JP6677165B2 - 偽造防止用の光学素子 - Google Patents
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Description
本発明では、上記課題を解決するためになされたものであり、紙幣分野などで求められる光学素子(透明基材に付する光学素子)と、ID分野などで求められる光学素子(不透明基材上、または印字層や絵柄層上に付する光学素子)の両方に適用可能な、汎用性の高い光学素子の提供を目的とする。
また、不透明基材(印字層、絵柄層)に付して使用される場合、観察角度によって反射と透過のパターンが異なる光学素子となる。このため、金属や高屈折膜による反射層が不要であり、任意の入射角度では透過し、異なる任意の角度で反射する、透明な光学素子としての偽造防止用の光学素子として好適となる。
このように、本発明の一形態に係る光学素子によれば、紙幣分野などで求められる光学素子と、ID分野などで求められる光学素子の両方に適用可能な、汎用性の高い光学素子の提供することができる。
まず、第1実施形態に係る光学素子1について説明する。
本実施形態に係る光学素子1は、図1に示すように、傾斜平面を含むレリーフ構造が表面に形成された第一層2と、該レリーフ構造を埋めるように配置された第二層3により構成される。第一層2と第二層3とは屈折率が異なる材料から構成される。また、光学素子1は、レリーフ構造が有する斜面の傾斜角が異なる第一領域4と第二領域5を有する。なお、上記傾斜平面は、後述する図2の「傾斜平面6」及び図3の「傾斜平面8」に相当するものである。
第一層2の屈折率は第二層3の屈折率と比べて高く、第一層2側から入射した光は、傾斜平面の垂線に対して臨界角以上の角度で入射した場合は全反射を生じ、傾斜平面の垂線に対して臨界角未満の角度で入射した場合は界面を透過して第二層3へ進入する。
ここでは、図1における第一領域4に対し第一層2側から入射した光の光路について説明する。
入射角度範囲7は第一層2と第二層3の屈折率から計算される臨界角未満の入射角度範囲を示している。この入射角度範囲7で入射した光である、「入射光1a」は、第一層2と第二層3との界面を通過し、それら屈折率差により屈折して「透過光1b」となる。一方、入射角度範囲7以外の角度で入射した光である、「入射光2a」は、第一層2と第二層3の屈折率から計算される臨界角以上の角度での入射光であるために、第一層2と第二層3との界面で全反射して「反射光2b」となる。
例えば、第一層2を観察者側にして光学素子1を印刷物の上に置いた場合、特定の角度範囲では光学素子1が透明となり光学素子1の下にある印刷物が確認可能であるが、特定の角度範囲以外の角度範囲(臨界角以上の角度範囲)では光学素子1が不透明であるために光学素子1の下にある印刷物が確認できない。
上記のとおり、本実施形態では臨界角による全反射の特性を利用している。この特性によって特定の角度方向からの観察では、観察角度によって光学素子1の透明性を変化させることが可能であり、また同特性によって表裏で異なる光学効果を得ることが可能となる。
なお、図2には、傾斜平面6に対して垂直な垂線P1が示されている。
入射角度範囲9は、第一層2と第二層3の屈折率から計算される臨界角未満の入射角度範囲を示している。ここで、第一領域4、第二領域5の材質は共通であることから、図2における入射角度範囲7と図3における入射角度範囲9は同じ角度である。しかし、傾斜した平面の傾斜角度が第一領域4と第二領域5とで異なることから、光学素子1の傾斜した平面に対して第一層2側から入射する光の入射角度によって、下記の3つの現象を生じる。
2)特定の入射角において、第一領域4と第二領域5の両方で全反射する現象
3)特定の入射角において、第一領域4と第二領域5の両方で透過する現象
本実施形態では、これら現象を生じる特定の入射角度を各領域の設計で調節する。
例えば「平面の傾斜角度」、「第一層2の屈折率」、「第二層3の屈折率」を変化させることによって、これら現象を生じる入射角度を調節することが可能であり、様々な絵柄や光学効果を作ることが可能となる。
なお、図3には、傾斜平面8に対して垂直な垂線P2が示されている。
媒質iと媒質tは水平界面を有しており、媒質iの屈折率はni、媒質tの屈折率はntである。臨界角θcはスネルの法則と屈折率の定義から、下記の式3で求められる。
sinθc=nt/ni ・・・(式3)
臨界角θcで入射する入射光5aは、屈折角θt=90°の方向(媒質iと媒質tの界面方向)に向かう屈折光5bとなる。臨界角θcよりも大きい角度で入射した光である入射光6aは全反射して反射光6bとなる。
なお、図示しないが、臨界角θcよりも小さい角度で入射した光は、スネルの法則に従った屈折角で屈折して二つの媒質界面を透過する。
なお、実際には全反射した光は、さらにレリーフや層の表面によって反射、透過、屈折を繰り返して徐々にその光が弱くなる。本実施形態では単純に全反射と記載するが、その意味はレリーフ界面IFRでの全反射、及び又は、その後の反射、透過、屈折、散乱によって光が弱くなることを意味する。ここで、多重の反射、透過、屈折は複数方向への光の散乱と捉えることができ、これを目的にレリーフの構造を設計しても良い。
本実施形態では、この現象を応用して、特定角度以上で透過領域と不透過領域によるパターンを得ることや、表裏で異なる光学現象を得ることを可能とした。
具体的には、傾斜角θ1の斜面において全反射する第一領域4の入射角θf1と、傾斜角θ2の斜面において屈折し透過する第二領域5の入射角θf2は、下記の式4で表される。
ここで、
第一層2の屈折率:N1
第二層3の屈折率:N2
である。
θf1≧arcsin(N2/N1) ・・・(式5−1)
arcsin(N4/N3)>θf2 ・・・(式5−2)
ここで、
第一領域4における、第一層2の屈折率:N1、第二層3の屈折率:N2
第二領域5における、第一層2の屈折率:N3、第二層3の屈折率:N4
である。
観察点L(例えば左目)から観察した場合、入射角θ4で入射する「入射光La」は、空気と第一層2との界面において屈折角θ5で屈折し、「屈折光Lb」となる。その後、斜面に対して入射角θ6で入射する。入射角θ6が臨界角未満であれば透過し、入射角θ6が臨界角より大きければ全反射する。
少なくとも、入射角θ6、入射角θ7のどちらか一方が全反射し、他方が透過する領域をつくることで、視差画像を得ることが可能である。
具体的には、第一層2に対して輻輳角θ8で入射した光の屈折角θ5の値と、光学素子平面に対するレリーフ構造斜面の傾斜角θの値との大小によって3つに場合分けされ、下記の式6〜式8で表される。
θ+θ5≧arcsin(N2/N1)>θ−θ5 ・・・(式6)
2×θ5≧arcsin(N2/N1) ・・・(式7)
θ+θ5≧arcsin(N2/N1)>θ5−θ ・・・(式8)
ここで、
第一層2の屈折率:N1
第二層3の屈折率:N2
光学素子平面に対するレリーフ構造斜面の傾斜角:θ
輻輳角で入射した光の屈折角:θ5
である。
θ5=arcsin〔sin(θ8/2)/N1〕 ・・・(式9−1)
=arcsin〔sin(θ4)/N1〕 ・・・(式9−2)
ここで、
輻輳角:θ8
第一層2の屈折率:N1
である。
得られる立体像は、透過領域又は全反射領域によって構成される。特に、透過領域で立体像を作成した場合には、透明で立体的な像を作成することが可能である。また、下地に着色層を設けることによって、立体像を着色することか可能であり意匠性が良く、既存の体積ホログラム、計算ホログラム等と比べ優位である。
更には、透過領域で立体像を作成し、立体像(光学素子)を挟んでモアレを生じる2層を設けると、透過性の立体像でのみモアレが生じ、あたかも立体像に対してモアレの柄を立体的に貼り付けたような効果が得られる。モアレを生じる2層は光学素子をスペーサーとして干渉するため、観察角度によって異なる柄が生じ、このような効果により更に立体感が増す。
次に、第2実施形態に係る光学素子10について説明する。
光学素子10は、図7に示すように、図1の光学素子1よりも複雑に領域分割した構成の場合の例である。光学素子10は、傾斜平面の傾斜角が一つの軸に対し変化している構成をとっている。
界面IF1から界面IF5における臨界角を、略図1から略図5に図示する。角度範囲AR3は臨界角未満の角度領域を示し、この角度で入射した光は、角度範囲AR4の範囲に屈折して第二層3側へ透過する。光学素子10に対して垂直で入射した光は、界面IF1と界面IF5では全反射し、界面IF2、IF3、IF4では透過する。しかし、入射光の入射角度が変化すると、光が透過する界面が変化してゆく。
第一層2側から観察点を固定して観察した場合、光学素子10を図9(a)から順に図9(c)まで傾けて観察すると、図9(d)から図9(f)のように透明な棒が図面上下方向に動く効果が観察できる。
ここで、図9(d)から図9(f)に図示されているのは、透過パターン16と全反射パターン17である。
また、前述した、臨界角付近に近くなるほど反射率が徐々に高くなる現象から、透過パターン16は端部ほど反射率が高くなり、図9(d)から図9(f)の様にややグラデーションがかかったパターンとなる。この透過率のグラデーションによって、透過パターン16で描かれた「透明な棒」は立体感がある様に観察される。
次に、第3実施形態に係る光学素子20について説明する。
光学素子20は、図10に示すように、図1の光学素子1や図7の光学素子10によりも、複雑に領域分割した構成である。即ち、光学素子20は、傾斜平面の傾斜角が同心円状に変化している構成をとっている。
なお、図10(a)ではフレネルレンズ様に描かれているが、本実施形態は臨界角の利用であるために焦点を有するレンズ形状等の構造は必須としない。
図11(a)は光学素子20に対する観察角度を示しており、図11(b)は図11(a)に対応する観察像である。この像も光学素子10と同様に透過領域にある透過パターン16と全反射領域にある全反射パターン17によって構成されている。
前述した、臨界角付近に近くなるほど反射率が徐々に高くなる現象から、図11に示すように、透過パターン16は端部ほど反射率が高くなり、円状に形成される透過パターン16の端部は、ややグラデーションがかかったパターンとなる。この透過率のグラデーションによって、透明な円は立体感のある球体の様に観察される。加えて、この球体は観察角度によって動いて見える。
次に、第4実施形態に係る光学素子21について説明する。
第4実施形態に係る光学素子21は、図12に示すように、45°に傾斜した斜面を有する鋸刃状のレリーフ構造を挟んで、屈折率が1.40である第一層22と、屈折率が1.49である第二層23と屈折率が1.7である第二層24を有している。第一層22と第二層23が接する界面IF6と、第一層22と第二層24が接する界面IF7における臨界角は、式3より計算可能である。
図13は、図12の光学素子21によるフラッシュ効果を示す模式図である。
第4実施形態に係る光学素子21は、図13(i)のように透過パターン25と全反射パターン26とで柄が形成されている。図12の略図6、略図7を比較してわかるとおり、界面IF6では透過し、界面IF7では全反射する入射角度が15°のみ存在する。これ以外の入射角では、全面が透過するか、全面が全反射する。
次に、第5実施形態に係る光学素子30について説明する。
光学素子30は、正面図である図14(a)のとおり、同心円状に配置された、第一層33、34、35で構成されている。
また、光学素子30は、断面図である図14(b)のとおり、45°の鋸刃状のレリーフ構造で形成された、屈折率1.69の第一層33、屈折率1.5の第一層34、屈折率1.4の第一層35で形成されている。なお、説明を容易にするため、光学素子30における第二層は、屈折率1.0の媒質である空気として図示を省略している。
図15は、図14における第一層33、34、35に対応する各領域における臨界角を示す模式図である。
ここで、式3による計算から、第一層33と空気の界面である界面IF9の臨界角は36.3°であり略図9のとおりである。第一層34と空気の界面である界面IF10の臨界角は41.8°であり略図10のとおりである。第一層35と空気の界面である界面IF11の臨界角は45.6°であり略図11のとおりである。
図16は、図14の光学素子30によるムービング効果を示す模式図である。
透過パターン16と全反射パターン17によって柄が構成され、図16(a)から図16(c)にかけて観察角度を変化させることによって、図16(d)から図16(f)に対応する透過パターン16が観察角度の変化に応じて観察される。すなわち、透過パターン16は徐々に大きくなり、動画のようなムービング効果を生じる。
次に、第6実施形態に係る光学素子31について説明する。
第6実施形態に係る光学素子31は、図17のように、図14の光学素子30のレリーフ構造に対し、中央部において反転しており、中心から鋸刃が対称の形状で形成されている。
構造が中心を境に反転しているために、図18に示すように、斜めからの観察では透過領域が半分しか見えないことになる。光学素子31に対して垂直方向から観察すると透過パターン16と全反射パターン17による円が観察されるが、斜めから観察することによって、透過パターン16の円が大きくなり、同時にパターンの中心を境に半分が全反射パターン17となる。
光学素子31は、図19(i)のように透過パターン16と全反射パターン17とで柄が形成されている。図19(a)から図19(e)まで光学素子31を傾斜させながら観察すると、対応して図19(f)から図19(j)のようなパターンの変化が観察される。
次に、第7実施形態に係る光学素子40について説明する。
第7実施形態に係る光学素子40は、図20に示すように、図1に示す光学素子1の第二層3側に、印字層または着色層からなる背景層41を設けたものである。
第一層2と第二層3による、入射角度による全反射又は透過は、傾斜角の異なる平面を有する第一領域4と第二領域5とで異なるために、ある特定角度では第一領域4でのみ背景層41が視認可能となる。ここでの背景層41とは、後述の印字層、着色層、構造色層51(61)である。印字層は紙やプラスチック等の基材に印刷して良く、また印刷方法はインクジェット法、転写法、レーザーエングレーブ法などの公知の方法で印刷してよい。
次に、第8実施形態に係る光学素子50について説明する。
光学素子50は、図21に示すように、第一層2の側に構造色層51を備え、第二層3側に電磁波吸収層52を備えている。
第一層2と第二層3による、入射角度による全反射又は透過は、傾斜角の異なる平面を有する第一領域4と第二領域5とで異なるために、ある特定角度では第一領域4でのみ光が透過する。この場合に、構造色層51を透過した特定の波長領域の光が電磁波吸収層52によって吸収される。ここでの構造色層51は、例えば多層干渉膜や干渉パールインクの塗膜、コレステリック液晶等のほか、サブ波長深さの矩形構造による干渉構造でも良い。
次に、第9実施形態に係る光学素子60について説明する。
光学素子60は、図22に示すように、第二層3側に構造色層61と電磁波吸収層62を備えている。
第一層2と第二層3による、入射角度による全反射又は透過は、傾斜角の異なる平面を有する第一領域4と第二領域5とで異なるために、ある特定角度では第一領域4でのみ構造色層61と電磁波吸収層62の積層による、鮮やかな色変化や固定色が視認可能となる。
次に、第10実施形態に係る光学素子70について説明する。
光学素子70は、図23に示すように、第一層2と第二層3により構成される、光学素子71と光学素子72を積層した構成となっている。
光学素子71による入射角による透過光は光学素子72によって、さらに入射角に依存する全反射と透過の領域を作成する。このような積層構造はより複雑で精細な光学効果を作成するために利用してよい。なお、光学素子71と光学素子72の積層される部分は一部であってよい。
また、図20から図22のように、印字層や着色層、構造色層51(61)、電磁波吸収層52(62)を設けて光学素子70を修飾して良い。
次に、第11実施形態に係る光学素子80について説明する。
光学素子80は、図24に示すように、第一層2と第二層3により構成される、光学素子81と光学素子82を積層した構成となっている。
光学素子81と光学素子82はともに周期性構造を有するレリーフ構造になっており、その周期が異なるためにモアレを生じる。モアレを生じるためには周期の差が3%〜20%程度あればよい。
なお、積層される部分は一部であってよい。また、図20から図22のように、印字層や着色層、構造色層51(61)、電磁波吸収層52(62)を設けて光学素子80を修飾して良い。
次に、第12実施形態に係る光学素子90について説明する。
光学素子90は、図25に示すように、第一層2と第二層3により構成される光学素子91と、印刷基材94に形成された周期性印刷パターン93を備えた光学素子92とを積層した構成となっている。光学素子91と光学素子92はともに周期性構造を有する構造であり、その周期が異なるためにモアレを生じる。モアレを生じるためには周期の差が5%〜15%程度あればよい。
図25においては、光学素子92は、周期性印刷パターン93と、印刷基材94で構成されている。
なお、積層される部分は一部であってよい。また、図20から図22のように、印字層や着色層、構造色層51(61)、電磁波吸収層52(62)を設けて光学素子90を修飾して良い。
次に、第13実施形態に係る光学素子100について説明する。
光学素子100は、図26に示すように、第三領域104と第四領域105とが上下で反転している。
この場合、いずれの領域も第一層2側からの観察によって、入射角に依存した全反射と透過によるパターンを確認することができ、且つ第二層3側からの観察によっては全反射が観察されない。
なお、光学素子100は前述の印字層や着色層、構造色層51(61)、電磁波吸収層52(62)を設けるほか、前述した光学素子と積層することや、モアレを生じる層を積層して光学素子90を修飾して良い。
次に、第14実施形態に係る光学素子110について説明する。
光学素子110は、図27に示すように、第五領域114と第七領域116は上下で反転している。また、第六領域115は、同一屈折率の第一層2によってレリーフ構造が解消されている。更に、第八領域117は、同一屈折率の第二層3によってレリーフ構造が解消されている。
以下に、上述各光学素子について採用可能な、レリーフ構造の製法、各層の材質について詳細に説明する。
レリーフ構造を連続的に大量複製するにあたり、代表的な手法としては、「熱エンボス法」、「キャスト法」、「フォトポリマー法」等が挙げられる。
中でも「フォトポリマー法」(2P法、感光性樹脂法)は、放射線硬化性樹脂をレリーフ型(微細凹凸パターンの複製用型)と平担な基材(プラスチックフィルム等)との間に流し込み放射線で硬化させた後、この硬化膜を基板ごと、複製用型から剥離する方法により高精細な微細凹凸パターンを得ることができる。また、この様な方法によって得られた光学素子は、熱可塑性樹脂を使用する「プレス法」や「キャスト法」に比べ凹凸パターンの成形精度が良く、耐熱性や耐薬品性に優れる。また、更に新しい製造方法としては、常温で固体状若しくは高粘度状の光硬化性樹脂を使用して成形する方法や、離型材料を添加する方法もある。
また、本実施形態に係る光学素子を作成するために、第一層2(22)又は第二層3(23、24)をフィルムや紙の支持体上に塗布して一時的に設けた後に、レリーフを成型しても良い。
更には、第一層2(22)又は第二層3(23、24)を構成する樹脂材料を押し出しエンボス機を用い、レリーフ構造を有する金型の上に溶融樹脂を押し出した後に、フィルム状に成型し、レリーフ構造を有する第一層2(22)又は第二層3(23、24)をフィルムとして作成してもよい。
微細凹凸を形成する第一層2(22)又は第二層3(23、24)に使用される材料の例としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化性樹脂を単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、上記以外のものであっても、上記凹凸を形成可能であれば適宜使用してよい。
本実施形態では、第一層2(22)及び第二層3(23、24)は屈折率が重要となる。これら各層は無機材料、有機材料、有機無機複合材料であっても良い。また有機材料であって屈折率を調節する際には無機微粒子、有機微粒子、有機無機複合微粒子、中空粒子を添加しても良い。この場合に、微粒子表面に官能基を設けて分散性や膜強度を改善することが可能である。また、微粒子の分散性を改善するための分散剤や界面活性剤を添加することや、膜強度を改善するために架橋剤を添加しても良い。
本実施形態に係るレリーフ構造は、第一層2(22)と第二層3(23、24)の界面に存在し、少なくとも一部が傾斜した平面を含む。この為、レリーフ構造断面は、少なくとも一部の界面が光学素子平面に対して任意の角度を有する。本実施形態に係る傾斜した平面とは、少なくとも一部の界面が光学素子平面に対して任意の角度を有しており、徐々に変化しても良い。例えば、曲面(断面が曲線)であるレリーフ構造は、本実施形態に係るレリーフ構造に該当する。なお、傾斜した平面上には凹凸があっても良い。傾斜した平面上に光散乱効果を有するランダムな凹凸構造を設けた場合には、反射及び透過光を拡散する効果を有するため、例えば、反射と透過の領域境界にグラデーションをかける効果を得ることも可能である。
また、本実施形態の基礎概念は、第一層2(22)側から臨界角以上で入射した光が第一層2(22)と第二層3(23、24)の界面で全反射し、臨界角未満で入射した光が第一層2(22)から第二層3(23、24)側に透過することであるから、この概念に沿って、第一層2(22)と第二層3(23、24)の界面におけるレリーフ構造に追従した第三層(図示せず)を追加設置してよい。この場合、第三層の屈折率は、第一層2(22)又は第二層3(23、24)に対して、±0.2以内、好ましくは±0.1以内の屈折率差で設けると良い。この範囲の屈折率差であれば、第一層2(22)と第三層との界面、または第二層3(23、24)と第三層との界面での反射を低減できる。このような第三層は層間密着や耐性を向上する目的や、レリーフ構造の補正を行う目的で有効である。第三層はドライコーティングやウェットコーティングの公知の方式で塗布すれば良い。
本実施形態に係る着色層は、色材による着色層のほか、光の干渉構造であって良い。高屈折膜と低屈折膜を交互に重ね合わせた干渉膜の原理は、例えば、特願2007−505509号公報に記載されているような多層干渉膜を利用してよい。また、コレステリック液晶を利用した干渉構造であってもよい。また、レリーフ構造によって光を干渉させることも可能であり、これら干渉構造体を利用しても良い。
本実施形態の基礎概念は、第一層2(22)側から臨界角以上で入射した光が第一層2(22)と第二層3(23、24)の界面で全反射し、臨界角未満で入射した光が第一層2(22)から第二層3(23、24)側に透過することである。印字層は、第二層3(23、24)側に接するように設けることによって、第一層2(22)側から臨界角未満で観察することによってのみ、第一層2(22)と第二層3(23、24)越しに印字層を確認することが可能である。
また、レーザー等の照射によって基材を変質させて印刷して良く、例えば、ポリカーボネートのシートにはレーザーの照射により変質して黒色印字を生じるものが有り、これを使用してよい。更にはホログラムや回折格子等による印字であっても良い。これらの印字方式や材料は公知の方式や材料から適宜選択して使用すればよい。
本実施形態に係る構造色層51(61)とは、構造によって光学効果を生じる層である。例えば、任意波長領域の可視光に対して、構造による吸収、散乱、干渉、回折、等の光学効果を生じる。
このような構造色層51(61)としては、多層干渉膜、レリーフ型干渉構造、レリーフ型回折格子、体積型回折格子、レンズ、レリーフ型散乱構造、体積型散乱構造、コレステリック液晶などの構造を含む層が例として挙げられる。
モアレは干渉縞ともいい、規則正しい繰り返し模様を複数重ね合わせた時に、それらの周期のずれにより視覚的に発生する縞模様のことである。
本実施形態において、モアレを生じる構造としては、周期性レリーフ構造又は周期性印刷層が例として挙げられる。周期性がわずかに異なる2つの層を一定の距離をおいて設置すると観察角度によって異なるモアレが生じる。観察角度を変化させた場合のモアレの連続的変化は動画様の効果を有する。例えば、図1に記載の光学素子の上下に、周期性レリーフ構造又は周期性印刷層を設け、これら上下に配置した構造の周期を僅かに変化させた場合には、光学素子が全反射を生じない観察角度でのみ、上下の層によるモアレを生じることになる。モアレを生じるためには周期の差が3%〜20%程度あればよいがこの限りで無い。
本実施形態に係る電磁波吸収層52(62)は、構造色層51(61)を透過した電磁波を吸収する効果を有する。例えば、多層干渉膜やコレステリック液晶等の干渉構造体の場合は、特定の波長を反射し、それ以外の波長領域を透過させる。この透過光が何れかの界面で反射してしまった場合、構造による反射光と透過光が混和し、加法混色により本来の反射光の色濃度が薄くなってしまう。本実施形態では、このような構造色の色濃度低下を防止するために、構造色層51(61)の下に電磁波吸収層52(62)を設ける。電磁波吸収層52(62)は、特定領域の電磁波を吸収する顔料、染料などの色材、例えばカーボンブラックの顔料や、モスアイ構造に類似の電磁波吸収構造であっても良い。
なお、例えば、第一層33、34、35のみから成る光学素子30、31の場合には、上述した第一層2(22)の製造方法や材料を用いて、光学素子30、31を製造することができる。
以下に実施例を示す。
〈実施例1〉
本実施形態に係る光学素子の製造過程における「鋸刃状凹凸構造の第一層」を形成するための「第一層インキ組成物」としてハイパーテック(商標登録)UR−108Nを使用した。第一層インキ組成物を塗布した後に、鋸刃状の凹凸構造を形成する方法として、ロールフォトポリマー法を利用した。
実施例1と同様の作成方法で「鋸刃状凹凸構造の第一層」を作成した。成形後の第一層における「鋸刃状凹凸構造」は、深さ5μm、周期5μmである。
次に、第一層の凹凸表面上の第一領域に、第二層を設置するため「第二層インキ組成物」として、ディフェンサ(商標登録)OP−38Zを塗布し、窒素パージ環境下にて高圧水銀灯で300mJ/cm2の紫外線露光を行い乾燥させ、光学素子を得た。OP−38Zは硬化後屈折率1.38である。
実施例1と同様の作成方法で「鋸刃状凹凸構造の第一層」を作成した後、高屈折透明反射層として硫化亜鉛を700Å蒸着した。その後、硫化亜鉛が蒸着された凹凸構造上に、実施例1と同様の方法で第二層を設けて、比較例1に係る光学素子を得た。
〈比較例2〉
実施例1と同様の作成方法で「鋸刃状凹凸構造の第一層」を作成した後、金属反射層としてアルミニウムを400Å蒸着した。その後、アルミニウムが蒸着された凹凸構造上に、実施例1と同様の方法で第二層を設けて、比較例2に係る光学素子を得た。
「第二層インキ組成物」としてハイパーテック(商標登録)UR−108Nを使用する以外は実施例1と同様の方法で比較例3に係る光学素子を得た。
<光学効果の評価>
実施例1、2及び比較例1、2、3で作成した光学素子を表裏から観察した場合に、表裏で明確に異なる光学効果が確認できる場合を「OK」とし、表裏の光学効果がほぼ同一である場合は「NG」とした。
インクジェットプリンターを使用し、上質印刷紙上に、サイズ16のMS明朝フォントで「TP」を黒字で全面印刷して、印字層を作成した後、実施例1、2及び比較例1、2、3で作成した光学素子の下に印字済みの上質紙を敷き、表示体越しの印字視認性について評価した。
特定角度領域からの観察にて印字が明確に読み取れ、且つそれ以外の特定角度領域からの観察にて印字が明確に読み取れない場合を「OK」とし、どの角度からも印字が鮮明に確認できなかった場合、どの角度からも印字が鮮明に確認できる場合は「NG」とした。
上記評価方法を用いて、各実施例及び比較例を評価し、結果を表1にまとめた。
実施例1は、第一層側から光学素子平面に対して垂直に観察した場合では、第一、第二領域共に透明性が良かった。また、光学素子垂線に対して20°の角度から観察した場合に第一領域では透明性が無く、第一領域と第二領域での濃度コントラストを生じた。また、第二層側からの観察ではいずれの領域のどの観察角でも透明性が高かった。
比較例1では、レリーフに沿って設けられた透明高屈折膜によって、第一層側からの観察及び第二層側からの観察の両方で、レリーフの光学効果を観察することが可能であり、表裏で明確に異なる光学効果を得ることはできなかった。
比較例3では、第一層、第二層が同一屈折率の樹脂であるために、レリーフ界面IFRが無く、第一層側からの観察及び第二層側からの観察の両方で光学効果は得られなかった。
本実施形態に係る発明は、以下の効果を奏する。
(1)本実施形態に係る光学素子は、表面にレリーフ構造を有する第二層3(23、24)の上に第一層2(22)が配置され、且つ少なくとも第一領域4と第二領域5を有すると共に第一層2(22)と第二層3(23、24)とが互いに屈折率が異なり、第一層2(22)側から予め設定した特定の角度で入射する電磁波が、第一領域4におけるレリーフ構造及び第一層2(22)の屈折率に対する第二層3(23、24)の屈折率の比の少なくとも一方に起因して全反射するように構成し、第一層2(22)側から特定の角度で入射する電磁波は、第二領域5におけるレリーフ構造及び第一層2(22)の屈折率に対する第二層3(23、24)の屈折率の比の少なくとも一方に起因して全反射せずに透過若しくは屈折するように構成し、第一層2(22)側の特定の角度から観察した場合でのみ、少なくとも第一領域4と比べて第二領域5の透明性が高く、第一領域4と第二領域5の透明性のコントラストによって予め設定した画像が表現される。
また、不透明基材(印字層、絵柄層)に付して使用される場合、観察角度によって反射と透過のパターンが異なる光学素子となる。このため、金属や高屈折膜による反射層が不要であり、任意の入射角度では透過し、異なる任意の角度で反射する、透明な光学素子としての偽造防止用の光学素子として好適となる。
このように、本発明の一形態に係る光学素子によれば、紙幣分野などで求められる光学素子と、ID分野などで求められる光学素子の両方に適用可能な、汎用性の高い光学素子の提供することができる。
θf1≧arcsin(N2/N1) ・・・(式10)
arcsin(N4/N3)>θf2 ・・・(式11)
このような構成によれば、観察点が徐々に変化することでパターンを徐々に変化させることができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、第一層2(22)と第二層3(23、24)越しに、第三層である印字層を確認することができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、第一層2(22)と第二層3(23、24)越しに、第四層である着色層を確認することができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、構造色の色濃度低下を防止することができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、第一層2(22)と第二層3(23、24)越しに、第六層である着色層を確認することができるとともに、構造色の色濃度低下を防止することができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、モアレの任意パターンが動く効果を得ることができる。このため、立体感を更に付与することができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、モアレの任意パターンが動く効果を得ることができる。このため、立体感を更に付与することができる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
このような構成によれば、視差画像による立体表現が可能となる。このため、意匠性や偽造防止性をさらに向上させることができる。
有価証券や証明書、高級ブランド品など、偽造を防ぐことが求められる物品に対し、模倣が困難な光学効果を有する素子を付して偽造を防ぐことが知られている。
このような光学効果を有する素子としては、ホログラム、回折格子、多層干渉膜などが知られている。これらは微細な構造又は複雑な層構成を有するため、簡単に解析することが困難であり、不正な複製を防ぐことができるとされてきた。
従来から紙幣の分野では、透かしによる認証は、一見してその効果を確認することが可能であることから、使用者認知度の高い偽造防止技術として扱われてきた。近年では、透明なポリマー基材を利用したポリマー紙幣が実用化され、前述の偽造防止用の光学素子(例えばホログラム)を表裏から観察することや、透かして観察することがより簡便となり、透かしによる判定が重要な偽造品の判断方法となっている。この様な背景から、特殊な透かし効果を有する偽造防止用光学素子が注目され、必要とされている。
また、特許文献1の別の実施例では、透明な窓部分に設けられる特殊な光学素子として、中空ミラーが提案されている。この光学素子はレンズ形状のレリーフに対して反射膜を設けている。反射膜はある程度の透過性があり、表面側から窓を観察した場合には凸レンズ効果を確認でき、裏面から窓を観察した場合には凹レンズ効果を確認できる。例えば、レンズに隣接してオブジェクトを設置した場合には、表面側から窓を観察した場合には凸レンズ効果によって拡大したオブジェクトを確認でき、裏面から窓を観察した場合には凹レンズ効果によって縮小したオブジェクトが確認できる。このように、表裏で異なる効果が得られることから、透明窓部分に設置する光学素子として使用可能である。
つまり紙幣分野では、透明基材に付する、表裏で明らかに異なる見え方をし、表面観察では裏面観察による効果が判らない光学素子が求められている。
一方で、IDの分野、例えば個人を証明するIDカードやパスポートの用途では、透明な光学素子(例えばホログラム)が偽造防止構造として利用されてきた。透明な光学素子は、固有情報を印字した基材の上にラミネートされて使用される。このため、光学素子越しに物品の固有情報を記載した印字層を確認した場合であっても、容易に確認できる透明性を有しており、且つ、コントラストが高く視認性の良い特殊な光学効果が求められる。
傾斜した反射板自体は、反射板に対する入射角を有する限り反射する特性がある。このため、任意の観察角度において透明にするためには、観察角度と反射板を平行にする必要がある。たとえ、観察角度と反射板を平行にしたとしても、反射板の厚みや、反射板の数によって透明性は損なわれるという問題がある。光学素子の透明性の低下は光学素子の下に設けられた印字層の視認性に関わる。このため、少なくとも特定の観察角度領域において透明であることは重要である。
なお、特許文献2の光学素子は、傾斜した反射板による透過光、反射光のコントロールなので、表裏では類似の光学効果しか得られず、前述の「透明基材に付する光学素子」としては満足できない。
また、汚染性に関わる重要な問題もある。V字溝は表面に露出しているため、例えば溝が油や水で汚れ、溝が埋まった場合には所望した効果は得られない。
2 第一層
3 第二層
4 第一領域
5 第二領域
6 傾斜平面
7 臨界角未満の入射角度範囲
8 傾斜平面
9 臨界角未満の入射角度範囲
10 光学素子
16 透過パターン
17 全反射パターン
20 光学素子
21 光学素子
22 屈折率が1.40である第一層
23 屈折率が1.49である第二層
24 屈折率が1.7である第二層
25 透過パターン
26 全反射パターン
30 光学素子
31 光学素子
33 屈折率1.69の第一層
34 屈折率1.50の第一層
35 屈折率1.40の第一層
40 光学素子
41 背景層
50 光学素子
51 構造色層
52 電磁波吸収層
60 光学素子
61 構造色層
62 電磁波吸収層
70 光学素子
71 光学素子
72 光学素子
80 光学素子
81 光学素子
82 光学素子
90 光学素子
91 光学素子
92 光学素子
93 周期性印刷パターン
94 印刷基材
100 光学素子
104 第三領域
105 第四領域
110 光学素子
114 第五領域
115 第六領域
116 第七領域
117 第八領域
θ 傾斜角
θa 入射角
θb 屈折角
θc 臨界角
θt 屈折角
θf 入射角
θ4 入射角
θ5 屈折角
θ6 入射角
θ7 入射角
θ8 輻輳角
Claims (10)
- 表面にレリーフ構造を有する第二層の上に第一層が配置され、且つ少なくとも第一領域と第二領域を有すると共に前記第一層と前記第二層とが互いに屈折率が異なり、前記レリーフ構造は、光学素子の光学素子平面に対し傾斜した斜面を有し、前記レリーフ構造に対して中心から対称の形状で形成されており、前記第一領域と前記第二領域とで傾斜した斜面の傾斜角度が異なり、
前記第一領域において、前記第一層側から予め設定した特定の角度で入射する電磁波が、前記第一領域におけるレリーフ構造及び前記第一層の屈折率に対する前記第二層の屈折率の比の少なくとも一方に起因して全反射するように構成し、
前記第二領域において、前記第一層側から前記特定の角度で入射する電磁波は、前記第二領域におけるレリーフ構造及び前記第一層の屈折率に対する前記第二層の屈折率の比の少なくとも一方に起因して全反射せずに透過若しくは屈折するように構成し、
前記第一層側の前記特定の角度から観察した場合でのみ、少なくとも前記第一領域と比べて前記第二領域の透明性が高く、前記第一領域と前記第二領域の透明性のコントラストによって予め設定した画像が表現されることを特徴とした偽造防止用の光学素子。 - 前記第一層よりも前記第二層の屈折率が低く、
観察点側に光源を置いて任意の観察点から観察した際に、前記第一領域における前記レリーフ構造の斜面への入射角をθf1、
前記第二領域における前記レリーフ構造の斜面への入射角をθf2、
前記第一領域における、前記第一層の屈折率をN1、前記第二層の屈折率をN2、
前記第二領域における、前記第一層の屈折率をN3、前記第二層の屈折率をN4、
とした場合に、
式1及び式2を満足することを特徴とする請求項1に記載の偽造防止用の光学素子。
θf1≧arcsin(N2/N1) ・・・(式1)
arcsin(N4/N3)>θf2 ・・・(式2) - 前記第二層に接するように配置された第三層を有し、該第三層は、記号及び画像パターンの少なくとも一方が記載された印字層であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の偽造防止用の光学素子。
- 前記第二層に接するように配置された第四層を有し、該第四層は着色層であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の偽造防止用の光学素子。
- 前記第四層における前記第二層とは反対側の面に接するように配置された第五層を有し、該第五層は電磁波吸収層であることを特徴とする請求項4に記載の偽造防止用の光学素子。
- 前記第一層に接するように配置された第六層と前記第二層に接するように配置された第七層とを有し、前記第六層は着色層であり、前記第七層は電磁波吸収層であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の偽造防止用の光学素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の偽造防止用の光学素子を2つ以上積層した構成であることを特徴とする偽造防止用の光学素子。
- 積層された光学素子の少なくとも2つの層が周期性レリーフ構造を有しており、2つの周期性レリーフ構造がモアレを生じることを特徴とした請求項7に記載した偽造防止用の光学素子。
- 前記レリーフ構造の少なくとも一部が周期性構造を有しており、該周期性構造とモアレを生じ得る第八層を有することを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載し
た偽造防止用の光学素子。 - 前記第一領域と前記第二領域の少なくとも一つの領域は、光学素子平面に対して垂直方向から観察した場合に、両眼と光学素子の位置により定まる輻輳角によって、視差画像を生じることを特徴とした請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の偽造防止用の光学素子。
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