JP6523623B2 - 荷電粒子線装置およびステージ制御方法 - Google Patents
荷電粒子線装置およびステージ制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6523623B2 JP6523623B2 JP2014139283A JP2014139283A JP6523623B2 JP 6523623 B2 JP6523623 B2 JP 6523623B2 JP 2014139283 A JP2014139283 A JP 2014139283A JP 2014139283 A JP2014139283 A JP 2014139283A JP 6523623 B2 JP6523623 B2 JP 6523623B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- current
- coil
- brake
- particle beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 3
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 31
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 22
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 description 15
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 15
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000036461 convulsion Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20221—Translation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20278—Motorised movement
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
従って、図9の電流によって単位時間当たりに生じる発熱量は図10のようになる。この塗りつぶされた面積を総稼動時間Tで割ると稼動時の平均発熱量Waが計算できる(図11参照)。次に、この平均発熱量Waより平均電流量Iaを以下の式にて求めることができる。
この平均電流量Iaを不稼働時のリニアモータに流すことで、稼動時と等価の発熱状態を継続できることになる。但し、ブレーキによる摩擦力を超える推力が発生しないように、予め上限値を算出して、それ以上の推力がでないような制御方法をソフト、或いは電気的ハードにて作り込む必要がある。
L=n×P+P×(1/3)=P(n+1/3)
或いは
L=n×P+P×(2/3)=P(n+2/3)
とすれば、可動子及びステージ全体を装置稼動状態に近い温度分布に設定できる。
Claims (18)
- 対象物に荷電粒子線を照射することにより画像を取得する荷電粒子線装置において、
前記対象物をガイドレールに沿って移動させるステージと、
コイル及びマグネットからなり、前記コイルに電流を流すことで発生する推力により前記ステージを移動させるリニアモータ機構と、
前記コイルに流す電流を制御する制御部と、
前記ステージを固定するブレーキと、を有し、
前記制御部は、前記ステージの不稼働時間に前記ブレーキをかけつつ、前記ステージ動作時と同じまたはそれ以上の電流量であって、当該ブレーキによってもたらされる前記ガイドレールに対する前記ステージの静止摩擦力以下の推力を発生するような電流を、前記コイルに供給することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、前記ブレーキによって前記ステージを固定した状態で、前記ステージが動作している状態において前記コイルへ流される電流量以上の電流を前記コイルに流すように制御することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
前記ステージの静止を保った状態において前記コイルに流される電流によって発生する推力は、前記ブレーキによる摩擦力以下であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、前記ステージの位置座標に対して前記コイルに流す電流量が対応づけられた第1の電流プロファイルと、前記第1の電流プロファイルとは位相がずれた第2の電流プロファイルを切り替え可能であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記第1の電流プロファイルは前記ステージを駆動するときに用いられ、前記第2の電流プロファイルは前記ステージが静止した状態で用いられることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 対象物に荷電粒子線を照射することにより画像を取得する荷電粒子線装置において、
前記対象物をガイドレールに沿って移動させるステージと、
コイル及びマグネットからなり、前記コイルに電流を流すことで発生する推力により前記ステージを移動させるリニアモータ機構と、
前記コイルに流す電流を制御する制御部と、
前記ステージを固定するブレーキと、を有し、
前記制御部は、前記ステージの不稼働時間に前記ブレーキをかけつつ、当該ブレーキによってもたらされる前記ガイドレールに対する前記ステージの静止摩擦力以下の推力を発生するように、前記コイルに電流を供給するとともに、
前記ステージの位置座標に対して前記コイルに流す電流量が対応づけられた第1の電流プロファイルと、前記第1の電流プロファイルとは位相がずれた第2の電流プロファイルを有し、
前記第1の電流プロファイルは前記ステージを駆動するときに用いられ、前記第2の電流プロファイルは前記ステージが静止した状態で用いられ、
前記第2の電流プロファイルによって規定される電流量は前記第1の電流プロファイルによって規定される電流量より大きいことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記リニアモータ機構に発生した推力の過去の履歴を記憶する記憶部を有し、
前記制御部は、前記過去の履歴を時間平均処理して、前記ステージの静止を保った状態において前記リニアモータに発生させる推力を決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、将来の前記ステージの動作予定に基づいて将来発生する前記ステージの推力の時間平均を推測し、前記推測した結果に基づいて前記ステージの静止を保った状態において前記リニアモータに発生させる推力を決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 対象物に荷電粒子線を照射することにより画像を取得する荷電粒子線装置において、
前記対象物をガイドレールに沿って移動させるステージと、
コイル及びマグネットからなり、前記コイルに電流を流すことで発生する推力により前記ステージを移動させるリニアモータ機構と、
前記コイルに流す電流を制御する制御部と、
前記ステージを固定するブレーキと、
前記ステージの温度を計測する温度センサと、を有し、
前記制御部は、前記ステージの不稼働時間に前記ブレーキをかけつつ、当該ブレーキによってもたらされる前記ガイドレールに対する前記ステージの静止摩擦力以下の推力を発生するように、前記コイルに電流を供給するとともに、
前記温度センサにより計測される温度が所定の目標温度範囲に収まるように前記コイルに流す電流量を決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 対象物に荷電粒子線を照射することにより画像を取得する荷電粒子線装置において、
前記対象物をガイドレールに沿って移動させるステージと、
コイル及びマグネットからなり、前記コイルに電流を流すことで発生する推力により前記ステージを移動させるリニアモータ機構と、
前記コイルに流す電流を制御する制御部と、
前記ステージを固定するブレーキと、を有し、
前記制御部は、前記ステージの不稼働時間に前記ブレーキをかけつつ、当該ブレーキによってもたらされる前記ガイドレールに対する前記ステージの静止摩擦力以下の推力を発生するように、前記コイルに電流を供給するとともに、
所定時間ごとに、前記ステージを前記マグネットが配置された間隔の非整数倍の距離だけ移動させることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 対象物をガイドレールに沿って移動させるステージと、
コイル及びマグネットからなり、前記コイルに電流を流すことで発生する推力により前記ステージを移動させるリニアモータ機構と、
前記コイルに流す電流を制御する制御部と、
前記ステージを固定するブレーキと、を有する荷電粒子線装置におけるステージ制御方法において、
前記ステージの不稼働時間に前記ブレーキをかけつつ、前記ステージ動作時と同じまたはそれ以上の電流量であって、当該ブレーキによってもたらされる前記ガイドレールに対する前記ステージの静止摩擦力以下の推力を発生するような電流を、前記コイルに供給することを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項11に記載のステージ制御方法において、
前記ブレーキによって前記ステージを固定した状態で、前記ステージが動作している状態において前記コイルへ流される電流量以上の電流を前記コイルに流すように制御することを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項12に記載のステージ制御方法において、
前記ステージの静止を保った状態において前記コイルに流される電流によって発生する推力は、前記ブレーキによる摩擦力以下であることを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項11に記載のステージ制御方法において、
前記ステージの位置座標に対して前記コイルに流す電流量が対応づけられた第1の電流プロファイルによって前記コイルに電流を流して前記ステージを駆動し、
前記第1の電流プロファイルとは位相がずれた第2の電流プロファイルによって前記ステージが静止した状態で前記コイルに電流を流すことを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項11に記載のステージ制御方法において、
前記リニアモータ機構に発生した推力の過去の履歴を記憶し、
前記過去の履歴を時間平均処理して、前記ステージの静止を保った状態において前記リニアモータに発生させる推力を決定することを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項11に記載のステージ制御方法において、
将来の前記ステージの動作予定に基づいて将来発生する前記ステージの推力の時間平均を推測し、
前記推測した結果に基づいて前記ステージの静止を保った状態において前記リニアモータに発生させる推力を決定することを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項11に記載のステージ制御方法において、
前記ステージの温度が所定の目標温度範囲に収まるように前記コイルに流す電流量を決定することを特徴とするステージ制御方法。 - 対象物をガイドレールに沿って移動させるステージと、
コイル及びマグネットからなり、前記コイルに電流を流すことで発生する推力により前記ステージを移動させるリニアモータ機構と、
前記コイルに流す電流を制御する制御部と、
前記ステージを固定するブレーキと、を有する荷電粒子線装置におけるステージ制御方法において、
前記ステージの不稼働時間に前記ブレーキをかけつつ、当該ブレーキによってもたらされる前記ガイドレールに対する前記ステージの静止摩擦力以下の推力を発生するように、前記コイルに電流を供給し、
所定時間ごとに、前記ステージを前記マグネットが配置された間隔の非整数倍の距離だけ移動させることを特徴とするステージ制御方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014139283A JP6523623B2 (ja) | 2014-07-07 | 2014-07-07 | 荷電粒子線装置およびステージ制御方法 |
US14/747,364 US9502208B2 (en) | 2014-07-07 | 2015-06-23 | Charged particle beam apparatus, stage controlling method, and stage system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014139283A JP6523623B2 (ja) | 2014-07-07 | 2014-07-07 | 荷電粒子線装置およびステージ制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016018623A JP2016018623A (ja) | 2016-02-01 |
JP6523623B2 true JP6523623B2 (ja) | 2019-06-05 |
Family
ID=55017490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014139283A Active JP6523623B2 (ja) | 2014-07-07 | 2014-07-07 | 荷電粒子線装置およびステージ制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9502208B2 (ja) |
JP (1) | JP6523623B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9905393B2 (en) * | 2015-03-26 | 2018-02-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Stage apparatus with braking system for lens, beam, or vibration compensation |
JP6633986B2 (ja) * | 2016-07-20 | 2020-01-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US10872742B2 (en) * | 2016-11-24 | 2020-12-22 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device |
KR102457251B1 (ko) | 2017-03-31 | 2022-10-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
US10331687B2 (en) * | 2017-08-10 | 2019-06-25 | Snap-On Incorporated | System and method for accessing vehicle communication applications requiring vehicle identification without re-entering vehicle identification |
WO2019042905A1 (en) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | Asml Netherlands B.V. | ELECTRON BEAM INSPECTION TOOL |
US10600614B2 (en) * | 2017-09-29 | 2020-03-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Stage device and charged particle beam device |
JP7025256B2 (ja) * | 2018-03-16 | 2022-02-24 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
US10876833B2 (en) * | 2018-03-26 | 2020-12-29 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for measuring micrometer scale features of electronic component over millimeter scale distances to nanometer scale precision |
US11054739B2 (en) * | 2018-07-26 | 2021-07-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, control method, imprint method and manufacturing method |
EP3667696A1 (en) * | 2018-12-14 | 2020-06-17 | ASML Netherlands B.V. | Stage apparatus suitable for electron beam inspection apparatus |
JP7185576B2 (ja) * | 2019-03-28 | 2022-12-07 | シチズン千葉精密株式会社 | 制御装置 |
US10825646B2 (en) * | 2019-03-28 | 2020-11-03 | Fei Company | Actuator-assisted positioning systems and methods |
JP7249989B2 (ja) * | 2020-12-16 | 2023-03-31 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11235082A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-27 | Nikon Corp | モータの制御方法およびステージ装置並びに露光装置 |
JP3615198B2 (ja) | 2002-04-18 | 2005-01-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム描画装置 |
JP2004111684A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2007184193A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP5203781B2 (ja) * | 2008-04-08 | 2013-06-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料ステージ装置及びその制御方法 |
WO2011145290A1 (ja) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡 |
JP5690686B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2015-03-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ステージ装置及びステージ装置におけるステージの位置決め制御方法 |
DE102012205317B4 (de) * | 2012-03-30 | 2018-06-28 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zur Einstellung einer Position eines Trägerelements in einem Teilchenstrahlgerät, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät |
JP2013229530A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-07 | Hitachi High-Technologies Corp | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
-
2014
- 2014-07-07 JP JP2014139283A patent/JP6523623B2/ja active Active
-
2015
- 2015-06-23 US US14/747,364 patent/US9502208B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016018623A (ja) | 2016-02-01 |
US9502208B2 (en) | 2016-11-22 |
US20160005568A1 (en) | 2016-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6523623B2 (ja) | 荷電粒子線装置およびステージ制御方法 | |
JP5119001B2 (ja) | 試料ステージ | |
JP4852431B2 (ja) | 被制御モータを有するリソグラフィ装置、並びにモータ制御システム及び方法 | |
US11557954B2 (en) | Transport system, processing system, and article manufacturing method | |
US20180217201A1 (en) | Stage Device and Probe Device | |
WO2016093185A1 (ja) | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 | |
US20200203117A1 (en) | Electron beam inspection tool and method of controlling heat load | |
JP2001007015A (ja) | ステージ装置 | |
JP2015073083A (ja) | ステージ装置、およびその駆動方法 | |
WO2018020625A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
TWI667682B (zh) | Platform device and charged particle beam device | |
JP2008130361A (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の撮像方法 | |
JP7258184B2 (ja) | ローラベアリングの寿命向上のためのステージフレッチング防止機構 | |
JP2002103102A (ja) | 加工装置および加工方法 | |
TWI847097B (zh) | 用於判定標記量測序列之方法及平台裝置 | |
JP5506207B2 (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
US10074512B2 (en) | System and method for setting a temperature of an object within a chamber | |
US20180074416A1 (en) | A lithography apparatus and a method of manufacturing a device | |
US8115425B2 (en) | Driving apparatus, industrial instrument, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
TWI819849B (zh) | 平台裝置及具備平台裝置的帶電粒子線裝置 | |
KR100717284B1 (ko) | 웨이퍼 스테이지 시스템 | |
JP2008182150A (ja) | モ−タ駆動装置とそれを用いた露光装置 | |
JP2019067546A (ja) | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 | |
JP2013212018A (ja) | 駆動装置、ステージ装置、及び露光装置 | |
JP2004296583A (ja) | 試料載置用可動ステージ、回路パターンの製造装置、及び回路パターンの検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170117 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170124 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170329 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20170803 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6523623 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |