JP6607964B2 - 偏光板、画像表示装置及び偏光板保護フィルム - Google Patents

Description

本発明は、セルロースエステルフィルム、偏光板及び画像表示装置に関する。

エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）及び液晶表示装置（ＬＣＤ）等に代表される画像表示装置は、屋外及び車での使用をはじめとしてその使用環境が多様化している。かかる使用環境の多様化に伴い、画像表示装置には、従来よりも過酷な環境下でも良好な画像品質を安定して維持できる性能（高度な耐久性）が求められるようになっている。

画像表示装置に用いる偏光板は、偏光子と、この偏光子表面に設けられた保護フイルム（偏光板保護フィルム）とを有する。偏光板保護フィルムとしては、汎用性及び加工性の観点からセルロースアシレートが広く用いられている。しかし、セルロースアシレートは水分が存在下、加水分解されて酸を生じる。生じた酸は、セルロースアシレートの主鎖を切断したり、偏光子中に導入された架橋構造を切断したりして、偏光板の性能を劣化させる一因となる。また、酸はセルロースアシレートの黄変（着色）を生じる一因にもなる。
かかる酸の作用を抑えるために、偏光板保護フィルム中にエポキシ化合物を酸捕捉剤として添加する技術が提案されている（例えば特許文献１）。

特開２００７−２６９９４１号公報

本発明者らは、画像表示装置の多様な使用環境を想定し、高温高湿環境における偏光子の劣化を抑えるべく検討を重ねた結果、セルロースアシレート中に上記特許文献１記載のエポキシ化合物を添加したフィルムを偏光板保護フィルムとして用いた際には、高温高湿の過酷な環境下においては偏光子の光学特性を十分に維持することができないことが明らかとなってきた。

本発明は、セルロースアシレートフィルムを保護フィルムとして有する偏光板であって、高温高湿の過酷環境下においても偏光子が劣化しにくく優れた耐久性を示す偏光板、及びこの偏光板を有する画像表示装置を提供することを課題とする。また本発明は、セルロースアシレートフィルムからなる偏光板保護フィルムであって、高温高湿の過酷な環境においてもセルロースアシレートが分解されにくく、且つフィルムの黄変も生じにくく、さらに、かかる過酷環境下における偏光子が劣化を効果的に抑えることができる偏光板保護フィルムを提供することを課題とする。

本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討を重ねた結果、セルロースアシレートフィルム中に特定構造のフィルム耐久性改良剤を含有させることにより、高温高湿の過酷な環境下においてもセルロースアシレートの分解を高度に抑えることができ、且つ、フィルムの黄変も良好に抑制できることを見い出した。さらに本発明者らは、上記セルロースアシレートフィルムを偏光板保護フィルムとして用いた際に、高温高湿の過酷環境下においても、偏光子の光学特性の劣化（偏光度の変化）を高度に抑えることができることを見い出した。
本発明はこれらの知見に基づき完成されるに至ったものである。

本発明の上記課題は下記の手段により解決された。
〔１〕
偏光子と、この偏光子に積層された偏光板保護フィルムとを有する偏光板であって、
上記偏光板保護フィルムが、下記一般式（１）で表される化合物とセルロースアシレートとを含有する、偏光板。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基又はカルバモイル基を示す。Ｒ^３はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。
但し、一般式（１）中、互いに二重結合で連結されて示された炭素原子及び窒素原子は単環の環構成原子ではない。
〔２〕
上記偏光板保護フィルム中、上記セルロースアシレートの含有量１００質量部に対し、上記の一般式（１）で表される化合物の含有量が、合計で０．１〜５０質量部である、〔１〕記載の偏光板。
〔３〕
上記一般式（１）のＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つがアリール基である、〔１〕又は〔２〕記載の偏光板。
〔４〕
上記一般式（１）のＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも２つがアリール基である、〔３〕記載の偏光板。
〔５〕
上記アリール基がフェニル基である、〔３〕又は〔４〕記載の偏光板。
〔６〕
上記の一般式（１）で表される化合物の分子量が２５０以上である、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の偏光板。
〔７〕
上記偏光板保護フィルムが、下記一般式（Ａ）で表される化合物の少なくとも１種を含有する、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の偏光板。

一般式（Ａ）中、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又は芳香族基を示す。Ｒ^Ａ５は水素原子又は置換基を示す。
〔８〕
上記偏光板保護フィルムが、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される化合物の少なくとも１種を含有する、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の偏光板。

一般式（Ｉ）中、Ｚはベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。Ｘは、下記一般式（Ｉ−Ａ−３）で表される基を示し、ｎ１は２〜６の整数である。Ｒ^１ａは置換基を示し、ｍ１は０〜４の整数である。

一般式（Ｉ−Ａ−３）中、Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基を示す。＊は結合手を示す。

一般式（II）中、Ｘは上記一般式（Ｉ）におけるＸと同義である。ｎ２１及びｎ２２は、１〜５の整数である。Ｒ^２１及びＲ^２２は置換基を示し、ｍ２１及びｍ２２は０〜４の整数である。
〔９〕
〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の偏光板を有する画像表示装置。
〔１０〕
下記一般式（１）で表される化合物とセルロースアシレートとを含有する偏光板保護フィルム。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基又はカルバモイル基を示す。Ｒ^３はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。
但し、一般式（１）中、互いに二重結合で連結されて示された炭素原子及び窒素原子は単環の環構成原子ではない。

本明細書において「〜」で表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味である。

本明細書において、特定の符号で表示された置換基及び連結基等（以下、置換基等という）が複数あるとき、あるいは複数の置換基等を同時もしくは択一的に規定するときには、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよいことを意味する。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接（特に隣接）するときにはそれらが互いに連結したり縮環したりして環を形成していてもよい意味である。

本明細書において化合物の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、目的の効果を奏する範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。
本明細書において置換、無置換を明記していない置換基（連結基についても同様）については、所望の効果を奏する範囲で、その基に任意の置換基を有していてもよい意味である。これは置換、無置換を明記していない化合物についても同義である。
また本明細書において単に「置換基」という場合、特段の断りが無い限り、下記置換基群Ｔから選択される基が挙げられる。また、特定の範囲を有する置換基が記載されているだけの場合（例えば「アルキル基」と記載されているだけの場合）は、下記置換基群Ｔの対応する基（上記の場合はアルキル基）における好ましい範囲、具体例が適用される。
本明細書において、ある基の炭素数を規定する場合、この炭素数は、基全体の炭素数を意味する。つまり、この基がさらに置換基を有する形態である場合、この置換基を含めた全体の炭素数を意味する。

置換基群Ｔ：
アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基などが挙げられる。）、シクロアルキル基（好ましくは炭素原子数３〜２０、より好ましくは３〜１２、特に好ましくは３〜８のものであり、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アリールカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１５、さらに好ましくは７〜１２であり、例えばベンゾイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレタン基、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、及びシリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）。
これらの置換基は更に置換基を有してもよい。また、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、隣接する置換基は互いに連結して環を形成してもよい。

本発明の偏光板及び画像表示装置は、高温高湿の過酷環境下においても優れた耐久性を示す。また本発明の偏光板保護フィルムは、高温高湿の過酷環境下においても分解されにくく、且つ黄変も生じにくい。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。

本発明の偏光板を備えた液晶表示装置の概略を示す模式図である。

本発明の好ましい実施形態について以下に説明する。

［偏光板保護フィルム］
本発明の偏光板は、偏光子の保護フィルムとして偏光板保護フィルムを有する。本発明に用いる偏光板保護フィルム（以下、本発明の偏光板保護フィルムともいう。）は、セルロースアシレートを主成分として含有する。本発明の偏光板保護フィルム中のセルロースアシレートの含有量は５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上がさらに好ましく、８０質量％以上がさらに好ましく、８５質量％以上がさらに好ましい。上記偏光板保護フィルム中のセルロースアシレートの含有量の上限は、通常は９９質量％以下であり、９８質量％以下が好ましく、９６質量％以下がさらに好ましい。上記偏光板保護フィルム中、セルロースアシレート以外の残部には、後述するフィルム耐久性改良剤が含有され、さらに必要により後述するバルビツール酸化合物、アセタール化合物、その他の慣用添加剤が含有される。

＜セルロース＞
本発明において、上記偏光板保護フィルムに用いるセルロースアシレートの原料とするセルロースとしては、綿花リンター及び木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースでも使用でき、混合して使用してもよい。原料セルロースは、例えば、丸澤、宇田著，「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」，日刊工業新聞社（１９７０年発行）、又は発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。

＜セルロースアシレート＞
上記セルロースアシレートとしては、偏光板保護フィルムの製造に用いられる公知のセルロースアシレートを何ら制限なく用いることができる。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離のヒドロキシ基を有している。上記セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。
アシル置換度（以下、単に「置換度」ということがある）は、２位、３位及び６位に位置するセルロースのヒドロキシ基のアシル化の度合いを示すものであり、全てのグルコース単位の２位、３位及び６位のヒドロキシ基がいずれもアシル化された場合、総アシル置換度は３である。例えば、全てのグルコース単位で、６位のみが全てアシル化された場合、総アシル置換度は１である。同様に、全グルコースの全ヒドロキシ基において、各々のグルコース単位で、６位及び２位のいずれか一方の全てがアシル化された場合も、総アシル置換度は１である。
すなわち置換度は、グルコース分子中の全ヒドロキシ基が全てアシル化された場合を３として、アシル化の度合いを示すものである。
セルロースアシレートの置換度は、手塚他，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３，８３−９１（１９９５）に記載の方法、又は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。

本発明に用いるセルロースアシレートの総アシル置換度は１．５０以上３．００以下であることが好ましく、２．００〜２．９７であることがより好ましく、２．３０以上２．９７未満であることが更に好ましく、２．３０〜２．９５であることが特に好ましい。

本発明に用いるセルロースアシレートのアシル基に特に制限はなく、１種のアシル基を有する形態でもよいし、２種以上のアシル基を輸する形態でもよい。本発明に用いるセルロースアシレートは、炭素数２以上のアシル基を置換基として有することが好ましい。炭素数２以上のアシル基に特に制限はなく、脂肪族のアシル基でもよいし、芳香族のアシル基でもよい。炭素数２以上のアシル基の具体例として、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イソブタノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが挙げられる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルが好ましく、さらに好ましくはアセチル、プロピオニル、ブタノイルである。

セルロースアシレートのアシル基としてアセチル基のみを用いたセルロースアセテートは本発明に好適に用いることができ、このセルロースアセテートの総アシル置換度は２．００以上３．００以下であることが好ましく、２．２０〜３．００であることがより好ましく、２．３０〜３．００であることが更に好ましく、２．３０〜２．９７であることが更に好ましく、２．３０〜２．９５であることが特に好ましい。

２種類以上のアシル基を有する混合脂肪酸エステルも上記セルロースアシレートとして本発明に好ましく用いることができる。また、特開２００８−２０８９６号公報の段落００２３〜００３８に記載の、脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルも本発明に好ましく用いることができる。なかでも混合脂肪酸エステルのアシル基には、アセチル基と炭素数が３〜４のアシル基が含まれることが好ましい。また、混合脂肪酸エステルがアシル基としてアセチル基を含む場合、そのアセチル置換度は２．５未満が好ましく、１．９未満が更に好ましい。一方、炭素数が３〜４のアシル基を含む場合の炭素数が３〜４のアシル基の置換度は０．１〜１．５であることが好ましく、０．２〜１．２であることがより好ましく、０．５〜１．１であることが特に好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムとして、後述の共流延法などにより、異なるセルロースアシレートを含有する複数層からなるフィルムを採用することも好ましい。

本発明に用いるセルロースアシレートは、その重合度が２５０〜８００が好ましく、３００〜６００が更に好ましい。また、本発明に用いるセルロースエステルないしセルロースアシレートは、その数平均分子量が４００００〜２３００００が好ましく、６００００〜２３００００が更に好ましく、７５０００〜２０００００が最も好ましい。重合度は、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される数平均分子量をセルロースエステルないしセルロースアシレートのグルコピラノース単位の分子量で除することで求めることができる。
なお、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される数平均分子量を採用した。具体的な測定条件を以下に示す。
ＧＰＣ装置：東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ、Ｅｃｏｓｅｃ）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００併用、（東ソー製、４．６ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）
溶離液：Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）

本発明に用いるセルロースアシレートは常法により合成することができる。例えば、アシル化剤として酸無水物又は酸塩化物を用いて合成できる。上記アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸（例えば、酢酸）又は塩化メチレンが使用される。また、触媒として、硫酸のようなプロトン性触媒を用いることができる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物を用いることができる。セルロースアシレートの一般的な工業的生産では、セルロースを目的のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸等）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等）を用いてそのヒドロキシ基がエステル化される。
例えば、綿花リンター又は木材パルプ由来のセルロースを原料とし、これを酢酸等の有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、所望の構造の有機酸を用いてエステル化することによりセルロースアシレートを得ることができる。また、アシル化剤として有機酸無水物を用いる場合には、一般にセルロース中に存在するヒドロキシ基の量に対して有機酸無水物を過剰量で使用してセルロースをエステル化する。
またセルロースアシレートは、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載された方法により合成することもできる。

本発明の偏光板保護フィルムには、本発明の効果を損なわない範囲でセルロースアシレートに加えて他の樹脂（例えば（メタ）アクリル樹脂等）を併用して用いることもできる。本発明の偏光板保護フィルム中、上記他の樹脂の含有量は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。

＜フィルム耐久性改良剤＞
本発明の偏光板保護フィルムは、フィルム耐久性改良剤として下記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含有する。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基又はカルバモイル基を示す。
Ｒ^１及びＲ^２として採り得るアルキル基は直鎖でも分岐を有してもよい。このアルキル基の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜８がさらに好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜４がさらに好ましい。このアルキル基の好ましい具体例として、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブチルを挙げることができる。

Ｒ^１及びＲ^２として採り得るシクロアルキル基は、その炭素数が３〜２０が好ましく、３〜１２がより好ましく、３〜８がさらに好ましい。このシクロアルキル基の好ましい具体例として、例えばシクロプロピル、シクロペンチル及びシクロヘキシルが挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２として採り得るアリール基は、その炭素数が６〜２０が好ましく、６〜１５がより好ましく、６〜１２がさらに好ましい。このアリール基の好ましい具体例として、フェニル及びナフチルが挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２として採り得るアシル基は、その炭素数が炭素数は２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜８がさらに好ましく、２〜６がさらに好ましく、２〜４がさらに好ましい。このアシル基の具体例として、例えばアセチル、ピバロイル及びシクロヘキシルカルボニルを挙げることができる。なお、本発明において、アリールカルボニル基はアシル基には含まれない。

Ｒ^１及びＲ^２として採り得るアルコキシ基は直鎖でも分岐を有してもよい。このアルコキシ基の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜８がさらに好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜４がさらに好ましい。このアルコキシ基の好ましい具体例としては、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ及びオクトキシが挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２として採り得るアリールカルボニル基は、その炭素数が７〜２０が好ましく、７〜１５がより好ましく、７〜１２がさらに好ましい。このアリールカルボニル基の好ましい具体例として、ベンゾイル及びナフトイルが挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２として採り得るカルバモイル基は、その炭素数が１〜２０が好ましく、１〜１６がより好ましく、１〜１２がさらに好ましく、１〜８がさらに好ましい。このカルバモイル基の好ましい具体例として、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル及びＮ−フェニルカルバモイルを挙げることができる。

Ｒ^３はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。Ｒ^３として採り得るアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、それぞれ上述したＲ^１として採り得るアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基と同義であり、好ましい形態も同じである。

上記一般式（１）で表される化合物は、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３のうち少なくとも１つがアリール基（好ましくはフェニル基）であることが好ましく、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３のうち少なくとも２つがアリール基（好ましくはフェニル基）であることがより好ましく、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３のすべてがアリール基（好ましくはフェニル基）であることがさらに好ましい。

一般式（１）中、互いに二重結合により連結されて示された炭素原子及び窒素原子（すなわち「Ｃ＝Ｎ」構造中の炭素原子及び窒素原子）は単環の環構成原子ではない。すなわち、一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３が環状構造を含まない基の場合に、Ｒ^１とＲ^３あるいはＲ^２とＲ^３が連結して環を形成した形態は一般式（１）には含まれない。

上記一般式（１）の化合物は、フィルム耐久性改良剤として酸を補足すると推定される。酸を捕捉する機構を反応式として以下に示すが、この機構は推定であり、本発明が、かかる酸捕捉機構に限定されるものではない。

上記一般式（１）で表される化合物の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。下記具体例中、＊は連結部位を示す。ｎは１〜１０００の数である。Ｅｔはエチル、Ｍｅはメチルを示す。

一般式（２）中、Ｒ^４及びＲ^５はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基又はカルバモイル基を示す。
Ｒ^４及びＲ^５として採り得るアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基及びカルバモイル基の好ましい形態は、それぞれ上記一般式（１）におけるＲ^１として採り得るアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基及びカルバモイル基の好ましい形態と同じである。

Ｒ^６はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。Ｒ^６として採り得るアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の好ましい形態は、それぞれ上記一般式（１）におけるＲ^３として採り得るアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の好ましい形態と同じである。

上記一般式（２）で表される化合物は、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６のうち少なくとも１つがアリール基（好ましくはフェニル基）であることが好ましく、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６のうち少なくとも２つがアリール基（好ましくはフェニル基）であることが好ましい。

一般式（２）中、互いに二重結合で連結されて示された炭素原子及び窒素原子は単環の環構成原子ではない。すなわち、一般式（２）において、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が環状構造を含まない基の場合に、Ｒ^４とＲ^６あるいはＲ^５とＲ^６が連結して環を形成した形態は一般式（２）には含まれない。

上記一般式（２）の化合物は、フィルム耐久性改良剤として酸を補足すると推定される。酸を捕捉する機構を反応式として以下に示すが、この機構は推定であり、本発明が、かかる酸捕捉機構に限定されるものではない。

上記一般式（２）で表される化合物の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。下記具体例中、＊は連結部位を示す。ｎは１〜１０００の数である。Ｅｔはエチル、Ｍｅはメチルを示す。

一般式（３）中、Ｒ^７及びＲ^８はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。Ｒ^７及びＲ^８として採り得るアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の好ましい形態は、それぞれ上記一般式（１）におけるＲ^３として採り得るアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の好ましい形態と同じである。

上記一般式（３）で表される化合物は、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つがアリール基（好ましくはフェニル基）であることが好ましく、Ｒ^７及びＲ^８がアリール基（好ましくはフェニル基）であることが好ましい。

一般式（３）中、互いに二重結合で連結されて示された炭素原子及び窒素原子は単環の環構成原子ではない。すなわち、一般式（３）において、Ｒ^７及びＲ^８が環状構造を含まない基の場合に、Ｒ^７及びＲ^８が連結して環を形成した形態は一般式（３）には含まれない。

上記一般式（３）の化合物は、フィルム耐久性改良剤として酸を補足すると推定される。酸を捕捉する機構を反応式として以下に示すが、この機構は推定であり、本発明が、かかる酸捕捉機構に限定されるものではない。

上記一般式（３）で表される化合物の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。下記具体例中、＊は連結部位を示す。ｎは１〜１０００の数である。

上記一般式（１）〜（３）の各式で表される化合物は、その分子量に特に制限はない。フィルム形成の際の揮発を考慮すると、分子量が１００以上であることが好ましく、１５０以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましく、２５０以上であることがさらに好ましい。上記一般式（１）〜（３）の各式で表される化合物の分子量の上限に特に制限はなく、通常は１，０００，０００以下であり、３００，０００以下であることが好ましく、１００，０００以下がさらに好ましい。また、上記一般式（１）〜（３）の各式で表される化合物の分子量は、１０，０００以下であってもよく、８，０００以下であってもよく、６，０００以下であってもよい。ここで、分子量が１０００以上のものについては、重量平均分子量としての値である。重量平均分子量の測定は高速液体クロマトグラフィーを用い、下記条件で測定することができる。
（測定条件）
溶媒：ＴＨＦ 特級 (東京化成(株)製)
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ-Ｈ，ＨＺ４０００，ＨＺ２０００（東ソー(株)製）
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ ＭＯＤＥＬ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
流量：１０ｍＬ／ｍｉｎ
校正曲線：ＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（Ｍｗ＝５００〜１００００００、東ソー(株)製）
カラム温度：４０℃

本発明の偏光板保護フィルム中、上記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物の含有量は、合計で、セルロースアシレートの含有量１００質量部に対して０．１〜５０質量部であることが好ましく、０．１〜３０質量部であることがより好ましく、０．１〜２０質量部であることがさらに好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましい。

＜バルビツール酸化合物＞
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ａ）で表されるバルビツール酸化合物の少なくとも１種を含有することも好ましい。本発明の偏光板保護フィルムが下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することにより、熱ないし湿熱による偏光子の劣化を、より効果的に抑えることができる。

一般式（Ａ）において、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又は芳香族基を示す。ここで、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基及び芳香族基は置換基を有してもよい。Ｒ^Ａ５は、水素原子又は置換基を示す。

一般式（Ａ）で表される化合物は、環構造中の水素原子が、隣接する環構造中のカルボニルとエノール化したり、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３が水素原子の場合にイミド酸化したりした構造の互変異性体もしくはその塩を含む。

Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５として採り得るアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜５がさらに好ましく、１〜３が特に好ましく、なかでもメチル基又はエチル基が好ましい。ただし、環構造を有する基を置換基として有するアルキル基の場合、その炭素数は、７〜２０が好ましく、７〜１２がより好ましく、７〜１０がさらに好ましい。環構造を有するアルキル基における環構造は、芳香族環（芳香族複素環を含む）であっても脂肪族環であってもよいが、芳香族炭化水素環又は脂肪族環であることが好ましい。環構造を有するアルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基が挙げられ、ベンジル基が特に好ましい。

Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３として採り得るシクロアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましく、４〜８がさらに好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシルが挙げられ、シクロヘキシルが特に好ましい。

Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３として採り得るアルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜５がさらに好ましい。例えば、ビニル、アリルが挙げられる。

Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３として採り得る芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基であることが好ましい。
芳香族炭化水素基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１６がより好ましく、６〜１２がさらに好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチルが好ましく、フェニルがより好ましい。
芳香族複素環基としては、５又は６員環が好ましく、ベンゼン環又はヘテロ環が縮環していてもよい。芳香族複素環基の複素環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、炭素数は０〜２０が好ましく、１〜１６がより好ましく、３〜１２がより好ましい。このようなヘテロ環としては、例えば、ピロール環、チオフェン環、フラン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、インドール環が挙げられる。

Ｒ^Ａ５として採り得る置換基は、例えば上記置換基群Ｔから選ばれる基が挙げられる。Ｒ^Ａ５として採り得る置換基は好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シアノ基、又は水溶性基である。
本明細書において、水溶性基は、化合物の水への溶解性を高める基であり、アニオン又はカチオンの基、もしくは解離してアニオン化できる基（例えば、ｐＫａが、１０以下が好ましい。）である。かかる水溶性基としては、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、オニオ基（好ましくは、アンモニオ基）、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基が挙げられる。このうち、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、ヒドロキシ基、又はアミノ基がより好ましい。

なお、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基は塩の状態のものをも含む。

スルホ基の塩、カルボキシ基の塩に加え、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基もしくはその塩、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基の塩を形成する対イオンは、無機のイオンでも有機のイオンでも構わない。
例えば、無機イオンでは、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）が好ましく、有機イオンでは、有機カチオンのオニウムイオンが挙げられ、有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン）、含窒素ヘテロ芳香環のカチオン（例えば、ピロリジニウムイオン、ピリジニウムイオン）、ホスホニウムイオン（例えば、テトラメチルホスホニウムイオン）、スルホニウムイオン（例えば、トリメチルスルホニウムイオン）が含まれる。これらの対イオンの中でもアルカリ金属イオン、すなわちアルカリ金属塩が好ましい。

一般式（Ａ）で表される化合物が互変異性体となり塩を形成した場合の対イオンも、上記と同じ対イオンが好ましく適用される。

一方、アミノ基の塩の場合、塩を形成する酸は、無機酸であっても有機酸であっても構わない。
無機酸の場合、塩酸、臭素酸、硫酸、リン酸、ホウ酸が挙げられ、有機酸としては、脂肪族もしくは芳香族のカルボン酸又はスルホン酸（例えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ニコチン酸等）が挙げられる。
また、オニオ基の場合は、無機もしくは有機のアニオンであり、上記無機もしくは有機酸のアニオンが挙げられる。

Ｒ^Ａ５は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シアノ基、又はヒドロキシ基が好ましい。

Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５が、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基である場合、これらが有してもよい置換基は、上記置換基群Ｔで挙げられた基が挙げられ、なかでも、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シリル基、又は水溶性基が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シリル基、又は水溶性基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、ヒドロキシ基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、ボロン酸基もしくはその塩、カルバモイル基、スルファモイル基、又はオニオ基（好ましくは、第四級アンモニオ基を含むアンモニオ基）がさらに好ましい。

一般式（Ａ）で表される化合物は、その使用も目的にもよるが、好ましい範囲は、以下の２種類に大別される。

第一の好ましい態様は、以下の置換基の組み合わせの化合物である。
Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又は芳香族基であって、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基及び芳香族基は置換基を有してもよく、この置換基として、置換基群Ｔで挙げられた基のうち、上記の水溶性基以外の置換基を有する化合物である。
上記の各基が有してもよい置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、シリル基、又はハロゲン原子が好ましい。

Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５のいずれかが環構造を有する基が好ましく、環構造の数は１〜６が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜５がさらに好ましく、３〜５が特に好ましい。
このような環としては、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環がより好ましく、シクロヘキサン環、ベンゼン環がさらに好ましい。

Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５が、環状の基である場合、シクロアルキル基、又はアリール基が好ましい。Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５が、環構造を有する基の場合、置換基群Ｔで挙げたシクロアルキル基又はアリール基を置換基として有する基が好ましく、特に、シクロアルキル置換アルキル基、アラルキル基が好ましく、ベンジル基が最も好ましい。
環状の基又は環構造を有する基としては、なかでも、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基が好ましい。

第一の態様の化合物の分子量は、２５０〜１２００が好ましく、３００〜８００がより好ましく、３５０〜６００が特に好ましい。
置換基の組み合わせ、分子量をこのような好ましい範囲にすることで、例えば、偏光板保護フィルムを形成した場合、一般式（Ａ）で表される化合物の偏光板保護フィルムからの揮散抑制に優れ、透明性の高いフィルムを得ることができる。

第二の好ましい態様は、以下の置換基の組み合わせの化合物である。
この態様は、第一の態様とは逆に、極性効果を利用するものであり、形成されたフィルム中での拡散性も考慮するものである。
Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又は芳香族基であり、Ｒ^Ａ５が水素原子又は置換基であって、且つ、１）Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５のいずれかが水溶性基もしくは水溶性基を含む基である化合物、２）分子量が１２８以上２５０未満である化合物、及び／又は、３）Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ５のいずれか１つ又は２つが水素原子である化合物である。

第二の態様の化合物の分子量は、１２８〜１２００が好ましく、１５０〜８００がより好ましい。

以下に、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。

一般式（Ａ）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。窒素原子上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを組合せて加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，第６１巻，１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５４巻，２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４０巻，８０２９頁（１９９９年）、国際公開第２００７／１５００１１号パンフレットなどに記載の方法を好ましく用いることができる。

また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、Ｒ^Ａ５に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成してもよい。

５位の修飾の方法としては、ハロゲン化アルキルなどとの求核置換反応、又はマイケル付加反応のような付加反応を用いることができる。また、アルデヒド又はケトンと脱水縮合させてアルキリデン又はアリーリデン化合物を生成させ、その後二重結合を還元する方法も好ましく用いることができる。例えば亜鉛による還元方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４４巻，２２０３頁（２００３年）に、接触還元による還元方法がＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４２巻，４１０３頁（２００１年）及びＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，第１１９巻，１２８４９頁（１９９７年）に、ＮａＢＨ_４による還元方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第２８巻，４１７３頁（１９８７年）などにそれぞれ記載されている。これらはいずれも、５位にアラルキル基を有する場合及びシクロアルキル基を有する場合に好ましく用いることができる合成方法である。
なお、一般式（Ａ）で表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。

一般式（Ａ）で表される化合物の偏光板保護フィルム中の含有量（２種以上含有する場合は合計含有量）は特に限定されないが、セルロースアシレートの含有量１００質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．２〜１５質量部であることがより好ましく、０．３〜１２質量部であることがさらに好ましく、さらに好ましくは０．５〜１２質量部、さらに好ましくは１〜１２質量部、さらに好ましくは２〜１２質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。
一般式（Ａ）で表される化合物の添加量を上記好ましい範囲とすることで、透湿度を効果的に下げることが可能となり、また、ヘイズの発生がより抑えられる。

＜アセタール化合物＞
下記一般式（Ｉ）又は一般式（II）で表される化合物（以下、これらを合わせて「アセタール化合物」ともいう。）の少なくとも１種を含有することも好ましい。本発明の偏光板保護フィルムが下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される化合物を含有することにより、偏光子からのヨウ素等の二色性色素の放出をより抑えることができ、熱ないし湿熱による偏光子の劣化をより効果的に抑えることができる。

一般式（Ｉ）中、Ｚは、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。
Ｚがベンゼン環である場合、一般式（Ｉ）は下記一般式（Ｉ−１）で表される。また、Ｚがシクロヘキサン環である場合、一般式（Ｉ）は下記一般式（Ｉ−２）で表される。なお、下記一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）において、Ｘ、ｎ１、Ｒ^１ａ及びｍ１は、それぞれ一般式（Ｉ）におけるＸ、ｎ１、Ｒ^１ａ及びｍ１と同義であり、好ましい形態も同じである。

一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）中の置換基について説明する。
一般式（Ｉ）中、Ｘは、下記一般式（Ｉ−Ａ−３）で表される基を示す。

一般式（Ｉ−Ａ−３）中、Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基を示す。ここで、Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して環を形成してもよい。＊は、結合手を示す。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るアルキル基は、直鎖でも分岐を有してもよい。このアルキル基の炭素数は１〜１２が好ましく、１〜８がより好ましく、１〜６がさらに好ましい。このアルキル基の具体例として、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、ベンジル、フェノキシエチル、メトキシエチルが挙げられる。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るシクロアルキル基の炭素数は３〜１２が好ましく、５〜１２がより好ましく、５〜８がさらに好ましい。このシクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられ、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るアリール基の炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１６がより好ましく、６〜１２がさらに好ましい。このアリール基の具体例として、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられ、フェニル基が好ましい。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るアシル基の炭素数は、２〜２０が好ましい。このアシル基として、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、シクロアルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基のいずれであっても構わない。例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ベンゾイル、ナフトイル、アクリロイル、ニコチノイル、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニルなどが挙げられる。
アシル基のうち、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が好ましい。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るアリールカルボニル基の炭素数は７〜２０が好ましい。このアリールカルボニルの好ましい具体例として、ベンゾイル、ナフトイルが挙げられる。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るアルコキシ基の炭素数は１〜２０が好ましく、２〜１６がより好ましい。このアルコキシ基の具体例として、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ヘキシル、２−エチルヘキシルオキシが挙げられる。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２として採り得るアルコキシカルボニル基の炭素数は、２〜１２が好ましく、２〜８がより好ましく、２〜６がさらに好ましい。このアルコキシカルボニル基の具体例として、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して形成しうる環は、５又は６員環が好ましい。
形成された環は、置換基を有してもよく、このような置換基としては上述した置換基群Ｔから選択される基が挙げられる。

Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２は、水素原子又はアルキル基が好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｘの数を示すｎ１は２〜６の整数であり、２〜４の整数が好ましく、さらに好ましくは２である。

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１ａは、置換基を示す。この置換基としては、上述した置換基群Ｔから選ばれる基が挙げられる。なかでも水素原子、シアノ基及びメトキシカルボニル基から選ばれる基が好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ^１ａの数を示すｍ１は、０〜４の整数であり、０〜２の整数が好ましく、０又は１がより好ましく、０がさらに好ましい。
ｍ１が２以上の整数である場合、複数のＲ^１ａが互いに結合して環を形成してもよい。

一般式（II）中、Ｘは上記一般式（Ｉ）におけるＸと同義であり、好ましい形態も同じである。
Ｘの数を示すｎ２１及びｎ２２は、１〜５の整数であり、１又は２が好ましく、１がより好ましい。

一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２１及びＲ^２２は置換基を示す。この置換基としては、上述した置換基群Ｔから選ばれる基が挙げられる。なかでも水素原子、シアノ基及びメトキシカルボニル基から選ばれる基が好ましい。
Ｒ^２１の数を示すｍ２１及びＲ^２２の数を示すｍ２２は、０〜４の整数である。
ｍ２１が２以上の整数である場合、複数のＲ^２１が互いに結合して環を形成してもよい。またｍ２２が２以上の整数である場合、複数のＲ^２２が互いに結合して環を形成してもよい。

一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）中のＸ以外の構成部分の総炭素数は、耐久性がより優れる理由から、４０以下が好ましく、６〜４０がより好ましく、１２〜２４がさらに好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、上記一般式（Ｉ−１）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物を含有することがより好ましい。

本発明に用いうるアセタール化合物について、その好ましい基本骨格（Ｂ１〜Ｂ７）と、この基本骨格におけるＸ^１〜Ｘ^３として採り得るアセタール部分の構造（Ａ−４０１〜Ａ−４０９）を以下に示す。下記アセタール部分の構造において、＊は連結部位を示す。Ｂ１〜Ｂ７は基本骨格を示すものであり、Ｂ１とＢ６はその具体的構造として上記置換基Ｒ^２１及びＲ^２２を有してもよい。同様に、Ｂ２〜Ｂ５及びＢ７はその具体的構造が上記置換基Ｒ^１ａを有する形態であってもよい。
下記に示す各基本骨格と、下記に示す各アセタール部分の構造との、いずれの組合せを採用した形態のアセタール化合物であっても本発明に好適に用いることができる。

本発明に用いうるアセタール化合物の具体例を、上記構造を参照して下記表１に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

上述したアセタール化合物は、市販品を入手してもよく、また公知の方法によって合成してもよい。例えば、ホルミル基を有する化合物を常法に従ってアセタール化することで合成することができる。置換基を有するホルミル化合物を原料として、エステル化、アミド化、アルキル化など一般的な合成反応を行うことで各種の骨格のホルミル化合物を得た後、これをアセタール化することで合成することができる。また、原料のホルミル化合物は、対応するアルコールを二酸化マンガン等の一般的な酸化剤を用いて酸化することで合成できる。

偏光板保護フィルム中のアセタール化合物の含有量は特に制限されないが、偏光板保護フィルム１ｍ^２あたり１．０〜１００．０ｍｍｏｌであることが好ましく、なかでも、３．０ｍｍｏｌ以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、３０．０ｍｍｏｌ以下であることが好ましい。
偏光板保護フィルム中のアセタール化合物の含有量は、偏光板保護フィルムを構成するセルロースアシレート１００質量部に対し、０．１〜５０質量部の範囲で配合するのが好ましく、１〜３０質量部の範囲で配合するのがより好ましく、４〜２０質量部の範囲で配合するのがさらに好ましい。

＜偏光板保護フィルムの製造＞
続いて、本発明の偏光板保護フィルムの製造について説明する。
本発明の偏光板保護フィルムの製造は、特に限定されるものではなく、例えば溶融製膜法又は溶液製膜法（ソルベントキャスト法）により製造することが好ましく、添加剤の揮散及び分解を考慮すると溶液製膜法（ソルベントキャスト法）により製造することがより好ましい。ソルベントキャスト法を利用したポリマーフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同第２，３６７，６０３号、同第２，４９２，０７８号、同第２，４９２，９７７号、同第２，４９２，９７８号、同第２，６０７，７０４号、同第２，７３９，０６９号及び同第２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同第７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の各公報を参考にすることができる。また、本発明の偏光板保護フィルムは、延伸処理が施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等の各公報を参考にすることができる。

（流延）
溶液の流延方法としては、調製されたドープ（セルロースアシレートを溶媒に溶解してなる溶液）を加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属等の支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があり、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプ及びＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも、セルロースアシレート溶液を流延製膜する公知の方法を採用することができる。上記の各流延方法の条件は、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して適宜に設定することができる。

本発明の偏光板保護フィルムは単層であっても複層であってもよい。複層とする場合には、共流延法、逐次流延法、塗布法などの積層流延法を用いることが好ましく、特に同時共流延（同時多層共流延ともいう。）法を用いることが、安定製造及び生産コスト低減の観点から特に好ましい。
共流延法及び逐次流延法により偏光板保護フィルムを製造する場合には、先ず、各層用のドープを調製し、この溶液を支持体上に流延する。
共流延法（重層同時流延）では、まず流延用支持体（バンド又はドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でもよい）各々の流延用ドープを別々のスリットなどから同時に押出すことができる流延用ギーサを用いてドープを押出して、各層を同時に流延する。流延後、適当な時間をおいて支持体から剥ぎ取って、乾燥してフィルムを形成することができる。共流延ギーサを用いることにより、例えば、流延用支持体の上に表層用ドープから形成された表層２層と、これら表層に挟まれたコア層用ドープからなるコア層の計３層を、支持体上に同時に押出して流延することができる。

逐次流延法では、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して、流延し、乾燥あるいは乾燥することなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延する要領で、必要なら第３層以上まで逐次ドープを流延・積層して、適当な時間をおいて支持体から剥ぎ取って乾燥し、複層フィルムを形成する。
また塗布法では、一般的には、コア層を溶液製膜法によりフィルム状に形成し、その表層に、目的のセルロースシレート溶液である塗布液を塗布し、乾燥して、積層構造を形成する。

（延伸）
本発明の偏光板保護フィルムは、上記の流延、乾燥後に、延伸処理されていることも好ましい。セルロースエステル樹脂層の延伸方向はフィルム搬送方向（ＭＤ(Machine Direction)方向）と搬送方向に直交する方向（ＴＤ（Transverse Direction）方向）のいずれでもよい。後に続く偏光板加工プロセスを考慮すると、ＴＤ方向であることが好ましい。延伸処理は２段階以上に分けて複数回行ってもよい。

ＴＤ方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。ＴＤ方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによって延伸することができる。またポリマーフィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
ＭＤ方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりも巻き取り速度を速くすることにより行うことができる。

本発明の偏光板保護フィルムは、偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するため、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの面内の遅相軸を平行に配置する態様が好ましい。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、上記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状の偏光板保護フィルムを連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の偏光板保護フィルムの面内遅相軸は、偏光板保護フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従ってＴＤ方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。

ＴＤ方向の延伸は５〜１００％が好ましく、より好ましくは５〜８０％、特に好ましくは５〜４０％とする。なお、未延伸の場合、延伸は０％となる。延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶剤量＝（残存揮発分質量／加熱処理後フィルム質量）×１００％が０．０５〜５０％の状態で延伸することが好ましい。残留溶剤量が０．０５〜５％の状態で５〜８０％延伸することがより好ましい。

（添加剤）
上記偏光板保護フィルムは、上記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を含有する。すなわち、上記偏光板保護フィルムの製造においては、ドープ中に上記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物を含有（溶解）させる。ドープ中、上記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物の含有量は、合計で、上記ドープ中のセルロースアシレートの含有量１００質量部に対して０．１〜５０質量部とすることが好ましく、０．１〜２０質量部とすることがより好ましく、０．１〜１０質量部とすることがさらに好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、上述した以外の添加剤を含んでいてもよい。かかる添加剤としては、公知の可塑剤、有機酸、色素、ポリマー、レターデーション調整剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤などが例示される。これらについては、特開２０１２−１５５２８７号公報の段落番号００６２〜００９７の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。また、添加剤としては、剥離促進剤、有機酸、多価カルボン酸誘導体を挙げることもできる。これらについては、国際公報ＷＯ２０１５／００５３９８号段落０２１２〜０２１９の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
上記ドープ中、上記一般式（１）〜（３）の各式で表される化合物及び上記一般式（Ａ）で表される化合物を含めた添加剤の含有量の合計は、セルロースアシレートの含有量１００質量部に対して５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましく、５〜２０質量部であることがさらに好ましい。

（鹸化処理）
本発明の偏光板保護フィルムは、アルカリ鹸化処理することにより、ポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を高めることができる。
鹸化の方法については、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２１１及び段落番号０２１２に記載されている方法を用いることができる。

例えば、偏光板保護フィルムに対するアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲がさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲が好ましく、４０〜７０℃の範囲がさらに好ましい。

アルカリ鹸化処理の代わりに、特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。

本発明の偏光板保護フィルムの膜厚は、１〜８０μｍが好ましく、１〜６０μｍがより好ましく、３〜６０μｍがさらに好ましい。

（機能性層）
本発明の偏光板保護フィルムにおいて、偏光板保護フィルム上に所望により目的に応じた機能性層を設けることができる。
機能性層としては、ハードコート層、反射防止層、光散乱層、防汚層、帯電防止層、接着層、染料層、アンチハレーション層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、反射防止層、滑り層、紫外線吸収層、偏光層等が挙げられ、これらは一層で複数の機能を兼ねていていてもよい。

一例として、ハードコート層は、偏光板保護フィルムに硬度及び耐傷性を付与するための層である。例えば、塗布組成物を偏光板保護フィルム上に塗布し、硬化させることによって、偏光板保護フィルムと密着性の高いハードコート層を形成することができる。ハードコート層にフィラー及び／又は添加剤を加えることで、機械的、電気的、光学的などの物理的な性能、及び／又は撥水もしくは撥油性などの化学的な性能をハードコート層自体に付与することもできる。ハードコート層の厚みは０．１〜６μｍが好ましく、３〜６μｍがさらに好ましい。このような範囲の薄いハードコート層を有することで、脆性の改善及びカール抑制などの物性改善、軽量化及び製造コスト低減がなされたハードコート層を含む偏光板保護フィルムとすることができる。

ハードコート層は、硬化性組成物を硬化することで形成するのが好ましい。硬化性組成物は液状の塗布組成物として調製されるのが好ましい。塗布組成物の一例は、マトリックス形成バインダー用モノマー又はオリゴマー、ポリマー類及び有機溶媒を含有する。この塗布組成物を塗布後に硬化することでハードコート層を形成することができる。硬化には、架橋反応、又は重合反応を利用することができる。

＜偏光板保護フィルムの特性＞
偏光板保護フィルムは、透湿度が低く、ヌープ硬度、鉛筆硬度などの硬度が高く、紫外線透過率、ヘイズが低いことが必要となる。また、湿熱経時後の分子量の低下及び黄変が発生しないことが好ましい。

（透湿度）
本発明の偏光板保護フィルムは、４０℃、相対湿度９０％、２４時間の条件における透湿度が１０５０ｇ／ｍ^２以下であることが好ましく、９９０ｇ／ｍ^２以下がより好ましい。透湿度を上記範囲にすることにより、高温高湿環境下においても偏光子の劣化を効果的に抑えることができる。
上記透湿度の値は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ^２あたりの値に換算した値である。

（ヌープ硬度）
本発明の偏光板保護フィルムは、押し込み荷重５０ｍＮでヌープ圧子を用いて測定した表面硬度は、１８５Ｎ／ｍｍ^２以上が好ましい。より好ましくは、ＪＩＳ Ｚ ２２５１の方法に準じて押し込み荷重５０ｍＮで、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を回転させて測定されるヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ^２以上である。表面硬度（ヌープ硬度）は、ナノインデンテーション法により測定される。なお、ＪＩＳ Ｚ ２２５１はＩＳＯ４５４５を基に作成した日本工業規格である。例えば、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を１０°ずつ回転させて測定される合計１８方位のヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ^２以上である。偏光板保護フィルムの表面硬度は２２０Ｎ／ｍｍ^２以上が好ましく、２３０Ｎ／ｍｍ^２以上がより好ましい。
偏光板保護フィルムの表面硬度は、添加剤の種類及び添加量、樹脂の重合度、ドープ溶媒組成、及びフィルムの延伸処理等により調整することができる。

（鉛筆硬度）
本発明の偏光板保護フィルムは、鉛筆硬度も高いことが好ましい。
鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価に基づく。具体的には、偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重における評価を２０回繰り返して評価する。
実用的には、３Ｈ以上の結果が必要となる。

（紫外線透過率）
本発明の偏光板保護フィルムは、紫外線による偏光子及び／又は液晶セル内の駆動液晶の劣化を防止するため、紫外線を遮蔽する能力が高いことが好ましい。例えば、波長２９０〜３００ｎｍの領域の紫外線透過率は、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。波長２９０〜３００ｎｍの領域の紫外線の透過率を１０％以下にすることで、波長２９０〜３００ｎｍ付近に吸収極大を有するＩ_３ ⁻などの光励起を抑制することができ、結果、光による偏光性能の劣化を効率的に抑制できる。

（ヘイズ）
本発明の偏光板保護フィルムのヘイズは０．０１〜１．００％であることが好ましい。より好ましくは０．０５〜０．８０％である。ヘイズが１．００％以下であると液晶表示装置のコントラストが高くなり好ましい。
ヘイズの測定は、ヘイズメーター、例えば、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を使用し、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じて測定することができる。その際、測定する偏光板保護フィルムもしくはその積層体を４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさにして、２５℃、相対湿度６０％の条件で測定する。

（分子量）
本発明の偏光板保護フィルムは、湿熱経時後でもセルロースアシレートの分子量が大きく低下しないことが好ましい。セルロースアシレートの重量平均分子量は高速液体クロマトグラフィーを用いて以下の条件にて測定することができる。
測定条件
溶媒：ＮＭＰ：和光純薬１３８−１２１０３ (ＬｉＢｒ １０ｍＭ；高純度化学研究所(株)製)
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ−Ｈ ３本（東ソー(株)製）
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ ＭＯＤＥＬ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
流量：１０ｍＬ／ｍｉｎ
校正曲線：ＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（Ｍｗ＝５００〜１００００００、東ソー(株)製）
カラム温度：４０℃

（ｂ^＊測定）
本発明の偏光板保護フィルムは、ｂ^＊が低いことが好ましく、湿熱経時後においてもｂ^＊が抑えられていることがより好ましい。
ｂ^＊の測定はＪＩＳ−Ｚ８７８１に準じ、分光光度計ＵＶ−３１５０（(株)島津製作所製）を用いて、可視光（３８０〜７８０ｎｍ）に対するフィルムの透過率より算出した。

［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と、少なくとも１枚の、上述した本発明の偏光板保護フィルムとを有する。
本発明の偏光板は、通常は偏光子の両面に、偏光子を保護するための光学フィルム（偏光板保護フィルム）を有し、そのうち少なくとも１つの光学フィルムとして本発明の偏光板保護フィルムが用いられる。偏光子の両面に設けられた２枚の偏光板保護フィルムのうち一方が本発明の偏光板保護フィルムである場合、他方の偏光板保護フィルムに特に制限はなく、公知の偏光板保護フィルムを広く用いることができる。

＜偏光子＞
本発明の偏光板に用いる偏光子は、少なくとも二色性色素と樹脂フィルムからなる。

（樹脂）
偏光子に用いる樹脂フィルムとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムが広く用いられており、本発明においてもＰＶＡフィルムを用いることが好ましい。ＰＶＡフィルムは、通常は、偏光子の８０質量％以上を占める。ＰＶＡフィルムの原料とするＰＶＡは、通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有してもよい。また、アセトアセチル基、スルホ基、カルボキシ基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡを用いることもできる。
上記ＰＶＡのケン化度は特に限定されず、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。また、上記ＰＶＡの重合度は特に限定されず、１，０００〜１０，０００が好ましく、１，５００〜５，０００が特に好ましい。

延伸前のＰＶＡフィルムの弾性率は、好ましくは、ヤング率で表すと０．１ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下であり、さらに好ましくは１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下である。
かかる弾性率のＰＶＡフィルムを採用することにより、延伸後のシワの発生が抑制され、延伸後においても十分な強度を有するＰＶＡフィルムを製造することができる。

延伸前のＰＶＡフィルムの厚みは特に限定されず、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。また、延伸後のＰＶＡフィルムの膜厚は２〜１００μｍが好ましく、光モレ改良の観点から７〜２５μｍがより好ましい。

（二色性色素）
偏光子に含まれる二色性色素は、方向により吸光度の異なる色素であり、ヨウ素イオン、ジアゾ系色素、キノン系色素、その他公知の二色性染料などが含まれる。二色性色素としては、Ｉ_３ ⁻及びＩ_５ ⁻などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。
なかでも高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編，ＣＭＣ出版及び工業材料，第２８巻，第７号，ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／又はホウ酸水溶液にＰＶＡフィルムを浸漬することにより、ＰＶＡフィルムに吸着・配向した状態で生成させることができる。なお、これらのポリヨウ素イオンの二量体などの多量体、及び／又はより高次の価数を有するポリヨウ素イオンを含んでいてもよい。

偏光子中に含まれる二色性色素の含有量は、樹脂フィルム１００質量部に対して０．１〜５０質量部が好ましく、０．５〜２０質量部がより好ましく、１．０〜５．０質量部がさらに好ましい。

本発明の偏光子は、樹脂フィルム、二色性色素の他に、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤を含有してもよい。

（偏光子の製造）
偏光子は常法により製造することができる。例えば、ＰＶＡをフィルム化した後、ヨウ素等の二色性色素を導入して製造することができる。ＰＶＡフィルムの製造については、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２１３〜０２３７、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報等の記載を参照することができる。

偏光子の製造のより好ましい形態は、ＰＶＡフィルムを調製する工程（１）と、ＰＶＡフィルムを延伸する工程（２）と、延伸後のＰＶＡフィルムを、二色性色素を用いて染色する工程（３）と、染色後のＰＶＡフィルムをホウ酸架橋する工程（４）とを含む。上記各工程の好ましい実施形態を以下に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

−工程（１）−
水性媒体中にＰＶＡを撹拌しながら添加し、ＰＶＡを溶解した原液を調製する。原液中のＰＶＡ濃度は、好ましくは５〜２０質量％である。また、得られた原液を脱水し、含水率４０％程度のＰＶＡウェットケーキを一度調製してもよい。さらにその後添加剤を加える場合は、例えば、ＰＶＡウェットケーキを溶解槽に入れ、添加剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌することが好ましい。内部樹脂温度は５０〜１５０℃に加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。

次いで上記原液を流延して成膜する。流延の方法としては、特に制限はなく、加熱した原液を２軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段（好ましくはダイ、より好ましくはＴ型スリットダイ）から支持体上に流涎して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出される樹脂溶液の温度については特に制限はない。

支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２０００〜５０００ｍｍが好ましく、２５００〜４５００ｍｍがより好ましく、３０００〜３５００ｍｍが特に好ましい。
キャストドラムの幅は２〜６ｍが好ましく、３〜５ｍがより好ましく、４〜５ｍが特に好ましい。
キャストドラムの回転速度は２〜２０ｍ／分が好ましく、４〜１２ｍ／分がより好ましく、５〜１０ｍ／分が特に好ましい。
キャストドラムのキャストドラム表面温度は４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましく、８０〜１００℃であることが特に好ましい。
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度は４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましく、８０〜１００℃が特に好ましい。

その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行なうことが好ましい。乾燥ロールの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２００〜４５０ｍｍが好ましく、２５０〜４００ｍｍがより好ましく、３００〜３５０ｍｍが特に好ましい。
また、得られたフィルムの長さについても特に制限はなく、２０００ｍ以上、好ましくは４０００ｍ以上の長尺のフィルムとすることができる。フィルムの幅についても、特に制限はないが、２〜６ｍが好ましく、３〜５ｍがより好ましい。

−工程（２）−
延伸は、米国特許第２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍〜１２倍であり、さらに好ましくは３倍〜１０倍である。

−工程（３）−
延伸後のＰＶＡフィルの二色性色素による染色は、気相又は液相吸着により行われる。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、例えば、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液（染色液）に偏光子用ポリマーフィルムを浸漬させることで染色することができる。この水溶液中、ヨウ素は０．１〜２０ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウムは１〜２００ｇ／Ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２００が好ましい。染色時間は１０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜６０℃が好ましい。この他、ヨウ素あるいは染料溶液をＰＶＡフィルムに塗布あるいは噴霧等することによっても染色することができる。
なお、上記では工程（２）の後に工程（３）を実施することを説明しているが、この順序は入れ替えてもよい。すなわち、工程（１）の後に工程（３）の染色を実施し、次いで工程（２）の延伸を実施する形態も好ましい。

−工程（４）−
ＰＶＡフィルムのホウ酸架橋は常法により行うことができる。また、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加しておき、ＰＶＡフィルムをホウ酸架橋することもできる。ＰＶＡフィルムに架橋構造を形成させることにより、二色性色素をＰＶＡフィルム中に安定に保持することが可能となる。

その他の工程として、例えば、膨潤工程、硬膜工程、乾燥工程を行ってもよい。これらの工程は、特開２０１１−２３７５８０号公報の段落番号００３９〜００５０に記載されており、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜偏光板の形状、構成＞
本発明の偏光板の形状は、表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上の態様、又はロール長３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。

本発明の偏光板は、一方の保護フィルム上にプロテクトフィルムを、他方の保護フィルム上にセパレートフィルムを貼合して構成されることも好ましい。
プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

＜偏光板の製造（偏光子と偏光板保護フィルムの積層方法）＞
上記偏光子の少なくとも一方の面に、少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムを積層することにより、本発明の偏光板を得ることができる。
偏光板保護フィルムは偏光子との貼合面をアルカリ処理しておき、完全ケン化ＰＶＡ水溶液を接着剤として用いて偏光子と貼り合わせて作製することが好ましい。
偏光板保護フィルムの処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、上記完全ケン化ＰＶＡ水溶液の他、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。

本発明の偏光板保護フィルムを偏光子に貼り合せる際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸が直交、平行又は４５°となるように貼り合せることが好ましい。
ここで、平行及び直交については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含む。例えば、平行、直交に関する厳密な角度から±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての平行とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光子の透過軸の方向とが±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、５°以内が好ましく、より好ましくは３°以内、さらに好ましくは１°以内、最も好ましくは０．５°以内である。
また、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての直交とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが９０°±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、好ましくは９０°±５°、より好ましくは９０°±３°、更に好ましくは９０°±１°、最も好ましくは９０°±０．１°である。上述のような範囲であれば、偏光板クロスニコル下における偏光度性能の低下が抑制され、光抜けが低減され好ましい。

＜偏光板の機能化＞
本発明の偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、前方散乱層、及びアンチグレア（防眩）層等の機能層を有する偏光板保護フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、前方散乱層、アンチグレア層については、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２５７〜０２７６に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。

＜偏光板の性能＞
（偏光度）
本発明の偏光板は、偏光度９５．０％以上が好ましく、９８％以上がより好ましく、最も好ましくは９９．５％以上である。

本発明において、偏光板の偏光度は、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて波長３８０ｎｍ〜７００ｎｍで測定した直交透過率及び平行透過率から以下の式により偏光度スペクトルを算出し、さらに光源（補助イルミナントＣ）とＣＩＥ視感度（Ｙ）の重み付け平均を計算することにより求めることができる。

偏光度（％）
＝｛（平行透過率−直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝^１／２×１００

（偏光度変化）
本発明の偏光板は、湿熱条件下においても光学性能が低下しにくく耐久性に優れる。
本発明の偏光板は、８５℃、相対湿度８５％の環境下で１２０時間保存した場合の偏光度変化が１２％未満であるのが好ましい。偏光度の測定は、後述する実施例に記載の方法により測定される。

（その他の特性）
本発明の偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開２００７−０８６７４８号公報の段落番号０２３８〜０２５５に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。

［画像表示装置］
本発明の偏光板は画像表示装置用途として好ましく用いられる。かかる画像表示装置として、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置が挙げられる。有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いる場合、例えば反射防止用途に用いられる。なかでも本発明の偏光板は液晶表示装置に好適に用いられる。
＜液晶表示装置＞
本発明の画像表示装置としての一実施形態である液晶表示装置は、液晶セルと、この液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含む。

上記液晶表示装置の好ましい実施形態について説明する。
図１は、上記液晶表示装置の一実施形態を示す概略図である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層５とこの上下に配置された液晶セル上電極基板３及び液晶セル下電極基板６とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１及び下側偏光板８からなる。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。液晶表示装置１０を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

上側偏光板１及び下側偏光板８は、通常は、それぞれ２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有している。本発明の液晶表示装置１０は、少なくとも一方の偏光板が本発明の偏光板であることが好ましい。本発明の液晶表示装置１０は、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、偏光板保護フィルムとしての本発明のセルロースエステルフィルム、偏光子、一般の透明保護フィルムの順序で積層することも好ましい。
液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

（液晶表示装置の種類）
本発明のセルロースエステルフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−ＰｌａｎｅＳｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃＬｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースエステルフィルムは、液晶セルの駆動モードに必要なレターデーション等を考慮することで、いずれの表示モードの液晶表示装置にも好適に用いることができる。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置にも好適に用いることができる。

本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。

［製造例 偏光板の作製］
＜偏光板保護フィルム１０１の作製＞
（セルロースアシレート溶液１０１の調製）
下記の各成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して溶液とし、セルロースアシレート溶液１０１を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・フィルム耐久性改良剤（化合物１−１） ０．５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３８９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５８．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（マット剤溶液１０２の調製）
下記の各成分を分散機に投入し、攪拌して溶液とし、マット剤溶液１０２を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液１０２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０１ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（流延）
上記マット剤溶液１０２を１．３質量部と、セルロースアシレート溶液１０１を９８．７質量部とをインラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調製した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が約２０質量％になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１０倍（１０％）延伸しつつ乾燥した。残留溶媒量は、流延支持体からサンプルを切り出してクロロホルムに溶かし、ガスクロマトグラフィーによりメチレンクロライド量を測定し、決定した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、本発明の偏光板保護フィルム１０１を得た。得られた偏光板保護フィルム１０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍ、巻き長さは２７００ｍであった。

＜偏光板保護フィルム１０２〜１１７、ｃ０１〜ｃ０９の作製＞
偏光板保護フィルム１０１の作製において、セルロースアシレート溶液１０１中のフィルム耐久性改良剤の種類ないし添加量を下表に記載の通りに変更し（下表に示された添加量はセルロースアセテート１００質量部に対する添加量（質量部）である）、さらに下記表１に示すバルビツール酸化合物ないしアセタール化合物を添加したこと以外は、偏光板保護フィルム１０１と同様にして、本発明の偏光板保護フィルム１０２〜１１７及び比較の偏光板保護フィルムｃ０１〜ｃ０９をそれぞれ作製した。

＜セルロースアシレートフィルムＳ０１の作製＞
（セルロースアシレート溶液１０３の調製）
下記の各成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して溶液とし、セルロースアシレート溶液セルロースアシレート溶液１０３を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１０３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤Ｅ−１ ８．０質量部
・シプロ化成（株）製ＳＥＥＳＯＲＢ７０６（商品名）
４．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３８９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５８．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（マット剤溶液１０４の調製）
下記の各成分を分散機に投入し、攪拌して溶液とし、マット剤溶液１０４を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液１０４の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０３ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（バルビツール酸系添加剤溶液１０５の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、バルビツール酸系添加剤溶液１０５を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
バルビツール酸系添加剤溶液１０５の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・化合物Ａ−３ ２０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ６９．６質量部
・メタノール（第２溶媒） １０．４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（流延）
上記マット剤溶液１０４の１．３質量部と、バルビツール酸系添加剤溶液１０５の３．４質量部をそれぞれ濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液１０３を９５．３質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調製した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１５倍（１５％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、セルロースアシレートフィルムＳ０１を得た。得られたセルロースアシレートフィルムＳ０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍ、巻き長さは２７００ｍであった。

＜偏光子の作製＞
平均重合度２４００、鹸化度９９．９％以上のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）粉体を純水に溶解して１０質量％になるように調整した水溶液を、ポリエステルフィルム上に塗布して４０℃、３時間乾燥した後、さらに１１０℃、６０分乾燥を行ない、厚さ３２μｍのＰＶＡフィルムを得た。得られたフィルムを３０℃の温水で１分間膨潤させ、３０℃のヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液に浸漬して、１．５倍に縦一軸延伸した。ヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液の濃度は、ヨウ素濃度０．３８質量％とした。次いで、５０℃の４．２５質量％のホウ酸水溶液中で、総延伸倍率が７倍になるように縦一軸延伸し、３０℃の水浴に浸漬して水洗し、５０℃、４分間乾燥し、厚さ８μｍの偏光子を得た。

＜偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）の鹸化処理＞
上記で作製した偏光板保護フィルム１０１〜１１７、ｃ０１〜ｃ０９及びセルロースアシレートフィルムＳ０１をそれぞれ、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に、５５℃で３分間浸漬した。その後、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。こうして、偏光板保護フィルム１０１〜１１７、ｃ０１〜ｃ０９及びセルロースアシレートフィルムＳ０１に対して、フィルム表面の鹸化処理を行った。

＜偏光板Ｈ０１の作製＞
鹸化処理した偏光板保護フィルム１０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で製造した偏光子の片側に貼り付けた。さらに、偏光板保護フィルム１０１と偏光子を挟んで反対側に鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムもしくはセルロースアシレートフィルムの幅方向が平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｈ０１を作製した。

＜偏光板Ｈ０２〜Ｈ１７、Ｈｃ１〜Ｈｃ９の作製＞
偏光板Ｈ０１の作製において、偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルムを下表に記載の通りに変更した以外は、偏光板Ｈ０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ０２〜Ｈ１７、比較の偏光板Ｈｃ１〜Ｈｃ９を作製した。

［試験例１ 偏光板保護フィルムの耐久性試験］
＜分子量変化＞
上記で作製した各偏光板保護フィルムに対して、高速液体クロマトグラフィーを用いて下記測定条件にて重量平均分子量を測定した。
（測定条件）
溶媒：ＮＭＰ：和光純薬１３８−１２１０３ (ＬｉＢｒ １０ｍＭ；高純度化学研究所(株)製)
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ−Ｈ ３本（東ソー(株)製）
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ ＭＯＤＥＬ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
流量：１０ｍＬ／ｍｉｎ
校正曲線：ＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（Ｍｗ＝５００〜１００００００、東ソー(株)製）
カラム温度：４０℃
製膜直後の重量平均分子量をＭｗ（前）とし、９０℃、相対湿度９０％の環境下で１４日間保存した後のサンプルの重量平均分子量をＭｗ（後）として、下記式で算出されるΔＭｗを指標にして、下記評価基準に基づき、偏光板保護フィルムの耐久性評価した。ΔＭｗが小さいほどフィルム耐久性に優れる。

ΔＭｗ＝１−Ｍｗ（後）／Ｍｗ（前）

（分子量変化の評価基準）
ＡＡ：ΔＭｗが０．０１未満
Ａ：ΔＭｗが０．０１以上０．０２未満
Ｂ：ΔＭｗが０．０２以上０．０３未満
Ｃ：ΔＭｗが０．０３以上０．０５未満
Ｄ：ΔＭｗが０．０５以上
結果を下表に示す。

＜色味変化＞
上記で作製した各偏光板保護フィルムに対して、ＪＩＳ−Ｚ８７８１の方法に従い、分光光度計ＵＶ−３１５０（(株)島津製作所製）を用いてｂ^＊測定をした。製膜直後の測定値をｂ^＊（前）とし、９０℃、相対湿度９０％の環境下で１４日間保存した後の測定値をｂ^＊（後）として、下記式で算出されるΔｂ^＊を指標にして、下記評価基準に基づき、偏光板保護フィルムの耐久性評価した。Δｂ^＊が小さいほど耐久性に優れる。

Δｂ^＊＝ｂ^＊（後）−ｂ^＊（前）として、以下の基準により評価した。

（色味変化の評価基準）
ＡＡ：Δｂ^＊が０．０５未満
Ａ：Δｂ^＊が０．０５以上０．１未満
Ｂ：Δｂ^＊が０．１以上０．３未満
Ｃ：Δｂ^＊が０．３以上０．６未満
Ｄ：Δｂ^＊が０．６以上
結果を下表に示す。

［試験例２ 偏光板耐久性試験］
上記で作製した各偏光板に対して、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０（商品名）を用いて直交透過率及び平行透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。

偏光度（％）
＝｛（平行透過率−直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝^１／２×１００

偏光板を、粘着剤を介してガラス板の上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を作製した。この際、セルロースアシレートフィルムＳ０１がガラスと反対側（空気界面側）になるように貼り付けた。直交透過率の測定ならびに平行透過率は、このサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして測定した。

その後、８５℃、相対湿度８５％の環境下で１２０時間保存した後のサンプルについても同様にして偏光度を測定した。経時前後の偏光度変化量を下記式から求め、下記評価基準に基づき偏光板耐久性を評価した。偏光度変化量が小さいほど耐久性に優れる。

偏光度変化量（％）＝［上記保存前の偏光度（％）−上記保存後の偏光度（％）］

（偏光板耐久性の評価基準）
ＡＡ：偏光度変化量が１％未満
Ａ：偏光度変化量が１％以上５％未満
Ｂ：偏光度変化量が５％以上１２％未満
Ｃ：偏光度変化量が１２％以上２０％未満
Ｄ：偏光度変化量が２０％以上
結果を下表に示す。

上記表２に示す化合物は下記の通りである。下記式中、Ｍｅはメチル、Ｐｈはフェニルを示す。また、化合物３−２の重量平均分子量は３０００〜４０００であり、化合物Ｈ−２は重量平均分子量２０００〜４０００である。また、化合物Ｈ−１は市販のエポキシ化合物：ＥＰＯＮ８１５ｃ（Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）である。

上記表２に示される通り、フィルム耐久性改良剤を含有しない偏光板保護フィルムは、湿熱処理によってフィルム中のセルロースアシレートが分解されやすく、また色味も変化しやすいことがわかった（比較例１、８及び９）。
また、フィルム耐久性改良剤としてエポキシ化合物を含有する偏光板保護フィルムは、フィルム中のセルロースアシレートの分解及び色味変化がある程度抑えられたが、偏光板耐久性は逆に悪化する傾向にあった（比較例２、３）。
また、フィルム耐久性改良剤として、Ｃ＝Ｎ構造が単環の環構成原子として存在する構造の化合物を用いた場合にも、フィルム中のセルロースアシレートの分解を十分に抑えることができず、これを用いた偏光板耐久性にも劣る結果となった（比較例４、５）。また、上記以外の酸捕捉作用を示す公知の化合物を用いた場合にも、フィルム耐久性と偏光板耐久性のすべてを目的のレベルまで高めることはできなかった（比較例６、７）。

これに対し、本発明で規定する一般式（１）〜（３）の各式で表される化合物のいずれかを含有する偏光板保護フィルムは、高温高湿の過酷環境下においても主成分であるセルロースアシレートの分解を生じにくく、且つ、保護フィルム自体の色味も抑制できることがわかった。
また、これらの偏光板保護フィルムを有する偏光板は、高温高湿環境下においても光学特性が劣化しにくく良好な偏光板耐久性を示した。さらに一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物と、一般式（Ａ）で表されるバルビツール酸化合物を併用することにより、偏光板耐久性がより高められること、さらにアセタール化合物を併用することによりフィルムの色味変化ないし偏光板耐久性が高度に高められることも示された（実施例１〜１７）。

本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。

本願は、２０１６年１月２２日に日本国で特許出願された特願２０１６−０１０６９７に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。

１ 上側偏光板
２ 上側偏光板吸収軸の方向
３ 液晶セル上電極基板
５ 液晶層
６ 液晶セル下電極基板
８ 下側偏光板
９ 下側偏光板吸収軸の方向
１０ 液晶表示装置

Claims (10)

1. 偏光子と、該偏光子に積層された偏光板保護フィルムとを有する偏光板であって、
   上記偏光板保護フィルムが、下記一般式（１）で表される化合物とセルロースアシレートとを含有する、偏光板。
   

   

   一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基又はカルバモイル基を示す。Ｒ^３はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。
   但し、一般式（１）中、互いに二重結合で連結されて示された炭素原子及び窒素原子は単環の環構成原子ではない。
2. 上記偏光板保護フィルム中、上記セルロースアシレートの含有量１００質量部に対し、上記の一般式（１）で表される化合物の含有量が、合計で０．１〜５０質量部である、請求項１記載の偏光板。
3. 上記一般式（１）のＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つがアリール基である、請求項１又は２記載の偏光板。
4. 上記一般式（１）のＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも２つがアリール基である、請求項３記載の偏光板。
5. 上記アリール基がフェニル基である、請求項３又は４記載の偏光板。
6. 上記の一般式（１）で表される化合物の分子量が２５０以上である、請求項１〜５のいずれか１項記載の偏光板。
7. 上記偏光板保護フィルムが、下記一般式（Ａ）で表される化合物の少なくとも１種を含有する、請求項１〜６のいずれか１項記載の偏光板。
   

   

   一般式（Ａ）中、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又は芳香族基を示す。Ｒ^Ａ５は水素原子又は置換基を示す。
8. 上記偏光板保護フィルムが、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される化合物の少なくとも１種を含有する、請求項１〜７のいずれか１項記載の偏光板。
   

   

   一般式（Ｉ）中、Ｚはベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。Ｘは、下記一般式（Ｉ−Ａ−３）で表される基を示し、ｎ１は２〜６の整数である。Ｒ^１ａは置換基を示し、ｍ１は０〜４の整数である。
   

   

   一般式（Ｉ−Ａ−３）中、Ｒ^Ｃ７〜Ｒ^Ｃ１２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基を示す。＊は結合手を示す。
   

   

   一般式（II）中、Ｘは上記一般式（Ｉ）におけるＸと同義である。ｎ２１及びｎ２２は、１〜５の整数である。Ｒ^２１及びＲ^２２は置換基を示し、ｍ２１及びｍ２２は０〜４の整数である。
9. 請求項１〜８のいずれか１項記載の偏光板を有する画像表示装置。
10. 下記一般式（１）で表される化合物とセルロースアシレートとを含有する偏光板保護フィルム。
    

    

    一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールカルボニル基又はカルバモイル基を示す。Ｒ^３はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。
    但し、一般式（１）中、互いに二重結合で連結されて示された炭素原子及び窒素原子は単環の環構成原子ではない。
    

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