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JP6409683B2 - Arsenic recovery method - Google Patents

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Description

本発明は、砒素の回収方法に関し、より詳しくは、砒素を含有する銅の電解液からイオン交換樹脂を用いて砒素を回収する方法に関する。   The present invention relates to a method for collecting arsenic, and more particularly to a method for collecting arsenic from an electrolytic solution of copper containing arsenic using an ion exchange resin.

硫化銅鉱石から銅を製錬する方法の一つとして、以下のような製錬プロセスが最も一般的に用いられている。すなわち、先ず、硫化銅鉱石を破砕や浮遊選鉱等の選鉱処理に付して銅品位が20〜30%前後に濃縮した銅精鉱を得て、次いでその銅精鉱を酸素と共に自溶炉等の炉に装入し、高温で熔解してスラグとマットに分離する。次に、得られたマットを転炉並びに精製炉で精製して不純物を分離して銅品位が99%を越える精製アノードとする。さらに、アノードをカソードと共に硫酸酸性溶液を満たした電槽に装入し、アノード、カソード間に通電して電解精製を行うことによって、純度が99.99%に達する電気銅を得る。   As one of the methods for smelting copper from copper sulfide ore, the following smelting process is most commonly used. That is, first, the copper sulfide ore is subjected to a beneficiation treatment such as crushing or flotation to obtain a copper concentrate having a copper grade concentrated to about 20 to 30%, and then the copper concentrate together with oxygen in a flash smelting furnace, etc. And then melted at high temperature and separated into slag and mat. Next, the obtained mat is refined in a converter and a refining furnace to separate impurities to obtain a refined anode having a copper quality exceeding 99%. Furthermore, by inserting the anode into a battery tank filled with a sulfuric acid acidic solution together with the cathode and conducting electrolytic purification by energizing between the anode and the cathode, electrolytic copper having a purity of 99.99% is obtained.

硫化銅鉱石には、銅の他にも、砒素等の不純物も含有されているが、上述した製錬方法を用いた場合、多くの砒素はマットやスラグに分配されて、さらに一部の砒素は揮発して排ガスに分配される。   Copper sulfide ore contains impurities such as arsenic in addition to copper. However, when the above-described smelting method is used, a large amount of arsenic is distributed to mats and slag, and a part of arsenic is added. Volatilizes and is distributed to the exhaust gas.

このうち、マットに分配された砒素は、大部分がアノードに移行し、さらに上述した電解精製の工程においてほぼ全量が電解液中に溶出する。   Of these, most of the arsenic distributed to the mat is transferred to the anode, and almost all of the arsenic is eluted in the electrolytic solution in the above-described electrolytic purification process.

このようにして、銅電解の電解液には、主な銅と共に常に砒素が含有されている。そして、鉱石中の砒素濃度が増加すると電解液中の砒素濃度も増加していくが、電解液中の砒素濃度が許容限度を超えると、製品である電気銅中に共析したり、巻き込まれて、電気銅の品質を悪化させる可能性がある。そのため、電解液中の砒素濃度を一定濃度以下に管理する必要がある。   Thus, the electrolytic solution for copper electrolysis always contains arsenic together with main copper. As the arsenic concentration in the ore increases, the arsenic concentration in the electrolytic solution also increases. However, if the arsenic concentration in the electrolytic solution exceeds the allowable limit, it will be eutectoid or entrained in the product copper. This may deteriorate the quality of electrolytic copper. Therefore, it is necessary to manage the arsenic concentration in the electrolytic solution below a certain concentration.

電解液中の砒素濃度を抑制させるためには、砒素のインプット量を減らすことが根本的な解決法ではあるものの、工業的に、近年では砒素品位の低い鉱石の入手が難しいことから容易ではない。   Although reducing the amount of arsenic input is a fundamental solution to reduce the arsenic concentration in the electrolyte, it is not easy because it is difficult to obtain ores with low arsenic quality in recent years. .

電解液に溶出して含有された砒素を電解液から分離し除去する方法として、電解液を加熱濃縮した後に冷却して、溶解度差を利用することで析出した銅を硫酸銅として回収した後、さらに電解採取して砒素を除去する方法、いわゆる脱銅電解法が一般的に行われている。しかしながら、脱銅電解法は、電力消費量が極めて多く、また、アルシン(AsH)等の有毒ガスが発生する可能性があり、安定した操業を管理するのは容易ではない。 As a method for separating and removing arsenic contained in the electrolyte solution from the electrolyte solution, the electrolyte solution is heated and concentrated and then cooled, and after collecting the precipitated copper as copper sulfate by utilizing the solubility difference, Further, a method of removing arsenic by electrowinning, so-called copper removal electrolysis is generally performed. However, the copper removal electrolysis method has an extremely large amount of power consumption, and a toxic gas such as arsine (AsH 3 ) may be generated, and it is not easy to manage stable operation.

これを解決するために、例えば特許文献1では、硫化水素を電解液に吹き込んで砒素の硫化物を生成させて分離する方法が提案されている。しかしながら、この方法では、硫化水素を大量に扱うため作業環境上好ましくなく、除害設備が必要となる等手間もかかる。   In order to solve this problem, for example, Patent Document 1 proposes a method in which hydrogen sulfide is blown into an electrolytic solution to generate and separate arsenic sulfide. However, in this method, a large amount of hydrogen sulfide is handled, which is not preferable in the work environment, and it takes time and effort such as a detoxification facility.

また、特許文献2では、水流化ソーダを使用して硫化物を生成させる方法が提案されているが、同様に手間がかかる。具体的に、特許文献2の方法は、電解液を2分割し、一方に水流化ソーダを通じて金属硫化物として砒素等の不純物を除去した後、さらに過剰の水流化ソーダを添加することで残存する硫酸と反応させて硫化水素を生成させ、この硫化水素をもう一方の電解液に通じて金属硫化物として砒素等の不純物を除去するものである。   Moreover, in patent document 2, although the method of producing | generating a sulfide using a water flow soda is proposed, it takes time similarly. Specifically, the method of Patent Document 2 divides the electrolytic solution into two parts, and after removing impurities such as arsenic as metal sulfide through the water flow soda, it further remains by adding excess water soda. It reacts with sulfuric acid to produce hydrogen sulfide, and this hydrogen sulfide is passed through the other electrolyte solution to remove impurities such as arsenic as metal sulfide.

しかしながら、水流化ソーダを通じた電解液については系内に戻すことができずに排水処理を施す必要があり、さらに硫化水素を取り扱わなければならない点に関しては特許文献1に記載の技術と同様に作業環境上の問題がある。   However, the electrolytic solution through the hydrosolation soda cannot be returned to the system and must be subjected to wastewater treatment, and further, hydrogen sulfide must be handled as in the technique described in Patent Document 1. There is an environmental problem.

一方で、キレート樹脂に電解液を通じて、水溶液中の砒素を吸着する方法もある。例えば、特許文献3では、アミノポリアルコール基を有するキレート樹脂による砒素の回収方法が提案されている。排水中のホウ素又は砒素を除去するために、アミノポリアルコール基の一つであるグルカミン基を有する樹脂が様々なメーカーから販売されているが、これらの樹脂は一般的には排水処理用途に開発されていることから、有効なpHは6〜10程度の弱酸性から弱アルカリ性領域である。そのため、例えば銅の電解液のようなpH値がマイナス領域となる強酸性硫酸水溶液での使用には適さない。   On the other hand, there is a method of adsorbing arsenic in an aqueous solution through an electrolyte solution through a chelate resin. For example, Patent Document 3 proposes a method for recovering arsenic using a chelate resin having an aminopolyalcohol group. In order to remove boron or arsenic in wastewater, resins with glucamine groups, which are one of the aminopolyalcohol groups, are sold by various manufacturers, but these resins are generally developed for wastewater treatment applications. Therefore, the effective pH is in a weakly alkaline to weakly alkaline region of about 6 to 10. Therefore, it is not suitable for use in a strongly acidic sulfuric acid aqueous solution in which the pH value is in a minus region, such as a copper electrolyte.

ところが、そのような強酸性の液からでも砒素の吸着は可能であることから、例えば特許文献4に示すように、銅の電解液中の砒素を低減させるために、アミノポリアルコール基を有するキレート樹脂を適用する方法も提案されている。   However, since arsenic can be adsorbed even from such a strongly acidic solution, for example, as shown in Patent Document 4, a chelate having an aminopolyalcohol group is used to reduce arsenic in a copper electrolyte. A method of applying a resin has also been proposed.

ここで、通常、キレート樹脂においては、吸着に適したpH範囲があるのと同じく溶離に適したpH範囲も存在する。また、吸着・溶離挙動は、単にpH値だけでなく、温度や溶離液の酸の種類の影響も受けることが知られている。すなわち、液性と温度の相互の影響によって、吸着や溶離の挙動が異なる。   Here, in general, in the chelate resin, there is a pH range suitable for elution as well as a pH range suitable for adsorption. Further, it is known that the adsorption / elution behavior is influenced not only by the pH value but also by the temperature and the type of acid in the eluent. That is, the behavior of adsorption and elution varies depending on the mutual effects of liquidity and temperature.

銅の電解液への適用を考えた場合、吸着時に液性や温度を変えることは、砒素吸着後の液を電解工程に戻すことが難しくなることから、あまり実用的ではない。このため、吸着時には、電解液の液性や温度は変えず、そのまま電解液を樹脂に通液して可能な量だけ砒素を回収することが多い。   When considering application to copper electrolyte, it is not practical to change the liquidity and temperature during adsorption because it becomes difficult to return the liquid after arsenic adsorption to the electrolytic process. For this reason, at the time of adsorption, the liquidity and temperature of the electrolytic solution are not changed, and the electrolytic solution is often passed through the resin as it is to recover arsenic as much as possible.

一方で、キレート樹脂からの溶離に際しては、溶離に適した条件を選択することが可能であることから、溶離条件が砒素回収率の向上に重要な要素となる。   On the other hand, in the elution from the chelate resin, it is possible to select conditions suitable for the elution, so the elution conditions are an important factor for improving the arsenic recovery rate.

なお、上述した特許文献4では、砒素の回収率向上のための液の繰り返しに関する言及はあるものの、溶離時の液性や温度については明確に言及されていない。   In Patent Document 4 described above, although there is a reference to the repetition of the liquid for improving the arsenic recovery rate, the liquidity and temperature at the time of elution are not explicitly mentioned.

特開昭57-5884号公報JP-A-57-5884 特開平9−78284号公報JP-A-9-78284 特開昭58−64180号公報JP 58-64180 A 特開平11−90413号公報JP-A-11-90413

本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、砒素を含有する銅電解液からアミノポリアルコール基を有するキレート樹脂を用いて砒素を回収する方法において、効率的に且つ高い回収率で砒素を回収する方法を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed in view of such circumstances, and in a method for recovering arsenic from a copper electrolyte containing arsenic using a chelate resin having an aminopolyalcohol group, efficient and high recovery is achieved. It aims to provide a method for recovering arsenic at a high rate.

本発明者らは、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、キレート樹脂に砒素を吸着させ、その砒素を樹脂から溶離させるに際して、特定の溶離条件で砒素を溶離液中に溶離させることによって、高い回収率で砒素を回収できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下のものを提供する。   The inventors of the present invention have made extensive studies in order to solve the above-described problems. As a result, it was found that when arsenic is adsorbed on a chelating resin and the arsenic is eluted from the resin, arsenic can be recovered at a high recovery rate by eluting arsenic into the eluent under specific elution conditions. It came to be completed. That is, the present invention provides the following.

(1)本発明の第1の発明は、砒素を含有する銅の電解液とアミノポリアルコール基を有するキレート樹脂とを接触させ、次いで、前記キレート樹脂に硫酸濃度が50g/L以上150g/L以下である硫酸水溶液を接触させて該硫酸水溶液中に該キレート樹脂に吸着した砒素を溶離して回収することを特徴とする銅電解液からの砒素の回収方法である。   (1) According to the first aspect of the present invention, a copper electrolyte containing arsenic and a chelate resin having an aminopolyalcohol group are brought into contact, and then the sulfuric acid concentration of the chelate resin is 50 g / L or more and 150 g / L. A method for recovering arsenic from a copper electrolyte, comprising contacting an aqueous sulfuric acid solution as described below to elute and recover arsenic adsorbed on the chelate resin in the aqueous sulfuric acid solution.

(2)本発明の第2の発明は、第1の発明において、前記砒素を溶離する際の前記硫酸水溶液の温度を40℃以上85℃以下の範囲に維持することを特徴とする銅電解液からの砒素の回収方法である。   (2) According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the temperature of the aqueous sulfuric acid solution when eluting the arsenic is maintained in the range of 40 ° C. to 85 ° C. Recovery method of arsenic from

(3)本発明の第3の発明は、第1又は第2の発明において、前記キレート樹脂と接触させる前記電解液は、遊離硫酸濃度が100g/L以上400g/L以下の硫酸酸性の銅電解液であることを特徴とする銅電解液からの砒素の回収方法である。   (3) According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the electrolytic solution to be contacted with the chelate resin is a sulfuric acid copper electrolysis having a free sulfuric acid concentration of 100 g / L or more and 400 g / L or less. A method for recovering arsenic from a copper electrolyte, characterized by being a liquid.

(4)本発明の第3の発明は、第1乃至第3のいずれかの発明において、前記アミノポリアルコール基がグルカミン基であることを特徴とする銅電解液からの砒素の回収方法である。   (4) A third invention of the present invention is a method for recovering arsenic from a copper electrolyte according to any one of the first to third inventions, wherein the aminopolyalcohol group is a glucamine group. .

本発明によれば、アミノポリアルコール基を有するキレート樹脂を用いて、銅の電解液中に含まれる砒素を吸着させた後、特定の条件の硫酸水溶液を溶離液として用いて溶離させることによって、効率的に、高い回収率で砒素を回収することができる。   According to the present invention, a chelating resin having an aminopolyalcohol group is used to adsorb arsenic contained in a copper electrolytic solution, and then elute using an aqueous sulfuric acid solution under specific conditions as an eluent. Arsenic can be efficiently recovered at a high recovery rate.

以下、本発明の具体的な実施形態(以下、「本実施の形態」という)について、詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で適宜調整が可能である。   Hereinafter, a specific embodiment of the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, In the range which does not change the summary of this invention, it can adjust suitably.

本実施の形態に係る砒素の回収方法は、砒素を含有する銅の電解液から砒素を回収方法であって、その銅電解液をキレート樹脂に接触させ、そのキレート樹脂に吸着した砒素を溶離液により溶離させて回収する方法である。   The arsenic recovery method according to the present embodiment is a method for recovering arsenic from a copper electrolyte containing arsenic, wherein the copper electrolyte is brought into contact with a chelate resin, and the arsenic adsorbed on the chelate resin is eluted into the eluent. It is a method of eluting and recovering.

具体的に、この砒素の回収方法は、砒素を含有する銅電解液とグルカミン基を有するキレート樹脂とを接触させて砒素をキレート樹脂に吸着させる吸着工程と、キレート樹脂に所定の硫酸濃度の硫酸水溶液を接触させて、その硫酸水溶液中にキレート樹脂に吸着した砒素を溶離して回収する溶離工程とを有する。   Specifically, this arsenic recovery method includes an adsorption step in which a copper electrolyte containing arsenic and a chelate resin having a glucamine group are brought into contact with each other to adsorb arsenic to the chelate resin, and a sulfuric acid having a predetermined sulfuric acid concentration on the chelate resin. And an elution step of bringing the aqueous solution into contact and eluting and recovering arsenic adsorbed on the chelate resin in the aqueous sulfuric acid solution.

(1)吸着工程
吸着工程では、砒素を含有する銅電解液とキレート樹脂とを接触させて、そのキレート樹脂に砒素を吸着させる。本実施の形態においては、キレート樹脂として、アミノポリアルコール基を有するキレート樹脂を用いる。
(1) Adsorption process In an adsorption process, a copper electrolyte containing arsenic and a chelate resin are brought into contact, and arsenic is adsorbed on the chelate resin. In this embodiment, a chelate resin having an aminopolyalcohol group is used as the chelate resin.

アミノポリアルコール基を有するキレート樹脂は、樹脂基材(高分子基材)にアミノポリアルコール基が固定化されたものである。樹脂基材としては、特に限定されないが、ポリスチレン−ジビニルベンゼン共重合体、セルロース等の高分子を主体とする球状、粒状、繊維状のものを例示することができる。   The chelate resin having an aminopolyalcohol group is obtained by immobilizing an aminopolyalcohol group on a resin base material (polymer base material). Although it does not specifically limit as a resin base material, The thing of spherical shape, a granular form, and fibrous shape which mainly has high polymers, such as a polystyrene-divinylbenzene copolymer and a cellulose, can be illustrated.

アミノポリアルコール基としては、アミノ基及び多価アルコール基を含有する基であることが好ましく、特に、砒素の吸着性の観点から、N−メチルグルカミン基、D−グルカミン基等のグルカミン基であることが好ましい。   The aminopolyalcohol group is preferably a group containing an amino group and a polyhydric alcohol group. In particular, from the viewpoint of arsenic adsorptivity, a glucamine group such as an N-methylglucamine group or a D-glucamine group may be used. Preferably there is.

ここで、工業的な銅電解工程における銅の電解液としては、通常、60℃前後に加温され維持されており、電解液中の遊離硫酸濃度が例えば190g/L前後の強酸性の液である。この銅電解液においては、キレート樹脂に対する砒素の吸着のために液性や温度を変えてしまうと、その後の電解工程に戻すことが難しくなる。このことから、本実施の形態においては、銅電解液の液性や温度を変えずに、つまりキレート樹脂を用いたイオン交換処理の前処理として脱酸処理等のいずれの処理も行わずに、そのままの銅電解液の状態でキレート樹脂と接触させて、その電解液中の砒素を樹脂に吸着させる。   Here, as an electrolytic solution of copper in an industrial copper electrolysis process, it is usually heated and maintained at around 60 ° C., and the concentration of free sulfuric acid in the electrolytic solution is, for example, a strongly acidic solution around 190 g / L. is there. In this copper electrolyte, if the liquidity or temperature is changed due to adsorption of arsenic to the chelate resin, it is difficult to return to the subsequent electrolysis process. From this, in this embodiment, without changing the liquid property and temperature of the copper electrolyte, that is, without performing any treatment such as deoxidation treatment as a pretreatment of the ion exchange treatment using the chelate resin, In the state of the copper electrolyte as it is, it is brought into contact with the chelate resin, and arsenic in the electrolyte is adsorbed on the resin.

具体的に、本実施の形態においては、キレート樹脂と接触させる銅電解液として、遊離硫酸濃度が100g/L以上400g/L以下、より好ましくは150g/L以上200g/L以下の硫酸酸性の電解液を用いる。このような硫酸酸性の銅電解液を、そのままの状態でキレート樹脂と接触させてイオン交換処理を行うことによって、電解液中の砒素を後述する溶離工程で溶離させた後に、容易に電解工程に戻すことができて効率的な操業が可能となる。   Specifically, in the present embodiment, as the copper electrolytic solution to be contacted with the chelate resin, a sulfuric acid electrolysis having a free sulfuric acid concentration of 100 g / L or more and 400 g / L or less, more preferably 150 g / L or more and 200 g / L or less. Use liquid. By subjecting such a sulfuric acid copper electrolyte to contact with a chelate resin as it is and performing an ion exchange treatment, after eluting arsenic in the electrolyte in an elution step described later, it can be easily performed in the electrolysis step. It can be returned and efficient operation becomes possible.

銅電解液とキレート樹脂とを接触させる方法としては、カラム方式が一般的であるが、バッチ混合により接触させてもよい。   As a method for bringing the copper electrolyte solution into contact with the chelate resin, a column system is generally used, but it may be brought into contact by batch mixing.

具体的に、カラム方式では、例えば円筒形のカラムにアミノポリアルコール基を有するキレート樹脂を充填し、砒素を含有する銅電解液をそのカラムに通液させる。なお、通液に際しての条件としては、特に限定されるものではなく、例えば、通液速度SV(Space Velocity)、通液量BV(Bed Volume)等は、操業効率や吸着効率等の観点から適宜調整することが好ましい。   Specifically, in the column system, for example, a cylindrical column is filled with a chelate resin having an aminopolyalcohol group, and a copper electrolyte containing arsenic is passed through the column. The conditions for passing the liquid are not particularly limited. For example, the flow speed SV (Space Velocity), the flow volume BV (Bed Volume), and the like are appropriately determined from the viewpoint of operation efficiency and adsorption efficiency. It is preferable to adjust.

キレート樹脂への砒素の吸着処理後においては、カラム方式の場合には通液後の流出液を、バッチ混合の場合には固液分離後の液を、それぞれ回収して、その砒素を吸着除去した銅電解液を使用する電解工程に戻す。なお、バッチ混合の場合における固液分離の方法としては、特に限定されずどのような方法を用いても構わないが、ろ過処理や沈降処理等のキレート樹脂の基体を破壊しない方法を用いることが好ましい。   After adsorption treatment of arsenic on the chelate resin, collect the effluent after passing through in the case of the column method, and collect the liquid after solid-liquid separation in the case of batch mixing, and remove the arsenic by adsorption. Return to the electrolysis process using the copper electrolyte. In addition, the method of solid-liquid separation in the case of batch mixing is not particularly limited, and any method may be used, but a method that does not destroy the chelate resin substrate such as filtration or sedimentation may be used. preferable.

(2)溶離工程
次に、溶離工程では、吸着工程後のキレート樹脂に溶離液を接触させて、そのキレート樹脂に吸着した砒素を溶離液中に溶離させて回収する。
(2) Elution Step Next, in the elution step, the eluent is brought into contact with the chelate resin after the adsorption step, and arsenic adsorbed on the chelate resin is eluted into the eluent and collected.

吸着工程にて砒素を吸着させたキレート樹脂に対しては、通常、酸等の溶離液と接触させることで砒素を樹脂から溶離する。このとき、溶離液としては、塩酸、硫酸等の鉱酸が用いられ、特に、銅の電解液としては通常硫酸水溶液を用いることから、本実施の形態においても、その溶離液として所定の濃度の硫酸水溶液を用いる。例えば、銅の製錬工場にて生成した銅電解液に対する処理においては、硫化鉱を製錬するときの副産物として硫酸が生成することから、他の酸より安価に入手できるといった経済的なメリットもある。   The chelate resin that has adsorbed arsenic in the adsorption step is usually eluted from the resin by contacting with an eluent such as an acid. At this time, a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid is used as the eluent. In particular, since a sulfuric acid aqueous solution is usually used as the copper electrolyte, the present embodiment also has a predetermined concentration as the eluent. An aqueous sulfuric acid solution is used. For example, in the treatment of copper electrolyte produced in a copper smelting factory, sulfuric acid is produced as a by-product when smelting sulfide ore, so there is an economic merit that it can be obtained at a lower price than other acids. is there.

なお、他の種類の酸を用いた場合、電解液への混入による電気銅の品質悪化や生産効率の悪化等を引き起こし、また塩酸を用いた場合には、その塩素による設備腐食が発生するといった問題も生じる。   In addition, when using other types of acids, it causes deterioration of the quality of electrolytic copper and deterioration of production efficiency due to mixing with the electrolyte, and when hydrochloric acid is used, equipment corrosion due to the chlorine occurs. Problems also arise.

ここで、本実施の形態においては、溶離液として用いる硫酸水溶液の濃度が重要となる。具体的には、溶離液として、硫酸濃度が50g/L以上150g/L以下の範囲の硫酸水溶液を用いる。また、より好ましくは、硫酸濃度が60g/L以上90g/L以下の範囲の硫酸水溶液を用いる。このような濃度の硫酸水溶液を溶離液として用いて溶離処理を行うことによって、キレート樹脂に吸着した砒素の溶離率を高くすることができる。   Here, in the present embodiment, the concentration of the sulfuric acid aqueous solution used as the eluent is important. Specifically, an aqueous sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration in the range of 50 g / L to 150 g / L is used as the eluent. More preferably, an aqueous sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration in the range of 60 g / L to 90 g / L is used. By performing the elution process using an aqueous sulfuric acid solution having such a concentration as an eluent, the elution rate of arsenic adsorbed on the chelate resin can be increased.

また、溶離に際しての温度条件としては、特に限定されないが、温度が高くなるほど砒素の溶離率を高くすることができる。具体的には、温度条件として、40℃以上とすることが好ましく、50℃以上とすることがより好ましい。なお、一方で、温度が高く設定する場合、高価な耐食性材料や耐熱性材料を用いる必要があり、またこのような材料を用いた場合でも、温度の増加とともに耐用年数が低下して交換頻度が高くなり、処理コストの増加を招く。したがって、温度条件としては、85℃以下とすることが好ましく、80℃以下ですることがより好ましい。このような温度条件の上限値は、溶離液を接触させるキレート樹脂の耐熱温度の観点からも好ましい。   The temperature conditions for elution are not particularly limited, but the arsenic elution rate can be increased as the temperature increases. Specifically, the temperature condition is preferably 40 ° C. or higher, and more preferably 50 ° C. or higher. On the other hand, when the temperature is set high, it is necessary to use an expensive corrosion-resistant material or heat-resistant material, and even when such a material is used, the service life decreases as the temperature increases and the replacement frequency decreases. This increases the processing cost. Accordingly, the temperature condition is preferably 85 ° C. or less, and more preferably 80 ° C. or less. Such an upper limit of the temperature condition is also preferable from the viewpoint of the heat resistant temperature of the chelate resin with which the eluent is brought into contact.

溶離液とキレート樹脂とを接触させる方法としては、吸着工程における銅電解液とキレート樹脂との接触方法と同様に、カラム方式を用いることができ、またバッチ混合により行ってもよい。具体的に、カラム方式の場合には、キレート樹脂を充填させたカラムに砒素を吸着させた後(吸着工程)、そのカラムに所定の濃度及び温度の溶離液を通液させることによって接触させる。なお、通液条件としては、特に限定されるものではなく、操業効率や溶離効率等の観点から、SV、BV等について適宜調整することが好ましい。   As a method for bringing the eluent into contact with the chelate resin, a column method can be used as in the method for contacting the copper electrolyte with the chelate resin in the adsorption step, or batch mixing may be used. Specifically, in the case of the column system, arsenic is adsorbed on a column filled with a chelate resin (adsorption step), and then contacted by passing an eluent having a predetermined concentration and temperature through the column. In addition, it does not specifically limit as liquid flow conditions, It is preferable to adjust SV, BV, etc. suitably from viewpoints, such as operation efficiency and elution efficiency.

カラム方式の場合、キレート樹脂に溶離液である硫酸水溶液を通液して接触させた後、その流出液を回収する。また、バッチ混合の場合では、キレート樹脂と溶離液である硫酸水溶液を混合させた後、その混合液を固液分離することによって液を回収する。なお、バッチ混合の場合における固液分離の方法としては、特に限定されずどのような方法を用いても構わないが、ろ過処理や沈降処理等のキレート樹脂の基体を破壊しない方法を用いることが好ましい。   In the case of the column system, an aqueous solution of sulfuric acid as an eluent is passed through the chelate resin and brought into contact therewith, and then the effluent is recovered. In the case of batch mixing, after mixing the chelate resin and the sulfuric acid aqueous solution as the eluent, the liquid is recovered by solid-liquid separation of the mixed liquid. In addition, the method of solid-liquid separation in the case of batch mixing is not particularly limited, and any method may be used, but a method that does not destroy the chelate resin substrate such as filtration or sedimentation may be used. preferable.

このようにして、濃度が50g/L以上150g/L以下である硫酸水溶液を用いてキレート樹脂に吸着した砒素を溶離させると、その硫酸水溶液中に砒素が溶出分配される。特に、本実施の形態に係る砒素の回収方法では、溶離液として、濃度が50g/L以上150g/L以下である硫酸水溶液を用いていることから、砒素の溶離率を向上させることができ、高い回収率で銅電解液から砒素を回収することができる。   In this manner, when arsenic adsorbed on the chelate resin is eluted using an aqueous sulfuric acid solution having a concentration of 50 g / L or more and 150 g / L or less, arsenic is eluted and distributed in the aqueous sulfuric acid solution. In particular, in the arsenic recovery method according to the present embodiment, since an aqueous sulfuric acid solution having a concentration of 50 g / L or more and 150 g / L or less is used as an eluent, the elution rate of arsenic can be improved. Arsenic can be recovered from the copper electrolyte at a high recovery rate.

砒素が溶離した後のキレート樹脂は、再び吸着工程に戻すことで、繰り返し使用することが可能である。このように、吸着処理と溶離処理とを繰り返すことによって、銅電解液から砒素を効果的に且つ効率的に除去することができる。   The chelate resin after elution of arsenic can be used repeatedly by returning to the adsorption step again. Thus, arsenic can be effectively and efficiently removed from the copper electrolyte by repeating the adsorption process and the elution process.

以下、本発明を適用した具体的な実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。   Specific examples to which the present invention is applied will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.

≪溶離液の硫酸濃度について≫
[実施例1]
砒素濃度が14g/L、遊離硫酸濃度が190g/L、銅濃度が45g/Lである硫酸酸性の銅電解液1.5Lと、グルカミン基を有するキレート樹脂(三菱化学株式会社製,DIAION CRB05)70mlとをビーカーに入れ、温度50℃に維持し、30分間撹拌混合して、銅電解液中の砒素をキレート樹脂に吸着させた。次いで、キレート樹脂と電解液とを5Cの濾紙を用いて固液分離した後、濾紙上に残った樹脂に純水を用いてかけ水洗浄を行い、付着液を除去した。
≪About concentration of sulfuric acid in eluent≫
[Example 1]
1.5 L of sulfuric acid acidic copper electrolyte having an arsenic concentration of 14 g / L, a free sulfuric acid concentration of 190 g / L, and a copper concentration of 45 g / L, and a chelate resin having a glucamine group (DIAION CRB05 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 70 ml was placed in a beaker, maintained at a temperature of 50 ° C., and stirred and mixed for 30 minutes to adsorb the arsenic in the copper electrolyte to the chelate resin. Next, the chelate resin and the electrolytic solution were subjected to solid-liquid separation using 5C filter paper, and then the resin remaining on the filter paper was washed with water using pure water to remove the adhered liquid.

次いで、洗浄後の樹脂1mlを分取し、その樹脂をビーカーに入れて、液温80℃に維持した硫酸濃度が75g/Lの硫酸水溶液20mLを加えて混合し、45分間撹拌してキレート樹脂に吸着した砒素を硫酸水溶液中に溶離した。   Next, 1 ml of the washed resin is collected, and the resin is put into a beaker, and 20 mL of sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 75 g / L maintained at a liquid temperature of 80 ° C. is added and mixed. The arsenic adsorbed on was eluted in an aqueous sulfuric acid solution.

次いで、溶離後の硫酸水溶液中に含まれる砒素濃度を、ICP発光分析法を用いて分析した。その結果、砒素濃度は0.63g/Lであった。   Next, the arsenic concentration contained in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed using ICP emission spectrometry. As a result, the arsenic concentration was 0.63 g / L.

[実施例2]
砒素の溶離に際して、硫酸濃度が50g/Lの硫酸水溶液20mLを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。
[Example 2]
In the elution of arsenic, the same operation as in Example 1 was performed except that 20 mL of sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 50 g / L was used.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素濃度を分析したところ、0.56g/Lであった。   When the arsenic concentration in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, it was 0.56 g / L.

[実施例3]
砒素の溶離に際して、硫酸濃度が150g/Lの硫酸水溶液20mLを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。
[Example 3]
In the elution of arsenic, the same operation as in Example 1 was performed except that 20 mL of sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 150 g / L was used.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素濃度を分析したところ、0.55g/Lであった。   When the arsenic concentration in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, it was 0.55 g / L.

[比較例1]
砒素の溶離に際して、硫酸濃度が25g/Lの硫酸水溶液20mLを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。
[Comparative Example 1]
In the elution of arsenic, the same operation as in Example 1 was performed except that 20 mL of sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 25 g / L was used.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素濃度を分析したところ、0.43g/Lであった。   When the arsenic concentration in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, it was 0.43 g / L.

[比較例2]
砒素の溶離に際して、硫酸濃度が200g/Lの硫酸水溶液20mLを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。
[Comparative Example 2]
In the elution of arsenic, the same operation as in Example 1 was performed except that 20 mL of sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 200 g / L was used.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素濃度を分析したところ、0.20g/Lであった。   When the arsenic concentration in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, it was 0.20 g / L.

上述した実施例1〜3及び比較例1〜2の結果から、溶離液として硫酸濃度が50g/L以上150g/L以下の硫酸水溶液を用いることによって、砒素の回収率を高めることができることが分かった。   From the results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 described above, it is understood that the recovery rate of arsenic can be increased by using a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 50 g / L or more and 150 g / L or less as an eluent. It was.

≪溶離に際しての温度について≫
[実施例4]
内径10mmのパイレックス(登録商標)ガラス製の円筒形カラムに、グルカミン基を有するキレート樹脂(三菱化学株式会社製,DIAION CRB05)を10ml充填し、次いで、砒素濃度が5.3g/L、遊離硫酸濃度が190g/L、銅濃度が45g/Lである硫酸酸性の銅電解液を、120ml/hr(SV=12)の流速で200ml(BV=20)の量をカラム内に通液し、キレート樹脂に砒素を吸着させた。通液中は、カラム内の溶液が50℃を保持されるように加温した。
≪Teluting temperature≫
[Example 4]
A cylindrical column made of Pyrex (registered trademark) glass having an inner diameter of 10 mm is filled with 10 ml of chelate resin having a glucamine group (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., DIAION CRB05), then arsenic concentration is 5.3 g / L, free sulfuric acid A sulfuric acid acidic copper electrolyte having a concentration of 190 g / L and a copper concentration of 45 g / L is passed through the column in an amount of 200 ml (BV = 20) at a flow rate of 120 ml / hr (SV = 12). Arsenic was adsorbed on the resin. During the flow, the solution in the column was heated so as to maintain 50 ° C.

通液後、カラムに残留している溶液を抜き出して除去し、硫酸濃度が75g/Lの硫酸水溶液を10ml/hr(SV=1)の流速で70ml(BV=7)の量をカラム内に通液して、樹脂に吸着した砒素を溶離した。硫酸水溶液の通液中は、カラム内の硫酸水溶液が80℃に保持されるように加温した。   After passing through the solution, the solution remaining in the column is extracted and removed, and an aqueous sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 75 g / L is added in an amount of 70 ml (BV = 7) at a flow rate of 10 ml / hr (SV = 1). The solution was passed through to elute arsenic adsorbed on the resin. During the flow of the sulfuric acid aqueous solution, the sulfuric acid aqueous solution in the column was heated so as to be maintained at 80 ° C.

溶離後、硫酸水溶液中の砒素をICP発光分析法を用いて分析した。その結果、硫酸水溶液中に回収できた砒素の物量は0.30gであった。   After elution, arsenic in the sulfuric acid aqueous solution was analyzed using ICP emission spectrometry. As a result, the amount of arsenic recovered in the sulfuric acid aqueous solution was 0.30 g.

[実施例5]
溶離に際して、カラム内の硫酸水溶液の温度を70℃に保持したこと以外は、実施例4と同様の操作を行った。
[Example 5]
During elution, the same operation as in Example 4 was performed except that the temperature of the aqueous sulfuric acid solution in the column was maintained at 70 ° C.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素を分析したところ、硫酸水溶液中に回収できた砒素量は0.33gであった。   When the arsenic in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, the amount of arsenic recovered in the sulfuric acid aqueous solution was 0.33 g.

[実施例6]
溶離に際して、カラム内の硫酸水溶液の温度を60℃に保持したこと以外は、実施例4と同様の操作を行った。
[Example 6]
During elution, the same operation as in Example 4 was performed, except that the temperature of the aqueous sulfuric acid solution in the column was maintained at 60 ° C.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素を分析したところ、硫酸水溶液中に回収できた砒素量は0.32gであった。   When arsenic in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, the amount of arsenic recovered in the sulfuric acid aqueous solution was 0.32 g.

[実施例7]
溶離に際して、カラム内の硫酸水溶液の温度を50℃に保持したこと以外は、実施例4と同様の操作を行った。
[Example 7]
During elution, the same operation as in Example 4 was performed, except that the temperature of the aqueous sulfuric acid solution in the column was maintained at 50 ° C.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素を分析したところ、硫酸水溶液中に回収できた砒素量は0.28gであった。   When arsenic in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, the amount of arsenic recovered in the sulfuric acid aqueous solution was 0.28 g.

[実施例8]
溶離に際して、カラム内の硫酸水溶液の温度を40℃に保持したこと以外は、実施例4と同様の操作を行った。
[Example 8]
During elution, the same operation as in Example 4 was performed except that the temperature of the aqueous sulfuric acid solution in the column was maintained at 40 ° C.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素を分析したところ、硫酸水溶液中に回収できた砒素量は0.24gであった。   When arsenic in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, the amount of arsenic recovered in the sulfuric acid aqueous solution was 0.24 g.

[比較例3]
溶離に際して、カラム内の硫酸水溶液の温度を30℃に保持したこと以外は、実施例4と同様の操作を行った。
[Comparative Example 3]
During elution, the same operation as in Example 4 was performed, except that the temperature of the sulfuric acid aqueous solution in the column was maintained at 30 ° C.

溶離後の硫酸水溶液中の砒素を分析したところ、硫酸水溶液中に回収できた砒素量は0.12gであった。   When arsenic in the sulfuric acid aqueous solution after elution was analyzed, the amount of arsenic recovered in the sulfuric acid aqueous solution was 0.12 g.

上述したように、実施例4〜8及び比較例3の結果から、溶離に際してカラム内の硫酸水溶液の温度を40℃以上、好ましくは50℃以上とすることにより、砒素の回収量を増加させることができることが分かった。   As described above, from the results of Examples 4 to 8 and Comparative Example 3, the amount of arsenic recovered can be increased by setting the temperature of the sulfuric acid aqueous solution in the column to 40 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or higher during elution. I found out that

Claims (3)

砒素を含有する銅の電解液とアミノポリアルコール基を有するキレート樹脂とを接触させることにより該キレート樹脂に砒素を吸着させ、次いで、前記砒素が吸着したキレート樹脂に硫酸濃度が50g/L以上150g/L以下であり、温度が40℃以上85℃以下の範囲に維持された硫酸水溶液を接触させて該硫酸水溶液中に該キレート樹脂に吸着した砒素を溶離して回収する
ことを特徴とする銅電解液からの砒素の回収方法。
The Rukoto contacting the chelating resin having an electrolyte and amino polyalcohol group of copper containing arsenic is adsorbed arsenic to the chelate resin, and then, the chelate resin, wherein the arsenic is adsorbed, sulfuric acid concentration of 50 g / L characterized in that 150 g / L Ri der hereinafter, temperature eluted arsenic adsorbed on the chelate resin in sulfuric aqueous acid solution by contacting the aqueous sulfuric acid solution was maintained in the range of 40 ° C. or higher 85 ° C. less recovery than A method for recovering arsenic from a copper electrolyte.
前記キレート樹脂と接触させる前記電解液は、遊離硫酸濃度が100g/L以上400g/L以下の硫酸酸性の銅電解液であることを特徴とする請求項1に記載の銅電解液からの砒素の回収方法。 2. The arsenic solution from a copper electrolyte according to claim 1, wherein the electrolyte solution in contact with the chelate resin is a sulfuric acid copper electrolyte solution having a free sulfuric acid concentration of 100 g / L or more and 400 g / L or less. Collection method. 前記アミノポリアルコール基がグルカミン基であることを特徴とする請求項1又は2に記載の銅電解液からの砒素の回収方法。

The method for recovering arsenic from a copper electrolyte according to claim 1 or 2 , wherein the aminopolyalcohol group is a glucamine group.

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DE2515861A1 (en) * 1975-04-11 1976-10-28 Norddeutsche Affinerie PROCEDURE FOR ADSORPTIVE REMOVAL OF ARSENIC, ANTIMONE AND / OR ISMUTH
JPS6168307A (en) * 1984-09-13 1986-04-08 Unitika Ltd Purification of sulfuric acid solution
JP2876754B2 (en) * 1990-09-06 1999-03-31 住友化学工業株式会社 Arsenic removal method
JP3784940B2 (en) * 1997-09-25 2006-06-14 日鉱金属株式会社 Method for removing arsenic in copper electrolyte
JP4353731B2 (en) * 2003-06-10 2009-10-28 前澤工業株式会社 Method for removing arsenic in solution
JP4344842B2 (en) * 2003-09-16 2009-10-14 中部キレスト株式会社 Regeneration method of chelate adsorbent
JP2005226093A (en) * 2004-02-10 2005-08-25 Nippon Mining & Metals Co Ltd Method for cleaning copper electrolyte
JP2005305411A (en) * 2004-03-25 2005-11-04 Mitsubishi Rayon Eng Co Ltd Device and method for separating/recovering metal
JP4538801B2 (en) * 2005-03-25 2010-09-08 日鉱金属株式会社 Method for recovering Ni from deoxidation solution

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