JP6155726B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。

電子写真方式の画像形成装置は高速でかつ高印字の品質が得られ、複写機およびレーザービームプリンター等において利用されている。電子写真方式の画像形成装置において用いられる感光体として、有機の光導電性材料を用いた有機感光体が主流となっており、感光体の構成も電荷移動型錯体構造や電荷発生材料を結着樹脂中に分散した機能分離型の感光体へと変遷し性能が向上している。
この機能分離型感光体の場合、現在ではアルミニウム基体の上に下引き層をまず形成しその後電荷発生層および電荷輸送層の感光層を形成する場合が多い。
感光体の電位の繰り返し安定性や環境安定性の改善、電位の安定性に関連する画質の安定性に関しては、電荷発生層や電荷輸送層のみならず下引き層にも依存する分が多く、繰り返し使用による電荷蓄積の小さい下引き層が要求されている。

アルミニウム基材上に導電粉分散型の導電層を形成しさらに下引き層を形成する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。この場合、導電層で基材隠蔽を行うとともに抵抗調整を行い、ブロッキング機能は下引き層に持たせる（以降、導電層型と称することがある）。

また、導電粉分散層を基材上に塗布しブロッキング層と抵抗調整層との機能を有する下引き層として使用する方法（以降、分散型下引き層と称することがある）が開示されている（例えば、特許文献２参照）。

また、最初に実用化された分散型下引き層は酸化チタン導電粉を用いたもので、下引き層の膜厚は０．０３μｍ以上０．３μｍ以下程度とされた（例えば、特許文献３参照）。

また、下引き層の抵抗値を温度、湿度変化に対応するように適当な範囲に制御する方法（例えば、特許文献４参照）や、金属酸化物粒子にアクセプターを少量添加する方法（例えば、特許文献５参照）が開示されている。

特開平０５−１１４８３号公報 特開２００２−１２３０２８号公報 特開平０５−８０５７２号公報 特開２００３−１８６２１９号公報 特開２００６−３０６９８号公報

本発明は、寿命の長い電子写真感光体を提供することを目的とする。

前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
即ち、請求項１に係る発明は、
アルミニウムを含む表面を有する導電性基体と、
前記導電性基体のアルミニウムを含む表面上に形成され、金属酸化物粒子として酸化錫粒子又は酸化亜鉛粒子及びバインダー樹脂を含有し、アミンの含有量が０.１質量％以下の中間層と、
前記中間層上に形成され、アミノ基を有する有機金属化合物を含む下引き層と、
前記下引き層上に形成された感光層と、
を有し、
前記中間層が、下記一般式（１）で表されるアントラキノン誘導体を含有する電子写真感光体である。

請求項２に係る発明は、
前記金属酸化物粒子が、アミノ基を有しないシランカップリング剤で表面処理されているものである請求項１に記載の電子写真感光体である。

請求項３に係る発明は、
前記金属酸化物粒子の体積平均粒子径が、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体である。

（一般式（１）中、ｎ１は２又は３を表し、ｎ２は０を表す。ｍ１は０又は１を表し、ｍ２は０を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。但し、ｎ１が２の場合、ｍ１は１を表し、ｎ１が３の場合、ｍ１は０を表す。）

請求項４に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。

請求項５に係る発明は、
前記電子写真感光体の表面を帯電する接触帯電方式の帯電手段をさらに備える請求項４に記載のプロセスカートリッジである。

請求項６に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置である。

請求項７に係る発明は、
前記帯電手段が、接触帯電方式の帯電手段である請求項６に記載の画像形成装置である。

請求項１〜請求項３に係る発明によれば、中間層におけるアミンの含有量が０.１質量％を超える場合に比較して、寿命の長い電子写真感光体が提供される。
請求項４〜請求項５に係る発明によれば、中間層におけるアミンの含有量が０.１質量％を超える場合に比較して、寿命の長い電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが提供される。
請求項６〜請求項７に係る発明によれば、中間層におけるアミンの含有量が０.１質量％を超える場合に比較して、寿命の長い電子写真感光体を備える画像形成装置が提供される。

本実施形態の感光体に係る断面図である。 本実施形態の感光体に係る断面図である。 本実施形態の感光体に係る断面図である。 本実施形態の感光体に係る断面図である。 本実施形態の画像形成装置の一例を示す概略構成図である。 本実施形態の電子写真感光体を用いた接触帯電方式の画像形成装置の一例を示す概略構成図である。 実施例において、ゴースト評価で用いるチャートを示す模式図である。

以下、本発明の電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置の実施形態について詳細に説明する。

＜電子写真感光体＞
本実施形態の電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある。）は、アルミニウムを含む表面を有する導電性基体と、前記導電性基体のアルミニウムを含む表面上に形成され、金属酸化物粒子及びバインダー樹脂を含有し、アミンの含有量が０.１質量％以下の中間層と、前記中間層上に形成され、アミノ基を有する有機金属化合物を含む下引き層と、前記下引き層上に形成された感光層と、を有する。

本実施形態において「アミン」とは、アンモニアの水素原子の少なくとも一つを炭化水素残基で置換した化合物をいう。前記炭化水素残基には炭素及び水素以外のその他の元素が含まれていてもよい。
また、本実施形態における「アミノ基を有する有機金属化合物」は、第一アミン、第二アミン、第三アミン、第四級アンモニウムイオンの何れであってもよい。

本実施形態の電子写真感光体は、寿命が長い。その理由は必ずしも明確ではないが、以下のように推察される。
アミノ基を含む化合物は電荷のブロッキング性に優れた特性を有するため、アミノ基を含む化合物を含有する層（下引き層）をアルミ基体と感光層との間に介在させることで、電子写真感光体の耐ブロッキング性が向上する。しかし、アミノ基を含む化合物がアルミ基体と接触すると、電気化学反応によりアルミ基体を腐食させ下引き層とアルミ基体との界面の抵抗値を上昇させると考えられる。アルミ基体の腐食は、アミノ基を含む化合物を包含するアミン全般で発生する場合があると考えられる。特に、高温高湿下ではその傾向が顕著となりやすい。下引き層を、アルミ基体表面側から順に、アミンの含有量が０.１質量％以下の層とアミノ基を有する化合物（有機金属化合物）を含む層の２層構造にすることで、アルミ基体とアミンとの接触度合いが低下し、アルミ基体の腐食が防止されるために、電子写真感光体の寿命が延びると推察される。

本実施形態の感光体について、図面を参照して説明する。図１乃至図４は、本実施形態の感光体に係る断面図である。なお、各図面において同じ構成部分には同じ符号を付することとし、説明を省略する。
図１の感光体は、アルミニウムを含む表面を有する導電性基体１のアルミニウムを含む表面上に、金属酸化物粒子及びバインダー樹脂を含有し、アミンの含有量が０.１質量％以下の中間層２１と、中間層２１上に形成され、アミノ基を有する有機金属化合物を含む下引き層２２と、下引き層２２上に形成された感光層３と、を有する。

本実施形態の感光体としては、図１に示す構成以外にも、感光層３を、電荷発生層３１と電荷輸送層３２との２層構造としてもよく（図２）、感光層３上に保護層５を設けてもよい（図３）。さらには、感光層を電荷発生層３１と電荷輸送層３２との２層構造とすると共に電荷輸送層３２上に保護層５を設けてもよい（図４）。なお、図２及び図４においては導電性基体１側から電荷発生層３１及び電荷輸送層３２の順としたが、導電性基体１側から電荷輸送層３２及び電荷発生層３１の順としてもよい。
以下に、本実施形態に適用される導電性基体及び下引き層等の各層について説明する。

（導電性基体）
本実施形態で用いられる導電性基体は、アルミニウムを含む表面を有するものであれば特に限定されるものではない。導電性基体の具体例としては、アルミニウム製ドラムが挙げられる。また、紙・プラスチック又はガラス上にアルミニウムを蒸着して表面にアルミニウムを有する層を形成したものを用いてもよい。
また、導電性基体の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。尚、導電性基体をアルミニウム製のパイプとした場合、表面は素管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。

なお、本実施形態において基体が「導電性」であるとは、基体の体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

（中間層）
本実施形態で用いられる中間層は、金属酸化物粒子及びバインダー樹脂を含有し、アミンの含有量が０.１質量％以下の層であればよく、その構成に特に限定はなく、必要に応じて反応性アクセプター材料等を含有してもよい。なお、本実施形態において反応性アクセプター材料とは、中間層に含有される金属酸化物粒子表面と化学反応する材料、又は金属酸化物粒子表面に吸着する材料を指し、金属酸化物粒子表面に選択的に存在することのできる材料を指す。
中間層は、アミンの含有量が０.１質量％以下の層として構成され、後述する中間層を構成する各成分中に不純物として含有されるアミンの存在を否定するものではない。中間層中のアミンの含有量は０.１質量％以下が好ましく、理想的には０質量％である。
中間層中のアミンの含有量は、例えば、下記方法により測定される。
中間層を粉砕したのち、ＦＴ−ＩＲ法、溶剤に抽出してＦＴ−ＩＲ法などがある。

中間層は、厚さが１５μｍ以上３０μｍ以下とされていることが好ましく、２０μｍ以上２５μｍ以下が更に好ましい。また、中間層のビッカース強度は、３５以上が好ましく、４０以上が更に好ましい。

本実施形態で用いられる金属酸化物粒子としては、粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の導電粉が好ましく用いられる。ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。粒径が１０ｎｍ以上の場合、金属酸化物粒子の表面積が大きくなりすぎることがなく、均一な分散液を得ることが容易になる。粒径が１００ｎｍ以下の場合、２次粒子、あるいはそれ以上の高次粒子の粒径は１μｍ以下と予想され、中間層内で金属酸化物粒子の存在する部分と存在しない部分、いわゆる海島構造となりにくく、ハーフトーン濃度の不均一など画質欠陥が発生しにくくなる。

中間層は、電子写真プロセス速度に対応した周波数で適切なインピーダンスを得ることが必要であり、そのため金属酸化物粒子としては１０^４Ω・ｃｍ以上１０^１０Ω・ｃｍ以下の粉体抵抗であることが好ましい。中でも上記抵抗値を有する酸化錫、酸化チタン及び酸化亜鉛からなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物粒子を用いるのが好ましい。金属酸化物粒子の抵抗値が１０^４Ω・ｃｍ以上であれば、インピーダンスの粒子添加量依存性の傾きが小さくなり、インピーダンスの制御が容易になる。金属酸化物粒子の抵抗値が１０^１０Ω・ｃｍ以下であれば、残留電位の上昇が生じにくい。

中間層中の金属酸化物粒子の固形分含有量としては、電気特性維持の観点から、３０質量％以上６０質量％以下が望ましく、３５質量％以上５５質量％以下がより望ましい。

本実施形態で用いられる金属酸化物粒子は、アミノ基を有しないシランカップリング剤などの有機化合物を用いて表面処理されてもよい。シランカップリング処理をすると、金属酸化物粒子の分散性が向上することが多い。具体的なカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤等が挙げられる。

カップリング剤の処理量は、金属酸化物粒子に対して、０．１質量％以上３質量％以下であることがよく、望ましくは０．３質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１．５質量％以下である。

なお、カップリング剤の処理量は、次のように測定する。
ＦＴ−ＩＲ法、２９Ｓｉ固体ＮＭＲ法、熱分析、ＸＰＳなどの分析法があるが、ＦＴ−ＩＲ法が簡便である。ＦＴ−ＩＲ法では通常のＫＢｒ錠剤法でも、ＡＴＲ法でもよい。少量の処理済金属酸化物粒子をＫＢｒと混合し、ＦＴ−ＩＲを測定することで、カップリング剤の処理量を測定する。

これらの金属酸化物粒子は、上記カップリング剤で表面処理後、必要に応じて抵抗値の環境依存性等の改善のために熱処理を行ってもよい。熱処理温度は１５０℃以上３００℃以下、処理時間は３０分以上５時間以下が好ましい。

本実施形態で用いられるバインダー樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂などの高分子樹脂化合物などが用いられる。これら高分子樹脂化合物は、一種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
バインダー樹脂としては、アセタール樹脂が好ましく、ポリビニルブチラールが更に好ましい。

中間層は、必要に応じて反応性アクセプター材料を含有してもよい。反応性アクセプター材料の具体例としては、キノン系、アントラキノン系、クマリン系、フタロシアニン系、トリフェニルメタン系、アントシアニン系、フラボン系、フラーレン系、ルテニウム錯体、キサンテン系、ベンゾキサジン系、ポルフィリン系の材料が挙げられるが、材料の安全性、入手性、電子輸送能力を考慮すると、アントラキノン系の材料（アントラキノン誘導体）が好ましい。

反応性アクセプター材料の添加量は、化学反応あるいは吸着する相手である金属酸化物粒子の表面積と、各材料の電子輸送能力から決められるが、通常は金属酸化物粒子の質量に対して０．０１質量％から２０質量％の範囲で用いられる。より好ましくは０．１質量％から１０質量％の範囲で用いられる。添加量が０．０１質量％以上であればアクセプターの効果が発現する。一方、添加量が２０質量％以下であれば金属酸化物粒子同士の凝集を引き起こしにくくなり、金属酸化物粒子の中間層内での分布が均一になりやすく、良好な導電路を形成しやすくなり、残留電位の上昇が生じにくく、黒点の発生、ハーフトーン濃度の不均一が発生しにくくなる。

反応性アクセプター材料としてアントラキノン誘導体を用いる場合、該アントラキノン誘導体としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。

一般式（１）中、ｎ１及びｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１及びｎ２が共に０を表すことはない）。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。

また、反応性アクセプター材料としては、下記一般式（２）で表される化合物であってもよい。

一般式（２）中、ｎ１、ｎ２、ｎ３、及びｎ４は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１、ｎ２、ｎ３、及びｎ４の少なくとも１つは、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１、ｎ２、ｎ３、及びｎ４が共に０を表すことはない）。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。ｒは２以上１０以下の整数を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。

ここで、一般式（１）及び（２）中、Ｒ^１及びＲ^２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、又は分鎖状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルキル基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルキル基である。
Ｒ^１及びＲ^２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基（アルコキシル基）としては、直鎖状、又は分鎖状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルコキシ基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルコキシ基である。

反応性アクセプター材料の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記具体例においてＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基を表す。

また、露光装置にレーザー等のコヒーレント光を用いた場合、モアレ像防止の必要がある。そのためには中間層の表面粗さは、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）以上１／２λ以下に調整される。
表面粗さは、中間層中に樹脂ボールを添加することで調整されてもよい。樹脂ボールとしてはシリコーン樹脂、架橋型ＰＭＭＡ樹脂等を用いてもよい。
また、中間層には上記成分以外のその他の成分が含有されてもよい。

中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。上述した金属酸化物粒子を予備混合又は予備分散したものを、バインダー樹脂に分散させて中間層形成用塗布液を得てもよい。中間層形成用塗布液には、上述した反応性アクセプター材料その他の成分を添加してもよい。

中間層形成用塗布液あるいは分散液を得るために用いる溶剤としては前述したバインダー樹脂を溶解することができる公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系の溶剤を用いてもよい。これらの溶剤は単独あるいは２種類以上混合して用いてもよい。

金属酸化物粒子を分散させる方法としては公知の分散方法を用いることができる。例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどが挙げられる。

中間層形成用塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法など公知の塗布方法を用いてもよい。

（下引き層）
本実施形態で用いられる下引き層は、アミノ基を有する有機金属化合物（以下、特定の化合物と称することがある）を含有する層として構成されていればよく、バインダー樹脂等のその他の成分を含んでいてもよい。
下引き層は、上層である感光層等の濡れ性改善の他に、電気的なブロキング層の役割も果たす。そのため、膜厚が大きすぎることで電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす原因とならないように、下引き層の膜厚は０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定されてもよい。
中間層と感光層等との間に下引き層を設けることで、電気特性、画質、画質維持性、感光層接着性等が向上する。

下引き層に含有される特定の化合物としては、例えば、ジルコニウム原子、チタニウム原子、アルミニウム原子、マンガン原子、ケイ素原子等を含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は単独で用いてもよいし、複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。
中でも、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。

ケイ素原子を含有する特定の化合物としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシランなどである。
これらのなかでも好ましく用いられるシリコン化合物としては３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が上げられる。

ジルコニウム原子を含有する特定の化合物としては、例えば、ジルコニウムトリエタノールアミンなどが挙げられる。

チタン原子を含有する特定の化合物としては、例えば、チタントリエタノールアミネートなどが挙げられる。

本実施形態においては、特定の化合物と共に特定の化合物以外のその他の有機金属化合物を併用してもよい。
ケイ素原子を含有するその他の有機金属化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのなかでも、ビニルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が好ましい。

ジルコニウム原子を含有するその他の有機金属化合物としては、例えば、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。これらの中でも、アセチルアセトンジルコニウムブチレートが好ましい。

チタニウム原子を含有するその他の有機金属化合物としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。これらの中でも、テトライソプロピルチタネートが好ましい。

アルミニウム原子を含有するその他の有機金属化合物としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。これらの中でも、アルミニウムイソプロピレートが好ましい。

その他の有機金属化合物を併用した場合における、全有機金属化合物に占める特定の化合物の割合としては、３０質量％以上７０質量％以下が好ましく、４０質量％以上６０質量％以下が更に好ましい。

下引き層は、膜厚を確保するためにバインダー樹脂を含有してもよい。バインダー樹脂としては、中間層で使用されるバインダー樹脂が用いられてもよい。

下引き層の固形分に占める特定の化合物の割合は、５質量％以上３０質量％以下が好ましく、１０質量％以上２０質量％以下が更に好ましい。

下引き層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引き層形成用塗布液が使用される。
下引き層形成用塗布液を得るために用いる溶剤としては前述したバインダー樹脂を溶解することのできる公知の有機溶剤が用いられてもよい。有機溶剤の具体例としては、中間層の項で例示された溶剤が挙げられる。

下引き層形成用塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法など公知の塗布方法を用いてもよい。

（感光層）
本実施形態で用いられる感光層は、電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層として構成されてもよいし、電荷発生層と電荷輸送層とを含む機能分離型の感光層として構成されてもよい。
以下、機能分離型の感光層を例に説明する。

＜電荷発生層＞
感光層を構成する電荷発生層は、電荷発生物質を下引き層上に真空蒸着により形成されるか、電荷発生物質を有機溶剤及びバインダー樹脂とともに分散又は溶解し下引き層上に塗布することにより形成されてもよい。

本実施形態において、電荷発生物質としては、公知の電荷発生物質ならばいかなる材料でも使用できるが、特に優れた性能が得られ、好ましく使用される電荷発生物質として、フタロシアニン系顔料が挙げられる。フタロシアニン系顔料を電荷発生物質として用いることにより、特に高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体が得られる。また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる顔料であるならば、これらのいずれの結晶型を用いてもよい。

特に好ましく用いられる電荷発生物質の具体例を以下に示す。
電荷発生物質としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。

電荷発生層の固形分に占める電荷発生物質の割合は、４０質量％以上６０質量％以下が好ましく、４５質量％以上５５質量％以下が更に好ましい。

本実施形態に用いる電荷発生物質は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造される。上記の処理において使用される溶剤としては、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、さらには数種の混合系、水とこれら有機溶剤の混合系が挙げられる。使用される溶剤は、顔料結晶１００質量部に対して、１質量部以上２００質量部以下、好ましくは１０質量部以上１００質量部以下の範囲で用いる。処理温度は、０℃乃至溶剤の沸点以下、好ましくは１０℃以上６０℃以下の範囲で行う。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いてもよい。磨砕助剤は顔料に対し、質量基準で０．５倍以上２０倍以下、好ましくは１倍以上１０倍以下用いればよい。
また、公知の方法で製造される顔料結晶を、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕を組み合わせることにより、結晶制御してもよい。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度７０質量％以上１００質量％以下、好ましくは９５質量％以上１００質量％以下のものが使用され、溶解温度は、−２０℃以上１００℃以下が好ましく、より好ましくは０℃以上６０℃以下の範囲に設定される。濃硫酸の量は、顔料結晶に対し、質量基準で、１倍以上１００倍以下、好ましくは３倍以上５０倍以下の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。

電荷発生層に用いられるバインダー樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択される。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
好ましいバインダー樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのバインダー樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いてもよい。これらの中で特にポリビニルアセタール樹脂が好ましく用いられる

電荷発生物質とバインダー樹脂との配合比（重量比）は、１０：１乃至１：１０の範囲が好ましい。

電荷発生層には、電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加してもよい。
添加剤としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。

シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどである。
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。

チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
これらの化合物は、単独で、複数の化合物の混合物として又は重縮合物として用いてもよい。

電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
電荷発生層形成用塗布液を調整するための溶媒としては、バインダー樹脂を溶解する公知の有機溶剤が使用される。例えば、アルコール系有機溶剤、芳香族系有機溶剤、ハロゲン化炭化水素系有機溶剤、ケトン系有機溶剤、ケトンアルコール系有機溶剤、エーテル系有機溶剤、エステル系有機溶剤等から任意で選択される。
有機溶剤の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
また、有機溶剤は単独で、又は２種以上混合して用いられる。
電荷発生層形成用塗布液を調製する方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどを用いてもよい。電荷発生層形成用塗布液を調製する際、該塗布液中の粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。

電荷発生層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。

＜電荷輸送層＞
感光層を構成する電荷輸送層は、電荷輸送物質を溶媒及びバインダー樹脂とともに分散又は溶解し塗布することにより形成されてもよい。電荷輸送物質等を含む塗布液中には、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤等の添加剤を加えてもよい。

電荷輸送層に含有される電荷輸送物質としては、公知のものならいかなるものを使用してもよいが、下記に示すものが例示できる。例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリンなどのピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミンなどの芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジンなどの１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフランなどのベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質、あるいは以上に示した化合物由来の基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送物質は、１種単独で又は２種以上を組み合せて使用される。

電荷輸送層の固形分に占める電荷輸送物質の割合は、３０質量％以上６０質量％以下が好ましく、４０質量％以上５０質量％以下が更に好ましい。

電荷輸送層に用いられるバインダー樹脂は公知のものであればいかなるものを使用してもよいが、電気絶縁性のフィルム形成可能な樹脂が好ましい。例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンーブタジエン共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチレンーアルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのバインダー樹脂は、単独で又は２種類以上混合して用いられるが、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れ、好ましく用いられる。バインダー樹脂と電荷輸送物質との配合比（重量比）はいずれの場合も任意に設定することができる。

電荷輸送層には、画像形成装置内で発生するオゾンや酸化性ガスや光や熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。

たとえば、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。

酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。ヒンダードアミン系化合物ではビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などが挙げられる。有機イオウ系酸化防止剤としてジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィートなどが挙げられる。
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果が得られる。

光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
ベンゾフェノン系光安定剤として２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系光安定剤として２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。その他の化合物として２，４，ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメートなどがある。

また感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用の際の疲労低減等を目的として、電荷輸送層は少なくとも１種の電子受容性物質を含有してもよい。
本実施形態に使用されてもよい電子受容性物質としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ_２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。

また塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを添加してもよい。

電荷輸送層の電気特性の低下や膜強度の低下を考慮すると、電荷輸送層の厚みは５μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１０μｍ以上３５μｍ以下である。

電荷輸送層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。塗布に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独で又は２種以上混合して用いてもよい。

（保護層）
本実施形態の感光体は必要に応じて感光層上に保護層を設けてもよい。
本実施形態で用いられる保護層は、積層構造からなる感光体では帯電の際の電荷輸送層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する為に用いられる。この保護層は、公知の保護層を用いてもよい。

保護層は、架橋物（硬化物）を含んで構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、反応性電荷輸送物質と必要に応じて硬化性樹脂とを含む組成物の硬化層、硬化性樹脂に電荷輸送物質を分散させた硬化層等の周知の構成が挙げられる。また、保護層は、結着樹脂に電荷輸送物質を分散させた層で構成してもよい。

保護層の厚みは１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下である。

さらにこの保護層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。

塗布に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができるが、できるだけ下層を溶解しにくい溶剤を用いることが好ましい。

本実施形態の感光体は、近赤外光もしくは可視光に発光するレーザービームプリンター、デジタル複写機、ＬＥＤプリンター、レーザーファクシミリなどの電子写真装置に用いてもよい。また、本実施形態の感光体は一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤とも合わせて用いてもよい。また本実施形態の感光体は帯電ローラーや帯電ブラシを用いた接触帯電方式においても電流リークの発生が少ない良好な特性が得られる。

＜画像形成装置＞
次に、本実施形態の画像形成装置について説明する。
図５は本実施形態の画像形成装置の一例を示す概略構成図である。図５に示す画像形成装置１００は、回転し得るよう設けられた本実施形態のドラム状（円筒状）の電子写真感光体７を備えている。電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の外周面の移動方向に沿って、帯電装置８、露光装置１０（静電潜像形成装置の一例）、現像装置１１、転写装置１２、クリーニング装置１３及び除電装置（イレーズ装置）１４がこの順で配置されている。
尚、コスト低減の観点から、除電装置１４を有しない態様としてもよい。

・帯電装置（帯電手段）
帯電装置８は、コロナ帯電方式の帯電装置であり、電子写真感光体７を帯電させる。帯電装置８は、電源９に接続されている。帯電装置８としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器が挙げられる。

また、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器等のそれ自体公知の帯電器も用いられる。
ここで、図６は本実施形態の電子写真感光体を用いた接触帯電方式の画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
画像形成装置１０１に用いられる接触帯電用部材は、感光体表面に接触するように配置され、電圧を感光体に直接印加し、感光体表面を予め定めた電位に帯電させるものである。この接触帯電用部材にはアルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、ヨウ化銅、ヨウ化銀、硫化亜鉛、炭化ケイ素、金属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどが用いられる。

接触帯電用部材に用いる金属酸化物の例としてはＺ_２Ｏ、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３等、又はこれらの複合酸化物が挙げられる。また、エラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与してもよい。

更に、接触帯電用部材の表面に被覆層を設けることもよい。この被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独又は併用して用いられる。
また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いてもよい。これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、酸化防止剤を含有させてもよい。また、エマルジョン樹脂にレベリング剤や界面活性剤を含有させてもよい。

接触帯電用部材の形状としては、ローラー型、ブレード型、ベルト型、ブラシ型などがあげられる。接触帯電用部材の抵抗は、望ましくは１０^２Ωｃｍ以上１０^１２Ωｃｍ以下、さらに望ましくは１０^３Ωｃｍ以上１０^８Ωｃｍ以下の範囲がよい。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、又は、直流＋交流の形で印加してもよい。

・露光装置（静電潜像形成手段）
露光装置１０は、帯電した電子写真感光体７を露光して電子写真感光体７の表面に静電潜像を形成する。露光装置１０としては、例えば、電子写真感光体７の表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体７の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザーの波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよいが、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、露光装置１０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。

・現像装置（現像手段）
現像装置１１は、静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する。現像剤は、重合法により得られる体積平均粒子径３μｍ以上９μｍ以下のトナー粒子を含有することが望ましい。現像装置１１は、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する容器内に、現像領域で電子写真感光体７に対向して配置された現像ロールが備えられた構成が挙げられる。

・転写装置（転写手段）
転写装置１２は、電子写真感光体７の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する。転写装置１２としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

・クリーング装置
クリーニング装置１３は、転写後の電子写真感光体７の表面に残存するトナーを除去する。クリーニング装置１３は、電子写真感光体７に対して線圧１０ｇ／ｃｍ以上１５０ｇ／ｃｍ以下で接するブレード部材を有することが望ましい。クリーニング装置１３は、例えば、筐体と、クリーニングブレードと、クリーニングブレードの電子写真感光体７回転方向下流側に配置されるクリーニングブラシと、を含んで構成される。また、クリーニングブラシには、例えば、固形状の潤滑剤が接触して配置される。

・除電装置
除電装置（イレーズ装置）１４は、トナー像を転写した後の電子写真感光体７の表面に除電光を照射して、電子写真感光体の表面に残留する電位を除電する。除電装置１４は、例えば、電子写真感光体７の軸方向幅方向全域にわたって除電光を照射して、電子写真感光体７の表面に生じた露光装置１０による露光部と非露光部との電位差を除去する。なお、除電装置１４が設けられていない態様であってもよい。

・定着装置
画像形成装置１００、１０１は、転写工程後の記録媒体にトナー像を定着させる定着装置１５を備えている。定着装置としては、特に制限はなく、それ自体公知の定着器、例えば熱ローラ定着器、オーブン定着器等が挙げられる。

次に、本実施形態に係る画像形成装置１００、１０１の動作について説明する。まず、電子写真感光体７が矢印Ａで示される方向に沿って回転し、帯電装置８により負に帯電する。帯電装置８によって表面が負に帯電した電子写真感光体７は、露光装置１０により露光され、表面に静電潜像が形成される。
電子写真感光体７における静電潜像の形成された部分が現像装置１１に近づくと、現像装置１１により、静電潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。
トナー像が形成された電子写真感光体７が矢印Ａに方向にさらに回転すると、転写装置１２によりトナー像は記録紙Ｐに転写される。これにより、記録紙Ｐにトナー像が形成される。
画像が形成された記録紙Ｐは、定着装置１５でトナー像が定着される。

＜プロセスカートリッジ＞
本実施形態に係る画像形成装置は、例えば、前記した本実施形態に係る電子写真感光体７を備えたプロセスカートリッジを画像形成装置に着脱させる形態であってもよい。
本実施形態に係るプロセスカートリッジの構成は、少なくとも、前記本実施形態に係る電子写真感光体７を備えていればよく、電子写真感光体７のほかに、例えば、帯電装置８、露光装置１０、現像装置１１、転写装置１２、及びクリーニング装置１３、及び除電装置１４から選択される少なくとも１つの構成部材を備えていてもよい。
本実施形態のプロセスカートリッジにおいては、帯電装置８は接触帯電方式の帯電手段であってもよい。

また、本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を中間転写体に転写した後、記録紙Ｐに転写する中間転写方式の画像形成装置を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。

以下、実施例および比較例を挙げ、本実施形態をより具体的に詳細に説明するが、本実施形態は以下の実施例に限定されるものではない。実施例１、５及び８は参考例である。

（表面処理例１）
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ−３００ テイカ株式会社製）１００質量部、シランカップリング剤としてビニルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製ＫＢＭ−１００３）０．５質量部、トルエン２００質量部を混合し攪拌を行い、２時間還流を行った。その後１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け処理を行った。

（表面処理例２）
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ−３００ テイカ株式会社製）１００質量部、シランカップリング剤として３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製ＫＢＭ−５１０３）０．５質量部、トルエン２００質量部を混合し攪拌を行い、２時間還流を行った。その後１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け処理を行った。

（表面処理例３乃至６）
表１に示した金属酸化物粒子及びカップリング剤を用いた以外は表面処理例１と同様に処理を行った。

［実施例１］
酸化亜鉛（テイカ社製 ＭＺ−３００ 表面処理なし）：３３質量部とブロック化イソシアネート スミジュール３１７５（住友バイエルンウレタン社製）：６質量部、メチルエチルケトン：２５質量部を３０分間混合し、その後ブチラール樹脂ＢＭ−１（積水化学社製）：５質量部を添加し、サンドミルにて３時間の分散を行い、分散終了後、シリコーンボール トスパール１３０（東芝シリコーン社製）：３質量部を添加して分散液を得た。さらに、この塗布液を浸漬塗布法にて直径８４ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、３０分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの中間層を得た。
その後、４質量部のポリビニルブチラール樹脂（積水化学製エスレックＢＭ−Ｓ）を溶解したｎ−ブチルアルコール１７０質量部、有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０質量部および有機シラン化合物（３−アミノプロピルトリメトキシシラン）３質量部を追加混合撹拌し塗布液を得た。さらに、この塗布液を浸漬塗布法にて前記中間層上に塗布し、１３０℃、１０分の乾燥硬化を行い厚さ１μｍの下引き層を得た。
次に、電荷発生物質として、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを用い、その１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部およびｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下引き層上に浸漬塗布し、１００℃、１０分乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１、１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）６質量部とをテトラヒドロフラン２５質量部、クロロベンゼン５質量部を加えて溶解した塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４０分の乾燥を行うことにより膜厚３７μｍの電荷輸送層を形成し、感光体を得た。

以上のようにして得られた感光体を富士ゼロックス社製複写機ＤＣＣ５００ に搭載し、高温高湿（３０℃、８０％ＲＨ）下における残留電位、黒点、ゴースト、１０万枚プリント後の高温高湿（３０℃、８０％ＲＨ）下における残留電位、黒点、ゴーストを評価した。評価結果を表３に示す。なお、１０万枚プリント後の高温高湿（３０℃、８０％ＲＨ）下における残留電位が−１００Ｖ以上（−１００Ｖ以上０Ｖ以下）の場合、感光体寿命については問題ないものと判断する。

−残留電位評価−
感光体を１００ｒｐｍで回転させた状態で、スコロトロン帯電器により感光体を−７００Ｖに帯電させ、帯電の０．０５秒後に波長７８０ｎｍの半導体レーザを用いて２．０ｍＪ／ｍ^２の光を照射して放電させた。続いて、放電させてから０．１秒後の感光体に２０ｍＪ／ｍ^２の赤色ＬＥＤ光を照射して徐電を行った。そして、徐電から１００ｍｓｅｃ後の感光体の表面の電位Ｖを測定し、これを残留電位の値とした。
下記基準に従い残留電位を評価した。
Ａ： −５０Ｖ以上
Ｂ： −５０Ｖ未満−１００Ｖ以上
Ｃ： −１００Ｖ未満

−ゴースト評価−
ゴースト評価は、図７に示すチャートをＡ４横送りで連続１０万枚出力し、１枚目に出力した画像（初期画像）と１０万出力後の画像（１０万枚出力後画像）とを目視にて下記基準に従い評価した。
なお、図７に示すチャートは、画像濃度１００％の黒色のベタ画像中に白抜きの「Ｇ］文字を有する領域と画像濃度４０％のハーフトーン画像の領域と、をプリントしたチャートである。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：発生なし
Ｂ：若干発生(実使用上問題なし)
Ｃ：発生(使用できない)

−黒点評価−
黒点評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部の点状の画質欠陥の程度を目視にて観察し判断した。
Ａ：黒点発生なし。
Ｂ：多少の黒点発生。
Ｃ：画質上問題となる黒点あり。

［実施例２］
酸化亜鉛（テイカ社製 ＭＺ−３００ 表面処理なし）：３３質量部とブロック化イソシアネート スミジュール３１７５（住友バイエルンウレタン社製）：６質量部、上記した反応性アクセプター材料（１−６）を１質量部、メチルエチルケトン：２５質量部を３０分間混合し、その後ブチラール樹脂ＢＭ−１（積水化学社製）：５質量部を添加し、サンドミルにて３時間の分散を行い、分散終了後、シリコーンボール トスパール１３０（東芝シリコーン社製）：３質量部を添加して分散液を得た。さらに、この塗布液を浸漬塗布法にて直径８４ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、３０分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの中間層を得た以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［実施例３乃至６］
表面処理例１乃至４で表面処理した金属酸化物を用いた以外は実施例２と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［実施例７］
実施例３において、反応性アクセプター材料（１−６）に替えて反応性アクセプター材料（１−９）を用いた以外は実施例３と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［実施例８］
実施例３において、反応性アクセプター材料（１−６）に替えて反応性アクセプター材料（１−２１）を用いた以外は実施例３と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［比較例１］
実施例１において下引き層を設けなかった以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［比較例２］
表面処理例１で表面処理した金属酸化物粒子を用いた以外は比較例１と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［比較例３］
表面処理例５で表面処理した金属酸化物粒子を用いた以外は比較例１と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［比較例４］
実施例３において、下引き層を設けなかった以外は実施例３と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

［比較例５］
表面処理例６で表面処理した金属酸化物粒子を用いた以外は比較例１と同様にして感光体を作製し、同様の評価を行った。結果を表３に示した。

各実施例及び比較例に係る中間層及び下引き層について、表２にまとめて示す。

本実施形態によると、電気特性に優れ良好な画質の形成される感光体が得られる。また、繰り返し使用しても、ゴースト発生の抑制される長寿命の感光体が得られる。

１ 導電性基体、３ 感光層、５ 保護層、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 電源、１０ 露光装置、１１ 現像装置、１２ 転写装置、１３ クリーニング装置、１４ 除電装置、１５ 定着装置、２１ 中間層、２２ 下引き層、３１ 電荷発生層、３２ 電荷輸送層、１００、１０１ 画像形成装置

Claims (7)

1. アルミニウムを含む表面を有する導電性基体と、
   前記導電性基体のアルミニウムを含む表面上に形成され、金属酸化物粒子として酸化錫粒子又は酸化亜鉛粒子及びバインダー樹脂を含有し、アミンの含有量が０.１質量％以下の中間層と、
   前記中間層上に形成され、アミノ基を有する有機金属化合物を含む下引き層と、
   前記下引き層上に形成された感光層と、
   を有し、
   前記中間層が、下記一般式（１）で表されるアントラキノン誘導体を含有する電子写真感光体。
   
   （一般式（１）中、ｎ１は２又は３を表し、ｎ２は０を表す。ｍ１は０又は１を表し、ｍ２は０を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。但し、ｎ１が２の場合、ｍ１は１を表し、ｎ１が３の場合、ｍ１は０を表す。）
2. 前記金属酸化物粒子が、アミノ基を有しないシランカップリング剤で表面処理されているものである請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 前記金属酸化物粒子の体積平均粒子径が、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
4. 請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
   画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
5. 前記電子写真感光体の表面を帯電する接触帯電方式の帯電手段をさらに備える請求項４に記載のプロセスカートリッジ。
6. 請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
   帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
   前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
   前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
   を備えた画像形成装置。
7. 前記帯電手段が、接触帯電方式の帯電手段である請求項６に記載の画像形成装置。