ましく、０．００１質量％以下が更に好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことが一層好ましい。

＜＜顔料誘導体＞＞
組成物は、顔料を含む場合は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、顔料の一部が、酸性基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が好ましく、式（Ｂ１）で表される顔料誘導体が更に好ましい。

式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸性基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミド基を表す。ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表す。ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なってもよい。

式（Ｂ１）中、Ｐは、色素構造を表し、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール色素構造が特に好ましい。

式（Ｂ１）中、Ｌは単結合または連結基を表す。連結基としては、１〜１００個の炭素原子、０〜１０個の窒素原子、０〜５０個の酸素原子、１〜２００個の水素原子、および０〜２０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換でも置換基を更に有していてもよい。

式（Ｂ１）中、Ｘは、酸性基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミド基を表す。

組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、組成物中に含まれる顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、粒子の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜硬化性化合物＞＞
組成物は、硬化性化合物を含有することが好ましい。硬化性化合物としては、ラジカル、酸、熱により硬化可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシシリル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基は、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。アルコキシシリル基は、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が好ましい。また、アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。

硬化性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいがモノマーが好ましい。モノマータイプの硬化性化合物は、分子量が１００〜３０００であることが好ましい。上限は、２０００以下が好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２５０以上が更に好ましい。また、硬化性化合物は、分子量分布を実質的に有さない化合物であることも好ましい。ここで、分子量分布を実質的に有さないとは、化合物の分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））が、１．０〜１．５であることが好ましく、１．０〜１．３がより好ましい。

（エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物）
硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物を用いることができる。エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、モノマーであることが好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物の分子量は、１００〜３０００が好ましい。上限は、２０００以下が好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２５０以上が更に好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、３〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
上記化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。上記化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３４〜００３８の重合性化合物の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては Ｍ−４６０；東亞合成製）が好ましい。ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＴＭＭＴ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬株式会社製）などが挙げられる。

エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する上記化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた化合物が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。酸基を有する化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではない。例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０等、サートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。

エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載のウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。
市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００（新中村化学工業社製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。

（エポキシ基を有する化合物）
硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物としては、単官能または多官能グリシジルエーテル化合物や、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物などが挙げられる。また、グリシジル（メタ）アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のグリシジル基を有する化合物や、脂環式エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。

エポキシ基を有する化合物は、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１〜１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／ｅｑ以下であることが好ましく、１００〜４００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、１００〜３００ｇ／ｅｑであることがさらに好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８２７、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ８３４、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１０５５、ｊＥＲ１００７、ｊＥＲ１００９、ｊＥＲ１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ４００４、ｊＥＲ４００５、ｊＥＲ４００７、ｊＥＲ４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ｊＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２０（日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ−４０８０Ｓ、同ＥＰ−４０８５Ｓ、同ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ ＰＢ ３６００、同ＰＢ ４７００（以上、（株）ダイセル製）、デナコール ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）、ＯＸＴ−２２１（東亞合成（株）製）等が挙げられる。

エポキシ基を有する化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のエポキシ基としてグリシジル基を有するものも使用可能であるが、好ましいものは脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物である。このような化合物としては、例えば特開２００９−２６５５１８号公報の段落番号００４５等の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

（アルコキシシリル基を有する化合物）
硬化性化合物として、アルコキシシリル基を有する化合物を用いることもできる。アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。アルコキシシリル基は、一分子中に２個以上有することが好ましく、２〜３個有することがさらに好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、上記以外にアルコキシオリゴマーを用いることができる。また、下記化合物を用いることもできる。

市販品としては、信越シリコーン社製のＫＢＭ−１３、ＫＢＭ−２２、ＫＢＭ−１０３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＫＢＭ−３０３３、ＫＢＥ−３０３３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−３０８６、ＫＢＥ−３０６３、ＫＢＥ−３０８３、ＫＢＭ−３１０３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−７１０３、ＳＺ−３１、ＫＰＮ−３５０４、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−９６５９、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、Ｘ−４０−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−５１３，ＫＣ−８９Ｓ，ＫＲ−５００、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、ＫＲ−４０１Ｎ、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１３、Ｘ−４０−２３０８、Ｘ−４０−９２３８などが挙げられる。
また、アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。

（メチロール基を有する化合物）
硬化性化合物として、メチロール基を有する化合物を用いることもできる。メチロール基を有する化合物としては、メチロール基が、窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。

メチロール基が、窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素およびメチロール化尿素等が好ましい。また、１，３，４，６−テトラメトキシメチルグリコールウリルも好ましい。また、特開２００４−２９５１１６号公報の段落番号０１３４〜０１４７、特開２０１４−０８９４０８の段落番号００９５〜０１２６の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

メチロール基を有する化合物の好ましい構造として、下記式（８−１）〜（８−４）で示される化合物を挙げることができる。

（式（８−１）〜（８−４）中、Ｘ²は２価の有機基を表し、Ｒ⁷〜Ｒ¹¹はそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表す。）

メチロール基を有する化合物の例として、例えば下記式（４）〜（５）で表されるものを挙げることができる。

（式（４）中、Ｘは単結合または１〜４価の有機基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹²はそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、ｎは１〜４の整数であり、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０〜４の整数である。ただし、ｎが１である場合、ｐは１〜４の整数である。ｎが２〜４の整数である場合、ｐは０〜４の整数であるが、式（４）中に１つ以上の−ＣＨ²ＯＲ¹¹を含む。）

（式（５）中、２つのＹはそれぞれ独立に水素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、酸素原子、フッ素原子を含んでいてもよい。Ｒ¹³〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表す。ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜３の整数であり、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０〜４の整数である。）

メチロール基を有する化合物の市販品としては、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭＸ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、−２７０、−２８０、−２９０、−７５０ＬＭ、ニカラックＭＳ−１１、ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、−１００ＬＭ、−３９０（以上、（株）三和ケミカル製）などを好ましく使用することができる。

組成物が硬化性化合物を含有する場合、硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜４０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、例えば、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。硬化性化合物は、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜樹脂＞＞
組成物は、樹脂を含有することができる。樹脂は、例えば、顔料などを組成物中で分散させる用途、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などを分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、このような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。

樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００〜２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。また、エポキシ樹脂の場合、エポキシ樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００以上が好ましく、２００〜２，０００，０００がより好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましい。

樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリパラフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。

（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸および／またはそのエステルに由来する構造単位を含む重合体が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミドおよび（メタ）アクリロニトリルから選ばれる少なくとも１種を重合して得られる重合体が挙げられる。

ポリエステル樹脂としては、ポリオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と、多塩基酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香族環の水素原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸など）との反応により得られるポリマーや、カプロラクトンモノマー等の環状エステル化合物の開環重合により得られるポリマー（例えばポリカプロラクトン）が挙げられる。
スチレン樹脂としては、ポリヒドロキシスチレンなどが挙げられる。

また、樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシル基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。また、分散剤として用いることもできる。

酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものが挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また、上記の他のモノマーとしては、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーが挙げられる。例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。

酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。

式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。

式（ＥＤ２）中、Ｒは水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²で表される置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ−アミル、ステアリル、ラウリル、２−エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２−メチル−２−アダマンチル等の脂環式基；１−メトキシエチル、１−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。

エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。

式（Ｘ）において、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ₂は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ₃は水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。

上記式（Ｘ）において、Ｒ₂のアルキレン基の炭素数は、２〜３が好ましい。また、Ｒ₃のアルキル基の炭素数は１〜２０であるが、より好ましくは１〜１０であり、Ｒ₃のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ₃で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２−フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。

酸基を有する樹脂としては、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５〜０７００）の記載、特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号００７６〜００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、以下の樹脂も挙げられる。

酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

樹脂は、硬化性基を有していてもよい。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられる。硬化性基を有する構造単位としては、下記式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）などが挙げられる。

Ｒ¹は水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ¹は水素原子またはメチル基が好ましい。

Ｌ⁵¹は単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ¹⁰−（Ｒ¹⁰は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられ、アルキレン基、アリーレン基およびアルキレン基の少なくとも１つと−Ｏ−との組み合わせからなる基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。

Ｐ¹は硬化性基を表す。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられる。

硬化性基を含有する樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有 ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、アクリキュアーＲＤ−Ｆ８（（株）日本触媒製）などが挙げられる。また、上述したエポキシ樹脂や、下記の樹脂なども挙げられる。

樹脂は、下記式（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される構造単位を有することも好ましい。

式中、Ｒ⁵は水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ⁴〜Ｌ⁷はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。

Ｒ⁵は、式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）のＲ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｌ⁴〜Ｌ⁷は、式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）のＬ⁵¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。

Ｒ¹⁰が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、環状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。Ｒ¹⁰が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６がさらに好ましい。Ｒ¹⁰は、環状のアルキル基またはアリール基が好ましい。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでも良く、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が更に好ましい。Ｒ¹¹，Ｒ¹²が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６が更に好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。

Ｒ¹³が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでも良く、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が更に好ましい。Ｒ¹³が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６が更に好ましい。Ｒ¹³は、直鎖状または分岐状のアルキル基、または、アリール基が好ましい。
ル基が好ましい。

Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵が表す置換基は、上述した式（ＳＱ）で説明した基が挙げられる。なかでも、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵の少なくとも一方は、シアノ基または、−ＣＯＯＲａを表すことが好ましい。Ｒａは、水素原子または置換基を表す。上述した置換基が挙げられる。例えば、アルキル基、アリール基が好ましい。

上記の（Ａ３−７）で表される構造単位を有する樹脂の市販品としては、ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。
また、樹脂は、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｇ−０１０５ＳＡ、Ｇ−０１３０ＳＰ、Ｇ−０２５０ＳＰ、Ｇ−１００５Ｓ、Ｇ−１００５ＳＡ、Ｇ−１０１０Ｓ、Ｇ−２０５０Ｍ、Ｇ−０１１００、Ｇ−０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）を使用することも好ましい。

組成物が顔料を含む場合、樹脂は分散剤を含むことが好ましい。
分散剤として働く樹脂は、酸性型の樹脂および／または塩基性型の樹脂が好ましい。
ここで、酸性型の樹脂とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性型の樹脂は、樹脂中の酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占めるものが好ましく、実質的に酸基のみからなるものがより好ましい。酸性型の樹脂が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性型の樹脂の酸価は、４０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。
また、塩基型の樹脂とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基型の樹脂は、樹脂中の酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％以上を占めるものが好ましい。塩基性型の樹脂が有する塩基性基は、アミンが好ましい。

樹脂は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
末端変性型高分子としては、例えば、特開平３−１１２９９２号公報、特表２００３−５３３４５５号公報等に記載の末端にリン酸基を有する高分子、特開２００２−２７３１９１号公報等に記載の末端にスルホン酸基を有する高分子、特開平９−７７９９４号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子などが挙げられる。また、特開２００７−２７７５１４号公報に記載の高分子末端に２個以上の顔料表面へのアンカー部位（酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等）を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。
グラフト型高分子としては、例えば、特開昭５４−３７０８２号公報、特表平８−５０７９６０号公報、特開２００９−２５８６６８公報等に記載のポリ（低級アルキレンイミン）とポリエステルの反応生成物、特開平９−１６９８２１号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開平１０−３３９９４９号公報、特開２００４−３７９８６号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子を含有するモノマーとの共重合体、特開２００３−２３８８３７号公報、特開２００８−９４２６号公報、特開２００８−８１７３２号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開２０１０−１０６２６８号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体などが挙げられる。マクロモノマーとしては、例えば、東亞合成（株）製のマクロモノマーＡＡ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリメタクリル酸メチル）、ＡＳ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリスチレン）、ＡＮ−６Ｓ（末端基がメタクリロイル基であるスチレンとアクリロニトリルの共重合体）、ＡＢ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリアクリル酸ブチル）、（株）ダイセル製のプラクセルＦＭ５（メタクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン５モル当量付加品）、ＦＡ１０Ｌ（アクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン１０モル当量付加品）、及び特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマー等が挙げられる。
ブロック型高分子としては、特開２００３−４９１１０号公報、特開２００９−５２０１０号公報等に記載のブロック型高分子が好ましい。

分散剤は、下記式（１）〜式（４）のいずれかで表される構造単位を含むグラフト共重合体を用いることもできる。

Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、およびＸ⁵はそれぞれ独立に水素原子或いは１価の有機基を表す。水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ｗ¹、Ｗ²、Ｗ³、およびＷ⁴はそれぞれ独立に酸素原子またはＮＨを表し、酸素原子が好ましい。Ｒ³は分岐若しくは直鎖のアルキレン基（炭素数は１〜１０が好ましく、２又は３であることがより好ましい）を表し、分散安定性の観点から、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＣＨ₃）−で表される基、又は−ＣＨ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−で表される基が好ましい。Ｒ⁴は水素原子又は１価の基を表す。Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³、およびＹ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表す。Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、及びＺ⁴はそれぞれ独立に１価の基を表す。ｎ、ｍ、ｐ、及びｑはそれぞれ独立に１〜５００の整数を表し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に２〜８の整数を表す。
上記グラフト共重合体については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００２５〜００６９の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれる。
上記グラフト共重合体の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００７２〜００９４に記載の樹脂を用いることができる。

分散剤は、主鎖および側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系樹脂を用いることもできる。オリゴイミン系樹脂としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０〜１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖および側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。
オリゴイミン系樹脂は、例えば、下記式（Ｉ−１）で表される構造単位と、式（Ｉ−２）で表される構造単位、および／または、式（Ｉ−２ａ）で表される構造単位を含む樹脂などが挙げられる。

Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基（炭素数１〜６が好ましい）を表す。ａはそれぞれ独立に１〜５の整数を表す。＊は構造単位間の連結部を表す。
Ｒ⁸およびＲ⁹はＲ¹と同義の基である。
Ｌは単結合、アルキレン基（炭素数１〜６が好ましい）、アルケニレン基（炭素数２〜６が好ましい）、アリーレン基（炭素数６〜２４が好ましい）、ヘテロアリーレン基（炭素数１〜６が好ましい）、イミノ基（炭素数０〜６が好ましい）、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。なかでも、単結合もしくは−ＣＲ⁵Ｒ⁶−ＮＲ⁷−（イミノ基がＸもしくはＹの方になる）であることが好ましい。ここで、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（炭素数１〜６が好ましい）を表す。Ｒ⁷は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｌ^aはＣＲ⁸ＣＲ⁹とＮとともに環構造を形成する構造部位であり、ＣＲ⁸ＣＲ⁹の炭素原子と合わせて炭素数３〜７の非芳香族複素環を形成する構造部位であることが好ましい。さらに好ましくは、ＣＲ⁸ＣＲ⁹の炭素原子およびＮ（窒素原子）を合わせて５〜７員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、より好ましくは５員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、ピロリジンを形成する構造部位であることが特に好ましい。この構造部位はさらにアルキル基等の置換基を有していてもよい。
ＸはｐＫａ１４以下の官能基を有する基を表す。
Ｙは原子数４０〜１０，０００の側鎖を表す。
上記樹脂（オリゴイミン系樹脂）は、さらに式（Ｉ−３）、式（Ｉ−４）、および式（Ｉ−５）で表される構造単位から選ばれる１種以上を共重合成分として含有していてもよい。上記樹脂が、このような構造単位を含むことで、顔料の分散性能を更に向上させることができる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｌ、Ｌａ、ａおよび＊は式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−２ａ）における規定と同義である。
Ｙａはアニオン基を有する原子数４０〜１０，０００の側鎖を表す。式（Ｉ−３）で表される構造単位は、主鎖部に一級又は二級アミノ基を有する樹脂に、アミンと反応して塩を形成する基を有するオリゴマー又はポリマーを添加して反応させることで形成することが可能である。

上述したオリゴイミン系樹脂については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１０２〜０１６６の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれる。オリゴイミン系樹脂の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１６８〜０１７４に記載の樹脂を用いることができる。

分散剤は、式（Ｐ１）で表される構造単位を含む樹脂を用いることもできる。

式（Ｐ１）において、Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、Ｒ²はアルキレン基を表し、Ｚは含窒素複素環構造を表す。

Ｒ²が表すアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、２−ヒドロキシプロピレン基、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、メチレンオキシカルボニル基、メチレンチオ基等が好適に挙げられ、メチレン基、メチレンオキシ基、メチレンオキシカルボニル基、メチレンチオ基がより好ましい。

Ｚが表す含窒素複素環構造は、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、キノリン環、アクリジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリドン環、ベンゾイミダゾール構造、ベンゾトリアゾール構造、ベンゾチアゾール構造、環状アミド構造、環状ウレア構造、および環状イミド構造を有するものが挙げられる。これらのうち、Ｚが表す含窒素複素環構造としては、下記式（Ｐ２）または（Ｐ３）で表される構造が好ましい。

式中、Ｘは単結合、アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基など）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−からなる群より選ばれるいずれかである。なお、ここでＲは水素原子またはアルキル基を表す。Ｒがアルキル基を表す場合、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクタデシル基などが挙げられる。
Ｘは単結合、メチレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−であることが好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−であることが特に好ましい。

式中、環Ａ、環Ｂ、および環Ｃはそれぞれ独立に芳香環を表す。芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、アズレン環、フルオレン環、アントラセン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環、インドール環、キノリン環、アクリジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリドン環、アントラキノン環等が挙げられ、なかでも、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ピリジン環、フェノキサジン環、アクリジン環、フェノチアジン環、アクリドン環、アントラキノン環が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環が特に好ましい。

式（Ｐ１）で表される構造単位の具体例としては、例えば以下が挙げられる。その他、特開２００８−００９４２６号公報の段落番号００２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

式（Ｐ１）で表される構造単位を含む樹脂の具体例としては以下が挙げられる。

分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、楠本化成株式会社製「ＤＡ−７３０１」、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１１１（リン酸系分散剤）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）」、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０〜４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０〜４３４０（ブロック共重合体）、４４００〜４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８８０、ＰＢ８８１」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、花王社製「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、花王社製「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、花王社製「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、日本ルーブリゾール（株）製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１２０００、１７０００、２００００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカルズ社製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」、川研ファインケミカル（株）製「ヒノアクトＴ−８０００Ｅ」、信越化学工業（株）製「オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１」、森下産業（株）製「ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０」、サンノプコ（株）製「ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００」、（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカプルロニックＬ３１、Ｆ３８、Ｌ４２、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ６４、Ｆ６８、Ｌ７２、Ｐ９５、Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４、Ｌ１０１、Ｐ１０３、Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３」、および三洋化成（株）製「イオネットＳ−２０」等が挙げられる。

組成物中の樹脂の含有量は、組成物の全固形分に対し、１〜８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞
組成物は、光重合開始剤を含有することができる。特に、組成物が、エチレン性不飽和結合を有する基を有する樹脂や硬化性化合物など、ラジカル重合性成分を含む場合、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有するものが好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。また、光重合開始剤は、約３００ｎｍ〜８００ｎｍ（３３０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０のモル吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含有していることが好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するものなど）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書に記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書に記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報に記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報に記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報に記載の化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載の化合物などが挙げられる。

また、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。

光重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物（α−ヒドロキシケトン化合物）、アミノアセトフェノン化合物（α−アミノケトン化合物）、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン系開始剤も用いることができる。ヒドロキシアセトフェノン化合物（α−ヒドロキシケトン化合物）としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９，ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（商品名、いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン化合物（α−アミノケトン化合物）としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（商品名、いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン化合物（α−アミノケトン化合物）は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ等の光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９−１９１１７９号公報に記載の化合物も用いることができる。
アシルホスフィン化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名、いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。

光重合開始剤として、より好ましくはオキシム化合物が挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、特開２００１−２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物を用いることができる。

好適に用いることのできるオキシム化合物としては、例えば、３−ベンゾイルオキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３−１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ.１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等も挙げられる。市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ社製）も用いることができる。

また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾール環のＮ位にオキシムが連結した特表２００９−５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０−１５０２５号公報及び米国特許公開２００９−２９２０３９号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２００９／１３１１８９号公報に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９−２２１１１４号公報に記載の化合物、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号００７６〜００７９に記載された化合物などを用いてもよい。
好ましくは、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０２７４〜０２７５を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ−１）で表される化合物が好ましい。オキシム化合物は、オキシムのＮ−Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であってもよく、オキシムのＮ−Ｏ結合が（Ｚ）体のオキシム化合物であってもよく、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。

式（ＯＸ−１）中、ＲおよびＢはそれぞれ独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
式（ＯＸ−１）中、Ｒで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
式（ＯＸ−１）中、Ｂで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
式（ＯＸ−１）中、Ａで表される二価の有機基としては、炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。

光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２、００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落０００７〜００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ社製）が挙げられる。

好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有する化合物がより好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が特に好ましい。

オキシム化合物は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００〜３００，０００であることが好ましく、２，０００〜３００，０００であることがより好ましく、５，０００〜２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数の測定は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％であり、さらに好ましくは１〜２０質量％である。この範囲で、より良好な感度とパターン形成性が得られる。組成物は、光重合開始剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜酸発生剤＞＞
組成物は、酸発生剤を含有することができる。特に、硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物やメチロール基を有する化合物を用いた場合、酸発生剤を含有することが好ましい。酸発生剤は、光照射により酸を発生する化合物（光酸発生剤）が好ましい。酸発生剤は、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。
酸発生剤の種類、具体的化合物、および好ましい例としては、特開２００８−１３６４６号公報の段落番号００６６〜０１２２に記載の化合物などを挙げることができ、これらを本発明にも適用することができる。例えば、トリエチルアンモニウムノナフレート等が挙げられる。

酸発生剤として好ましい化合物は、下記式（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。

式（ｂ１）〜（ｂ３）において、Ｒ²⁰¹〜Ｒ²⁰⁷は、それぞれ独立に有機基を表す。Ｘ^-は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-や以下に示す基などが挙げられ、好ましくはＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-である。

酸発生剤の市販品としては、ＷＰＡＧ−４６９（和光純薬（社）製）、ＣＰＩ−１００Ｐ（サンアプロ（株）製）などが挙げられる。

酸発生剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％であり、さらに好ましくは１〜２０質量％である。組成物は、酸発生剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜触媒＞＞
組成物は、触媒をさらに含有することができる。特に、硬化性化合物として、アルコキシシリル基を有する化合物を用いた場合、触媒を含有することで、ゾルゲル反応が促進して、強固な硬化膜が得られる。触媒としては、酸触媒、塩基触媒などが挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸等のカルボン酸、ＲＣＯＯＨで示される構造式のＲを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸などが挙げられる。さらに、塩化アルミニウム、アルミニウムアセチルアセトナート、塩化亜鉛、塩化スズ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、ヨードトリメチルシランなどのルイス酸を用いてもよい。また塩基触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基化合物、エチルアミンやアニリンなどの有機アミンなどが挙げられる。また、触媒は、特開２０１３−２０１００７号公報の段落番号００７０〜００７６に記載の触媒を用いることもできる。
触媒の含有量は、硬化性化合物の１００質量部（好ましくはアルコキシシリル基を有する化合物の１００質量部）に対し０．１〜１００質量部が好ましく、より好ましくは０．１〜５０質量部であり、さらに好ましくは０．１〜２０質量部である。組成物は、触媒を１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜溶剤＞＞
組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、組成物の塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。

有機溶剤の例としては、例えば、以下のものが挙げられる。
エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸シクロヘキシル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、アルキルオキシ酢酸アルキル（例えば、アルキルオキシ酢酸メチル、アルキルオキシ酢酸エチル、アルキルオキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３−アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−アルキルオキシプロピオン酸メチル、３−アルキルオキシプロピオン酸エチル等（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等））、２−アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−アルキルオキシプロピオン酸メチル、２−アルキルオキシプロピオン酸エチル、２−アルキルオキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル））、２−アルキルオキシ−２−メチルプロピオン酸メチル及び２−アルキルオキシ−２−メチルプロピオン酸エチル（例えば、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。

有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶剤を２種以上組みあわせて用いる場合、特に好ましくは、上記の３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液である。

金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０ｐｐｂ以下であることが好ましい。必要に応じてｐｐｔレベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している。

溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いた濾過を挙げることができる。フィルタを用いたろ過におけるフィルタ孔径としては、ポアサイズ１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質としては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、ナイロン製のフィルタが好ましい。

溶剤は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。異性体は１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

溶剤の含有量は、組成物の全量に対し、１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましく、２５〜７５質量％であることが更に好ましい。

＜＜重合禁止剤＞＞
組成物は、組成物の製造中又は保存中において、硬化性化合物の不要な熱重合を阻止するために、重合禁止剤を含有してもよい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。
重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜５質量％が好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞
組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。

上記組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００６０〜００６４（対応する国際公開ＷＯ２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落番号０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、ＲＳ−７２−Ｋ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもでき、具体例としては、例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。

また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０および０２８９〜０２９５に記載の化合物、例えばＤＩＣ社製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられ、これらを用いることができる。

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）等が挙げられる。また、和光純薬工業社製の、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、ＮＣＷ−１００２を使用することもできる。

カチオン系界面活性剤として具体的には、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株））等が挙げられる。

アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株））、サンデットＢＬ（三洋化成（株）製）等が挙げられる。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ３４１、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。

界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．００１〜２．０質量％が好ましく、０．００５〜１．０質量％がより好ましい。

＜＜紫外線吸収剤＞＞
組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、共役ジエン系化合物が好ましく、下記式（１）で表される化合物がより好ましい。

Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ¹とＲ²とは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
Ｒ³及びＲ⁴は、電子求引性基を表す。電子求引性基は、ハメットの置換基定数σｐ値（以下、単に「σｐ値」という。）が、０．２０以上１．０以下の基であることが好ましく、σｐ値が０．３０以上０．８以下の基であることがより好ましい。Ｒ³、Ｒ⁴としては、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましく、特にアシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましい。上記式（１）については、特開２０１０−０４９０２９号公報の段落番号０１４８〜０１５８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

上記式（１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１０−０４９０２９号公報の段落番号０１６０〜０１６２に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ５０３（大東化学株式会社）などが挙げられる。
紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。

＜＜その他成分＞＞
組成物は、必要に応じて、分散剤、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする近赤外線カットフィルタなどの光学フィルタの安定性、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２−００３２２５号公報の段落番号０１８３（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８−２５００７４号公報の段落番号０１０１〜０１０４、０１０７〜０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。これらは２種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２−エチルへキシル基がより好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物（酸化防止剤）も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。これらは、市販品として容易に入手可能であり、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−３０、アデカスタブ ＡＯ−４０、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ−８０、アデカスタブ ＡＯ−３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．３〜１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（組成物の調製方法）
組成物は、前述の成分を混合して調製できる。
組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解および／または分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、組成物は、全成分を同時に溶剤に溶解および／または分散して調製してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜２つ以上の溶液または分散液とし、使用時（塗布時）にこれらを混合して調製してもよい。

組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタは、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されない。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６、ナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１〜３．０μｍ程度、さらに好ましくは０．０５〜０．５μｍ程度である。この範囲とすることにより、後工程において均一な組成物の調製や、平滑な膜の形成などを阻害しうる微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。

フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
例えば、第１のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタリングを行ってもよい。

組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１〜３０００ｍＰａ・ｓの範囲にあることが好ましい。下限は、３ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、５ｍＰａ・ｓ以上がより好ましい。上限は、２０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
本発明の組成物は、固体撮像素子の受光側における近赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する近赤外線カットフィルタなど）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における近赤外線カットフィルタなどに用いることもできる。また、組成物を、イメージセンサ上に直接塗布し塗膜形成して用いてもよい。
組成物は、塗布可能な状態で供給できることから、固体撮像素子の所望の部材や位置に近赤外線カットフィルタを容易に形成できる。
また、本発明の組成物を、ガラス基材や、銅を含有する層に適用してもよい。
また、組成物が有彩色着色剤を含む場合、カラーフィルタの画素形成に用いることもできる。
また、組成物を用いた画素と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる画素とを組み合わせてカラーフィルタとしてもよい。

＜膜、近赤外線カットフィルタ、積層体＞
次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した組成物を用いて形成されるものである。本発明の膜は、赤外線遮蔽性および可視透明性に優れ、分光変動が生じにくい（特に、高温高湿の環境に曝されても分光変動が生じにくい）ので、近赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタとして用いることもできる。膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、膜は、支持体上に積層した状態で用いてもよく、膜を支持体から剥離してもよい。なお、本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、赤外線透過フィルタは、例えば、可視光を遮光し、波長９００ｎｍ以上の波長の光を透過するフィルタが挙げられる。なお、膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、上述の近赤外線吸収化合物Ａと、可視光を遮光する色材（好ましくは、２種以上の有彩色着色剤を含有する色材、または、有機系黒色着色剤を少なくとも含有する色材）とを含む組成物を用いたフィルタであるか、近赤外線吸収化合物Ａを含む層の他に、可視光を遮光する色材の層が別途存在するフィルタであることが好ましい。膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、近赤外線吸収化合物Ａは、透過する光（近赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。
また、本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した組成物を用いて形成されるものである。

本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。

本発明の膜（近赤外線カットフィルタ）は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、上述の組成物で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、硬化性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などをさらに含有することができる。これらの詳細については、上述の組成物で説明した材料が挙げられる。また、本発明の膜（近赤外線カットフィルタ）に有彩色着色剤を含有させて、近赤外線カットフィルタとカラーフィルタとしての機能を備えたフィルタとしてもよい。

また、本発明の積層体は、本発明の近赤外線カットフィルタと、有彩色着色剤を含むカラーフィルタとを有する。積層体は、近赤外線カットフィルタと、カラーフィルタとが厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。近赤外線カットフィルタと、カラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合、カラーフィルタが形成された基材とは別の基材に近赤外線カットフィルタが形成されていてもよく、近赤外線カットフィルタとカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。

なお、本発明において、近赤外線カットフィルタとは、可視光域の波長の光（可視光）を透過し、近赤外域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。近赤外線カットフィルタは、可視光域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視光域の波長の光のうち、特定の波長域の光を通過し、特定の波長域の光を遮光するものであってもよい。また、本発明において、カラーフィルタとは、可視光域の波長の光のうち、特定の波長域の光を通過させ、特定の波長域の光を遮光するフィルタを意味する。また、赤外線透過フィルタとは、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過するフィルタを意味する。

本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。
近赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタを得ることができる。また、近赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落番号００４０〜００７０、０１１９〜０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号０２５５〜０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ−５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製 商品名）、ＢＧ−６０、ＢＧ−６１（以上、ショット社製 商品名）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製 商品名）等が挙げられる。銅錯体含有層としては、銅錯体を含む組成物を用いて形成される層が挙げられる。銅錯体は、７００〜１２００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。銅錯体の極大吸収波長は、７２０〜１２００ｎｍの波長領域に有することがより好ましく、８００〜１１００ｎｍの波長領域に有することがさらに好ましい。銅錯体は、上述した他の近赤外線吸収化合物で説明した材料などが挙げられる。

本発明の膜を、近赤外線カットフィルタとして用いる場合、膜は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。
また、近赤外線カットフィルタの可視透明性の好ましい範囲は、波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましく、９０％以上が特に好ましい。また、波長４００〜５５０ｎｍの全ての範囲での透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
また、近赤外線カットフィルタの赤外線遮蔽性の好ましい範囲は用途によって異なるが、波長７００〜１０００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。

例えば、幅広い波長領域の赤外線を遮光する用途の近赤外線カットフィルタの場合、近赤外線カットフィルタの赤外線遮蔽性は、波長７００〜８００ｎｍの範囲における最も低い透過率の値が、２０％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましく、１％以下が特に好ましい。このような分光特性を有する近赤外線カットフィルタは、波長７００〜８００ｎｍの範囲の赤外線遮蔽性に優れる。このような分光特性を有する近赤外線カットフィルタは、本発明の膜のみで達成していてもよく、本発明の膜と、他の層とを組み合わせて達成してもよい。例えば、本発明の膜と、銅を含有する層との組み合わせが好ましい一例として挙げられる。

また、所定の波長範囲における赤外線を選択的に遮蔽する用途の近赤外線カットフィルタの場合、近赤外線カットフィルタの赤外線遮蔽性の好ましい範囲は、近赤外線カットフィルタの極大吸収波長±２５ｎｍの範囲における平均透過率が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。このような分光特性は、本発明の膜のみで達成していてもよく、本発明の膜と、他の層とを組み合わせて達成してもよい。

本発明の膜を、赤外線透過フィルタとして用いる場合、以下の（１）の分光特性を有することが好ましい。この態様によれば、可視光線由来のノイズが少ない状態で赤外線を透過可能な膜とすることができる。

（１）波長４００〜８３０ｎｍの範囲における膜の厚み方向における光の透過率の最大値が２０％以下であり、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における膜の厚み方向における光の透過率の最小値が８０％以上である。このような分光特性を有する膜は、波長４００〜７５０ｎｍの範囲の光を遮光し、波長９００ｎｍ以上の光を透過する赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。

膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）を用いて、波長３００〜１３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。

本発明の膜を、近赤外線カットフィルタまたは赤外線透過フィルタとして用いる場合、近赤外線カットフィルタと赤外線透過フィルタと組み合わせて用いることもできる。近赤外線カットフィルタと、赤外線透過フィルタとを組み合わせて用いることで、特定波長の赤外線を検出する赤外線センサの用途に好ましく用いることができる。両者のフィルタを組み合わせて用いる場合、近赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタの両方を本発明の組成物を用いて形成することもでき、いずれか一方のみを、本発明の組成物を用いて形成することもできる。

本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。また、本発明の膜は、近赤外線を吸収またはカットする機能を有するレンズ（デジタルカメラ、携帯電話、車載カメラ等のカメラ用レンズ、ｆ−θレンズ、ピックアップレンズ等の光学レンズ）および半導体受光素子用の光学フィルタ、太陽光の選択的な利用を目的とする農業用コーティング剤、近赤外線の吸収熱を利用する記録媒体、電子機器用や写真用近赤外線フィルタ、保護めがね、サングラス、熱線遮断フィルタ、光学文字読み取り記録、機密文書複写防止用、電子写真感光体、レーザー溶着、などに用いられる。またＣＣＤカメラ用ノイズカットフィルター、ＣＭＯＳイメージセンサ用フィルタとしても有用である。

＜パターン形成方法＞
本発明のパターン形成方法は、本発明の組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、フォトリソグラフィ法またはドライエッチング法により、組成物層に対してパターンを形成する工程と、を含む。

本発明の膜と、カラーフィルタとが積層した積層体を製造する場合、膜のパターン形成と、カラーフィルタのパターン形成は、別々に行ってもよい。また、本発明の膜とカラーフィルタとの積層体に対してパターン形成を行ってもよい。すなわち、膜とカラーフィルタとのパターン形成を同時に行ってもよい。

膜（近赤外線カットフィルタ）とカラーフィルタとのパターン形成を、別々に行う場合とは、次の態様を意味する。膜（近赤外線カットフィルタ）およびカラーフィルタのいずれか一方に対してパターン形成を行う。次いで、パターン形成したフィルタ層上に、他方のフィルタ層を形成する。次いで、パターン形成を行っていないフィルタ層に対してパターン形成を行う。

パターン形成方法は、フォトリソグラフィによるパターン形成方法であってもよく、ドライエッチングによるパターン形成方法であってもよい。
フォトリソグラフィによるパターン形成方法であると、ドライエッチング工程が不要なため工程数を削減できるという効果が得られる。
ドライエッチングによるパターン形成方法であると、本発明の組成物は、フォトリソ機能が不要なため、近赤外線吸収剤などの濃度を上げることができるという効果が得られる。

膜（近赤外線カットフィルタ）のパターン形成と、カラーフィルタのパターン形成とを、別々に行う場合、各フィルタ層のパターン形成方法は、フォトリソグラフィ法のみ、または、ドライエッチング法のみで行ってもよい。また、一方のフィルタ層をフォトリソグラフィ法でパターン形成し、他方のフィルタ層をドライエッチング法でパターン形成してもよい。ドライエッチング法とフォトリソグラフィ法とを併用してパターン形成を行う場合、１層目のパターンは、ドライエッチング法によりパターン形成を行い、２層目以降のパターンは、フォトリソグラフィ法によりパターン形成を行うことが好ましい。

フォトリソグラフィ法によるパターン形成は、各組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、および、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。
また、ドライエッチング法によるパターン形成は、各組成物を用いて支持体上に組成物層を形成し、硬化して硬化物層を形成する工程と、硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程と、露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、レジストパターンをエッチングマスクとして硬化物層をドライエッチングしてパターンを形成する工程とを含むことが好ましい。以下、各工程について説明する。

＜＜組成物層を形成する工程＞＞
組成物層を形成する工程では、各組成物を用いて、支持体上に組成物層を形成する。

支持体としては、例えば、基板（例えば、シリコン基板）上にＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像素子（受光素子）が設けられた固体撮像素子用基板を用いることができる。
パターンは、固体撮像素子用基板の固体撮像素子形成面側（おもて面）に形成してもよいし、固体撮像素子非形成面側（裏面）に形成してもよい。
支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。

支持体への組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットによる適用方法としては、組成物を吐出可能であれば特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット−特許に見る無限の可能性−、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５ページ〜１３３ページ）や、特開２００３−２６２７１６、特開２００３−１８５８３１、特開２００３−２６１８２７、特開２０１２−１２６８３０、特開２００６−１６９３２５などに記載の方法が挙げられる。

支持体上に形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。
プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク温度を１５０℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
プリベーク時間は、１０秒〜３００秒が好ましく、４０〜２５０秒がより好ましく、８０〜２２０秒がさらに好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。

（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
＜＜露光工程＞＞
次に、組成物層を、パターン状に露光する（露光工程）。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
露光に際して用いることができる放射線（光線）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく（特に好ましくはｉ線）用いられる。照射量（露光量）は、例えば、０．０３〜２．５Ｊ／ｃｍ²が好ましく、０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ²がより好ましく、０．０８〜０．５Ｊ／ｃｍ²が最も好ましい。
露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ²〜１０００００Ｗ／ｍ²（例えば、５０００Ｗ／ｍ²、１５０００Ｗ／ｍ²、３５０００Ｗ／ｍ²）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ²、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ²などとすることができる。

＜＜現像工程＞＞
次に、未露光部を現像除去してパターンを形成する。未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。
現像液の温度は、例えば、２０〜３０℃が好ましい。現像時間は、２０〜１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。

現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ剤を濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。また、現像液には無機アルカリを用いてもよい。無機アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどが好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な倍率に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５〜１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。

現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば１００〜２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００〜２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよい。

（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上に形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、得られた硬化物層に対してパターニングされたフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてエッチングして行うことができる。フォトレジスト層の形成方法としては、硬化物層上にポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を塗布し、これを乾燥させて形成することが好ましい。フォトレジスト層の形成においては、さらにプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３−０６４９９３号公報の段落番号００１０〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

＜固体撮像素子＞
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜（近赤外線カットフィルタ）を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。
さらに、デバイス保護膜上であって、本発明の近赤外線カットフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜（近赤外線カットフィルタ）上に集光手段を有する構成等であってもよい。
また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各色画素に対して低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２−２２７４７８号公報、特開２０１４−１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。

＜画像表示装置＞
本発明の膜は、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などの画像表示装置に用いることもできる。例えば、各着色画素（例えば赤色、緑色、青色）とともに用いることにより、表示装置のバックライト（例えば白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ））に含まれる赤外光を遮断し、周辺機器の誤作動を防止する目的や、各着色表示画素に加えて赤外の画素を形成する目的で用いることが可能である。

表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。

画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３−４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線−高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集−」、技術情報協会、３２６−３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ−４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ−５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ−６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ−７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。

＜赤外線センサ＞
本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を有する。赤外線センサの構成としては、本発明の膜を有し、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。

以下、赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、近赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、近赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。

近赤外線カットフィルタ１１１の特性は、後述する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長により選択される。
例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が８５０ｎｍである場合、近赤外線カットフィルタ１１１は、可視光（例えば、波長４００〜７００ｎｍの光）を透過し、かつ、波長８５０ｎｍを超える波長の光を遮光するフィルタであることが好ましい。
また、赤外ＬＥＤの発光波長が９４０ｎｍである場合、近赤外線カットフィルタ１１１は、可視光（例えば、波長４００〜７００ｎｍの光）を透過し、かつ、波長９４０ｎｍを超える波長の光を遮光するフィルタであることが好ましい。

カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落０２１４〜０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

赤外線透過フィルタ１１４の特性は、後述する赤外ＬＥＤの発光波長により選択される。
例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が８５０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、波長４００〜６５０ｎｍの範囲における膜の厚み方向における光透過率の最大値が３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることがさらに好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。この透過率は、波長４００〜６５０ｎｍの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。波長４００〜６５０ｎｍの範囲における光透過率の最大値は、通常、０．１％以上である。

赤外線透過フィルタ１１４は、波長８００ｎｍ以上（好ましくは８００〜１３００ｎｍ）の範囲における膜の厚み方向における光透過率の最小値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。この透過率は、波長８００ｎｍ以上の範囲の一部で上記の条件を満たすことが好ましく、赤外ＬＥＤの発光波長に対応する波長で上記の条件を満たすことが好ましい。波長９００〜１３００ｎｍの範囲における光透過率の最小値は、通常、９９．９％以下である。

赤外線透過フィルタ１１４の膜厚は、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍが好ましい。膜厚が上記範囲であれば、上述した分光特性を満たす膜とすることができる。
赤外線透過フィルタ１１４の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製 ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定した。
膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）を用いて、波長３００〜１３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。

上述した分光特性を有する赤外線透過フィルタ１１４は、可視光を遮光する色材を含む組成物を用いて形成できる。可視光を遮光する色材の詳細については、上述した組成物で説明した範囲と同様である。

また、例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が９４０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲における膜の厚み方向における光の透過率の最大値が２０％以下であり、波長８３５ｎｍの膜の厚み方向における光の透過率が２０％以下であり、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における膜の厚み方向における光の透過率の最小値が７０％以上であることが好ましい。

上述した分光特性を有する赤外線透過フィルタ１１４は、可視光を遮光する色材と、波長７５０〜９５０ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線化合物とを含む組成物を用いて製造できる。可視光を遮光する色材の詳細については、上述した組成物で説明した範囲と同様である。近赤外線化合物としては、上述した組成物で説明した近赤外線化合物が挙げられる。

図１に示す赤外線センサに用いる近赤外線カットフィルタ、カラーフィルタおよび赤外線透過フィルタのパターンは、例えば、以下のようにして形成することができる。

まず、支持体１５１上に、近赤外線カットフィルタ形成用の組成物（近赤外線吸収組成物）を適用して近赤外線吸収組成物層を形成する。次に、図２、３に示すように、近赤外線吸収組成物層をパターン形成する。パターン形成方法は、フォトリソグラフィ法およびドライエッチング法のいずれであってもよい。なお、図２、３では、近赤外線吸収組成物層は、Ｂａｙｅｒ（格子）パターンを形成したが、パターンの形状は用途により適宜選択することができる。

次に、近赤外線吸収組成物層のＢａｙｅｒパターン（近赤外線カットフィルタ１１１）上に、カラーフィルタ形成用の組成物（着色組成物）を適用して着色組成物層を形成する。次に、図４、５に示すように、着色組成物層をパターン形成して、近赤外線吸収組成物層のＢａｙｅｒパターン（近赤外線カットフィルタ１１１）に、着色組成物層のＢａｙｅｒパターン（カラーフィルタ１１２）をパターン形成する。パターン形成方法は、フォトリソグラフィ法およびドライエッチング法のいずれであってもよいがフォトリソグラフィ法が好ましい。

次に、カラーフィルタ１１２を形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用の組成物を適用して組成物層を形成する。次に、図６、７に示すように、組成物層をパターン形成して、近赤外線カットフィルタ１１１のＢａｙｅｒパターンの抜け部分に、赤外線透過フィルタ１１４のパターンを形成する。

なお、図１に示す実施形態では、カラーフィルタ１１２が、近赤外線カットフィルタ１１１よりも入射光ｈν側に設けられているが、近赤外線カットフィルタ１１１と、カラーフィルタ１１２との順序を入れ替えて、近赤外線カットフィルタ１１１を、カラーフィルタ１１２よりも入射光ｈν側に設けてもよい。また、図１に示す実施形態では、赤外線透過フィルタ１１４は、単層膜となっているが、２層以上の膜で構成されていてもよい。また、図１に示す実施形態では、近赤外線カットフィルタ１１１とカラーフィルタ１１２は隣接して積層しているが、両フィルタは必ずしも隣接している必要はなく、カラーフィルタ１１２が形成された支持体とは別の支持体上に、近赤外線カットフィルタ１１１が形成されていてもよい。上記支持体は、透明基材であればいずれも好ましく用いることができる。また、銅を含有する透明基材や、銅を含有する透明層を有する基材や、バンドパスフィルタが形成された基材を用いることもできる。
また、近赤外線カットフィルタ１１１として、近赤外線吸収化合物の他に、更に、有彩色着色剤を含むものを用い、近赤外線カットフィルタ１１１がカラーフィルタとしての機能を有する場合においては、図８に示すように、カラーフィルタ１１２を省略することもできる。図８において、符号１１１ａは、有彩色着色剤を含む近赤外線カットフィルタであり、カラーフィルタの機能を兼ね備えた近赤外線カットフィルタである。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。また、化学式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。ＮＭＲは核磁気共鳴の略語である。

＜合成例＞
（合成例１） 化合物ＩＩ−１８６の合成
Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００９，１５，４８５７を参考にして化合物ＩＩ−１８６を合成した。
６０質量％の水素化ナトリウム１８．２質量部と、テトラヒドロフラン２００質量部とをフラスコに入れ、氷浴下でシアノ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル６０質量部を滴下した。室温で１時間攪拌した後に、２−クロロ−６−メチル−ベンゾオキサゾール２５質量部を添加し、１２時間攪拌した。反応液を１０００質量部の水に注ぎ、酢酸１００質量部を加え、析出物を濾取し、ヘキサンで洗浄した。この結晶を５０℃で送風乾燥することで、中間体Ａを３９質量部得た。
中間体Ａの３９質量部と、トリフルオロ酢酸５０質量部と、クロロホルム３００質量部をフラスコに入れ、６０℃で１時間攪拌した。反応後、炭酸ナトリウム水溶液を加え、分液操作により有機相を取り出した。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去して淡黄色固体を得た。得られた淡黄色固体をシリカカラムクロマトグラフィ（ヘキサン／クロロホルム溶媒）で精製し、中間体ａ−１を１３質量部得た。

イソオクタデカノール（ファインオキソコール１８０、日産化学工業（株）製）２１．６質量部、トリエチルアミンをトルエン８０質量部中で攪拌し、−１０℃下で、メタンスルホニルクロリド１０質量部を滴下した。滴下終了後、３０℃で２時間反応させた。分液操作により有機相を取り出し、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去したのち、３−シアノフェノール１０．５質量部、炭酸カリウム１３．９質量部、ジメチルアセトアミド１６質量部中を加えて、１００℃で２４時間反応させた。分液操作により有機相を取り出し、有機相を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去することで、淡黄色液体である化合物Ａを２８質量部得た。
化合物Ａの３０質量部、コハク酸ジイソプロピル９質量部、ｔｅｒｔ−アミルアルコール４０質量部、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１６．５質量部をフラスコに入れ、１２０℃で３時間攪拌した。反応後、メタノール１００質量部、水１００質量部を加え、析出物を濾取した。この結晶を５０℃で送風乾燥することで、化合物Ｂを２０質量部得た。
化合物Ｂの２０質量部と、中間体ａ−１の９．４質量部とを、トルエン４００質量部中で攪拌し、次いで、オキシ塩化リン２０．９質量部を加えて４．５時間加熱還流した。反応後、室温まで冷却して、メタノール８００質量部を加え、室温で３０分間攪拌した。析出した結晶をろ別し、メタノール４００質量部で洗浄した。得られた結晶を４０℃で１２時間送風乾燥させることで、化合物Ｃを１３質量部得た。
ジフェニルボリン酸２−アミノエチル７．５質量部を含有するトルエン９０質量部中に、塩化チタン１０．５質量部を添加し、３５℃で３０分間撹拌した。次に、化合物Ｃの９質量部を添加し、さらに２時間加熱還流条件で攪拌した。室温まで冷却して、メタノール１００質量部を加え、さらに３０分攪拌した。析出した結晶を濾取し、シリカカラムクロマトグラフィ（クロロホルム溶媒）で精製し、化合物ＩＩ−１８６を８．８質量部得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ０．７５−１．８８（ｍ，７０Ｈ），２．１３（ｓ，６Ｈ），３．７５（ｍ，４Ｈ），６．２０（ｓ，２Ｈ），６．４２（ｄ，４Ｈ），６．６４（ｄ，４Ｈ），６．９３（ｄ，２Ｈ）７．１２−７．２２（ｍ，２２Ｈ）

（合成例２）
化合物ＩＩ−９、ＩＩ−１０、ＩＩ−２７、ＩＩ−４３、ＩＩ−４４、ＩＩ−１６７、ＩＩ−１６８、ＩＩ−１８４、ＩＩ−１８５、ＩＩ−２０１、ＩＩ−２０２、ＩＩ−３２５、ＩＩ−５０７、ＩＩ−５０８、ＩＩ−５２４、ＩＩ−５２５、ＩＩ−５４１、ＩＩ−６７３、ＩＩ−６９７、ＩＩ−７１５、ＩＩＩ−９、ＩＩＩ−２８、ＩＩＩ−２９、ＩＩＩ−１６７、ＩＩＩ−３２８、ＩＩＩ−３４９、ＩＩＩ−３５８およびＩＩＩ−３６５を、化合物ＩＩ−１８６と同様の方法で合成した。

（合成例３） 化合物ＩＩ−４０８の合成
中間体ａ−１と同様の方法で合成した中間体ａ−２を用いて化合物Ｄを合成した。
２−クロロ−１，３，２−ベンゾジオキサボロールを１０質量部含有するトルエン２００質量部中に、化合物Ｄの２０質量部を添加後、ジイソプロピルエチルアミン１１質量部を添加し、１００℃で１時間攪拌した。室温まで冷却したのち、メタノール４００質量部を加え、さらに３０分攪拌した。析出した結晶を濾取し、シリカカラムクロマトグラフィ（クロロホルム溶媒）で精製し、化合物ＩＩ−４０８を１３質量部得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ０．８５−２．０２（ｍ，７０Ｈ），３．７０（ｍ，４Ｈ），６．４４（ｍ，４Ｈ），６．６３（ｍ，８Ｈ），６．９５（ｍ，６Ｈ），７．２９（ｍ，２Ｈ）７．４１（ｄｄ，２Ｈ）

（合成例４）
化合物ＩＩ−９１、ＩＩ−２６９、ＩＩ−２７４、ＩＩ−２７５、ＩＩ−５８９およびＩＩ−５９０を化合物ＩＩ−４０８と同様の方法で合成した。

（合成例５） 化合物ＩＩ−９２の合成
化合物Ｂの２０質量部にオキシ塩化リン３５質量部を加えて２時間加熱還流した。反応後、過剰のオキシ塩化リンを減圧留去した後、トルエン２００質量部、２−（２−ベンゾチアゾリル）アセトニトリル４．７質量部を加えて１時間加熱還流した。室温まで冷却して、クロロホルム２００質量部、水２００質量部を加え、分液操作により有機相を取り出した。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去することで、化合物Ｅを１１質量部得た。化合物Ｅの８質量部と、中間体ａ−１の２．２質量部とを、トルエン８０質量部中で攪拌し、次いで、オキシ塩化リン４質量部を加えて２時間加熱還流した。反応後、室温まで冷却して、メタノール１５０質量部を加え、室温で３０分間攪拌した。析出した結晶をろ別し、メタノール１００質量部で洗浄した。得られた結晶を４０℃で１２時間送風乾燥させることで、化合物Ｆを６質量部得た。
２−クロロ−１，３，２−ベンゾジオキサボロールを２．５質量部含有するトルエン５０質量部中に、化合物Ｆの４．５質量部を添加した。次いで、ジイソプロピルエチルアミン２．５質量部を添加し、１００℃で１時間攪拌した。室温まで冷却したのち、メタノール９０質量部を加え、さらに３０分攪拌した。析出した結晶を濾取し、シリカカラムクロマトグラフィ（クロロホルム溶媒）で精製し、化合物ＩＶ−９２を３質量部得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ０．８５−２．０２（ｍ，７０Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），３．６０−３，８７（ｍ，４Ｈ），６．４０（ｍ，４Ｈ），６．４５（ｓ，１Ｈ），６．６０（ｍ，６Ｈ），６．８６（ｍ，１Ｈ），６．８９−７．００（ｍ，５Ｈ），７．１０（ｄ，２Ｈ），７．１９（ｔ，１Ｈ），７．３０（ｔ，１Ｈ），７．３４（ｄ，１Ｈ）

（合成例６）
化合物ＩＶ−７およびＩＶ−９１を、化合物ＩＩＩ−９２と同様の方法で合成した。

（合成例７） 化合物ＩＩＩ−１６８の合成
イソオクタデカノール（ファインオキソコール１８０、日産化学工業（株）製）２１．６質量部、トリエチルアミン９．７質量部、トルエン８０質量部を加え攪拌し、これに液温１０℃以下で、メタンスルホニルクロリド１０質量部を滴下した。滴下終了後、３０℃で２時間反応させた。分液操作により有機相を取り出し、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去したのち、４−シアノフェノール１０．５質量部、炭酸カリウム１３．３質量部、ジメチルアセトアミド２４質量部中を加えて、１１０℃で２４時間反応させた。分液操作により有機相を取り出し、有機相を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去することで、淡黄色液体である化合物Ｇを２８質量部得た。
次に、化合物Ｇの１３質量部、コハク酸ジイソプロピル４．２質量部、ｔ−アミルアルコール１８質量部、カリウムｔ−ブトキシド７．７質量部をフラスコに入れ、１２０℃で６時間攪拌した。反応後、メタノール３６質量部、水３６質量部を加え、析出物を濾取して結晶を得た。この結晶を５０℃で送風乾燥することで、化合物Ｈを５．１質量部得た。
次に、化合物Ｈの５質量部と、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報に記載の方法で合成した中間体ａ−３の３．５質量部とを、トルエン１００質量部中で加熱攪拌し、次いで、オキシ塩化リン３．８質量部を加えて４時間加熱還流した。反応後、反応液を室温まで冷却し、次いで、メタノール２００質量部を加え、室温で３０分間攪拌した。析出した結晶をろ別し、メタノール４００質量部で洗浄した。得られた結晶を５０℃で１２時間送風乾燥させることで、化合物Ｉを３．１質量部得た。
次に、ジフェニルボリン酸２−アミノエチル２．２質量部を含有するトルエン２０質量部中に、塩化チタン３．１質量部を添加し、３５℃で３０分間撹拌した。次に、化合物Ｉの１．７質量部を添加し、さらに３時間加熱還流条件で攪拌した。室温まで冷却して、メタノール４０質量部を加え、さらに３０分攪拌した。析出した結晶を濾取し、シリカカラムクロマトグラフィ（クロロホルム溶媒）で精製し、化合物ＩＩＩ−１６８を１．８質量部の量で得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ８．９９（ｓ、２Ｈ）、８．１６（ｓ、２Ｈ）、７．７８（ｓ、２Ｈ）、７．２６（ｓ、１０Ｈ）、７．１９（ｓ、１０Ｈ）、６．５８（ｄ、４Ｈ）、６．１８（ｄ、４Ｈ）、３．９５〜３．８２（ｍ、４Ｈ）、１．９８〜１．６７（ｍ、４Ｈ）、１．４５〜１．０８（ｍ、１８Ｈ）、１．０３〜０．９５（ｍ、４８Ｈ）、であった。

＜極大吸収波長、吸光度比の評価＞
各化合物を、下記表に記載の測定溶媒に溶かし（濃度２．５×１０^-6ｍｏｌ／Ｌ）、吸収スペクトルを測定した（光路長１０ｍｍ）。
各化合物の吸収スペクトルの極大吸収波長（λｍａｘ）を下記表に示す。
また波長５００ｎｍの吸光度を、極大吸収波長の吸光度で割った値である吸光度比（５００ｎｍ／λｍａｘ）を以下の基準で評価した。
Ａ：吸光度比（５００ｎｍ／λｍａｘ）が０．０４以下
Ｂ：吸光度比（５００ｎｍ／λｍａｘ）が０．０４を超え、０．０８以下
Ｃ：吸光度比（５００ｎｍ／λｍａｘ）が０．０８を超える

＜溶解度の評価＞
各化合物を、大気圧下で、２３℃の水に添加し、１時間攪拌したのち、各化合物の水に対する溶解度を求めた。以下の基準で、化合物の溶解性を評価した。
Ａ：２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下
Ｂ：２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％を超え、１質量％以下
Ｃ：２３℃の水に対する溶解度が１質量％を超える

スクアリリウム化合物

シアニン化合物

＜試験例１＞
（銅を含有する層の作製）
下記銅錯体１を６．５５質量部と、下記銅錯体２を１９．６５質量部と、以下に示す樹脂１を６１．９質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を５質量部と、トリス（２，４−ペンタンジオナト）アルミニウム（ＩＩＩ）（東京化成工業（株）製）を０．０２５質量部と、ＫＢＭ−３０６６（信越化学工業（株）製）を６．８７５質量部と、シクロペンタノンを２４．３４４質量部と、酢酸ブチルを７５．６５６質量部と、水０．１質量部とを混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して銅錯体含有組成物１を調製した。
銅錯体１

銅錯体２

樹脂１（Ｍｗ＝１．５万、主鎖に付記した数値は、各構造単位のモル比である）

得られた銅錯体含有組成物１を、ガラスウェハ上に乾燥後の膜厚が１００μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１５０℃のホットプレートを用いて３時間加熱処理を行って、銅を含有する層を作製した。

（組成物の調製）
下記の組成を混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して組成物を調製した。

＜組成１＞
第１の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
樹脂１、樹脂２または樹脂３（下記表に示す樹脂）・・・・・７．５１部
樹脂１：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝４０，０００）

樹脂２：ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）
樹脂３：下記構造の樹脂（構造単位における比はモル比である）、Ｍｗ＝１１５００
特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号０２４７〜０２４９に記載の方法で合成した。

硬化性化合物１（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製、製品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ））・・・・・１．２８部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）・・・・１．４０部
界面活性剤１（メガファックＲＳ−７２−Ｋ（ＤＩＣ製、３０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液））・・・・・１．５９部
シクロヘキサノン・・・・・８６．３部

＜組成２＞
第１の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
樹脂４（メタクリル酸グリシジル骨格ランダムポリマー、日油（株）製、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｍｗ＝１０，０００）・・・・・１２．９部
硬化性化合物２（ＯＸＴ−２２１、東亞合成（株）製）・・・・・１２．９部
酸発生剤１（ＣＰＩ−１００Ｐ、サンアプロ（株）製）・・・・・２．５部
界面活性剤２（下記混合物、Ｍｗ＝１４０００）・・・・・０．０４部

シクロヘキサノン・・・・・４９．６部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・１９．３部

＜組成３＞
第１の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
樹脂５（下記構造の樹脂（構造単位における比はモル比である）、Ｍｗ＝１８，０００）・・・・１２．９部

酸触媒（リン酸）・・・・・２．５部
界面活性剤２・・・・・０．０４部
シクロヘキサノン・・・・・５８．９部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・２２．９部

＜組成４＞
第１の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
樹脂６：ポリヒドロキシスチレン（シグマアルドリッチ製、Ｍｗ＝１０，０００）・・・・・１２．９部
硬化性化合物３：１，３，４，６−テトラメトキシメチルグリコールウリル（東京化成製）・・・・・１２．９部
酸発生剤２（トリエチルアンモニウムノナフレート）・・・・・２．５部
界面活性剤３（ＦＣ−４４３０、住友スリーエム（株）製）・・・・・０．０４部
シクロヘキサノン・・・・・４９．６部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・１９．３部

＜組成５＞
第１の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（下記表に示す化合物）・・・・・０．９６部
樹脂１・・・・・７．５１部
硬化性化合物１（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製、製品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ））・・・・・１．２８部
界面活性剤１（メガファックＲＳ−７２−Ｋ（ＤＩＣ製、３０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液））・・・・・１．５９部
シクロヘキサノン・・・・・８６．３部

なお、実施例１−１０は、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−５９０とＩＶ−９２を０．４８部ずつ使用した（質量比で、ＩＩ−５９０：ＩＶ−９２＝１：１の割合で使用した）。
また、実施例１−１１は、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−５８９とＩＶ−９１とＩＩ−２７４とを、それぞれ０．３２部ずつ使用した（質量比で、ＩＩ−５８９：ＩＶ−９１：ＩＩ−２７４＝１：１：１の割合で使用した）。
また、実施例１−３０は、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−４０８とＩＩ−９１を０．４８部ずつ使用した（質量比で、ＩＩ−４０８：ＩＩ−９１＝１：１の割合で使用した）。
また、実施例１−３１は、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−２９とＩＩ−４０８とＩＩ−９１とを、それぞれ０．３２部ずつ使用した（質量比で、ＩＩ−２９：ＩＩ−４０８：ＩＩ−９１＝１：１：１の割合で使用した）。
また、比較例１−１は、第１の近赤外線吸収化合物の含有量を１．９２部とした。
また、比較例１−２は、第１の近赤外線吸収化合物の含有量を３．８４部とした。

＜＜近赤外線カットフィルタの製造＞＞
（実施例１−１〜１−１８、１−２０〜１−３１、比較例１−１〜１−６）
各組成物を、上述の銅を含有する層上に、乾燥後の膜厚が０．８μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ^２で全面露光を行った。次いで、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、近赤外線カットフィルタを製造した。

（実施例１−１９）
実施例１−１９の組成物を、上述の銅を含有する層上に、乾燥後の膜厚が０．８μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行い、近赤外線カットフィルタを製造した。

＜＜赤外線遮蔽性評価＞＞
近赤外線カットフィルタの波長７００ｎｍ〜８００ｎｍの透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。赤外線遮蔽性を以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
Ａ：波長７００〜８００ｎｍで最も透過率の低い値≦１％
Ｂ：１％＜波長７００〜８００ｎｍで最も透過率の低い値≦５％
Ｃ：５％＜波長７００〜８００ｎｍで最も透過率の低い値≦１０％
Ｄ：１０％＜波長７００〜８００ｎｍで最も透過率の低い値≦２０％
Ｅ：２０％＜波長７００〜８００ｎｍで最も透過率の低い値

＜＜可視透明性評価＞＞
上記のようにして得た近赤外線カットフィルタにおける波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。可視透明性を以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
Ａ：９０％≦波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率
Ｂ：８５％≦波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率＜９０％
Ｃ：波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率＜８５％

＜＜分光変動性評価＞＞
近赤外線カットフィルタを、８５℃、相対湿度８５％の高温高湿の環境下で１時間放置した。耐湿性試験前と耐湿性試験後とのそれぞれにおいて、近赤外線カットフィルタの波長７００〜１４００ｎｍにおける最大吸光度（Ａｂｓλｍａｘ）と、波長４００〜７００ｎｍにおける最小吸光度（Ａｂｓλｍｉｎ）とを、分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、「Ａｂｓλｍａｘ／Ａｂｓλｍｉｎ」で表される吸光度比を求めた。｜（試験前における吸光度比−試験後における吸光度比）／試験前における吸光度比×１００｜（％）で表される吸光度比変化率を、以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
Ａ：吸光度比変化率≦２％
Ｂ：２％＜吸光度比変化率≦４％
Ｃ：４％＜吸光度比変化率≦７％
Ｄ：７％＜吸光度比変化率

＜＜耐光性＞＞
近赤外線カットフィルタに対し、キセノンランプを５万ｌｕｘで２０時間照射（１００万ｌｕｘ・ｈ相当）した後、耐光テスト前後の色差のΔＥａｂ値を測定した。ΔＥａｂ値が小さいほど耐光性が良好であることを示す。結果を以下の表に示す。なお、ΔＥａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編 新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ＊）²＋（Δａ＊）²＋（Δｂ＊）²｝^1/2
Ａ：ΔＥａｂ値＜５
Ｂ：５≦ΔＥａｂ値＜１０
Ｃ：１０≦ΔＥａｂ値＜２０
Ｄ：２０≦ΔＥａｂ値

上記表に示す通り、実施例は、分光変動性、赤外線遮蔽および可視透明性に優れていた。また、第１の近赤外線吸収化合物としてピロロピロール化合物を使用した実施例は、耐光性が特に優れていた。
一方、比較例は、分光変動性および赤外線遮蔽の少なくとも一つが、実施例に比べて劣るものであった。

実施例において、銅を含有する層の両面に、実施例の組成物を用いて膜を形成しても、実施例と同様の効果が得られる。
また、実施例において、銅含有層の代わりに、銅を含有する燐酸塩ガラス、又は銅を含有する弗燐酸塩ガラス上に、実施例の組成物を用いて膜を形成しても、実施例と同様の効果が得られる。
また、実施例の組成物に、銅を含有する層の形成に用いた銅錯体をさらに配合した組成物を用い、ガラス基材上に前述の組成物を用いて膜を形成しても、実施例と同様の効果が得られる。

また、ガラス基板上に実施例の組成物を用いて層を形成し、得られた層の上に、上述の銅を含有する層を形成しても実施例と同様の効果が得られる。

また、上述の銅を含有する層の代わりに、以下の銅錯体含有組成物２を用いて形成した銅を含有する層の片面または両面に、実施例の組成物を用いて膜を形成しても、実施例と同様の効果が得られる。
（銅錯体含有組成物２）
テトラエトキシシランの２８．９質量部と、フェニルトリエトキシシランの２８．９質量部と、１０質量％塩酸の３０．６質量部とを室温にて４時間混合しゾルを得た。シクロペンタノン８５．５質量部に、銅錯体１の２６．０質量部を室温にて２０分かけて溶解させた溶液を、前述のゾルに添加し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して銅錯体含有組成物２を調製した。

また、実施例の組成物の膜上に、以下の方法でセシウム酸化タングステンを含む組成物の膜を形成した場合であっても、実施例と同様の効果が得られる。
銅を含有する層上に実施例の組成物を積層した膜の上に、以下のセシウム酸化タングステン含有組成物をスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して塗布層を得た。得られた塗布層を、ｉ線ステッパーあるいはアライナーを用い、５００ｍＪ／ｃｍ²の露光量にて露光した。次いで、露光後の塗布層に対し、さらにホットプレートを用いて２２０℃で５分間硬化処理を行い、厚さ３．０μｍの膜を形成した。

（セシウム酸化タングステン含有組成物）
ＹＭＳ−０１Ａ−２（住友金属鉱山株式会社製：セシウム酸化タングステン粒子分散液）の４９．８４質量部と、下記樹脂（固形分４０％ＰＧＭＥＡ溶液）の３９．５質量部と、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬製）６．８０質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９（ＢＡＳＦ製）の２．１８質量部と、ＰＧＭＥＡ１．６８質量部を混合および撹拌してセシウム酸化タングステン含有組成物を調製した。
樹脂：下記構造の樹脂（酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１０００、構造単位における比はモル比である）

（実施例１−３２）
以下の方法で、２層の膜から構成された近赤外線カットフィルタを形成しても実施例１−３０と同様の効果が得られた。
組成６の組成物を、上述の銅を含有する層上に、乾燥後の膜厚が０．８μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で全面露光を行った。次いで、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、第１の近赤外線カットフィルタ層を製造した。
次に、組成７の組成物を、上述の第１の近赤外線カットフィルタ層上に、乾燥後の膜厚が０．８μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で全面露光を行った。次いで、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、２層からなる近赤外線カットフィルタを製造した。

＜組成６＞
第１の近赤外線吸収化合物（ＩＩ−１８６）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（ＩＩ−４０８）・・・・・０．４８部
樹脂１・・・・・７．５１部
硬化性化合物１・・・・・１．２８部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）・・・・１．４０部
界面活性剤１・・・・・１．５９部
シクロヘキサノン・・・・・８６．３部

＜組成７＞
近赤外線吸収化合物（ＩＩ−９１）・・・・・０．４８部
樹脂１・・・・・７．５１部
硬化性化合物１・・・・・１．２８部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）・・・・１．４０部
界面活性剤１・・・・・１．５９部
シクロヘキサノン・・・・・８６．３部

（実施例１−３３）
以下の方法で、２層の膜から構成された近赤外線カットフィルタを形成しても実施例１−３１と同様の効果が得られた。
組成８の組成物を、上述の銅を含有する層上に、乾燥後の膜厚が０．８μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で全面露光を行った。次いで、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、第１の近赤外線カットフィルタ層を製造した。
次に、組成９の組成物を、上述の第１の近赤外線カットフィルタ層上に、乾燥後の膜厚が０．８μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で全面露光を行った。次いで、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、２層からなる近赤外線カットフィルタを製造した。

＜組成８＞
第１の近赤外線吸収化合物（ＩＩ−１８６）・・・・・０．９６部
第２の近赤外線吸収化合物（ＩＩ−４０８）・・・・・０．３２部
樹脂１・・・・・７．５１部
硬化性化合物１・・・・・１．２８部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）・・・・１．４０部
界面活性剤１・・・・・１．５９部
シクロヘキサノン・・・・・８６．３部

＜組成９＞
第１の近赤外線吸収化合物（ＩＩ−２９）・・・・・０．３２部
第２の近赤外線吸収化合物（ＩＩ−９１）・・・・・０．３２部
樹脂１・・・・・７．５１部
硬化性化合物１・・・・・１．２８部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）・・・・１．４０部
界面活性剤１・・・・・１．５９部
シクロヘキサノン・・・・・８６．３部

＜試験例２＞
（組成物の調製）
下記の組成を混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して組成物を調製した。
［組成］
第１の近赤外線吸収化合物（表に示す化合物）・・・・・２．３８部
第２の近赤外線吸収化合物（表に示す化合物）・・・・・０．９８部
表に示す樹脂１、樹脂２または樹脂３（下記表に示す樹脂）・・・・・・６．８６部
樹脂１：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝４０，０００、構造単位における比はモル比である）

樹脂２：ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）
樹脂３：下記構造の樹脂（構造単位における比はモル比である）、Ｍｗ＝１１５００
特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号０２４７〜０２４９に記載の方法で合成した。

硬化性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製、製品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ））・・・・・１．４１部
光重合開始剤（下記化合物）・・・・１．５５部

界面活性剤（メガファックＲＳ−７２−Ｋ（ＤＩＣ製、３０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液））・・・・・２．７１部
重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）・・・・・０．００１部
シクロペンタノン・・・・・８４．１１部

なお、色素３種使用した実施例２−２０は、第１の近赤外線吸収化合物としてＩＩ−５０７を１．１２部使用し、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−１８６とＩＶ−９１を、１．１２部ずつ使用した。（質量比で、ＩＩ−５０７：ＩＩ−１８６：ＩＶ−９１＝１：１：１の割合で使用した。）
また、色素３種使用した実施例２−２１は、第１の近赤外線吸収化合物としてＩＩ−５０７を１．１２部使用し、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−４３とＩＩ−５８９を、質量比で、１．１２部ずつ使用した。（質量比で、ＩＩ−５０７：ＩＩ−４３：ＩＩ−５８９＝１：１：１の割合で使用した。）
また、色素３種使用した実施例２−２２は、第１の近赤外線吸収化合物としてＩＩＩ−９を１．１２部使用し、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−６７３とＩＩ−９を１．１２部ずつ使用した。（質量比で、ＩＩＩ−９：ＩＩ−６７３：ＩＩ−９＝１：１：１の割合で使用した。）
また、色素３種使用した実施例２−２３は、第１の近赤外線吸収化合物としてＩＩ−６７３を１．１２部使用し、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩ−５０７とＩＩ−４３を１．１２部ずつ使用した。（質量比で、ＩＩ−６７３：ＩＩ−５０７：ＩＩ−４３＝１：１：１の割合で使用した。）
また、色素４種使用した実施例２−２４は、第１の近赤外線吸収化合物としてＩＩＩ−９を０．８４部使用し、第２の近赤外線吸収化合物として、ＩＩＩ−６７３とＩＩ−１６７とＩＶ−９２を０．８４部ずつ使用した。（質量比で、ＩＩＩ−９：ＩＩＩ−６７３：ＩＩ−１６７：ＩＶ−９２＝１：１：１：１の割合で使用した。）
また、実施例２−３４は、光重合開始剤を含有させなかった。
また、比較例２−１は、第１の近赤外線吸収化合物の含有量を２．３８部とした。
また、比較例２−２は、第１の近赤外線吸収化合物の含有量を４．０部とした。
また、実施例２−３９は、第１の近赤外線吸収化合物として以下のように調製した顔料分散液を１７．６部使用した。
・顔料分散液の調製。
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、ピロロピロール化合物の平均粒径（二次粒子）が７５ｎｍ以下となるまで混合、分散して、顔料分散液を調製した。顔料分散液中の顔料の平均粒径は、日機装（株）製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣＵＰＡ １５０を用いて、体積基準で測定した。
・ピロロピロール化合物（ＩＩ−５２４） ・・・１３．５質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）） ・・・４質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ） ・・・８２．５質量部

＜＜近赤外線カットフィルタの作製＞＞
（実施例２−１〜２−３３、２−３５〜２−３９、比較例２−１〜２−６）
各組成物を、ガラス基板（コーニング社製１７３７）上に、乾燥後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、５００ｍＪ／ｃｍ²で露光した。さらに、２００℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、近赤外線カットフィルタを製造した。

（実施例２−３４）
実施例２−３４の組成物を、ガラス基板（コーニング社製１７３７）上に、乾燥後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行い、近赤外線カットフィルタを製造した。

＜＜赤外線遮蔽性評価＞＞
近赤外線カットフィルタの透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。赤外線遮蔽性を以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
Ａ：極大吸収波長λｍａｘ±２５ｎｍの範囲の平均透過率≦１０％
Ｂ：１０％＜極大吸収波長λｍａｘ±２５ｎｍの範囲の平均透過率≦１５％
Ｃ：１５％＜極大吸収波長λｍａｘ±２５ｎｍの範囲の平均透過率≦２０％
Ｄ：２０％＜極大吸収波長λｍａｘ±２５ｎｍの範囲の平均透過率

＜＜可視透明性評価＞＞
近赤外線カットフィルタの波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。可視透明性を以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
Ａ：９０％≦波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率
Ｂ：８５％≦波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率＜９０％
Ｃ：波長４００〜５５０ｎｍの平均透過率＜８５％

＜＜分光変動性評価＞＞
近赤外線カットフィルタを、８５℃、相対湿度８５％の高温高湿の環境下で１時間放置した。耐湿性試験前と耐湿性試験後とのそれぞれにおいて、近赤外線カットフィルタの波長７００〜１４００ｎｍにおける最大吸光度（Ａｂｓλｍａｘ）と、波長４００〜７００ｎｍにおける最小吸光度（Ａｂｓλｍｉｎ）とを、分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、「Ａｂｓλｍａｘ／Ａｂｓλｍｉｎ」で表される吸光度比を求めた。｜（試験前における吸光度比−試験後における吸光度比）／試験前における吸光度比×１００｜（％）で表される吸光度比変化率を以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
Ａ：吸光度比変化率≦２％
Ｂ：２％＜吸光度比変化率≦４％
Ｃ：４％＜吸光度比変化率≦７％
Ｄ：７％＜吸光度比変化率

＜＜耐光性＞＞
近赤外線カットフィルタに対し、キセノンランプを５万ｌｕｘで２０時間照射（１００万ｌｕｘ・ｈ相当）した後、耐光テスト前後の色差のΔＥａｂ値を測定した。ΔＥａｂ値の小さい方が耐光性が良好であることを示す。結果を以下の表に示す。なお、ΔＥａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編 新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ＊）²＋（Δａ＊）²＋（Δｂ＊）²｝^1/2
Ａ：ΔＥａｂ値＜５
Ｂ：５≦ΔＥａｂ値＜１０
Ｃ：１０≦ΔＥａｂ値＜２０
Ｄ：２０≦ΔＥａｂ値

上記表に示す通り、実施例は、分光変動性、赤外線遮蔽および可視透明性に優れていた。また、第１の近赤外線吸収化合物としてピロロピロール化合物を使用した実施例は、耐光性が特に優れていた。
一方、比較例は、分光変動性および赤外線遮蔽の少なくとも一つが、実施例に比べて劣るものであった。

実施例２−１〜２−３９において、さらに有彩色着色剤を配合することで、特定の可視光以外の透過性及び赤外線遮蔽性が良好で、分光変動性に優れたフィルタが得られる。
また、誘電体多層膜と実施例２−１〜２−３９の組成物から得られる膜とを合わせた積層膜も好適な効果が得られる。

実施例２−１〜２−３９において、さらに可視光を遮光する色材を配合することで、分光変動性に優れた赤外線透過フィルタが得られる。

実施例２−１〜２−３９において、硬化性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製、製品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ））を、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（東亞合成製、製品名 Ｍ−４６０）に変えても同様の効果が得られる。

実施例２−１〜１９、２−２５〜３９において、以下の組成１０を用いて膜を形成しても、実施例と同様の効果が得られる。

（組成１０）
下記の組成を混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して組成物を調製した。
［組成］
第１の近赤外線吸収化合物（表に示す化合物）・・・・・２．３８部
第２の近赤外線吸収化合物（表に示す化合物）・・・・・０．９８部
樹脂１、樹脂２または樹脂３・・・・・・７．５２部
硬化性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製、製品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ））・・・・・１．４１部
光重合開始剤（下記化合物）・・・・１．５５部

界面活性剤（メガファックＲＳ−７２−Ｋ（ＤＩＣ製、３０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液））・・・・・０．４６７部
重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）・・・・・０．００１部
シクロペンタノン・・・・・８５．６８部

＜試験例３＞
実施例２−５または実施例２−２６の組成物を、製膜後の膜厚が１．０μｍになるように、シリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。その後ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱した。次いでドライエッチング法により２μｍのＢａｙｅｒパターン（近赤外線カットフィルタ）を形成した。
次に、近赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターン上に、Ｒｅｄ組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で２μｍのドットパターンをマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターン上に、Ｒｅｄ組成物をパターニングした。同様にＧｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物を順次パターニングし、赤、青および緑の着色パターンを形成した。
次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物（組成１００または組成１０１）を、製膜後の膜厚が２．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で２μｍのＢａｙｅｒパターンをマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターンの抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。得られた固体撮像素子は、入射角依存性が良好であった。更には、認識評価も良好であった。
なお、実施例２−５の組成物を用いて近赤外線カットフィルタを製造した場合は、組成１００の赤外線透過フィルタ形成用組成物を用いた。実施例２−２６の組成物を用いて近赤外線カットフィルタを製造した場合は、組成１０１の赤外線透過フィルタ形成用組成物を用いた。

試験例３で使用したＲｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物および赤外線透過フィルタ形成用組成物は以下の通りである。

（Ｒｅｄ組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｒｅｄ組成物を調製した。
Ｒｅｄ顔料分散液 ・・５１．７質量部
樹脂４（４０％ＰＧＭＥＡ溶液） ・・・０．６質量部
硬化性化合物４ ・・・０．６質量部
光重合開始剤１ ・・・０．３質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・４２．６質量部

（Ｇｒｅｅｎ組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｇｒｅｅｎ組成物を調製した。
Ｇｒｅｅｎ顔料分散液 ・・・７３．７質量部
樹脂４（４０％ＰＧＭＥＡ溶液） ・・・０．３質量部
硬化性化合物１ ・・・１．２質量部
光重合開始剤１ ・・・０．６質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
紫外線吸収剤１ ・・・０．５質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・１９．５質量部

（Ｂｌｕｅ組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｂｌｕｅ組成物を調製した。
Ｂｌｕｅ顔料分散液 ４４．９質量部
樹脂４（４０％ＰＧＭＥＡ溶液） ・・・２．１質量部
硬化性化合物１ ・・・１．５質量部
硬化性化合物４ ・・・０．７質量部
光重合開始剤１ ・・・０．８質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・４５．８質量部

（赤外線透過フィルタ形成用組成物）
下記組成における成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。
（組成１００）
顔料分散液１−１ ・・・４６．５質量部
顔料分散液１−２ ・・・３７．１質量部
硬化性化合物５ ・・・１．８質量部
樹脂４ ・・・１．１質量部
光重合開始剤２ ・・・０．９質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
重合禁止剤１ ・・・０．００１質量部
基板密着剤 ・・・０．６質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・７．８質量部
（組成１０１）
顔料分散液２−１ ・・・２２．６７質量部
顔料分散液３−１ ・・・１１．３３質量部
顔料分散液３−２ ・・・２２．６７質量部
顔料分散液３−３ ・・・１０．３４質量部
顔料分散液３−４ ・・・６．８９質量部
硬化性化合物６ ・・・１．３７質量部
樹脂５ ・・・３．５２質量部
光重合開始剤１ ・・・０．８６質量部
界面活性剤１ ・・・０．４２質量部
重合禁止剤１ ・・・０．００１質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・１９．９３質量部

Ｒｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物および赤外線透過フィルタ形成用組成物に使用した原料は以下の通りである。

・Ｒｅｄ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４を９．６質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９を４．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を６．８質量部、ＰＧＭＥＡを７９．３質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ³の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｒｅｄ顔料分散液を得た。

・Ｇｒｅｅｎ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６を６．４質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０を５．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．２質量部、ＰＧＭＥＡを８３．１質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ³の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を得た。

・Ｂｌｕｅ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を９．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３を２．４質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．５部、ＰＧＭＥＡを８２．４部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ³の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｂｌｕｅ顔料分散液を得た。

・顔料分散液１−１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１−１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）及び黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）からなる混合顔料 ・・・１１．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・９．１質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・７９．１質量部

・顔料分散液１−２
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１−２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）及び紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３）からなる混合顔料 ・・・１２．６質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・２．０質量部
・樹脂１０ ・・・３．３質量部
・シクロヘキサノン ・・・３１．２質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・５０．９部
樹脂１０：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝１４，０００、構造単位における比はモル比である）

・顔料分散液２−１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、ピロロピロール顔料の平均粒径（二次粒子）が７５ｎｍ以下となるまで混合、分散して、顔料分散液を調製した。顔料分散液中の顔料の平均粒径は、日機装（株）製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣＵＰＡ １５０を用いて、体積基準で測定した。
・ピロロピロール顔料 ・・・１３．５質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・４質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・８２．５質量部
・ピロロピロール顔料：下記構造の化合物

・顔料分散液３−１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で混合、分散して、顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４ ・・・１３．５質量部
・樹脂１１ ・・・２質量部
・樹脂１２ ・・・２質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・８２．５質量部
・樹脂１１：下記構造の樹脂（Ｍｗ：７９５０、主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である）

・樹脂１２：下記構造の樹脂（Ｍｗ：１２０００、構造単位における比はモル比である）

・顔料分散液３−２
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で混合、分散して、顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６ ・・・１３．５質量部
・樹脂１３ ・・・４質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・８２．５質量部
・樹脂１３：下記構造の樹脂（Ｍｗ：３００００、主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である）

・顔料分散液３−３
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で混合、分散して、顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９ ・・・１４．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・３質量部
・樹脂１２ ・・・２．２質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・８０質量部

・顔料分散液３−４
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で混合、分散して、顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３ ・・・１４．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・３質量部
・樹脂１２ ・・・２．２質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・８０質量部

・硬化性化合物１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
・硬化性化合物４：下記構造の化合物

・硬化性化合物５：下記構造の化合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）

・硬化性化合物６：Ｍ−３０５（トリアクリレートが５５〜６３質量％、東亞合成（株）製）

・樹脂４：下記構造の樹脂（酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１０００、構造単位における比はモル比である）

・樹脂５：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝４０，０００、構造単位における比はモル比である）

・光重合開始剤１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）
・光重合開始剤２：下記構造の化合物

・界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４０００、１％ＰＧＭＥＡ溶液）

・基板密着剤：下記構造の化合物

・重合禁止剤１：ｐ−メトキシフェノール
・紫外線吸収剤：下記構造の化合物

１１０：固体撮像素子、１１１，１１１ａ：近赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層、１５１：支持体

Claims (24)

1. 波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物を２種類以上含み、
   前記２種類以上の近赤外線吸収化合物は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収化合物と、前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物とを含み、
   前記第１の近赤外線吸収化合物がピロロピロール化合物であり、
   前記第２の近赤外線吸収化合物がスクアリリウム化合物であり、
   前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、前記第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が１〜１５０ｎｍであり、
   前記第１の近赤外線吸収化合物の１００質量部に対して、前記第２の近赤外線吸収化合物を３０〜２００質量部含有する、組成物。
2. 前記スクアリリウム化合物が式（ＳＱ−１）で表される化合物である、請求項１に記載の組成物。
   式（ＳＱ−１）
   （式（ＳＱ−１）中、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表し、
   Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に活性水素を有する基を表し、
   Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
   ｋＡは０〜ｎＡの整数を表し、ｋＢは０〜ｎＢの整数を表し、
   ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
   Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い）
3. 前記ピロロピロール化合物が、下記式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１または２に記載の組成物。
   （式（Ｉ）中、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立に式（Ａ−２−３）で表される基、式（Ａ−２−４）で表される基または式（Ａ−２−５）で表される基を表し、
   Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
   Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
   Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。）
   （式中、Ｒ²¹³〜Ｒ²²⁷は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、＊は、式（Ｉ）との結合位置を表す。）
4. 波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物を２種類以上含み、
   前記２種類以上の近赤外線吸収化合物は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収化合物と、前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物とを含み、
   前記第１の近赤外線吸収化合物および前記第２の近赤外線吸収化合物がピロロピロール化合物であり、
   前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、前記第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が３０〜９０ｎｍである、組成物。
5. 前記ピロロピロール化合物が、下記式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１、２または４に記載の組成物。
   （式（Ｉ）中、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立にヘテロアリール基を表し、
   Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
   Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
   Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。）
6. 前記ピロロピロール化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物、および、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１、２または４に記載の組成物。
   （式（ＩＩ）中、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立に、Ｏ、Ｓ、ＮＲ^X1またはＣＲ^X2Ｒ^X3を表し、Ｒ^X1〜Ｒ^X3はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
   Ｒ³〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
   Ｒ³とＲ⁴、または、Ｒ⁵とＲ⁶は互いに結合して環を形成してよく、
   Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
   Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
   Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す；
   式（ＩＩＩ）中、Ｙ¹〜Ｙ⁸は、それぞれ独立にＮまたはＣＲ^Y1を表し、Ｙ¹〜Ｙ⁴の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｙ⁵〜Ｙ⁸の少なくとも２つはＣＲ^Y1であり、Ｒ^Y1は水素原子または置換基を表し、隣接するＲ^Y1同士は互いに結合して環を形成してよく、
   Ｂ¹およびＢ²はそれぞれ独立に−ＢＲ¹Ｒ²基を表し、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して環を形成してよく、
   Ｃ¹およびＣ²はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、
   Ｄ¹およびＤ²はそれぞれ独立に置換基を表す。）
7. 波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、２３℃の水に対する溶解度が０．１質量％以下である近赤外線吸収化合物を２種類以上含み、
   前記２種類以上の近赤外線吸収化合物は、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収化合物と、前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長６５０〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収化合物とを含み、
   前記第１の近赤外線吸収化合物および前記第２の近赤外線吸収化合物がスクアリリウム化合物であり、前記スクアリリウム化合物が式（ＳＱ−１）で表される化合物であり、
   前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、前記第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が１〜１５０ｎｍである、組成物。
   式（ＳＱ−１）
   （式（ＳＱ−１）中、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表し、
   Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に活性水素を有する基を表し、
   Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
   ｋＡは０〜ｎＡの整数を表し、ｋＢは０〜ｎＢの整数を表し、
   ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
   Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い）
8. 前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と、前記第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が３０〜９０ｎｍである、請求項７に記載の組成物。
9. 前記第１の近赤外線吸収化合物が式（ＳＱ−Ａ）で表される化合物である、請求項７または８に記載の組成物。
   式（ＳＱ−Ａ）
   （式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
   Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、
   Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立に酸素原子または−Ｎ（Ｒ⁵）−を表し、
   Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
   Ｙ¹〜Ｙ⁴は、それぞれ独立に置換基を表し、Ｙ¹とＹ²、および、Ｙ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよく、
   Ｙ¹〜Ｙ⁴は、それぞれ複数有する場合は、互いに結合して環を形成していてもよく、
   ｐおよびｓは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、
   ｑおよびｒは、それぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
10. 前記第１の近赤外線吸収化合物の１００質量部に対して、前記第２の近赤外線吸収化合物を５〜５００質量部含有する、請求項４または７に記載の組成物。
11. 前記第１の近赤外線吸収化合物および前記第２の近赤外線吸収化合物は、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ１と極大吸収波長における吸光度Ａ２との比率Ａ１／Ａ２が、それぞれ０．０４以下である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
12. 前記第１の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長と前記第２の近赤外線吸収化合物の極大吸収波長との差が、１〜９０ｎｍである請求項１に記載の組成物。
13. 更に、硬化性化合物を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物。
    組成物。
14. 更に、樹脂および溶剤を含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の組成物。
    組成物。
15. 更に、有彩色着色剤を含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の組成物。
16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成された膜。
17. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成された近赤外線カットフィルタ。
18. 更に、銅を含む層を有する、請求項１７に記載の近赤外線カットフィルタ。
19. 請求項１７または１８に記載の近赤外線カットフィルタと、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと、を有する積層体。
20. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物を含む組成物層を支持体上に形成する工程と、フォトリソグラフィ法またはドライエッチング法により、前記組成物層にパターンを形成する工程と、を含む、パターン形成方法。
21. 請求項１６に記載の膜を有する固体撮像素子。
22. 請求項１６に記載の膜を有する画像表示装置。
23. 請求項１６に記載の膜を有する赤外線センサ。
24. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成された画素と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる画素とを有するカラーフィルタ。