JP6356409B2 - 新規液晶性エポキシ樹脂およびその組成物 - Google Patents
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Description
[1]
下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂。
[2]
前記式(1)中におけるMSが下記一般式(4)〜(8)で示されるいずれかの構造である、[1]に記載のエポキシ樹脂。
[3]
前記式(1)中におけるMSが下記式(9)で示される構造である[1]または[2]に記載のエポキシ樹脂。
融点が110℃以下である[1]〜[3]のいずれかに記載のエポキシ樹脂。
[5]
数平均分子量が1000以下である[1]〜[4]のいずれかに記載のエポキシ樹脂。
[6]
[1]〜[5]のいずれかに記載のエポキシ樹脂および硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物。
[7]
前記硬化剤がアミン化合物である[6]に記載のエポキシ樹脂組成物。
[8]
前記硬化剤が隣接水酸基を有するフェノール系硬化剤である[6]に記載のエポキシ樹脂組成物。
[9]
無機フィラーをさらに含有する[6]〜[8]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。
[10]
融点が40℃以下である[6]〜[9]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。
[11]
[1]〜[5]のいずれかに記載のエポキシ樹脂を含有する固形または液状の半導体封止材。
[12]
[1]〜[5]のいずれかに記載のエポキシ樹脂を含有する熱伝導材料。
[13]
[1]〜[5]のいずれかに記載のエポキシ樹脂を含有するフィルム状接着剤。
[14]
[6]〜[10]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られるエポキシ樹脂硬化物。
[15]
[6]〜[10]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる高配向性エポキシ樹脂硬化物。
[16]
下記一般式(13)で表されるアルコール性化合物。
本実施形態のエポキシ樹脂は一般式(1)で示されるエポキシ樹脂である。
本実施形態において、メソゲン構造とは、分子構造が液晶性を示すのに必要な剛直構造である。メソゲン構造の具体的構造としては、特に限定されないが、例えば、日本接着学会誌、第40巻、第1号(2004年)の第14頁から第15頁に記載されている構造が挙げられ、ビフェニル由来の2価の基、スチルベン由来の2価の基などが知られている。
しかしながら、メソゲン構造が平面構造をとるがゆえに通常のメソゲン構造を含有するエポキシ樹脂の融点は高い。エポキシ樹脂は、融点が高い場合、硬化剤と均一に混合するために、通常予め高温で溶融しておく。しかしながら、予め高温で溶融しておいた該エポキシ樹脂は、高温であるがゆえに硬化剤を添加したと同時に反応が開始してしまい、結果として均一な硬化物が得られないことがしばしば生じるので工業的に問題がある。
本実施形態のエポキシ樹脂は、上記式(1)で示されるとおり、MS(メソゲン構造)にSP1およびSP2(下記一般式(2)で示される2価の有機基)が結合する構造を有する。
上記一般式(1)中のGは、それぞれ独立に下記一般式(3)で示される1価の有機基を表す。
本実施形態のエポキシ樹脂は、その融点によっては制限されないが、その融点が低いほど硬化剤と加熱混合する際に低温で混合することが可能となり、その混合中の反応を抑制できるため均一な硬化物が得られる。このような観点から、本実施形態のエポキシ樹脂の融点は、好ましくは150℃以下、より好ましくは130℃以下、さらに好ましくは110℃以下、よりさらに好ましくは80℃以下、特に好ましくは60℃以下、さらに特に好ましくは40℃以下である。また、本実施形態のエポキシ樹脂の融点の下限は、特に限定されないが、例えば−100℃以上である。本実施形態のエポキシ樹脂は、室温で液状であることが好ましい。
本実施形態のエポキシ樹脂の融点は、後述の実施例に記載の方法により測定することができる。
以下、本実施形態はエポキシ樹脂の合成方法は、特に限定されないが、例えば、以下のような合成方法が挙げられる。
本実施形態のエポキシ樹脂の数平均分子量は、後述の実施例に記載の方法により測定することができる。
本実施形態のエポキシ樹脂は、塩素含有量が低いほどメソゲン構造が配向しやすく、本実施形態の効果がより顕著に発現できる。このような観点から本実施形態のエポキシ樹脂における塩素含有量は低いほど好ましく、5000ppm以下であることが好ましく、より好ましくは1000ppm以下、さらに好ましくは500ppm以下である。
本実施形態のエポキシ樹脂における塩素含有量は、後述の実施例に記載の方法により測定することができる。
本実施形態のエポキシ樹脂は、そのエポキシ化率が高いほど本実施形態の効果が十分に発揮される。本実施形態のエポキシ樹脂におけるエポキシ化率は、該エポキシ樹脂の、化学構造式から算出される理論エポキシ価に対する百分率で定義される。エポキシ価は該エポキシ樹脂の100gあたりのエポキシ基の含有率であり、実施例に記載される測定方法で測定される。本実施形態のエポキシ樹脂は、そのエポキシ化率が100%に近いほどエポキシ樹脂構造の配向度が高まり易い傾向がある。このような観点から、本実施形態のエポキシ樹脂におけるエポキシ化率は、好ましくは60%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。
本実施形態のエポキシ樹脂組成物は、上述のエポキシ樹脂および硬化剤を含有する。また、本実施形態のエポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤をさらに含有していてもよい。
上述のエポキシ樹脂は、通常、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤等と配合することにより硬化することができる。
アミン系硬化剤としては、アミン化合物であることが好ましい。アミン化合物としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンは反応性が高く低温で硬化でき配向性の高い硬化物が得られる点でより好ましい。
フェノール系硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、カテコールノボラック、ピロガロールおよびピロガロール誘導体等が挙げられる。
酸無水物系硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。
触媒系硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、三フッ化ほう素、三フッ化ほう素−アミン錯体、芳香族スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩等のカチオン系硬化触媒、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール系触媒、ジアザビシクロウンデセン(DBU)、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、キヌクリジン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ジメチルアミノピリジン等の三級アミン化合物が挙げられる。
本実施形態のエポキシ樹脂組成物は、上述のアミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤等の硬化剤に加えて、硬化促進剤をさらに含有することができる。そのような硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、触媒系硬化剤として上記に例示した化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフィン等のホスフィン類、n−ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩が挙げられる。
本実施形態のエポキシ樹脂組成物は、必要に応じて、無機フィラー、微細シリカ粉末等のチクソ性付与剤、消泡剤、リン化合物あるいはハロゲン化合物等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、カーボンブラック、酸化鉄等の着色剤、変性ニトリルゴム、変性ポリブタジエン等のエラストマー、離型剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、消泡剤等を含有させることができ、また、必要に応じてガラス繊維、ガラス布、炭素繊維等を含有させることができる。
本実施形態のエポキシ樹脂組成物には、目的を損なわない範囲において、必要に応じて上述のエポキシ樹脂以外の他のエポキシ樹脂またはエポキシ化合物を含有することができる。
トリス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類;
テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、または2価または3価以上のフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化物;
アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、ビニルシクロヘキセンジエポキサイド等の環式脂肪族エポキシ樹脂;
グリセリンのポリグリシジル化合物、トリメチロールプロパンのポリグリシジル化合物等の脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
本実施形態のエポキシ樹脂組成物は、例えば、常法に従い上述した各成分を充分混合、混練した後、減圧脱泡して製造することができる。
本実施形態のエポキシ樹脂組成物は、その融点が低いほど靱性の高い硬化物が得られるので好ましい。すなわち、融点が低いエポキシ樹脂組成物であるほど低い温度で硬化することが可能となり、硬化反応中のネットワークの運動性が緩やかとなりメソゲン構造の配向度の高い硬化物が得られる。
本実施形態のエポキシ樹脂硬化物は、上述のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる。また、本実施形態の高配向性エポキシ樹脂硬化物は、上述のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる。
本実施形態のエポキシ樹脂硬化物は、上述のエポキシ樹脂と硬化剤と含有するエポキシ樹脂組成物を、加熱することなどにより硬化して得ることができ、従来のエポキシ樹脂硬化物に比較して優れた特性を示すことができる。本実施形態のエポキシ樹脂硬化物は、その硬化温度を適切な温度に設定することにより本実施形態の効果をより一層顕著に発現することができることがある。
上述のエポキシ樹脂と硬化剤と含有するエポキシ樹脂組成物を硬化する際に、磁場または電場を印加した状態で硬化すると、強靱性や熱伝導性などの観点からより優れた特性のエポキシ樹脂硬化物が得られる。
本実施形態の半導体封止材は、上述のエポキシ樹脂を含有し、固形または液状である。また、本実施形態の熱伝導材料は、上述のエポキシ樹脂を含有する。さらに、本実施形態のフィルム状接着剤は、上述のエポキシ樹脂を含有する。
本実施形態のアルコール性化合物は、上記一般式(13)で表され、上述のエポキシ樹脂の合成原料として有用である。
エポキシ樹脂(試料)をベンジルアルコールおよび1−プロパノールに溶解させて溶液を得た。この溶液にヨウ化カリウム水溶液およびブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、この溶液について1規定塩酸にて滴定を実施した。この溶液中の反応系内が青色から黄色になった点を当量点とした。この当量点より、エポキシ樹脂のエポキシ価を以下の式に従って算出した。
W;試料の重量(g)
V;当量点までの滴定量(mL)
N;滴定に使用した塩酸の規定度(N)
F;滴定に使用した塩酸のファクター
試料0.1ないし3gを25mLのエチレングリコールモノブチルエーテルに溶解させて溶液を得た。この溶液に1規定KOH−プロピレングリコール溶液20mLを加えて、この溶液を20分間煮沸した。その後、この溶液に酢酸100mLを加え、この溶液について硝酸銀水溶液を用いて電位差滴定を行った。この電位差滴定により検出された変曲点から滴定対象化合物のモル数を求め、滴定対象化合物の全量が塩素であるとして、滴定対象化合物のモル数に基づき試料中の塩素含有量を算出した。
エポキシ樹脂の融点は示差走査熱量測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製7020)を使用して昇温速度5℃/分の条件で測定した。
この測定において、吸熱ピークのピーク温度を融点とし、複数の吸熱ピークが存在するときは最も高い温度領域の吸熱ピーク温度を融点とした。
数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定した。
測定には、島津製作所社製LC−10ADを用い、検出器には示差屈折率計を用いた。測定試料はテトラヒドロフランを溶媒として0.5wt/vol%の濃度に調整したものを用いた。
エポキシ樹脂組成物の融点は示差走査熱量測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製7020)を使用して90℃から降温速度5℃/分の条件で測定した。この測定において、発熱ピーク温度を融点とし、複数の発熱ピークがある場合は最も高い温度領域の発熱ピーク温度を融点とした。
引張特性試験はJIS−K−7161−1994およびJIS−K−7162−1994に従い以下の条件で行った。
クロスヘッドスピード:2mm/min、最大荷重:100kgf
試験片:号形, 全長:30mm、幅:4mm、厚み:2mm
平行部の長さ:12mm、平行部の幅:2mm、丸みの半径:12mm
つかみ具間距離:24mm、標線間距離:10mm
(σ:引張応力(MPa)、F:荷重(kgf)、9.8:重力加速度(m/s2)、A:断面積(mm2))
(ε:歪み(%)、δL:破断時の伸び(mm)、L0:標線間距離(mm)=10)
破壊靭性値は、ASTM E399−83に従って三点曲げ試験で測定した。
エポキシ樹脂組成物を含浸させた100mmx50mmのガラスクロス4枚を重ね同サイズの銅箔(厚み35ミクロン)の粗化面の上に置き加熱硬化して硬化物を得た。幅1cmの帯状に加工した前記硬化物を用いて、クロスヘッド50mm/分の速度で引っ張り試験器にて銅箔を引きはがし、剥離強度を測定した。この測定値をエポキシ樹脂組成物の接着強度とした。
硬化物の熱伝導率は、以下のとおり測定した熱拡散率、比熱および密度の値から算出した。
硬化物の熱拡散率をASTM E1461に従い、レーザーフラッシュ法により測定した。この熱拡散率の測定にはレーザーフラッシュ法熱定数測定装置(TC−70000ULVAC−RIKO制)を用いた。測定条件は以下のとおりとした。
サンプルサイズ:直径10mm、厚さ0.5mmの円盤状
レーザー照射波長:694.3nm
パルス幅:1ms
測定温度:常温
比熱を示差走査熱量測定装置(DSC)により測定した。
密度はJIS K7112に従い測定した。
熱伝導率は、下記式により求めた。
(λ:熱伝導率(W/m・K)、α:熱拡散率(cm2/s)、Cp:比熱(J/g・K)、ρ:密度(g・cm3))
硬化物の相構造の確認は、X線回析測定により以下の条件で行った。
装置:X線回折装置 RINT−UltimaIII (リガク社製)
測定方法:平行ビーム法
測定条件:2θ=1°〜25°
ターゲット:Cu(λ=1.5418Å)
管電圧:40kV
管電流:40mA
スキャンスピード:0.4°/min
サンプル厚み:1mm
層間距離は、回折角度2θにブラックの式を用いて求めた。
(n:正の数(0、1、2…)、λ:波長、d:面間隔、θ:視斜角)
合成した化合物および硬化物の複屈折性の有無の確認には、偏光顕微鏡(BH−2、OLYMPUS社製)およびホットプレート(TPC−2000、ULVAC社製)を用いた。合成した化合物および硬化物を偏光顕微鏡により観察した。観察条件は、倍率200倍(接眼レンズ10倍、対物レンズ20倍)とし、昇温および降温速度は5℃/minとした。
硬化物のガラス転移温度は動的粘弾性測定にて下記の条件で測定した。測定は、非共振強制振動型粘弾性測定解析装置(Rheogel−E4000、UBM社製)を用い、引張りモードで行った。この測定においてtanδのピーク温度を硬化物のガラス転移温度(Tg)とした。
サンプルサイズ:30mm×4.0mm×0.4 mm
波形:正弦波
周波数:10Hz
変位振幅:5μm
測定温度:−150〜250℃
昇温速度:2℃/min
テフロン(登録商標)製攪拌羽、ガラスコンデンサー、温度計を装着したガラス製反応器に4,4´−ジヒドロキシ−α−メチルスチルベン70.7部と炭酸エチレン59部とを加え、得られた混合物を120℃まで加熱した。前記ガラス製反応器に50重量%炭酸カリウム水溶液2部を加えた後、得られた混合物を170℃まで加熱し、さらに1時間反応させた。反応終了後、得られた樹脂を払い出し、メチルエチルケトンを用いて結晶化させ、化合物A(下記式(14)で表される化合物)64部(収率65%)を得た。得られた化合物Aは、融点が163℃であり、148℃から163℃の温度領域で液晶性を示した。
テフロン(登録商標)製攪拌羽、ガラスコンデンサー、温度計を装着したガラス製反応器に化合物A50部、エピクロルヒドリン178部およびジメチルスルホキシド124部を加え、得られた混合物を50℃で加熱撹拌した。前記ガラス製反応器に50重量%水酸化ナトリウム水溶液128部を1時間かけて加え、得られた混合物を1時間撹拌して反応を行った。その後、前記ガラス製反応器にトルエン250部を加えて反応生成物を得た。得られた反応生成物を250部の水で6回洗浄し、過剰のエピクロルヒドリンおよびトルエンを留去した。得られた残留物を、メチルイソブチルケトンを用いて結晶化させ、70%の収率で化合物B(下記式(15−1)で表される化合物)を得た。
テフロン(登録商標)製攪拌羽、ガラスコンデンサー、温度計を装着したガラス製反応器に化合物A50部、エピクロルヒドリン178部およびトリメチルアンモニウムクロリド0.5部を加え、得られた混合物を50℃に加熱撹拌した。前記ガラス製反応器に50重量%水酸化ナトリウム水溶液32部を1時間かけて加え、得られた混合物を、減圧下で共沸により系内の水分を抜きながら、さらに2時間撹拌して反応を行った。得られた反応生成物を250部の水で6回洗浄し、過剰のエピクロルヒドリンを留去した後、80%の収率で化合物C(下記式(15−2)で表される化合物)を得た。
テフロン(登録商標)製攪拌羽、ガラスコンデンサー、温度計を装着したガラス製反応器に4,4´−ジヒドロキシ−α−メチルスチルベン2.26部、3ブロモ−1−プロパノール3.61部(フェノール性水酸基に対して1.3当量)、炭酸カリウム26.9部およびN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)23部を加え、加熱還流下2時間反応させた後、得られた反応液を濾過した。濾過後の濾液から揮発分を留去して粗生成物を得た。その後、得られた粗生成物をメタノール50部に溶解させて溶液を得た。その後、得られた溶液を結晶化して化合物D(下記式(16)で表される化合物)2.8部(収率82%)を得た。得られた化合物Dは、融点が156℃であった。
テフロン(登録商標)製攪拌羽、ガラスコンデンサー、温度計を装着したガラス製反応器に化合物D1.5部、エピクロルヒドリン24.4部、ジメチルスルホキシド17部、水酸化カリウム2.46部およびトリメチルアンモニウムクロリド0.030部を加え、得られた混合物を60℃に加熱し、さらに2時間撹拌して反応を行った。得られた反応生成物にトルエン50部を加え溶液を得た。得られた溶液を30部の水で6回洗浄し、エピクロルヒドリンおよびトルエンを留去して2.9部の粗生成物を得た。さらに得られた粗生成物を24部のエピクロルヒドリンおよび17部のジメチルスルホキシドに溶解し、溶液を得た。得られた溶液にトリメチルアンモニウムクロリド0.030部と水酸化カリウム2.46部とを加えて60℃で反応させた。その後、反応液にトルエン50部を加え溶液を得た。得られた溶液を30部の水で6回洗浄し、エピクロルヒドリンおよびトルエンを留去して1.9部の化合物E(下記式(17)で表される化合物)を得た(収率95%)。
化合物B1.0g(2.6×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、110℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに4,4'−ジアミノジフェニルエタン0.332g(1.1×10-3mol)を加え、素早く撹拌しながら完全に溶解させて溶液(エポキシ樹脂組成物)を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を、恒温槽を用いて90℃で3.5時間加熱し、さらに170℃で20分加熱することにより硬化させて硬化物を得た。
化合物B1.0g(2.6×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、110℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに4,4'−ジアミノジフェニルエタン0.332g(1.1×10-3mol)を加え、素早く撹拌しながら完全に溶解させて溶液(エポキシ樹脂組成物)を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を、恒温槽を用いて170℃で1.5時間加熱することにより硬化させて硬化物を得た。
化合物B1.0g(2.6×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、90℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに1,4−シクロヘキサンジアミン0.13g(1.1×10-3mol)を加え、素早く撹拌しながら完全に溶解させて溶液(エポキシ樹脂組成物)を得た。
・電磁石 TMD−120−100W(東洋磁気工業社製)
・直流安定化電源PAD−72−30LA(菊水電子工業社製)
・温調機温度コントローラー SOL1−100(八光電機製作所社製)
化合物B1.0g(2.6×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、90℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに1,3−ジアミノプロパン0.085g(1.1×10-3mol)を加え、素早く撹拌しながら完全に溶解させて溶液(エポキシ樹脂組成物)を得た。
化合物C1.0g(エポキシ基3.5×10-3当量)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、110℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに4,4'−ジアミノジフェニルエタン0.19g(NH3.5×10-3当量)を加え、素早く撹拌しながら完全に溶解させて溶液(エポキシ樹脂組成物)を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を、恒温槽を用いて170℃で1.5時間加熱することにより硬化させて硬化物を得た。
化合物E1.0g(4.2×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、120℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに4,4'−ジアミノジフェニルエタン0.22g(1.1×10-3mol)を加え、素早く撹拌しながら完全に溶解させて溶液(エポキシ樹脂組成物)を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を、恒温槽を用いて120℃で1時間加熱し、さらに150℃で2時間加熱することにより硬化させて硬化物を得た。
下記式(18)の構造のエポキシ樹脂(融点186℃、エポキシ価0.327[当量/100g])1.0g(1.6×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、210℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに1,3−ジアミノプロパン0.06g(8.0×10-4mol)を加えたところ、前記エポキシ樹脂と1,3−ジアミノプロパンとが激しく反応し、均一な硬化物が得られなかった。
下記式(19)の構造のエポキシ樹脂(室温で液状、エポキシ価0.420[当量/100g])1.0g(2.1×10-3mol)を35mm×10mm×10mmのアルミカップに入れ、210℃のホットプレート上で溶かした。前記アルミカップに4,4'−ジアミノジフェニルエタン0.233g(1.1×10-3mol)を加え、エポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を、恒温槽を用いて170℃で1.5時間加熱することにより硬化させ硬化物を得た。
Claims (14)
- 下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂。
- 融点が110℃以下である請求項1に記載のエポキシ樹脂。
- 数平均分子量が1000以下である請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂および硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物。
- 前記硬化剤がアミン化合物である請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 前記硬化剤が隣接水酸基を有するフェノール系硬化剤である請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 無機フィラーをさらに含有する請求項4〜6のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 融点が40℃以下である請求項4〜7のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂を含有する固形または液状の半導体封止材。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂を含有する熱伝導材料。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂を含有するフィルム状接着剤。
- 請求項4〜8のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られるエポキシ樹脂硬化物。
- 請求項4〜8のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる高配向性エポキシ樹脂硬化物。
- 下記一般式(13)で表されるアルコール性化合物。
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