JP6774647B2 - 化粧板及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、化粧板及びその製造方法に関する。

従来、テーブル、カウンター、壁、床等の表面には、チタン紙等の多孔質基材にメラミン樹脂の未硬化樹脂液を含浸させ、必要に応じてフェノールコア紙等に積層した上で含浸樹脂液を熱プレスで硬化せしめてなる化粧板が使用されている。このようなメラミン樹脂を含浸及び硬化させた化粧板は、強度、硬さ、耐熱性等の物性を示す。

上述のような化粧板には、高級感を示す意匠が求められており、凹凸形状の外観を表面に付与することが行われている。斯かる凹凸形状としては、各種形状が採用され得るが、中でも、木目導管部の溝状凹凸形状、グロスマット調凹凸形状等が代表的なものであり、多用されている。なお、「グロスマット調凹凸形状」とは、物品の表面に高光沢（ｇｒｏｓｓ）領域と低光沢（ｍａｔｔｅ）領域とを模様状に混在させた凹凸形状を意味する。斯かる構成の物品表面は、物理的凹凸とは無関係に、視覚的に、低光沢領域が高光沢領域に比べて凹んで見え、これにより立体的意匠外観を再現できることが特徴である。「グロスマット調凹凸形状」それ自体は、特許文献１、特許文献２等に開示されるように夙に公知である。

表面にグロスマット調等の凹凸形状による意匠感が付与された化粧板として、表面に所望の凹凸形状が形成されたエンボス板（テクスチャーを付けた鏡面板）を用いて熱圧プレスされた化粧板が提案されている（例えば、特許文献３参照）。

しかしながら、特許文献３に記載されている化粧板の表面に所望の凹凸模様の意匠感を付与する場合、意匠の種類だけ表面処理した鏡面板が必要であり、コストがかかり製造が困難であるという問題がある。また、この化粧板は、凹凸形状を下地の絵柄と同調させることが困難であり、より意匠性を高めることが困難であるという問題がある。

また、絵柄模様と同調した凹状部等が形成された化粧板の製造方法として、原紙の表面に浸透防止層と撥液性模様層を設けることで熱硬化性樹脂を含浸して熱圧成形する際に、撥液性模様が熱硬化性樹脂の皮膜に被覆される現象を防止する製造方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。

しかしながら、特許文献４に記載されている製造方法では、完全に熱硬化性樹脂の被覆を防止することは困難であり、このような製造方法により製造された化粧板は、鮮明な凹凸形状の意匠感を表現することが困難であるという問題がある。

したがって、鮮明な凹凸形状の意匠感を表現することができる化粧板の開発が望まれている。

特公昭４９−３９１６６号公報 特公平１−２００６５ 特開昭４７−１４２７３号公報 特開２００２−１６６５０１号公報

本発明は、鮮明な凹凸形状の意匠感を表現することができる化粧板及びその製造方法を提供することを主な目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、以下の発明を提供する。
［１］第１主面及び前記第１主面の反対側に位置する第２主面を有する支持シートと、
前記支持シートの前記第１主面の一部に設けられた第１層と、
前記支持シートの前記第１主面の残部に設けられた第２層と、
を備える化粧板であって、
前記第２層が、シリコーン系離型剤を含み、
前記第２層が、前記第１層の少なくとも一部を露出させる開口部を有し、
前記第２層の前記開口部が、前記化粧板の表面に凹部を形成している、化粧板。
［２］前記第２層が、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である、［１］に記載の化粧板。
［３］前記熱硬化性樹脂が水溶性熱硬化性樹脂を含み、前記シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンを含む、［２］に記載の化粧板。
［４］前記熱硬化性樹脂が水溶性熱硬化性樹脂を含み、前記シリコーン系離型剤が、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するシリコーン系離型剤を含む、［２］又は［３］に記載の化粧板。
［５］前記水溶性熱硬化性樹脂がメラミン樹脂を含む、［３］又は［４］に記載の化粧板。
［６］前記第１層が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である、［１］〜［５］のいずれかに記載の化粧板。
［７］前記電離放射線硬化性樹脂が、５００以上の重量平均分子量を有する、［６］に記載の化粧板。
［８］前記支持シートが、前記支持シートの前記第１主面側に位置する第１主面及び前記支持シートの前記第２主面側に位置する第２主面を有する基材シートを有する、［１］〜［７］のいずれかに記載の化粧板。
［９］前記支持シートが、前記基材シートの前記第１主面に設けられた装飾層をさらに有する、［８］に記載の化粧板。
［１０］前記基材シートが、多孔質シートである、［８］又は［９］に記載の化粧板。
［１１］前記支持シートが、前記多孔質シートの空隙に充填された熱硬化性樹脂の硬化物をさらに有する、［１０］に記載の化粧板。
［１２］前記化粧板が、前記支持シートの前記第２主面に設けられた補強層をさらに備える、［１］〜［１１］のいずれかに記載の化粧板。
［１３］前記化粧板が、前記第２層上に設けられた耐摩耗層をさらに備える、［１］〜［１２］のいずれかに記載の化粧板。
［１４］前記化粧板が、前記支持シートと前記第２層との間に設けられた耐摩耗層をさらに備える、［１］〜［１２］のいずれかに記載の化粧板。

［１５］［１］に記載の化粧板を製造する方法であって、
（１）第１主面及び前記第１主面の反対側に位置する第２主面を有する支持シートを準備する工程、
（２）前記支持シートの前記第１主面の一部に第１層を形成する工程、
（３）前記支持シートの前記第１主面の残部及び前記第１層の少なくとも一部を被覆し、かつ、シリコーン系離型剤を含む被覆層を形成する工程、及び、
（４）前記被覆層のうち前記第１層を被覆する部分を前記被覆層の残部から剥離して、前記支持シートの前記第１主面の残部に第２層を形成する工程
を含む、方法。
［１６］前記被覆層が、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
前記工程（３）が、
（３−１）前記支持シートの前記第１主面の残部及び前記第１層の少なくとも一部を、前記熱硬化性樹脂及び前記シリコーン系離型剤を含む熱硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、
（３−２）前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化樹脂層を前記被覆層として形成する工程
を含む、［１５］に記載の方法。
［１７］前記熱硬化性樹脂が水溶性熱硬化性樹脂を含み、前記シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンを含む、［１６］に記載の方法。
［１８］前記熱硬化性樹脂が水溶性熱硬化性樹脂を含み、前記シリコーン系離型剤が、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するシリコーン系離型剤を含む、［１６］又は［１７］に記載の方法。
［１９］前記水溶性熱硬化性樹脂がメラミン樹脂を含む、［１７］又は［１８］に記載の方法。
［２０］前記第１層が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
前記工程（２）が、
（２−１）前記支持シートの前記第１主面の一部を、前記電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、
（２−２）前記電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化樹脂層を前記第１層として形成する工程
を含む、［１５］〜［１９］のいずれかに記載の方法。
［２１］前記電離放射線硬化性樹脂が、５００以上の重量平均分子量を有する、［２０］に記載の方法。
［２２］前記支持シートが、前記支持シートの前記第１主面側に位置する第１主面及び前記支持シートの前記第２主面側に位置する第２主面を有する基材シートを有する、［１５］〜［２１］のいずれかに記載の方法。
［２３］前記支持シートが、前記基材シートの前記第１主面に設けられた装飾層をさらに有する、［２２］に記載の方法。
［２４］前記基材シートが、多孔質シートである、［２２］又は［２３］に記載の方法。
［２５］前記被覆層が、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
前記工程（３）が、
（３−１）前記支持シートの前記第１主面の残部及び前記第１層の少なくとも一部を、前記熱硬化性樹脂及び前記シリコーン系離型剤を含む熱硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、
（３−２）前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化樹脂層を前記被覆層として形成する工程
を含み、
前記工程（３−１）において、前記多孔質シートに前記熱硬化性樹脂組成物を含浸させ、
前記工程（３−２）において、前記多孔質シートに含浸させた前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる、［２４］に記載の方法。
［２６］前記支持シートの前記第２主面に設けられた補強層を形成する工程をさらに含む、［１５］〜［２５］のいずれかに記載の方法。
［２７］前記第２層上に設けられた耐摩耗層を形成する工程をさらに含む、［１５］〜［２６］のいずれかに記載の方法。
［２８］前記支持シートと前記第２層との間に設けられた耐摩耗層を形成する工程をさらに含む、［１５］〜［２６］のいずれかに記載の方法。

本発明によれば、鮮明な凹凸形状の意匠感を表現することができる化粧板及びその製造方法が提供される。

図１は、本発明の第１実施形態に係る化粧板の構成を模式的に示す断面図である。 図２は、本発明の第１実施形態に係る化粧板の製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。 図３は、本発明の第１実施形態に係る化粧板の製造方法の一実施形態を説明するための説明図（図２の続き）である。 図４は、本発明の第２実施形態に係る化粧板の構成を模式的に示す断面図である。 図５は、本発明の第２実施形態に係る化粧板の製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。 図６は、本発明の第３実施形態に係る化粧板の構成を模式的に示す断面図である。 図７は、本発明の第３実施形態に係る化粧板の製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。 図８は、剥離重さの測定方法を説明するための説明図である。

以下、本発明の化粧板及びその製造方法について説明する
［第１実施形態］
以下、図面に基づいて、本発明の第１実施形態に係る化粧板について説明する。図１は、本発明の第１実施形態に係る化粧板の構成を模式的に示す断面図である。

化粧板
図１に示すように、本発明の第１実施形態に係る化粧板１Ａは、第１主面Ｓ１及び第１主面Ｓ１の反対側に位置する第２主面Ｓ２を有する支持シート２と、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に設けられた第１層３と、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部に設けられた第２層４とを備える。

図１に示すように、第２層４は、第１層３の少なくとも一部を露出させる開口部４０を有し、第２層の開口部４０は、化粧板１Ａの表面に凹部５を形成している。第１層３は、第２層４の開口部４０から露出し、凹部５の底部の少なくとも一部を形成している。

化粧板１Ａの表面のうち、凹部５に隣接する部分は、相対的に凸部となっており、化粧板１Ａの表面には凹凸形状が形成されている。化粧板１Ａは、後述する工程（１）〜（４）を含む製造方法により製造することができる。この製造方法の結果物である化粧板は、凹部５の表面（第２層４の開口部４０から露出する第１層３の表面を含む）が相対的に粗面となり、入射光に対して拡散反射性を有する低光沢領域を構成するという特徴とともに、凸部を含む凹部５以外の領域の表面が相対的に鏡面となり、入射光に対して鏡面反射性を有する高光沢領域を構成するという特徴を有する。したがって、化粧板１Ａは、凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感も表現することができる。特に、凹凸形状（即ち、高光沢領域及び低光沢領域）を、後述する装飾層２２の絵柄模様と位置同調させることにより、化粧板１Ａは、優れたグロスマット調の意匠感を表現することができる。例えば、装飾層２２が木目模様を形成する場合、凹部５を、木目模様中の導管部（即ち、導管の切断面開口部によって形成される線条の溝部）と、両者の平面視での位置が一致するように位置同調させるとともに、凸部を含む凹部５以外の領域を、木目模様中の導管部以外の領域と、両者の平面視での位置が一致するように位置同調させることにより、木目模様中の導管部が相対的に凹部の外観を呈し、これにより、化粧板１Ａは、本物の木目模様と同様の表面凹凸形状の意匠感（質感）を表現することができる。なお、ここで「平面視」とは、支持シート２の第１主面Ｓ１の法線方向から観察することを意味する。例えば、図１において、同図に向かって上方から下方を見降ろすことを意味する。

化粧板１Ａにおいて、第１層３の全体が、第２層４の開口部４０から露出し、凹部５の底部を形成していてもよいが、必ずしもその必要はない。第１層３の一部は、第２層４で被覆されていてもよい。特に、第１層３が、装飾層２２が形成する木目模様の導管部と位置同調する場合、第１層３のうち導管部の周縁部に相当する部分は、第２層で被覆されていてもよい。なお、凹部５と凸部（第２層４）とから成る凹凸形状の高低差が目視外観上で十分に確保され、且つ耐摩耗性等の表面物性上も実用上支障が無い範囲内においては、第１層３表面の全面にわたって第２層が残渣又は痕跡程度に微量に残留していてもよい。化粧板１Ａを平面視したとき、第１層３のうち、第２層４の開口部４０から露出し、凹部５の底部を形成している部分の面積は、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち、第１層３が設けられる領域の面積の５０％以上であることが好ましい。これにより、化粧板１Ａは、凹凸形状の意匠感を表現することができる。

化粧板１Ａにおいて、複数の凹部５の全部が、第１層３の少なくとも一部を露出させる第２層４の開口部４０により形成されていてもよいが、必ずしもその必要はない。複数の凹部５のうちの一部は、第２層４自体及び／又は第１層３自体に形成されていてもよい。

図１に示すように、化粧板１Ａは、支持シート２の第２主面Ｓ２に設けられた補強層６をさらに備える。なお、本発明には、支持シート２の第２主面Ｓ２に補強層６が設けられていない実施形態も包含される。

支持シート
支持シート２は、第１層３及び第２層４を支持するシートである。
図１に示すように、支持シート２は、第１主面Ｔ１及び第１主面Ｔ１の反対側に位置する第２主面Ｔ２を有する基材シート２１と、基材シート２１の第１主面Ｔ１に設けられた装飾層２２とを有する。

基材シート
図１に示すように、基材シート２１は、第１主面Ｔ１が支持シート２の第１主面Ｓ１側に位置し、第２主面Ｔ２が支持シート２の第２主面Ｓ２側に位置するように配置されている。なお、本実施形態では、基材シート２１の第２主面Ｔ２が、支持シート２の第２主面Ｓ２を形成している。

基材シート２１は特に限定されないが、好ましくは、多孔質シートである。多孔質シートは、液体浸透性を有する限り特に限定されない。基材シート２１が液体浸透性を有する場合、例えば、第２層４の形成原料として使用される樹脂組成物を基材シート２１に含浸させることができる。多孔質シートとしては、例えば、繊維シート等が挙げられる。繊維シートとしては、例えば、紙、不織布、織布等が挙げられる。紙としては、例えば、薄葉紙、クラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、石膏ボード紙、紙にポリ塩化ビニル樹脂をゾルコート又はドライラミネートしたいわゆるビニル壁紙原反、上質紙、コート紙、パーチメント紙、和紙等が挙げられる。その他の繊維シートとしては、例えば、ガラス繊維、石綿、チタン酸カリウム繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維、炭素繊維等の無機繊維で構成されるシート；ポリエステル、ビニロン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の合成樹脂繊維で構成されるシート等が挙げられる。多孔質シートは、液体含浸性の観点から、好ましくは、チタン紙、薄葉紙、クラフト紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙、パーチメント紙、パラフィン紙、和紙等であり、さらに好ましくは、チタン紙である。基材シート２１の坪量は、最終製品の用途、使用方法等により適宜調整することができるが、例えば４０〜１５０ｇ／ｍ^２程度である。基材シート２１の厚みは、最終製品の用途、使用方法等により適宜調整することができるが、例えば５０〜１７０μｍである。

基材シート２１として使用可能な多孔質シート以外のシートとしては、例えば、熱可塑性樹脂シート等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等）、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン（高密度、中密度又は低密度）、ポリプロピレン（アイソタクチック型又はシンジオタクチック型）、ポリブテン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン共重合体等）、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。

基材シート２１が多孔質シートである場合、多孔質シートの空隙には、硬化性樹脂の硬化物が充填されていることが好ましい。これにより、化粧板１Ａの強度を向上させることができる。第２層４が硬化性樹脂の硬化物を含む場合、多孔質シートの空隙に充填された硬化性樹脂の硬化物は、第２層４に含まれる硬化性樹脂の硬化物と一体化されていることが好ましい。これにより、支持シート２と第２層４との接合強度を向上させることができる。例えば、第２層４を形成する際、第２層４の形成原料である硬化性樹脂組成物を多孔質シートに含浸させて硬化させることにより、多孔質シートの空隙に充填された硬化性樹脂の硬化物と、第２層４に含まれる硬化性樹脂の硬化物とを一体化することができる。

なお、本発明には、基材シート２１として使用される多孔質シートの空隙に硬化性樹脂の硬化物が充填されていない実施形態、基材シート２１として多孔質シートの空隙に硬化性樹脂の硬化物が充填されているが、多孔質シートの空隙に充填された硬化性樹脂の硬化物が、第２層４に含まれる硬化性樹脂の硬化物と一体化されていない実施形態等も包含される。

基材シート２１は、着色されていてもよい。基材シート２１の製造段階（例えば、基材シート２１が紙であれば、抄造段階）において、形成原料に着色剤（顔料又は染料）を配合することにより、基材シート２１を着色することができる。また、第２層４を形成する際、第２層４の形成原料として、着色剤を含む樹脂組成物を使用し、これを基材シート２１に含浸させることにより、基材シート２１を着色することができる。着色剤としては、例えば、カーボンブラック、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の粒子からなる無機顔料；キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の粒子からなる有機顔料又は染料；アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料；二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢（パール）顔料等が挙げられる。着色剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。着色剤の配合量は、所望の色合い等に応じて適宜調整することができる。

基材シート２１は、必要に応じて、充填剤、艶消し剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤等の添加剤を含んでもよい。

装飾層
図１に示すように、装飾層２２は、基材シート２１の第１主面Ｔ１に設けられている。装飾層２２は、基材シート２１の第１主面Ｔ１の全体に形成されていてもよいし、基材シート２１の第１主面Ｔ１の一部に形成されていてもよい。装飾層２２が基材シート２１の第１主面Ｔ１の全体に形成される場合、支持シート２の第１主面Ｓ１は装飾層２２の表面により形成される。装飾層２２が基材シート２１の第１主面Ｔ１の一部に形成される場合、支持シート２の第１主面Ｓ１は、基材シート２１の第１主面Ｔ１の一部（装飾層２２が設けられていない部分）及び装飾層２２の表面により形成される。

なお、本発明には、装飾層２２が基材シート２１の第１主面Ｔ１に形成されていない実施形態も包含される。装飾層２２が基材シート２１の第１主面Ｔ１に形成されていない実施形態において、支持シート２の第１主面Ｓ１は、基材シート２１の第１主面Ｔ１により形成される。

装飾層２２は、化粧板１Ａに装飾性（意匠性）を付与する。装飾層２２としては、例えば、着色層、絵柄層、これらの組み合わせ等が挙げられる。

着色層は、化粧板１Ａに所望の色を付与する。着色層は、例えば、基材シート２１の第１主面Ｔ１の全体に形成された全面ベタ層である。着色層の色は、通常、不透明色であるが、基材シート２１等の下地の色又は模様を活かす場合には、透明色であってもよい。また、基材シート２１等の下地の色又は模様を活かす場合には、着色層を形成しなくてもよい。

絵柄層は、化粧板１Ａに所望の模様を付与する。絵柄層は、例えば、基材シート２１の第１主面Ｔ１の一部又は全体あるいは着色層の表面の一部又は全体に形成された印刷層である。模様層を構成する模様としては、例えば、年輪断面の春材領域及び秋材領域、導管部等から構成される木目模様、レザー（皮シボ）模様、大理石、花崗岩、砂岩等の石材表面の石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、幾何学図形、文字、記号、抽象模様等が挙げられる。

装飾層２２の厚みは、製品特性等に応じて適宜調整することができるが、例えば０．１〜２０μｍ程度である。

第１層
図１に示すように、第１層３は、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に、例えば所望の模様状で、設けられている。第１層３は、隣接する第２層４よりも厚みが小さい部分を有しており、この部分が、隣接する第２層４の開口部４０から露出して、化粧板１Ａの表面の凹部５の底部を形成している。

支持シート２の第１主面Ｓ１のうち、第１層３が設けられる領域は、連続した１つの領域であってもよいし、不連続な複数の領域であってもよい。第１層３は、連続した１つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。第１層３が連続した１つの層で構成される場合、第１層３の厚みは部分的に異なっていてもよい。第１層３が不連続な複数の層で構成される場合、各層の厚みは部分的に異なっていてもよいし、ある層の厚みと別の層の厚みは異なっていてもよい。第１層３の厚み、例えば０．１〜２０μｍ程度である。

第１層３は、例えば、樹脂層である。樹脂層としては、例えば、硬化樹脂層、熱可塑性樹脂層等が挙げられる。第１層３は、異なる材料で構成された２種以上の層を含んでもよい。

硬化樹脂層は、硬化性樹脂組成物の硬化により形成された層であり、硬化性樹脂の硬化物を含む。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が挙げられる。表面硬度（耐傷性）、凸形状保持性、生産性等の観点から、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の少なくとも一部が電離放射線硬化性樹脂であることが好ましく、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の全部が電離放射線硬化性樹脂であることがさらに好ましい。

第１層３は、支持シート２の第１主面Ｓ１に所定のパターンで形成されていることが好ましく、装飾層２２が形成する絵柄模様のうち視覚的に凹部又は低光沢（艷消）としたい領域と位置同調したパターンで形成されていることがさらに好ましい。第１層３が形成するパターンとしては、例えば、装飾層２２が木目模様の場合は木目板の導管部、春材領域等の凹部又は低光沢領域、石目模様の場合はトラバーチン大理石板の凹陥部、花崗岩板の劈開面の凹部等の石板表面凹凸、布目模様の場合は布表面テクスチャア、レザー模様の場合は皮シボの皺形状、タイル貼模様や煉瓦積模様の場合は目地凹部、其の他、梨地、砂目、ヘアライン、万線条溝、文字、記号、幾何学模様等のパターンが挙げられる。

第１層３の厚みは特に限定されないが、例えば０．１〜２０μｍ程度である。

第１層３は、シリコーン系離型剤を含んでもよい。第１層３に含まれるシリコーン系離型剤は、第１層３の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤（シリコーンオイル）に由来する。第１層３の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤は、反応性シリコーン系離型剤であってもよいし、非反応性シリコーン系離型剤であってもよい。第１層３の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤が反応性シリコーン系離型剤である場合、シリコーン系離型剤は、第１層３のその他の成分（例えば、硬化性樹脂の硬化物等）と結合した状態で第１層３に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

第２層
図１に示すように、第２層４は、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部に設けられている。「第１主面Ｓ１の残部」は、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち、第１層３が設けられていない領域を意味する。支持シート２の第１主面Ｓ１のうち、第２層４が設けられる領域は、連続した１つの領域であってもよいし、不連続な複数の領域であってもよい。第２層４は、例えば、第１層３の一部又は全体を囲むように設けることができる。第２層４は、連続した１つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。第２層４が連続した１つの層で構成される場合、第２層４の厚みは部分的に異なっていてもよい。第２層４が不連続な複数の層で構成される場合、各層の厚みは部分的に異なっていてもよいし、ある層の厚みと別の層の厚みは異なっていてもよい。なお、化粧板１Ａ表面に発現する凹凸形状の輪郭形状の明瞭化及び第１層３と第２層４との表面高低差の確保の点からは、第１層３の直上部に第２層４が全く残留しないことが好ましい。但し、第１層３上に一旦形成された第２層４の前駆層（被覆層ＣＬ）を、全く痕跡や残渣も無く完全に剥離及び除去することが困難な場合もある。その場合、凹部５と凸部（第２層４）とから成る凹凸形状の高低差が目視外観上で十分に確保され、且つ耐摩耗性等の表面物性上も実用上支障が無い範囲内においては、第１層３表面の全面にわたって第２層が残渣又は痕跡程度に微量に残留することは許容され得る。

第２層４が設けられている領域の面積（Ｓａ）と、第１層３が設けられている面積（Ｓｂ）との面積比（Ｓａ：Ｓｂ）は、好ましくは３：７〜９：１、さらに好ましくは５：５〜８：２である。面積比が上述の範囲内であると、化粧板１Ａが表現する凹凸形状の意匠感がより鮮明となる。

第２層４のうち開口部４０を囲む部分は、第１層３のうち第２層４の開口部４０から露出する部分よりも厚みが大きい。第１層３と第２層４との表面高低差は、好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは２〜３０μｍである。表面高低差が上述の範囲内であると、化粧板１Ａが表現する凹凸形状の意匠感がより鮮明となる。

第１層３と第２層４との表面高低差は、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器ＳＥ−３０Ｋを使用して、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２０１３に規定された方法に従って測定する。具体的には、化粧板表面のうち、第１層３が形成されていない領域（第２層４が形成されている領域）と、第１層３が形成されている領域（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１が剥離された部分）との高低差を測定する。この際、表面の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を表面高低差のパラメ−タ−として使用し、１０箇所の平均値を「表面高低差」とする。

第２層４は、例えば、樹脂層である。樹脂層としては、例えば、硬化樹脂層、熱可塑性樹脂層等が挙げられる。第２層４は、異なる材料で構成された２種以上の層を含んでもよい。

硬化樹脂層は、硬化性樹脂組成物の硬化により形成された層であり、硬化性樹脂の硬化物を含む。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が挙げられる。第１層３が、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化により形成された硬化樹脂層である場合、第２層４は、熱硬化性樹脂組成物の硬化により形成された硬化樹脂層であることが好ましい。

第２層４の厚みは、第１層３の厚みとの関係で適宜調整することができるが、基材シート２１と第２層４との厚みの合計は、５０〜３００μｍ程度が好ましい。

第２層は、シリコーン系離型剤を含む。第２層４に含まれるシリコーン系離型剤は、第２層４の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤（シリコーンオイル）に由来する。第２層４の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤は、反応性シリコーン系離型剤であってもよいし、非反応性シリコーン系離型剤であってもよいが、好ましくは、非反応性シリコーン系離型剤である。第２層４の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤が反応性シリコーン系離型剤である場合、シリコーン系離型剤は、第２層４のその他の成分（例えば、硬化性樹脂の硬化物等）と結合した状態で第２層４に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

第２層４の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物（例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等）を含む場合、シリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンは、水溶性、水分散性等の特性を有するので、シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンであると、シリコーン系離型剤が水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。第２層４は、ポリエーテル変性シリコーン以外の非反応性シリコーンを含んでいてもよい。ポリエーテル変性シリコーン以外の非反応性シリコーンは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

第２層４の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物（例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等）を含む場合、シリコーン系離型剤として、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するシリコーン系離型剤（特に、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するポリエーテル変性シリコーン）を使用することが好ましい。シリコーン系離型剤のＨＬＢ値は、さらに好ましくは１０以上１５以下、さらに一層好ましくは１２以上１４以下である。ＨＬＢ値が高いほど、シリコーン系離型剤が水溶性熱可塑性樹脂と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止することができるが、ＨＬＢ値が高すぎると、シリコーン系離型剤の離型性が低下するおそれがある。シリコーン系離型剤のＨＬＢ値が上記範囲であると、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。なお、ＨＬＢ（親水性親油性バランス：Hydrophile-Lypophile Balance）値は、界面活性剤の水及び油への親和性を示す値であり、グリフィン法により次式から求めることができる。
ＨＬＢ＝２０×[(界面活性剤中に含まれる親水基の分子量)/(界面活性剤の分子量)]

熱硬化性樹脂組成物
第１層３及び／又は第２層４の形成原料としては、熱硬化性樹脂組成物を使用することができる。特に、第２層４の形成原料として、熱硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。熱硬化性樹脂組成物に含まれる熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂（２液硬化型ポリウレタンも含む）、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。第２層４の形成原料として使用される熱硬化性樹脂組成物は、メラミン樹脂を含むことが好ましい。メラミン樹脂は、耐熱性及び耐汚染性があり、硬度が高い点で好ましい。

熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、熱硬化性樹脂の硬化反応に関与する成分、例えば、触媒、硬化剤（架橋剤、重合開始剤、重合促進剤等を含む）等を含んでもよい。例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の硬化剤としては、イソシアネート、有機スルホン酸塩等が挙げられ、エポキシ樹脂等の硬化剤としては、有機アミン等が挙げられ、不飽和ポリエステル樹脂のラジカル開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、アゾイソブチルニトリル等が挙げられる。

電離放射線硬化性樹脂組成物
第１層３及び／又は第２層４の形成原料としては、電離放射線硬化性樹脂組成物を使用することができる。特に、第１層３の形成原料として、電離放射線硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射により架橋重合反応を生じ、３次元の高分子構造に変化する樹脂である。電離放射線としては、例えば、可視光線、紫外線（近紫外線、真空紫外線等）、Ｘ線、電子線、イオン線等が挙げられるが、好ましくは、紫外線、電子線等である。

電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、電離放射線の照射により架橋可能な重合性不飽和結合、エポキシ基等を分子中に有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等の１種以上を使用することができる。特に、多官能モノマー及びオリゴマーの１種以上を使用することが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレート樹脂、シロキサン等のケイ素樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレート系モノマー等が挙げられる。特に、多官能性（メタ）アクリレートが好ましい。なお、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。多官能性（メタ）アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する（メタ）アクリレートであればよく、特に制限はない。多官能性（メタ）アクリレートは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。多官能性（メタ）アクリレートとともに、その粘度を低下させる等の目的で、単官能性（メタ）アクリレートを併用してもよい。

重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つオリゴマー、例えばエポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系等が挙げられる。また、重合性オリゴマーとしては、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマー、小さな分子内に多くの反応性基をもつアミノプラスト樹脂を変性したアミノプラスト樹脂（メタ）アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマーとしては、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等が挙げられる。

電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５００以上、さらに好ましくは１０００以上である。電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量が上記範囲であると、第１層３及び／又は第２層４を形成する際、形成原料として使用される硬化性樹脂組成物が、基材シート２１へ浸み込みにくいので、第１層３及び／又は第２層４を形成しやすい。この効果は、基材シート２１が多孔質シートである場合に大きい。

電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは８００００以下、さらに好ましくは５００００以下である。電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量が上記範囲であると、樹脂組成物の粘度を、塗布に適した粘度に調整しやすい。

なお、「重量平均分子量」は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により、ポリスチレンを標準物質に用いて測定される値である。

電離放射線硬化性樹脂は、重量平均分子量が５００以上である多官能モノマー及びオリゴマーから選択される少なくとも１種であることが好ましい。このような多官能モノマー又はオリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレート樹脂が挙げられる。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、電離放射線硬化性樹脂の硬化反応に関与する成分、例えば、光重合開始剤（増感剤）を含んでもよい。例えば、紫外線の照射により電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は光重合開始剤（増感剤）を含むことが好ましい。なお、電離放射線硬化型樹脂は電子線を照射すれば十分に硬化するので、電子線の照射により電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は光重合開始剤（増感剤）を含まなくてもよい。

電離放射線硬化性樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する場合、光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、ミヒラーケトン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾール、イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエート等の少なくとも１種を使用することができる。また、電離放射線硬化性樹脂組成物がカチオン重合性官能基を有する場合、光重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル、フリールオキシスルホキソニウムジアリルヨードシル塩等の少なくとも１種を使用することができる。

光重合開始剤の添加量は特に限定されないが、電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜１０質量部程度である。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、耐熱性及び架橋密度を向上させるために、多官能の重合性モノマーを含むことが好ましい。

熱可塑性樹脂組成物
第１層３及び／又は第２層４の形成原料としては、熱可塑性樹脂組成物を使用することができる。熱可塑性樹脂組成物に含まれる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等）、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン（高密度、中密度又は低密度）、ポリプロピレン（アイソタクチック型又はシンジオタクチック型）、ポリブテン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン共重合体等）、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。

シリコーン系離型剤
シリコーン系離型剤は、第２層４に含まれる。また、シリコーン系離型剤は、第１層３に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、オルガノポリシロキサン構造を基本構造とし、側鎖及び／又は末端に有機基が導入された変性シリコーンである。有機機が導入される末端は、片方の末端であってもよいし、両方の末端であってもよい。

反応性シリコーン系離型剤は、側鎖及び／又は末端に有機基が導入された変性シリコーンのうち、導入する有機基の性質によって反応性を有するものをいう。反応性シリコーン系離型剤としては、例えば、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、カルボキシル変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、メタクリル変性シリコーン、異種官能基変性シリコーン等が挙げられる。より具体的には、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、メルカプト変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、フェノール変性ポリジメチルシロキサン、メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、異種官能基変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。反応性シリコーン系離型剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

非反応性シリコーン系離型剤は、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、（メタ）アクリロイル基、アリル基等の反応性官能基を有しないシリコーンであれば特に制限されない。非反応性シリコーン系離型剤としては、例えば、ポリシロキサンからなるシリコーンのほか、ポリエーテル変性シリコーン、アラルキル変性シリコーン、フロロアルキル変性シリコーン、長鎖アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸エステル変性シリコーン、高級脂肪酸アミド変性シリコーン、フェニル変性シリコーン等が挙げられる。より具体的には、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリジメチルシロキサン、フロロアルキル変性ポリジメチルシロキサン、長鎖アルキル変性ポリジメチルシロキサン、高級脂肪酸エステル変性ポリジメチルシロキサン、高級脂肪酸アミド変性ポリジメチルシロキサン、フェニル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。非反応性シリコーン系離型剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

ポリエーテル変性シリコーン
第２層４の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が水溶性熱可塑性樹脂組成物（例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等）を含む場合、シリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンは、主鎖がポリシロキサンであり、１個以上のポリオキシアルキレン基を置換基として有するものである。主鎖は環を形成していてもよい。

ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリオキシアルキレン基の結合位置は、任意の適切な結合位置であり得る。例えば、ポリオキシアルキレン基は、主鎖の両末端に結合されていてもよいし、主鎖の片末端に結合されていてもよいし、側鎖に結合されていてもよい。ポリエーテル変性シリコーンは、ポリオキシアルキレン基が側鎖に結合された側鎖型ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。

側鎖型ポリエーテル変性シリコーンは、例えば、一般式（１）で表される。

一般式（１）中、Ｒはそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜１５のアルキル基を表し、Ｒ^３は−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ａ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｂ−で表されるポリオキシアルキレン基であり、ａは１〜５０であり、ｂは０〜３０であり、ｍは１〜７０００であり、ｎは１〜５０である。

一般式（１）中、Ｒは、好ましくはメチル基である。

ポリエーテル変性シリコーンとしては、例えば、信越シリコーン（株）製の商品名「ＫＦ−６０１１」（ＨＬＢ：１４．５）、「ＫＦ−６０１１Ｐ」（ＨＬＢ：１４．５）、「ＫＦ−６０１２」（ＨＬＢ：７．０）、「ＫＦ−６０１３」（ＨＬＢ：１０．０）、「ＫＦ−６０１５」（ＨＬＢ：４．５）、「ＫＦ−６０１６」（ＨＬＢ：４．５）、「ＫＦ−６０１７」（ＨＬＢ：４．５）、「ＫＦ−６０１７Ｐ」（ＨＬＢ：４．５）、「ＫＦ−６０４３」（ＨＬＢ：１４．５）、「ＫＦ−６００４」（ＨＬＢ：９．０）、「ＫＦ３５１Ａ」（ＨＬＢ：１２）、「ＫＦ３５２Ａ」（ＨＬＢ：７）、「ＫＦ３５３」（ＨＬＢ：１０）、「ＫＦ３５４Ｌ」（ＨＬＢ：１６）、「ＫＦ３５５Ａ」（ＨＬＢ：１２）、「ＫＦ６１５Ａ」（ＨＬＢ：１０）、「ＫＦ９４５」（ＨＬＢ：４）、「ＫＦ−６４０」（ＨＬＢ：１４）、「ＫＦ−６４２」（ＨＬＢ：１２）、「ＫＦ−６４３」（ＨＬＢ：１４）、「ＫＦ−６４４」（ＨＬＢ：１１）、「ＫＦ−６０２０」（ＨＬＢ：４）、「ＫＦ−６２０４」（ＨＬＢ：１０）、「Ｘ２２−４５１５」（ＨＬＢ：５）等の側鎖型（直鎖タイプ）ポリエーテル変性シリコーンオイル；信越シリコーン（株）製の商品名「ＫＦ−６０２８」（ＨＬＢ：４．０）、「ＫＦ−６０２８Ｐ」（ＨＬＢ：４．０）等の側鎖型（分岐鎖タイプ）ポリエーテル変性シリコーンオイル；信越シリコーン（株）製の商品名「ＫＦ−６０３８」（ＨＬＢ：３．０）等の側鎖型（分岐鎖タイプ、アルキル共変性タイプ）ポリエーテル変性シリコーンオイル等が挙げられる。

補強層
補強層６は、化粧板１Ａを補強する層である。図１に示すように、補強層６は、支持シート２の主面のうち、第１層３及び第２層４と反対側の主面、すなわち第２主面Ｓ２に積層されている。補強層６は、例えば、多孔質シートと、多孔質シートの空隙に存在する熱硬化性樹脂の硬化物とを有する。補強層６は、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートを加熱して、熱硬化性樹脂を硬化させることにより形成することができる。熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂（２液硬化性ポリウレタンも含む）、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂含浸シートとしては、例えば、メラミン樹脂化粧板等のコア紙として汎用されているフェノール樹脂含浸紙等が挙げられる。

フェノール樹脂含浸紙は、一般に、坪量１５０〜２５０ｇ／ｍ^２程度のクラフト紙にフェノール樹脂を含浸率４５〜６０％程度となるように含浸し、１００〜１４０℃程度で乾燥させることにより製造された紙である。フェノール樹脂含浸紙には、市販品を使用することができる。フェノール樹脂含浸紙を積層する際には、必要に応じて、支持シート２の第２主面Ｓ２にコロナ放電処理を施したり、プライマー層を形成したりしてもよい。

化粧板１Ａは、必要に応じて、補強層６の両面のうち一方又は両方に積層されたその他の補強層を有していてもよい。例えば、化粧板１Ａがメラミン樹脂化粧板である場合、補強層６として使用されるコア紙の黒褐色の色調が化粧板表面から透視されることを隠蔽するために、チタン白顔料を混抄した所謂チタン紙からなるバリアー紙を、コア紙と支持シート２との間に積層することができる。また、熱圧成形の際に生じる化粧板１Ａの反りを相殺するために、チタン紙からなるバランス紙等を、補強層６の裏面（支持シート２の第２主面Ｓ２とは反対側の面）に積層することができる。これらのその他の補強層は、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂を含む未硬化状態の樹脂組成物を含浸した上で、その他の層（例えば、支持シート２）と共に熱圧成形することにより、その他の層と一体化することができる。

接着剤層
化粧板１Ａは、必要に応じて、接着剤層を有していてもよい。接着剤層は、例えば、支持シート２と第１層３との間、及び／又は、支持シート２と第２層４との間に、これらの層の密着性を高めるため形成することができる。接着剤層は、透明性接着剤層であることが好ましい。「透明性」には、無色透明、着色透明、半透明等のいずれも包含される。

接着剤は特に限定されず、化粧板の分野で公知の接着剤を適宜選択して使用することができる。接着剤としては、例えば、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂等の熱可塑性樹脂、ウレタン系樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。接着剤は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、イソシアネートを硬化剤とする二液硬化型ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂も使用可能である。

接着剤層の厚みは特に限定されないが、乾燥後の厚みは、例えば０．１〜３０μｍ程度、好ましくは１〜２０μｍ程度である。

プライマー層
化粧板１Ａは、支持シート２の第２主面Ｓ２、補強層６の裏面（支持シート２の第２主面Ｓ２と反対側の面）等に、必要に応じて、プライマー層を有していてもよい。プライマー層を設けると、例えば、化粧板１Ａと被着材とを積層して、化粧部材を製造する際に有用である。被着材としては、例えば、各種素材の平板、曲面板等の板材、立体形状物品、シート（或いはフィルム）等が挙げられる。具体的には、木材単板、木材合板、パーティクルボード、ＭＤＦ（中密度繊維板）等の木質繊維板等の板材や立体形状物品等として使用される木質部材；鉄、アルミニウム等の板材や鋼板、立体形状物品、あるいはシート等として使用される金属部材；ガラス、陶磁器等のセラミックス、石膏等の非セメント窯業系材料、ＡＬＣ（軽量気泡コンクリート）板等の非陶磁器窯業系材料等の板材や立体形状物品等として使用される窯業部材；アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）樹脂、フェノール樹脂、塩化ビニル樹脂、セルロース系樹脂、ゴム等の板材、立体形状物品、あるいはシート等として使用される樹脂部材等が挙げられる。また、これらの部材は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

被着材は、用途に応じて適宜選択すればよく、壁、天井、床等の建築物の内外装用部材、窓枠、扉、手すり、幅木、廻り縁、モール等の建具を用途とする場合は、木質部材、金属部材、樹脂部材、これらの組み合わせた部材が好ましい。被着材の厚さは、用途及び材料に応じて適宜選択すればよく、通常０．１〜５ｍｍ、好ましくは０．１〜３ｍｍである。

プライマー層は、公知のプライマー剤を、支持シート２の第２主面Ｓ２、補強層６の裏面（支持シート２の第２主面Ｓ２と反対側の面）等に塗布することにより形成できる。プライマー剤としては、例えば、アクリル変性ウレタン樹脂（アクリルウレタン系樹脂）等からなるウレタン樹脂系プライマー剤、ウレタン−セルロース系樹脂（例えば、ウレタンと硝化綿の混合物にヘキサメチレンジイソシアネートを添加してなる樹脂）からなるプライマー剤、アクリルとウレタンのブロック共重合体からなる樹脂系プライマー剤等が挙げられる。プライマー剤には、必要に応じて、添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば、炭酸カルシウム、クレー等の充填剤、水酸化マグネシウム等の難燃剤、酸化防止剤、滑剤、発泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。添加剤の配合量は、製品特性に応じて適宜調整することができる。

プライマー剤の塗布量は特に限定されないが、通常０．１〜１００ｇ／ｍ^２、好ましくは０．１〜５０ｇ／ｍ^２程度である。プライマー層の厚みは特に限定されないが、通常０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜１μｍ程度である。

化粧板１Ａは、鮮明な凹凸形状が賦形されており、グロスマット調の凹凸形状を含む凹凸形状の意匠感を表現することができるので、意匠性の高い化粧板である。化粧板１Ａは、所定の成形加工等を施し、各種用途に用いることができる。例えば、化粧板１Ａを木質基材、金屬基材、非金屬無機質基材、樹脂基材等の基材上に積層し、壁、天井、床等の建築物の内装、車輛、船舶等の乗物の内裝、家具又は弱電又はＯＡ機器のキャビネット等に利用することができる。木質基材として、具体的には、杉、檜、欅、松、樫、ラワン、チーク、メラピー等の各種素材から作られた突板、木材単板、木材合板、パーティクルボード、中密度繊維板（ＭＤＦ）、集成材、チップボード、又はチップボードが積層された複合基材等が挙げられる。金屬基材としては、鉄、銅、アルミニウム、チタニウム等の金屬単体、或いはこれら金屬の１種以上を含む合金からなる基材等が挙げられる。非金屬無機材料基材としては、珪酸カルシウム、石膏、セメント、陶磁器等の窯業系材料、或いは花崗岩、石灰岩等の石材からなる基材等が挙げられる。樹脂基材としては、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等からなる基材等が挙げられる。

化粧板の製造方法
以下、図面に基づいて、本発明の第１実施形態に係る化粧板の製造方法について説明する。図２及び図３は、本発明の第１実施形態に係る化粧板の製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。なお、図３は、図２の続きである。

本実施形態に係る化粧板１Ａの製造方法は、
（１）第１主面Ｓ１及び第１主面Ｓ１の反対側に位置する第２主面Ｓ２を有する支持シート２を準備する工程、
（２）支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に第１層３を形成する工程、
（３）支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆し、かつ、シリコーン系離型剤を含む被覆層ＣＬを形成する工程、及び
（４）被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離して、支持シート２の第１主面の残部に第２層を形成する工程
を含む。
以下、各工程について説明する。

工程（１）
工程（１）では、図２（ａ）に示すように、第１主面Ｓ１及び第１主面Ｓ１の反対側に位置する第２主面Ｓ２を有する支持シート２を準備する。

図２（ａ）に示すように、支持シート２は、支持シート２の第１主面Ｓ１側に位置する第１主面Ｔ１及び支持シート２の第２主面Ｓ２側に位置する第２主面Ｔ２を有する基材シート２１と、基材シート２１の第１主面Ｔ１に設けられた装飾層２２とを有する。

支持シート２は、基材シート２１の第１主面Ｔ１に装飾層２２を形成することにより製造することができる。基材シート２１の第１主面Ｔ１に装飾層２２を形成する前に、基材シート２１の第１主面Ｔ１に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理等の処理を施してもよい。これにより、装飾層２２の密着性を高めることができる。

装飾層２２は、例えば、着色層、絵柄層又はこれらの組み合わせである。

着色層は、例えば、基材シート２１の第１主面Ｔ１の全面に形成されたベタ層である。ベタ層の形成方法としては、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、リップコート法、コンマコート法、キスコート法、フローコート法、ディップコート法等のコーティング法が挙げられる。

絵柄層は、例えば、印刷法により基材シート２１の第１主面Ｔ１の一部又は全体或いは着色層の表面の一部又は全体に形成された印刷層である。絵柄層の形成に使用される印刷法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。

装飾層２２の形成に使用されるインキは、例えば、溶剤又は分散媒と、着色剤、バインダー樹脂等の成分との混合物である。インキは、その他の成分として、着色剤、体質顔料、安定剤、可塑剤、触媒、硬化剤等を含んでもよい。インキは、シートのＶＯＣ（揮発性有機化合物）を低減する観点から、水性組成物であってもよい。

インキに含まれる着色剤としては、例えば、カーボンブラック、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の無機顔料；キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の有機顔料又は染料；アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料；二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢（パール）顔料等が挙げられる。着色剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

インキに含まれるバインダー樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル共重合体樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ニトロセルロース樹脂（硝化綿）、酢酸セルロース樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

インキに含まれる溶剤又は分散媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の石油系有機溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−２−メトキシエチル、酢酸−２−エトキシエチル等のエステル系有機溶剤；メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール系有機溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系有機溶剤；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤；ジクロロメタン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系有機溶剤；水等の無機溶剤等が挙げられる。溶剤又は分散媒は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

装飾層２２は、手描き法、墨流し法、写真法、転写法、レーザービーム描画法、電子ビーム描画法等の方法により形成してもよい。また、装飾層２２がアルミニウム、クロム、金、銀、銅等の金属層（金属薄膜）である場合、蒸着法、スパッタリング法、エッチング法等の方法により装飾層２２を形成することができる。

装飾層２２の厚みは、製品特性に応じて適宜調整することができるが、インキ塗工時の厚みは、例えば１〜２００μｍ程度であり、乾燥後の厚みは、例えば０．１〜２０μｍ程度である。

工程（２）
工程（２）では、図２（ｂ）に示すように、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に第１層３を形成する。これにより、支持シート２と、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に形成された第１層３とを備える中間体Ｍ１が形成される。

第１層３を形成するための樹脂組成物（塗工液）としては、例えば、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱可塑性樹脂組成物等を使用することができる。熱硬化性樹脂組成物を使用する場合、例えば、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に熱硬化性樹脂組成物を所定の模様状に印刷し、加熱して硬化させることにより、第１層３を形成することができる。電離放射線硬化性樹脂組成物を使用する場合、例えば、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に電離放射線硬化性樹脂組成物を所定の模様状に印刷し、電離放射線を照射して硬化させることにより、第１層３を形成することができる。熱可塑性樹脂組成物を使用する場合、例えば、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に熱可塑性樹脂組成物を所定の模様状に印刷して乾燥させることにより、第１層３を形成することができる。第１層３の形成に使用される印刷法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。第１層３を形成するための樹脂組成物は印刷法以外の方法で支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に塗布してもよく、樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアコート法等の塗布法が挙げられる。

第１層３を形成するための樹脂組成物がシリコーン系離型剤（シリコーンオイル）を含む場合、シリコーン系離型剤は、樹脂組成物の硬化時に、第１層３の表面に配向するので、第１層３に離型性が付与される。これにより、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する際、第１層３を被覆する部分ＣＬ１の剥離性を向上させることができる。

第１層３を形成するための樹脂組成物（塗工液）としては、電離放射線硬化性樹脂を使用することが好ましい。この場合、第１層３は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、工程（２）は、（２−１）支持シート２の第１主面Ｓ１の一部を、電離放射線硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、（２−２）電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化樹脂層を第１層３として形成する工程を含む。

電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させるための電離放射線として紫外線を使用する場合には、紫外線源として、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を使用することができる。紫外線の波長は、例えば、１９０〜３８０ｎｍ程度である。電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させるための電離放射線として電子線を使用する場合には、電子線源として、例えば、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の電子線加速器を使用することができる。電子線のエネルギーは、好ましくは１００〜１０００ｋｅＶ程度、さらに好ましくは１００〜３００ｋｅＶ程度である。電子線の照射量は、好ましくは２〜１５Ｍｒａｄ程度である。

第１層３を形成するための塗工液は、体質顔料を含むことが好ましい。これにより、塗工液にチキソトロピー性を付与することができ、版を用いて塗工液を印刷する際に、塗工液の模様形状を維持させることができる。体質顔料としては、例えば、シリカ、タルク、クレー、硫酸バリウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。これらのうち、材料設計の自由度が高く、意匠性、白さ及びインキとしての塗工安定性に優れた材料であるシリカが好ましく、特に微粉末のシリカが好ましい。

塗工液における体質顔料の含有量は、塗工液に含まれる樹脂１００質量部あたり、通常０．１〜２０質量部程度、好ましくは０．５〜１５質量部程度、さらに好ましくは２〜１５質量部程度であり、さらに一層好ましくは５〜１５質量部程度である。体質顔料の含有量を上記範囲とすることにより、塗工液に十分なチキソトロピー性を付与することができるとともに、隆起形状及び微細凹凸面の発現を付与する効果が得られる。

塗工液は、無色であってもよいし、着色されていてもよい。着色する場合には、装飾層で使用する着色剤と同様のものを使用することができる。

塗工液は、粘度を調整する目的で溶媒を含んでもよい。溶媒としては、水；トルエン、キシレン等の炭化水素化合物；メタノール、エタノール、メチルグリコール等のアルコール化合物；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物；ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル化合物；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；テロラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化合物；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。塗工液中の溶媒の量は、塗工液の粘度に応じて適宜設定することができる。

塗工液には、望まれる物性に応じて、公知の添加剤を適宜配合することができる。添加剤として、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、熱ラジカル発生剤、アルミキレート剤等が挙げられる。

第１層３は、支持シート２の第１主面Ｓ１に所定のパターンで形成することが好ましい。第１層３のパターンは、化粧板１Ａ表面において凹部又は低光沢(艷消)領域となる領域に対応することが好ましい。第１層３のパターンとしては、例えば、木目板の導管部、石板表面凹凸、布表面テクスチャア、梨地、砂目、ヘアライン、万線条溝、文字、記号、幾何学模様等が挙げられる。

第１層３の厚みは特に限定されず、塗工時の厚みは、例えば１〜１００μｍ程度、乾燥後の厚みは、例えば０．１〜２０μｍ程度である。

工程（３）
例えば、被覆層ＣＬが、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である場合、工程（３）は、（３−１）支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を、熱硬化性樹脂及びシリコーン系離型剤を含む熱硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、（３−２）熱硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化樹脂層を被覆層ＣＬとして形成する工程を含む。

例えば、基材シート２１が多孔質シートであり、被覆層ＣＬが、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である場合、工程（３）は、（３−１）支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を、熱硬化性樹脂及びシリコーン系離型剤を含む熱硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、（３−２）熱硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化樹脂層を被覆層ＣＬとして形成する工程を含み、工程（３−１）において、多孔質シートに前記熱硬化性樹脂組成物を含浸させ、工程（３−２）において、前記多孔質シートに含浸させた前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。

工程（３）では、まず、図２（ｃ）に示すように、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部（すなわち、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち第１層３が形成されていない領域）及び第１層３の少なくとも一部を、第２層４を形成するための樹脂組成物（塗工液）で被覆し、必要に応じて乾燥する。これにより、支持シート２と、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に形成された第１層３と、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆する樹脂組成物層ＰＣとを備える中間体Ｍ２が形成される。

第２層４を形成するための樹脂組成物（塗工液）としては、例えば、シリコーン系離型剤（シリコーンオイル）を含む熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂組成物等を使用することができる。第１層３を形成するための樹脂組成物として電離放射線硬化性樹脂を使用する場合、第２層４を形成するための樹脂組成物として、シリコーン系離型剤（シリコーンオイル）を含む熱硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。

支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を樹脂組成物で被覆する際、樹脂組成物は、例えば、支持シート２の第１主面Ｓ１側から供給される。基材シート２１として多孔質シートが使用される場合、供給された樹脂組成物のうち、一部は基材シート２１に含浸し、多孔質シートに含浸されない残部は、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆する。なお、樹脂組成物は、第１層３には含浸されず、第１層３を被覆する。樹脂組成物の基材シート２１への含浸を促進するために、支持シート２の第１主面Ｓ１側からの樹脂組成物の供給に加えて、支持シート２の第２主面Ｓ２側からの樹脂組成物の供給を行ってもよい。基材シート２１として多孔質シートが使用される場合、支持シート２の第２主面Ｓ２側からの樹脂組成物の供給のみを行ってもよい。支持シート２の第２主面Ｓ２側からの樹脂組成物の供給のみが行われる場合も同様に、供給された樹脂組成物のうち、一部は、基材シート２１に含浸し、多孔質シートに含浸されない残部は、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆する。樹脂組成物の供給方法としては、例えば、樹脂組成物への浸漬；キスコーター、コンマコーター等のコーターによる塗布；スプレー装置、シャワー装置等による吹き付け等が挙げられる。

なお、樹脂組成物は第１層３の少なくとも一部を被覆していればよく、例えば、第１層３が占める全面積（支持シート２の第１主面Ｓ１のうち第１層３が設けられている領域の面積）の３０％以上が樹脂組成物により被覆されていればよい。第１層３の全面積における樹脂組成物の被覆割合は、５０〜１００％程度であることが好ましい。

樹脂組成物層ＰＣの厚みは特に限定されず、支持シート２と樹脂組成物層ＰＣとの厚みの合計は、塗工時では、例えば５０〜５００μｍ程度であり、乾燥後では、例えば５０〜３００μｍ程度である。

多孔質シートの空隙に充填される樹脂組成物の充填率は、化粧板１Ａに求められる性能、多孔質シートの空隙率等に応じて適宜調整することができる。樹脂組成物の充填率は、好ましくは３０〜２００％程度、さらに好ましくは５０〜１５０％程度である。なお、樹脂組成物の充填率は、下記式により算出される。
充填率（％）＝[（樹脂組成物を含浸させた後の多孔質シートの重量−樹脂組成物を含浸させる前の多孔質シートの重量）／樹脂組成物を含浸させる前の多孔質シートの重量]×１００

樹脂組成物層ＰＣを形成した後、硬化する前に、必要であれば、樹脂組成物層ＰＣの表面の光沢を調整してもよい。例えば、樹脂組成物層ＰＣ上に光沢調整した賦型シートを積層した状態で硬化する方法、樹脂組成物層ＰＣ上にエンボス型板（テクスチャーを付けた鏡面板）を設置して硬化する方法等により、樹脂組成物層ＰＣの表面の光沢を調整することができる。その後、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離することにより、化粧板１Ａの表面に賦型による細かな凹凸によって光沢を調整した部分と、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離することで得られる深いマット意匠部とを備えた立体的で深みのある意匠の化粧板１Ａを得ることができる。

熱硬化性樹脂組成物を使用する場合、樹脂組成物層ＰＣを加熱して硬化させることにより、硬化樹脂層が被覆層ＣＬとして形成される。電離放射線硬化性樹脂組成物を使用する場合、樹脂組成物層ＰＣに電離放射線を照射して硬化させることにより、硬化樹脂層が被覆層ＣＬとして形成される。

第２層４を形成するための樹脂組成物に含まれるシリコーン系離型剤（シリコーンオイル）は、樹脂組成物の硬化時に、第２層４の表面に配向するので、第２層４に第１層３からの離型性が付与される。これにより、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する際、第１層３を被覆する部分ＣＬ１の剥離性を向上させることができる。シリコーン系離型剤が非反応性シリコーンオイルであると、シリコーン系離型剤が第２層４の表面に配向しやすい。

第２層４の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物（例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等）を含む場合、シリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンオイルを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンオイルは、水溶性、水分散性等の特性を有するので、シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンオイルであると、シリコーン系離型剤が水溶性熱可塑性樹脂と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。また、未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和したシリコーン系離型剤により、水溶性熱硬化性樹脂の硬化が阻害され、熱硬化性樹脂の硬化物の強度を低下させることが予想される。熱硬化性樹脂の硬化物の強度の低下は、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する際、第１層３を被覆する部分ＣＬ１の剥離性の向上に寄与すると考えられる。熱硬化性樹脂組成物は、ポリエーテル変性シリコーンオイル以外の非反応性シリコーンオイルを含んでいてもよい。ポリエーテル変性シリコーンオイル以外の非反応性シリコーンは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

第２層４の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物（例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等）を含む場合、シリコーン系離型剤として、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するシリコーン系離型剤（特に、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するポリエーテル変性シリコーンオイル）を使用することが好ましい。シリコーン系離型剤のＨＬＢ値は、さらに好ましくは１０以上１５以下、さらに一層好ましくは１２以上１４以下である。ＨＬＢ値が高いほど、シリコーンオイル系離型剤が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止することができるが、ＨＬＢ値が高すぎると、シリコーン系離型剤の離型性が低下するおそれがある。シリコーン系離型剤のＨＬＢ値が上記範囲であると、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。また、未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和したシリコーン系離型剤により、未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物の硬化が阻害され、熱硬化性樹脂の硬化物の強度を低下させることが予想される。熱硬化性樹脂の硬化物の強度の低下は、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する際、第１層３を被覆する部分ＣＬ１の剥離性の向上に寄与すると考えられる。

シリコーン系離型剤（シリコーンオイル）の使用量は、第２層４を形成するための樹脂組成物に含まれる樹脂１００質量部あたり、通常０．１〜５０質量部程度、好ましくは０．５〜２０質量部程度、さらに好ましくは３〜２０質量部程度、さらに一層好ましくは３〜１０質量部程度である。シリコーン系離型剤（シリコーンオイル）の使用量が上記範囲であると、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する際、第１層３を被覆する部分ＣＬ１の剥離性を向上させることができる。

第２層４を形成するための樹脂組成物として、シリコーン系離型剤（シリコーンオイル）を含む熱硬化性樹脂組成物を使用する場合、樹脂組成物層ＰＣの硬化は以下のように行うことができる。

まず、図２（ｄ）に示すように、樹脂組成物層ＰＣに剥離フィルムＰＦを積層するとともに、支持シート２の第２主面Ｓ２に補強シートＰＰを積層する。これにより、支持シート２と、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に形成された第１層３と、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆する樹脂組成物層ＰＣと、樹脂組成物層ＰＣに積層された剥離フィルムＰＦと、支持シート２の第２主面Ｓ２に積層された補強シートＰＰとを備える中間体Ｍ３が形成される。樹脂組成物層ＰＣへの剥離フィルムＰＦの積層は、支持シート２の第２主面Ｓ２への補強シートＰＰの積層の前、後、同時のいずれの時点で行ってもよい。

剥離フィルムＰＦとしては、例えば、易接着性樹脂フィルムを使用することができる。易接着性樹脂フィルムとしては、例えば、熱可塑性樹脂フィルム等が挙げられ、熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂；ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂等のフィルムの単体、又は、これらのフィルムの積層体が挙げられる。

易接着性樹脂フィルムの表面には、易接着性樹脂の塗布によって易接着層が形成されていてもよい。易接着層の形成前に、易接着層の接着性を向上させるために、易接着性樹脂フィルムの表面にコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理等の処理を施してもよい。

易接着層（プライマー層、アンカー層と呼ばれることもある）に含まれる樹脂としては、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン等が挙げられる。

剥離フィルムＰＦとしては、剥離対象である樹脂皮膜（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１）との剥離重さが調整された剥離フィルムを使用することが好ましい。例えば、メラミン樹脂の熱硬化皮膜の場合には、剥離重さを０．１〜１０Ｎ/インチに調整することが好ましい。剥離重さが０．１未満ではメラミン樹脂の熱硬化皮膜を剥離することが難しく、剥離重さが１０Ｎ/インチを超えると剥離フィルムが破断したり、剥離対象である樹脂皮膜以外の樹脂被膜（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１以外の部分）も剥離されたりおそれがある。剥離重さが０．１〜１０Ｎ/インチに調整された剥離フィルムを使用することにより、剥離対象である樹脂皮膜（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１）を簡単に除去することができる。

剥離重さは、株式会社オリエンテック製テンシロン万能材料試験機ＲＴＣ−１２５０Ａを使用して測定される値であり、具体的な測定方法は次の通りである。後述する中間体Ｍ４において、剥離フィルムＰＦに１インチの巾に切り込みを入れ、剥離フィルムＰＦの一部を１インチの巾で剥がし、図８のように剥離フィルムＰＦの一部を剥がした中間体Ｍ４の一端（下部）を試験機に固定する。１８０°剥がした剥離フィルムＰＦを上部の方向（矢印方向）に１００ｍｍ／分のスピードで剥離したときの重さを測定し、これを「剥離重さ」とする。

剥離重さが０．１〜１０Ｎ/インチに調整された剥離フィルムとしては、例えば、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成された硬化樹脂層とを有するフィルムを使用することができる。このフィルムは、硬化樹脂層側の面が樹脂組成物層ＰＣと接するように使用されることが好ましい。基材フィルムは特に限定されず、例えば、紙、不織布、熱可塑性樹脂シート等が挙げられる。基体フィルムは、熱可塑性樹脂シートが好ましく、耐熱性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂シートが特に好ましい。基材フィルムの厚みは特に限定されず、通常１０〜２００μｍ程度である。また、硬化樹脂層は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化により形成された硬化樹脂層であることが好ましい。これにより、メラミン樹脂の熱硬化皮膜との剥離重さを０．１〜１０Ｎ／インチに調整することが容易となる。電離放射線硬化性樹脂組成物については、上記の説明が適用される。電離放射線硬化性樹脂組成物は、剥離重さを調整する等の目的で、適宜、体質顔料等の成分を含んでいてもよい。硬化性樹脂層の厚みとしては、通常１〜３０μｍ程度である。

補強シートＰＰとしては、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートを使用することができる。熱硬化性樹脂含浸シートは、多孔質シートと、多孔質シートに含浸した熱硬化性樹脂とを有する。熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂（２液硬化性ポリウレタンも含む）、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂含浸シートは、例えば、化粧板のコア紙として汎用されているフェノール樹脂含浸紙等が挙げられる。フェノール樹脂含浸紙とは、一般に、コア紙として坪量１５０〜２５０ｇ／ｍ^２程度のクラフト紙にフェノール樹脂を含浸率４５〜６０％程度となるように含浸し、１００〜１４０℃程度で乾燥させることにより製造された紙である。フェノール樹脂含浸紙には、市販品を使用することができる。フェノール樹脂含浸紙を積層する際には、必要に応じて、支持シート２の第２主面Ｓ２にコロナ放電処理を施したり、プライマー層を形成したりしてもよい。

次いで、図２（ｅ）に示すように、中間体Ｍ３を２枚の鏡面加工金属板Ｐ１，Ｐ２の間に挟み、加圧及び加熱し、樹脂組成物層ＰＣを硬化させる。これにより、硬化樹脂層が被覆層ＣＬとして形成される。基材シート２１として多孔質シートが使用される場合、多孔質シートの空隙に含浸した樹脂組成物も、この段階で硬化する。補強シートＰＰとして熱硬化性樹脂含浸シートが使用される場合、熱硬化性樹脂含浸シートの熱硬化性樹脂も、この段階で硬化し、補強層６が形成される。剥離フィルムＰＦは、この段階で被覆層ＣＬと接着する。

加熱温度、加熱時間は、使用する熱硬化性樹脂の種類等により適宜調整することができる。例えば、イソシアネート硬化型不飽和ポリエステル樹脂又はウレタン硬化型ポリウレタン樹脂の場合は４０〜６０℃程度で１〜５日間程度であり、ポリシロキサン樹脂の場合は８０〜１５０℃程度で１〜３０分間程度であり、メラミン樹脂の場合は９０〜１６０℃程度で３０秒間〜３０分間程度である。

鏡面加工金属板Ｐ１，Ｐ２によって加えられる圧力は、例えば５〜１００ｋｇ／ｃｍ^２程度である。

これにより、図３（ｆ）に示すように、支持シート２と、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に形成された第１層３と、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆する被覆層ＣＬと、被覆層ＣＬ上に積層された剥離フィルムＰＦと、支持シート２の第２主面Ｓ２に積層された補強層６とを備える中間体Ｍ４が形成される。

工程（４）
工程（４）では、図３（ｇ）に示すように、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離して、支持シート２の第１主面の残部に第２層を形成する。被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１は剥離されやすく、被覆層ＣＬの残部ＣＬ２は剥離されにくいので、第１層３を被覆する部分ＣＬ１は剥離フィルムＰＦに接着したまま、剥離フィルムＰＦとともに剥離される一方、被覆層ＣＬの残部ＣＬ２は、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部に残り、第２層４を形成する。被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１が除去されることにより、第２層４の開口部４０が形成されるとともに、第１層３の少なくとも一部が、第２層４の開口部４０を通じて露出し、化粧板１Ａの表面の凹部５が形成される。これにより、図３（ｈ）に示すように、化粧板１Ａが製造される。

第２層４に含まれるシリコーン系離型剤は、第２層４に離型性を付与するので、工程（４）において、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離しやすい。第１層３がシリコーン系離型剤を含む場合は、この効果が大きくなる。

被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する方法は、剥離フィルムを使用した方法に限定されない。例えば、被覆層ＣＬの表面に、マスキングフィルム等の保護フィルム、セロハンテープ、ガムテープ等の粘着テープ、賦型シート等を貼り付け、その後に該フィルムを剥がすと同時に剥離させる方法；被覆層ＣＬの表面をバフ研磨、鑢、綿布、たわし、メラミンスポンジ、スチールウール、高圧洗浄機、粘着テープ、粘着ゴムローラー、粘着ゴムシート等で剥離する方法；被覆層ＣＬに、予め溶剤に溶解させた塩化ゴム系樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂液を塗工し、乾燥した後、剥離する方法；被覆層ＣＬに、ホットメルト接着剤を塗工した後、低温下で剥離する方法；被覆層ＣＬに、樹脂板又は金属板を貼り付けた後、剥離する方法等が挙げられる。

粘着テープ、マスキングテープ、賦型シート等のシートを用いて、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離する場合、剥離対象である樹脂皮膜（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１）との剥離重さが調整されたシートを使用することが好ましい。例えば、メラミン樹脂の熱硬化皮膜の場合には、剥離重さを０．１〜１０Ｎ/インチに調整することが好ましい。剥離重さが０．１未満ではメラミン樹脂の熱硬化皮膜を剥離することが難しく、剥離重さが１０Ｎ/インチを超えるとシートがちぎれたり、剥離対象である樹脂皮膜以外の樹脂被膜（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１以外の部分）も剥離されたりおそれがある。剥離重さが０．１〜１０Ｎ/インチに調整されたシートを使用することにより、剥離対象である樹脂皮膜（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１）を簡単に除去することができる。

剥離重さを０．１〜１０Ｎ/インチに調整した賦型シートの粘着テープ、マスキングテープ、賦型シート等のシートは、被覆層ＣＬの前駆体である樹脂組成物層ＰＣ上に積層してもよい。

上記方法により製造される化粧板１Ａは、表面に凹凸形状を有する。したがって、化粧板１Ａは、凹凸形状に基づいて、凹凸形状の意匠感を表現することができる。特に、上記製造方法の結果物である化粧板は、凹部５の表面（第２層４の開口部４０から露出する第１層３の表面を含む）が相対的に粗面となり、入射光に対して拡散反射性を有する低光沢領域を構成するという特徴とともに、凸部を含む凹部５以外の領域の表面が相対的に鏡面となり、入射光に対して鏡面反射性を有する高光沢領域を構成するという特徴を有する。したがって、化粧板１Ａは、凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感も表現することができる。例えば、化粧板１Ａは、凹部がマット感を呈し、凸部がグロス感を呈するようなグロスマット調の凹凸形状を含む凹凸形状による外観を発現することができる。特に、凹凸形状を、平面視において装飾層２２の絵柄模様と同調させることにより、化粧板１Ａは、優れた凹凸形状の意匠感を表現することができる。例えば、装飾層２２が木目模様を形成する場合、凹部を、木目模様の導管部と、両者の平面視における位置が一致するように、位置同調させることにより、化粧板１Ａは、本物の木目模様と同様のグロスマット調の意匠感（質感）を含む外観を表現することができる。凹凸の差（第１層３の厚みと第２層４の厚みとの差）を大きくすることにより、凹凸形状の意匠感をより鮮明とすることができる。

［第２実施形態］
以下、図面に基づいて、本発明の第２実施形態に係る化粧板について説明する。図４は、本発明の第２実施形態に係る化粧板の構成を模式的に示す断面図である。

図４に示すように、本発明の第２実施形態に係る化粧板１Ｂは、第２層４上に設けられた耐摩耗層７Ａを備える点で、化粧板１Ａと異なる。それ以外の点は、化粧板１Ａと同様であるので、説明を省略する。

耐摩耗層
耐摩耗層７Ａの厚みは特に限定されず、耐摩耗性インキの塗工時の厚みは、例えば１０〜１００μｍ程度、乾燥後の厚みは、例えば２〜２０μｍ程度である。

耐摩耗層７Ａ及び第２層４の積層体と第１層３との表面高低差は、好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは２〜３０μｍである。表面高低差が上記範囲内であると、化粧板１Ｂが表現する凹凸形状の意匠がより鮮明となる。

耐摩耗層７Ａ及び第２層４の積層体と第１層３との表面高低差は、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器ＳＥ−３０Ｋを使用して、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２０１３に規定された方法に従って測定する。具体的には、化粧板表面のうち、第１層３が形成されていない領域（耐摩耗層７Ａ及び第２層４の積層体が形成されている領域）と、第１層３が形成されている領域（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１が剥離された部分）との高低差を測定する。この際、表面の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を表面高低差のパラメ−タ−として使用し、１０箇所の平均値を「表面高低差」とする。

耐摩耗層７Ａの形成には、例えば、耐摩耗性インキを使用することができる。耐摩耗性インキに含まれる樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の硬化性樹脂、熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの樹脂に関する説明は上記と同様であるので省略する。耐摩耗性インキに含まれる樹脂は、耐摩耗層の形成が容易な点で、ポリウレタン樹脂（２液硬化型ポリウレタンも含む）が好ましい。耐摩耗性インキには、架橋剤、硬化剤、重合促進剤等を添加することができる。

耐摩耗性インキには、耐摩耗性を付与する目的で、フィラーを含有させることが好ましい。フィラーは特に限定されず、無機フィラー又は有機フィラーを使用することができる。

無機フィラーとしては、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、シリカ、カオリン、クレー、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、水酸化マグネシウム、タルク、マイカ、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、焼成タルク、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、燐酸マグネシウム等が挙げられる。

有機フィラーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；フッ素系樹脂；スチレン系樹脂；エポキシ系樹脂；メラミン系樹脂；尿素系樹脂；アクリル系樹脂；フェノール系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリエステル系樹脂等が挙げられる。また、これらの樹脂の共重合体を使用することもできる。

フィラーとしては、耐摩耗性に優れる点で、無機フィラーを使用することが好ましく、特に、アルミナ、シリカ、ジルコニアを使用することがより好ましい。フィラーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

フィラーの形状は特に限定されず、多面体球状、球状、多面体形状等のいずれの形状であってもよい。

フィラーの平均粒子径は、好ましくは３〜５０μｍ、さらに好ましくは５〜３０μｍである。フィラーの平均粒子径を上記範囲とすることで、耐摩耗層の耐摩耗性がより優れ、第２層４の表面の平滑性を損ねないので、第２層４の表面がグロスの意匠感を表現し易くなる。

なお、フィラーの平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される値である。

フィラーのモース硬度の好ましい下限は４であり、好ましい上限は９である。さらに好ましい下限は７である。フィラーとして、モース硬度が上記範囲のものを使用することにより、化粧板１Ｂが、より優れた耐摩耗性を示すことができる。

なお、フィラーのモース硬度は、モース硬度計により測定される値である。具体的には、モース硬度は、軟らかい鉱物より硬い鉱物に至る１０種の鉱物を箱に収め、軟らかいものから１度、２度、・・・・・１０度として硬度の順位を示したものである。標準鉱物は次の通りである（数字は硬度を示す）。１：カッ石 ２：セッコウ ３：ホウカイ石 ４：ホタル石５：リンカイ石 ６：セイチョウ石 ７：セキエイ ８：トパズ９：コランダム １０：ダイヤモンド
硬さを求める鉱物試料の面を、これらの鉱物で引っ掻いて傷を付けようとするとき、それに抵抗する力（傷が付くか付かないか）により硬さを比較する。例えば、ホウカイ石に傷が付くときは、試料の硬さは３度より大きい。もし、ホタル石で傷が付き、逆にホタル石に傷が付かないときは、この試料の硬さは４度より小さい。このとき、試料の硬さは３乃至４または３．５と示す。互いに多少傷が付くときは、試料の硬さは用いた標準鉱物と同じ順位の硬さを示す。

耐摩耗性インキ中のフィラーの含有量は、耐摩耗性インキを１００質量％として、５〜５０質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。耐摩耗性インキ中のフィラーの含有量を上記範囲に調整することで、耐摩耗層の耐摩耗性がより優れ、第２層４の表面の平滑性を損ねないので、第２層４の表面がグロスの意匠感を表現し易くなる。

耐摩耗性インキは、無色であってもよいし、着色されていてもよい。着色する場合には、後述する絵柄模様層で使用する着色剤と同様のものを使用することができる。

耐摩耗性インキは、粘度を調整する目的で溶媒を含有してもよい。溶媒としては、水；トルエン、キシレン等の炭化水素化合物；メタノール、エタノール、メチルグリコール等のアルコール化合物；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物；ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル化合物；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；テロラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化合物；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。耐摩耗性インキ中の溶媒の量は、インキの粘度に応じて適宜設定することができる。

耐摩耗性インキには、得られる所望物性に応じて、公知の添加剤を配合することができる。添加剤として、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、熱ラジカル発生剤、アルミキレート剤等が挙げられる。

耐摩耗層７Ａは、第２層４の表面に耐摩耗性インキを塗布し、耐摩耗性インキに含まれる樹脂を乾燥及び／又は硬化させることにより形成することができる。耐摩耗性インキの塗布方法としては、例えば、ロールコート法、コンマコート法、カーテンコート法、スクイズコート法、ブレードコート法、グラビアコート法等が挙げられる。

耐摩耗性インキに含まれる樹脂が熱硬化性樹脂である場合、耐摩耗層７Ａは、例えば、化粧板１Ａの製造方法に以下の変更を加えて形成することができる。すなわち、図５に示すように、工程（３−１）の後であって工程（３−２）の前に、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部及び第１層３の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物上に耐摩耗性インキを塗布し、次いで、工程（３−２）において、耐摩耗性インキに含まれる熱硬化性樹脂を硬化させて耐摩耗層７Ａ’を形成する。工程（３−２）の後、化粧板１Ａと同様の工程を経ることにより、耐摩耗層７Ａを形成することができる。工程（４）では、被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ａ’のうち第１層３を被覆する部分を、被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ａ’の残部から剥離して、支持シート２の第１主面の残部に第２層４を形成するとともに、第２層４上に耐摩耗層７Ａを形成する。被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ａ’のうち第１層３を被覆する部分は剥離フィルムＰＦに接着したまま、剥離フィルムＰＦとともに剥離される。一方、被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ａ’の残部は、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部に残り、第２層４及び第２層４上の耐摩耗層７Ａを形成する。被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ａ’のうち第１層３を被覆する部分が除去されることにより、第２層４の開口部４０が形成されるとともに、第１層３の少なくとも一部が、第２層４の開口部４０を通じて露出し、化粧板１Ａの表面の凹部５が形成される。これにより化粧板１Ｂが製造される。

耐摩耗層７Ａ’と剥離フィルムＰＦとの接着力は、被覆層ＣＬと剥離フィルムＰＦとの接着力よりも弱いが、第２層４には、シリコーン系離型剤による離型性が付与されるので、被覆層ＣＬ上に耐摩耗層７Ａ’が形成されている場合であっても、被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１を、剥離フィルムＰＦにより、被覆層ＣＬの残部ＣＬ２から剥離することができる。第１層３もシリコーン系離型剤を含む場合、第１層３にも離型性が付与されるので、第１層３を被覆する部分ＣＬ１の剥離性を向上させることができる。

化粧板１Ｂは、耐摩耗性に優れるとともに、鮮明なグロスマット調の意匠感を含む表面の凹凸形状を表現することができる意匠性の高い化粧板である。化粧板１Ｂは、所定の成形加工等を施し、化粧板１Ａと同様、各種用途に用いることができる。

［第３実施形態］
以下、図面に基づいて、本発明の第３実施形態に係る化粧板について説明する。図６は、本発明の第３実施形態に係る化粧板の構成を模式的に示す断面図である。

図６に示すように、本発明の第３実施形態に係る化粧板１Ｃは、支持シート２と第２層４との間に設けられた耐摩耗層７Ｂを備える点で、化粧板１Ａと異なる。それ以外の点は、化粧板１Ａと同様であるので、説明を省略する。

化粧板１Ｃにおいて、第１層３は、支持シート２の第１主面Ｓ１の一部に設けられており、耐摩耗層７Ｂは、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部（すなわち、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち、第１層３が設けられていない領域）に設けられており、第２層４は、耐摩耗層７Ｂ上に設けられている。第１層３の一部は、耐摩耗層７Ｂで被覆されていてもよい。特に、第１層３が、装飾層２２が形成する木目模様の導管部と平面視で位置同調する場合、第１層３のうち導管部の周縁部に相当する部分は、耐摩耗層７Ｂで被覆されていてもよい。化粧板１Ｃを平面視したとき、第１層３のうち、第２層４の開口部４０から露出し、凹部５の底部を形成している部分の面積は、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち、第１層３が設けられる領域の面積の５０％以上であることが好ましい。これにより、化粧板１Ｃは、凹凸形状の意匠感を表現することができる。

耐摩耗層７Ｂの厚みは特に限定されず、耐摩耗性インキの塗工時の厚みは、例えば１０〜１００μｍ程度、乾燥後の厚みは、例えば２〜２０μｍ程度である。

耐摩耗層７Ｂ及び第２層４の積層体と第１層３との表面高低差は、好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは２〜３０μｍである。表面高低差が上記範囲内であると、化粧板１Ｃが表現する凹凸形状の意匠がより鮮明となる。

耐摩耗層７Ｂ及び第２層４の積層体と第１層３との表面高低差は、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器ＳＥ−３０Ｋを使用して、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２０１３に規定された方法に従って測定する。具体的には、化粧板表面のうち、第１層３が形成されていない領域（耐摩耗層７Ｂ及び第２層４の積層体が形成されている領域）と、第１層３が形成されている領域（被覆層ＣＬのうち第１層３を被覆する部分ＣＬ１が剥離された部分）との高低差を測定する。この際、表面の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を表面高低差のパラメ−タ−として使用し、１０箇所の平均値を「表面高低差」とする。

耐摩耗層７Ｂの形成には、例えば、耐摩耗性インキを使用することができる。耐摩耗性インキに関する説明は、第２実施形態と同様であるので、省略する。但し、耐摩耗層７Ｂの形成に使用される耐摩耗性インキは、第２層４の形成に使用される樹脂組成物（例えば、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物）が含浸し易い樹脂を含むことが好ましい。これにより、耐摩耗層７Ｂが、より優れた耐摩耗性を発揮することができる。

耐摩耗層７Ｂは、例えば、工程（２）の後であって工程（３）の前に、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部（すなわち、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち第１層３が形成されていない領域）を、耐摩耗層７Ｂを形成するための耐摩耗性インキで被覆し、耐摩耗性インキに含まれる樹脂を乾燥及び／又は硬化させることにより形成することができる。

耐摩耗性インキに含まれる樹脂が熱硬化性樹脂である場合、耐摩耗層７Ｂは、例えば、化粧板１Ａの製造方法に以下の変更を加えて形成することができる。すなわち、図７に示すように、工程（２）の後であって工程（３−１）の前に、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部（すなわち、支持シート２の第１主面Ｓ１のうち第１層３が形成されていない領域）及び第１層３を、耐摩耗層７Ｂを形成するための耐摩耗性インキで被覆し、必要に応じて乾燥し、耐摩耗性インキ層を形成し、次いで、工程（３−１）において、耐摩耗性インキ層を、第２層４を形成するための樹脂組成物（塗工液）で被覆し、必要に応じて乾燥し、樹脂組成物層ＰＣを形成し、次いで、工程（３−２）において、耐摩耗性インキに含まれる熱硬化性樹脂を硬化させて耐摩耗層７Ｂ’を形成する。耐摩耗性インキ層７Ｂは第１層３の一部を被覆するように形成されてもよく、この場合、樹脂組成物層ＰＣは、耐摩耗性インキ層７Ｂで被覆されていない第１層３の一部を被覆するように形成されてもよい。耐摩耗性インキ層を、第２層４を形成するための樹脂組成物（塗工液）で被覆する際、第２層４の形成に使用される樹脂組成物が、耐摩耗性インキ層に含浸することが好ましい。工程（３−２）の後、化粧板１Ａと同様の工程を経ることにより、耐摩耗層７Ｂを形成することができる。工程（４）では、被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ｂ’のうち第１層３を被覆する部分を、被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ｂ’の残部から剥離して、支持シート２の第１主面の残部に耐摩耗層７Ｂを形成するとともに、耐摩耗層７Ｂ上に第２層４を形成する。被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ｂ’のうち第１層３を被覆する部分は剥離フィルムＰＦに接着したまま、剥離フィルムＰＦとともに剥離される。一方、被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ｂ’の残部は、支持シート２の第１主面Ｓ１の残部に残り、耐摩耗層７Ｂ及び耐摩耗層７Ｂ上の第２層４を形成する。被覆層ＣＬ及び耐摩耗層７Ｂ’のうち第１層３を被覆する部分が除去されることにより、第２層４の開口部４０が形成されるとともに、第１層３の少なくとも一部が、第２層４の開口部４０を通じて露出し、化粧板１Ｃの表面の凹部５が形成される。これにより化粧板１Ｃが製造される。

化粧板１Ｃは、耐摩耗性に優れるとともに、鮮明なグロスマット調の意匠感を含む表面の凹凸形状を表現することができる意匠性の高い化粧板である。化粧板１Ｃは、所定の成形加工等を施し、化粧板１Ａと同様、各種用途に用いることができる。

参考例１
（１）離型インキの調製
電離放射線硬化性モノマー（東亞合成株式会社製、アロニックスＭ４００）６０質量部、反応性シリコーン（信越化学株式会社製、Ｘ−２２−１６４Ｂ）０．６質量部、及びメチルエチルケトン（丸善石油化学株式会社）４０質量部を、プロセスホモジナイザーＰＨ９１（株式会社エスエムテー製）を用いて、回転数２０００ｒｐｍで１時間撹拌して離型インキを調製した。

（２）化粧板の製造
原紙として坪量１００ｇ／ｍ^２の白チタン紙（ＫＪ特殊紙株式会社製、ＫＷ−１００２Ｐ）を使用し、絵柄印刷インキ（ＤＩＣグラフィックス株式会社製、オーデＳＰＴＩ）を用いて絵柄を印刷した後、上記（１）で製造した離型インキを用いて木目柄を印刷し、１６５ｋＶの加速電圧にて５Ｍｒａｄの電子線照射を行い、離型層を形成して化粧シートを得た。離型層は、木目柄であるため、厚みが厚い箇所と薄い箇所とが存在しており、離型層の厚みは０．２〜３μｍであった。

次いでメラミンホルムアルデヒド樹脂５０質量部、水４５質量部、及びイソプロピルアルコール５質量部からなる熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物を、含浸用の含浸装置を用いて該未硬化組成物が１００ｇ／ｍ^２（乾燥時）の割合となるように含浸し、乾燥することにより含浸化粧シートを得た。この含浸化粧シートを、クラフト紙にフェノール樹脂からなる樹脂液を含浸した、坪量２４５ｇ／ｍ^２のフェノール樹脂含浸コア紙（太田産業株式会社、太田コア）４枚の上に積層し、積層体を２枚の鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて圧力１００ｋｇ／ｃｍ^２で、成型温度１５０℃で１０分間の条件にて加熱成型し、該未硬化組成物を熱硬化させることによりメラミン樹脂を含有する熱硬化性樹脂層を形成して、高圧メラミン化粧板の成型物を得た。この際、離型層上には、熱硬化した樹脂膜が形成された。

次いで剥離工程として、高圧メラミン化粧板の表面にマスキングテープ（株式会社スミロン製：Ｅ−２０７）を貼付け、その後、貼付けたマスキングテープを剥がして、離型層上に形成された熱硬化した樹脂膜を剥離して、化粧板を製造した。得られた化粧板の熱硬化性樹脂層の厚みは３０μｍであり、離型層と熱硬化性樹脂層との高低差、すなわち、化粧板の表面高低差は５μｍであった。

参考例２〜２１
離型インキの組成を表１のように変更した以外は参考例１と同様にして、化粧板を製造した。

比較例１
木目柄を印刷しなかった以外は参考例１と同様にして、化粧板を製造した。

参考例２２〜３７
離型インキを構成する樹脂として表３に示す樹脂を用い、表４に示すシリカ、表５に示すシリコーンを用いて離型インキの組成を表６及び７のように変更した以外は参考例１と同様にして、化粧板を製造した。

参考例１〜３７及び比較例１の化粧板について、以下の測定方法により意匠感及び表面高低差を評価した。

意匠感
化粧板の表面を目視により観察し、下記の評価基準に基づいて評価した。
◎：グロスマット感が十分に鮮明であり、良好
○：グロスマット感が鮮明であり、良好
△：グロスマット感が鮮明でないが、使用可能
×：グロスマット感が鮮明でなく、使用不可

表面高低差
化粧板の表面高低差を、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器ＳＥ−３０Ｋを使用して、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２０１３に規定された方法に従って測定した。具体的には、化粧板表面の離型層が形成されていない領域（熱硬化性樹脂層が形成されている領域）と離型層が形成されている領域（熱硬化した樹脂膜が剥離した部分）との高低差を測定した。表面の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を表面高低差のパラメ−タ−として用いた。１０箇所の平均値を表１に記載した。

結果を表１、２、６及び７に示す。

参考例３８
（１）離型インキの調製
電離放射線硬化性モノマー（東亞合成株式会社製、アロニックスＭ４００）６０質量部、反応性シリコーン（信越化学株式会社製、Ｘ−２２−１６４Ｂ）０．６質量部、シリカ（富士シリシア化学株式会社製、サイリシア３２０）４．８質量部、及びメチルエチルケトン（丸善石油化学株式会社）４０質量部を、プロセスホモジナイザーＰＨ９１（株式会社エスエムテー製）を用いて、回転数２０００ｒｐｍで１時間撹拌して離型インキを調製した。

（２）耐摩耗性インキの調製
ウレタン樹脂固形分が３０質量％であるウレタン樹脂組成物（第一工業製薬株式会社製、スーパーフレックス１２６）３０質量％、及び、無機フィラーとして平均粒子径２０．３μｍの多面球状体のアルミナ（住友化学工業社製、スミコランダムＡＡ１８）１５質量％を、水３５質量％とエタノール２０質量％との混合溶媒に添加して、プロセスホモジナイザーＰＨ９１（株式会社エスエムテー製）を用いて、回転数２０００ｒｐｍで２０分間撹拌し、耐摩耗性インキを調製した。アルミナのモース硬度は９であった。

（３）化粧板の製造
原紙として坪量１００ｇ／ｍ^２の白チタン紙（ＫＪ特殊紙株式会社製、ＫＷ−１００２Ｐ）を使用し、絵柄印刷インキ（ＤＩＣグラフィックス株式会社製、オーデＳＰＴＩ）を用いて絵柄を印刷した後、上記（１）で製造した離型インキを用いて木目柄を印刷し、１６５ｋＶの加速電圧にて５Ｍｒａｄの電子線照射を行い、離型層を形成した。離型層は、木目柄であるため、厚みが厚い箇所と薄い箇所とが存在しており、離型層の厚みは０．２〜３μｍであった。

次いで、上記（２）で調製した耐摩耗性インキを塗布し、１００℃で３分間乾燥して耐摩耗層を形成して化粧シートを得た。このときの耐摩耗層の乾燥時の塗布量は１２ｇ／ｍ^２であった。この際、離型層上には、耐摩耗性被膜が形成された。

次いで、メラミンホルムアルデヒド樹脂５０質量部、水４５質量部、及びイソプロピルアルコール５質量部からなる熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物を、耐摩耗層の上から含浸用の含浸装置を用いて該未硬化組成物が１００ｇ／ｍ^２（乾燥時）の割合となるように含浸し、乾燥することにより含浸化粧シートを得た。この含浸化粧シートを、クラフト紙にフェノール樹脂からなる樹脂液を含浸した、坪量２４５ｇ／ｍ^２のフェノール樹脂含浸コア紙（太田産業株式会社、太田コア）４枚の上に積層し、積層体を２枚の鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて圧力１００ｋｇ／ｃｍ^２で、成型温度１５０℃で１０分間の条件にて加熱成型し、該未硬化組成物を熱硬化させることにより高圧メラミン化粧板の成型物を得た。

次いで剥離工程として、高圧メラミン化粧板の表面にマスキングテープ（株式会社スミロン製：Ｅ−２０７）を貼付け、その後、貼付けたマスキングテープを剥がして、離型層上に形成された、耐摩耗性被膜及び熱硬化した樹脂膜を剥離して、化粧板を製造した。

参考例３９〜４８
耐摩耗性インキの組成、及び乾燥時の塗布量を表８のように変更し、フィラーとして表９に示すフィラーを用いた以外は参考例３８と同様にして、化粧板を製造した。

比較例２
耐摩耗層を形成しなかった以外は参考例３８と同様にして、化粧板を製造した。

参考例３
耐摩耗層を形成せずに調製した含浸化粧シートの上に、メラミン樹脂含浸オーバーレイ紙を積層してオーバーレイ層を形成した。メラミン樹脂含浸オーバーレイ層の調製方法は、以下の通りである。すなわち、オーバーレイ原紙の原料となるα−セルロースパルプ繊維１００質量部に対し、内添薬品として、ポリアミドポリアミンエピクロロヒドリン樹脂、カルボキシメチルセルロース、硫酸バンド、アルミン酸ソーダを用い、坪量が４２ｇ／ｍ^２のオーバーレイ原紙を得た。このオーバーレイ原紙にメラミン樹脂からなる樹脂液を含浸してメラミン樹脂含浸オーバーレイ紙を調製した。樹脂含浸率は１４２質量％であった。それ以外は参考例３８と同様にして、化粧板を製造した。

参考例４９及び５０
離型インキを構成する樹脂として表１０に示す樹脂を用い、表１１に示すシリカ、表１２に示すシリコーンを用いて離型インキの組成を表１３のように変更した以外は参考例３８と同様にして、化粧板を製造した。なお、表１３では、参考のために参考例３８の離型インキの組成も記載している。

参考例３８〜５０、参考例２及び３の化粧板について、以下の測定方法により意匠感及び耐摩耗性を評価した。

意匠感
化粧板の表面を目視により観察し、下記の評価基準に基づいて評価した。
○：グロスマット感が鮮明であり、良好
△：グロスマット感が鮮明でないが、使用可能
×：グロスマット感が鮮明でなく、使用不可

耐摩耗性
ＪＩＳ Ｋ ６９０２；２００７（熱硬化性樹脂高圧化粧板試験方法）Ａ法に準拠した測定方法に基づいて、化粧板の表面における耐摩耗性を測定した、具体的には、ＪＩＳ Ｋ ６９０２；２００７のＡ法に準拠した測定方法により、グロスマットパターンのコーティングが明らかに擦り切れ０．６ｍｍ^２以上の擦り切れ面積となったときの回転数を初期摩耗値（ＩＰ）とし、摩耗区域においてグロスマットパターンの約９５％が擦り切れる時点での回転数を終点摩耗値（ＦＰ） として、式（ＩＰ＋ＦＰ）／２により算出される値（回）により、下記の評価基準に基づいて評価した。
◎：５００回以上であり、非常に良好
○：３００回以上５００回未満であり、良好
△：２００回以上３００回未満であり、使用可能
×：２００回未満であり、高い耐摩耗性が必要な用途に使用不可

結果を表８及び９に示す。

参考例５１
（１）離型インキの製造
電離放射線硬化性モノマー（東亞合成株式会社製、アロニックス（登録商標）Ｍ４００）６０質量部、反応性シリコーン（信越化学株式会社製、Ｘ−２２−１６４Ｂ）０．６質量部、シリカ（富士シリシア化学株式会社製、サイリシア３２０）４．８質量部、及びメチルエチルケトン（丸善石油化学株式会社）４０質量部を、プロセスホモジナイザーＰＨ９１（株式会社エスエムテー製）を用いて、回転数２０００ｒｐｍで１時間撹拌して離型インキを得た。

（２）化粧板の製造
原紙として坪量１００ｇ／ｍ^２の白チタン紙（ＫＪ特殊紙株式会社製、ＫＷ−１００２Ｐ）を使用し、絵柄印刷インキ（ＤＩＣグラフィックス株式会社製、オーデＳＰＴＩ）を用いて絵柄を印刷した後、上記（１）で製造した離型インキを用いて木目柄を印刷し、１６５ｋＶの加速電圧にて５Ｍｒａｄの電子線照射を行って離型層を形成して化粧シートを得た。

次いでメラミンホルムアルデヒド樹脂５０質量部、水４５質量部、及びイソプロピルアルコール５質量部からなる熱硬化性樹脂を、含浸用の含浸装置を用いてメラミン樹脂が１００ｇ／ｍ^２（乾燥時）の割合となるように含浸し、乾燥することにより含浸化粧シートを得た。この含浸化粧シートをフェノール樹脂含浸コア紙（太田産業株式会社製、ＤＬ−２５）４枚の上に積層し、積層体を２枚の鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて圧力１００ｋｇ／ｃｍ^２で、成型温度１５０℃で１０分間の条件にて加熱成型し、高圧メラミン化粧板の成型物を得た。

次いで剥離工程として、高圧メラミン化粧板の表面にマスキングテープ（株式会社スミロン製：Ｅ−２０７）を貼付け、その後、貼付けたマスキングテープを剥がした。

参考例５２
（１）賦型シートの製造
５０μｍ厚のＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００（５０μｍ）の易接着面に、電離放射線硬化性モノマー（東亞合成株式会社製、アロニックス（登録商標）Ｍ３５０）１００質量部、反応性シリコーン（信越化学株式会社製、Ｘ−２２−１６４Ｂ）２質量部、シリカ（富士シリシア化学株式会社製、サイリシア４５０）８質量部、及び酢酸エチル５０質量部を含む賦型シート用塗工インキを、５ｇ／ｍ^２（乾燥時）塗工し、１６５ｋＶの加速電圧にて５Ｍｒａｄの電子線照射を行い、硬化することで賦型シートを得た。

（２）化粧板の製造
参考例１と同様にして製造した含浸化粧シートをフェノール樹脂含浸コア紙（太田産業株式会社製、ＤＬ−２５）４枚の上に積層し、更に含浸化粧シートの上に上記（１）で製造した賦型シートを、賦型シートの印刷面が含浸化粧シートの印刷面と接するように載せた積層体を２枚の鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて圧力１００ｋｇ／ｃｍ^２で、成型温度１５０℃で１０分間の条件にて加熱成型し、鏡面板及び賦型シートを外すことで高圧メラミン化粧板の成型物を得た。

次いで、高圧メラミン化粧板の表面にマスキングテープ（株式会社スミロン製：Ｅ−２０７）を貼付け、貼付けたマスキングテープを剥がすことで、化粧板が得られた。

比較例４
参考例５１の剥離工程を行わない以外は参考例５１と同様にして、比較例４のメラミン化粧板を得た。

比較例５
参考例５１の離型インキの印刷を行わない以外は参考例５１と同様にして、比較例５のメラミン化粧板を得た。

参考例５１及び５２、並びに比較例４及び５の化粧板について、以下のように意匠感及び表面高低差を評価した。また、剥離重さも測定した。

意匠感は、目視により以下の評価基準で判定を行った。
◎：十分な表面テクスチャー及び立体的で深みのあるグロスマット感があり、非常に良好○：十分な表面テクスチャーがあり、良好
×：表面テクスチャーが少なく、使用不可

表面高低差は、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器ＳＥ−３０Ｋを使用し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２０１３に規定された方法に従って測定した。具体的には、化粧板表面の離型層の無い部分（熱硬化した樹脂膜が被覆している部分）と離型層の有る部分（熱硬化した樹脂膜が剥離した部分）との高低差を測定した。表面の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を表面高低差のパラメ−タ−として用いた。１０箇所の平均値を表１４に記載した。

剥離重さは、株式会社オリエンテック製テンシロン万能材料試験機ＲＴＣ−１２５０Ａを使用して測定される値であり、具体的な測定方法は次の通りである（図８参照）。化粧板の表面に１インチの巾にカットしたマスキングテープ（株式会社スミロン製：Ｅ−２０７）を貼り付けた後、マスキングテープの一部を剥がし、マスキングテープを剥がした化粧板の一端（下部）を試験機に固定した。１８０°剥がしたマスキングテープを上部の方向（矢印方向）に１００ｍｍ／分のスピードで剥離したときの重さを測定した。

参考例５１の方法によれば、十分な表面テクスチャーを有する化粧板を簡単に製造することができる。さらに樹脂皮膜の表面の光沢を調整することを含む参考例５２の方法によれば、メラミン化粧板の表面が、熱硬化性樹脂の皮膜に被覆されている細かな凹凸意匠の部分と被覆されていない深い凹部分とが混在している深みのあるグロスマット意匠を持った化粧板が得られる。

参考例５３
（１）賦型シートの製造
５０μｍ厚のＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００（５０μｍ）の易接着面に、下記表２の参考例３に記載の組成を有する賦型シート用塗工インキを５ｇ／ｍ^２（乾燥時）塗工し、１６５ｋＶの加速電圧にて５Ｍｒａｄの電子線照射を行い、硬化することで賦型シートを得た。

（２）化粧板の製造
参考例１と同様にして製造した含浸化粧シートをフェノール樹脂含浸コア紙（太田産業株式会社製、ＤＬ−２５）４枚の上に積層し、更に含浸化粧シートの上に、上記（１）で製造した賦型シートを載せた積層体を２枚の鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて圧力１００ｋｇ／ｃｍ^２で、成型温度１５０℃で１０分間の条件にて加熱成型し、鏡面板及び賦型シートを外すことで高圧メラミン化粧板を得た。

参考例５４〜６０
参考例５３の賦型シート用塗工インキの組成を、下記表１５の参考例５４〜６０の組成に変えた以外は、参考例５３と同様にして、メラミン化粧板を得た。

比較例６
参考例５３の賦型シート用塗工インキの組成を、下記表１５の比較例６の組成に変えた以外は、参考例５３と同様にして、メラミン化粧板を得た。

参考例５３〜６０、及び比較例６の化粧板について、以下のように剥離重さ及び表面高低差を評価した。

剥離重さは、上記（２）化粧板の製造の工程において、加熱成型して鏡面板を外した後、賦型シートに１インチの巾に切り込みを入れて一部を剥がし、参考例５１及び５２、並びに比較例４及び５と同じ方法で測定した。

意匠性は、目視により以下の評価基準で判定を行った。
○：グロスマット感があり、良好
△：グロスマット感が鮮明でないが使用可能
×：グロスマット感が少なく、使用不可

紫光（登録商標）ＵＶ１７００Ｂ：紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂
ＫＡＲＡＹＡＤ ＰＥＴ−３０：放射線硬化性樹脂
ソルバイン（登録商標）Ａ：塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂
Ｎｉｐｓｉｌ Ｅ２２０Ａ：シリカ
Ｘ−２２−１６４Ａ：反応性シリコーン
ＭＥＫ：メチルエチルケトン

樹脂膜を熱硬化する前に、剥離重さを０．１〜１０Ｎ/インチの範囲に調整した賦型シートを熱硬化性樹脂の上に積層して加熱成形する参考例３〜１０の方法によれば、熱硬化後に鏡面板及び賦型シートを外すだけで十分な意匠性（グロスマット感）を有する化粧板を得ることができる。

実施例１〜４８
上記熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物として、参考例１で使用した熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物中に、更に、シリコーン系離型剤として、ＨＬＢ値が１４である側鎖型ポリエーテル変性の非反応性シリコーンオイル（信越化学社製、製品名：ＫＦ−６４０）を該熱硬化性樹脂組成物中に３質量％添加してなる実施例用の熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物を用意した。

熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物として、上記実施例用の熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物を用いた以外は参考例１〜４８と同様にして、実施例１〜４８の化粧板を製造した。

その際、マスキングテープを剥離する際の剥離の重さ及びマスキングテープの化粧板側への残留の有無を評価した。
その結果、参考例１〜４８に比べて実施例１〜４８は剥離の抵抗が軽かった。また、同様の条件で剥離した場合、参考例１〜４８においては、マスキングテープの一部が１度の剥離作業では剥離せずに化粧板表面に残留し、残留したマスキングテープの残渣を手作業で剥離除去する必要が生じる場合があった。一方、実施例１〜４８においては、何れの実施例も、１度の剥離作業で化粧板表面の全面から剥離が出来、残留したマスキングテープの残渣を剥離除去する作業は不要であった。

１Ａ，１Ｂ，１Ｃ・・・化粧板
２・・・支持シート
Ｓ１・・・支持シートの第１主面
Ｓ２・・・支持シートの第２主面
３・・・第１層
４・・・第２層
４０・・・第２層の開口部
５・・・化粧板の表面の凹部
６・・・補強層
７Ａ，７Ｂ・・・耐摩耗層

Claims (26)

1. 第１主面及び前記第１主面の反対側に位置する第２主面を有する支持シートと、
   前記支持シートの前記第１主面の一部に設けられた第１層と、
   前記支持シートの前記第１主面の残部に設けられた第２層と、
   を備える化粧板であって、
   前記第１層が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
   前記第２層が、メラミン樹脂の硬化物及びシリコーン系離型剤を含む硬化樹脂層であり、
   前記第２層が、前記第１層の少なくとも一部を露出させる開口部を有し、
   前記第２層の前記開口部が、前記化粧板の表面に凹部を形成している、化粧板。
2. 前記シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンを含む、請求項１に記載の化粧板。
3. 前記シリコーン系離型剤が、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するシリコーン系離型剤を含む、請求項１又は２に記載の化粧板。
4. 前記電離放射線硬化性樹脂が、５００以上の重量平均分子量を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化粧板。
5. 前記支持シートが、前記支持シートの前記第１主面側に位置する第１主面及び前記支持シートの前記第２主面側に位置する第２主面を有する基材シートを有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化粧板。
6. 前記支持シートが、前記基材シートの前記第１主面に設けられた装飾層をさらに有する、請求項５に記載の化粧板。
7. 前記基材シートが、多孔質シートである、請求項５又は６に記載の化粧板。
8. 前記支持シートが、前記多孔質シートの空隙に充填された熱硬化性樹脂の硬化物をさらに有する、請求項７に記載の化粧板。
9. 前記多孔質シートの空隙に充填された熱硬化性樹脂の硬化物が、前記第２層に含まれるメラミン樹脂の硬化物と一体化されている、請求項８に記載の化粧板。
10. 前記多孔質シートの空隙に充填された熱硬化性樹脂の硬化物が、メラミン樹脂の硬化物を含む、請求項８又は９に記載の化粧板。
11. 前記化粧板が、前記支持シートの前記第２主面に設けられた補強層をさらに備える、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化粧板。
12. 前記化粧板が、前記第２層上に設けられた耐摩耗層をさらに備える、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の化粧板。
13. 前記化粧板が、前記支持シートと前記第２層との間に設けられた耐摩耗層をさらに備える、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の化粧板。
14. 請求項１に記載の化粧板を製造する方法であって、
    （１）第１主面及び前記第１主面の反対側に位置する第２主面を有する支持シートを準備する工程、
    （２）前記支持シートの前記第１主面の一部に、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である第１層を形成する工程、
    （３）前記支持シートの前記第１主面の残部及び前記第１層の少なくとも一部を被覆する被覆層であって、メラミン樹脂の硬化物及びシリコーン系離型剤を含む硬化樹脂層である被覆層を形成する工程、及び、
    （４）前記被覆層のうち前記第１層を被覆する部分を前記被覆層の残部から剥離して、前記支持シートの前記第１主面の残部に、メラミン樹脂の硬化物及びシリコーン系離型剤を含む硬化樹脂層である第２層を形成する工程
    を含む、方法。
15. 前記工程（３）が、
    （３−１）前記支持シートの前記第１主面の残部及び前記第１層の少なくとも一部を、前記メラミン樹脂及び前記シリコーン系離型剤を含む熱硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、
    （３−２）前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させて前記被覆層を形成する工程
    を含む、請求項１４に記載の方法。
16. 前記シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンを含む、請求項１４又は１５に記載の方法。
17. 前記シリコーン系離型剤が、６以上１６以下のＨＬＢ値を有するシリコーン系離型剤を含む、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記工程（２）が、
    （２−１）前記支持シートの前記第１主面の一部を、前記電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、
    （２−２）前記電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記第１層を形成する工程
    を含む、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記電離放射線硬化性樹脂が、５００以上の重量平均分子量を有する、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の方法。
20. 前記支持シートが、前記支持シートの前記第１主面側に位置する第１主面及び前記支持シートの前記第２主面側に位置する第２主面を有する基材シートを有する、請求項１４〜１９のいずれか一項に記載の方法。
21. 前記支持シートが、前記基材シートの前記第１主面に設けられた装飾層をさらに有する、請求項２０に記載の方法。
22. 前記基材シートが、多孔質シートである、請求項２０又は２１に記載の方法。
23. 前記工程（３）が、
    （３−１）前記支持シートの前記第１主面の残部及び前記第１層の少なくとも一部を、前記メラミン樹脂及び前記シリコーン系離型剤を含む熱硬化性樹脂組成物で被覆する工程、及び、
    （３−２）前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させて前記被覆層を形成する工程
    を含み、
    前記工程（３−１）において、前記多孔質シートに前記熱硬化性樹脂組成物を含浸させ、
    前記工程（３−２）において、前記多孔質シートに含浸させた前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる、請求項２２に記載の方法。
24. 前記支持シートの前記第２主面に設けられた補強層を形成する工程をさらに含む、請求項１４〜２３のいずれか一項に記載の方法。
25. 前記第２層上に設けられた耐摩耗層を形成する工程をさらに含む、請求項１４〜２４のいずれか一項に記載の方法。
26. 前記支持シートと前記第２層との間に設けられた耐摩耗層を形成する工程をさらに含む、請求項１４〜２４のいずれか一項に記載の方法。

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