JP6413316B2 - 振動片の製造方法 - Google Patents
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Description
(2)圧電基板に電極となる金属膜を形成する。
(3)金属膜上にレジストマスクを形成する。
(4)レジストマスクの一部に露光光を照射する。
(5)露光光が照射されたレジストマスクを除去する。
(6)残存したレジストマスクから露出している金属膜を除去する。
(7)残存したレジストマスクを除去する。
本発明の振動片の製造方法は、基部と、該基部から延出する振動腕とを有し、前記振動腕の長手方向に沿って延在する溝が形成されている圧電基板と、前記溝の内面に設けられた電極とを含む振動片を製造する製造方法であって、
前記溝の内面に、前記電極となる金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜の表面にレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、
前記レジストマスクの一部に光を照射して露光する露光工程とを有し、
前記溝の内面は、前記電極が形成される電極形成面と、仮に前記光を照射した場合、前記光が反射して、前記電極形成面に前記光が照射される光反射面とを有しており、
前記露光工程において、前記光反射面に向う前記光を遮蔽する遮蔽部を設けることを特徴とする。
本発明の振動片の製造方法では、前記遮蔽部は、厚さ方向に貫通する貫通孔を有する板材で構成され、
前記露光工程では、前記遮蔽部の平面視で、前記光反射面と前記貫通孔とは、重なっていないのが好ましい。
本発明の振動片の製造方法では、前記露光工程では、前記圧電基板の厚さ方向から前記圧電基板に向って前記光を照射するのが好ましい。
本発明の振動片の製造方法では、前記露光工程では、前記圧電基板の厚さ方向と交わる方向から前記圧電基板に向って前記光を照射するのが好ましい。
本発明の振動片の製造方法では、前記圧電基板は、Zカット水晶板で構成されているのが好ましい。
これにより、本発明の効果を確実に奏することができる。
本発明の振動片の製造方法では、前記溝の内面は、前記圧電基板の結晶軸のZ軸を法線とする底面を有し、
前記露光工程では、少なくとも前記底面に前記光を照射するのが好ましい。
本発明の振動片の製造方法では、前記光反射面は、前記圧電基板の結晶軸のZ軸に対して傾斜した傾斜面で構成され、
前記電極形成面は、前記圧電基板の結晶軸のX軸を法線とする平面で構成されているのが好ましい。
これにより、本発明の効果を効果的に奏することができる。
本発明の振動片の製造方法では、前記露光工程に先立って、前記光反射面の位置を検出する検出工程を有しているのが好ましい。
これにより、露光工程を行う以前に、光反射面の位置を確実に把握することができる。
本発明の振動片は、本発明の振動片の製造方法によって製造されることを特徴とする。
本発明の電子機器は、本発明の振動片を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を得ることができる。
本発明の移動体は、本発明の振動片を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い移動体を得ることができる。
<第1実施形態>
図1は、本発明の振動片の製造方法により製造される振動片を示す平面図である。図2は、図1に示す振動片の透過図である。図3は、図1中のA−A線断面図である。図4は、(a)〜(c)が、本発明の振動片の製造方法を説明するための図である。図5は、(a)〜(c)が、本発明の振動片の製造方法を説明するための図である。
図1および図2に示す振動片2は、圧電基板20と、圧電基板20に形成された電極とを有している。
圧電基板20の構成材料としては、例えば、水晶、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムなどの圧電材料が挙げられる。これらの中でも、圧電基板20の構成材料としては、水晶を用いることが好ましい。水晶を用いることで、他の材料と比較して優れた周波数温度特性を有する振動片2が得られる。なお、以下では、圧電基板20を水晶で構成した場合について説明する。
このような圧電基板20は、基部21と、駆動用振動腕221および駆動用振動腕222と、検出用振動腕231および検出用振動腕232と、支持部(枠体)25と、4つの連結部261、262、263、264とを有している。
図1および図2に示すように、電極は、第1検出信号電極311と、第1検出信号端子312と、第2検出信号電極313と、第2検出信号端子314と、駆動信号電極331と、駆動信号端子332と、駆動接地電極341と、駆動接地端子342とを有している。なお、図2では、説明の便宜上、第1検出信号電極311および第1検出信号端子312、第2検出信号電極313および第2検出信号端子314、駆動信号電極331および駆動信号端子332、駆動接地電極341および駆動接地端子342を、それぞれ、異なるハッチングで図示している。また、圧電基板20の側面に形成されている電極、配線、端子を太線で図示している。
以上、振動片2の構成について説明した。
振動片2に角速度が加わらない状態において、駆動信号端子332と駆動接地端子342との間に電圧(交番電圧)を印加することで駆動信号電極331と駆動接地電極341との間に電界が生じると、駆動用振動腕221は、図1中矢印A方向に示す方向に屈曲振動を行い、駆動用振動腕222は、図1中矢印B方向に示す方向に屈曲振動を行う。
本発明の振動片の製造方法は、用意工程と、金属膜形成工程と、レジストマスク形成工程と、検出工程と、配置工程と、露光工程と、現像工程と、除去工程とを有している。
まず、圧電基板20、治具4Aおよび治具4Bを用意する。
次に、図4(a)に示すように、例えば、蒸着やスパッタリング等によって、圧電基板20の全面に、電極となる金属膜30を成膜する。
次に、図4(b)に示すように、金属膜30の全面にポジ型のフォトレジスト膜40を成膜する。この成膜方法としては、例えば、プラズマCVD等の気相成膜法を用いることができる。
次に、傾斜面233Bの位置を検出する傾斜面233Bの位置を検出する方法としては特に限定されず、例えば、撮像手段によりZ軸方向から撮像した濃淡画像に基づいて、傾斜面233Bの位置を検出する方法等が挙げられる。
次に、図4(c)に示すように、圧電基板20の+Z軸側に治具4Aを配置し、−Z軸側に治具4Bを配置する(以下、この状態を「配置状態」と言う)。このとき、治具4Aの平面視で、傾斜面233Bと貫通孔41、42とがずれる、すなわち、傾斜面233Bと貫通孔41、42とが重ならないように治具4Aを配置する。また、治具4Bの平面視で、傾斜面233Bと貫通孔41、42とが重ならないように治具4Bを配置する。
なお、配置状態では、治具4A、4Bは、面233Dおよび面234Dを覆っている。
そして、配置状態で+Z軸方向および−Z軸方向から圧電基板20に向って、光(露光光)Lを照射する。+Z軸側から照射された光Lは、治具4Aの貫通孔41を介して上面234Aに照射され、治具4Bの各貫通孔42を介して上面234Bおよび傾斜面233Cに照射される。
次に、圧電基板20に現像液を供給して現像する。これにより、図5(a)に示すように、フォトレジスト膜40のうちの感光した部分が除去される。
そして、図5(b)に示すように、残存しているフォトレジスト膜をマスクとして、露出している部分を例えば、ウェットエッチングにより除去する。そして最後に、図5(c)に示すように、残存しているフォトレジスト膜40を除去する。
図6は、本発明の振動片の製造方法の第2実施形態により製造される振動片を示す断面図である。
図7は、本発明の振動片の製造方法の第3実施形態により製造される振動片を示す断面図である。
本実施形態は、電極の形状が異なること以外は前記第1実施形態と同様である。
このような振動片2Bによっても、振動片2と同様の機能を有するものとなる。
図8は、本発明の振動片の製造方法の第4実施形態により製造される振動片を示す断面図である。
本実施形態は、電極の形状が異なること以外は前記第1実施形態と同様である。
このような振動片2Cによっても、振動片2と同様の機能を有するものとなる。
図9は、本発明の振動片の製造方法の第5実施形態により製造される振動片を示す断面図である。
本実施形態は、電極の形状が異なること以外は前記第1実施形態と同様である。
このような振動片2Dによっても、振動片2と同様の機能を有するものとなる。
次に、振動片2を用いた物理量検出デバイスについて説明する。
次いで、振動片2を適用した電子機器について、図12〜図15に基づき、詳細に説明する。
次いで、図1に示す振動片を適用した移動体について、図15に基づき、詳細に説明する。
また、振動片の形態は、いわゆるH型音叉の形態に限定されず、例えば、ダブルT型、二脚音叉、三脚音叉、くし歯型、直交型、角柱型等の種々の形態であってもよい。
2A…振動片
2B…振動片
2C…振動片
2D…振動片
221…駆動用振動腕
222…駆動用振動腕
223…溝
231…検出用振動腕
232…検出用振動腕
232D…傾斜面
233…溝
233A…傾斜面
233B…傾斜面
233C…傾斜面
233D…面
233E…底面
234…上面
234A…上面
234B…上面
234D…面
235…下面
235A…下面
235B…下面
2211…錘部
2221…錘部
2311…錘部
2321…錘部
25…支持部
251…部分
252…部分
253…部分
261…連結部
262…連結部
263…連結部
264…連結部
311…第1検出信号電極
312…第1検出信号端子
313…第2検出信号電極
314…第2検出信号端子
315…検出接地電極
331…駆動信号電極
332…駆動信号端子
341…駆動接地電極
342…駆動接地端子
4A…治具
4B…治具
41…貫通孔
42…貫通孔
8…パッケージ
81…ベース
82…リッド
811…凹部
811a…第1凹部
811b…第2凹部
811c…第3凹部
831…接続端子
832…接続端子
833…接続端子
834…接続端子
861…導電性接着材
862…導電性接着材
863…導電性接着材
864…導電性接着材
871…接続配線
872…接続配線
873…接続配線
874…接続配線
9…ICチップ
10…物理量検出デバイス
20…圧電基板
21…基部
30…金属膜
40…フォトレジスト膜
1100…パーソナルコンピューター
1102…キーボード
1104…本体部
1106…表示ユニット
1108…表示部
1200…携帯電話機
1202…操作ボタン
1204…受話口
1206…送話口
1208…表示部
1300…ディジタルスチルカメラ
1302…ケース
1304…受光ユニット
1306…シャッターボタン
1308…メモリー
1310…表示部
1312…ビデオ信号出力端子
1314…入出力端子
1430…テレビモニター
1440…パーソナルコンピューター
1500…自動車
1501…車体
1502…車体姿勢制御装置
1503…車輪
L…光
W1…幅
W2…幅
W3…幅
θ1…角度
θ2…角度
θ3…角度
Claims (6)
- 基部と、該基部から延出する振動腕とを有し、前記振動腕の長手方向に沿って延在する溝が形成され、Zカット水晶板で構成された圧電基板を用意する工程と、
前記溝の内面に、電極となる金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜の表面にフォトレジスト膜を成膜するフォトレジスト膜成膜工程と、
前記フォトレジスト膜の一部に露光光を照射して露光する露光工程と、
前記露光工程の後であって、前記フォトレジスト膜を現像してレジストマスクを形成するレジストマスク形成工程と、
前記レジストマスクから露出している前記金属膜を除去する除去工程と、を有し、
前記溝の内面は、前記電極が形成され、前記圧電基板の結晶軸のX軸を法線とする平面で構成された電極形成面と、前記圧電基板の結晶軸のZ軸に対して傾斜している複数の傾斜面と、を有し、
前記複数の傾斜面は、前記露光光を照射した場合に前記露光光が反射して、前記電極形成面に前記露光光が照射される露光光反射面を含み、
前記露光工程において、前記露光光反射面に向う前記露光光を遮蔽する遮蔽部を設けることを特徴とする振動片の製造方法。 - 前記遮蔽部は、厚さ方向に貫通する貫通孔を有する板材で構成され、
前記露光工程では、前記遮蔽部の厚さ方向の平面視で、前記露光光反射面と前記貫通孔とは、重なっていない請求項1に記載の振動片の製造方法。 - 前記露光工程では、前記圧電基板の結晶軸のZ軸方向から前記圧電基板に向って前記露光光を照射する請求項1または2に記載の振動片の製造方法。
- 前記露光工程では、前記圧電基板の結晶軸のZ軸方向と交わる方向から前記圧電基板に向って前記露光光を照射する請求項1ないし3のいずれか1項に記載の振動片の製造方法。
- 前記溝の内面は、前記圧電基板の結晶軸のZ軸を法線とする底面を有し、
前記露光工程では、少なくとも前記底面に前記露光光を照射する請求項1ないし4のいずれか1項に記載の振動片の製造方法。 - 前記露光工程に先立って、前記露光光反射面の位置を検出する検出工程を有している請求項1ないし5のいずれか1項に記載の振動片の製造方法。
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